JP2003213428A - 気相コーティング法及び気相コーティング用コンテナのためのガス分配器 - Google Patents
気相コーティング法及び気相コーティング用コンテナのためのガス分配器Info
- Publication number
- JP2003213428A JP2003213428A JP2002367427A JP2002367427A JP2003213428A JP 2003213428 A JP2003213428 A JP 2003213428A JP 2002367427 A JP2002367427 A JP 2002367427A JP 2002367427 A JP2002367427 A JP 2002367427A JP 2003213428 A JP2003213428 A JP 2003213428A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- coating
- container
- distributor
- hour
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45502—Flow conditions in reaction chamber
- C23C16/45508—Radial flow
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
- C23C10/06—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
- C23C16/08—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metal halides
- C23C16/12—Deposition of aluminium only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4488—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by in situ generation of reactive gas by chemical or electrochemical reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45587—Mechanical means for changing the gas flow
- C23C16/45591—Fixed means, e.g. wings, baffles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Turbine Rotor Nozzle Sealing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属コーティングをする際にキャリアガスを
導入するガス分配器１０を提供する。 【解決手段】 ガス分配器１０は、ガス入口１４とガス
出口ヘッド１８とを備える。それを通してガスの流れが
ガスストリーム５０として出る複数のガス出口３０が、
ガス出口ヘッド１８の周面に沿って間隔を置いて配置さ
れている。ガス出口３０に近接して配置されたガスデフ
レクタ３４が、最初にガス出口３０を出るガスストリー
ム５０を向心方向の経路に向ける。このガス分配器１０
は気相コーティング装置100に使用でき、該装置100は、
コーティング用コンテナ110と、コーティングされる各
部品132を、コンテナ110内でガス出口ヘッド１８の下方
に配置するための保持具128と、金属コーティングの源
をコンテナ110内でガス出口ヘッド１８の下方に配置す
るための保持具140とを有する。
導入するガス分配器１０を提供する。 【解決手段】 ガス分配器１０は、ガス入口１４とガス
出口ヘッド１８とを備える。それを通してガスの流れが
ガスストリーム５０として出る複数のガス出口３０が、
ガス出口ヘッド１８の周面に沿って間隔を置いて配置さ
れている。ガス出口３０に近接して配置されたガスデフ
レクタ３４が、最初にガス出口３０を出るガスストリー
ム５０を向心方向の経路に向ける。このガス分配器１０
は気相コーティング装置100に使用でき、該装置100は、
コーティング用コンテナ110と、コーティングされる各
部品132を、コンテナ110内でガス出口ヘッド１８の下方
に配置するための保持具128と、金属コーティングの源
をコンテナ110内でガス出口ヘッド１８の下方に配置す
るための保持具140とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的に、気相コ
ーティング方法及び気相コーティング用コンテナに有用
なガス分配器に関する。具体的には、本発明は、金属コ
ーティング、特にアルミナイドコーティングを用いて、
ガスタービンエンジンブレードのような部品を気相コー
ティングするために、非酸化性又は不活性のキャリアガ
スを導入するためのガス分配器に関する。
ーティング方法及び気相コーティング用コンテナに有用
なガス分配器に関する。具体的には、本発明は、金属コ
ーティング、特にアルミナイドコーティングを用いて、
ガスタービンエンジンブレードのような部品を気相コー
ティングするために、非酸化性又は不活性のキャリアガ
スを導入するためのガス分配器に関する。
【０００２】
【従来技術】酸化性雰囲気において高温で作動するある
種の部品には、種々の型のコーティングの形態で環境保
護膜が設けられている。例えば、ガスタービンエンジン
のタービンブレード、ベーン及び他の翼形部のような、
エンジンのタービン部分において通常受ける高温で作動
する構成部品は、金属表面コーティングを単独又は他の
材料との種々の組合せとして備えることが多い。このよ
うなコーティングは、高温作動の間に発生する、酸化、
腐食及び硫化条件に抗する能力がある。
種の部品には、種々の型のコーティングの形態で環境保
護膜が設けられている。例えば、ガスタービンエンジン
のタービンブレード、ベーン及び他の翼形部のような、
エンジンのタービン部分において通常受ける高温で作動
する構成部品は、金属表面コーティングを単独又は他の
材料との種々の組合せとして備えることが多い。このよ
うなコーティングは、高温作動の間に発生する、酸化、
腐食及び硫化条件に抗する能力がある。
【０００３】このような金属コーティングの施工方法に
は、例えばアルミニウム又はアルミニウム合金のような
１つ又はそれ以上の保護金属の蒸気を、高温において部
品表面にアルミナイドコーティングの形態を形成するよ
うに堆積させことが含まれる。このような気相コーティ
ング法は、普通「レトルト」と呼ばれるコーティング用
コンテナ又はチャンバ内で非酸化性又は不活性雰囲気
（例えば、水素、窒素、ヘリウム又はアルゴン）中で通
常行われる。一般的に、コーティングされる部品又は通
常複数の部品（例えば、タービンブレードのような翼形
部）は、通常ペレット又は粉末の形態の、該部品を囲む
ような列で配列できる多孔バスケット内に多くの場合保
持されるアルミナイドコーティング源と共にコンテナ内
に配置される。次いで、コンテナはコーティング蒸気を
発生させるために加熱炉のような加熱装置内に置かれ
る。コーティング蒸気の発生には、フッ化物、塩化物又
は臭化物のようなハライド「活性化剤」の使用が通常含
まれる。このハライド活性化剤は、アルミナイドコーテ
ィング源と反応してアルミナイド含有ガスを生成するよ
うにコンテナ内に導入されるガスの形態とすることがで
き、或いは加熱によって反応性のハロゲンガスを生成す
る、コンテナ内のハライド活性化剤源から発生させるこ
ともできる。
は、例えばアルミニウム又はアルミニウム合金のような
１つ又はそれ以上の保護金属の蒸気を、高温において部
品表面にアルミナイドコーティングの形態を形成するよ
うに堆積させことが含まれる。このような気相コーティ
ング法は、普通「レトルト」と呼ばれるコーティング用
コンテナ又はチャンバ内で非酸化性又は不活性雰囲気
（例えば、水素、窒素、ヘリウム又はアルゴン）中で通
常行われる。一般的に、コーティングされる部品又は通
常複数の部品（例えば、タービンブレードのような翼形
部）は、通常ペレット又は粉末の形態の、該部品を囲む
ような列で配列できる多孔バスケット内に多くの場合保
持されるアルミナイドコーティング源と共にコンテナ内
に配置される。次いで、コンテナはコーティング蒸気を
発生させるために加熱炉のような加熱装置内に置かれ
る。コーティング蒸気の発生には、フッ化物、塩化物又
は臭化物のようなハライド「活性化剤」の使用が通常含
まれる。このハライド活性化剤は、アルミナイドコーテ
ィング源と反応してアルミナイド含有ガスを生成するよ
うにコンテナ内に導入されるガスの形態とすることがで
き、或いは加熱によって反応性のハロゲンガスを生成す
る、コンテナ内のハライド活性化剤源から発生させるこ
ともできる。
【０００４】アルミナイド含有ガスは、一般的に非酸化
性又は不活性のキャリアガス（例えば、水素、窒素、ヘ
リウム又はアルゴン）によってコーティング用コンテナ
内で移送又は移動される。一部の気相コーティングシス
テムにおいては、このキャリアガスはコンテナの底板を
通して導入され、アルミナイド含有ガスを上向きに運
び、部品をコーティングする。例えば、特許文献１及び
特許文献２を参照されたい。他の気相コーティングシス
テムにおいては、キャリアガスはコーティング用コンテ
ナの上板を通して導入され、次いでコンテナ全体に拡散
し、アルミナイド含有ガスを運び部品をコーティングす
る。特許文献３を参照されたい。アルゴンのようなキャ
リアガスをコンテナの上部（底部に対して）から導入す
る利点は、アルゴンが、空気より密度が大きく重いの
で、コンテナを通して自然に下向きに流れ金属（アルミ
ナイド）コーティング蒸気と混ざり合うことになり、ま
た「プランジャ」として働き、部品の内部コーティング
を助けることになることである。
性又は不活性のキャリアガス（例えば、水素、窒素、ヘ
リウム又はアルゴン）によってコーティング用コンテナ
内で移送又は移動される。一部の気相コーティングシス
テムにおいては、このキャリアガスはコンテナの底板を
通して導入され、アルミナイド含有ガスを上向きに運
び、部品をコーティングする。例えば、特許文献１及び
特許文献２を参照されたい。他の気相コーティングシス
テムにおいては、キャリアガスはコーティング用コンテ
ナの上板を通して導入され、次いでコンテナ全体に拡散
し、アルミナイド含有ガスを運び部品をコーティングす
る。特許文献３を参照されたい。アルゴンのようなキャ
リアガスをコンテナの上部（底部に対して）から導入す
る利点は、アルゴンが、空気より密度が大きく重いの
で、コンテナを通して自然に下向きに流れ金属（アルミ
ナイド）コーティング蒸気と混ざり合うことになり、ま
た「プランジャ」として働き、部品の内部コーティング
を助けることになることである。
【０００５】
【特許文献１】 特公昭５９−１９９８８号公報
【特許文献２】 特開２００１−５１２１８１号公報
【特許文献３】 特開２０００−３０９８８４号公報
【０００６】キャリアガスがコンテナの上板を通して導
入されるこのような装置の１つにおいては、キャリアガ
スを分散させるためにガス分配器が使用される。そのよ
うなガス分配器の１つは「シャワーヘッド」と類似した
構成を有し、その構成において、分配器は円筒形又は円
盤状ヘッドの周辺部に沿って間隔を置いて配置された複
数のガス出口孔を備え、該ガス出口孔を通してキャリア
ガスが流出する。この「シャワーヘッド」式分配器は、
通常コンテナの上部においてアルミナイド発生ペレット
及びコーティングされる部品の上方に配置される。
入されるこのような装置の１つにおいては、キャリアガ
スを分散させるためにガス分配器が使用される。そのよ
うなガス分配器の１つは「シャワーヘッド」と類似した
構成を有し、その構成において、分配器は円筒形又は円
盤状ヘッドの周辺部に沿って間隔を置いて配置された複
数のガス出口孔を備え、該ガス出口孔を通してキャリア
ガスが流出する。この「シャワーヘッド」式分配器は、
通常コンテナの上部においてアルミナイド発生ペレット
及びコーティングされる部品の上方に配置される。
【０００７】アルゴンのようなキャリアガスがコンテナ
上部のこのような「シャワーヘッド」式分配器を通して
供給された場合、アルミナイド含有ガスがコーティング
用コンテナ内部で一定に移動せずかつ混合しないことが
見出された。このことは、アルゴンガスがアルミナイド
発生ペレットの列を通過してまたコーティングされる部
品（例えば、翼形部）の列を通過して移動し拡散する時
に、特にそのようになる。ペレット及び部品の列はガス
の流れを妨げ或いはこれに抗するので、異なるアルミナ
イド含有ガス濃度を有する領域が形成される可能性があ
り、従って、コーティングされる部品を囲むアルミナイ
ド含有ガスの不均一な環境がつくり出される。通常、ア
ルミナイド含有ガスのこの不均一な環境は、部品の外部
表面上のアルミナイドコーティングの一定でない分布を
生じ、また部品（例えば、中空のガスタービンブレード
のような中空翼形部）の内部表面上の一定でない内部ガ
ス流及び一定でないコーティングを生じる。
上部のこのような「シャワーヘッド」式分配器を通して
供給された場合、アルミナイド含有ガスがコーティング
用コンテナ内部で一定に移動せずかつ混合しないことが
見出された。このことは、アルゴンガスがアルミナイド
発生ペレットの列を通過してまたコーティングされる部
品（例えば、翼形部）の列を通過して移動し拡散する時
に、特にそのようになる。ペレット及び部品の列はガス
の流れを妨げ或いはこれに抗するので、異なるアルミナ
イド含有ガス濃度を有する領域が形成される可能性があ
り、従って、コーティングされる部品を囲むアルミナイ
ド含有ガスの不均一な環境がつくり出される。通常、ア
ルミナイド含有ガスのこの不均一な環境は、部品の外部
表面上のアルミナイドコーティングの一定でない分布を
生じ、また部品（例えば、中空のガスタービンブレード
のような中空翼形部）の内部表面上の一定でない内部ガ
ス流及び一定でないコーティングを生じる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って、アルミナイド
含有ガスがコーティング用コンテナ内部で一定に移動し
混合され、より均一で一定なアルミナイドコーティング
が部品の外部及び中空部品の内部に形成されるような方
法で、キャリアガスを導入することができるガス分配器
を提供できることが要望される。
含有ガスがコーティング用コンテナ内部で一定に移動し
混合され、より均一で一定なアルミナイドコーティング
が部品の外部及び中空部品の内部に形成されるような方
法で、キャリアガスを導入することができるガス分配器
を提供できることが要望される。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、部品に金属コ
ーティングを形成するために使用されるコーティング用
コンテナの上板においてキャリアガスを導入するのに適
したガス分配器に関する。このガス分配器は、（ａ）ガ
ス入口と、（ｂ）ガス入口からガスの流れを受けるよう
に該ガス入口に連通し、また周面を有するガス出口ヘッ
ドと、（ｃ）周面に沿って間隔を置いて配置され、ガス
の流れがそれからガスストリームとして出る複数のガス
出口と、（ｄ）各々がガス出口の1つに近接して配置さ
れ、少なくとも最初に各ガス出口を出るガスストリーム
を少なくともほぼ向心方向の経路に向ける、複数のガス
デフレクタと、を備える。
ーティングを形成するために使用されるコーティング用
コンテナの上板においてキャリアガスを導入するのに適
したガス分配器に関する。このガス分配器は、（ａ）ガ
ス入口と、（ｂ）ガス入口からガスの流れを受けるよう
に該ガス入口に連通し、また周面を有するガス出口ヘッ
ドと、（ｃ）周面に沿って間隔を置いて配置され、ガス
の流れがそれからガスストリームとして出る複数のガス
出口と、（ｄ）各々がガス出口の1つに近接して配置さ
れ、少なくとも最初に各ガス出口を出るガスストリーム
を少なくともほぼ向心方向の経路に向ける、複数のガス
デフレクタと、を備える。
【００１０】本発明はまた、金属コーティングを用いて
部品を気相コーティングするための装置に関する。この
装置は、（１）底板と、該底板から間隔を置いて配置さ
れた上板と、該上板と底板とを接続する側壁とを有する
コーティング用コンテナと、（２）ガス出口ヘッドがコ
ーティング用コンテナの上板近くに配置された、コーテ
ィング用コンテナ内にキャリアガスを導入するための前
述のガス分配器と、（３）コーティングされる各部品
を、コーティング用コンテナ内でガス分配器のガス出口
ヘッドの下方に配置するための少なくとも１つの保持具
と、（４）金属コーティングの源をコーティング用コン
テナ内でガス分配器のガス出口ヘッドの下方に配置する
ための少なくとも１つの保持具と、を備える。
部品を気相コーティングするための装置に関する。この
装置は、（１）底板と、該底板から間隔を置いて配置さ
れた上板と、該上板と底板とを接続する側壁とを有する
コーティング用コンテナと、（２）ガス出口ヘッドがコ
ーティング用コンテナの上板近くに配置された、コーテ
ィング用コンテナ内にキャリアガスを導入するための前
述のガス分配器と、（３）コーティングされる各部品
を、コーティング用コンテナ内でガス分配器のガス出口
ヘッドの下方に配置するための少なくとも１つの保持具
と、（４）金属コーティングの源をコーティング用コン
テナ内でガス分配器のガス出口ヘッドの下方に配置する
ための少なくとも１つの保持具と、を備える。
【００１１】本発明はまた、金属コーティングを用いて
部品を気相コーティングするためのコーティング用コン
テナ内にキャリアガスを導入するための方法に関する。
この方法は、コーティング用コンテナの上板近くの複数
のキャリアガスストリームとしてキャリアガスを導入す
る段階を含み、各キャリアガスストリームは少なくとも
最初に少なくともほぼ向心方向の経路に流れる。
部品を気相コーティングするためのコーティング用コン
テナ内にキャリアガスを導入するための方法に関する。
この方法は、コーティング用コンテナの上板近くの複数
のキャリアガスストリームとしてキャリアガスを導入す
る段階を含み、各キャリアガスストリームは少なくとも
最初に少なくともほぼ向心方向の経路に流れる。
【００１２】本発明はさらに、コーティング用コンテナ
内で金属コーティングを用いて部品をコーティングする
ための方法に関する。この方法は、（ａ）コンテナのコ
ーティングチャンバに、コーティングされる部品を装填
する段階と、（ｂ）コンテナのコーティングチャンバ
に、金属コーティング源を装填する段階と、（ｃ）各々
が湾曲したほぼ求心方向下向き方向の経路に流れて装填
されたコーティング用コンテナのコーティングチャンバ
内に不活性ガス雰囲気を形成する、装填されたコンテナ
のコーティングチャンバの上板近くの複数のキャリアガ
スストリームとして、不活性キャリアガスを導入する段
階と、（ｄ）コーティングチャンバ内に不活性ガス雰囲
気が形成された後に、金属コーティング源により金属コ
ーティング用ガスが生成されるのに十分な温度に、装填
されたコンテナを加熱する段階と、（ｅ）装填されたコ
ンテナのコーティングチャンバ内で部品上にコーティン
グを堆積させるように金属コーティング用ガスを移動さ
せるために、装填されたコンテナのコーティングチャン
バ内へキャリアガスを流し続ける段階と、を含む。
内で金属コーティングを用いて部品をコーティングする
ための方法に関する。この方法は、（ａ）コンテナのコ
ーティングチャンバに、コーティングされる部品を装填
する段階と、（ｂ）コンテナのコーティングチャンバ
に、金属コーティング源を装填する段階と、（ｃ）各々
が湾曲したほぼ求心方向下向き方向の経路に流れて装填
されたコーティング用コンテナのコーティングチャンバ
内に不活性ガス雰囲気を形成する、装填されたコンテナ
のコーティングチャンバの上板近くの複数のキャリアガ
スストリームとして、不活性キャリアガスを導入する段
階と、（ｄ）コーティングチャンバ内に不活性ガス雰囲
気が形成された後に、金属コーティング源により金属コ
ーティング用ガスが生成されるのに十分な温度に、装填
されたコンテナを加熱する段階と、（ｅ）装填されたコ
ンテナのコーティングチャンバ内で部品上にコーティン
グを堆積させるように金属コーティング用ガスを移動さ
せるために、装填されたコンテナのコーティングチャン
バ内へキャリアガスを流し続ける段階と、を含む。
【００１３】本発明の、キャリアガスを導入するための
ガス分配器、気相コーティング装置及び方法、並びに部
品をコーティングするための方法は、特に金属コーティ
ングを用いて部品を気相コーティングするために、コー
ティング用コンテナの上板において又は該上板の近くで
キャリアガスを導入するときに、多くの顕著な利点を提
供する。キャリアガス（例えば、アルゴン）が、少なく
とも最初に少なくとも向心方向の経路でコーティング用
コンテナの上部に導入されるので、このキャリアガスは
円形又は旋回状態になる傾向となり、それによってコー
ティングされる部品の上方の環境はより均一かつ均質な
状態に保たれる。結果として、部品を囲む金属コーティ
ング（例えば、アルミナイド）含有ガスの環境がより均
一かつ均質となる傾向となり、部品の外部表面上により
均一な金属コーティングがもたらされる。加えて、翼形
部のような中空部品の場合、ガスの内部での流れの分布
がより均一となり、部品の内部表面上により均一な金属
コーティングを形成する。
ガス分配器、気相コーティング装置及び方法、並びに部
品をコーティングするための方法は、特に金属コーティ
ングを用いて部品を気相コーティングするために、コー
ティング用コンテナの上板において又は該上板の近くで
キャリアガスを導入するときに、多くの顕著な利点を提
供する。キャリアガス（例えば、アルゴン）が、少なく
とも最初に少なくとも向心方向の経路でコーティング用
コンテナの上部に導入されるので、このキャリアガスは
円形又は旋回状態になる傾向となり、それによってコー
ティングされる部品の上方の環境はより均一かつ均質な
状態に保たれる。結果として、部品を囲む金属コーティ
ング（例えば、アルミナイド）含有ガスの環境がより均
一かつ均質となる傾向となり、部品の外部表面上により
均一な金属コーティングがもたらされる。加えて、翼形
部のような中空部品の場合、ガスの内部での流れの分布
がより均一となり、部品の内部表面上により均一な金属
コーティングを形成する。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１及び図２を参照すると、全体
を符号１０で表すガス分配器の実施形態が示されてい
る。分配器１０は、供給源（図示せず）からガスを受け
るためのほぼ円筒形中空のガス入口チューブ又はパイプ
１４と、該パイプ１４に接続された、符号１８で表すほ
ぼ円筒形又は円盤状のガス出口ヘッド又はマニホールド
とを備える。図３に示すように、パイプ１４は、該パイ
プ１４にガス源を固定するための、符号２０で表す孔を
備える。図示しないが、マニホールド１８もまた中空で
あり、ガスがパイプ１４内に流入するとそのガスは次に
マニホールド１８に供給される。すなわち、パイプ１４
はマニホールド１８と流体連通している。
を符号１０で表すガス分配器の実施形態が示されてい
る。分配器１０は、供給源（図示せず）からガスを受け
るためのほぼ円筒形中空のガス入口チューブ又はパイプ
１４と、該パイプ１４に接続された、符号１８で表すほ
ぼ円筒形又は円盤状のガス出口ヘッド又はマニホールド
とを備える。図３に示すように、パイプ１４は、該パイ
プ１４にガス源を固定するための、符号２０で表す孔を
備える。図示しないが、マニホールド１８もまた中空で
あり、ガスがパイプ１４内に流入するとそのガスは次に
マニホールド１８に供給される。すなわち、パイプ１４
はマニホールド１８と流体連通している。
【００１５】特に図１を参照すると、マニホールド１８
は、符号２２で表す底面を備え、また符号２６で表すほ
ぼ円形の周面を有するように示されている。しかしなが
ら、周面２６は、多角形の形状又は構造（例えば、６角
形、８角形、１０角形、１２角形など）を含む他の形状
又は構造を有することができる。開口部又は孔３０の形
態の複数のガス出口が、周面２６内に該周面２６に沿っ
て間隔を置いて形成される。孔３０の数は、該孔の寸法
及び周面２６の寸法によって変化する。通常、周面２６
に沿った孔３０の数は少なくとも４個であり、典型的に
は４個ないし２０個の範囲にあり、より典型的には６個
ないし１２個の範囲にある。
は、符号２２で表す底面を備え、また符号２６で表すほ
ぼ円形の周面を有するように示されている。しかしなが
ら、周面２６は、多角形の形状又は構造（例えば、６角
形、８角形、１０角形、１２角形など）を含む他の形状
又は構造を有することができる。開口部又は孔３０の形
態の複数のガス出口が、周面２６内に該周面２６に沿っ
て間隔を置いて形成される。孔３０の数は、該孔の寸法
及び周面２６の寸法によって変化する。通常、周面２６
に沿った孔３０の数は少なくとも４個であり、典型的に
は４個ないし２０個の範囲にあり、より典型的には６個
ないし１２個の範囲にある。
【００１６】孔３０の各々に近接して、斜方向ガス反ら
せ板又はデフレクタ３４があり、これは、図１におい
て、開いたほぼ台形の又は「フード付きの」構造又は形
状を有するように示されている。しかしながら、デフレ
クタ３４もまた、他の（例えば、丸みのある）構造又は
形状を有するように形成されることも可能である。各デ
フレクタ３４は、ほぼ前向き方向の偏向内面３８を有す
るほぼ３角形の後部デフレクタ要素３６と、ほぼ下向き
方向の偏向内面４２を有するほぼ３角形の上部デフレク
タ要素４０とを備えるように示されている。要素３６及
び４０の面３８及び４２は、継目又は縁部４６に沿って
交差している。図１に示すように、ガス流又はストリー
ムが各孔を出るとき、そのガス流又はストリームは、少
なくとも最初に内面３８（要素３６の）によってほぼ向
心方向の経路（すなわち、表面２６に沿った又は平行
な）に、かつ内面４２（要素４０の）によって僅かに下
向き方向の経路（すなわち、最終的には底面２２から離
れる方向の）に偏向される。その結果、孔３０から出る
ガスストリームは、矢印５０によって表すような、湾曲
したほぼ求心方向下向き方向の経路に流れる。
せ板又はデフレクタ３４があり、これは、図１におい
て、開いたほぼ台形の又は「フード付きの」構造又は形
状を有するように示されている。しかしながら、デフレ
クタ３４もまた、他の（例えば、丸みのある）構造又は
形状を有するように形成されることも可能である。各デ
フレクタ３４は、ほぼ前向き方向の偏向内面３８を有す
るほぼ３角形の後部デフレクタ要素３６と、ほぼ下向き
方向の偏向内面４２を有するほぼ３角形の上部デフレク
タ要素４０とを備えるように示されている。要素３６及
び４０の面３８及び４２は、継目又は縁部４６に沿って
交差している。図１に示すように、ガス流又はストリー
ムが各孔を出るとき、そのガス流又はストリームは、少
なくとも最初に内面３８（要素３６の）によってほぼ向
心方向の経路（すなわち、表面２６に沿った又は平行
な）に、かつ内面４２（要素４０の）によって僅かに下
向き方向の経路（すなわち、最終的には底面２２から離
れる方向の）に偏向される。その結果、孔３０から出る
ガスストリームは、矢印５０によって表すような、湾曲
したほぼ求心方向下向き方向の経路に流れる。
【００１７】図３に示すように、分配器１０は、全体を
符号１００で表す気相コーティング装置に用いられ、該
気相コーティング装置は、全体を符号１１０で表すほぼ
円筒形のコーティング用コンテナを含む。図３に示すよ
うに、分配器１０（パイプ１４及びマニホールド１８を
備える）は、コンテナ１１０内部に取り付けられる寸法
とされる。コンテナ１１０は、符号１１４で表す上板又
は蓋と、該蓋１１４から間隔を置いて配置された符号１
１８で表す底板と、符号１２２で表すほぼ円筒形の周辺
側壁とを有し、該周辺側壁１２２は、蓋１１４と底板１
１８とを接続し、底板１１８を越えて下方に延びる。コ
ンテナ１１０の蓋１１４、底板１１８及び側壁１２２
は、符号１２４で表す内部コーティングチャンバを形成
する。また図３に示すように、分配器１０のパイプ１４
は蓋１１４の中心部の又は該中心部近くの孔又は開口１
２６を通して部分的に挿入され、マニホールド１８はチ
ャンバ１２４の上部に又はその近くすなわち蓋１１４近
くに配置される。
符号１００で表す気相コーティング装置に用いられ、該
気相コーティング装置は、全体を符号１１０で表すほぼ
円筒形のコーティング用コンテナを含む。図３に示すよ
うに、分配器１０（パイプ１４及びマニホールド１８を
備える）は、コンテナ１１０内部に取り付けられる寸法
とされる。コンテナ１１０は、符号１１４で表す上板又
は蓋と、該蓋１１４から間隔を置いて配置された符号１
１８で表す底板と、符号１２２で表すほぼ円筒形の周辺
側壁とを有し、該周辺側壁１２２は、蓋１１４と底板１
１８とを接続し、底板１１８を越えて下方に延びる。コ
ンテナ１１０の蓋１１４、底板１１８及び側壁１２２
は、符号１２４で表す内部コーティングチャンバを形成
する。また図３に示すように、分配器１０のパイプ１４
は蓋１１４の中心部の又は該中心部近くの孔又は開口１
２６を通して部分的に挿入され、マニホールド１８はチ
ャンバ１２４の上部に又はその近くすなわち蓋１１４近
くに配置される。
【００１８】装置１００はまた、コンテナ１１０の底板
１１８に取り付けられ又は他の方法で組み込まれた部品
支持体又は保持具１２８を有し、該保持具１２８は、コ
ーティングされる翼形部（例えば、タービンブレード）
１３２のような部品を受容し保持するための、通常スロ
ット（図示せず）又は他の適切な手段の形態である開口
を備える。装置１００はまた、コンテナ１１０内に金属
コーティングのペレットを受容し又は保持するように配
置された、符号１４０で表す多孔バスケットの形態の保
持具を有する。図３に示すように、バスケット１４０及
び部品１３２は、分配器１０のマニホールド１８の下方
に置かれる。バスケット１４０及び部品１３２の数と間
隔は、コンテナ１１０の内部寸法及び構造、コーティン
グされる部品１３２の寸法、及び当業者に公知のその他
の因子によって変化させることができる。代表的な配列
が図４に示されており、そこでは、部品１３２及びバス
ケット１４０は、交互の同心の列又は円に配列される。
部品１３２及びバスケット１４０の列の間隔は、ガスが
それらの間を自由に流れることができるようにすべきで
ある。部品１３２及びバスケット１４０の各列の間に
は、通常、全体を符号１４６で表した、粉末のハライド
活性化剤の別々に分けた部分が置かれる。この粉末のハ
ライド活性化剤は、通常、部品１３２又はバスケット１
４０に触れないか又は接触した状態にならないように置
かれる。
１１８に取り付けられ又は他の方法で組み込まれた部品
支持体又は保持具１２８を有し、該保持具１２８は、コ
ーティングされる翼形部（例えば、タービンブレード）
１３２のような部品を受容し保持するための、通常スロ
ット（図示せず）又は他の適切な手段の形態である開口
を備える。装置１００はまた、コンテナ１１０内に金属
コーティングのペレットを受容し又は保持するように配
置された、符号１４０で表す多孔バスケットの形態の保
持具を有する。図３に示すように、バスケット１４０及
び部品１３２は、分配器１０のマニホールド１８の下方
に置かれる。バスケット１４０及び部品１３２の数と間
隔は、コンテナ１１０の内部寸法及び構造、コーティン
グされる部品１３２の寸法、及び当業者に公知のその他
の因子によって変化させることができる。代表的な配列
が図４に示されており、そこでは、部品１３２及びバス
ケット１４０は、交互の同心の列又は円に配列される。
部品１３２及びバスケット１４０の列の間隔は、ガスが
それらの間を自由に流れることができるようにすべきで
ある。部品１３２及びバスケット１４０の各列の間に
は、通常、全体を符号１４６で表した、粉末のハライド
活性化剤の別々に分けた部分が置かれる。この粉末のハ
ライド活性化剤は、通常、部品１３２又はバスケット１
４０に触れないか又は接触した状態にならないように置
かれる。
【００１９】内部表面及び通路を有する中空の部品１３
２（例えば、タービンブレードのような翼形部）を、ア
ルミナイドコーティングを用いて所定の箇所にコーティ
ングするためには、コーティングを必要としないそれら
の領域をマスクすることが必要な場合がある。保持具１
２８に部品１３２を装填した後、バスケット１４０内に
入れた金属コーティング源（例えば、アルミニウムペレ
ット）も含むコンテナ１１０及び該コンテナ１１０の内
容物は密閉され、次いで加熱炉又は他の加熱装置内に入
れられる。次いでガス入口パイプ１４が、水素、窒素、
ヘリウム又はアルゴンのような非酸化性又は不活性のキ
ャリアガスの供給源に接続される。
２（例えば、タービンブレードのような翼形部）を、ア
ルミナイドコーティングを用いて所定の箇所にコーティ
ングするためには、コーティングを必要としないそれら
の領域をマスクすることが必要な場合がある。保持具１
２８に部品１３２を装填した後、バスケット１４０内に
入れた金属コーティング源（例えば、アルミニウムペレ
ット）も含むコンテナ１１０及び該コンテナ１１０の内
容物は密閉され、次いで加熱炉又は他の加熱装置内に入
れられる。次いでガス入口パイプ１４が、水素、窒素、
ヘリウム又はアルゴンのような非酸化性又は不活性のキ
ャリアガスの供給源に接続される。
【００２０】コンテナ１１０を加熱炉又は他の加熱装置
内に入れた後、内部チャンバ１２４は、ガス入口パイプ
１４を通して非酸化性又は不活性キャリアガスを導入
し、次いで不活性キャリアガスがマニホールド１８に流
入しガス出口３０を通してガスストリーム５０として流
出して不活性ガス雰囲気を形成することによって、空気
がパージされる。キャリアガスがマニホールド１８のパ
イプ１４に流入する（そして、ガスストリーム５０とし
て孔３０から流出する）流量は、通常は少なくとも約１
５立方フィート／時間（約４２５リットル／時間）であ
り、典型的には約１５ないし約１２０立方フィート／時
間（約４２５ないし約３，３９８リットル／時間）の範
囲、より典型的には約４０ないし約７０立方フィート／
時間（約１１３３ないし約１９８２リットル／時間）の
範囲にある。ガスが出口３０を出ると、ガスストリーム
５０の各々はデフレクタ３４によって、湾曲したほぼ求
心方向の僅かに下向き方向の経路に向けられ、その結
果、不活性ガスは、バスケット１４０及び部品１３２の
同心の列の上方で旋回し、従ってチャンバ１２４内に比
較的均一で均質な雰囲気をつくり出す。加えて、ガスの
流れの圧力は、キャリアガスのストリーム５０が分配器
から下向き方向に、かつバスケット１４０及び部品１３
２の列周りで該列を通過して流れるように押し込む。
内に入れた後、内部チャンバ１２４は、ガス入口パイプ
１４を通して非酸化性又は不活性キャリアガスを導入
し、次いで不活性キャリアガスがマニホールド１８に流
入しガス出口３０を通してガスストリーム５０として流
出して不活性ガス雰囲気を形成することによって、空気
がパージされる。キャリアガスがマニホールド１８のパ
イプ１４に流入する（そして、ガスストリーム５０とし
て孔３０から流出する）流量は、通常は少なくとも約１
５立方フィート／時間（約４２５リットル／時間）であ
り、典型的には約１５ないし約１２０立方フィート／時
間（約４２５ないし約３，３９８リットル／時間）の範
囲、より典型的には約４０ないし約７０立方フィート／
時間（約１１３３ないし約１９８２リットル／時間）の
範囲にある。ガスが出口３０を出ると、ガスストリーム
５０の各々はデフレクタ３４によって、湾曲したほぼ求
心方向の僅かに下向き方向の経路に向けられ、その結
果、不活性ガスは、バスケット１４０及び部品１３２の
同心の列の上方で旋回し、従ってチャンバ１２４内に比
較的均一で均質な雰囲気をつくり出す。加えて、ガスの
流れの圧力は、キャリアガスのストリーム５０が分配器
から下向き方向に、かつバスケット１４０及び部品１３
２の列周りで該列を通過して流れるように押し込む。
【００２１】この不活性ガス雰囲気が形成され或いは確
立されたとき、コンテナ１１０は、通常は、少なくとも
約１０００゜Ｆ（約５３８℃）、典型的には約１０００
゜ないし約２２００゜Ｆ（約５３８゜ないし約１２０４
℃）の範囲、より典型的には約１９００゜ないし約２０
００℃（約１０３８゜ないし約１０９３℃）の範囲の予
め選ばれた高温に加熱される。この特定の高温は、所望
のコーティング施工パラメータ（使用される金属コーテ
ィング源を含む）及び当業者により知られている他の因
子に基づいて選ばれることになる。この予め選ばれた温
度に到達すると、粉末の活性化剤１４６は反応性のハラ
イドガスを生成することになる。適切なハライド活性化
剤は、塩化アルミニウム、フッ化アルミニウム、フッ化
アンモニウム及びそれらの混合物から選ばれる。この反
応性ハライドガスは、金属コーティング源（例えば、ア
ルミニウム源）を含むバスケット内のペレットを通過し
て流れ、アルミニウム源と反応して、アルミニウムハラ
イドすなわちアルミナイド含有ガスの形態の金属コーテ
ィングガスを形成する。アルミニウム源は、アルミニウ
ム又は、例えばコバルトアルミニウム合金（ＣｏＡ
ｌ）、鉄アルミニウム合金（ＦｅＡｌ）、又はクロムア
ルミニウム合金（ＣｒＡｌ）であるアルミニウム合金の
いずれかとすることができ、通常粉末又はペレット形態
である。当業者には明らかなように、アルミナイド含有
ガスの生成速度を制御する反応特性は、温度とキャリア
ガスが分配器１０によってチャンバ１２４内に導入され
る流量とによって定まり、この流量は、チャンバ１２４
内で、とりわけ部品１３２の周りで該部品を通過させて
アルミナイド含有ガスを移動させる推進力（すなわち、
「プランジャ」）となる。次に、このことは、部品１３
２へのコーティングの堆積速度、従ってコーティング厚
さを制御する。
立されたとき、コンテナ１１０は、通常は、少なくとも
約１０００゜Ｆ（約５３８℃）、典型的には約１０００
゜ないし約２２００゜Ｆ（約５３８゜ないし約１２０４
℃）の範囲、より典型的には約１９００゜ないし約２０
００℃（約１０３８゜ないし約１０９３℃）の範囲の予
め選ばれた高温に加熱される。この特定の高温は、所望
のコーティング施工パラメータ（使用される金属コーテ
ィング源を含む）及び当業者により知られている他の因
子に基づいて選ばれることになる。この予め選ばれた温
度に到達すると、粉末の活性化剤１４６は反応性のハラ
イドガスを生成することになる。適切なハライド活性化
剤は、塩化アルミニウム、フッ化アルミニウム、フッ化
アンモニウム及びそれらの混合物から選ばれる。この反
応性ハライドガスは、金属コーティング源（例えば、ア
ルミニウム源）を含むバスケット内のペレットを通過し
て流れ、アルミニウム源と反応して、アルミニウムハラ
イドすなわちアルミナイド含有ガスの形態の金属コーテ
ィングガスを形成する。アルミニウム源は、アルミニウ
ム又は、例えばコバルトアルミニウム合金（ＣｏＡ
ｌ）、鉄アルミニウム合金（ＦｅＡｌ）、又はクロムア
ルミニウム合金（ＣｒＡｌ）であるアルミニウム合金の
いずれかとすることができ、通常粉末又はペレット形態
である。当業者には明らかなように、アルミナイド含有
ガスの生成速度を制御する反応特性は、温度とキャリア
ガスが分配器１０によってチャンバ１２４内に導入され
る流量とによって定まり、この流量は、チャンバ１２４
内で、とりわけ部品１３２の周りで該部品を通過させて
アルミナイド含有ガスを移動させる推進力（すなわち、
「プランジャ」）となる。次に、このことは、部品１３
２へのコーティングの堆積速度、従ってコーティング厚
さを制御する。
【００２２】アルミナイド含有ガスが部品１３２の表面
上を、また中空翼形部の場合における空気冷却孔（図示
せず）のような、部品１３２内の孔を通して流れると、
アルミナイド含有ガスはアルミニウムに還元され、それ
によって部品１３２の外部表面及び中空部品１３２の内
部表面がコーティングされる。もちろん、堆積の速度及
び均一性は、部品１３２の近傍におけるアルミナイド含
有ガス環境の均一性に大きく影響され、この均一性は、
前述のように、キャリアガスがチャンバ１２４に導入さ
れアルミナイド含有ガスと混合する速度によって制御さ
れる。
上を、また中空翼形部の場合における空気冷却孔（図示
せず）のような、部品１３２内の孔を通して流れると、
アルミナイド含有ガスはアルミニウムに還元され、それ
によって部品１３２の外部表面及び中空部品１３２の内
部表面がコーティングされる。もちろん、堆積の速度及
び均一性は、部品１３２の近傍におけるアルミナイド含
有ガス環境の均一性に大きく影響され、この均一性は、
前述のように、キャリアガスがチャンバ１２４に導入さ
れアルミナイド含有ガスと混合する速度によって制御さ
れる。
【００２３】部品１３２の列を通過するようにアルミナ
イド含有ガスを押し込むためには、キャリアガスの一定
の最小圧力が必要である。このことは、一般にパイプ１
４を通る先に示した流量でチャンバ１２４内にキャリア
ガスを流し続けることによって達成される。従って、キ
ャリアガスは、アルミナイド含有ガス環境、従って表面
（外部及び内部）におけるアルミナイド含有ガスの還元
の均一性を制御するのみならず、部品１３２の列を通過
するように（また、部品１３２が中空の場合はその内部
に）アルミナイド含有ガスを移動させ押し込み、それに
よってそれら部品をコーティングするために必要な圧力
を与えるようにバランスさせることもできる。具体的に
は、不活性キャリアガスはアルミナイド含有ガスと混ぜ
合わされ混合されて、本質的に「プランジャ」として働
き、部品１３２の外部（及び内部）表面のコーティング
を助ける。部品１３２を通過した後、残りのアルミナイ
ド含有ガスはチャンバ１２４から符号１５２で表すガス
排出口を通って、底板１１８を越えた側壁１２２の延長
部によって形成された、符号１６０で表す解放排出チャ
ンバ又は領域内に排出される。所望のコーティング厚さ
までのコーティング作業が終了すると、コンテナ１１０
は加熱炉から取り出され冷却されることができ、或いは
任意的に炉中冷却され、必要ならばその間に不活性ガス
雰囲気が維持される。
イド含有ガスを押し込むためには、キャリアガスの一定
の最小圧力が必要である。このことは、一般にパイプ１
４を通る先に示した流量でチャンバ１２４内にキャリア
ガスを流し続けることによって達成される。従って、キ
ャリアガスは、アルミナイド含有ガス環境、従って表面
（外部及び内部）におけるアルミナイド含有ガスの還元
の均一性を制御するのみならず、部品１３２の列を通過
するように（また、部品１３２が中空の場合はその内部
に）アルミナイド含有ガスを移動させ押し込み、それに
よってそれら部品をコーティングするために必要な圧力
を与えるようにバランスさせることもできる。具体的に
は、不活性キャリアガスはアルミナイド含有ガスと混ぜ
合わされ混合されて、本質的に「プランジャ」として働
き、部品１３２の外部（及び内部）表面のコーティング
を助ける。部品１３２を通過した後、残りのアルミナイ
ド含有ガスはチャンバ１２４から符号１５２で表すガス
排出口を通って、底板１１８を越えた側壁１２２の延長
部によって形成された、符号１６０で表す解放排出チャ
ンバ又は領域内に排出される。所望のコーティング厚さ
までのコーティング作業が終了すると、コンテナ１１０
は加熱炉から取り出され冷却されることができ、或いは
任意的に炉中冷却され、必要ならばその間に不活性ガス
雰囲気が維持される。
【００２４】本発明の方法の特定の実施形態を説明して
きたが、特許請求の範囲に記載された本発明の技術思想
及び技術的範囲から逸脱することなく、それに対する多
くの変更をなし得ることは当業者には明らかであろう。
また、特許請求の範囲に記載された符号は、理解容易の
ためであってなんら発明の技術的範囲を実施例に限縮す
るものではない。
きたが、特許請求の範囲に記載された本発明の技術思想
及び技術的範囲から逸脱することなく、それに対する多
くの変更をなし得ることは当業者には明らかであろう。
また、特許請求の範囲に記載された符号は、理解容易の
ためであってなんら発明の技術的範囲を実施例に限縮す
るものではない。
【図１】 本発明が有用であるガス分配器の実施形態の
斜視図。
斜視図。
【図２】 図１の分配器の底面図。
【図３】 図１の分配器を用いる気相コーティング装置
の実施形態の側面断面図。
の実施形態の側面断面図。
【図４】 図３の４−４線に沿った断面図。
１０ ガス分配器
１８ ガス出口ヘッド
３４ デフレクタ
５０ ガスストリーム
１００ 気相コーティング装置
１１０ コーティング用コンテナ
１１４ 上板
１１８ 底板
１２２ 側壁
１２４ コーティングチャンバ
１２８ 保持具
１３２ 部品
１４０ バスケット
１４６ 粉末のハライド活性化剤
１５２ ガス排出口
１６０ 解放排出領域
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 テリ・ケー・ブラウン
アメリカ合衆国、ケンタッキー州、セント
ラル・シティー、チャーリー・ブラウン・
ロード、725番
(72)発明者 リチャード・エル・シュミット
アメリカ合衆国、マサチューセッツ州、マ
ーブルヘッド、ヘレフォード・ロード、37
番
(72)発明者 エドワード・ジェイ・コウブ
アメリカ合衆国、マサチューセッツ州、ミ
ドルトン、ウィロウ・ストリート、１番
Ｆターム(参考） 3G002 EA05 EA06
4K030 AA03 AA04 BA02 CA02 CA17
EA04 EA05 EA06 EA08 FA10
HA15 KA02 KA25
Claims (26)
- 【請求項１】 （ａ）ガス入口（１４）と、 （ｂ）該ガス入口（１４）からガスの流れを受けるよう
に該ガス入口（１４）に連通し、また周面（２６）を有
するガス出口ヘッド（１８）と、 （ｃ）前記周面（２６）に沿って間隔を置いて配置さ
れ、前記ガスの流れがそれからガスストリーム（５０）
として出る複数のガス出口（３０）と、 （ｄ）各々が前記ガス出口（３０）の1つに近接して配
置され、少なくとも最初に各ガス出口（３０）を出る前
記ガスストリーム（５０）を少なくともほぼ向心方向の
経路に向ける、複数のガスデフレクタ（３４）と、を備
えることを特徴とするガス分配器（１０）。 - 【請求項２】 金属コーティングを用いて部品（１３
２）を気相コーティングするための装置（１００）であ
って、 （１）底板（１１８）と、該底板（１１８）から間隔を
置いて配置された上板（１１４）と、該上板（１１４）
と前記底板（１１８）とを接続する側壁（１２２）とを
有するコーティング用コンテナ（１１０）と、 （２）（ａ）ガス入口（１４）と、 （ｂ）該ガス入口（１４）からガスの流れを受けるよう
に該ガス入口（１４）に連通し、また周面（２６）を有
するガス出口ヘッド（１８）と、 （ｃ）前記周面（２６）に沿って間隔を置いて配置さ
れ、前記ガスの流れがそれからガスストリーム（５０）
として出る複数のガス出口（３０）と、 （ｄ）各々が前記ガス出口（３０）の1つに近接して配
置され、少なくとも最初に前記ガス出口（３０）を出る
前記ガスストリーム（５０）を少なくともほぼ向心方向
の経路に向ける、複数のガスデフレクタ（３４）と、を
備えるガス分配器（１０）と、 （３）コーティングされる各部品（１３２）を、前記コ
ーティング用コンテナ（１１０）内で前記ガス分配器
（１０）のガス出口ヘッド（１８）の下方に配置するた
めの少なくとも１つの保持具（１２８）と、 （４）前記金属コーティングの源を前記コーティング用
コンテナ（１１０）内で前記ガス分配器（１０）のガス
出口ヘッド（１８）の下方に配置するための少なくとも
１つの保持具（１４０）と、を備えることを特徴とする
装置（１００）。 - 【請求項３】 前記コンテナ（１１０）及び前記側壁
（１２２）がほぼ円筒形であることを特徴とする、請求
項２に記載の装置（１００）。 - 【請求項４】 各ガスデフレクタ（３４）は、各ガス出
口（３０）を出る前記ガスストリーム（５０）が、各ガ
スデフレクタ（３４）によって湾曲したほぼ求心方向下
向き方向の経路に向けられるように、ほぼ前向き方向の
偏向面（３８）を有する後部要素（３６）とほぼ下向き
方向の偏向面（４２）を有する上部要素（４０）とを備
える斜方向デフレクタ（３４）であることを特徴とす
る、請求項１又は請求項３に記載の分配器（１０）。 - 【請求項５】 各デフレクタ（３４）が、開いたほぼ台
形の形状を有することを特徴とする、請求項４に記載の
分配器（１０）。 - 【請求項６】 前記後部要素（３６）がほぼ三角形の形
状を有し、また前記上部要素（４０）がほぼ三角形の形
状を有し、前記前向き方向偏向面（３８）及び前記下向
き方向偏向面（４２）が縁部（４６）で交差しているこ
とを特徴とする、請求項５に記載の分配器（１０）。 - 【請求項７】 前記ガス出口ヘッド（１８）がほぼ円筒
形であり、前記周面（２６）がほぼ円形であることを特
徴とする、請求項１又は請求項２に記載の分配器（１
０）。 - 【請求項８】 前記ガス出口（３０）が前記周面（２
６）に沿って間隔を置いて配置された孔（３０）の形態
であり、該孔（３０）の数が少なくとも４個であること
を特徴とする、請求項７に記載の分配器（１０）。 - 【請求項９】 前記孔（３０）の数が、４個ないし２０
個の範囲にあることを特徴とする、請求項８に記載の分
配器（１０）。 - 【請求項１０】 前記孔（３０）の数が、６個ないし１
２個の範囲にあることを特徴とする、請求項６に記載の
分配器（１０）。 - 【請求項１１】 金属コーティングを用いて部品（１３
２）を気相コーティングするために、底板（１１８）
と、該底板（１１８）から間隔を置いて配置された上板
（１１４）と、該上板（１１４）と前記底板（１１８）
とを接続する側壁（１２２）とを有するコーティング用
コンテナ（１１０）内に不活性キャリアガスを導入する
ための方法であって、各々が少なくとも最初に少なくと
もほぼ向心方向の経路に流れる、前記コーティング用コ
ンテナ（１１０）の上板（１１４）近くの複数のキャリ
アガスストリーム（５０）として、前記キャリアガスを
導入する段階を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項１２】 各キャリアガスストリーム（５０）
が、少なくとも最初に湾曲したほぼ求心方向下向き方向
の経路に流れていることを特徴とする、請求項１１に記
載の方法。 - 【請求項１３】 前記キャリアガスが、少なくとも１５
立方フィート／時間（４２５リットル／時間）のガス流
量で導入されることを特徴とする、請求項１２に記載の
方法。 - 【請求項１４】 前記ガス流量が、１５ないし１２０立
方フィート／時間（４２５ないし３３９８リットル／時
間）の範囲にあることを特徴とする、請求項１３に記載
の方法。 - 【請求項１５】 前記ガス流量が、４０ないし７０立方
フィート／時間（１１３３ないし１９８２リットル／時
間）の範囲にあることを特徴とする、請求項１４に記載
の方法。 - 【請求項１６】 底板（１１８）と、該底板（１１８）
から間隔を置いて配置された上板（１１４）と、該上板
（１１４）と前記底板（１１８）とを接続する側壁（１
２２）とを有し、該底板（１１８）、上板（１１４）及
び側壁（１２２）がコーティングチャンバを形成してい
る気相コーティング用コンテナ内で、金属コーティング
を用いて部品（１３２）をコーティングするための方法
であって、 （ａ）前記コンテナ（１１０）のコーティングチャンバ
（１２４）に、コーティングされる前記部品（１３２）
を装填する段階と、 （ｂ）前記コンテナ（１１０）のコーティングチャンバ
（１２４）に、金属コーティング源（１４０）を装填す
る段階と、 （ｃ）各々が湾曲したほぼ求心方向下向き方向の経路に
流れて前記装填されたコーティング用コンテナ（１１
０）のコーティングチャンバ（１２４）内に不活性ガス
雰囲気を形成する、前記装填されたコンテナ（１１０）
の上板（１１４）近くの複数のキャリアガスストリーム
（５０）として、不活性キャリアガスを導入する段階
と、 （ｄ）前記装填されたコンテナ（１１０）のコーティン
グチャンバ（１２４）内に前記不活性ガス雰囲気が形成
された後に、前記金属コーティング源（１４０）により
金属コーティング用ガスが生成されるのに十分な温度
に、前記装填されたコンテナ（１１０）を加熱する段階
と、 （ｅ）前記装填されたコンテナ（１１０）のコーティン
グチャンバ（１２４）内で前記部品（１３２）上にコー
ティングを堆積させるように前記金属コーティング用ガ
スを移動させるために、前記装填されたコンテナ（１１
０）のコーティングチャンバ（１２４）内へ前記キャリ
アガスを流し続ける段階と、を含むことを特徴とする方
法。 - 【請求項１７】 前記部品（１３２）が翼形タービンブ
レードであり、前記金属コーティング源（１４０）がア
ルミニウム源であり、前記金属コーティング用ガスがア
ルミナイド含有ガスであることを特徴とする、請求項１
６に記載の方法。 - 【請求項１８】 前記段階（ｄ）に先立って前記コンテ
ナ（１１０）のコーティングチャンバ（１２４）にハラ
イド活性化剤（１４６）を装填する段階を更に含み、該
ハライド活性化剤（１４６）は前記段階（ｄ）の間の加
熱の後に反応性ハライドガスを生成し、該反応性ハライ
ドガスが前記アルミニウム源と反応して前記アルミナイ
ド含有ガスを生成することを特徴とする、請求項１７に
記載の方法。 - 【請求項１９】 前記ハライド活性化剤（１４６）が、
塩化アルミニウム、フッ化アルミニウム、フッ化アンモ
ニウム、及びそれらの混合物からなる群から選ばれるこ
とを特徴とする、請求項１７に記載の方法。 - 【請求項２０】 前記キャリアガスが、前記段階（ｅ）
の間に、少なくとも１５立方フィート／時間のガス流量
で前記装填されたコンテナ（１１０）のコーティングチ
ャンバ（１２４）内に導入されることを特徴とする、請
求項１８に記載の方法。 - 【請求項２１】 前記ガス流量が、前記段階（ｅ）の間
に、１５ないし１２０立方フィート／時間（４２５ない
し３３９８リットル／時間）の範囲にあることを特徴と
する、請求項２０に記載の方法。 - 【請求項２２】 前記ガス流量が、前記段階（ｅ）の間
に、４０ないし７０立方フィート／時間（１１３３ない
し１９８２リットル／時間）の範囲にあることを特徴と
する、請求項２１に記載の方法。 - 【請求項２３】 前記キャリアガスがアルゴンであるこ
とを特徴とする、請求項１３又は請求項２０に記載の方
法。 - 【請求項２４】 前記装填されたコンテナ（１１０）
が、前記段階（ｃ）の間に、少なくとも１０００゜Ｆ
（５３８℃）の温度に加熱されることを特徴とする、請
求項２０に記載の方法。 - 【請求項２５】 前記装填されたコンテナ（１１０）
が、前記段階（ｃ）の間に、１０００゜ないし２２００
゜Ｆ（５３８゜ないし１２０４℃）の範囲の温度に加熱
されることを特徴とする、請求項２４に記載の方法。 - 【請求項２６】 前記装填されたコンテナ（１１０）
が、前記段階（ｃ）の間に、１９００゜ないし２２００
゜Ｆ（１０３８゜ないし１０９３℃）の範囲の温度に加
熱されることを特徴とする、請求項２５に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US10/029311 | 2001-12-20 | ||
| US10/029,311 US6986814B2 (en) | 2001-12-20 | 2001-12-20 | Gas distributor for vapor coating method and container |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003213428A true JP2003213428A (ja) | 2003-07-30 |
| JP2003213428A5 JP2003213428A5 (ja) | 2006-02-09 |
| JP4471567B2 JP4471567B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=21848374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002367427A Expired - Lifetime JP4471567B2 (ja) | 2001-12-20 | 2002-12-19 | 気相コーティング法及び気相コーティング用コンテナのためのガス分配器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US6986814B2 (ja) |
| EP (1) | EP1321538A3 (ja) |
| JP (1) | JP4471567B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007162137A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | General Electric Co <Ge> | 保護された物品の製造方法 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7431772B2 (en) * | 2004-03-09 | 2008-10-07 | Applied Materials, Inc. | Gas distributor having directed gas flow and cleaning method |
| US8083853B2 (en) | 2004-05-12 | 2011-12-27 | Applied Materials, Inc. | Plasma uniformity control by gas diffuser hole design |
| US8328939B2 (en) | 2004-05-12 | 2012-12-11 | Applied Materials, Inc. | Diffuser plate with slit valve compensation |
| US8074599B2 (en) | 2004-05-12 | 2011-12-13 | Applied Materials, Inc. | Plasma uniformity control by gas diffuser curvature |
| US7429410B2 (en) * | 2004-09-20 | 2008-09-30 | Applied Materials, Inc. | Diffuser gravity support |
| US20090304918A1 (en) * | 2005-04-25 | 2009-12-10 | Georg Mayer | Method and apparatus for coating objects |
| GB2432371B (en) * | 2005-11-17 | 2011-06-15 | Epichem Ltd | Improved bubbler for the transportation of substances by a carrier gas |
| US7700154B2 (en) * | 2005-11-22 | 2010-04-20 | United Technologies Corporation | Selective aluminide coating process |
| US20080317973A1 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-25 | White John M | Diffuser support |
| EP3505206B1 (en) * | 2008-09-22 | 2022-03-16 | Becton, Dickinson and Company | A system for coating the interior of a container using a photolysis chemical vapor deposition process |
| KR101691558B1 (ko) * | 2009-02-13 | 2016-12-30 | 갈리움 엔터프라이지즈 피티와이 엘티디 | 플라즈마 증착 |
| GB0902633D0 (en) * | 2009-02-18 | 2009-04-01 | Rolls Royce Plc | A method and an arrangement for vapour phase coating of an internal surface of at least one hollow article |
| JP5898624B2 (ja) | 2009-11-02 | 2016-04-06 | シグマ−アルドリッチ・カンパニー、エルエルシー | 蒸発器 |
| US8163262B1 (en) | 2011-01-04 | 2012-04-24 | Omotowa Bamidele A | Method for production of nitrogen trifluoride from trimethylsilylamines |
| FR2980486B1 (fr) * | 2011-09-28 | 2013-10-11 | Snecma Propulsion Solide | Dispositif de chargement pour la densification par infiltration chimique en phase vapeur en flux dirige de substrats poreux de forme tridimensionnelle |
| US10883174B2 (en) * | 2018-11-27 | 2021-01-05 | Applied Materials, Inc. | Gas diffuser mounting plate for reduced particle generation |
| GB2583951A (en) * | 2019-05-15 | 2020-11-18 | Leiden Probe Microscopy B V | Apparatus |
| FI129040B (fi) * | 2019-06-06 | 2021-05-31 | Picosun Oy | Fluidia läpäisevien materiaalien päällystäminen |
| CN114086156B (zh) * | 2022-01-19 | 2022-04-15 | 北京中科重仪半导体科技有限公司 | 薄膜沉积设备 |
Family Cites Families (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3958047A (en) | 1969-06-30 | 1976-05-18 | Alloy Surfaces Co., Inc. | Diffusion treatment of metal |
| US3778298A (en) | 1971-05-03 | 1973-12-11 | Kito Kk | Process of metallic cementation |
| US4142004A (en) * | 1976-01-22 | 1979-02-27 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of coating semiconductor substrates |
| US4132816A (en) | 1976-02-25 | 1979-01-02 | United Technologies Corporation | Gas phase deposition of aluminum using a complex aluminum halide of an alkali metal or an alkaline earth metal as an activator |
| JPS57138128A (en) | 1981-02-20 | 1982-08-26 | Toshiba Corp | Cvd device |
| JPS6154617A (ja) | 1984-08-24 | 1986-03-18 | Fujitsu Ltd | 化学気相成長装置 |
| US4649859A (en) * | 1985-02-19 | 1987-03-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Reactor design for uniform chemical vapor deposition-grown films without substrate rotation |
| US4834022A (en) * | 1985-11-08 | 1989-05-30 | Focus Semiconductor Systems, Inc. | CVD reactor and gas injection system |
| US4807562A (en) * | 1987-01-05 | 1989-02-28 | Norman Sandys | Reactor for heating semiconductor substrates |
| US5229081A (en) * | 1988-02-12 | 1993-07-20 | Regal Joint Co., Ltd. | Apparatus for semiconductor process including photo-excitation process |
| US4928626A (en) * | 1989-05-19 | 1990-05-29 | Applied Materials, Inc. | Reactant gas injection for IC processing |
| JPH03277325A (ja) | 1990-03-28 | 1991-12-09 | Toshiba Corp | 洗米装置 |
| DE4119967C1 (ja) | 1991-06-18 | 1992-09-17 | Mtu Muenchen Gmbh | |
| US5221354A (en) | 1991-11-04 | 1993-06-22 | General Electric Company | Apparatus and method for gas phase coating of hollow articles |
| US5264245A (en) * | 1991-12-04 | 1993-11-23 | Howmet Corporation | CVD method for forming uniform coatings |
| US5462103A (en) | 1993-05-21 | 1995-10-31 | Effa; Gerald I. | Cover for a tray jack |
| JPH09213648A (ja) * | 1996-01-31 | 1997-08-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体処理装置 |
| US5910219A (en) | 1997-06-06 | 1999-06-08 | United Technologies Corporation | Can coating system |
| US5928725A (en) | 1997-07-18 | 1999-07-27 | Chromalloy Gas Turbine Corporation | Method and apparatus for gas phase coating complex internal surfaces of hollow articles |
| DE19803740C2 (de) * | 1998-01-30 | 2001-05-31 | Mtu Aero Engines Gmbh | Gasphasenbeschichtungsverfahren und Vorrichtung zur Gasphasenbeschichtung von Werkstücken |
| KR100267885B1 (ko) * | 1998-05-18 | 2000-11-01 | 서성기 | 반도체 박막증착장치 |
| US6039810A (en) | 1998-11-13 | 2000-03-21 | General Electric Company | High temperature vapor coating container |
| US6183811B1 (en) | 1998-12-15 | 2001-02-06 | General Electric Company | Method of repairing turbine airfoils |
| US6224941B1 (en) * | 1998-12-22 | 2001-05-01 | General Electric Company | Pulsed-vapor phase aluminide process for high temperature oxidation-resistant coating applications |
| US6273678B1 (en) | 1999-08-11 | 2001-08-14 | General Electric Company | Modified diffusion aluminide coating for internal surfaces of gas turbine components |
| US6203581B1 (en) * | 1999-11-12 | 2001-03-20 | Everlight Usa, Inc. | Yellow reactive dye composition |
| US6502530B1 (en) * | 2000-04-26 | 2003-01-07 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Design of gas injection for the electrode in a capacitively coupled RF plasma reactor |
| US6450117B1 (en) * | 2000-08-07 | 2002-09-17 | Applied Materials, Inc. | Directing a flow of gas in a substrate processing chamber |
| US6793966B2 (en) * | 2001-09-10 | 2004-09-21 | Howmet Research Corporation | Chemical vapor deposition apparatus and method |
-
2001
- 2001-12-20 US US10/029,311 patent/US6986814B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-12-18 EP EP02258746A patent/EP1321538A3/en not_active Withdrawn
- 2002-12-19 JP JP2002367427A patent/JP4471567B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-09-25 US US10/671,193 patent/US20040062865A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-08-15 US US11/203,185 patent/US7429403B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007162137A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | General Electric Co <Ge> | 保護された物品の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4471567B2 (ja) | 2010-06-02 |
| US20030116278A1 (en) | 2003-06-26 |
| US7429403B2 (en) | 2008-09-30 |
| US20050287298A1 (en) | 2005-12-29 |
| EP1321538A2 (en) | 2003-06-25 |
| US20040062865A1 (en) | 2004-04-01 |
| US6986814B2 (en) | 2006-01-17 |
| EP1321538A3 (en) | 2004-01-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7429403B2 (en) | Gas distributor for vapor coating method and container | |
| CA2294261C (en) | Method and apparatus for gas phase coating complex internal surfaces of hollow articles | |
| EP3049547B1 (en) | Method of simultaneously applying three different diffusion aluminide coatings to a single part | |
| US4148275A (en) | Apparatus for gas phase deposition of coatings | |
| US7178744B2 (en) | System and process for solid-state deposition and consolidation of high velocity powder particles using thermal plastic deformation | |
| JP4954683B2 (ja) | 同じ超合金基材の異なった表面領域に異なったアルミニド拡散コーティングを形成する方法 | |
| RU2485206C2 (ru) | Способ алюминирования из паровой фазы металлической детали газотурбинного двигателя, донорская рубашка и лопатка газотурбинного двигателя, содержащая такую рубашку | |
| JP3663190B2 (ja) | 局部アルミナイド被覆の形成法 | |
| US6180170B1 (en) | Device and method for preparing and/or coating the surfaces of hollow construction elements | |
| JP2003213428A5 (ja) | ||
| KR20000077446A (ko) | 니켈계 및 코발트계 초합금을 알루미늄으로 동시에처리하기 위한 방법 | |
| JP2005146413A (ja) | 低酸化物コーティングを形成するための成膜装置及び方法 | |
| CN102086503A (zh) | 掩蔽材料、掩蔽层、用于掩蔽基材的方法以及用于涂覆基材的方法 | |
| US6299935B1 (en) | Method for forming a coating by use of an activated foam technique | |
| KR20030059199A (ko) | 가스흐름에 의하여 회전구동되는 기재홀더를 갖는 ｃｖｄ반응기 | |
| EP2551370A1 (en) | Maskant free diffusion coating process | |
| US20120301624A1 (en) | Spray nozzle and method for atmospheric spraying, device for coating, and coated component | |
| CA2434211C (en) | Process and device for gas-phase diffusion coating of metallic components | |
| WO2000009777A9 (en) | Vapor phase co-deposition coating for superalloy applications | |
| JP2008095179A (ja) | 基体の被覆用の方法および装置 | |
| US6511630B1 (en) | Method for forming a coating by use of foam technique | |
| US6749900B2 (en) | Method and apparatus for low-pressure pulsed coating | |
| US20130189429A1 (en) | Method for Producing a Locally Limited Diffusion Coat and Reactor for it | |
| CA2297543A1 (en) | Method for the production of a coated structure which is suitable for carrying out heterogeneous catalyses | |
| RU2452791C2 (ru) | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЯ ИЗ ОБЪЕМНО-ЦЕНТРИРОВАННОГО КУБИЧЕСКОГО (В2) АЛЮМИНИДА НИКЕЛЯ (NiAl) С РЕГУЛИРУЕМОЙ ТОЛЩИНОЙ НА ПОВЕРХНОСТИ СПЛАВА НА ОСНОВЕ НИКЕЛЯ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051214 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051214 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081009 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081014 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090113 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090116 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090413 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090413 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090413 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091013 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100108 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100202 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100302 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |