JP2003207690A - Optical fiber array - Google Patents

Optical fiber array

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JP2003207690A
JP2003207690A JP2002004990A JP2002004990A JP2003207690A JP 2003207690 A JP2003207690 A JP 2003207690A JP 2002004990 A JP2002004990 A JP 2002004990A JP 2002004990 A JP2002004990 A JP 2002004990A JP 2003207690 A JP2003207690 A JP 2003207690A
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JP
Japan
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optical fiber
substrate
groove
lid
fiber array
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Application number
JP2002004990A
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Japanese (ja)
Inventor
Hironori Tanaka
宏徳 田中
Kotaro Hayashi
康太郎 林
Kunio Nagaya
邦男 長屋
Kazuhito Yamada
和仁 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical fiber array which has a substrate and a lid part securely fixed across an adhesion layer, is free of peeling between the substrate and lid part, and adhesion layer and a shift of the position of an optical fiber, and can accurately transmit a light signal. <P>SOLUTION: The optical fiber array comprises the substrate and lid part which are fixed across the adhesion layer and has a plurality of grooves formed in a portion of the surface of the substrate or lid part and optical fibers stored in the grooves, and is characterized in that the transmissivity of the whole of or some area of the substrate and/or lid part to ultraviolet rays perpendicular to a main surface is 65 to 100%. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバアレイ
に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical fiber array.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、通信分野を中心として光ファイバ
に注目が集まっている。特にIT(情報技術)分野にお
いては、高速インターネット網の整備に、光ファイバを
用いた通信技術が必要となる。光ファイバは、低損
失、高帯域、細径・軽量、無誘導、省資源等の
特徴を有しており、この特徴を有する光ファイバを用い
た通信システムでは、従来のメタリックケーブルを用い
た通信システムに比べ、中継器数を大幅に削減すること
ができ、建設、保守が容易になり、通信システムの経済
化、高信頼性化を図ることができる。
2. Description of the Related Art In recent years, attention has been focused on optical fibers mainly in the communication field. Particularly in the IT (information technology) field, communication technology using optical fibers is required to maintain a high-speed Internet network. Optical fiber has the features of low loss, high bandwidth, small diameter / light weight, no induction, resource saving, etc. In the communication system using the optical fiber having this feature, the communication using the conventional metallic cable is used. Compared with the system, the number of repeaters can be greatly reduced, construction and maintenance are facilitated, and the communication system can be made economical and highly reliable.

【0003】また、光ファイバでは、一つの波長の光だ
けでなく、多くの異なる波長の光を1本の光ファイバで
同時に多重伝送することができるため、多様な用途に対
応可能な大容量の伝送路を実現することができ、映像サ
ービス等にも対応することができるという大きな利点を
有する。
Further, in the optical fiber, not only the light of one wavelength but also the light of many different wavelengths can be simultaneously multiplexed and transmitted by one optical fiber, so that it has a large capacity for various purposes. This has a great advantage that a transmission line can be realized and a video service can be supported.

【0004】また、光ファイバを用いた光通信において
は、複数の光ファイバが並列に配置され、その周囲に被
覆樹脂層が形成された光ファイバリボンが用いられてい
る。そして、この光ファイバリボンを、受光素子や発光
素子、各種端末機器(パソコン、モバイル、ゲーム等)
と接続するには、通常、光ファイバリボンの端部の被覆
樹脂層を除去することにより、複数の光ファイバの端部
を露出させ、この露出した光ファイバをV溝を有する基
板の溝に載置、固定し、さらに、露出した光ファイバを
覆う蓋部を接着層を介して基板に取り付けることにより
複数の光ファイバが所定の間隔で離間して配置された光
ファイバアレイが用いられている。
In optical communication using an optical fiber, an optical fiber ribbon in which a plurality of optical fibers are arranged in parallel and a coating resin layer is formed around the optical fibers is used. Then, this optical fiber ribbon is used for a light receiving element, a light emitting element, various terminal devices (personal computer, mobile, game, etc.)
In order to connect with the optical fiber ribbon, the coating resin layer at the end of the optical fiber ribbon is usually removed to expose the ends of the plurality of optical fibers, and the exposed optical fibers are mounted in the groove of the substrate having the V groove. There is used an optical fiber array in which a plurality of optical fibers are arranged at a predetermined interval by placing, fixing, and further attaching a lid portion covering the exposed optical fibers to a substrate via an adhesive layer.

【0005】そこで、従来、光ファイバアレイとして
は、例えば、基板に形成された複数のV溝のそれぞれに
光ファイバが整列して収容され、上記基板上に接着層を
介して上記光ファイバを覆うように蓋部が取り付けられ
たものが開示されている。
Therefore, conventionally, as an optical fiber array, for example, the optical fibers are housed in alignment with each of a plurality of V grooves formed on a substrate, and the optical fibers are covered with an adhesive layer on the substrate. Thus, the one with the lid attached is disclosed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような光ファイバ
アレイでは、該光ファイバアレイを光学素子に接続する
際や、光ファイバアレイに熱や湿度に起因した外部から
の力が加わった際に、光ファイバの位置ズレが発生した
り、場合によっては、光ファイバの破損が発生したりす
ることがあり、光ファイバアレイと受光素子や発光素子
等の光学素子との間で接続不良が発生する原因となるこ
とがあった。このような光ファイバの位置ズレや光ファ
イバの破損等は、上記基板や上記蓋部と、接着層との密
着性が不充分なために発生すると考えられた。
In such an optical fiber array, when the optical fiber array is connected to an optical element or when an external force due to heat or humidity is applied to the optical fiber array, The position of the optical fiber may be displaced or the optical fiber may be damaged in some cases, causing the connection failure between the optical fiber array and the optical element such as the light receiving element or the light emitting element. Was sometimes. It is considered that such positional deviation of the optical fiber, breakage of the optical fiber and the like occur due to insufficient adhesion between the substrate and the lid and the adhesive layer.

【0007】具体的には、従来の光ファイバアレイにお
いて、基板と光ファイバや蓋部とを固定する接着層とし
ては、例えば、紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物等が用
いられていたのであるが、このような材質からなる接着
層を用いた光ファイバアレイを製造する場合には、通
常、基板と光ファイバや蓋部との間隙に未硬化の紫外線
硬化型樹脂組成物を充填した後、基板または蓋部を介し
て紫外線を照射することにより、未硬化の樹脂組成物を
硬化させ、基板と蓋部とを接着層(紫外線硬化型樹脂組
成物の硬化物)を介して固定していた。
Specifically, in the conventional optical fiber array, for example, a cured product of an ultraviolet curable resin composition is used as the adhesive layer for fixing the substrate and the optical fiber or the lid. However, when manufacturing an optical fiber array using an adhesive layer made of such a material, usually, after filling the uncured ultraviolet curable resin composition in the gap between the substrate and the optical fiber or the lid, The uncured resin composition was cured by irradiating with ultraviolet rays through the substrate or the lid, and the substrate and the lid were fixed via the adhesive layer (cured product of the ultraviolet curable resin composition). .

【0008】しかしながら、紫外線を照射した際に、未
硬化の樹脂組成物に充分に紫外線が照射されず、該樹脂
組成物が充分に硬化しないことがあり、この場合、未硬
化の樹脂組成物を起点にして、接着層にクラックが発生
したり、接着層と基板や蓋部との間で剥離が発生したり
するがあった。その結果、これを原因として、光ファイ
バの位置ズレや光ファイバの破損等が発生することとな
ると考えられた。
However, when irradiated with ultraviolet rays, the uncured resin composition may not be sufficiently irradiated with ultraviolet rays and the resin composition may not be sufficiently cured. In this case, the uncured resin composition is At the starting point, cracks may occur in the adhesive layer, or peeling may occur between the adhesive layer and the substrate or lid. As a result, it is considered that the cause of this is a positional shift of the optical fiber or damage to the optical fiber.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上記した種々の課題を解決するための手段について、鋭
意検討した結果、基板や蓋部と接着層との密着性を向上
させればよいことに想到し、具体的には、基板または蓋
部の紫外線の透過率を所定の大きさにすればよいことを
見出し、本発明の光ファイバアレイを完成した。
Therefore, the present inventors have
As a result of earnest studies on means for solving the above-mentioned various problems, it was found that the adhesion between the substrate and the lid and the adhesive layer should be improved. It was found that the transmittance of ultraviolet rays should be set to a predetermined value, and the optical fiber array of the present invention was completed.

【0010】すなわち、本発明の光ファイバアレイは、
接着層を介して固定された基板と蓋部とからなり、上記
基板または上記蓋部の表面の一部に複数の溝が形成さ
れ、上記溝に光ファイバが収納された光ファイバアレイ
であって、上記基板および/または上記蓋部の全部また
は一部の領域における、主面に垂直な方向の紫外線の透
過率が65〜100%であることを特徴とする。また、
上記透過率は、70〜100%であることが望ましい。
That is, the optical fiber array of the present invention is
An optical fiber array comprising a substrate fixed via an adhesive layer and a lid, wherein a plurality of grooves are formed on a part of the surface of the substrate or the lid, and an optical fiber is housed in the groove. The ultraviolet transmittance in the direction perpendicular to the main surface in all or a part of the area of the substrate and / or the lid is 65 to 100%. Also,
The transmittance is preferably 70 to 100%.

【0011】本発明の光ファイバアレイにおいては、上
記基板の表面に複数の溝が形成され、上記基板は、エッ
チングにより所望の形状の溝を形成することができる部
材を含んで構成されていることが望ましい。
In the optical fiber array of the present invention, a plurality of grooves are formed on the surface of the substrate, and the substrate includes a member capable of forming grooves having a desired shape by etching. Is desirable.

【0012】また、本発明の光ファイバアレイにおいて
は、上記蓋部の表面に複数の溝が形成され、上記蓋部
は、エッチングにより所望の形状の溝を形成することが
できる部材を含んで構成されていることも望ましい。
Further, in the optical fiber array of the present invention, a plurality of grooves are formed on the surface of the lid, and the lid includes a member capable of forming a groove having a desired shape by etching. It is also desirable to have been done.

【0013】上記光ファイバアレイにおいて、上記紫外
線の透過率は、波長360nm光の長さ1mmあたりの
透過率であることが望ましい。
In the above optical fiber array, it is preferable that the transmittance of the ultraviolet rays is a transmittance per 1 mm of a light having a wavelength of 360 nm.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の光ファイバアレイ
について説明する。本発明の光ファイバアレイは、接着
層を介して固定された基板と蓋部とからなり、上記基板
または上記蓋部の表面の一部に複数の溝が形成され、上
記溝に光ファイバが収納された光ファイバアレイであっ
て、上記基板および/または上記蓋部の全部または一部
の領域における、主面に垂直な方向の紫外線の透過率が
65〜100%であることを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The optical fiber array of the present invention will be described below. The optical fiber array of the present invention comprises a substrate fixed with an adhesive layer and a lid, a plurality of grooves are formed in a part of the surface of the substrate or the lid, and the optical fiber is housed in the groove. The optical fiber array described above is characterized in that the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface is 65 to 100% in all or a part of the area of the substrate and / or the lid.

【0015】本発明の光ファイバアレイでは、基板およ
び/または蓋部の全部または一部の領域において、主面
に垂直な方向の紫外線の透過率(以下、単に透過率とも
いう)が上記した範囲にあるため、本発明の光ファイバ
アレイの製造時に、上記透過率を有する基板または蓋部
を介して紫外線を照射した場合、該紫外線が確実に未硬
化の接着層に照射されることとなり、得られた光ファイ
バアレイでは、基板と蓋部とが接着層を介して確実に固
定されることとなる。従って、本発明の光ファイバアレ
イにおいては、上述したような光ファイバの位置ズレや
光ファイバの破損等が発生することがなく、正確に光信
号を伝送することができる。
In the optical fiber array of the present invention, the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface (hereinafter, also simply referred to as transmittance) in the whole or a part of the area of the substrate and / or the lid is in the above range. Therefore, in the production of the optical fiber array of the present invention, when ultraviolet rays are radiated through the substrate or the lid having the above-mentioned transmittance, the ultraviolet rays are surely radiated to the uncured adhesive layer. In the optical fiber array thus constructed, the substrate and the lid are securely fixed via the adhesive layer. Therefore, in the optical fiber array of the present invention, the optical signal can be accurately transmitted without causing the positional deviation of the optical fiber or the damage of the optical fiber as described above.

【0016】また、光ファイバが整列された本発明の光
ファイバアレイでは、上記光ファイバからの光を受光す
る受光部品(例えば、導波路、AWGモジュール等)等
との位置合わせを容易に行うことができ、また、目視ま
たはカメラを有する装置により、光ファイバや光ファイ
バアレイの位置ズレ、接着剤の不具合等を判別して、事
前にふるい分けることができる。さらには、基板等に受
光部品との位置合わせ用ターゲットマークを形成した場
合、基板および/または蓋部の光の透過性が良いため、
精度良く、光ファイバアレイの位置合わせを行うことが
できる。
Further, in the optical fiber array of the present invention in which the optical fibers are aligned, it is possible to easily perform alignment with a light receiving component (for example, a waveguide, an AWG module, etc.) that receives the light from the optical fiber. In addition, it is possible to determine the positional deviation of the optical fiber or the optical fiber array, the defect of the adhesive agent, etc. by visual inspection or a device having a camera, and perform screening in advance. Furthermore, when the target mark for alignment with the light receiving component is formed on the substrate or the like, the substrate and / or the lid has good light transmittance,
The position of the optical fiber array can be accurately aligned.

【0017】以下、本発明の光ファイバアレイの実施形
態について、図面を参照しながら説明する。なお、本発
明の光ファイバアレイの実施形態は、以下に図示するも
のに限定されるわけではない。
Embodiments of the optical fiber array of the present invention will be described below with reference to the drawings. The embodiments of the optical fiber array of the present invention are not limited to those illustrated below.

【0018】図1(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の実施形態の一例を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図であり、(c)は、
(a)の光ファイバアレイを構成する蓋部を示す斜視図
であり、(d)は、(a)の光ファイバアレイを構成す
る光ファイバが収納された基板を示す部分斜視図であ
る。
FIG. 1A is a partial perspective view schematically showing an example of the embodiment of the optical fiber array of the present invention.
(B) is the sectional view on the AA line of (a), (c) is
It is a perspective view which shows the lid part which comprises the optical fiber array of (a), (d) is a partial perspective view which shows the board | substrate which accommodated the optical fiber which comprises the optical fiber array of (a).

【0019】図1に示すように、光ファイバアレイ10
00では、基板151上面の一部に、並列に形成された
複数のV溝157のそれぞれに、光ファイバ115が接
着層159を介して収納、固定されている。また、光フ
ァイバリボン110を収納した基板151上には、接着
層159を介して蓋部160が固定されており、この蓋
部160には、光ファイバ115の一部(光ファイバの
うち溝157に収納されなかった一部)を一括して収納
する凹部161が形成されている。なお、上記光ファイ
バアレイにおいて、基板上面に形成される溝は、V溝に
限定されるわけではなく、例えば、その光ファイバの軸
に垂直な方向の断面の形状が矩形状の溝であってもよ
い。
As shown in FIG. 1, the optical fiber array 10
In 00, the optical fiber 115 is housed and fixed to each of the plurality of V grooves 157 formed in parallel on a part of the upper surface of the substrate 151 via the adhesive layer 159. A lid 160 is fixed on a substrate 151 accommodating the optical fiber ribbon 110 via an adhesive layer 159, and a portion of the optical fiber 115 (a groove 157 of the optical fiber is attached to the lid 160). A part 161 which is not stored in the above is collectively formed. In the above optical fiber array, the groove formed on the upper surface of the substrate is not limited to the V groove, and for example, a groove having a rectangular cross section in a direction perpendicular to the axis of the optical fiber may be used. Good.

【0020】また、本発明の光ファイバアレイ100で
は、基板151上面に、溝157とは別に、光ファイバ
をその周囲の被覆樹脂層114とともに一括して保持す
るための被覆樹脂層保持部158が形成されている。な
お、この被覆樹脂層保持部158の上面は、溝157を
形成した溝形成面よりも低くなっている。また、この被
覆樹脂層保持部158上に載置した被覆樹脂層114の
周囲には接着層159′が形成されている。なお、被覆
樹脂層保持部158は、必要に応じて形成すればよく、
基板上にはV溝のみが形成されていてもよい。
Further, in the optical fiber array 100 of the present invention, in addition to the groove 157, a coating resin layer holding portion 158 for holding the optical fiber together with the coating resin layer 114 around it is provided on the upper surface of the substrate 151. Has been formed. The upper surface of the coating resin layer holding portion 158 is lower than the groove forming surface in which the groove 157 is formed. Further, an adhesive layer 159 ′ is formed around the coating resin layer 114 placed on the coating resin layer holding portion 158. The coating resin layer holding portion 158 may be formed as needed,
Only the V groove may be formed on the substrate.

【0021】また、光ファイバアレイ1000では、溝
形成面と被覆樹脂層保持部との境目は、被覆樹脂層保持
部に向かって下るような傾斜を有する壁面である。溝形
成面と被覆樹脂層保持部との境目が、このような形状で
ある場合、光ファイバを収納した際に、該光ファイバに
かかる負荷を軽減することができる。なお、本明細書に
おいては、溝形成面と被覆樹脂層保持部との境目の壁面
も被覆樹脂層保持部に含むこととする。また、このよう
な溝形成面と被覆樹脂層保持部との境目が傾斜を有する
壁面である光ファイバアレイでは、溝において露出した
光ファイバが固定され、被覆樹脂層保持部において、露
出した光ファイバと被覆樹脂層とが固定されることとな
る。また、図中、111はコア、112はクラッドであ
る。
In addition, in the optical fiber array 1000, the boundary between the groove forming surface and the coating resin layer holding portion is a wall surface that is inclined toward the coating resin layer holding portion. When the boundary between the groove forming surface and the coating resin layer holding portion has such a shape, it is possible to reduce the load applied to the optical fiber when the optical fiber is housed. In the present specification, the wall surface of the boundary between the groove forming surface and the coating resin layer holding portion is also included in the coating resin layer holding portion. Further, in such an optical fiber array in which the boundary between the groove forming surface and the covering resin layer holding portion is a wall surface having an inclination, the optical fiber exposed in the groove is fixed, and the exposed optical fiber in the covering resin layer holding portion is fixed. And the coating resin layer are fixed. In the figure, 111 is a core and 112 is a clad.

【0022】上記基板や上記蓋部の材質としては、例え
ば、シリコン、炭化ケイ素、アルミナ、窒化アルミニウ
ム、ムライト、セラミック、ガリウム砒素、ジルコニア
等の無機材料;石英ガラス、高ケイ酸ガラス、ソーダ石
灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラス、フッ化物ガラ
ス等のガラス;銅、鉄、ニッケル等の金属材料;熱硬化
性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂、これらの複合体等
の有機材料やこれらの有機材料にガラス繊維等の補強材
を含浸させたもの等が挙げられる。上記蓋部の材質と上
記基板の材質とは、同一であってもよいし、異なってい
てもよい。
Examples of the material of the substrate and the lid include inorganic materials such as silicon, silicon carbide, alumina, aluminum nitride, mullite, ceramics, gallium arsenide, zirconia; quartz glass, high silicate glass, soda lime glass. , Glass such as borosilicate glass, lead glass, and fluoride glass; metal materials such as copper, iron, and nickel; thermosetting resins, thermoplastic resins, photosensitive resins, organic materials such as composites thereof, and organic materials thereof Examples include materials impregnated with a reinforcing material such as glass fiber. The material of the lid and the material of the substrate may be the same or different.

【0023】本発明の光ファイバアレイでは、上記基板
および/または上記蓋部の全部または一部の領域におけ
る主面に垂直な方向の紫外線の透過率が65〜100%
である。上記透過率は、70〜100%が望ましい。こ
のような透過率を有する場合、様々な種類の材質からな
る接着層において、アライメントが向上されることとな
るからである。上記した範囲の透過率を有する材質とし
ては、例えば、石英ガラス、高ケイ酸ガラス、ソーダ石
灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラス、フッ化物ガラ
ス等の無機材料、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性
樹脂、これらの複合体等の有機材料等が挙げられる。こ
れらのなかでは、高ケイ酸ガラスが望ましい。従って、
本発明の光ファイバアレイでは、基板および蓋部の少な
くともいずれか一方が、上記した材質のものを含んで構
成されていることが望ましい。また、基板や蓋部の上記
透過率は、基板や蓋部の材質のみならず、基板や蓋部の
厚さやこれらの表面状態(平滑な面であるか、粗面であ
るか等)によっても変わることとなる。従って、基板お
よび/または蓋部の透過率を上記した範囲に制御するに
は、上記した材質や、表面状態等を適宜制御すればよ
い。
In the optical fiber array of the present invention, the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface in all or a part of the area of the substrate and / or the lid is 65 to 100%.
Is. The above transmittance is preferably 70 to 100%. This is because when such a transmittance is provided, the alignment is improved in the adhesive layers made of various kinds of materials. The material having a transmittance in the above range, for example, quartz glass, high silicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, lead glass, inorganic materials such as fluoride glass, thermosetting resin, thermoplastic resin, Examples include photosensitive resins and organic materials such as composites thereof. Of these, high silicate glass is desirable. Therefore,
In the optical fiber array of the present invention, it is desirable that at least one of the substrate and the lid includes the above-mentioned material. Further, the above-mentioned transmittance of the substrate and the lid portion depends not only on the material of the substrate and the lid portion but also on the thickness of the substrate and the lid portion and their surface condition (whether they are a smooth surface or a rough surface). It will change. Therefore, in order to control the transmittance of the substrate and / or the lid within the above range, the above-mentioned material, surface condition, etc. may be controlled appropriately.

【0024】また、上記したような紫外線の透過性に優
れる材質は、通常、可視光線の透過性にも優れる。その
ため、例えば、基板に溝を形成する際に、該基板にアラ
イメントマークを形成し、蓋部として上記した材質から
なるものを使用する場合には、このアライメントマーク
を蓋部の位置合わせに用いることができ、さらには、光
ファイバアレイを他の光学部品と接続する際に、上記基
板に形成したアライメントマークと、上記光学部品に予
め形成しておいたアライメントマークとを用いて、両者
の位置合わせを機械的に行うことができる。通常、光フ
ァイバアレイと他の光学部品とを接続する際には、光フ
ァイバ等に光を入れて、光のピークが最大になるよう
に、両者の位置合わせを行っていたのであるが、このよ
うな位置合わせの方法を用いた光ファイバアレイと光学
部品との接続では、時間を要することとなっていた。こ
れに対し、光ファイバアレイに形成しておいたアライメ
ントマークと光学部品に形成しておいたアライメントマ
ークとを用いた機械的な接続では、両者の位置合わせ
を、短時間で、かつ、光を入れて位置合わせをするアク
ティブアライメントと同等の精度で行うことができる。
なお、ここでは、基板にアライメントマークを形成し、
蓋部として上記した材質からなるものを用いる場合の効
果として記載したが、蓋部にアライメントマークを形成
し、基板として上記した材質からなるものを用いる場合
にも同様の効果を得ることができる。
Further, the above-mentioned materials having excellent ultraviolet ray transmittance are also usually excellent in visible ray transmittance. Therefore, for example, when forming an alignment mark on a substrate when forming a groove on the substrate and using a lid made of the above-mentioned material, use this alignment mark for aligning the lid. Furthermore, when connecting the optical fiber array to other optical components, the alignment marks formed on the substrate and the alignment marks previously formed on the optical component are used to align the two. Can be done mechanically. Normally, when connecting an optical fiber array and other optical components, light was introduced into the optical fiber, etc., and both were aligned so that the peak of light was maximized. It takes time to connect the optical fiber array and the optical component by using such a positioning method. On the other hand, in the mechanical connection using the alignment mark formed on the optical fiber array and the alignment mark formed on the optical component, the alignment of the both can be performed in a short time and the light It can be performed with the same accuracy as active alignment in which the alignment is performed.
In addition, here, the alignment mark is formed on the substrate,
Although the description has been given as to the effect of using the lid made of the above-mentioned material, the same effect can be obtained when the alignment mark is formed on the lid and the substrate made of the above-mentioned material is used.

【0025】また、本明細書において、紫外線とは、波
長240〜500nmの光をいう。また、紫外線の透過
率が65〜100%であるとは、上記した波長領域(2
40〜500nm)の全領域において、65〜100%
の透過率を有するという意味ではなく、上記した波長領
域のうちのいずれかの波長において、65〜100%の
透過率を有するという意味である。
Further, in the present specification, ultraviolet rays mean light having a wavelength of 240 to 500 nm. The ultraviolet ray transmittance of 65 to 100% means that the above-mentioned wavelength range (2
40 to 500 nm) in the entire region, 65 to 100%
It does not mean that it has a transmittance of 6 to 100% at any wavelength in the above wavelength range.

【0026】また、上記紫外線の透過率は、波長360
nm光の長さ1mmあたりの透過率であることが望まし
い。具体的には、波長360nmで強度Iの紫外線
が、上記基板および/または上記蓋部に、その主面に垂
直な方向から入射し、上記基板および/または上記蓋部
を1mm通過して出てきたとした際に、出てきた光の強
さがIである場合に、下記式(1)により算出される
値であることが望ましい。
Further, the transmittance of the above-mentioned ultraviolet rays has a wavelength of 360
It is desirable that the transmittance is per 1 mm of the length of nm light. Specifically, ultraviolet light having a wavelength of 360 nm and an intensity of I 0 is incident on the substrate and / or the lid portion in a direction perpendicular to the main surface thereof, and passes through the substrate and / or the lid portion for 1 mm to exit. upon the in has, when the strength of the outcoming light is I t, it is desirable that the value calculated by the following equation (1).

【0027】 透過率(%)=I/I×100・・・(1)Transmittance (%) = I t / I 0 × 100 (1)

【0028】また、本発明の光ファイバアレイは、基板
の表面に複数の溝が形成され、上記基板は、エッチング
により所望の形状の溝を形成することができる部材を含
んで構成されていることが望ましい。このような光ファ
イバアレイでは、光ファイバの収納精度に優れることと
なる。光ファイバアレイを製造する際に、光ファイバを
収納するための溝は、通常、溝を形成する部材の材質を
考慮して、機械加工やエッチング等により形成するので
あるが、エッチングにより形成された溝のほうが、機械
加工により形成された溝よりも相対的な位置精度に優れ
ることとなる。これは、エッチングにより溝を形成する
場合には、複数の溝を一括して形成することができるた
め、隣合う溝同士の間隔等にバラツキが発生しにくいの
対し、機械加工により溝を形成する場合には、個々の溝
を別々に形成するため、溝ごとにバラツキが生じ、隣合
う溝同士の間隔にもバラツキが生じやすいからである。
In the optical fiber array of the present invention, a plurality of grooves are formed on the surface of the substrate, and the substrate includes a member capable of forming grooves having a desired shape by etching. Is desirable. In such an optical fiber array, the accommodating accuracy of the optical fibers is excellent. When manufacturing an optical fiber array, the groove for housing the optical fiber is usually formed by machining or etching in consideration of the material of the member forming the groove, but it is formed by etching. The groove is superior in relative positional accuracy to the groove formed by machining. This is because when a groove is formed by etching, a plurality of grooves can be formed at once, so that variations in the distance between adjacent grooves are less likely to occur, whereas the groove is formed by machining. In this case, since the individual grooves are formed separately, variations occur in each groove, and the spacing between adjacent grooves also tends to vary.

【0029】図2(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の別の一実施形態を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図であり、(c)は、
(a)の蓋部のみを示す斜視図であり、(d)は、
(a)の基板のみを示す斜視図である。
FIG. 2A is a partial perspective view schematically showing another embodiment of the optical fiber array of the present invention,
(B) is the sectional view on the AA line of (a), (c) is
It is a perspective view which shows only the lid part of (a), (d) is
It is a perspective view which shows only the board | substrate of (a).

【0030】図2に示すように、光ファイバアレイ20
00では、基板2151上面の一部に、並列に形成され
た複数のV溝2157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着層2159を介して収納、固定されている。ま
た、光ファイバリボン110を収納した基板2151上
には、接着層2159を介して蓋部2160が固定され
ている。この光ファイバアレイ2000においては、基
板2151が、板状の保持部材2151aと、その幅
(図中:L)および奥行き(図中:L)がともに保
持部材2151aよりも小さく、かつ、その上面に複数
のV溝2157が形成された溝形成部材2151bとか
ら構成されている。
As shown in FIG. 2, the optical fiber array 20
In 00, the optical fiber 115 is provided in each of the plurality of V grooves 2157 formed in parallel on a part of the upper surface of the substrate 2151.
Are stored and fixed via the adhesive layer 2159. In addition, a lid portion 2160 is fixed on a substrate 2151 that houses the optical fiber ribbon 110 via an adhesive layer 2159. In this optical fiber array 2000, the substrate 2151 has a plate-shaped holding member 2151a, and its width (L 2 in the drawing) and depth (L 1 in the drawing) are both smaller than that of the holding member 2151a. A groove forming member 2151b having a plurality of V grooves 2157 formed on its upper surface is formed.

【0031】また、光ファイバアレイ2000では、保
持部材2151aの上面の溝形成部材2151bが積層
されていない部分の一部が、光ファイバをその周囲の被
覆樹脂層114とともに一括して保持するための被覆樹
脂層保持部2158としての役割を果たしており、この
被覆樹脂層保持部2158上に載置した被覆樹脂層11
4の周囲には接着層2159′が形成されている。
Further, in the optical fiber array 2000, a part of the upper surface of the holding member 2151a where the groove forming member 2151b is not laminated holds the optical fiber together with the coating resin layer 114 around the optical fiber. The coating resin layer holding portion 2158 plays a role, and the coating resin layer 11 placed on the coating resin layer holding portion 2158.
An adhesive layer 2159 ′ is formed around the periphery of No. 4.

【0032】このような構成の光ファイバアレイ200
0では、溝形成部材2151bが、エッチングにより所
望の形状の溝を形成することができる部材であることが
望ましい。このような部材の具体的な材質としては、例
えば、シリコンやガリウム砒素等が挙げられる。
The optical fiber array 200 having such a configuration
In No. 0, it is desirable that the groove forming member 2151b is a member that can form a groove having a desired shape by etching. Specific examples of the material of such a member include silicon and gallium arsenide.

【0033】また、光ファイバアレイ2000では、蓋
部2160の材質は、主面に垂直な方向の紫外線の透過
率が65〜100%であるものが望ましく、70〜10
0%であるものがより望ましい。このような蓋部を用
い、さらに、接着層として紫外線硬化型樹脂組成物の硬
化物を用いる場合、光ファイバアレイを製造する際に、
蓋部を介して紫外線を照射することにより、基板と蓋部
とを接着層を介して確実に固定することができるからで
ある。また、基板を構成する保持部材2151aの材質
もまた、上記範囲の透過率を有するものであることが望
ましい。
Further, in the optical fiber array 2000, the material of the lid portion 2160 is preferably such that the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface is 65 to 100%, and 70 to 10
What is 0% is more desirable. When such a lid is used and a cured product of the ultraviolet curable resin composition is used as the adhesive layer, when producing an optical fiber array,
This is because the substrate and the lid can be reliably fixed to each other via the adhesive layer by irradiating with ultraviolet rays through the lid. Further, it is desirable that the material of the holding member 2151a forming the substrate also has a transmittance within the above range.

【0034】図3(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の別の一実施形態を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図であり、(c)は、
(a)の蓋部のみを示す斜視図であり、(d)は、
(a)の基板のみを示す斜視図である。
FIG. 3 (a) is a partial perspective view schematically showing another embodiment of the optical fiber array of the present invention.
(B) is the sectional view on the AA line of (a), (c) is
It is a perspective view which shows only the lid part of (a), (d) is
It is a perspective view which shows only the board | substrate of (a).

【0035】図3に示すように、光ファイバアレイ30
00では、基板3151上面の一部に、並列に形成され
た複数のV溝3157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着層3159を介して収納、固定されている。ま
た、光ファイバリボン110を収納した基板3151上
には、接着層3159を介して蓋部3160が固定され
ている。この光ファイバアレイ3000においては、基
板3151が、その一部に断面が矩形状の凹部が形成さ
れた保持部材3151aと、その幅が上記凹部の幅と等
しく、その奥行きが上記凹部の奥行きよりも小さく、か
つ、その上面に複数のV溝3157が形成された溝形成
部材1151bとから構成されており、溝形成部材31
51bは、その一の端面が、保持部材3151bの一の
端面に揃うように保持部材3151aの凹部に収納され
ている。
As shown in FIG. 3, the optical fiber array 30
In 00, the optical fiber 115 is provided in each of the plurality of V grooves 3157 formed in parallel on a part of the upper surface of the substrate 3151.
Are stored and fixed via an adhesive layer 3159. Further, a lid portion 3160 is fixed on a substrate 3151 that accommodates the optical fiber ribbon 110 via an adhesive layer 3159. In this optical fiber array 3000, a substrate 3151 has a holding member 3151a in which a concave portion having a rectangular cross section is formed in a part thereof, the width thereof is equal to the width of the concave portion, and the depth thereof is larger than the depth of the concave portion. The groove forming member 1151b is small and has a plurality of V grooves 3157 formed on the upper surface thereof.
51b is housed in the recess of the holding member 3151a so that its one end surface is aligned with the one end surface of the holding member 3151b.

【0036】また、光ファイバアレイ3000では、保
持部材3151aに形成された凹部のうち、溝形成部材
が収納されていない部分が、光ファイバをその周囲の被
覆樹脂層114とともに一括して保持するための被覆樹
脂層保持部3158としての役割を果たしており、この
被覆樹脂層保持部3158上に載置した被覆樹脂層11
4の周囲には接着層3159′が形成されている。
Further, in the optical fiber array 3000, of the concave portions formed in the holding member 3151a, the portion in which the groove forming member is not housed holds the optical fiber together with the coating resin layer 114 around the optical fiber. Of the coating resin layer holding portion 3158, and the coating resin layer 11 placed on the coating resin layer holding portion 3158.
An adhesive layer 3159 ′ is formed around the periphery of No. 4.

【0037】このような構成の光ファイバアレイ300
0においても、溝形成部材3151bは、エッチングに
より所望の形状の溝を形成することができる部材である
ことが望ましい。また、光ファイバアレイ3000にお
いても、蓋部3160の材質は、主面に垂直な方向の紫
外線の透過率が65〜100%であるものが望ましく、
70〜100%であるものがより望ましい。さらに、基
板を構成する保持部材3151aの材質もまた、上記範
囲の透過率を有するものであることが望ましい。
The optical fiber array 300 having such a configuration
Even in 0, the groove forming member 3151b is preferably a member that can form a groove having a desired shape by etching. Also in the optical fiber array 3000, the material of the lid portion 3160 is preferably such that the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface is 65 to 100%,
More preferably, it is 70 to 100%. Furthermore, it is desirable that the material of the holding member 3151a that constitutes the substrate also has a transmittance within the above range.

【0038】図4(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の別の一実施形態を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図であり、(c)は、
(a)の蓋部のみを示す斜視図であり、(d)は、
(a)の基板のみを示す斜視図である。
FIG. 4A is a partial perspective view schematically showing another embodiment of the optical fiber array of the present invention,
(B) is the sectional view on the AA line of (a), (c) is
It is a perspective view which shows only the lid part of (a), (d) is
It is a perspective view which shows only the board | substrate of (a).

【0039】図4に示すように、光ファイバアレイ40
00では、基板4151上面の一部に、並列に形成され
た複数のV溝4157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着層4159を介して収納、固定されている。ま
た、光ファイバリボン110を収納した基板4151上
には、接着層4159を介して蓋部4160が固定され
ている。この光ファイバアレイ4000においては、基
板4151が、板状の保持部材4151aと、複数のV
溝4157と被覆樹脂層保持部4158とが異なる領域
に別々に形成され、さらに、その幅が保持部材4151
aよりも小さく、かつ、その奥行きが保持部材4151
aと等しい溝形成部材4151bとから構成されてい
る。また、被覆樹脂層保持部4158上に載置した被覆
樹脂層114の周囲には接着層4159′が形成されて
いる。
As shown in FIG. 4, the optical fiber array 40
In 00, the optical fiber 115 is provided in each of the plurality of V grooves 4157 formed in parallel on a part of the upper surface of the substrate 4151.
Are stored and fixed via an adhesive layer 4159. A lid 4160 is fixed on the substrate 4151 housing the optical fiber ribbon 110 via an adhesive layer 4159. In this optical fiber array 4000, the substrate 4151 includes a plate-shaped holding member 4151a and a plurality of Vs.
The groove 4157 and the coating resin layer holding portion 4158 are separately formed in different regions, and further, the width thereof is larger than that of the holding member 4151.
The holding member 4151 is smaller than a and has a depth
and a groove forming member 4151b equal to a. Further, an adhesive layer 4159 ′ is formed around the coating resin layer 114 placed on the coating resin layer holding portion 4158.

【0040】このような構成の光ファイバアレイ400
0においても、溝形成部材4151bは、エッチングに
より所望の形状の溝を形成することができる部材である
ことが望ましい。また、光ファイバアレイ4000にお
いても、蓋部4160の材質は、主面に垂直な方向の紫
外線の透過率が65〜100%であるものが望ましく、
70〜100%であるものがより望ましい。さらに、基
板を構成する保持部材4151aの材質もまた、上記範
囲の透過率を有するものであることが望ましい。
The optical fiber array 400 having such a configuration
Even in 0, the groove forming member 4151b is preferably a member capable of forming a groove having a desired shape by etching. Also in the optical fiber array 4000, the material of the lid portion 4160 is preferably such that the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface is 65 to 100%,
More preferably, it is 70 to 100%. Furthermore, it is desirable that the material of the holding member 4151a that constitutes the substrate also has a transmittance within the above range.

【0041】また、本発明の光ファイバアレイは、蓋部
の表面に複数の溝が形成され、上記蓋部は、エッチング
により所望の形状の溝を形成することができる部材を含
んで構成されていることも望ましい。このような光ファ
イバアレイでは、光ファイバの収納精度に優れることと
なる。
In the optical fiber array of the present invention, a plurality of grooves are formed on the surface of the lid portion, and the lid portion includes a member capable of forming the groove having a desired shape by etching. It is also desirable to be present. In such an optical fiber array, the accommodating accuracy of the optical fibers is excellent.

【0042】図5(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の別の一実施形態を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図であり、(c)は、
(a)の蓋部のみを示す斜視図であり、(d)は、
(a)の基板のみを示す斜視図である。
FIG. 5 (a) is a partial perspective view schematically showing another embodiment of the optical fiber array of the present invention.
(B) is the sectional view on the AA line of (a), (c) is
It is a perspective view which shows only the lid part of (a), (d) is
It is a perspective view which shows only the board | substrate of (a).

【0043】図5に示すように、光ファイバアレイ50
00では、蓋部5160の表面の一部に並列に形成され
た複数のV溝5157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着層5159を介して収納、固定されている。ま
た、光ファイバリボン110を収納した蓋部5160と
基板5151とは、接着層5159を介して固定されて
いる。この光ファイバアレイ5000においては、蓋部
5160が、板状の保持部材5160aと、その幅が保
持部材5160aよりも小さく、その奥行きが保持部材
5160と等しく、かつ、その表面に複数のV溝515
7が形成された溝形成部材5160bとから構成されて
いる。また、被覆樹脂層114は、その周囲に形成され
た接着層5159′を介して、基板5151に取り付け
られている。
As shown in FIG. 5, the optical fiber array 50.
00, the optical fiber 115 is provided in each of the plurality of V grooves 5157 formed in parallel on a part of the surface of the lid portion 5160.
Are accommodated and fixed via the adhesive layer 5159. Further, the lid portion 5160 accommodating the optical fiber ribbon 110 and the substrate 5151 are fixed via an adhesive layer 5159. In this optical fiber array 5000, a lid portion 5160 has a plate-shaped holding member 5160a, a width thereof is smaller than that of the holding member 5160a, a depth thereof is equal to that of the holding member 5160, and a plurality of V grooves 515 are formed on the surface thereof.
7 is formed on the groove forming member 5160b. Further, the coating resin layer 114 is attached to the substrate 5151 via an adhesive layer 5159 'formed around it.

【0044】このような構成の光ファイバアレイ500
0では、溝形成部材5160bが、エッチングにより所
望の形状の溝を形成することができる部材であることが
望ましく、その具体的な材質としては、例えば、シリコ
ンやガリウム砒素等が挙げられる。また、光ファイバア
レイ5000においては、基板5151の材質は、主面
に垂直な方向の紫外線の透過率が65〜100%である
ものが望ましく、70〜100%であるものがより望ま
しい。
The optical fiber array 500 having such a configuration
At 0, the groove forming member 5160b is preferably a member capable of forming a groove having a desired shape by etching. Specific examples of the material thereof include silicon and gallium arsenide. Further, in the optical fiber array 5000, the material of the substrate 5151 preferably has a transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface of 65 to 100%, more preferably 70 to 100%.

【0045】このような蓋部を用い、さらに、接着層と
して紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物を用いる場合、光
ファイバアレイを製造する際に、基板を介して紫外線を
照射することにより、基板と蓋部とを接着層を介して確
実に固定することができるからである。さらに、蓋部を
構成する保持部材5160aの材質もまた、上記範囲の
透過率を有するものであることが望ましい。
When such a lid is used and a cured product of the ultraviolet curable resin composition is used as the adhesive layer, the substrate is irradiated with ultraviolet rays through the substrate when the optical fiber array is manufactured. This is because the lid and the lid can be reliably fixed to each other via the adhesive layer. Furthermore, it is desirable that the material of the holding member 5160a that constitutes the lid portion also has a transmittance within the above range.

【0046】図6(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の別の一実施形態を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図であり、(c)は、
(a)の蓋部のみを示す斜視図であり、(d)は、
(a)の基板のみを示す斜視図である。
FIG. 6A is a partial perspective view schematically showing another embodiment of the optical fiber array of the present invention.
(B) is the sectional view on the AA line of (a), (c) is
It is a perspective view which shows only the lid part of (a), (d) is
It is a perspective view which shows only the board | substrate of (a).

【0047】図6に示すように、光ファイバアレイ60
00では、蓋部6160の表面の一部に並列に形成され
た複数のV溝6157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着層6159を介して収納、固定されている。ま
た、光ファイバリボン110を収納した蓋部6160と
基板6151とは、接着層6159を介して固定されて
いる。この光ファイバアレイ6000においては、蓋部
6160が、板状で、その幅および奥行きが基板615
1と等しい保持部材6160aと、その幅および奥行き
が保持部材6160aよりも小さく、かつ、その表面に
複数のV溝5157が形成された溝形成部材5160b
とから構成されている。また、被覆樹脂層114は、そ
の周囲に形成された接着層6159′を介して、基板6
151および蓋部(保持部材6160a)に取り付けら
れている。
As shown in FIG. 6, the optical fiber array 60.
In 00, the optical fiber 115 is provided in each of the plurality of V grooves 6157 formed in parallel on a part of the surface of the lid portion 6160.
Are stored and fixed via an adhesive layer 6159. The lid 6160 accommodating the optical fiber ribbon 110 and the substrate 6151 are fixed via an adhesive layer 6159. In this optical fiber array 6000, the lid portion 6160 is plate-shaped, and the width and depth of the lid portion 6160 are the substrate 615.
1 and a groove forming member 5160b having a width and depth smaller than that of the holding member 6160a and a plurality of V grooves 5157 formed on the surface thereof.
It consists of and. In addition, the coating resin layer 114 is formed on the substrate 6 via the adhesive layer 6159 'formed around it.
151 and the lid (holding member 6160a).

【0048】このような構成の光ファイバアレイ600
0においても、溝形成部材6160bは、エッチングに
より所望の形状の溝を形成することができる部材である
ことが望ましい。また、光ファイバアレイ6000にお
いても、基板6151の材質は、主面に垂直な方向の紫
外線の透過率が65〜100%であるものが望ましく、
70〜100%であるものがより望ましい。さらに、蓋
部を構成する保持部材6160aの材質もまた、上記範
囲の透過率を有するものであることが望ましい。
The optical fiber array 600 having such a configuration
Even in 0, the groove forming member 6160b is preferably a member that can form a groove having a desired shape by etching. Also in the optical fiber array 6000, the material of the substrate 6151 is preferably such that the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface is 65 to 100%,
More preferably, it is 70 to 100%. Furthermore, it is desirable that the material of the holding member 6160a that constitutes the lid portion also has a transmittance within the above range.

【0049】図7(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の別の一実施形態を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図であり、(c)は、
(a)の蓋部のみを示す斜視図であり、(d)は、
(a)の基板のみを示す斜視図である。
FIG. 7A is a partial perspective view schematically showing another embodiment of the optical fiber array of the present invention.
(B) is the sectional view on the AA line of (a), (c) is
It is a perspective view which shows only the lid part of (a), (d) is
It is a perspective view which shows only the board | substrate of (a).

【0050】図7に示すように、光ファイバアレイ70
00では、蓋部7160の表面の一部に並列に形成され
た複数のV溝7157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着層7159を介して収納、固定されている。ま
た、光ファイバリボン110を収納した蓋部7160と
基板7151とは、接着層7159を介して固定されて
いる。この光ファイバアレイ7000においては、蓋部
7160が、その一部に断面が矩形状の凹部が形成され
た保持部材7160aと、その幅および奥行きが上記凹
部の幅および奥行きと等しく、かつ、その表面に複数の
V溝7157が形成された溝形成部材7160bとから
構成されており、溝形成部材7160bは、その両端面
が、保持部材7160aの端面と揃うように保持部材7
160aに収納されている。なお、蓋部7160は、そ
の幅が基板7151の幅と同一であるが、その奥行きは
基板7151よりも小さい。また、被覆樹脂層114
は、その周囲に形成された接着層7159′を介して、
基板7151に取り付けられている。
As shown in FIG. 7, an optical fiber array 70 is provided.
In 00, the optical fiber 115 is provided in each of the plurality of V grooves 7157 formed in parallel on a part of the surface of the lid portion 7160.
Are stored and fixed via the adhesive layer 7159. Further, the lid portion 7160 accommodating the optical fiber ribbon 110 and the substrate 7151 are fixed via an adhesive layer 7159. In this optical fiber array 7000, a lid portion 7160 has a holding member 7160a in which a concave portion having a rectangular cross section is formed, and its width and depth are equal to the width and depth of the concave portion and its surface. And a groove forming member 7160b in which a plurality of V grooves 7157 are formed in the holding member 7160b. The groove forming member 7160b is formed so that both end surfaces thereof are aligned with the end surface of the holding member 7160a.
It is stored in 160a. Note that the lid portion 7160 has the same width as that of the substrate 7151, but the depth thereof is smaller than that of the substrate 7151. In addition, the coating resin layer 114
Through the adhesive layer 7159 'formed around it,
It is attached to the substrate 7151.

【0051】このような構成の光ファイバアレイ700
0においても、溝形成部材7160bは、エッチングに
より所望の形状の溝を形成することができる部材である
ことが望ましい。また、光ファイバアレイ7000にお
いても、基板7151の材質は、主面に垂直な方向の紫
外線の透過率が65〜100%であるものが望ましく、
70〜100%であるものがより望ましい。さらに、蓋
部を構成する保持部材7160aの材質もまた、上記範
囲の透過率を有するものであることが望ましい。
The optical fiber array 700 having such a configuration
Even in 0, the groove forming member 7160b is preferably a member that can form a groove having a desired shape by etching. Also in the optical fiber array 7000, the material of the substrate 7151 is preferably such that the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface is 65 to 100%,
More preferably, it is 70 to 100%. Furthermore, it is desirable that the material of the holding member 7160a that constitutes the lid portion also has a transmittance within the above range.

【0052】図8(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の別の一実施形態を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図であり、(c)は、
(a)の蓋部のみを示す斜視図であり、(d)は、
(a)の基板のみを示す斜視図である。
FIG. 8A is a partial perspective view schematically showing another embodiment of the optical fiber array of the present invention.
(B) is the sectional view on the AA line of (a), (c) is
It is a perspective view which shows only the lid part of (a), (d) is
It is a perspective view which shows only the board | substrate of (a).

【0053】図8に示すように、光ファイバアレイ80
00では、蓋部8160の表面の一部に並列に形成され
た複数のV溝8157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着層8159を介して収納、固定されている。ま
た、光ファイバリボン110を収納した蓋部8160と
基板8151とは、接着層8159を介して固定されて
いる。この光ファイバアレイ8000においては、蓋部
8160が、その一部に断面が矩形状の凹部が形成され
た保持部材8160aと、その幅が上記凹部の幅と等し
く、その奥行きが上記凹部の奥行きよりも小さく、か
つ、その表面に複数のV溝8157が形成された溝形成
部材8160bとから構成されており、溝形成部材81
60bは、その一の端面が、保持部材8160aの一の
端面と揃うように保持部材8160aの凹部に収納され
ている。また、蓋部8160は、その幅および奥行きが
基板8151の幅および奥行きと同一である。また、被
覆樹脂層114は、その周囲に形成された接着層815
9′を介して、基板8151および蓋部(保持部材81
60a)に取り付けられている。
As shown in FIG. 8, an optical fiber array 80
00, the optical fiber 115 is provided in each of the plurality of V grooves 8157 formed in parallel on a part of the surface of the lid portion 8160.
Are stored and fixed via an adhesive layer 8159. Further, the lid portion 8160 accommodating the optical fiber ribbon 110 and the substrate 8151 are fixed via an adhesive layer 8159. In this optical fiber array 8000, a lid portion 8160 has a holding member 8160a having a concave portion having a rectangular cross section formed in a part thereof, the width thereof is equal to the width of the concave portion, and the depth thereof is larger than the depth of the concave portion. And a groove forming member 8160b having a plurality of V grooves 8157 formed on the surface thereof.
60b is housed in the recess of the holding member 8160a such that its one end surface is aligned with the one end surface of the holding member 8160a. The lid 8160 has the same width and depth as the width and depth of the substrate 8151. In addition, the coating resin layer 114 has an adhesive layer 815 formed around it.
9 ', the substrate 8151 and the lid (holding member 81
60a).

【0054】このような構成の光ファイバアレイ800
0においても、溝形成部材8160bは、エッチングに
より所望の形状の溝を形成することができる部材である
ことが望ましい。また、光ファイバアレイ8000にお
いても、基板8151の材質は、主面に垂直な方向の紫
外線の透過率が65〜100%であるものが望ましく、
70〜100%であるものがより望ましい。さらに、蓋
部を構成する保持部材8160aの材質もまた、上記範
囲の透過率を有するものであることが望ましい。
Optical fiber array 800 having such a configuration
Even in 0, the groove forming member 8160b is preferably a member that can form a groove having a desired shape by etching. Also in the optical fiber array 8000, it is desirable that the material of the substrate 8151 has an ultraviolet transmittance of 65 to 100% in a direction perpendicular to the main surface,
More preferably, it is 70 to 100%. Furthermore, it is desirable that the material of the holding member 8160a that constitutes the lid portion also has a transmittance within the above range.

【0055】図7に示した光ファイバアレイ7000
と、図8に示した光ファイバアレイ8000との相違点
は蓋部を構成する保持部材の奥行きであり、図7に示し
た光ファイバアレイ7000では、保持部材7160a
の奥行きは、溝形成部材7160bの奥行きと等しいの
に対し、図8に示した光ファイバアレイ8000では、
保持部材8160aの奥行きは、溝形成部材8160b
の奥行きよりも長い、そのため、保持部材8160aに
形成した凹部には、溝形成部材8160bが収納されて
いない部分が存在し、この部分では、接着層を介して被
覆樹脂層を保持することができる。
The optical fiber array 7000 shown in FIG.
And the optical fiber array 8000 shown in FIG. 8 is different from the optical fiber array 8000 in the depth of the holding member constituting the lid portion. In the optical fiber array 7000 shown in FIG.
8 is equal to the depth of the groove forming member 7160b, the optical fiber array 8000 shown in FIG.
The depth of the holding member 8160a is equal to that of the groove forming member 8160b.
Therefore, the concave portion formed in the holding member 8160a has a portion in which the groove forming member 8160b is not housed, and in this portion, the coating resin layer can be held via the adhesive layer. .

【0056】図9(a)は、本発明の光ファイバアレイ
の別の一実施形態を模式的に示す斜視図であり、(b)
は、(a)のA−A線断面部であり、(c)は、(a)
の蓋部のみを示す斜視図であり、(d)は、(a)の基
板のみを示す斜視図である。
FIG. 9A is a perspective view schematically showing another embodiment of the optical fiber array of the present invention, and FIG.
Is a sectional view taken along line AA of (a), and (c) is (a).
3D is a perspective view showing only the lid portion of FIG. 3D, and FIG. 3D is a perspective view showing only the substrate of FIG.

【0057】図9に示すように、光ファイバアレイ90
00では、基板9000の表面の一部に並列に形成され
た複数のV溝9157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着層9159を介して収納、固定されている。ま
た、光ファイバリボン110を収納した蓋部9160と
基板9151とは、接着層9159を介して固定されて
いる。この光ファイバアレイ9000においては、基板
9151が、板状の保持部材9151aと、その幅およ
び奥行きがともに保持部材よりも小さく、かつ、その上
面に複数のV溝9157が形成された溝形成部材915
1bとから構成されている。また、蓋部9160が、保
持部材9151aと同一形状の板状体9160aと、溝
が形成されていないこと以外は、溝形成部材9151a
と同一形状の板状体9160bとから構成されている。
As shown in FIG. 9, an optical fiber array 90
In 00, the optical fiber 115 is provided in each of the plurality of V grooves 9157 formed in parallel on a part of the surface of the substrate 9000.
Are stored and fixed via the adhesive layer 9159. Further, the lid 9160 accommodating the optical fiber ribbon 110 and the substrate 9151 are fixed via an adhesive layer 9159. In this optical fiber array 9000, the substrate 9151 has a plate-shaped holding member 9151a and a width and depth both smaller than those of the holding member, and a groove forming member 915 having a plurality of V grooves 9157 formed on the upper surface thereof.
1b and. Further, a groove forming member 9151a except that the lid portion 9160 does not have a plate-shaped body 9160a having the same shape as the holding member 9151a and the groove is formed.
And a plate-shaped body 9160b having the same shape as the above.

【0058】図9に示した光ファイバアレイにおいて、
基板を構成する保持部材9151aおよび/または蓋部
を構成する板状体9160aの主面に垂直な方向の紫外
線の透過率が65〜100%であることが望ましい。こ
の場合、基板を構成する溝形成部材9151bや、蓋部
を構成する板状体9160bの透過率が65%未満であ
っても、基板および/または蓋部の一部の領域における
紫外線の透過率が65〜100%となるからである。さ
らに、板状体9160aの透過率は、70〜100%が
より望ましい。
In the optical fiber array shown in FIG. 9,
It is desirable that the transmittance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface of the holding member 9151a forming the substrate and / or the plate-shaped body 9160a forming the lid is 65 to 100%. In this case, even if the transmittance of the groove forming member 9151b that constitutes the substrate or the plate-shaped body 9160b that constitutes the lid is less than 65%, the transmittance of ultraviolet rays in a partial region of the substrate and / or the lid. Is from 65 to 100%. Further, the transmittance of the plate-shaped body 9160a is more preferably 70 to 100%.

【0059】また、このような構成の光ファイバアレイ
9000においても、溝形成部材9151bが、エッチ
ングにより所望の形状の溝を形成することができる部材
であることが望ましい。
Also in the optical fiber array 9000 having such a configuration, it is desirable that the groove forming member 9151b is a member capable of forming a groove having a desired shape by etching.

【0060】なお、図9に示した光ファイバアレイ90
00では、基板を構成する溝形成部材9151bに複数
のV溝が形成されているが、本発明の光ファイバアレイ
としては、溝形成部材9151bにV溝が形成されてお
らず、蓋部をする板状体9160bにV溝が形成され、
この板状体9160bに形成されたV溝に光ファイバが
収納されていてもよい。また、溝形成部材9151bと
板状体9160bの両者にV溝が形成され、この両者の
V溝に光ファイバが収納されていてもよい。
The optical fiber array 90 shown in FIG.
In No. 00, a plurality of V-grooves are formed on the groove forming member 9151b forming the substrate, but in the optical fiber array of the present invention, the V-groove is not formed on the groove forming member 9151b, and the lid portion is formed. V-shaped groove is formed in the plate-shaped body 9160b,
The optical fiber may be housed in the V-shaped groove formed in the plate-shaped body 9160b. Further, V grooves may be formed in both the groove forming member 9151b and the plate-shaped body 9160b, and the optical fibers may be housed in the V grooves of both of them.

【0061】また、図2〜9に示した本発明の光ファイ
バアレイでは、溝形成面と、被覆樹脂層保持部との境目
は、垂直な壁面であるが、図1に示すように、両者の境
目は被覆樹脂層保持部に向かって下るような傾斜を有す
る壁面であってよい。光ファイバを収納した際、該光フ
ァイバにかかる負荷を軽減することができるからであ
る。
Further, in the optical fiber array of the present invention shown in FIGS. 2 to 9, the boundary between the groove forming surface and the coating resin layer holding portion is a vertical wall surface, but as shown in FIG. The boundary of may be a wall surface having an inclination so as to descend toward the coating resin layer holding portion. This is because when the optical fiber is stored, the load applied to the optical fiber can be reduced.

【0062】また、図1〜9に示した本発明の光ファイ
バアレイでは、各実施形態に特有の効果を有している。
以下、これについて、簡単に説明しておく。すなわち、
図2、3に示すような光ファイバアレイを製造する場合
には、溝形成部材を保持部材の所定の位置に取り付けた
際に、保持部材の表面の一部で被覆樹脂層保持部として
の役割を果たすことできる構成となるため、別途、機械
加工等により被覆樹脂層保持部を形成する必要がない。
Further, the optical fiber array of the present invention shown in FIGS. 1 to 9 has an effect peculiar to each embodiment.
This will be briefly described below. That is,
When manufacturing the optical fiber array as shown in FIGS. 2 and 3, when the groove forming member is attached to a predetermined position of the holding member, a part of the surface of the holding member serves as the covering resin layer holding portion. Therefore, it is not necessary to separately form the coating resin layer holding portion by machining or the like.

【0063】また、図1に示す形態の光ファイバアレイ
において、基板の材質をシリコンとした場合には、シリ
コンにはあまり厚さの厚いものがないため、基板の厚さ
をあまり厚くすることができず、シリコンに欠けや割れ
等が発生しやすかった。これに対して、図2〜8に示す
形態の光ファイバアレイにおいて、溝形成部材の材質を
シリコンとし、保持部材の材質を高ケイ酸ガラス等のシ
リコン以外のものとした場合には、シリコンに欠けや割
れ等が発生しにくくなる。
Further, in the optical fiber array of the form shown in FIG. 1, when the material of the substrate is silicon, there is no thick silicon, so that the substrate may be made too thick. It could not be done, and the silicon was likely to be chipped or cracked. On the other hand, in the optical fiber array shown in FIGS. 2 to 8, when the material of the groove forming member is silicon and the material of the holding member is other than silicon such as high silicate glass, silicon is used. Chips and cracks are less likely to occur.

【0064】さらに、図2、3、5〜8に示す形態の光
ファイバアレイにおいて、溝形成部材の材質をシリコン
とし、保持部材の材質を高ケイ酸ガラス等のシリコン以
外のものとした場合には、溝形成部材の大きさは、所定
の溝を形成することができる大きさであれば小さくてよ
いため、溝形成部材を製造する際の取り数が多くなる。
なお、溝形成部材の材質がシリコンである場合には、紫
外線の透光性の点からも該溝形成部材の大きさは小さい
ほうが望ましい。
Further, in the optical fiber array shown in FIGS. 2, 3 and 5-8, when the material of the groove forming member is silicon and the material of the holding member is other than silicon such as high silicate glass. Since the size of the groove forming member may be small as long as a predetermined groove can be formed, the number of the groove forming members to be manufactured increases.
When the material of the groove forming member is silicon, it is desirable that the size of the groove forming member is small also from the viewpoint of translucency of ultraviolet rays.

【0065】なお、本発明の実施形態は、図1〜9に図
示したものに限定されず、基板および/または蓋部の全
部または一部の領域における、主面に垂直な方向の紫外
線の透過率が65〜100%となる実施形態であればよ
く、例えば、図1〜9に示した光ファイバアレイを構成
する基板のいずれかと、図1〜9に示した光ファイバア
レイを構成する蓋部のいずれかとを任意の組み合わせ
で、組み合わせたもの等であってよい。また、光ファイ
バアレイの外形には、該光ファイバアレイを取り付ける
装置等の取り付け部分の形状等に合わせて、適宜加工が
施されていてもよい。
The embodiments of the present invention are not limited to those shown in FIGS. 1 to 9, and the ultraviolet rays in the direction perpendicular to the main surface in all or a part of the area of the substrate and / or the lid are transmitted. It is only necessary for the embodiment to have a ratio of 65 to 100%, and for example, one of the substrates forming the optical fiber array shown in FIGS. 1 to 9 and the lid portion forming the optical fiber array shown in FIGS. It may be a combination of any of the above and any of the above. Further, the outer shape of the optical fiber array may be appropriately processed in accordance with the shape of the mounting portion of the device or the like for mounting the optical fiber array.

【0066】本発明の光ファイバアレイでは、上記基板
の上面(溝を形成した場合には、その壁面を含む)や、
上記蓋部の基板と対向する面(溝を形成した場合には、
その壁面を含む)に、粗化面が形成されていることが望
ましい。通常、上述した部分は、接着層と接することと
なるため、粗化面を形成することにより、接着層との密
着性が向上することとなるからである。これは、粗化面
を形成することにより、基板や蓋部と接着層との接触面
積が大きくなり、また、外部応力が発生したとしても、
その応力を粗化面で吸収することができるからである。
なお、ここで、外部応力とは、熱や湿度等に起因して外
部から加わる力や、熱膨張率の差に起因する力のことを
いう。また、上記粗化面は、上述した部分の一部(例え
ば、溝の壁面)にのみ形成されていてもよいが、上述し
た部分の全部に形成されていることが望ましい。勿論、
上記粗化面は形成されていなくてもよい。
In the optical fiber array of the present invention, the upper surface of the substrate (including the wall surface of the groove when formed),
The surface of the lid portion facing the substrate (when a groove is formed,
It is desirable that a roughened surface is formed on the wall surface). This is because the above-mentioned portion usually comes into contact with the adhesive layer, and thus the formation of the roughened surface improves the adhesiveness with the adhesive layer. This is because by forming the roughened surface, the contact area between the substrate and the lid and the adhesive layer is increased, and even if external stress is generated,
This is because the stress can be absorbed by the roughened surface.
Here, the external stress means a force externally applied due to heat or humidity, or a force due to a difference in coefficient of thermal expansion. Further, the roughened surface may be formed only on a part of the above-mentioned portion (for example, the wall surface of the groove), but is preferably formed on all of the above-mentioned portion. Of course,
The roughened surface may not be formed.

【0067】この粗化面の表面粗さは、JIS B 0
601に基づく平均粗さRaが、5〜1000nmであ
ることが望ましい。上記平均粗さRaが5nm未満で
は、基板や蓋部と接着層との密着性を充分に得ることが
できないことがあり、さらには、発生した応力により、
光ファイバの位置ズレが生じることがある。一方、上記
平均粗さRaが1000nmを超えても接着層との密着
性はあまり向上せず、また、接着層の形成は、例えば、
基板と蓋部との間に未硬化の接着剤を流し込み、さら
に、硬化処理を施すことにより行うのであるが、上記平
均粗さRaが1000nmを超えていると、未硬化の接
着剤の充填を阻害することがあり、この場合、接着層の
形成されない部分や空隙を生じ、この部分を起点に、接
着層にクラックが発生したり、基板や蓋部との間で剥離
が発生したりすることがある。
The surface roughness of this roughened surface is JIS B 0.
The average roughness Ra based on 601 is preferably 5 to 1000 nm. If the average roughness Ra is less than 5 nm, sufficient adhesion between the substrate or the lid and the adhesive layer may not be obtained, and further, due to the generated stress,
Misalignment of the optical fiber may occur. On the other hand, even if the average roughness Ra exceeds 1000 nm, the adhesiveness with the adhesive layer is not improved so much.
It is performed by pouring an uncured adhesive between the substrate and the lid and further performing a curing treatment. If the average roughness Ra exceeds 1000 nm, the uncured adhesive is filled. In this case, a part where no adhesive layer is formed or a void is generated, and from this part, a crack may occur in the adhesive layer or peeling may occur between the substrate and the lid part. There is.

【0068】また、上記粗化面の平均粗さRaは、上記
基板や上記蓋部の材質等を考慮して、上記接着層との密
着性が優れたものとなるように適宜決定されることが望
ましい。具体的には、例えば、その材質がシリコンであ
る部分に粗化面を形成する場合には、その平均粗さRa
の下限は、5nmであることが望ましく、10nmであ
ることがより望ましい。一方、上記平均粗さRaの上限
は、500nmであることが望ましく、100nmであ
ることがより望ましい。その材質がシリコンである部分
に粗化面を形成した際には、その平均粗さRaが5nm
未満であると、外部応力が生じた際に、これを充分に緩
和することができない場合があり、一方、500nmを
超えると、製造時に未硬化の接着剤を充填した際に、こ
の接着剤の充填が阻害される場合があり、さらに、基板
や蓋部において損傷(欠けや亀裂等)が発生しやすくな
る。
Further, the average roughness Ra of the roughened surface is appropriately determined in consideration of the material of the substrate and the lid, etc. so that the adhesiveness with the adhesive layer is excellent. Is desirable. Specifically, for example, when a roughened surface is formed on a portion whose material is silicon, its average roughness Ra
The lower limit of is preferably 5 nm, more preferably 10 nm. On the other hand, the upper limit of the average roughness Ra is preferably 500 nm, and more preferably 100 nm. When a roughened surface is formed on a portion whose material is silicon, the average roughness Ra is 5 nm.
If it is less than 100 nm, it may not be possible to sufficiently relax the external stress when it occurs. On the other hand, if it exceeds 500 nm, when an uncured adhesive is filled at the time of production, this adhesive may have The filling may be hindered, and damage (chips, cracks, etc.) is likely to occur on the substrate and the lid.

【0069】また、その材質がガラスである部分に粗化
面を形成する場合には、その平均粗さRaの下限は、5
nmであることが望ましく、10nmであることがより
望ましい。一方、上記平均粗さRaの上限は、500n
mであることが望ましく、100nmであることがより
望ましい。その材質がガラスである部分に粗化面を形成
した際には、その平均粗さRaが5nm未満であると、
外部応力が生じた際に、これを充分に緩和することがで
きない場合があり、一方、500nmを超えると、製造
時に未硬化の接着剤を充填した際に、この接着剤の充填
が阻害される場合があり、さらに、基板や蓋部において
損傷(欠けや亀裂等)が発生しやすくなる。
When a roughened surface is formed on a portion whose material is glass, the lower limit of the average roughness Ra is 5
The thickness is preferably nm, and more preferably 10 nm. On the other hand, the upper limit of the average roughness Ra is 500 n.
The thickness is preferably m, and more preferably 100 nm. When a roughened surface is formed on a portion whose material is glass, the average roughness Ra is less than 5 nm,
When an external stress is generated, it may not be able to be sufficiently relaxed. On the other hand, if it exceeds 500 nm, the filling of the uncured adhesive is hindered when the uncured adhesive is filled during the production. In some cases, damage (chips, cracks, etc.) is likely to occur on the substrate and the lid.

【0070】上記粗化面の表面粗さは、JIS B 0
601に基づく凹凸の平均間隔Smで、その下限が0.
1μm、その上限が100μmであることが望ましい。
上記凹凸の平均間隔Smが0.1μm未満では、基板や
蓋部と接着層との密着性を充分に得ることができないこ
とがある。一方、上記凹凸の平均間隔Smが100μm
を超えても接着層との密着性はあまり向上せず、また、
光ファイバアレイを製造する際に、未硬化の接着剤の充
填を阻害することがあり、この場合、接着層の形成され
ない部分が生じ、この部分を起点に、接着層にクラック
が発生したり、基板や蓋部と接着層との間で剥離が発生
したりすることがある。上記凹凸の平均間隔Smのより
望ましい下限は1μmであり、より望ましい上限は50
μmである。上記凹凸の平均間隔Smがこの範囲にある
と、接着層の材料の選択の自由度が向上するとともに、
信頼性試験において、より長時間光ファイバアレイに不
都合が発生しないことが確認されているからである。
The surface roughness of the roughened surface is JIS B 0.
The average spacing Sm of the unevenness based on 601 is 0.
It is desirable that the thickness is 1 μm and the upper limit is 100 μm.
If the average spacing Sm of the irregularities is less than 0.1 μm, sufficient adhesion between the substrate or lid and the adhesive layer may not be obtained. On the other hand, the average spacing Sm of the irregularities is 100 μm
Even if it exceeds, the adhesion with the adhesive layer does not improve so much,
When manufacturing an optical fiber array, it may hinder the filling of the uncured adhesive, in this case, a portion where the adhesive layer is not formed, starting from this portion, cracks occur in the adhesive layer, Peeling may occur between the substrate or the lid and the adhesive layer. A more desirable lower limit of the average spacing Sm of the irregularities is 1 μm, and a more desirable upper limit thereof is 50.
μm. When the average spacing Sm of the irregularities is within this range, the degree of freedom in selecting the material of the adhesive layer is improved, and
This is because it has been confirmed in the reliability test that no inconvenience occurs in the optical fiber array for a longer time.

【0071】また、上記粗化面では、この粗化面を構成
する凹凸の壁面に窪みを有することが望ましい。このよ
うに、凹凸の壁面が窪みを有する場合、基板や蓋部と接
着層との接触面積がより大きくなるため、接着強度がよ
り向上し、基板や蓋部と接着層との間での剥離がより発
生しにくくなる。
Further, it is desirable that the roughened surface has a depression on the wall surface of the unevenness forming the roughened surface. In this way, when the uneven wall surface has a depression, the contact area between the substrate or the lid and the adhesive layer is larger, so that the adhesive strength is further improved and the peeling between the substrate or the lid and the adhesive layer is performed. Is less likely to occur.

【0072】上記凹凸の壁面が有する窪みの大きさは、
上記凹凸の平均間隔Smより小さければ特に限定される
ものでなく、具体的には、例えば、この窪みを有する粗
化面を顕微鏡により平面視した際に、上記窪みが複数の
粒子状物が並んだ像として観察された場合に、この粒子
状物の平均粒径で、その下限が100nm、その上限が
1000nmであることが望ましい。また、上記平均粒
径のより望ましい下限は、200nmであり、より望ま
しい上限は500nmである。この窪みを有する粗化面
を顕微鏡や走査型電子顕微鏡(500倍以上)により平
面視した際に観察される粒子状物の平均粒径(以下、単
に、粒子状物の平均粒径ともいう)もまた、上記粗化面
の表面粗さを表す指標の1つである。また、上記粒子状
物の粒径とは、粒子状物の一番長い部分の長さをいう。
The size of the depression formed on the uneven wall surface is
It is not particularly limited as long as it is smaller than the average interval Sm of the irregularities. Specifically, for example, when the roughened surface having the depressions is viewed in a plane with a microscope, the depressions are lined with a plurality of particulate matters. When observed as an image, it is desirable that the lower limit of the average particle diameter of the particulate matter is 100 nm and the upper limit thereof is 1000 nm. The more desirable lower limit of the average particle diameter is 200 nm, and the more desirable upper limit thereof is 500 nm. The average particle size of the particulate matter (hereinafter, simply referred to as the average particle size of the particulate matter) observed when the roughened surface having the depressions is viewed in a plane with a microscope or a scanning electron microscope (500 times or more). Is also one of the indexes showing the surface roughness of the roughened surface. The particle size of the particulate matter refers to the length of the longest part of the particulate matter.

【0073】また、上記粗化面を構成する凹凸の壁面が
窪みを有する場合、該粗化面の表面粗さは、JIS B
0601に基づく局部山頂の平均間隔Sで、その下限
が100nm、その上限が1000nmであることが望
ましい。この範囲の局部山頂の平均間隔Sを有する粗化
面では、接着層との密着性がより優れたものとなるから
である。上記局部山頂の平均間隔Sの下限は200nm
であることがより望ましく、上記局部山頂の平均間隔S
の上限は500nmであることがより望ましい。
Further, when the wall surface of the unevenness forming the roughened surface has a depression, the surface roughness of the roughened surface is determined according to JIS B.
It is desirable that the lower limit is 100 nm and the upper limit is 1000 nm in the average interval S of local peaks based on 0601. This is because the roughened surface having the average spacing S of the local peaks in this range has more excellent adhesion to the adhesive layer. The lower limit of the average spacing S of the local peaks is 200 nm
Is more preferable, and the average interval S of the local peaks is
The upper limit of is more preferably 500 nm.

【0074】また、上記基板や上記蓋部に上記範囲の表
面粗さを有する粗化面を形成する方法としては特に限定
されず、例えば、酸、アルカリ、酸化剤等を含む溶液
や、溶剤等の液体中に基板や蓋部を浸漬したり、該液体
をスプレーにより塗布したりする方法等が挙げられる。
具体的にどのような方法を選択するかは、基板や蓋部の
材質、形成する表面粗さ等を考慮して適宜決定すればよ
い。また、上記粗化面の形成は、機械研磨により行って
もよく、機械研磨と上記溶液や溶剤を用いる方法とを組
み合わせて行ってもよい。そこで、以下に、高ケイ酸ガ
ラスからなる部分に粗化面を形成する方法と、シリコン
からなる部分に粗化面を形成する方法とを説明する。
The method for forming a roughened surface having a surface roughness within the above range on the substrate or the lid is not particularly limited, and examples thereof include a solution containing an acid, an alkali, an oxidizing agent, etc., a solvent, etc. Examples of the method include immersing the substrate and the lid in the liquid, or applying the liquid by spraying.
The specific method to be selected may be appropriately determined in consideration of the materials of the substrate and the lid, the surface roughness to be formed, and the like. Further, the formation of the roughened surface may be performed by mechanical polishing, or may be performed by combining mechanical polishing with a method using the above solution or solvent. Therefore, a method of forming a roughened surface on a portion made of high silicate glass and a method of forming a roughened surface on a portion made of silicon will be described below.

【0075】上記高ケイ酸ガラスからなる部分に粗化面
を形成する方法としては、例えば、フッ化物を含む粗化
液を用いたエッチング等が挙げられ、上記フッ化物を含
む粗化液の具体例としては、例えば、HF水溶液、HF
−NHF混合液、NaF水溶液、BaF水溶液、K
F水溶液、CaF水溶液、XeF水溶液等が挙げら
れる。これらのなかでは、HFを含む溶液が望ましい。
上記した表面粗さを有する粗化面を短時間で形成するこ
とができるからである。
As a method of forming a roughened surface on the portion made of the high silicate glass, for example, etching using a roughening solution containing a fluoride can be mentioned. Specific examples of the roughening solution containing a fluoride are mentioned. Examples include, for example, HF aqueous solution, HF
-NH 4 F mixture, NaF aqueous solution, BaF 2 aqueous solution, K
F aqueous solution, CaF 2 aqueous solution, XeF 2 aqueous solution and the like can be mentioned. Among these, a solution containing HF is desirable.
This is because the roughened surface having the above-mentioned surface roughness can be formed in a short time.

【0076】また、上記高ケイ酸ガラスからなる部分に
HF水溶液を用いて、上記した表面粗さを有する粗化面
を形成する際の具体的な条件としては、以下のような条
件が望ましい。すなわち、HF水溶液の濃度は、HF:
O=1:10〜1:30が望ましく、HF:H
=1:20程度がより望ましい。また、エッチング温度
は、その下限が30℃であることが望ましく、40℃で
あることがより望ましい。一方、上記エッチング温度の
上限は、80℃であることが望ましく、50℃程度であ
ることがより望ましい。さらに、エッチング時間は、1
0〜120分が望ましく、30分程度がより望ましい。
Further, the following conditions are desirable as specific conditions for forming a roughened surface having the above-mentioned surface roughness by using an HF aqueous solution in the portion made of the high silicate glass. That is, the concentration of the HF aqueous solution is HF:
H 2 O = 1: 10 to 1:30 is desirable, and HF: H 2 O
= 1: 20 is more desirable. The lower limit of the etching temperature is preferably 30 ° C, and more preferably 40 ° C. On the other hand, the upper limit of the etching temperature is preferably 80 ° C, more preferably about 50 ° C. Furthermore, the etching time is 1
It is preferably 0 to 120 minutes, more preferably about 30 minutes.

【0077】また、通常、表面状態が平滑な高ケイ酸ガ
ラス板にエッチングを施そうとしてもエッチングは進行
しにくい。これは、上記粗化液を用いたエッチングは、
高ケイ酸ガラス表面の凹凸や傷の部分を起点として進行
(侵食)していくため、表面の平滑な高ケイ酸ガラスで
は、エッチングが進行するための起点が少ないからであ
る。そこで、上記高ケイ酸ガラスからなる部分に上記粗
化液を用いたエッチングにより粗化面を形成する場合、
予め、研磨処理等の前処理を施して高ケイ酸ガラス表面
を摺りガラス状にしておくことが望ましい。具体的に
は、片面砂目研磨(♯500、♯700、♯1000、
♯1500)、アルミナ系研磨砥粒、ダイヤモンド砥粒
等を用いた研磨処理を施しておくことが望ましい。ま
た、市販の摺りガラスを使用してもよい。
Further, normally, even if an attempt is made to perform etching on a high silicate glass plate having a smooth surface, the etching is difficult to proceed. This is because the etching using the roughening solution is
This is because the high silicate glass progresses (erodes) starting from irregularities and scratches on the surface, and therefore the high silicate glass having a smooth surface has few starting points for etching. Therefore, when forming a roughened surface by etching using the roughening liquid in the portion made of the high silicate glass,
It is desirable to preliminarily perform a pretreatment such as a polishing treatment so that the surface of the high silicate glass is ground into a glass shape. Specifically, one-side grain polishing (# 500, # 700, # 1000,
# 1500), alumina-based abrasive grains, diamond abrasive grains or the like is preferably used for polishing. Further, commercially available ground glass may be used.

【0078】上記シリコンからなる部分に粗化面を形成
する方法としては、例えば、KOH、NaOH等のアル
カリを含む溶液を用いたエッチング等が挙げられる。こ
れらのなかでは、KOHを含む溶液を用いたエッチング
が望ましい。エッチング速度が速く、短時間で粗化面を
形成することができるからである。また、NaOHを含
む溶液を用いてエッチングを行うと、場合によっては、
処理面が変色したり、処理面に異物が発生したりするこ
とがある。
As a method of forming a roughened surface on the portion made of silicon, for example, etching using a solution containing an alkali such as KOH or NaOH can be mentioned. Among these, etching using a solution containing KOH is desirable. This is because the etching rate is high and the roughened surface can be formed in a short time. When etching is performed using a solution containing NaOH, in some cases,
The treated surface may be discolored or foreign matter may occur on the treated surface.

【0079】上記シリコンからなる部分にKOHを含む
溶液を用いて、上記した表面粗さを有する粗化面を形成
する際の具体的な条件としては、以下のような条件が望
ましい。すなわち、KOH溶液の濃度は、10〜40重
量%が望ましく、20重量%程度がより望ましい。上記
KOHを含む溶液の濃度が10重量%未満や、40重量
%を超える場合には、エッチング速度が遅くなることが
ある。また、エッチング温度は、30〜90℃であるこ
とが望ましく、40〜60℃程度であることがより望ま
しい。さらに、エッチング時間は、4〜10分が望まし
く、5〜7分程度がより望ましい。
The following conditions are desirable as specific conditions for forming a roughened surface having the above-mentioned surface roughness using a solution containing KOH in the portion made of silicon. That is, the concentration of the KOH solution is preferably 10 to 40% by weight, more preferably about 20% by weight. When the concentration of the solution containing KOH is less than 10% by weight or more than 40% by weight, the etching rate may be slow. The etching temperature is preferably 30 to 90 ° C, more preferably 40 to 60 ° C. Furthermore, the etching time is preferably 4 to 10 minutes, more preferably about 5 to 7 minutes.

【0080】なお、上述したような条件で、高ケイ酸ガ
ラスからなる部分やシリコンからなる部分に粗化面を形
成した場合には、該粗化面の表面粗さは、上記した範囲
の表面粗さ(平均粗さRa、凹凸の平均間隔Sm、粒子
状物の平均粒径、および、局部山頂の平均間隔S)を満
足することとなる。
When a roughened surface is formed on a portion made of high silicate glass or a portion made of silicon under the above-mentioned conditions, the surface roughness of the roughened surface is within the above range. The roughness (average roughness Ra, average spacing Sm of irregularities, average particle size of particulate matter, and average spacing S of local peaks) will be satisfied.

【0081】また、シリコンからなる部分に、KOHを
含む溶液を用い、上記したエッチング条件で粗化面を形
成した場合、その結晶面によって形成される平均粗さR
aが異なることとなる。具体的には、KOHを含む溶液
を用い、上記した望ましい処理条件で粗化面を形成した
場合、(100)面には平均粗さRaが50〜500n
mの粗化面が形成されることとなり、(111)面には
平均粗さRaが5〜100nmの粗化面が形成されるこ
ととなる。さらに、上記したより望ましい処理条件で粗
化面を形成した場合には、(100)面には平均粗さR
aが200〜300nmの粗化面が形成されることとな
り、(111)面には平均粗さRaが10〜80nmの
粗化面が形成されることとなる。
When a roughened surface is formed under the above etching conditions using a solution containing KOH in a portion made of silicon, the average roughness R formed by the crystal surface is
a will be different. Specifically, when a roughened surface is formed using a solution containing KOH under the desirable processing conditions described above, the average roughness Ra of the (100) surface is 50 to 500 n.
Thus, a roughened surface of m is formed, and a roughened surface having an average roughness Ra of 5 to 100 nm is formed on the (111) surface. Further, when the roughened surface is formed under the more preferable processing conditions described above, the average roughness R is obtained on the (100) surface.
Thus, a roughened surface having a of 200 to 300 nm is formed, and a roughened surface having an average roughness Ra of 10 to 80 nm is formed on the (111) surface.

【0082】また、本発明の光ファイバアレイにおい
て、基板の表面に複数の溝が形成され、上記基板が、エ
ッチングにより所望の形状の溝を形成することができる
部材を含んで構成されている場合(図2〜4、図9参
照)や、蓋部の表面に複数の溝が形成され、上記蓋部
が、エッチングにより所望の形状の溝を形成することが
できる部材を含んで構成されている場合(図5〜8参
照)、すなわち、基板または蓋部が、溝形成部材と、こ
れと一体化させることにより基板や蓋部を構成する部材
(保持部材)とから構成されている場合には、上記溝形
成部材の上記保持部材と接する面、および/または、上
記保持部材の上記溝形成部材は接する面には、粗化面が
形成されていることが望ましい。溝形成部材と保持部材
とからなる基板や蓋部を形成する場合、通常、両者は接
着剤を介して固定することとなるため、上記粗化面を形
成しておくことにより、溝形成部材と保持部材との密着
性が向上することとなるからである。上記溝形成部材と
上記保持部材とを固定する接着剤としては、上記基板と
上記蓋部とを固定する接着層と同様のもの等が挙げられ
る。なお、上記溝形成部材と上記保持部材とを固定する
接着剤としては、熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物の硬化
物が望ましい。紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物に比べ
て、接着強度が強く、信頼性に優れるからである。ま
た、通常、上記溝形成部材と上記保持部材とを固定する
際に、上記溝形成部材の溝には、光ファイバが未収納で
あるため、熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物を硬化させる
際の熱により光ファイバが変形するおそれがない。
In the optical fiber array of the present invention, a plurality of grooves are formed on the surface of the substrate, and the substrate includes a member capable of forming grooves having a desired shape by etching. (See FIGS. 2 to 4 and FIG. 9) or a plurality of grooves are formed on the surface of the lid portion, and the lid portion is configured to include a member capable of forming a groove having a desired shape by etching. In the case (see FIGS. 5 to 8), that is, in the case where the substrate or the lid portion is composed of the groove forming member and a member (holding member) that constitutes the substrate or the lid portion by being integrated with the groove forming member. A roughened surface is preferably formed on the surface of the groove forming member that contacts the holding member and / or the surface of the holding member that contacts the groove forming member. When forming a substrate or a lid portion composed of a groove forming member and a holding member, both of them are usually fixed with an adhesive, so that by forming the roughened surface, the groove forming member and This is because the adhesion with the holding member is improved. Examples of the adhesive that fixes the groove forming member and the holding member include the same adhesives as the adhesive layer that fixes the substrate and the lid. The adhesive for fixing the groove forming member and the holding member is preferably a cured product of a resin composition containing a thermosetting resin. This is because the adhesive strength is stronger and the reliability is superior to that of the cured product of the ultraviolet curable resin composition. In addition, usually, when fixing the groove forming member and the holding member, since the optical fiber is not housed in the groove of the groove forming member, when curing the resin composition containing a thermosetting resin. There is no risk of the optical fiber being deformed by the heat of.

【0083】このように、上記溝形成部材と上記保持部
材とにおいて、互いに接する面に粗化面を形成する場
合、該粗化面の表面粗さ(平均粗さRa、凹凸の平均間
隔Sm、粒子状物の平均粒径、および、局部山頂の平均
間隔S)の大きさは、上記基板や上記蓋部の接着層と接
する面に形成する粗化面の表面粗さと同様の範囲である
ことが望ましい。また、上記粗化面を形成する方法とし
ては、上記基板や上記蓋部の接着層と接する面に粗化面
を形成する方法と同様の方法等を用いることができる。
As described above, when a roughened surface is formed on the surfaces of the groove forming member and the holding member which are in contact with each other, the surface roughness of the roughened surface (average roughness Ra, average interval Sm of irregularities, The average particle size of the particulate matter and the average spacing S) of the local peaks should be in the same range as the surface roughness of the roughened surface formed on the surface of the substrate or the lid in contact with the adhesive layer. Is desirable. As the method for forming the roughened surface, the same method as the method for forming the roughened surface on the surface of the substrate or the lid portion in contact with the adhesive layer can be used.

【0084】また、上記粗化面を形成する場合、該粗化
面は、溝形成部材の保持部材と接する部分や、保持部材
の溝形成部材と接する部分の全体に形成されていること
が望ましいが、一部にのみ形成されていてもよい。全体
に形成するか、一部にのみ形成するかは、粗化面を形成
する部分の材質等を考慮して、適宜選択すればよい。な
お、上記粗化面は、溝形成部材にのみ形成されていても
よいし、保持部材にのみ形成されていてもよいし、両者
に形成されていてもよい。
When the roughened surface is formed, it is desirable that the roughened surface is formed on the entire portion of the groove forming member that contacts the holding member or the portion of the holding member that contacts the groove forming member. However, it may be formed only partially. Whether to form the entire surface or only a part thereof may be appropriately selected in consideration of the material of the portion where the roughened surface is formed and the like. Note that the roughened surface may be formed only on the groove forming member, may be formed only on the holding member, or may be formed on both.

【0085】ここで、上述したJIS B 0601に
基づく平均粗さRa、凹凸の平均間隔Sm、および、局
部山頂の平均間隔Sについて、図面を参照しながら、簡
単に説明しておく。図10は、JIS B 0601に
基づく平均粗さRa、凹凸の平均間隔Sm、および、局
部山頂の平均間隔Sを説明するための参考図である。図
10において、501は粗化面の粗さ曲線であり、50
2は平均線である。なお、図10に示す粗化面の粗さ曲
線は、上記した表面粗さのパラメータを説明するために
例示したものであり、本発明の光ファイバアレイを構成
する基板や蓋部に形成した粗化面の実際の粗さ曲線を示
すものではない。
Here, the average roughness Ra based on JIS B 0601, the average interval Sm of the unevenness, and the average interval S of the local peaks will be briefly described with reference to the drawings. FIG. 10 is a reference diagram for explaining the average roughness Ra based on JIS B 0601, the average spacing Sm of the irregularities, and the average spacing S of the local peaks. In FIG. 10, 501 is the roughness curve of the roughened surface,
2 is the average line. The roughness curve of the roughened surface shown in FIG. 10 is an example for explaining the above-mentioned parameters of the surface roughness, and the roughness curve formed on the substrate or the lid constituting the optical fiber array of the present invention. It does not show the actual roughness curve of the chemical conversion surface.

【0086】上記平均粗さRaは、粗さ曲線からその平
均線の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分
の平均線の方向にX軸を、縦倍率の方向にY軸を取り、
粗さ曲線をy=f(x)で表したときに、下記式(2)で
求められる値をいう。
For the average roughness Ra, the reference length is extracted from the roughness curve in the direction of the average line, the X axis is taken in the direction of the average line of the extracted portion, and the Y axis is taken in the direction of longitudinal magnification.
When the roughness curve is represented by y = f (x), it means the value obtained by the following equation (2).

【0087】[0087]

【式1】 [Formula 1]

【0088】(式中、lは、基準長さである)。なお、
本明細書においては、平均粗さRaをナノメートル(n
m)で表している。
(Where l is the reference length). In addition,
In the present specification, the average roughness Ra is nanometer (n
It is represented by m).

【0089】上記凹凸の平均間隔Smは、粗さ曲線50
1からその平均線502の方向に基準長さだけ抜き取
り、この抜き取り部分において1つの山およびそれに隣
合う1つの谷に対応する平均線502の長さの和(以
下、凹凸の距離という:図中、Sm 、Smと示す)
を求め、この多数の凹凸の距離を算術平均値で表したも
のである。なお、本明細書においては、凹凸の平均間隔
Smをマイクロメートル(μm)で表している。また、
上記山とは、粗さ曲線を平均線で切断したときに、それ
らの交差点の隣合う2点間における粗さ曲線と平均線と
で構成する実態部分(例えば、図中、503と示す部
分)であり、上記谷とは、粗さ曲線を平均線で切断した
ときに、それらの交差点の隣合う2点間における粗さ曲
線と平均線とで構成される空間部分(例えば、図中、5
04と示す部分)である。
The average spacing Sm of the irregularities is the roughness curve 50.
Sampling the standard length from 1 in the direction of the average line 502
In this sampling part, one mountain and its neighbor
The sum of the lengths of the average line 502 corresponding to one matching valley (below
Bottom, uneven distance: Sm in the figure 1, SmTwoIndicates)
Was calculated, and the distance of these many irregularities was expressed by the arithmetic mean value.
Of. In addition, in this specification, the average interval of the unevenness is
Sm is expressed in micrometers (μm). Also,
The above-mentioned mountain means that when the roughness curve is cut at the average line
Roughness curve and average line between two adjacent points at these intersections
The actual part composed of (for example, the part indicated by 503 in the figure)
Min), and the above valley is the roughness curve cut by the average line.
Sometimes, the roughness curve between two adjacent points at those intersections
A space portion composed of a line and an average line (for example, 5 in the figure)
(Part indicated by 04).

【0090】上記局部山頂の平均間隔Sは、粗さ曲線5
01からその平均線502の方向に基準長さだけ抜き取
り、この抜き取り部分において隣合う局部山頂間に対応
する平均線の長さ(以下、局部山頂間の間隔という:図
中S、Sと示す)を求め、この多数の局部山頂の間
隔を算術平均値で表したものである。なお、本明細書に
おいては、局部山頂の平均間隔Sをナノメートル(n
m)で表している。また、上記局部山頂とは、局部山に
おける最も高い標高点(例えば、図中505aと示す
点)をいい、上記局部山とは、粗さ曲線の二つの隣合う
極小点の間にある実態部分(例えば、図中、505と示
す部分)をいう。
The average interval S of the local peaks is the roughness curve 5
The length of the average line corresponding to the distance between the adjacent local peaks in this extracted portion is extracted from 01 in the direction of the average line 502 (hereinafter, referred to as the interval between the local peaks: S 1 and S 2 in the figure). Is shown), and the interval between the large number of local peaks is represented by an arithmetic mean value. In addition, in this specification, the average interval S of the local peaks is nanometer (n
It is represented by m). Further, the local mountain peak is the highest elevation point in the local mountain (for example, the point indicated by 505a in the figure), and the local mountain is the actual portion between two adjacent minimum points of the roughness curve. (For example, a portion indicated by 505 in the drawing).

【0091】また、上記蓋部に形成された粗化面の表面
粗さを表す上記平均粗さRa、上記凹凸の平均間隔S
m、および、上記局部山頂の平均間隔Sは、干渉縞を用
いた表面粗さ計により測定されたものであることが望ま
しい。上記干渉縞を用いた表面粗さ計は、干渉計と光学
顕微鏡とを組み合わせたものであり、高精度、かつ、高
感度で蓋部等の表面形状を測定することができるからで
ある。さらに、上記干渉縞を用いた表面粗さ計では、試
料(基板や蓋部)の表面状態を非接触で測定することが
できるため、これらの表面を傷付けたりするおそれがな
い。
The average roughness Ra, which represents the surface roughness of the roughened surface formed on the lid, and the average spacing S between the irregularities.
It is desirable that m and the average interval S of the local peaks be measured by a surface roughness meter using an interference fringe. This is because the surface roughness meter using the above interference fringes is a combination of an interferometer and an optical microscope, and can measure the surface shape of the lid or the like with high accuracy and high sensitivity. Further, the surface roughness meter using the above interference fringes can measure the surface condition of the sample (the substrate or the lid) in a non-contact manner, and there is no risk of damaging these surfaces.

【0092】一般に、上記干渉縞を用いた干渉計では、
光源から照射した光をビームスプリッタで2つに分割
し、このうち、一方の光はリファレンスミラーで反射さ
れてビームスプリッタに戻り、他方の光は試料の表面で
反射されてビームスプリッタに戻り、これらの2つの光
が、ビームスプリッタで再度1つの光となり、この1つ
になった光はCCDカメラ等の検出器に取り込まれる。
このとき、リファレンスミラーで反射した光と試料の表
面で反射した光とは、ビームスプリッタで再度1つの光
となった際に干渉が発生するため、この干渉した光の像
により試料の表面状態を測定することができる。
Generally, in an interferometer using the above interference fringes,
The light emitted from the light source is split into two by the beam splitter, one of which is reflected by the reference mirror and returns to the beam splitter, and the other of which is reflected by the surface of the sample and returns to the beam splitter. The two lights of the above become one light again by the beam splitter, and this one light is taken into a detector such as a CCD camera.
At this time, the light reflected by the reference mirror and the light reflected by the surface of the sample interfere with each other when they become one light again by the beam splitter. Therefore, the surface state of the sample is determined by the image of the interference light. Can be measured.

【0093】本発明の光ファイバアレイにおいて、基板
に溝を形成する場合、該基板に接着層を介して固定する
蓋部の形状は、図1に示すような光ファイバの一部を一
括して収納する凹部が形成されている形状や、図2〜4
に示すような板状体に限定されるわけではなく、例え
ば、基板と対向する側の面に光ファイバを別々に収納す
る溝が形成された形状であってもよい。また、図9に示
したような形状であってもよい。なお、光ファイバの一
部を一括して収納するための凹部が形成されている形状
の蓋部では、該凹部に収納された光ファイバ同士の間に
は空隙が存在するため、光ファイバの相対的な位置ズレ
が発生しにくく、さらに、空隙内には、未硬化の接着剤
等を充填しやすい。
In the optical fiber array of the present invention, when the groove is formed on the substrate, the shape of the lid portion fixed to the substrate via the adhesive layer is such that a part of the optical fiber as shown in FIG. The shape in which the recess for accommodating is formed, and FIGS.
However, the shape is not limited to the plate-like body as shown in (1), and may be, for example, a shape in which a groove for separately accommodating optical fibers is formed on the surface facing the substrate. Further, it may have a shape as shown in FIG. In the case of the lid having a shape in which a concave portion for accommodating a part of the optical fibers is formed, since there is a gap between the optical fibers accommodated in the concave portion, Positional deviation is unlikely to occur, and it is easy to fill an uncured adhesive or the like into the void.

【0094】また、上記蓋部に光ファイバの一部を一括
して収納するための凹部が形成されている場合、該凹部
の形状としては、ほぼ直角に交わる平面のみを組み合わ
せた形状、曲面により形成された形状、平面と曲面とを
組み合わせた形状等が挙げられる。
Further, when the lid is provided with a recess for accommodating a part of the optical fibers in a lump, the shape of the recess is a combination of only substantially perpendicular planes, or a curved surface. The formed shape, the shape which combined the flat surface and the curved surface, etc. are mentioned.

【0095】また、上記蓋部は、その光ファイバの軸に
垂直な方向の断面の形状が、矩形の両方の側方下部が切
り取られた形状となるような形状であってもよく、この
場合、上記切り取られた形状としては、例えば、三角
形、四角形、多角形、円弧(楕円弧)と直交する二直線
とに囲まれた形状等が挙げられる。
Further, the lid portion may have a cross-sectional shape in a direction perpendicular to the axis of the optical fiber such that both side lower portions of the rectangle are cut off. In this case, Examples of the cut-out shape include a shape surrounded by a triangle, a quadrangle, a polygon, and two straight lines orthogonal to an arc (elliptic arc).

【0096】また、上記蓋部の大きさは、図1〜4に示
すように基板の溝を形成した領域のみを覆う大きさであ
ってもよいが、基板の上面全体を覆う大きさであっても
よい。また、基板の溝を形成した領域のみを覆う形状の
蓋部(図1〜4参照)とともに、光ファイバアレイの被
覆樹脂層を覆う形状の蓋部が別途取り付けられていても
よく、この場合、溝を形成した領域を覆う蓋部と、被覆
樹脂層を覆う蓋部との間には隙間があってもよいし、な
くてもよい。
The size of the lid may be such that it covers only the grooved region of the substrate as shown in FIGS. 1 to 4, but it is the size that covers the entire upper surface of the substrate. May be. In addition, a lid having a shape that covers only the grooved region of the substrate (see FIGS. 1 to 4) and a lid that has a shape that covers the coating resin layer of the optical fiber array may be separately attached. In this case, There may or may not be a gap between the lid portion that covers the region where the groove is formed and the lid portion that covers the coating resin layer.

【0097】また、図1〜9に示した光ファイバアレイ
においては、4本の光ファイバが収納されているが、本
発明の光ファイバアレイの溝に収納される光ファイバの
本数は4本に限定されるわけではなく、3本以下であっ
てもよいし、5本以上であってもよい。
In the optical fiber array shown in FIGS. 1 to 9, four optical fibers are stored, but the number of optical fibers stored in the groove of the optical fiber array of the present invention is four. The number is not limited and may be 3 or less, or 5 or more.

【0098】また、本発明の光ファイバアレイにおいて
は、複数のV溝が形成された基板または蓋部に、一端部
の被覆樹脂層が除去されることにより光ファイバが露出
した光ファイバリボンが収納されている。上記光ファイ
バリボンとしては特に限定されず、従来公知のものを用
いることができ、具体的には、例えば、図1に示すよう
なコア111とクラッド112とからなる光ファイバ1
15の周囲に一次被覆樹脂層113が形成され、この一
次被覆樹脂層113で被覆された光ファイバ115が並
列に配置された状態で二次被覆樹脂層114により一括
して被覆されている光ファイバリボン110を用いるこ
とができる。
Further, in the optical fiber array of the present invention, the optical fiber ribbon in which the optical fibers are exposed by removing the coating resin layer at one end is housed in the substrate or the lid having the plurality of V grooves formed therein. Has been done. The optical fiber ribbon is not particularly limited, and a conventionally known optical fiber ribbon can be used. Specifically, for example, the optical fiber 1 including a core 111 and a clad 112 as shown in FIG.
The primary coating resin layer 113 is formed around the optical fiber 15, and the optical fibers 115 coated with the primary coating resin layer 113 are collectively covered with the secondary coating resin layer 114 in a state of being arranged in parallel. Ribbon 110 can be used.

【0099】光ファイバリボンを構成する光ファイバと
しては、例えば、石英ガラス(SiO )を主成分とす
る石英系光ファイバ、ソーダ石灰、ガラス、ホウ硅ガラ
ス等を主成分とする多成分系光ファイバ、シリコーン樹
脂やアクリル樹脂等のプラスチックを主成分とするプラ
スチック系光ファイバ等が挙げられる。これらのなかで
は、石英系光ファイバが望ましい。その表面に粗化面を
形成することにより、接着層との密着性が特に向上する
ため、本発明の光ファイバアレイに適しているからであ
る。
An optical fiber forming an optical fiber ribbon,
For example, quartz glass (SiO Two) Is the main component
Quartz optical fiber, soda lime, glass, borosilicate glass
Optical fiber mainly composed of fiber, silicone resin
Plastics mainly composed of plastics such as grease and acrylic resin
Stick-type optical fibers and the like can be mentioned. Among these
Is preferably a silica-based optical fiber. Roughened surface
By forming, the adhesion with the adhesive layer is particularly improved.
Therefore, it is suitable for the optical fiber array of the present invention.
It

【0100】一次被覆樹脂層113は、光ファイバが傷
付いたりすること等を防止する保護層としての役割を果
たしている。また、その材料としては特に限定されず、
例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン
樹脂、フッ素樹脂等の熱硬化性樹脂や、メタクリル酸や
アクリル酸等を用い、上述した熱硬化性樹脂の熱硬化基
を(メタ)アクリル化反応させた感光性樹脂等が挙げら
れる。なお、上記一次被覆樹脂層の層数は1層に限定さ
れず、2層以上であってもよい。
The primary coating resin layer 113 plays a role as a protective layer for preventing the optical fiber from being damaged. The material is not particularly limited,
For example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a silicone resin, a urethane resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, or a fluororesin, or methacrylic acid or acrylic acid is used, and the thermosetting group of the thermosetting resin described above is used. Examples thereof include (meth) acrylated photosensitive resins. The number of the primary coating resin layers is not limited to one and may be two or more.

【0101】また、二次被覆樹脂層114は、一次被覆
樹脂層がその周囲に形成された光ファイバを保護すると
ともに、光ファイバが並列に配置された光ファイバリボ
ンの形態を保持する役割を果たしている。また、その材
料としては特に限定されず、上記一次被覆樹脂層の材料
と同様の熱硬化性樹脂や感光性樹脂等が挙げられる。な
お、上記二次被覆樹脂層の層数は1層に限定されず、2
層以上であってもよい。
The secondary coating resin layer 114 plays a role of protecting the optical fiber formed around the primary coating resin layer and maintaining the shape of the optical fiber ribbon in which the optical fibers are arranged in parallel. There is. The material is not particularly limited, and examples thereof include the same thermosetting resin and photosensitive resin as the material of the primary coating resin layer. The number of the secondary coating resin layers is not limited to one, and
It may be more than one layer.

【0102】また、本発明の光ファイバアレイにおいて
は、被覆樹脂層が除去され、V溝157に収納された光
ファイバの表面に、粗化面が形成されていてもよい。光
ファイバと接着層との密着性が向上するからである。上
記粗化面は、その平均粗さRaの下限が1nmであるこ
とが望ましく、その上限が100nmであることが望ま
しい。平均粗さRaが、1nm未満では、光ファイバと
接着層との密着性はほとんど向上せず、一方、平均粗さ
Raが100nmを超えると、光ファイバ表面の凹凸が
大きくなるため、光ファイバの断面の形状が円形状から
はずれ、光ファイバの位置ズレが発生しやすくなり、光
信号の伝送に悪影響を及ぼすことがある。上記粗化面の
平均粗さRaは、その下限が10nmであることがより
望ましく、その上限が50nmであることがより望まし
い。
In the optical fiber array of the present invention, the coating resin layer may be removed and a roughened surface may be formed on the surface of the optical fiber housed in the V groove 157. This is because the adhesion between the optical fiber and the adhesive layer is improved. The lower limit of the average roughness Ra of the roughened surface is preferably 1 nm, and the upper limit thereof is preferably 100 nm. When the average roughness Ra is less than 1 nm, the adhesiveness between the optical fiber and the adhesive layer is hardly improved, while when the average roughness Ra exceeds 100 nm, the unevenness of the surface of the optical fiber becomes large, so that The shape of the cross section deviates from the circular shape, the positional deviation of the optical fiber is likely to occur, and the optical signal transmission may be adversely affected. The lower limit of the average roughness Ra of the roughened surface is more preferably 10 nm, and the upper limit thereof is more preferably 50 nm.

【0103】また、上記粗化面を形成する方法は特に限
定されないが、フッ化物を含む粗化液を用いて形成する
ことが望ましい。上記範囲の平均粗さRaを有する粗化
面を、短時間で形成することができるからである。
The method for forming the roughened surface is not particularly limited, but it is desirable to use a roughening solution containing a fluoride. This is because the roughened surface having the average roughness Ra in the above range can be formed in a short time.

【0104】上記フッ化物を含む粗化液としては、例え
ば、上述した高ケイ酸ガラスからなる基板または蓋部に
粗化面を形成する際に用いるものと同様のもの等が挙げ
られる。それらのなかでは、HFを含む溶液が望まし
い。光ファイバに悪影響(光ファイバの変形等)を及ぼ
すことなく、所望の平均粗さRaを有する粗化面を短時
間で形成することができるからであり、特に、石英系光
ファイバや多成分系光ファイバの表面に粗化面を形成す
るのに適している。
As the roughening liquid containing the above-mentioned fluoride, for example, the same ones as those used for forming the roughened surface on the substrate or the lid made of the above-mentioned high silicate glass can be mentioned. Among them, a solution containing HF is desirable. This is because a roughened surface having a desired average roughness Ra can be formed in a short time without adversely affecting the optical fiber (deformation of the optical fiber, etc.). It is suitable for forming a roughened surface on the surface of an optical fiber.

【0105】また、本発明の光ファイバアレイにおいて
は、その一端部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリ
ボンが基板に収納されているが、基板の溝に収納される
光ファイバは、複数本の単心の光ファイバであってもよ
いし、複数の光ファイバリボンが積み重ねられた積層光
ファイバリボンであってもよい。積層光ファイバリボン
を用いる場合には、基板の溝に、複数の光ファイバを高
密度で並列に配置することができる。
Further, in the optical fiber array of the present invention, the optical fiber ribbon from which the coating resin layer at one end is removed is housed in the substrate, but a plurality of optical fibers are housed in the groove of the substrate. It may be a single-core optical fiber or a laminated optical fiber ribbon in which a plurality of optical fiber ribbons are stacked. When a laminated optical fiber ribbon is used, a plurality of optical fibers can be arranged in high density in parallel in the groove of the substrate.

【0106】図11(a)は、積層光ファイバリボンを
用いた本発明の光ファイバアレイの一例を模式的に示す
部分斜視図であり、(b)は、(a)の光ファイバアレ
イを構成する基板と積層光ファイバリボンとのみを示す
部分斜視図であり、(c)は、(a)のA−A線断面図
である。図11に示すように、光ファイバアレイ200
では、積層光ファイバリボン210の一端部の露出した
光ファイバ235、245が基板251上のV溝257
に接着層259を介して収納され、積層光ファイバリボ
ン210の一部が被覆樹脂層ごと被覆樹脂層保持部25
8に保持されている。また、被覆樹脂層保持部258に
保持された被覆樹脂層の周囲には接着層259′が形成
されている。
FIG. 11A is a partial perspective view schematically showing an example of an optical fiber array of the present invention using a laminated optical fiber ribbon, and FIG. 11B is a diagram showing the optical fiber array of FIG. It is a partial perspective view which shows only the board | substrate and laminated | multilayer optical fiber ribbon, (c) is the sectional view on the AA line of (a). As shown in FIG. 11, the optical fiber array 200
Then, the exposed optical fibers 235 and 245 at one end of the laminated optical fiber ribbon 210 are connected to the V groove 257 on the substrate 251.
And a part of the laminated optical fiber ribbon 210 together with the coating resin layer is covered with the adhesive layer 259.
It is held at 8. An adhesive layer 259 ′ is formed around the coating resin layer held by the coating resin layer holding portion 258.

【0107】また、積層光ファイバリボン210は、そ
れぞれ一端部の光ファイバが露出した2本の光ファイバ
リボン230、240が積み重ねられ、下段の光ファイ
バリボン240の露出した光ファイバ245と、上段の
光ファイバリボン230の露出した光ファイバ235と
が交互に配置されている。
In the laminated optical fiber ribbon 210, two optical fiber ribbons 230 and 240 each having an exposed optical fiber at one end are stacked, and the exposed optical fiber 245 of the lower optical fiber ribbon 240 and the upper optical fiber 245 of the upper optical fiber ribbon 240 are stacked. The exposed optical fibers 235 of the optical fiber ribbon 230 are alternately arranged.

【0108】また、積層光ファイバリボン210では、
露出した光ファイバ235、245が同一の高さに配置
されるように、露出した光ファイバ235、245は、
それぞれが、その一部で曲げられている。なお、積層光
ファイバリボン210では、上段の光ファイバリボン2
30の露出した光ファイバ235、および、下段の光フ
ァイバリボン240の露出した光ファイバ245のそれ
ぞれの一部が曲げられているが、両者の光ファイバを同
一の高さに配置することができるのであれば、上段の光
ファイバリボンの露出した光ファイバのみが曲げられて
いてもよいし、下段の光ファイバリボンの露出した光フ
ァイバのみが曲げられていてもよい。
In the laminated optical fiber ribbon 210,
The exposed optical fibers 235, 245 are arranged so that the exposed optical fibers 235, 245 are arranged at the same height.
Each is bent in part. In the laminated optical fiber ribbon 210, the upper optical fiber ribbon 2
Although the exposed optical fibers 235 of 30 and the exposed optical fibers 245 of the lower optical fiber ribbon 240 are partly bent, both optical fibers can be arranged at the same height. If so, only the exposed optical fiber of the upper optical fiber ribbon may be bent, or only the exposed optical fiber of the lower optical fiber ribbon may be bent.

【0109】また、積層光ファイバリボン210におい
ては、上段の光ファイバリボン230と、下段の光ファ
イバリボン240とが、接着剤等を介して固定されてい
ることが望ましい。高密度で並列に配置した光ファイバ
の位置ズレがより発生しにくくなるからである。また、
この光ファイバアレイ200においても、溝形成面と、
被覆樹脂層保持部との境目は被覆樹脂層保持部に向かっ
て下るような傾斜を有する壁面である。被覆樹脂層保持
部の形状は、光ファイバを被覆樹脂層ごと収納すること
ができる凹形状であってもよい。
In the laminated optical fiber ribbon 210, it is desirable that the upper optical fiber ribbon 230 and the lower optical fiber ribbon 240 are fixed to each other with an adhesive or the like. This is because the positional deviation of the optical fibers arranged in parallel at high density is less likely to occur. Also,
Also in this optical fiber array 200, a groove forming surface,
The boundary with the coating resin layer holding portion is a wall surface that is inclined toward the coating resin layer holding portion. The shape of the coating resin layer holding portion may be a concave shape capable of accommodating the optical fiber together with the coating resin layer.

【0110】本発明の光ファイバアレイにおいては、基
板と蓋部とが接着層を介して固定されており、基板また
は蓋部に形成された溝には、光ファイバが接着層を介し
て収納、固定されている。さらに、上記基板に被覆樹脂
層保持部が形成されている場合には、この被覆樹脂層保
持部で接着層を介して被覆樹脂層を保持している。
In the optical fiber array of the present invention, the substrate and the lid are fixed via the adhesive layer, and the optical fiber is accommodated in the groove formed in the substrate or the lid via the adhesive layer. It is fixed. Further, in the case where the above-mentioned substrate is provided with the covering resin layer holding portion, the covering resin layer holding portion holds the covering resin layer via the adhesive layer.

【0111】また、上記接着層としては、例えば、エポ
キシ系またはアクリレート系の紫外線硬化型樹脂組成物
の硬化物等からなるものが望ましい。本発明の光ファイ
バアレイでは、基板および/または蓋部の全部の領域に
おける、主面に垂直な方向の紫外線の透過率が上記した
範囲にあるため、紫外線硬化型樹脂組成物を確実に硬化
させるのに適しているからである。また、上記紫外線硬
化型樹脂組成物を硬化する際には、高温での熱処理をほ
とんど必要としないため、熱による光ファイバの周囲の
被覆樹脂層の変形や変色等が生じるおそれがない。
The adhesive layer is preferably made of, for example, a cured product of an epoxy-based or acrylate-based UV-curable resin composition. In the optical fiber array of the present invention, the ultraviolet ray transmissivity in the direction perpendicular to the main surface in the entire region of the substrate and / or the lid is within the above range, so that the ultraviolet curable resin composition is surely cured. It is suitable for Further, when the above ultraviolet curable resin composition is cured, heat treatment at a high temperature is hardly required, so that there is no possibility that the coating resin layer around the optical fiber is deformed or discolored due to heat.

【0112】また、後述するように、光ファイバアレイ
を製造する際に、光ファイバと溝との間隙や基板と蓋部
との間隙に未硬化の接着剤(樹脂組成物)を流し込む
と、表面張力によりこれらの間隙に未硬化の接着剤が充
填されることとなるが、上記紫外線硬化型樹脂組成物で
は、より確実に上記光ファイバと溝との間隙等を充填す
ることができるため、上記紫外線硬化型樹脂組成物の硬
化物を介して固定された光ファイバでは、位置ズレが発
生しない。また、このエポキシ系またはアクリレート系
の紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物は、被覆樹脂層を被
覆樹脂層保持部に固定する接着層としても用いることが
できる。また、上記紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物
は、その一部がフッ素化されていることが望ましい。フ
ッ素化することにより、接着層で水が生成しにくく、耐
湿性が向上することとなる。また、絶縁性、耐熱性、耐
薬品性等も向上することとなる。
Further, as will be described later, when an uncured adhesive (resin composition) is poured into the gap between the optical fiber and the groove or the gap between the substrate and the lid when manufacturing the optical fiber array, Although the uncured adhesive will be filled in these gaps by the tension, the above-mentioned ultraviolet-curable resin composition can more reliably fill the gap between the optical fiber and the groove. The optical fiber fixed via the cured product of the ultraviolet curable resin composition does not cause positional deviation. Further, the cured product of this epoxy or acrylate-based ultraviolet curable resin composition can also be used as an adhesive layer for fixing the coating resin layer to the coating resin layer holding portion. Moreover, it is desirable that a part of the cured product of the ultraviolet curable resin composition is fluorinated. By fluorinating, it is difficult for water to be generated in the adhesive layer and the moisture resistance is improved. In addition, insulation, heat resistance, chemical resistance, etc. are also improved.

【0113】上記エポキシ系の紫外線硬化型樹脂組成物
の具体例としては、例えば、ダイキン工業社製、オプト
ダインUV−1000、オプトダインUV−1100、
オプトダインUV−2100、オプトダインUV−31
00、オプトダインUV−3200、オプトダインUV
−4000等が挙げられる。
Specific examples of the epoxy-based UV-curable resin composition include, for example, Optodyne UV-1000, Optodyne UV-1100, manufactured by Daikin Industries, Ltd.,
Optodyne UV-2100, Optodyne UV-31
00, Optodyne UV-3200, Optodyne UV
-4000 etc. are mentioned.

【0114】上記アクリレート系の紫外線硬化型樹脂組
成物の具体例としては、例えば、オプトダインUV−2
000、オプトダインUV−3000等が挙げられる。
上記アクリレート系の紫外線硬化型樹脂組成物の具体例
としては、例えば、40〜50重量%のアクリレートオ
リゴマー、1〜10重量%のビニルエステル樹脂、45
〜55重量%のアクリレート系モノマー、および、1〜
10重量%の重合開始剤を含むもの等も挙げられる。
Specific examples of the acrylate-based UV-curable resin composition include, for example, Optodyne UV-2.
000, Optodyne UV-3000 and the like.
Specific examples of the acrylate-based UV curable resin composition include, for example, 40 to 50% by weight of acrylate oligomer, 1 to 10% by weight of vinyl ester resin, and 45.
-55 wt% acrylate-based monomer, and 1-
Those containing 10% by weight of a polymerization initiator are also included.

【0115】また、上記アクリレートオリゴマーや上記
アクリレート系モノマーは、その一部がフッ素化されて
いることが望ましい。このように、紫外線硬化型樹脂組
成物に含まれる成分の一部がフッ素化されている場合、
紫外線硬化型樹脂組成物は透光性に優れるため、紫外線
照射時に、樹脂組成物全体が短時間で硬化することとな
る。
Further, it is desirable that a part of the acrylate oligomer or the acrylate-based monomer is fluorinated. Thus, when a part of the components contained in the ultraviolet curable resin composition is fluorinated,
Since the ultraviolet curable resin composition has excellent translucency, the entire resin composition will be cured in a short time upon irradiation with ultraviolet rays.

【0116】また、上記接着層が上記紫外線硬化型樹脂
組成物の硬化物である場合、露出した光ファイバや蓋
部、および、被覆樹脂層を固定する接着層として、とも
に、エポキシ系またはアクリレート系の紫外線硬化型樹
脂組成物の硬化物を用いてもよいし、露出した光ファイ
バおよび蓋部を固定する接着層としてエポキシ系の紫外
線硬化型樹脂組成物の硬化物を用い、被覆樹脂層を固定
する接着層としてアクリレート系の紫外線硬化型樹脂組
成物の硬化物を用いてもよい。
When the adhesive layer is a cured product of the ultraviolet-curable resin composition, the adhesive layer for fixing the exposed optical fiber or lid and the coating resin layer are both epoxy-based or acrylate-based. The cured product of the ultraviolet-curable resin composition may be used, or the cured resin of the epoxy-based ultraviolet-curable resin composition may be used as the adhesive layer for fixing the exposed optical fiber and the lid, and the coating resin layer may be fixed. A cured product of an acrylate-based UV-curable resin composition may be used as the adhesive layer.

【0117】露出した光ファイバおよび蓋部を固定する
接着層として、比較的硬いエポキシ系の紫外線硬化型樹
脂組成物の硬化物を用いることにより光ファイバの位置
ズレがより発生しにくくなり、被覆樹脂層を固定する接
着層として比較的柔らかいアクリレート系の紫外線硬化
型樹脂組成物の硬化物を用いることにより、被覆樹脂層
部分は、光ファイバアレイを取り付ける部分の形状等に
合わせて、ある程度変形することができることとなる。
なお、基板と該基板を一体的に覆う形状の蓋部とを接着
層を介して固定する場合には、接着層は、1種類の紫外
線硬化型樹脂組成物の硬化物からなるものであることが
望ましい。
By using a cured product of a relatively hard epoxy-based UV-curable resin composition as the adhesive layer for fixing the exposed optical fiber and the lid, positional deviation of the optical fiber is less likely to occur and the coating resin By using a cured product of a relatively soft acrylate-based UV-curable resin composition as an adhesive layer for fixing the layers, the coating resin layer portion should be deformed to some extent according to the shape of the portion to which the optical fiber array is attached. Will be possible.
When the substrate and the lid part that integrally covers the substrate are fixed via the adhesive layer, the adhesive layer is made of a cured product of one type of ultraviolet curable resin composition. Is desirable.

【0118】また、接着層として上記紫外線硬化型樹脂
組成物の硬化物を用いる場合、上記紫外線硬化型樹脂組
成物の25℃における粘度は、特に限定されないが、2
00〜2000mPa・sであることが望ましい。上記
粘度が200mPa・s未満では、粘度が低すぎるた
め、溝と光ファイバとの間隙等に流し込んだ紫外線硬化
型樹脂組成物が硬化前に流出してくるおそれがあり、2
000mPa・sを超えると、溝と光ファイバとの間隙
等が確実に充填されないことがある。
When the cured product of the ultraviolet curable resin composition is used as the adhesive layer, the viscosity of the ultraviolet curable resin composition at 25 ° C. is not particularly limited, but 2
It is desirable that it is from 00 to 2000 mPa · s. If the viscosity is less than 200 mPa · s, the viscosity is too low, and thus the UV curable resin composition poured into the gap between the groove and the optical fiber may flow out before curing.
If it exceeds 000 mPa · s, the gap between the groove and the optical fiber may not be reliably filled.

【0119】また、上記紫外線硬化型樹脂組成物の25
℃における粘度は、露出した光ファイバおよび蓋部を固
定するために用いる紫外線硬化型樹脂組成物の粘度が2
00〜2000mPa・sであり、光ファイバを被覆樹
脂層ごと固定するために用いる紫外線硬化型樹脂組成物
の粘度が5000〜30000mPa・sであることも
望ましい。光ファイバを固定するための紫外線硬化型樹
脂組成物として、上記範囲の粘度を有する樹脂組成物を
用いることにより、樹脂組成物が光ファイバと溝との間
隙に確実に充填されることとなり、光ファイバを樹脂組
成物ごと固定するための紫外線硬化型樹脂組成物とし
て、上記範囲の粘度を有する樹脂組成物を用いる場合に
は、被覆樹脂層の周囲に樹脂組成物を塗布しやすい。な
お、上記紫外線硬化型樹脂組成物の粘度の調整は、溶剤
や各種添加剤の配合量を調整することにより行えばよ
い。
In addition, 25 of the above ultraviolet curable resin composition
As for the viscosity at 0 ° C., the viscosity of the ultraviolet curable resin composition used for fixing the exposed optical fiber and the lid is 2
It is also desirable that the UV curable resin composition used for fixing the optical fiber together with the coating resin layer has a viscosity of 5,000 to 30,000 mPa · s. By using a resin composition having a viscosity in the above range as the ultraviolet curable resin composition for fixing the optical fiber, the resin composition is reliably filled in the gap between the optical fiber and the groove, When a resin composition having a viscosity in the above range is used as the ultraviolet curable resin composition for fixing the fiber together with the resin composition, it is easy to apply the resin composition around the coating resin layer. The viscosity of the ultraviolet curable resin composition may be adjusted by adjusting the blending amount of the solvent and various additives.

【0120】また、上記光ファイバを被覆樹脂層ごと固
定する接着層としては、上記アクリレート系の紫外線硬
化型樹脂組成物の硬化物に代えて、または、上記アクリ
レート系の紫外線硬化型樹脂組成物の硬化物と組み合わ
せて、シリコーン系接着剤を用いてもよい。上記シリコ
ーン系の接着剤としては、例えば、信越化学工業社製、
KJC−7806、ダウコーニング社製、734等が挙
げられる。
As the adhesive layer for fixing the optical fiber together with the coating resin layer, instead of the cured product of the acrylate-based UV-curable resin composition, or the acrylate-based UV-curable resin composition. A silicone adhesive may be used in combination with the cured product. As the silicone-based adhesive, for example, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co.,
KJC-7806, Dow Corning 734, etc. are mentioned.

【0121】上記紫外線硬化型樹脂組成物には、必要に
応じて、硬化剤、樹脂粒子、無機粒子、金属粒子等の粒
子、光沢剤、反応安定剤、光重合剤等の添加剤が含まれ
ていてもよい。これらの添加剤を含むことにより、流動
性の向上や硬化度の調整等を図ることができるからであ
る。上記硬化剤としては特に限定されず、一般に使用さ
れる硬化剤を用いることができ、具体例としては、例え
ば、イミダゾール系硬化剤、アミン系硬化剤等が挙げら
れる。
The above ultraviolet curable resin composition contains, if necessary, a curing agent, resin particles, inorganic particles, particles such as metal particles, an additive such as a brightening agent, a reaction stabilizer and a photopolymerization agent. May be. By including these additives, it is possible to improve the fluidity and adjust the degree of curing. The curing agent is not particularly limited, and commonly used curing agents can be used, and specific examples thereof include an imidazole curing agent and an amine curing agent.

【0122】上記樹脂粒子としては、例えば、熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂等からなるものが挙げられ、具体的
には、例えば、アミノ樹脂(メラミン樹脂、尿素樹脂、
グアナミン樹脂)、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、
ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ビスマレイミド−ト
リアジン樹脂等からなるものが挙げられる。これらは単
独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。また、
上記樹脂粒子としては、アクリロニトリル−ブタジエン
ゴム、ポリクロロプレンゴム等のゴムからなる粒子を用
いることもできる。
Examples of the resin particles include thermosetting resins and thermoplastic resins. Specifically, for example, amino resins (melamine resin, urea resin,
(Guanamine resin), epoxy resin, phenol resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyphenylene resin,
Examples include polyolefin resins, fluororesins, bismaleimide-triazine resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Also,
As the resin particles, particles made of rubber such as acrylonitrile-butadiene rubber and polychloroprene rubber can also be used.

【0123】上記無機粒子としては、アルミナ、水酸化
アルミニウム等のアルミニウム化合物、炭酸カルシウ
ム、水酸化カルシウム等のカルシウム化合物、炭酸カリ
ウム等のカリウム化合物、マグネシア、ドロマイト、塩
基性炭酸マグネシウム等のマグネシウム化合物、シリ
カ、ゼオライト等のケイ素化合物、チタニア等のチタン
化合物等からなるものが挙げられる。これらは単独で用
いてもよいし、2種以上併用してもよい また、上記無機粒子としては、リンやリン化合物からな
るものを用いることもできる。
Examples of the inorganic particles include aluminum compounds such as alumina and aluminum hydroxide, calcium compounds such as calcium carbonate and calcium hydroxide, potassium compounds such as potassium carbonate, magnesium compounds such as magnesia, dolomite and basic magnesium carbonate, Examples thereof include silicon compounds such as silica and zeolite, titanium compounds such as titania, and the like. These may be used alone or in combination of two or more, and as the above-mentioned inorganic particles, phosphorus or a phosphorus compound may be used.

【0124】上記金属粒子としては、例えば、金、銀、
銅、スズ、亜鉛、ステンレス、アルミニウム、ニッケ
ル、鉄、鉛等からなるものが挙げられる。これらは単独
で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。これらの
粒子を含むことにより、熱膨張係数の調整や難燃性の向
上等を図ることができる。
Examples of the metal particles include gold, silver,
Examples include copper, tin, zinc, stainless steel, aluminum, nickel, iron and lead. These may be used alone or in combination of two or more. By including these particles, adjustment of the thermal expansion coefficient and improvement of flame retardancy can be achieved.

【0125】また、上記紫外線硬化型樹脂組成物は、溶
剤を含んでいてもよいし、溶剤を全く含まないものであ
ってもよい。また、溶剤を含む場合、溶剤としては、例
えば、NMP(ノルマルメチルピロリドン)、DMDG
(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、グリセリ
ン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、メチルセ
ルソルブ、メチルセルソルブアセテート、メタノール、
エタノール、ブタノール、プロパノール等が挙げられ
る。
The ultraviolet curable resin composition may contain a solvent or may not contain a solvent at all. When a solvent is included, examples of the solvent include NMP (normal methylpyrrolidone) and DMDG.
(Diethylene glycol dimethyl ether), glycerin, cyclohexanol, cyclohexanone, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, methanol,
Examples include ethanol, butanol, propanol and the like.

【0126】また、本発明の光ファイバアレイにおける
接着層は、場合によっては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、紫外線硬化併用熱硬化型樹脂、および、感光性樹脂
のうちの少なくとも一種を含む樹脂組成物の硬化物等の
有機系接着剤からなるものであってもよい。上記熱硬化
性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等が
挙げられる。
The adhesive layer in the optical fiber array of the present invention may be a resin containing at least one of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a UV curable thermosetting resin, and a photosensitive resin. It may be composed of an organic adhesive such as a cured product of the composition. Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin, silicone resin, polyimide resin, and fluororesin.

【0127】上記エポキシ樹脂としては、例えば、ビス
フェノール型エポキシ樹脂や、ノボラック型エポキシ樹
脂等が挙げられる。上記ビスフェノール型エポキシ樹脂
を用いることは、A型やF型の樹脂を選択することによ
り、希釈溶媒を使用しなくてもその粘度を調整すること
ができる点から望ましく、より低粘度に調整することが
できる点からビスフェノールF型エポキシ樹脂がより望
ましい。また、上記ノボラック型エポキシ樹脂を用いる
ことは、この樹脂が、高強度で耐熱性や耐薬品性に優
れ、また、熱分解しにくい点から望ましい。また、上記
ノボラック型エポキシ樹脂としては、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂が望ましい。
Examples of the epoxy resin include bisphenol type epoxy resin and novolac type epoxy resin. The use of the above bisphenol type epoxy resin is desirable in that the viscosity can be adjusted by selecting an A type or F type resin without using a diluting solvent, and it is preferable to adjust the viscosity to a lower value. The bisphenol F type epoxy resin is more preferable in that it can be obtained. Further, it is preferable to use the above novolac type epoxy resin because the resin has high strength, excellent heat resistance and chemical resistance, and is less likely to be thermally decomposed. Further, as the novolac type epoxy resin, a phenol novolac type epoxy resin and a cresol novolac type epoxy resin are desirable.

【0128】また、上記ビスフェノール型エポキシ樹脂
と上記ノボラック型エポキシ樹脂とは、混合して用いる
ことが望ましい。この場合、上記ビスフェノール型エポ
キシ樹脂と上記ノボラック型エポキシ樹脂との混合比
は、1:1〜1:100であることが望ましい。この範
囲で混合することにより、粘度の上昇を抑えることがで
きるからである。
Further, it is desirable that the bisphenol type epoxy resin and the novolac type epoxy resin are mixed and used. In this case, the mixing ratio of the bisphenol type epoxy resin and the novolac type epoxy resin is preferably 1: 1 to 1: 100. This is because mixing within this range can suppress an increase in viscosity.

【0129】また、上記感光性樹脂としては、例えば、
上記熱硬化性樹脂に感光性を付与した樹脂等が挙げられ
る。具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸等を用い
て、熱硬化性樹脂の熱硬化基を(メタ)アクリル化した
もの等が挙げられる。これらのなかでは、エポキシ樹脂
の(メタ)アクリレートが望ましく、一分子中に2個以
上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂がより望ましい。
また、上記感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂
等も挙げられる。これらの感光性樹脂は単独で用いても
よいし、2種以上併用してもよい。
Further, as the above-mentioned photosensitive resin, for example,
Examples thereof include resins obtained by imparting photosensitivity to the thermosetting resin. Specifically, for example, the one in which the thermosetting group of the thermosetting resin is (meth) acrylated by using (meth) acrylic acid or the like can be mentioned. Among these, the (meth) acrylate of the epoxy resin is preferable, and the epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is more preferable.
Examples of the photosensitive resin also include acrylic resin and the like. These photosensitive resins may be used alone or in combination of two or more.

【0130】また、これらの有機系接着剤にも、必要に
応じて、硬化剤、樹脂粒子、無機粒子、金属粒子等の粒
子、光沢剤、反応安定剤、光重合剤等の添加剤、溶剤等
が含まれていてもよい。
Also, for these organic adhesives, if necessary, curing agents, particles such as resin particles, inorganic particles and metal particles, brighteners, reaction stabilizers, additives such as photopolymerization agents, solvents, etc. Etc. may be included.

【0131】次に、本発明の光ファイバアレイを製造す
る方法について説明する。ここでは、まず、基板に光フ
ァイバを収納するための溝が形成された形態の光ファイ
バアレイを製造する方法について工程順に説明する。
Next, a method for manufacturing the optical fiber array of the present invention will be described. Here, first, a method of manufacturing an optical fiber array in which a groove for accommodating an optical fiber is formed in a substrate will be described in the order of steps.

【0132】(1)その上面の一部に複数の溝が形成さ
れた基板を作製する。具体的には、例えば、シリコン等
からなる板状体を出発材料とし、下記(i)〜(viii)
の工程を経ることによりこの板状体に溝を形成し、この
溝の形成された板状体を溝が形成された基板としてもよ
いし、後述するように、この溝が形成された板状体を他
の部材(保持部材)に固定して基板としてもよい。図1
2(a)〜(g)は、溝を形成する方法の一例を示す断
面図である。
(1) A substrate having a plurality of grooves formed on a part of its upper surface is manufactured. Specifically, for example, a plate-shaped body made of silicon or the like is used as a starting material, and the following (i) to (viii)
A groove may be formed in the plate-shaped body by performing the step of 1. and the plate-shaped body in which the groove is formed may be used as the substrate in which the groove is formed. The body may be fixed to another member (holding member) and used as a substrate. Figure 1
2A to 2G are cross-sectional views showing an example of a method for forming a groove.

【0133】(i)まず、板状体151上にマスク層1
52(152a、152b)を形成する(図12(a)
参照)。なお、上記マスク層の層数は、図12に示すよ
うな2層に限定されず、1層であってもよいし、3層以
上であってもよい。
(I) First, the mask layer 1 is formed on the plate 151.
52 (152a, 152b) is formed (FIG. 12A).
reference). The number of mask layers is not limited to two layers as shown in FIG. 12, and may be one layer or three or more layers.

【0134】マスク層152を形成する方法としては、
例えば、スパッタリング、CVD、めっき等により薄膜
を形成する方法、熱酸化等により酸化膜を形成する方
法、これらを組み合わせた方法等を用いることができ
る。これらのなかでは、例えば、シリコンからなる板状
体上にマスク層を形成する場合には、まず、熱酸化によ
り酸化膜(SiO膜)を形成し、次に、この酸化膜上
に、CVDにより薄膜を形成する方法が望ましい。この
ようなマスク層を形成することにより、後工程で任意の
部分にエッチングを施すことにより、任意の形状のマス
クを形成することができる。
As a method of forming the mask layer 152,
For example, a method of forming a thin film by sputtering, CVD, plating or the like, a method of forming an oxide film by thermal oxidation or the like, a method combining these, or the like can be used. Among these, for example, when forming a mask layer on a plate-shaped body made of silicon, first, an oxide film (SiO 2 film) is formed by thermal oxidation, and then CVD is performed on this oxide film. The method of forming a thin film is desirable. By forming such a mask layer, it is possible to form a mask having an arbitrary shape by etching an arbitrary portion in a later step.

【0135】(ii)次に、マスク層152上にレジスト
用樹脂層154を形成する(図12(b)参照)。具体
的には、予め粘度を調整しておいたレジスト用樹脂組成
物をスピンコータ、カーテンコータ、ロールコータ、印
刷等により塗布する方法や、予めフィルム状に成形して
おいたレジスト用樹脂フィルムを貼り付ける方法等を用
いることができる。
(Ii) Next, a resist resin layer 154 is formed on the mask layer 152 (see FIG. 12B). Specifically, a method in which a resist resin composition whose viscosity has been adjusted in advance is applied by a spin coater, a curtain coater, a roll coater, printing, or the like, or a resist resin film which has been formed into a film shape in advance is attached. A method of attaching can be used.

【0136】上記レジスト用樹脂組成物やレジスト用樹
脂フィルムとしては、例えば、樹脂成分と、必要に応じ
て配合された硬化剤、粒子、ゴム成分、添加剤、反応安
定剤、溶剤等とからなるものが挙げられる。上記樹脂成
分としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感
光性樹脂、熱硬化性樹脂の一部が感光性基で置換された
樹脂、これらの複合樹脂等が挙げられる。
The resin composition for resist and the resin film for resist are composed of, for example, a resin component and a curing agent, particles, a rubber component, an additive, a reaction stabilizer, a solvent and the like which are blended as necessary. There are things. Examples of the resin component include a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a photosensitive resin, a resin in which a part of the thermosetting resin is replaced with a photosensitive group, a composite resin of these, and the like.

【0137】具体的には、例えば、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポ
リフェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等
の熱硬化性樹脂;これらの熱硬化性樹脂の熱硬化基(例
えば、エポキシ樹脂におけるエポキシ基)にメタクリル
酸やアクリル酸等を反応させ、アクリル基(感光性基)
を付与した樹脂;フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフ
ォン(PES)、ポリスルフォン(PSF)、ポリフェ
ニレンスルホン(PPS)、ポリフェニレンサルファイ
ド(PPES)、ポリフェニルエーテル(PPE)、ポ
リエーテルイミド(PI)等の熱可塑性樹脂;アクリル
樹脂、紫外線硬化樹脂等の感光性樹脂等が挙げられる これらのなかでは、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポ
リイミド樹脂、アクリル樹脂、紫外線硬化樹脂が望まし
い。後工程で、レジスト用樹脂層下のマスク層にエッチ
ング液を用いた処理を施す際に、該エッチング液に対す
る耐性に優れるからである。上記硬化剤としては、イミ
ダゾール系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤
等が挙げられる。
Specifically, for example, thermosetting resins such as epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, bismaleimide resin, polyphenylene resin, polyolefin resin, and fluororesin; thermosetting groups of these thermosetting resins (for example, , (Epoxy group in epoxy resin) is reacted with methacrylic acid or acrylic acid to form an acrylic group (photosensitive group).
Resins provided with: thermoplastics such as phenoxy resin, polyether sulfone (PES), polysulfone (PSF), polyphenylene sulfone (PPS), polyphenylene sulfide (PPES), polyphenyl ether (PPE), and polyetherimide (PI) Resin: Acrylic resin, photosensitive resin such as ultraviolet curable resin, and the like. Among these, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, acrylic resin, and ultraviolet curable resin are preferable. This is because when the mask layer under the resist resin layer is treated with an etching solution in a later step, the resistance to the etching solution is excellent. Examples of the curing agent include imidazole curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, and the like.

【0138】また、上記レジスト用樹脂層の厚さは10
〜50μmが望ましい。また、上記レジスト用樹脂層
は、硬化状態であってもよいし、半硬化状態であっても
よい。具体的には、例えば、後工程で露光、現像処理に
より、溝に相当する部分のレジスト用樹脂層を除去する
場合には、半硬化状態であることが望ましく、レーザ処
理等により、溝に相当する部分のレジスト用樹脂層を除
去する場合には、硬化状態であってもよいし、半硬化状
態であってもよい。なお、完全に硬化した状態や、半硬
化状態のレジスト用樹脂層を形成する場合、硬化処理
は、例えば、70〜200℃に加熱することにより行う
ことが望ましい。また、段階的に加熱温度を変化させる
ステップ硬化を行ってもよい。
The thickness of the resist resin layer is 10
˜50 μm is desirable. The resist resin layer may be in a cured state or a semi-cured state. Specifically, for example, in the case where the resist resin layer in the portion corresponding to the groove is removed by exposure and development processing in a later step, a semi-cured state is desirable, and a laser treatment or the like corresponds to the groove. When the portion of the resist resin layer to be removed is removed, it may be in a cured state or a semi-cured state. In the case of forming a resist resin layer in a completely cured state or a semi-cured state, it is desirable to perform the curing treatment by heating at 70 to 200 ° C, for example. Moreover, you may perform step hardening which changes a heating temperature step by step.

【0139】(iii)次に、レジスト用樹脂層154の
一部、すなわち、溝に相当する部分を除去し、エッチン
グレジスト155とする(図12(c)参照)。レジス
ト用樹脂層154の除去は、例えば、露光、現像処理に
より行うことができる。具体的には、例えば、半硬化状
態のレジスト用樹脂層上にマスクを載置した後、露光処
理を施し、その後、アルカリ溶液や有機溶剤等の薬液に
よる現像処理を施す。上記現像処理は、上記薬液中に上
記レジスト用樹脂層を形成した板状体を浸漬したり、上
記薬液をスプレーしたりすることにより行うことができ
る。また、上記マスクとしては、上記レジスト用樹脂層
の除去部分に相当する部分に溝のパターンが描画された
マスクを用いることができる。
(Iii) Next, a part of the resist resin layer 154, that is, a part corresponding to the groove is removed to form an etching resist 155 (see FIG. 12C). The resist resin layer 154 can be removed by, for example, exposure and development treatment. Specifically, for example, a mask is placed on the semi-cured resin layer for resist, an exposure process is performed, and then a development process using a chemical solution such as an alkaline solution or an organic solvent is performed. The developing treatment can be performed by immersing the plate-shaped body on which the resist resin layer is formed in the chemical solution or by spraying the chemical solution. As the mask, it is possible to use a mask in which a groove pattern is drawn in a portion corresponding to the removed portion of the resist resin layer.

【0140】また、レジスト用樹脂層154の除去は、
レーザ処理を用いて行ってもよい。上記レーザ処理に用
いるレーザとしては、例えば、炭酸ガスレーザ、エキシ
マレーザ、UVレーザ、YAGレーザ等が挙げられる。
これらのレーザは、上記レジスト用樹脂層の除去部分の
形状や、上記レジスト用樹脂層の組成等を考慮して使い
分ければよい。なお、この工程で形成するエッチングレ
ジストの形状を調整することにより、後工程を経て形成
する溝の形状を調整することができる。
Further, the removal of the resist resin layer 154
Alternatively, laser processing may be used. Examples of the laser used for the laser processing include carbon dioxide gas laser, excimer laser, UV laser, and YAG laser.
These lasers may be selectively used in consideration of the shape of the removed portion of the resist resin layer, the composition of the resist resin layer, and the like. By adjusting the shape of the etching resist formed in this step, it is possible to adjust the shape of the groove formed through the subsequent steps.

【0141】(iv)次に、エッチングレジスト155非
形成部に露出したマスク層152を除去し、板状体15
1の溝を形成する部分を露出させたマスク156を形成
する(図12(d)参照)。マスク層152の除去は、
例えば、RIE(反応性イオンエッチング)、酸素プラ
ズマや窒素プラズマ等を用いたプラズマ処理、コロナ処
理、逆スパッタリング等のドライエッチングにより行う
ことができる。具体的には、例えば、真空下または減圧
下において、マスク層に酸素プラズマを照射することに
より行うことができる。このようなドライエッチングを
行うことにより、エッチングレジストに損傷や変形等を
発生させることなく、選択的にレジスト非形成部分のマ
スク層のみを除去することができる。
(Iv) Next, the mask layer 152 exposed in the portion where the etching resist 155 is not formed is removed, and the plate-shaped body 15 is removed.
A mask 156 is formed by exposing the portion where the groove 1 is formed (see FIG. 12D). Removal of the mask layer 152
For example, dry etching such as RIE (reactive ion etching), plasma treatment using oxygen plasma or nitrogen plasma, corona treatment, reverse sputtering, or the like can be performed. Specifically, for example, it can be performed by irradiating the mask layer with oxygen plasma under vacuum or reduced pressure. By performing such dry etching, it is possible to selectively remove only the mask layer in the resist non-formed portion without causing damage or deformation of the etching resist.

【0142】また、マスク層152の除去は、例えば、
エッチング液や酸溶液に、マスク層152が形成された
板状体を浸漬したり、溶液中に浸漬するとともに超音波
処理を施したり、エッチング液や酸溶液をマスク層にス
プレーしたりすることによっても行うことができる。具
体的にどのような除去方法を選択するかは、マスク層の
材質や厚さ等を考慮して適宜決定すればよく、例えば、
マスク層が酸化膜からなる場合には、RIEやプラズマ
処理、エッチング液による処理を選択し、マスク層が金
属層からなる場合には、逆スパッタリングやエッチング
液による処理を選択すればよい。
The mask layer 152 can be removed by, for example,
By immersing the plate-shaped body on which the mask layer 152 is formed in the etching solution or the acid solution, immersing the plate-shaped body in the solution and performing ultrasonic treatment, or spraying the etching solution or the acid solution on the mask layer. Can also be done. What kind of removal method is specifically selected may be appropriately determined in consideration of the material and thickness of the mask layer.
When the mask layer is made of an oxide film, RIE, plasma treatment, or treatment with an etching solution may be selected, and when the mask layer is made of a metal layer, reverse sputtering or treatment with an etching solution may be selected.

【0143】(v)次に、エッチングレジスト155を
剥離除去する(図12(e)参照)。エッチングレジス
ト155の剥離除去は、NaOH、KOH等のアルカリ
溶液、硫酸、酢酸、炭酸等の酸溶液、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類、アミン類、ケトン、アセトン
等の有機溶剤等を用いて行うことができる。これによ
り、基板151上に、溝を形成する部分に相当する部分
が開口したマスク156のみが形成されることとなる。
(V) Next, the etching resist 155 is peeled and removed (see FIG. 12E). The removal of the etching resist 155 should be carried out using an alkaline solution such as NaOH, KOH, an acid solution such as sulfuric acid, acetic acid, carbonic acid, alcohols such as methanol and ethanol, amines, ketones, organic solvents such as acetone, and the like. You can As a result, only the mask 156 having the opening corresponding to the portion where the groove is formed is formed on the substrate 151.

【0144】(vi)次に、板状体151に溝157を形
成する(図12(f)参照)。溝157は、例えば、板
状体151にマスク156を介して、エッチング液を吹
き付けたり、マスク156が形成された板状体151を
エッチング液中に浸漬したりすることにより形成するこ
とができる。上記エッチング液としては、例えば、Na
OH、KOH等のアルカリ、硝酸、燐酸、硫酸等の酸、
フッ化水素、フッ化臭素等のフッ素系化合物、ハロゲン
化物、過酸化水素水、メタノール、エタノール等のアル
コール類等を用いることができる。これらのエッチング
液を用いて溝を形成した場合、溝の断面の形状は、V字
状や倒立台形状、矩形状、これらを組み合わせた形状等
となる。
(Vi) Next, the groove 157 is formed in the plate member 151 (see FIG. 12F). The groove 157 can be formed, for example, by spraying an etching solution onto the plate-shaped body 151 through a mask 156 or by immersing the plate-shaped body 151 on which the mask 156 is formed in the etching solution. Examples of the etching solution include Na
Alkali such as OH and KOH, acid such as nitric acid, phosphoric acid and sulfuric acid,
Fluorine compounds such as hydrogen fluoride and bromine fluoride, halides, aqueous hydrogen peroxide, alcohols such as methanol and ethanol, and the like can be used. When the groove is formed by using these etching solutions, the cross-sectional shape of the groove is V-shaped, inverted trapezoidal shape, rectangular shape, or a combination thereof.

【0145】上記エッチング液の濃度は、10〜50重
量%が望ましい。上記濃度が、10重量%未満ではエッ
チングに長時間を要することがあり、一方、50重量%
を超えてもエッチング速度はほとんど変化しない。ま
た、上記エッチング液の温度は20〜90℃が望まし
く、エッチング速度は0.5〜5.0μm/分が望まし
い。上記エッチング液の温度が20℃未満では、充分に
エッチングできないことがあり、エッチング液の温度が
90℃を超えてもエッチング量はほとんど変わらず、作
業時の安全性が低下することとなる。
The concentration of the etching solution is preferably 10 to 50% by weight. If the above concentration is less than 10% by weight, it may take a long time for etching, while 50% by weight is required.
Even if it exceeds, the etching rate hardly changes. The temperature of the etching solution is preferably 20 to 90 ° C., and the etching rate is preferably 0.5 to 5.0 μm / min. If the temperature of the etching solution is lower than 20 ° C., the etching may not be sufficiently performed, and even if the temperature of the etching solution exceeds 90 ° C., the etching amount is hardly changed, and the safety during the work is lowered.

【0146】ここで、その材質がシリコンやガリウム砒
素の基板に溝を形成する場合には、KOH等のアルカリ
溶液を用いたエッチングを行うことが望ましい。シリコ
ンやガリウム砒素からなる板状体に、エッチングを行う
場合、エッチング面、エッチング液の種類、および、エ
ッチングレジスト非形成部の形状として適宜なものを選
択することにより、所望の形状の溝を形成することがで
きる。
Here, when a groove is formed in a substrate made of silicon or gallium arsenide, it is desirable to carry out etching using an alkaline solution such as KOH. When etching a plate made of silicon or gallium arsenide, a groove having a desired shape is formed by selecting an appropriate etching surface, type of etching solution, and shape of the etching resist non-forming portion. can do.

【0147】すなわち、KOHを含むエッチング液を用
いてシリコンからなる板状体をエッチングする場合、シ
リコンからなる板状体の(100)面が、(111)面
および(110)面に比べて優先的にエッチングされ、
それぞれの結晶面のエッチング速度比がほぼ一定である
ため、所望の形状の溝を形成することができる。具体的
には、シリコンからなる板状体の(100)面にエッチ
ングを施す場合には、断面の形状がV字状や倒立台形状
の溝を形成することができ、(110)面にエッチング
を施す場合には、断面の形状が矩形状の溝を形成するこ
とができる。
That is, when a plate-shaped body made of silicon is etched using an etching solution containing KOH, the (100) plane of the plate-shaped body made of silicon has priority over the (111) plane and the (110) plane. Etched,
Since the etching rate ratio of each crystal plane is almost constant, it is possible to form a groove having a desired shape. Specifically, when etching the (100) surface of a plate-shaped body made of silicon, it is possible to form a groove having a V-shaped cross section or an inverted trapezoidal shape, and the (110) surface is etched. In the case of carrying out, a groove having a rectangular cross section can be formed.

【0148】また、KOHを含むエッチング液を用いて
ガリウム砒素からなる板状体をエッチングする場合に
は、(111)Ga面のエッチング速度が最も遅く、
(111)As面のエッチング速度が最も速いことを利
用することにより、所望の形状の溝を形成することがで
きる。
When a plate-like body made of gallium arsenide is etched using an etching solution containing KOH, the etching rate of the (111) Ga plane is the slowest,
A groove having a desired shape can be formed by utilizing the fact that the etching rate of the (111) As plane is the highest.

【0149】この工程で、エッチングを施す際には、エ
ッチング液中に界面活性剤等を添加しておいてもよい。
エッチング時に激しく発泡する場合には、この発泡によ
りエッチング面に凹凸が形成されることがあるが、界面
活性剤を添加しておくことによりエッチング時の発泡を
抑えることができるからである。また、上記エッチング
を超音波を印加しながら行ってもよい。超音波を印加す
ることによっても発泡を抑えることができるからであ
る。
When etching is performed in this step, a surfactant or the like may be added to the etching liquid.
When foaming violently during etching, irregularities may be formed on the etching surface due to this foaming, but foaming during etching can be suppressed by adding a surfactant. Further, the above etching may be performed while applying ultrasonic waves. This is because foaming can also be suppressed by applying ultrasonic waves.

【0150】また、板状体をエッチング液中に浸漬して
エッチングを行う場合には、板状体を揺動したり、エッ
チング液を攪拌したりしながらエッチングを行ってもよ
い。
When the plate-shaped body is immersed in the etching solution for etching, the plate-shaped body may be swung or the etching solution may be stirred.

【0151】(vii)次に、必要に応じて、板状体15
1上のマスク156を除去する(図12(g)参照)。
マスク層156の除去を行うことにより、溝の壁面を含
む板状体の上面全体が、同一組成のものから構成される
こととなり、後工程で、同一条件で粗化面を形成するこ
とができる。
(Vii) Next, if necessary, the plate-like body 15
The mask 156 on 1 is removed (see FIG. 12G).
By removing the mask layer 156, the entire upper surface of the plate-shaped body including the wall surface of the groove is made of the same composition, and a roughened surface can be formed under the same conditions in a later step. .

【0152】マスク156を除去する方法としては、上
記(iv)の工程で用いた方法と同様の方法を用いること
ができる。すなわち、上記(iv)の工程でエッチングレ
ジスト155非形成部に露出したマスク層152を除去
する際に用いた処理を、この工程でも行えばよい。な
お、上記マスクが複数の層からなる場合には、マスクを
構成する各層のうち、一部の層のみを除去してもよい。
具体的には、例えば、シリコンからなる板状体に酸化膜
とCVD膜とからなる場合には、酸化膜とCVD膜との
両方を除去してもよいし、CVD膜のみを除去してもよ
い。
As a method of removing the mask 156, the same method as the method used in the step (iv) can be used. That is, the process used to remove the mask layer 152 exposed in the etching resist 155 non-forming portion in the above step (iv) may be performed in this step as well. When the mask is composed of a plurality of layers, only a part of the layers forming the mask may be removed.
Specifically, for example, when the plate-shaped body made of silicon is made of an oxide film and a CVD film, both the oxide film and the CVD film may be removed, or only the CVD film may be removed. Good.

【0153】なお、マスク156の除去は、行わなくて
もよく、その場合、後工程で光ファイバを収納する部分
は、厳密には、マスク非形成部分と板状体に設けた溝と
を合わせた部分となるが、本明細書においては、特にこ
とわりのない限り、マスク非形成部分と板状体に設けた
溝とを合わせた部分も溝ということとする。
It is not necessary to remove the mask 156. In that case, strictly speaking, in a portion where the optical fiber is housed in a later step, the portion where the mask is not formed and the groove provided in the plate-like body are aligned with each other. However, in the present specification, a portion obtained by combining the mask non-forming portion and the groove provided in the plate-shaped body is also referred to as a groove, unless otherwise specified.

【0154】(viii)次に、必要に応じて、溝を形成し
た板状体の上面全部(溝の壁面を含む)または一部に粗
化面(図示せず)を形成する。上記粗化面は、板状体の
上面の一部(例えば、溝の壁面、板状体の上面の溝を形
成していない部分等)にのみ形成されていてもよいが、
板状体の上面の全部に形成されていることが望ましい。
接着層との密着性がより向上するからである。なお、上
記粗化面を形成する方法としては、上述した方法を用い
ることができる。このような(i)〜(viii)工程を経
ることにより、板状体に所望の形状の溝を形成すること
ができる。
(Viii) Next, if necessary, a roughened surface (not shown) is formed on the entire upper surface (including the wall surface of the groove) or a part of the upper surface of the plate-shaped body in which the groove is formed. The roughened surface may be formed only on a part of the upper surface of the plate-like body (for example, the wall surface of the groove, a portion of the upper surface of the plate-like body where the groove is not formed, etc.).
It is desirable to be formed on the entire upper surface of the plate-shaped body.
This is because the adhesion with the adhesive layer is further improved. The method described above can be used as the method for forming the roughened surface. Through the steps (i) to (viii), it is possible to form a groove having a desired shape on the plate-shaped body.

【0155】この(1)の工程では、上述したように、
本発明の光ファイバアレイを製造する際には、このよう
な溝の形成された板状体を、溝の形成された基板として
用いてもよいし(図1参照)、上記溝の形成された板状
体を溝形成部材とし、この溝形成部材を保持部材に固定
することにより溝の形成された基板としてもよい(図2
〜4参照)。
In the step (1), as described above,
When manufacturing the optical fiber array of the present invention, such a plate-shaped body in which a groove is formed may be used as a substrate in which a groove is formed (see FIG. 1). The plate-shaped body may be used as a groove forming member, and the groove forming member may be fixed to a holding member to form a grooved substrate (FIG. 2).
~ 4).

【0156】上記保持部材が板状体である場合(図2、
4参照)には、この板状体の所定の位置に接着剤を介し
て上記溝形成部材を取り付ければよく、上記保持部材に
溝形成部材を収納するための凹部が形成されている場合
(図3参照)には、まず、ダイヤモンド刃を備えた装置
等を用いた切削加工等により凹部を形成し、その後、こ
の凹部の所定の位置に溝形成部材を収納し、接着剤を介
して固定する。
When the holding member is a plate-like member (FIG. 2,
4), the groove forming member may be attached to a predetermined position of the plate-like body via an adhesive, and a recess for accommodating the groove forming member is formed in the holding member (see FIG. 4). 3), a recess is first formed by cutting or the like using a device equipped with a diamond blade, and then a groove forming member is housed in a predetermined position of this recess and fixed with an adhesive. .

【0157】また、保持部材に接着剤を介して溝形成部
材を固定することにより、溝の形成された基板とする場
合には、上記保持部材と上記溝形成部材の接する部分に
は、上述したように粗化面を形成しておくことが望まし
い。なお、上記保持部材の固定は、後工程で、溝形成部
材に形成された溝に光ファイバを収納した後に行っても
よい。
Further, when the groove forming member is fixed to the holding member via an adhesive to form a substrate having grooves, the above-mentioned portion where the holding member and the groove forming member come into contact with each other is described above. It is desirable to form a roughened surface as described above. The holding member may be fixed after the optical fiber is housed in the groove formed in the groove forming member in a later step.

【0158】また、上述した(i)〜(viii)工程を経
て、シリコン等からなる板状体に溝を形成する場合、通
常、(i)の工程において形成されるマスク層は、通
常、溝形成面のみならず、板状体の表面全体に形成され
ることとなる。従って、上記溝形成部材を上記保持部材
に固定する場合、上記溝形成部材の上記保持部材と接す
ることとなる部分には、板状体が露出している場合もあ
るし、マスク層が露出している場合もある。
When a groove is formed in a plate-like body made of silicon or the like through the steps (i) to (viii) described above, the mask layer formed in the step (i) is usually a groove. Not only the formation surface, but the entire surface of the plate-shaped body is formed. Therefore, when fixing the groove forming member to the holding member, the plate-like body may be exposed at the portion of the groove forming member that comes into contact with the holding member, or the mask layer is exposed. There are also cases.

【0159】具体的には、シリコンからなる板状体の表
面に、SiO膜と、Si膜とからなるマスク層
を形成し、その後、上述した工程を経て、作製した溝形
成部材では、溝形成部材の保持部材と接する部分の材質
は、シリコン、SiO、または、Siとなる。
ここで、SiO膜や、Si膜に粗化面を形成す
る方法ついて、簡単に説明しておく、すなわち、SiO
膜やSi膜に粗化面を形成する場合には、例え
ば、上記(iv)の工程に記載したマスク層を除去する方
法を緩和な条件で行えばよい。
Specifically, a mask layer made of a SiO 2 film and a Si 3 N 4 film is formed on the surface of a plate-like body made of silicon, and then the groove forming member produced through the steps described above. Then, the material of the portion of the groove forming member that is in contact with the holding member is silicon, SiO 2 , or Si 3 N 4 .
Here, a method for forming a roughened surface on a SiO 2 film or a Si 3 N 4 film will be briefly described, that is, SiO.
When the roughened surface is formed on the two films or the Si 3 N 4 film, for example, the method of removing the mask layer described in the step (iv) may be performed under mild conditions.

【0160】また、この(1)の工程で、溝を形成する
方法は、上述したようなエッチングを施す方法に限定さ
れず、溝を形成する板状体の材質や形成する溝の形状等
を考慮して最適な形成方法を選択すればよい。具体的に
は、例えば、高ケイ酸ガラスからなる板状体に溝を形成
する場合には、ダイヤモンド刃を備えた装置を用いて切
削加工を施すことにより溝を形成することができる。シ
リコンからなる基板に溝を形成する場合にも、切削加工
を施すことにより溝を形成してもよいが、上述したよう
に、一般に、エッチングにより溝を形成した場合には、
切削加工により溝を形成した場合に比べて、隣合う溝同
士の相対的な位置精度に優れるため、シリコンからなる
基板に溝を形成する場合には、異方性エッチングにより
溝を形成することが望ましい。
Further, in the step (1), the method of forming the groove is not limited to the above-described etching method, and the material of the plate-like body for forming the groove, the shape of the groove to be formed, etc. The optimum forming method may be selected in consideration. Specifically, for example, when a groove is formed in a plate-like body made of high silicate glass, the groove can be formed by performing a cutting process using an apparatus equipped with a diamond blade. Even when forming a groove on a substrate made of silicon, the groove may be formed by performing a cutting process, but as described above, in general, when the groove is formed by etching,
Since the relative positional accuracy of adjacent grooves is superior to the case where the grooves are formed by cutting, the grooves may be formed by anisotropic etching when forming the grooves on a substrate made of silicon. desirable.

【0161】この(1)の工程においては、基板に溝を
形成するとともに、光ファイバや光ファイバリボンを被
覆樹脂層ごと保持するための被覆樹脂層保持部を形成し
てもよい。上記被覆樹脂層保持部の形成方法としては特
に限定されず、例えば、ダイヤモンド刃を備えた装置を
用いる方法等が挙げられる。また、上記被覆樹脂層保持
部の形成は、一回で行ってもよいし、二回以上に分けて
行ってもよい。
In the step (1), a groove may be formed in the substrate and a covering resin layer holding portion for holding the optical fiber or the optical fiber ribbon together with the covering resin layer may be formed. The method for forming the coated resin layer holding portion is not particularly limited, and examples thereof include a method using a device equipped with a diamond blade. Further, the formation of the coating resin layer holding portion may be performed once or may be performed twice or more.

【0162】上記被覆樹脂層保持部を形成した際に、該
被覆樹脂層保持部の上面は凹凸を有することがある。こ
の場合、凹凸を平坦化するための研磨処理を行ってもよ
いが、光ファイバリボン等を保持した際に光ファイバリ
ボンが大きく傾いたりするほどの凹凸でなければ、特
に、研磨処理等を施すことなく、そのままにしておくこ
とが望ましい。これは、上記被覆樹脂層保持部で接着層
を介して被覆樹脂層を保持した場合に、アンカー効果に
より被覆樹脂層保持部と接着層との密着性が向上するか
らである。また、ここで被覆樹脂層保持部を形成する場
合、該被覆樹脂層保持部には、保持する光ファイバリボ
ン等の形状に追従するように、高さの異なる複数の保持
面を形成してもよい。
When the coated resin layer holding portion is formed, the upper surface of the coated resin layer holding portion may have irregularities. In this case, a polishing process may be performed to flatten the unevenness, but if the unevenness is such that the optical fiber ribbon is greatly inclined when holding the optical fiber ribbon or the like, the polishing process is particularly performed. It is desirable to leave it as it is. This is because when the coating resin layer holding portion holds the coating resin layer via the adhesive layer, the adhesion effect improves the adhesion between the coating resin layer holding portion and the adhesive layer. Further, when forming the coated resin layer holding portion here, even if a plurality of holding surfaces having different heights are formed in the coated resin layer holding portion so as to follow the shape of the optical fiber ribbon or the like to be held. Good.

【0163】なお、上記被覆樹脂層保持部を形成した場
合、溝形成面と、被覆樹脂層保持部との境目は、図1に
示すような、被覆樹脂層保持部に向かって下るような傾
斜を有する壁面とすることが望ましい。光ファイバにか
かる負荷を軽減することができるからである。また、上
記被覆樹脂層保持部の形状は、光ファイバをその周囲の
被覆樹脂層ごと収納することができる凹形状であっても
よい。
When the above-mentioned coated resin layer holding portion is formed, the boundary between the groove forming surface and the coated resin layer holding portion is inclined so as to descend toward the coated resin layer holding portion as shown in FIG. It is desirable that the wall surface has This is because the load on the optical fiber can be reduced. Further, the shape of the covering resin layer holding portion may be a concave shape capable of accommodating the optical fiber together with the surrounding covering resin layer.

【0164】(2)ここでは、基板の作製とは別に、一
部の被覆樹脂層が除去され、光ファイバが露出した光フ
ァイバリボンを作製する。ここで、除去する被覆樹脂層
は、光ファイバリボンの一端部の被覆樹脂層であってよ
いし、光ファイバリボンの両端部以外の一部の被覆樹脂
層であってもよいが、光ファイバリボンの両端部以外の
一部の被覆樹脂層であることが望ましい。このような両
端部以外の一部の被覆樹脂層を除去した光ファイバリボ
ンでは、露出した光ファイバの両端が固定されているた
め、より光ファイバの軸方向のバラツキが発生しにく
く、後工程で、基板に収納するのに適しているからであ
る。
(2) Here, apart from the production of the substrate, an optical fiber ribbon in which a part of the coating resin layer is removed and the optical fiber is exposed is produced. Here, the coating resin layer to be removed may be the coating resin layer at one end of the optical fiber ribbon or may be a portion of the coating resin layer other than both ends of the optical fiber ribbon. It is desirable that it is a part of the coating resin layer other than both end portions of. In such an optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends is removed, both ends of the exposed optical fiber are fixed, so that variation in the axial direction of the optical fiber is less likely to occur, and in a post-process. This is because it is suitable for being stored in the substrate.

【0165】上記被覆樹脂層の除去は、例えば、ストリ
ッパ等の被覆樹脂層剥離装置を用いて機械的に除去する
方法や、有機溶剤を用いて被覆樹脂層を溶解することに
より化学的に除去する方法等を用いることができる。ま
た、レーザ光を照射することにより除去する方法を用い
てもよい。
The above-mentioned coating resin layer is removed, for example, by a mechanical removal method using a coating resin layer peeling device such as a stripper, or by chemically dissolving the coating resin layer by using an organic solvent. The method etc. can be used. Alternatively, a method of removing by irradiation with laser light may be used.

【0166】また、被覆樹脂層を除去した後には、上述
した方法により、光ファイバの表面に粗化面を形成する
ことが望ましい。光ファイバの表面に粗化面を形成した
場合には、後工程で基板の端面から未硬化の接着剤を流
し込む際に、表面張力による未硬化の接着剤の流入の度
合いが略均一であるため、確実に溝と光ファイバとの間
隙に未硬化の接着剤を流し込むことができる。
Further, after removing the coating resin layer, it is desirable to form a roughened surface on the surface of the optical fiber by the above-mentioned method. When the roughened surface is formed on the surface of the optical fiber, the degree of inflow of the uncured adhesive due to the surface tension is substantially uniform when the uncured adhesive is poured from the end surface of the substrate in the subsequent process. As a result, the uncured adhesive can be reliably poured into the gap between the groove and the optical fiber.

【0167】(3)次に、上記(2)の工程で作製し
た、その一部の光ファイバが露出した光ファイバリボン
を基板の溝に収納する。ここで、その一端部の被覆樹脂
層が除去された光ファイバリボンを収納する場合、それ
ぞれの光ファイバの端面と基板の側面とが揃うように収
納してもよいし、それぞれの光ファイバが基板の側面か
ら一定長さだけ突出するように収納してもよい。なお、
その一端部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリボン
を収納する場合には、露出した光ファイバを整列器等で
保持しながら、収納することが望ましい。光ファイバを
所定の位置により確実に収納することができるからであ
る。
(3) Next, the optical fiber ribbon produced by the above step (2) and having a part of the optical fiber exposed is housed in the groove of the substrate. Here, when storing the optical fiber ribbon from which the coating resin layer at one end is removed, the optical fiber ribbon may be stored so that the end face of each optical fiber and the side face of the substrate are aligned, or each optical fiber is placed on the substrate. You may store so that it may protrude from the side surface of a certain length. In addition,
When housing the optical fiber ribbon from which the coating resin layer at one end has been removed, it is desirable to house the exposed optical fiber while holding it with an aligner or the like. This is because the optical fiber can be reliably stored at the predetermined position.

【0168】また、ここで、その両端部以外の一部の被
覆樹脂層が除去された光ファイバリボンを収納した場合
には、光ファイバリボンを収納した後、基板に収納しな
かった光ファイバリボンの一端部を切断除去することと
なる。なお、光ファイバリボンの一端部を切断除去する
場合、それぞれの光ファイバの端面と基板の側面とが揃
うように切断除去してもよいし、それぞれの光ファイバ
が基板の側面から一定長さだけ突出するように切断除去
してもよい。上記光ファイバリボンの切断除去は、カッ
ター等を用いた切削加工により行うことができる。ま
た、機械研磨により行ってもよい。
When the optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends thereof is removed is housed, the optical fiber ribbon which has not been housed in the substrate after housing the optical fiber ribbon is housed. Will be cut off at one end. In addition, when cutting and removing one end of the optical fiber ribbon, it may be cut and removed so that the end face of each optical fiber and the side surface of the substrate are aligned, or each optical fiber has a certain length from the side surface of the substrate. You may cut and remove so that it may protrude. The cutting and removal of the optical fiber ribbon can be performed by cutting using a cutter or the like. Alternatively, mechanical polishing may be performed.

【0169】また、上記(1)の工程で、被覆樹脂層保
持部を形成した場合には、この工程で、溝に光ファイバ
を収納するとともに、該被覆樹脂層保持部上に光ファイ
バリボンを被覆樹脂層ごと載置する。
When the coating resin layer holding portion is formed in the step (1), the optical fiber is housed in the groove and the optical fiber ribbon is placed on the coating resin layer holding portion in this step. Place the coating resin layer together.

【0170】(4)次に、必要に応じて、上記溝の光フ
ァイバ非収納部分に未硬化の接着剤を充填し、その後、
硬化処理を施すことにより光ファイバを溝に固定する。
具体的には、例えば、基板の端面(溝の端部)から未硬
化の紫外線硬化型樹脂組成物を流し込み、その後、紫外
線を照射して硬化処理を施すことにより光ファイバを固
定する。また、基板の一部に被覆樹脂層保持部を形成
し、該被覆樹脂層保持部に光ファイバリボンを被覆樹脂
層ごと載置する場合には、上記被覆樹脂層の周囲にも未
硬化の接着剤等を塗布しておき、この未硬化の接着剤を
硬化させることにより被覆樹脂層を固定してもよい。こ
こで、被覆樹脂層保持部の形状が傾斜を有する壁面を含
む形状である場合、この被覆樹脂層保持部では、露出し
た光ファイバの一部と、被覆樹脂層とを接着層を介して
固定することが望ましい。なお、光ファイバを収納する
前に、予め,溝内等に未硬化の接着剤を流し込んでお
き、光ファイバを収納した後、接着剤を硬化することに
より光ファイバを固定してもよい。
(4) Next, if necessary, an uncured adhesive is filled in the portion of the groove in which the optical fiber is not housed, and thereafter,
The optical fiber is fixed in the groove by performing a curing treatment.
Specifically, for example, the uncured ultraviolet curable resin composition is poured from the end face (end of the groove) of the substrate, and then the optical fiber is fixed by irradiating with ultraviolet rays to perform a curing treatment. Further, when the coating resin layer holding portion is formed on a part of the substrate and the optical fiber ribbon is placed on the coating resin layer holding portion together with the coating resin layer, the uncured adhesive is also applied around the coating resin layer. The coating resin layer may be fixed by applying an agent or the like and curing the uncured adhesive. Here, when the shape of the coating resin layer holding portion is a shape including an inclined wall surface, in this coating resin layer holding portion, a part of the exposed optical fiber and the coating resin layer are fixed via an adhesive layer. It is desirable to do. In addition, before storing the optical fiber, an uncured adhesive may be poured into the groove or the like in advance, and after storing the optical fiber, the adhesive may be cured to fix the optical fiber.

【0171】(5)次に、上記基板の溝に収納した光フ
ァイバを覆うように、基板上に接着層を介して蓋部を取
り付ける。この工程で取り付ける蓋部が、その形状が光
ファイバの一部を一括して収納する凹部が形成された形
状である場合や、その光ファイバの軸に垂直な方向の断
面の形状が、矩形の両方の側方下部が切り取られた形状
である場合には、予め、上記した形状に切削加工等を施
しておく。
(5) Next, a lid is attached on the substrate via an adhesive layer so as to cover the optical fiber housed in the groove of the substrate. In the case where the lid part attached in this step has a shape in which a concave part for accommodating a part of the optical fiber is formed, or the shape of the cross section in the direction perpendicular to the axis of the optical fiber is rectangular. When both side lower parts have a cut-out shape, the above-described shape is cut in advance.

【0172】また、蓋部を取り付ける際には、予め、基
板上面の蓋部と対向する部分に、未硬化の接着剤を塗布
しておき、この未硬化の接着剤の上に蓋部を載置し、そ
の後、硬化処理を施すことにより蓋部を取り付けてもよ
いが、先に、基板(光ファイバ)上に蓋部を載置し、そ
の後、該蓋部と基板や光ファイバとの間隙に未硬化の接
着剤を流し込み、さらに、硬化処理を施すことにより蓋
部を取り付けることが望ましい。未硬化の接着剤の上に
蓋部を載置した場合、接着層と蓋部との間に空気が入り
こみやすく、この空気を起点として接着層と蓋部との剥
離が発生することがあるからである。
When attaching the lid, the uncured adhesive is applied in advance to the portion of the upper surface of the substrate facing the lid, and the lid is placed on the uncured adhesive. The lid may be attached by performing a curing process after placing the lid on the substrate (optical fiber), and then placing the lid on the substrate (optical fiber) and then the gap between the lid and the substrate or the optical fiber. It is desirable to pour an uncured adhesive into the container and then to apply a curing treatment to attach the lid. When the lid is placed on the uncured adhesive, air easily enters between the adhesive layer and the lid, and this air may be the starting point of peeling between the adhesive layer and the lid. Is.

【0173】また、上記(4)の工程において、溝の光
ファイバ非収納部に接着層を形成せずに、光ファイバの
収納のみを行っておき、この工程で基板(光ファイバ)
上に蓋部を載置した後、該蓋部と基板や光ファイバとの
間隙に未硬化の接着剤を流し込む際に、同時に溝の光フ
ァイバ非収納部に未硬化の接着剤を流し込んでもよい。
In the step (4), only the optical fiber is stored without forming an adhesive layer in the optical fiber non-storage portion of the groove, and the substrate (optical fiber) is stored in this step.
After the lid is placed on the cover, when the uncured adhesive is poured into the gap between the lid and the substrate or the optical fiber, the uncured adhesive may be simultaneously poured into the optical fiber non-accommodating portion of the groove. .

【0174】また、この工程では、予め、蓋部の基板と
対向する部分に粗化面を形成しておくことが望ましい。
Further, in this step, it is desirable to form a roughened surface on the portion of the lid portion facing the substrate in advance.

【0175】また、上記(3)の工程において、その両
端部以外の一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリ
ボンを収納した場合は、この工程で蓋部を取り付けた後
に、光ファイバリボンの基板に収納されなかった部分を
切断除去する。
In the step (3), when the optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends thereof is removed is housed, the optical fiber ribbon is attached after the lid is attached in this step. The part which was not stored in the substrate is cut and removed.

【0176】また、その一端部が露出した光ファイバリ
ボンを収納した後や、両端部以外の一部の露出した光フ
ァイバの収納と、光ファイバリボンの一端部の切断除去
とを行った後には、光ファイバの端面に研磨処理を施す
ことが望ましい。ここで、研磨処理を施す場合には、光
ファイバ、基板および蓋部の端面に傾斜を持たすように
研磨処理を施すことが望ましい。光信号伝送時のもどり
光の発生を抑制することができるからである。また、こ
の場合、光ファイバの端面に研磨処理を施すとともに、
基板や蓋部の側面に研磨処理を施してもよい。
Also, after storing the optical fiber ribbon with one end exposed, or after storing a part of the exposed optical fiber other than both ends and cutting and removing one end of the optical fiber ribbon. It is desirable to polish the end surface of the optical fiber. Here, when performing the polishing treatment, it is desirable to perform the polishing treatment so that the end faces of the optical fiber, the substrate and the lid are inclined. This is because it is possible to suppress the generation of return light when transmitting an optical signal. In this case, while polishing the end face of the optical fiber,
The side surface of the substrate or the lid may be polished.

【0177】このような工程を経ることにより、基板に
溝が形成され、該溝に光ファイバが収納された本発明の
光ファイバアレイを製造することができる。
Through these steps, it is possible to manufacture the optical fiber array of the present invention in which the groove is formed in the substrate and the optical fiber is housed in the groove.

【0178】次に、蓋部に光ファイバを収納するための
溝が形成された形態の光ファイバアレイを製造する方法
について工程順に説明する。
Next, a method of manufacturing an optical fiber array in which a groove for accommodating an optical fiber is formed in the lid will be described in the order of steps.

【0179】(1)その表面の一部に複数の溝が形成さ
れた蓋部を作製する。具体的には、例えば、シリコン等
からなる板状体を出発材料とし、基板に溝を形成する方
法として説明した上記(i)〜(viii)の工程と同様の
工程を経ることにより、板状体に溝を形成する。
(1) A lid having a plurality of grooves formed on a part of its surface is produced. Specifically, for example, a plate-like body made of silicon or the like is used as a starting material, and the plate-like body is obtained by going through the same steps as the steps (i) to (viii) described as the method of forming the groove in the substrate. Form a groove in the body.

【0180】本発明の光ファイバアレイを製造する際に
は、このような溝の形成された板状体を、溝の形成され
た蓋部として用いてもよいし、上記溝の形成された板状
体を溝形成部材とし、この溝形成部材を保持部材に固定
することにより溝の形成された蓋部としてもよい(図5
〜8参照)。溝形成部材と保持部材との固定は、後工程
で、該溝形成部材に形成した溝に光ファイバを収納した
後に行ってもよい。
In manufacturing the optical fiber array of the present invention, such a plate-shaped body having a groove may be used as a lid having a groove, or the plate having the groove formed therein. The groove may be used as a groove forming member, and the groove forming member may be fixed to a holding member to form a lid having a groove (FIG. 5).
~ 8). The fixing of the groove forming member and the holding member may be performed after the optical fiber is housed in the groove formed in the groove forming member in a later step.

【0181】上記保持部材が板状体である場合(図5、
6参照)には、この板状体の所定の位置に接着剤を介し
て上記溝形成部材を取り付ければよく、上記保持部材に
溝形成部材を収納するための凹部が形成されている場合
(図7、8参照)には、まず、ダイヤモンド刃を備えた
装置等を用いた切削加工等により凹部を形成し、その
後、この凹部の所定の位置に溝形成部材を収納し、接着
剤を介して固定する。
When the holding member is a plate-like member (FIG. 5,
6), it suffices to attach the groove forming member to a predetermined position of the plate-like body through an adhesive, and in the case where a recess for accommodating the groove forming member is formed in the holding member (see FIG. 7 and 8), first, a recess is formed by cutting using a device equipped with a diamond blade or the like, and then a groove forming member is housed at a predetermined position of the recess, and an adhesive is used to bond the groove forming member. Fix it.

【0182】また、保持部材に接着剤を介して溝形成部
材を固定することにより、溝の形成された蓋部とする場
合には、上記保持部材と上記溝形成部材の接する部分に
は、上述したように粗化面を形成しておくことが望まし
い。
When the groove forming member is fixed to the holding member with an adhesive to form a grooved lid portion, the above-mentioned portion where the holding member and the groove forming member are in contact is described above. It is desirable to form the roughened surface as described above.

【0183】また、この(1)の工程で、溝を形成する
方法は、溝が形成された基板を作製する場合と同様、上
述したようなエッチングを施す方法に限定されず、溝を
形成する板状体の材質や形成する溝の形状等を考慮して
最適な形成方法を選択すればよい。
Further, in the step (1), the method of forming the groove is not limited to the above-described etching method as in the case of manufacturing the substrate in which the groove is formed, and the groove is formed. The optimum forming method may be selected in consideration of the material of the plate-like body, the shape of the groove to be formed, and the like.

【0184】また、図6、8に示すような光ファイバア
レイを製造する場合には、溝形成部材を保持部材の所定
の位置に取り付けた際に、保持部材の表面の一部で被覆
樹脂層を保護することができる。
When manufacturing the optical fiber array as shown in FIGS. 6 and 8, when the groove forming member is attached to the holding member at a predetermined position, the resin coating layer covers a part of the surface of the holding member. Can be protected.

【0185】(2)次に、蓋部の作製とは別に、一部の
被覆樹脂層が除去され、光ファイバが露出した光ファイ
バリボンを作製する。ここでは、基板に溝が形成され光
ファイバアレイを製造する方法として説明した(2)の
工程と同様にして光ファイバが露出した光ファイバリボ
ンを作製すればよい。
(2) Next, apart from the production of the lid portion, an optical fiber ribbon in which a part of the coating resin layer is removed and the optical fiber is exposed is produced. Here, an optical fiber ribbon in which the optical fiber is exposed may be manufactured in the same manner as the step (2) described as the method of manufacturing the optical fiber array in which the groove is formed in the substrate.

【0186】(3)次に、上記(2)の工程で作製し
た、その一部の光ファイバが露出した光ファイバリボン
を基板の溝に収納し、さらに、必要に応じて、溝の光フ
ァイバ収納部分に未硬化の接着剤を充填した後、硬化処
理を施すことにより光ファイバを溝に固定する。ここで
は、基板に溝が形成され光ファイバアレイを製造する方
法として説明した(3)および(4)の工程と同様にし
て光ファイバが露出した光ファイバリボンを作製すれば
よい。
(3) Next, the optical fiber ribbon produced by the above step (2) and having a part of the optical fiber exposed is housed in the groove of the substrate, and, if necessary, the optical fiber in the groove. After the uncured adhesive is filled in the storage portion, a curing process is performed to fix the optical fiber in the groove. Here, an optical fiber ribbon in which the optical fiber is exposed may be manufactured in the same manner as the steps (3) and (4) described as the method of manufacturing the optical fiber array in which the groove is formed in the substrate.

【0187】(4)次に、溝に光ファイバが収納された
蓋部と基板とを接着層を介して固定する。具体的には、
例えば、光ファイバの収納された蓋部と基板とを対向配
置した後、基板の端面(溝の端部)から未硬化の紫外線
硬化型樹脂組成物を流し込み、その後、上記基板を介し
て紫外線を照射して硬化処理を施すことにより蓋部と基
板とを接着層を介して固定する また、光ファイバリボンの被覆樹脂層を基板の一部で保
持する場合には、この工程で、上記被覆樹脂層の周囲に
も未硬化の接着剤を塗布しておき、この未硬化の接着剤
を硬化させることにより被覆樹脂層を固定してもよい。
なお、この工程で固定する基板の接着層と接する面に
は、予め、粗化面を形成しておくことが望ましい。
(4) Next, the lid portion in which the optical fiber is housed in the groove and the substrate are fixed via an adhesive layer. In particular,
For example, after arranging the lid portion containing the optical fiber and the substrate so as to face each other, the uncured ultraviolet curable resin composition is poured from the end surface of the substrate (the end portion of the groove), and then ultraviolet rays are passed through the substrate. The cover and the substrate are fixed via the adhesive layer by irradiation and curing treatment. Further, when the coating resin layer of the optical fiber ribbon is held by a part of the substrate, the above coating resin is used in this step. An uncured adhesive may be applied around the layer, and the coating resin layer may be fixed by curing the uncured adhesive.
A roughened surface is preferably formed in advance on the surface of the substrate fixed in this step, which is in contact with the adhesive layer.

【0188】また、蓋部と基板とを接着層を介して固定
する際には、予め、蓋部の溝形成面、基板の蓋部と対向
する面のいずれか一方に未硬化の接着剤を塗布してお
き、その後、両者を対向配置し、さらに、硬化処理を施
すことにより、蓋部と基板とを接着層を介して固定して
もよいが、この場合、蓋部と接着層との間、または、基
板と接着層との間に空気が入り込みやすく、この空気を
起点として、基板と接着層との剥離や、蓋部と接着層と
の剥離等が発生することがあるため、上述したような、
蓋部および基板の端部から未硬化の接着剤を流し込む方
法が望ましい。
When fixing the lid and the substrate via the adhesive layer, an uncured adhesive is previously applied to either the groove forming surface of the lid or the surface of the substrate facing the lid. The coating may be applied, and then the two may be arranged to face each other and further subjected to a curing treatment to fix the lid and the substrate via the adhesive layer. In this case, the lid and the adhesive layer Air easily enters between the substrates or the adhesive layer, and the air may be used as a starting point for peeling between the substrate and the adhesive layer or peeling between the lid portion and the adhesive layer. Like
A method of pouring an uncured adhesive from the lid and the end of the substrate is desirable.

【0189】また、上記(3)の工程において、溝の光
ファイバ非収納部に接着層を形成せずに、光ファイバの
収納のみを行っておき、この(4)の工程で蓋部と基板
とを所定の位置に配置した後、蓋部と基板や光ファイバ
との間隙に未硬化の接着剤を流し込む際に、同時に溝の
光ファイバ非収納部に未硬化の接着剤を流し込んでもよ
い。
In the step (3), the optical fiber is only accommodated without forming an adhesive layer in the optical fiber non-accommodating portion of the groove, and in the step (4), the lid and the substrate are accommodated. After arranging and at a predetermined position, when the uncured adhesive is poured into the gap between the lid and the substrate or the optical fiber, the uncured adhesive may be simultaneously poured into the optical fiber non-accommodating portion of the groove.

【0190】また、上記(3)の工程において、その両
端部以外の一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリ
ボンを収納した場合は、この工程で蓋部を取り付けた後
に、光ファイバリボンの基板に収納されなかった部分を
切断除去する。
Further, in the step (3), when the optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends thereof is removed is housed, the optical fiber ribbon is attached after the lid is attached in this step. The part which was not stored in the substrate is cut and removed.

【0191】また、その一端部が露出した光ファイバリ
ボンを収納した後や、両端部以外の一部の露出した光フ
ァイバの収納と、光ファイバリボンの一端部の切断除去
とを行った後には、光ファイバの端面に研磨処理を施す
ことが望ましい。ここで、研磨処理を施す場合には、光
ファイバ、基板および蓋部の端面に傾斜を持たすように
研磨処理を施すことが望ましい。光信号伝送時のもどり
光の発生を抑制することができるからである。また、こ
の場合、光ファイバの端面に研磨処理を施すとともに、
基板や蓋部の側面に研磨処理を施してもよい。
After storing the optical fiber ribbon whose one end is exposed, or after storing a part of the exposed optical fiber other than both ends and cutting and removing one end of the optical fiber ribbon, It is desirable to polish the end surface of the optical fiber. Here, when performing the polishing treatment, it is desirable to perform the polishing treatment so that the end faces of the optical fiber, the substrate and the lid are inclined. This is because it is possible to suppress the generation of return light when transmitting an optical signal. In this case, while polishing the end face of the optical fiber,
The side surface of the substrate or the lid may be polished.

【0192】このような工程を経ることにより、蓋部に
溝が形成され、該溝に光ファイバが収納された本発明の
光ファイバアレイを製造することができる。
Through these steps, it is possible to manufacture the optical fiber array of the present invention in which the groove is formed in the lid and the optical fiber is housed in the groove.

【0193】なお、上述した光ファイバアレイの製造方
法は、光ファイバリボンを用いる方法であるが、本発明
の光ファイバアレイは、単心の光ファイバを用いたり、
積層光ファイバリボンを用いても製造することができ
る。
The manufacturing method of the optical fiber array described above is a method using an optical fiber ribbon, but the optical fiber array of the present invention uses a single-core optical fiber,
It can also be manufactured using a laminated optical fiber ribbon.

【0194】具体的には、単心の光ファイバを用いて光
ファイバアレイを製造する場合には、例えば、一端部の
被覆樹脂層を剥離した複数本の光ファイバを、整列器を
用いて並列に整列させた後、上記(3)の工程で、整列
器で保持したまま、溝が形成された基板または蓋部の該
溝に光ファイバを収納し、その後、上記した方法と同様
の方法を用いて光ファイバの固定や蓋部の形成等を行う
ことにより光ファイバアレイを製造することができる。
Specifically, when manufacturing an optical fiber array using a single-core optical fiber, for example, a plurality of optical fibers from which the coating resin layer at one end is peeled off are arranged in parallel using an aligner. In step (3) above, the optical fiber is housed in the groove of the substrate or the lid portion in which the groove is formed while being held by the aligner in the above step (3), and then the same method as the above method is applied. An optical fiber array can be manufactured by fixing an optical fiber, forming a lid, etc. by using it.

【0195】また、積層光ファイバリボンを用いて光フ
ァイバアレイを製造する場合には、例えば、図13に示
すような、その一部の被覆樹脂層が除去された積層光フ
ァイバリボン300を作製し、その後、この積層光ファ
イバリボンを基板に収納、固定させることにより光ファ
イバアレイを製造することができる。図13は、積層光
ファイバリボンの一実施形態を模式的に示す部分斜視図
である。
When an optical fiber array is manufactured by using the laminated optical fiber ribbon, for example, a laminated optical fiber ribbon 300 in which a part of the coating resin layer is removed is prepared as shown in FIG. After that, the optical fiber array can be manufactured by housing and fixing this laminated optical fiber ribbon on the substrate. FIG. 13 is a partial perspective view schematically showing an embodiment of the laminated optical fiber ribbon.

【0196】図13に示すように、積層光ファイバリボ
ン300は、その両端部以外の一部の光ファイバ345
aが露出した第二の光ファイバリボン(下段の光ファイ
バリボン)340の露出した光ファイバ345aの間
に、その一端部の光ファイバ335aが露出した第一の
光ファイバリボン(上段の光ファイバリボン)330の
露出した光ファイバ335aが配置されるように、第一
の光ファイバリボン330と第二の光ファイバリボン3
40とが積み重ねられている。
As shown in FIG. 13, the laminated optical fiber ribbon 300 has a part of the optical fibers 345 other than both ends thereof.
a of the second optical fiber ribbon (lower optical fiber ribbon) 340 exposed between the exposed optical fibers 345a of the first optical fiber ribbon 335a at one end thereof (upper optical fiber ribbon ) The first optical fiber ribbon 330 and the second optical fiber ribbon 3 are arranged so that the exposed optical fibers 335a of 330 are arranged.
And 40 are stacked.

【0197】また、積層光ファイバリボン300では、
露出した光ファイバ335a、345aが同一の高さに
配置されるように、露出した光ファイバ335a、34
5aは、それぞれが、その一部で曲げられている。この
ように、光ファイバ335aおよび光ファイバ345a
を同一の高さに配置することより、基板の溝に収納する
のに適した形状となる。
In the laminated optical fiber ribbon 300,
The exposed optical fibers 335a, 345a are arranged so that the exposed optical fibers 335a, 345a are arranged at the same height.
Each of 5a is bent at a part thereof. Thus, optical fiber 335a and optical fiber 345a
By arranging the same at the same height, it becomes a shape suitable for being housed in the groove of the substrate.

【0198】なお、積層光ファイバリボン300では、
第一の光ファイバリボン330の露出した光ファイバ3
35a、および、第二の光ファイバリボン340の露出
した光ファイバ345aのそれぞれの一部が曲げられて
いるが、両者の光ファイバを同一の高さに配置すること
ができるのであれば、第一の光ファイバリボンの露出し
た光ファイバのみが曲げられていてもよいし、第二の光
ファイバリボンの露出した光ファイバのみが曲げられて
いてもよい。
In the laminated optical fiber ribbon 300,
The exposed optical fiber 3 of the first optical fiber ribbon 330
35a and a part of each of the exposed optical fibers 345a of the second optical fiber ribbon 340 are bent, but if both optical fibers can be arranged at the same height, Only the exposed optical fiber of the optical fiber ribbon may be bent, or only the exposed optical fiber of the second optical fiber ribbon may be bent.

【0199】また、積層光ファイバリボン300におい
て、第一の光ファイバリボン330と第二の光ファイバ
リボン340とは、接着剤を介して固定されていること
が望ましい。なお、図13に示す積層光ファイバリボン
300においては、8本の光ファイバが同一の高さに配
置されているが、積層光ファイバリボンにおける光ファ
イバの本数は8本に限定されず、7本以下であってもよ
いし、9本以上であってもよい。また、上記第一および
第二の光ファイバリボンのそれぞれの光ファイバの本数
は、図13に示す光ファイバリボンのように同数か、第
一の光ファイバリボンのほうが1本多いか、または、第
二の光ファイバリボンのほうが1本多いことが望まし
い。このような場合、光ファイバを最も高密度で配列さ
せることができるからである。
Further, in the laminated optical fiber ribbon 300, it is desirable that the first optical fiber ribbon 330 and the second optical fiber ribbon 340 be fixed with an adhesive. Note that in the laminated optical fiber ribbon 300 shown in FIG. 13, eight optical fibers are arranged at the same height, but the number of optical fibers in the laminated optical fiber ribbon is not limited to eight, and seven optical fibers are provided. It may be the following or 9 or more. The number of optical fibers in each of the first and second optical fiber ribbons is the same as in the optical fiber ribbon shown in FIG. 13, the first optical fiber ribbon is one more, or It is desirable that the number of the second optical fiber ribbons is one. This is because in such a case, the optical fibers can be arranged at the highest density.

【0200】上記積層光ファイバリボンの作製は、例え
ば、まず、光ファイバリボンの一端部の被覆樹脂層を、
上述したような、被覆樹脂層剥離装置を用いる方法、有
機溶剤で溶解させる方法、レーザ光を照射する方法等を
用いて除去することにより第一の光ファイバリボンを作
製し、これとは別に、上記と同様の被覆樹脂層の除去方
法を用いて、光ファイバリボンの両端部以外の一部の被
覆樹脂層を除去することにより第二の光ファイバリボン
を作製し、次に、光ファイバの一部を曲げた後、両者の
光ファイバが、交互に等間隔で配置されるように、第一
および第二の光ファイバリボンを、接着剤を介して積み
重ねることにより行うことができる。
In the production of the laminated optical fiber ribbon, for example, first, the coating resin layer at one end of the optical fiber ribbon is
As described above, a method of using the coating resin layer peeling device, a method of dissolving with an organic solvent, a method of irradiating with a laser beam and the like to produce a first optical fiber ribbon by removing it, apart from this, A second optical fiber ribbon is produced by removing a part of the coating resin layer other than both end portions of the optical fiber ribbon by using the same method for removing the coating resin layer as described above. After bending the part, the first and second optical fiber ribbons may be stacked with an adhesive so that the two optical fibers are alternately arranged at equal intervals.

【0201】このような積層光ファイバリボンを基板に
収納、固定させる方法としては、上述した光ファイバリ
ボンを収納、固定する方法と同様の方法を用いることが
できる。なお、上記積層光ファイバリボンを用いて光フ
ァイバアレイを製造する場合も、上記基板に積層光ファ
イバリボンを収納、固定した後、第二の光ファイバリボ
ンの一端部の切断除去と光ファイバの端面等の研磨処理
とを行う。
As a method of housing and fixing such a laminated optical fiber ribbon on a substrate, the same method as the method of housing and fixing the above-mentioned optical fiber ribbon can be used. Even when an optical fiber array is manufactured using the laminated optical fiber ribbon, after the laminated optical fiber ribbon is housed and fixed in the substrate, the second optical fiber ribbon is cut off and the end face of the optical fiber is removed. And the like.

【0202】[0202]

【実施例】以下、本発明をさらに詳細に説明する。The present invention will be described in more detail below.

【0203】(実施例1) A.一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリボンの
作製 直径250μmの光ファイバ115が、クラッド間隔2
50μmで8本並列に配置され、該光ファイバの周囲に
アクリレート系紫外線硬化型樹脂からなる被覆樹脂層
(一次被覆層113および二次被覆層114)が被覆さ
れた光ファイバリボン(住友電気工業社製)を準備し、
この光ファイバリボンの一端部から5〜50mmのとこ
ろの部分の被覆樹脂層(一次被覆層および二次被覆層)
を被覆樹脂層剥離装置で剥離した(図14(a)参
照)。
(Example 1) A. Fabrication of an optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer has been removed.
Optical fiber ribbons (Sumitomo Electric Industrial Co., Ltd.) in which eight fibers of 50 μm are arranged in parallel, and a coating resin layer (primary coating layer 113 and secondary coating layer 114) made of an acrylate-based ultraviolet curable resin is coated around the optical fibers. Made),
A coating resin layer (primary coating layer and secondary coating layer) at a portion 5 to 50 mm from one end of this optical fiber ribbon
Was peeled off by a coating resin layer peeling device (see FIG. 14 (a)).

【0204】B.蓋部の作製 高ケイ酸ガラスからなる板状体に、ダイヤモンド刃を備
えた装置を用いて切削加工を施すことにより、露出した
光ファイバを収納するための凹部161を形成し、蓋部
160とした(図15(a)参照)。なお、該凹部は、
その断面の形状が矩形状である。
B. Manufacture of lid part A plate-like body made of high silicate glass is cut using a device equipped with a diamond blade to form a recess 161 for accommodating an exposed optical fiber. (See FIG. 15A). The recess is
The shape of the cross section is rectangular.

【0205】また、上記蓋部の表面のJIS B 06
01に基づく表面粗さを、干渉縞を用いた表面粗さ計
(ビーコ・インスツルメンツ社製、WYKO NT−2
000system)を用いて測定したところ、平均粗
さRaは、1nmであった。
[0205] In addition, JIS B 06 on the surface of the lid part
The surface roughness based on 01 is used as a surface roughness meter using interference fringes (WYKO NT-2 manufactured by Veeco Instruments Inc.).
000 system), the average roughness Ra was 1 nm.

【0206】また、上記蓋部と同様の材質(高ケイ酸ガ
ラス)からなる厚さ1.0±0.05mmの板状体につ
いて、下記の方法でこの板状体の紫外線の透過率を測定
したところ、その透過率は、90%であった。
Further, with respect to a plate-like body having a thickness of 1.0 ± 0.05 mm and made of the same material (high silicate glass) as that of the lid portion, the ultraviolet transmittance of this plate-like body was measured by the following method. Then, the transmittance was 90%.

【0207】透過率の測定は、まず、光量計(オーク製
作所社製、UV−351:有感領域が波長360nm付
近)の受光面に、上記板状体を載置し、上記光量計の鉛
直方向上方にUVスポット光源(浜松ホトニクス社製、
LC5L8222(直射用均一照射ユニット E625
5))を配置した。なお、光量計の受光面とUVスポッ
ト光源のレンズ面との距離は、40cmである。
The transmittance was measured by first placing the plate-like body on the light-receiving surface of a photometer (UV-351, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd .; the sensitive region is near a wavelength of 360 nm), and then vertically measuring the photometer. UV spot light source in the upper direction (made by Hamamatsu Photonics,
LC5L8222 (Direct irradiation uniform irradiation unit E625
5)) was placed. The distance between the light receiving surface of the photometer and the lens surface of the UV spot light source is 40 cm.

【0208】次に、UVスポット光源から光量計に向か
って紫外線を照射し、光量計の受光面で照射強度を測定
する操作を3回繰り返し、その平均値を算出した。平均
照射強度は、平均照射強度は、19.0mW/cm
あった。なお、板状体を載置せずに測定した平均照射強
度は、21.1mW/cmであった。
Next, the operation of irradiating the photometer with ultraviolet rays from the UV spot light source and measuring the irradiation intensity on the light receiving surface of the photometer was repeated three times, and the average value was calculated. The average irradiation intensity was 19.0 mW / cm 2 . The average irradiation intensity measured without placing the plate-shaped body was 21.1 mW / cm 2 .

【0209】C.光ファイバアレイの作製 (1)その表面に研磨処理を施した厚さ0.5〜2.0
mmのシリコン基板151を出発材料とし、このシリコ
ン基板151上に下記の方法によりマスク層152を形
成した(図12(a)参照)。すなわち、まず、シリコ
ン基板151の表面に熱酸化炉中で、厚さ0.04μm
のSiO膜152aを形成し、次に、このSiO
上に減圧CVD法を用いて、厚さ0.1μmのSi
膜152bを形成することにより、SiO膜152
aとSi膜152bとの2層からなるマスク層1
52を形成した。
C. Fabrication of optical fiber array (1) Thickness 0.5-2.0 with polishing treatment on its surface
A silicon substrate 151 having a size of mm was used as a starting material, and a mask layer 152 was formed on the silicon substrate 151 by the following method (see FIG. 12A). That is, first, the thickness of the surface of the silicon substrate 151 was 0.04 μm in a thermal oxidation furnace.
Of SiO 2 film 152a is formed, and a low pressure CVD method is used on this SiO 2 film to form Si 3 N having a thickness of 0.1 μm.
The SiO 2 film 152 is formed by forming the 4 film 152b.
a and a mask layer 1 composed of two layers of Si 3 N 4 film 152b
52 was formed.

【0210】(2)次に、マスク層152上に、スピン
コータを用いてレジスト用樹脂組成物を塗布し、厚さ2
5μmのレジスト用樹脂層154を形成した(図12
(b)参照)。
(2) Next, a resin composition for resist is applied onto the mask layer 152 by using a spin coater to give a thickness of 2
A resist resin layer 154 having a thickness of 5 μm was formed (FIG. 12).
(See (b)).

【0211】(3)次に、上記レジスト用樹脂層154
上に溝パターンが描画されたマスクを載置し、800m
J/cmで露光し、その後、アルカリ溶液で現像処理
することにより、マスク層上にエッチングレジスト15
5を形成した(図12(c)参照)。
(3) Next, the resist resin layer 154 is formed.
Place a mask with a groove pattern drawn on it, 800m
It is exposed to J / cm 2 and then developed with an alkaline solution to form an etching resist 15 on the mask layer.
5 was formed (see FIG. 12 (c)).

【0212】(4)次に、エッチングレジスト155非
形成部に露出したマスク層を下記の方法により除去し、
基板151の一部を露出させたマスク156を形成した
(図12(d)参照)。すなわち、まず、露出したSi
膜を、50Wで2.5時間のRIE処理を用いて
除去することによりSiO膜を露出させ、さらに、こ
のSiO膜を3重量%のHF溶液を用いたウェットエ
ッチングを3分間施すことにより除去し、シリコン基板
を露出させた。
(4) Next, the mask layer exposed in the non-formed portion of the etching resist 155 is removed by the following method,
A mask 156 was formed by exposing a part of the substrate 151 (see FIG. 12D). That is, first, the exposed Si
The SiO 2 film is exposed by removing the 3 N 4 film by RIE treatment at 50 W for 2.5 hours, and the SiO 2 film is wet-etched with a 3 wt% HF solution for 3 minutes. It was removed by application to expose the silicon substrate.

【0213】(5)次に、10重量%のNaOH水溶液
を用いてエッチングレジストを剥離除去した(図12
(e)参照)。これにより、シリコン基板151上に
は、溝を形成する部分に相当する部分が開口したマスク
156のみが形成されていることとなった。
(5) Next, the etching resist was peeled off using a 10% by weight NaOH aqueous solution (FIG. 12).
(See (e)). As a result, on the silicon substrate 151, only the mask 156 having the opening corresponding to the portion where the groove is formed is formed.

【0214】(6)次に、マスク156が形成されたシ
リコン基板151を、KOH濃度25重量%、液温度7
8℃のエッチング液(KOH:100g、HO:30
0g)中に浸漬することにより、深さ120μmのV溝
を8本形成した(図12(f)参照)。
(6) Next, the silicon substrate 151 on which the mask 156 is formed is subjected to a KOH concentration of 25% by weight and a liquid temperature of 7%.
8 ° C. etching solution (KOH: 100 g, H 2 O: 30
0 g) to form eight V-grooves having a depth of 120 μm (see FIG. 12 (f)).

【0215】(7)次に、Si膜とSiO膜と
からなるマスク156を下記の方法を用いて除去した
(図12(g)参照)。すなわち、Si膜を上記
(4)の工程で用いたRIE処理と同様の処理を施すこ
とにより除去し、続いて、SiO膜を上記(4)の工
程で用いたウェットエッチングと同様の処理を施して除
去することにより、マスク156を除去した。この工程
を経ることにより、基板の上面(溝の壁面を含む)全部
が、シリコンにより構成されることとなる。
(7) Next, the mask 156 composed of the Si 3 N 4 film and the SiO 2 film was removed by the following method (see FIG. 12 (g)). That is, the Si 3 N 4 film is removed by performing the same process as the RIE process used in the above step (4), and then the SiO 2 film is removed in the same manner as the wet etching used in the above step (4). Then, the mask 156 is removed by performing the above process. Through this step, the entire upper surface of the substrate (including the wall surface of the groove) is made of silicon.

【0216】その後、基板151の一部に光ファイバリ
ボンを被覆樹脂層ごと保持するための被覆樹脂層保持部
158(図14(a)参照)を、ダイヤモンド刃を備え
た装置を用いて切削加工を施すことにより形成した。な
お、図14に示した基板には、溝は4本しか形成されて
いないが、この図は模式図であり、実際には、上述した
ように、基板上に8本の溝を形成した。
After that, a coating resin layer holding portion 158 (see FIG. 14A) for holding the optical fiber ribbon together with the coating resin layer on a part of the substrate 151 is cut using a device equipped with a diamond blade. It was formed by applying. Although only four grooves are formed on the substrate shown in FIG. 14, this drawing is a schematic diagram, and in fact, eight grooves were formed on the substrate as described above.

【0217】(8)次に、溝および被覆樹脂層保持部を
形成した基板の上面(溝の壁面を含む)全体に、下記の
条件で粗化面を形成した。すなわち、上記基板を、濃度
20重量%、温度50℃のKOH溶液中に6分間浸漬す
ることより、基板の上面全体に粗化面を形成した。な
お、この工程で基板の上面に形成した粗化面の表面粗さ
は、JIS B 0601に基づく平均粗さRaが、溝
の壁面{(111)面}で20nm、基板上面の溝非形
成部分および被覆樹脂層保持部の上面{(100)面}
で250nmであった。また、上記平均粗さRaは、干
渉縞を用いた表面粗さ計(WYKO NT−2000
system)により測定した。
(8) Next, a roughened surface was formed under the following conditions on the entire upper surface (including the wall surface of the groove) of the substrate on which the groove and the coating resin layer holding portion were formed. That is, a roughened surface was formed on the entire upper surface of the substrate by immersing the substrate in a KOH solution having a concentration of 20% by weight and a temperature of 50 ° C. for 6 minutes. As for the surface roughness of the roughened surface formed on the upper surface of the substrate in this step, the average roughness Ra according to JIS B 0601 is 20 nm on the wall surface {(111) surface} of the groove, and the groove-unformed portion on the upper surface of the substrate. And the upper surface of the coating resin layer holding portion {(100) surface}
Was 250 nm. The average roughness Ra is a surface roughness meter (WYKO NT-2000) using interference fringes.
system).

【0218】(9)次に、上記Aで作製した光ファイバ
リボン110Aの光ファイバ115の露出した部分を、
V溝157に収納し(図14(a)、(b)参照)、さ
らに、上記Bで作製した蓋部160を基板151上に載
置した(図15(a)参照)。さらに、溝157と光フ
ァイバ115との間隙、および、蓋部160と基板15
1(光ファイバ115)との間隙に、未硬化の接着剤
(ダイキン工業社製、UV−3000)を流し込んだ。
また、被覆樹脂層保持部158に載置した被覆樹脂層の
周囲にも上記未硬化の接着剤(UV−3000)を塗布
した。
(9) Next, the exposed portion of the optical fiber 115 of the optical fiber ribbon 110A produced in the above A is
It was housed in the V-shaped groove 157 (see FIGS. 14A and 14B), and the lid 160 manufactured in the above B was placed on the substrate 151 (see FIG. 15A). Furthermore, the gap between the groove 157 and the optical fiber 115, and the lid 160 and the substrate 15
An uncured adhesive (UV-3000, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was poured into the gap between the 1 (optical fiber 115).
The uncured adhesive (UV-3000) was also applied around the coating resin layer placed on the coating resin layer holding portion 158.

【0219】次に、蓋部160を設けた基板151の上
部から、高圧水銀ランプを用いて、10J/cmの紫
外線を照射し、その後、60℃で1時間加熱することに
より、接着剤を完全に硬化させ、蓋部160を固定し
た。また、ここでは、被覆樹脂層保持部にも紫外線を照
射することにより、該被覆樹脂層保持部で、露出した光
ファイバの一部と被覆樹脂層とを接着剤(図示せず)を
介して固定した。
Next, an ultraviolet ray of 10 J / cm 2 is irradiated from the upper portion of the substrate 151 provided with the lid portion 160 with a high pressure mercury lamp, and then the adhesive is heated at 60 ° C. for 1 hour. It was completely cured and the lid 160 was fixed. Further, here, by irradiating the coating resin layer holding portion with ultraviolet rays as well, a part of the exposed optical fiber and the coating resin layer are exposed to the coating resin layer holding portion via an adhesive (not shown). Fixed

【0220】(10)次に、光ファイバリボン110A
の一端部の基板に収納しなかった被覆樹脂層114a
と、この被覆樹脂層に覆われた光ファイバとをダイヤモ
ンドカッターにより切断除去し、さらに、光ファイバの
端面と、基板および蓋部の端面とが揃うように研磨処理
を施し、光ファイバアレイ102を製造した(図15
(b)参照)。
(10) Next, the optical fiber ribbon 110A
Resin layer 114a not housed in the substrate at one end of the
And the optical fiber covered with this coating resin layer are cut and removed by a diamond cutter, and further, a polishing process is performed so that the end face of the optical fiber and the end faces of the substrate and the lid are aligned, and the optical fiber array 102 is formed. Manufactured (Fig. 15)
(See (b)).

【0221】(実施例2)実施例1のBの工程におい
て、蓋部の基板と対向することとなる面に、片面砂目研
磨(♯1000)を施すことにより粗化面を形成した以
外は実施例1と同様にして光ファイバアレイを製造し
た。この工程で形成した粗化面の平均粗さRaは、40
0nmであった。
(Embodiment 2) In the process B of Embodiment 1, except that a roughened surface is formed on the surface of the lid portion facing the substrate by single-sided grain polishing (# 1000). An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 1. The average roughness Ra of the roughened surface formed in this step is 40.
It was 0 nm.

【0222】なお、上記粗化面のJIS B 0601
に基づく表面粗さは、干渉縞を用いた表面粗さ計(ビー
コ・インスツルメンツ社製、WYKO NT−2000
system)を用いて測定した。
[0222] In addition, JIS B 0601 of the above roughened surface
The surface roughness based on is based on a surface roughness meter using interference fringes (WYKO NT-2000 manufactured by Biko Instruments Inc.).
system).

【0223】また、上記蓋部と同様の材質(高ケイ酸ガ
ラス)からなる厚さ1.0±0.05mmの板状体の片
面に上記と同様の方法で粗化面を形成し、その後、下記
の方法でこの板状体の紫外線の透過率を測定したとこ
ろ、その透過率は、71.5%であった。透過率の測定
は、実施例1と同様の方法で行った。なお、透過率を測
定する際には、形成した粗化面が、光量計の受光面側に
くるように載置した。
Further, a roughened surface was formed on one surface of a plate-like body made of the same material (high silicate glass) and having a thickness of 1.0 ± 0.05 mm as the above-mentioned lid by the same method as described above. The ultraviolet transmittance of this plate-shaped body was measured by the following method, and the transmittance was 71.5%. The transmittance was measured in the same manner as in Example 1. When the transmittance was measured, the roughened surface was placed so that it was on the light receiving surface side of the photometer.

【0224】(実施例3)実施例2において、片面砂目
研磨(♯1000)を行った後、20重量%のKOH溶
液で5分間処理することにより粗化面を形成した以外は
実施例2と同様にして光ファイバアレイを製造した。こ
の工程で形成した粗化面の平均粗さRaは、600nm
であった。
(Embodiment 3) Embodiment 2 is the same as Embodiment 2 except that the roughened surface is formed by performing a one-side grain polishing (# 1000) and then treating with a 20% by weight KOH solution for 5 minutes. An optical fiber array was manufactured in the same manner as in. The average roughness Ra of the roughened surface formed in this step is 600 nm.
Met.

【0225】また、実施例2と同様、上記蓋部と同様の
材質(高ケイ酸ガラス)からなる厚さ1.0±0.05
mmの板状体の片面に上記と同様の方法で粗化面を形成
し、その後、この板状体の紫外線の透過率を測定したと
ころ、その透過率は、75.0%であった。
As in the second embodiment, the thickness is 1.0 ± 0.05 made of the same material (high silicate glass) as that of the lid.
A roughened surface was formed on one surface of a plate-shaped body having a thickness of mm by the same method as described above, and then the transmittance of ultraviolet rays of this plate-shaped body was measured. The transmittance was 75.0%.

【0226】(実施例4)実施例2において、片面砂目
研磨(♯1000)に代えて、片面砂目研磨(♯150
0)を施し、その後、20重量%のKOH溶液で5分間
処理することにより粗化面を形成した以外は実施例2と
同様にして光ファイバアレイを製造した。この工程で形
成した粗化面の平均粗さRaは、450nmであった。
(Embodiment 4) Instead of the one-sided grain polishing (# 1000) in Example 2, one-sided grain polishing (# 150).
0) was applied, and then an optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 2 except that a roughened surface was formed by treating with a KOH solution of 20% by weight for 5 minutes. The average roughness Ra of the roughened surface formed in this step was 450 nm.

【0227】また、実施例2と同様、上記蓋部と同様の
材質(高ケイ酸ガラス)からなる厚さ1.0±0.05
mmの板状体の片面に上記と同様の方法で粗化面を形成
し、その後、この板状体の紫外線の透過率を測定したと
ころ、その透過率は、78.0%であった。
As in the second embodiment, the thickness of the lid portion made of the same material (high silicate glass) is 1.0 ± 0.05.
A roughened surface was formed on one surface of the plate-shaped body of mm by the same method as described above, and then the transmittance of ultraviolet rays of this plate-shaped body was measured. The transmittance was 78.0%.

【0228】(実施例5)実施例2において、片面砂目
研磨(♯1000)に代えて、片面砂目研磨(♯50
0)を施し、その後、20重量%のKOH溶液で5分間
処理することにより粗化面を形成した以外は実施例2と
同様にして光ファイバアレイを製造した。この工程で形
成した粗化面の平均粗さRaは、760nmであった。
(Embodiment 5) In Embodiment 2, instead of the one-sided grain polishing (# 1000), one-sided grain polishing (# 50).
0) was applied, and then an optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 2 except that a roughened surface was formed by treating with a KOH solution of 20% by weight for 5 minutes. The average roughness Ra of the roughened surface formed in this step was 760 nm.

【0229】また、実施例2と同様、上記蓋部と同様の
材質(高ケイ酸ガラス)からなる厚さ1.0±0.05
mmの板状体の片面に上記と同様の方法で粗化面を形成
し、その後、この板状体の紫外線の透過率を測定したと
ころ、その透過率は、73.0%であった。
As in the second embodiment, the thickness is 1.0 ± 0.05 made of the same material (high silicate glass) as that of the lid.
A roughened surface was formed on one surface of the plate-shaped body of mm by the same method as described above, and the transmittance of ultraviolet rays of this plate-shaped body was measured. The transmittance was 73.0%.

【0230】(実施例6)実施例2において、片面砂目
研磨(♯1000)を行わず、20重量%のKOH溶液
で5分間処理することのみで粗化面を形成した以外は実
施例2と同様にして光ファイバアレイを製造した。この
工程で形成した粗化面の平均粗さRaは、300nmで
あった。
Example 6 Example 2 is different from Example 2 except that the single sided grain polishing (# 1000) is not carried out and the roughened surface is formed only by treating with a 20% by weight KOH solution for 5 minutes. An optical fiber array was manufactured in the same manner as in. The average roughness Ra of the roughened surface formed in this step was 300 nm.

【0231】また、実施例2と同様、上記蓋部と同様の
材質(高ケイ酸ガラス)からなる厚さ1.0±0.05
mmの板状体の片面に上記と同様の方法で粗化面を形成
し、その後、この板状体の紫外線の透過率を測定したと
ころ、その透過率は、82.5%であった。
As in the second embodiment, the thickness is 1.0 ± 0.05 made of the same material (high silicate glass) as the lid.
A roughened surface was formed on one surface of the plate-shaped body of mm by the same method as described above, and the transmittance of ultraviolet rays of this plate-shaped body was measured. The transmittance was 82.5%.

【0232】(実施例7) A.一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリボンの
作製 実施例1のAの工程と同様にして、一部の被覆樹脂層が
除去された光ファイバリボンを作製した。
(Example 7) A. Production of Optical Fiber Ribbon with Part of the Covering Resin Layer Removed In the same manner as in step A of Example 1, an optical fiber ribbon with some of the covering resin layer removed was produced.

【0233】B.蓋部の作製 露出した光ファイバを収納するための凹部を形成しなか
った以外は、実施例1のBと同様にして、板状の蓋部を
作製した。なお、蓋部の基板と対向することとなる面に
は、実施例1のBと同様にして、粗化面を形成した。
B. Manufacture of Lid Section A plate-shaped lid section was manufactured in the same manner as in Example 1B, except that the recess for accommodating the exposed optical fiber was not formed. A roughened surface was formed on the surface of the lid facing the substrate in the same manner as in Example 1B.

【0234】C.光ファイバアレイの作製 (1)実施例1のCの(1)〜(7)の工程と同様の方
法を用いて、シリコン基板に溝を形成し、これを溝形成
部材とした。なお、ここでは、被覆樹脂層保持部は形成
しなかった。その後、この溝形成部材の表面に実施例1
のCの(8)の工程と同様の方法を用いて粗化面を形成
した。なお、この工程で溝形成部材に形成した粗化面の
表面粗さは、JIS B 0601に基づく平均粗さR
aが、溝の壁面{(111)面}で20nm、溝形成部
材の上面の溝非形成部分および溝形成部材の底面(後工
程で保持部材と接することとなる部分){(100)
面}で250nm、溝形成部材の側面{(010)面}
で45nmあった。
C. Fabrication of Optical Fiber Array (1) Grooves were formed in a silicon substrate by the same method as the steps (1) to (7) of C in Example 1, and this was used as a groove forming member. Here, the coating resin layer holding portion was not formed. Then, Example 1 was formed on the surface of the groove forming member.
A roughened surface was formed by using a method similar to the step (8) of C. The surface roughness of the roughened surface formed on the groove forming member in this step is the average roughness R based on JIS B 0601.
a is 20 nm on the wall surface {(111) plane} of the groove, the groove non-forming portion on the upper surface of the groove forming member and the bottom surface of the groove forming member (portion to be brought into contact with the holding member in a later step) {(100)
Surface} of 250 nm, the side surface of the groove forming member {(010) plane}
Was 45 nm.

【0235】(2)次に、高ケイ酸ガラスからなる板状
体を準備し、この板状体(保持部材)にシリコンからな
る溝形成部材を熱硬化型接着剤(エポキシ接着剤:エイ
ブルスティック社製、RP621−1E)を用いて固定
することにより、溝の形成された基板を作製した(図2
(d)参照)。なお、上記保持部材の上記溝形成部材を
固定することとなる面には、下記の方法により粗化面を
形成した。
(2) Next, a plate-shaped body made of high silicate glass is prepared, and a groove forming member made of silicon is provided on the plate-shaped body (holding member) with a thermosetting adhesive (epoxy adhesive: Able Stick). A substrate in which a groove was formed was prepared by fixing using RP621-1E manufactured by the company (FIG. 2).
(See (d)). A roughened surface was formed on the surface of the holding member to which the groove forming member was fixed by the following method.

【0236】すなわち、まず、溝形成部材を固定するこ
ととなる面に、片面砂目研磨(♯1000)を施し、そ
の後、この蓋部をHF:HO=1:20、温度45℃
のHF水溶液に、30分間浸漬することにより粗化面を
形成した。
That is, first, the surface on which the groove forming member is to be fixed is subjected to single-sided grain polishing (# 1000), and then the lid portion is HF: H 2 O = 1: 20 at a temperature of 45 ° C.
The roughened surface was formed by immersing in the HF aqueous solution for 30 minutes.

【0237】この工程で形成した粗化面の表面粗さは、
JIS B 0601に基づく平均粗さRaが400n
mであった。
The surface roughness of the roughened surface formed in this step is
Average roughness Ra based on JIS B 0601 is 400n
It was m.

【0238】(3)次に、実施例1のCの(9)および
(10)の工程と同様の工程を行い、光ファイバアレイ
を完成した(図2参照)。
(3) Next, steps similar to the steps (9) and (10) of C of Example 1 were performed to complete the optical fiber array (see FIG. 2).

【0239】(実施例8) A.一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリボンの
作製 実施例1のAの工程と同様にして、一部の被覆樹脂層が
除去された光ファイバリボンを作製した。
(Example 8) A. Production of Optical Fiber Ribbon with Part of the Covering Resin Layer Removed In the same manner as in step A of Example 1, an optical fiber ribbon with some of the covering resin layer removed was produced.

【0240】B.蓋部の作製 (1)実施例1のCの(1)〜(7)の工程と同様の方
法を用いて、シリコン基板に溝を形成し、これを溝形成
部材とした。なお、ここでは、被覆樹脂層保持部は形成
しなかった。その後、この溝形成部材の表面に実施例1
のCの(8)の工程と同様の方法を用いて粗化面を形成
した。なお、この工程で溝形成部材に形成した粗化面の
表面粗さは、JIS B 0601に基づく平均粗さR
aが、溝の壁面{(111)面}で20nm、溝形成部
材の溝形成面の溝非形成部分、および、溝形成面と平行
な面(後工程で保持部材と接することとなる部分)
{(100)面}で250nm、溝形成部材の側面
{(010)面}で40nmであった。
B. Fabrication of Lid (1) Grooves were formed in the silicon substrate by the same method as the steps (1) to (7) of C in Example 1, and this was used as a groove forming member. Here, the coating resin layer holding portion was not formed. Then, Example 1 was formed on the surface of the groove forming member.
A roughened surface was formed by using a method similar to the step (8) of C. The surface roughness of the roughened surface formed on the groove forming member in this step is the average roughness R based on JIS B 0601.
a is 20 nm on the wall surface {(111) plane} of the groove, a groove-unformed portion of the groove-formed surface of the groove-forming member, and a surface parallel to the groove-formed surface (a portion that will come into contact with the holding member in a later step).
The {(100) plane} was 250 nm, and the side surface of the groove forming member {(010) plane} was 40 nm.

【0241】(2)次に、高ケイ酸ガラスからなり、そ
の幅が溝形成部材よりも大きく、かつ、奥行きが溝形成
部材と同一の板状体を準備し、この板状体(保持部材)
に上記溝形成部材を熱硬化型接着剤(エポキシ接着剤:
エイブルスティック社製、RP621−1E)を用いて
固定することにより、溝の形成された蓋部を作製した
(図5(d)参照)。なお、上記保持部材の上記溝形成
部材を固定することとなる面には、下記の方法により粗
化面を形成した。
(2) Next, a plate-shaped body made of high silicate glass having a width larger than that of the groove forming member and the same depth as the groove forming member is prepared. )
The groove forming member with a thermosetting adhesive (epoxy adhesive:
By fixing using RP621-1E manufactured by Able Stick Co., Ltd., a lid having a groove was produced (see FIG. 5 (d)). A roughened surface was formed on the surface of the holding member to which the groove forming member was fixed by the following method.

【0242】すなわち、まず、溝形成部材を固定するこ
ととなる面に、片面砂目研磨(♯1000)を施し、そ
の後、この蓋部をHF:HO=1:20、温度45℃
のHF水溶液に、30分間浸漬することにより粗化面を
形成した。
That is, first, the surface on which the groove forming member is to be fixed is grinded on one side (# 1000), and then the lid is HF: H 2 O = 1: 20 at a temperature of 45 ° C.
The roughened surface was formed by immersing in the HF aqueous solution for 30 minutes.

【0243】この工程で形成した粗化面の表面粗さは、
JIS B 0601に基づく平均粗さRaが400n
mであった。
The surface roughness of the roughened surface formed in this step is
Average roughness Ra based on JIS B 0601 is 400n
It was m.

【0244】C.光ファイバアレイの作製 (1)高ケイ酸ガラスからなる板状の基板を準備した。 (2)次に、上記Aで作製した光ファイバリボンの光フ
ァイバの露出した部分を、蓋部のV溝に収納し、このV
溝形成面が、上記基板と対向するように、光ファイバを
収納した蓋部と基板とを配置し、さらに、溝と光ファイ
バとの間隙、および、蓋部(光ファイバ)と基板との間
隙に、未硬化の接着剤(ダイキン工業社製、UV−30
00)を流し込んだ。また、被覆樹脂層保持部に載置し
た被覆樹脂層の周囲にも上記未硬化の接着剤(UV−3
000)を塗布した。
C. Fabrication of optical fiber array (1) A plate-shaped substrate made of high silicate glass was prepared. (2) Next, the exposed portion of the optical fiber of the optical fiber ribbon produced in the above A is stored in the V groove of the lid,
The lid portion containing the optical fiber and the substrate are arranged such that the groove forming surface faces the substrate, and further, the gap between the groove and the optical fiber and the gap between the lid portion (optical fiber) and the substrate. Uncured adhesive (made by Daikin Industries, Ltd., UV-30
00) was poured. Further, the uncured adhesive (UV-3) is also applied to the periphery of the coating resin layer placed on the coating resin layer holder.
000) was applied.

【0245】次に、高圧水銀ランプを用いて、10J/
cmの紫外線を基板を介して照射し、その後、60℃
で1時間加熱することにより、接着剤を完全に硬化さ
せ、蓋部を固定した。また、ここでは、被覆樹脂層の周
囲の未硬化の接着剤にも紫外線を照射し、被覆樹脂層を
基板の一部に固定した。
Next, using a high pressure mercury lamp, 10 J /
Irradiate with cm 2 of ultraviolet rays through the substrate, then 60 ° C.
The adhesive was completely hardened by heating for 1 hour at, and the lid was fixed. Further, here, the uncured adhesive around the coating resin layer was also irradiated with ultraviolet rays to fix the coating resin layer to a part of the substrate.

【0246】(3)次に、光ファイバリボンの一端部の
基板に収納しなかった被覆樹脂層と、この被覆樹脂層に
覆われた光ファイバとをダイヤモンドカッターにより切
断除去し、さらに、光ファイバの端面と、基板および蓋
部の端面とが揃うように研磨処理を施し、光ファイバア
レイを製造した(図5参照)。
(3) Next, the coating resin layer not housed in the substrate at one end of the optical fiber ribbon and the optical fiber covered with this coating resin layer are cut and removed by a diamond cutter, and the optical fiber is further cut. An optical fiber array was manufactured by performing a polishing treatment so that the end face of the substrate and the end faces of the substrate and the lid were aligned with each other (see FIG. 5).

【0247】(実施例9)実施例7のCの(1)工程
で、溝形成部材を作製する際に、実施例1のCの(7)
の工程に準じたマスクの除去を行わなかった以外は、実
施例7と同様にして光ファイバアレイを製造した。な
お、本実施例に係る溝形成部材では、溝の壁面{(11
1)面}にのみ、平均粗さRaが20nmの粗化面が形
成されており、溝形成部材の上面の溝非形成部分、溝形
成部材の底面(後工程で保持部材と接することとなる部
分)および溝形成部材の側面は、Siからなる平
滑な面であった。
(Embodiment 9) When manufacturing the groove forming member in the step (1) of C of the embodiment 7, (7) of C of the embodiment 1 is performed.
An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 7 except that the mask was not removed according to the process of 1. In the groove forming member according to the present embodiment, the wall surface of the groove {(11
1) surface only, a roughened surface having an average roughness Ra of 20 nm is formed, and the groove-unformed portion of the upper surface of the groove forming member and the bottom surface of the groove forming member (will come into contact with the holding member in a later step). The portion) and the side surface of the groove forming member were smooth surfaces made of Si 3 N 4 .

【0248】(実施例10)実施例7のCの(1)工程
で、溝形成部材を作製する際に、実施例1のCの(7)
の工程に準じたマスクの除去をSiからなるマス
クについてのみ行い、SiOからなるマスクの除去は
行わなかった以外は、実施例7と同様にして光ファイバ
アレイを製造した。なお、本実施例に係る溝形成部材で
は、溝の壁面{(111)面}にのみ、平均粗さRaが
20nmの粗化面が形成されており、溝形成部材の上面
の溝非形成部分、溝形成部材の底面(後工程で保持部材
と接することとなる部分)および溝形成部材の側面は、
SiOからなる平滑な面であった。
(Embodiment 10) In the step (1) of C of the embodiment 7, when the groove forming member is manufactured, (7) of the embodiment C is used.
An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 7 except that the mask removal according to the process of 1) was performed only on the mask made of Si 3 N 4 and the mask made of SiO 2 was not removed. In the groove forming member according to the present example, the roughened surface having the average roughness Ra of 20 nm is formed only on the wall surface {(111) surface} of the groove, and the groove non-forming portion of the upper surface of the groove forming member is formed. , The bottom surface of the groove forming member (the portion that will come into contact with the holding member in a later step) and the side surface of the groove forming member are
It was a smooth surface made of SiO 2 .

【0249】実施例1〜10で得た光ファイバアレイに
ついて、130℃で3分間、および、−65℃で3分間
保持するサイクルを1サイクルとし、このサイクルを1
000サイクル繰り返す信頼性試験(ヒートサイクル試
験)を施し、その後、光ファイバを切断するように、光
ファイバの軸方向と垂直な方向に光ファイバアレイを切
断し、その断面を観察した。その結果、実施例1〜10
の光ファイバアレイでは、蓋部と接着層との間に確実に
接着剤が形成されており、また、接着層にもクラックは
発生していなかった。さらに、基板と接着層との間でも
剥離の発生は観察されなかった。
With respect to the optical fiber arrays obtained in Examples 1 to 10, a cycle of holding at 130 ° C. for 3 minutes and at −65 ° C. for 3 minutes was defined as 1 cycle, and this cycle was set to 1 cycle.
A reliability test (heat cycle test) was repeated for 000 cycles, and then the optical fiber array was cut in a direction perpendicular to the axial direction of the optical fiber, and the cross section thereof was observed. As a result, Examples 1 to 10
In the optical fiber array of No. 3, the adhesive was reliably formed between the lid portion and the adhesive layer, and no crack was generated in the adhesive layer. Further, no peeling was observed between the substrate and the adhesive layer.

【0250】また、実施例1〜10の光ファイバアレイ
について、結合損失を測定したところ、その結合損失は
1.0dB以下であり、製品として要求される品質を充
分に満足していた。なお、上記結損失は、光ファイバア
レイのターゲットマークと受光装置のターゲットマーク
とで両者の位置合わせを行いながら、光ファイバアレイ
を受光装置に接続し、その後、この受光装置により結合
損失を測定した。なお、結合損失は、各3回ずつ測定
し、その平均値として算出した。
When the coupling loss of the optical fiber arrays of Examples 1 to 10 was measured, the coupling loss was 1.0 dB or less, and the quality required as a product was sufficiently satisfied. Incidentally, the above-mentioned coupling loss was measured by measuring the coupling loss by connecting the optical fiber array to the light receiving device while aligning the target mark of the optical fiber array and the target mark of the light receiving device, and then aligning them. . The binding loss was measured 3 times each and calculated as an average value.

【0251】また、光ファイバのX−Y方向の位置ズレ
量は、1.0mm以下であり、製品として要求される品
質を充分に満足していた。なお、上記X−Y方向の位置
ズレ量Rは、下記計算式(3)より算出した。
Further, the amount of positional deviation of the optical fiber in the XY directions was 1.0 mm or less, which sufficiently satisfied the quality required as a product. The positional deviation amount R in the XY directions was calculated by the following calculation formula (3).

【0252】R=√(x+y)・・・(3)R = √ (x 2 + y 2 ) ... (3)

【0253】(式中、xは、X軸方向(基板上面に平
行、かつ、溝に垂直な方向)の設計からのズレ、yは、
Y軸方向(基板の上面に垂直な方向)の設計からのズレ
を表す。)
(Where x is a deviation from the design in the X-axis direction (direction parallel to the upper surface of the substrate and perpendicular to the groove), and y is
The deviation from the design in the Y-axis direction (direction perpendicular to the upper surface of the substrate) is shown. )

【0254】また、蓋部の紫外線の透過率(%)を任意
の大きさに変えた以外は、実施例1と同様にして光ファ
イバアレイを製造し、そのデータから光ファイバの位置
ズレ量と、結合損失とをシミュレートした。結果を表
1、2に示した。なお、透過率(%)、光ファイバの位
置ズレ量および結合損失は、上述した方法と同様の方法
で算出した。
Further, an optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet ray transmittance (%) of the lid portion was changed to an arbitrary size, and the data was used to determine the positional deviation amount of the optical fiber. , Coupling loss and simulated. The results are shown in Tables 1 and 2. The transmittance (%), the amount of positional deviation of the optical fiber, and the coupling loss were calculated by the same method as described above.

【0255】[0255]

【表1】 [Table 1]

【0256】[0256]

【表2】 [Table 2]

【0257】表1、2に示した結果から明らかなよう
に、蓋部の紫外線の透過率が65パーセント未満の光フ
ァイバアレイでは、光ファイバの位置ズレ量が1.0m
mを超えているのに対し、上記透過率が65%以上のも
のでは、光ファイバの位置ズレ量は、すべて1mm以下
である。また、蓋部の紫外線の透過率が65パーセント
未満の光ファイバアレイでは、接合損失が0.5dB以
下のものはなく、1.0dBを超えるものも存在してい
るのに対し、上記透過率が65%以上のものでは、結合
損失は、1.0dB以下である。さらに、上記透過率が
70%以上のものでは、結合損失が0.5dB以下のも
のも多数存在することが分かる。
As is clear from the results shown in Tables 1 and 2, in the optical fiber array in which the ultraviolet ray transmittance of the lid is less than 65%, the positional deviation amount of the optical fiber is 1.0 m.
On the other hand, when the transmittance is 65% or more, the positional deviation amount of the optical fiber is 1 mm or less. Further, in an optical fiber array in which the transmittance of ultraviolet rays of the lid is less than 65%, there is no one having a splice loss of 0.5 dB or less, and there is one having a splice loss of more than 1.0 dB. Above 65%, the coupling loss is less than 1.0 dB. Further, it can be seen that there are many coupling losses of 0.5 dB or less when the transmittance is 70% or more.

【0258】なお、本発明の光ファイバアレイにおいて
は、蓋部の位置ズレ量は、小さければ小さいほど望まし
いが、1.0mm以内であれば許容範囲内であり、製品
として得に問題はない。また、本発明の光ファイバアレ
イにおいては、結合損失もまた、小さければ小さいほど
望ましいが、1.0dB以内であれば許容範囲内であ
り、製品として得に問題はない。上記結合損失が1.0
dBを超えると光信号の伝送に問題が生じやすくなる。
本発明の光ファイバアレイは、位置ズレ量および結合損
失が上記範囲内にあれば、基板と接着剤層との剥離、蓋
部や光ファイバの位置ズレがより起きにくく、様々な応
力が発生しても、該応力をより緩和することができるも
のである。
In the optical fiber array of the present invention, the smaller the positional deviation of the lid is, the more preferable it is. However, if the positional deviation is within 1.0 mm, it is within the allowable range, and there is no problem as a product. Further, in the optical fiber array of the present invention, the smaller the coupling loss is, the more preferable it is. The above coupling loss is 1.0
If it exceeds dB, a problem easily occurs in the transmission of the optical signal.
In the optical fiber array of the present invention, when the positional deviation amount and the coupling loss are within the above ranges, the peeling of the substrate and the adhesive layer, the positional deviation of the lid and the optical fiber are less likely to occur, and various stresses are generated. However, the stress can be alleviated further.

【0259】また、シリコン基板上にフッ化ポリイミド
で光導波路を形成した光モジュールの片側に光ファイバ
アレイを1本、反対側に光ファイバアレイを8本、位置
合わせをした後、紫外線硬化型接着剤で固定、接続する
ことにより、1×8のスターカプラー(光分岐結合器)
を製造した。ここで、上記光モジュールに接続する光フ
ァイバアレイとして、実施例7〜10で製造した光ファ
イバアレイのうちのいずれかを1種を用いて、上記スタ
ーカプラーを製造した。具体的には、光モジュールと光
ファイバアレイとを接合装置に取りつけ、光を入射しつ
つ、光ファイバの位置をズラしながら両端の光のピーク
が最大になるように位置合わせを行い、その後、未硬化
の紫外線硬化型接着剤を塗布し、さらに、光を上下の様
々な方向から照射することにより未硬化の紫外線硬化型
接着剤の硬化を行った。このように、本発明の光ファイ
バアレイと光導波路が形成された光モジュールとを用い
て光カップラーを製造した場合、該光ファイバアレイと
光モジュールとは、紫外線硬化型接着剤を介して確実に
接続されていた。
In addition, after aligning one optical fiber array on one side and eight optical fiber arrays on the opposite side of the optical module in which the optical waveguide is formed on the silicon substrate with fluorinated polyimide, ultraviolet curing adhesive is used. 1 × 8 star coupler (optical branch coupler) by fixing and connecting with agent
Was manufactured. Here, the star coupler was manufactured by using one of the optical fiber arrays manufactured in Examples 7 to 10 as the optical fiber array connected to the optical module. Specifically, the optical module and the optical fiber array are attached to a joining device, and while the light is incident, the positions of the optical fibers are shifted, and the alignment is performed so that the peaks of the light at both ends are maximized. The uncured UV-curable adhesive was applied, and the uncured UV-curable adhesive was cured by irradiating light from various directions in the upper and lower directions. In this way, when an optical coupler is manufactured using the optical fiber array of the present invention and the optical module on which the optical waveguide is formed, the optical fiber array and the optical module are securely connected via the ultraviolet curable adhesive. It was connected.

【0260】[0260]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ファイ
バアレイは、上述した構成からなるため、基板と蓋部と
は接着層を介して確実に固定されており、基板や蓋部と
接着層との間で剥離が発生したり、光ファイバの位置ズ
レが発生したりすることがなく、本発明の光ファイバア
レイでは、正確に光信号を伝送することができる。
As described above, since the optical fiber array of the present invention has the above-mentioned structure, the substrate and the lid are securely fixed via the adhesive layer, and the substrate and the lid are bonded. In the optical fiber array of the present invention, an optical signal can be accurately transmitted without causing peeling between layers and displacement of the optical fiber.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は、本発明の光ファイバアレイの一例を
模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)のA
−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイバア
レイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)は、
(a)の光ファイバアレイを構成する光ファイバアレイ
が収納された基板を示す部分斜視図である。
FIG. 1A is a partial perspective view schematically showing an example of an optical fiber array of the present invention, and FIG. 1B is a part A of FIG.
FIG. (C) is a perspective view showing a lid part constituting the optical fiber array of (a), and (d) is
It is a partial perspective view which shows the board | substrate which accommodated the optical fiber array which comprises the optical fiber array of (a).

【図2】(a)は、本発明の光ファイバアレイの別の一
例を模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)
のA−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイ
バアレイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)
は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板を示す斜
視図である。
FIG. 2 (a) is a partial perspective view schematically showing another example of the optical fiber array of the present invention, and FIG. 2 (b) is (a).
FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. (C) is a perspective view showing a lid portion constituting the optical fiber array of (a), and (d).
[Fig. 3] is a perspective view showing a substrate forming the optical fiber array of (a).

【図3】(a)は、本発明の光ファイバアレイの別の一
例を模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)
のA−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイ
バアレイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)
は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板を示す斜
視図である。
FIG. 3 (a) is a partial perspective view schematically showing another example of the optical fiber array of the present invention, and FIG. 3 (b) is (a).
FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. (C) is a perspective view showing a lid portion constituting the optical fiber array of (a), and (d).
[Fig. 3] is a perspective view showing a substrate forming the optical fiber array of (a).

【図4】(a)は、本発明の光ファイバアレイの別の一
例を模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)
のA−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイ
バアレイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)
は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板を示す斜
視図である。
FIG. 4 (a) is a partial perspective view schematically showing another example of the optical fiber array of the present invention, and FIG. 4 (b) is (a).
FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. (C) is a perspective view showing a lid portion constituting the optical fiber array of (a), and (d).
[Fig. 3] is a perspective view showing a substrate forming the optical fiber array of (a).

【図5】(a)は、本発明の光ファイバアレイの別の一
例を模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)
のA−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイ
バアレイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)
は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板を示す斜
視図である。
FIG. 5 (a) is a partial perspective view schematically showing another example of the optical fiber array of the present invention, and FIG. 5 (b) is (a).
FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. (C) is a perspective view showing a lid portion constituting the optical fiber array of (a), and (d).
[Fig. 3] is a perspective view showing a substrate forming the optical fiber array of (a).

【図6】(a)は、本発明の光ファイバアレイの別の一
例を模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)
のA−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイ
バアレイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)
は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板を示す斜
視図である。
FIG. 6 (a) is a partial perspective view schematically showing another example of the optical fiber array of the present invention, and FIG. 6 (b) is (a).
FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. (C) is a perspective view showing a lid portion constituting the optical fiber array of (a), and (d).
[Fig. 3] is a perspective view showing a substrate forming the optical fiber array of (a).

【図7】(a)は、本発明の光ファイバアレイの別の一
例を模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)
のA−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイ
バアレイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)
は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板を示す斜
視図である。
7 (a) is a partial perspective view schematically showing another example of the optical fiber array of the present invention, and FIG. 7 (b) is (a).
FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. (C) is a perspective view showing a lid portion constituting the optical fiber array of (a), and (d).
[Fig. 3] is a perspective view showing a substrate forming the optical fiber array of (a).

【図8】(a)は、本発明の光ファイバアレイの別の一
例を模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)
のA−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイ
バアレイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)
は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板を示す斜
視図である。
FIG. 8 (a) is a partial perspective view schematically showing another example of the optical fiber array of the present invention, and FIG. 8 (b) is (a).
FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. (C) is a perspective view showing a lid portion constituting the optical fiber array of (a), and (d).
[Fig. 3] is a perspective view showing a substrate forming the optical fiber array of (a).

【図9】(a)は、本発明の光ファイバアレイの別の一
例を模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)
のA−A線断面図である。(c)は、(a)の光ファイ
バアレイを構成する蓋部を示す斜視図であり、(d)
は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板を示す斜
視図である。
9 (a) is a partial perspective view schematically showing another example of the optical fiber array of the present invention, and FIG. 9 (b) is (a).
FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. (C) is a perspective view showing a lid portion constituting the optical fiber array of (a), and (d).
[Fig. 3] is a perspective view showing a substrate forming the optical fiber array of (a).

【図10】JIS B 0601に基づく凹凸の平均間
隔Sm、局部山頂の平均間隔S、および、平均粗さRa
を説明するための参考図である。
FIG. 10: Average spacing Sm of irregularities based on JIS B 0601, average spacing S of local peaks, and average roughness Ra
It is a reference diagram for explaining.

【図11】(a)は、蓋部が形成された本発明の光ファ
イバアレイの一例を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)の光ファイバアレイを構成する基板と
積層光ファイバリボンとのみを示す部分斜視図であり、
(c)は、(a)のA−A線断面図である。
FIG. 11A is a partial perspective view schematically showing an example of the optical fiber array of the present invention in which a lid is formed,
(B) is a partial perspective view showing only a substrate and a laminated optical fiber ribbon which constitute the optical fiber array of (a),
(C) is the sectional view on the AA line of (a).

【図12】(a)〜(g)は、基板に溝を形成する方法
の一例を示す断面図である。
12A to 12G are cross-sectional views showing an example of a method for forming a groove on a substrate.

【図13】積層光ファイバリボンの一実施形態を模式的
に示す部分斜視図である。
FIG. 13 is a partial perspective view schematically showing an embodiment of a laminated optical fiber ribbon.

【図14】(a)、(b)は、本発明の光ファイバアレ
イの製造工程の一部を模式的に示す斜視図である。
14 (a) and 14 (b) are perspective views schematically showing a part of the manufacturing process of the optical fiber array of the present invention.

【図15】(a)、(b)は、本発明の光ファイバアレ
イの製造工程の一部を模式的に示す斜視図である。
15A and 15B are perspective views schematically showing a part of the manufacturing process of the optical fiber array of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

110 光ファイバリボン 115、235、245 光ファイバ 151、251 基板 157、257 溝 160、170 蓋部 100、200 光ファイバアレイ 210 積層光ファイバリボン 110 optical fiber ribbon 115, 235, 245 optical fiber 151,251 substrate 157,257 groove 160, 170 lid 100,200 Fiber Optic Array 210 laminated optical fiber ribbon

フロントページの続き (72)発明者 長屋 邦男 岐阜県揖斐郡揖斐川町北方1−1 イビデ ン株式会社大垣北工場内 (72)発明者 山田 和仁 岐阜県揖斐郡揖斐川町北方1−1 イビデ ン株式会社大垣北工場内 Fターム(参考) 2H036 JA04 KA02 QA17 QA20 QA23 QA24 Continued front page    (72) Inventor Kunio Nagaya             1-1 Ibide, Northern Ibigawa-cho, Ibi-gun, Gifu Prefecture             Ogaki Kita Factory (72) Inventor Kazuhito Yamada             1-1 Ibide, Northern Ibigawa-cho, Ibi-gun, Gifu Prefecture             Ogaki Kita Factory F term (reference) 2H036 JA04 KA02 QA17 QA20 QA23                       QA24

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 接着層を介して固定された基板と蓋部と
からなり、前記基板または前記蓋部の表面の一部に複数
の溝が形成され、前記溝に光ファイバが収納された光フ
ァイバアレイであって、前記基板および/または前記蓋
部の全部または一部の領域における、主面に垂直な方向
の紫外線の透過率が65〜100%であることを特徴と
する光ファイバアレイ。
1. An optical device comprising a substrate and a lid portion fixed via an adhesive layer, wherein a plurality of grooves are formed on a part of the surface of the substrate or the lid portion, and an optical fiber is housed in the groove. An optical fiber array, wherein the transmittance of ultraviolet rays in a direction perpendicular to the main surface is 65 to 100% in all or a part of the area of the substrate and / or the lid.
【請求項2】 前記基板の表面に複数の溝が形成され、
前記基板は、エッチングにより所望の形状の溝を形成す
ることができる部材を含んで構成されている請求項1に
記載の光ファイバアレイ。
2. A plurality of grooves are formed on the surface of the substrate,
The optical fiber array according to claim 1, wherein the substrate includes a member capable of forming a groove having a desired shape by etching.
【請求項3】 前記蓋部の表面に複数の溝が形成され、
前記蓋部は、エッチングにより所望の形状の溝を形成す
ることができる部材を含んで構成されている請求項1に
記載の光ファイバアレイ。
3. A plurality of grooves are formed on the surface of the lid portion,
The optical fiber array according to claim 1, wherein the lid portion includes a member capable of forming a groove having a desired shape by etching.
【請求項4】 前記紫外線の透過率は、波長360nm
光の長さ1mmあたりの透過率である請求項1〜3のい
ずれか1に記載の光ファイバアレイ。
4. The ultraviolet transmittance has a wavelength of 360 nm.
The optical fiber array according to any one of claims 1 to 3, which has a transmittance per 1 mm of light length.
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