JP2007041122A - Method of manufacturing polymer optical waveguide, polymer optical waveguide, and optical module using the same - Google Patents
Method of manufacturing polymer optical waveguide, polymer optical waveguide, and optical module using the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007041122A JP2007041122A JP2005222774A JP2005222774A JP2007041122A JP 2007041122 A JP2007041122 A JP 2007041122A JP 2005222774 A JP2005222774 A JP 2005222774A JP 2005222774 A JP2005222774 A JP 2005222774A JP 2007041122 A JP2007041122 A JP 2007041122A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- optical waveguide
- substrate
- polymer optical
- sacrificial layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、ポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路に係り、特に、コア層内を伝搬する光信号を曲げて伝搬させるポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路、並びにそれを用いた光モジュールに関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a polymer optical waveguide and a polymer optical waveguide, and more particularly to a method for manufacturing a polymer optical waveguide for bending and propagating an optical signal propagating in a core layer, a polymer optical waveguide, and an optical module using the same. It is about.
近年、ポリマ光導波路の光インターコネクションへの適用が図られている。光インターコネクションでは、光路を急峻に(例えば基板に対して垂直方向に)曲げる光路変換機能を有するポリマ光導波路を形成し、そのポリマ光導波路の表面に光源や検出器等の光部品を実装した光モジュールが用いられている。 In recent years, application of polymer optical waveguides to optical interconnection has been attempted. In optical interconnection, a polymer optical waveguide having an optical path conversion function that bends the optical path sharply (for example, in a direction perpendicular to the substrate) is formed, and optical components such as a light source and a detector are mounted on the surface of the polymer optical waveguide. An optical module is used.
一般に、ポリマ光導波路を作製する方法としては、ドライエッチングを用いる方法、パターン露光及び現像を用いる方法、金型を用いる方法がある。 In general, methods for producing a polymer optical waveguide include a method using dry etching, a method using pattern exposure and development, and a method using a mold.
光路を曲げるための光路変換部としては、コアをダイシングソーで切断し、その切断面を光反射面に形成する方法がある。 As an optical path conversion unit for bending an optical path, there is a method of cutting a core with a dicing saw and forming the cut surface on a light reflecting surface.
また、凹型の金型で反射面を有するコアを形成した後、そのコアをクラッドに転写し、最後にコアの周囲にオーバクラッドを設ける方法がある(例えば、特許文献1参照)。 Further, there is a method in which after forming a core having a reflective surface with a concave mold, the core is transferred to a clad, and finally an over clad is provided around the core (see, for example, Patent Document 1).
他に、基板に凹部を形成し、その基板上にポリマ材料(コア材)を塗布してコアを形成し、基板上の凹部以外のコア材を除去した後、基板上全面にクラッドを設け、コア及びクラッドを別の基板に重ね合わせて転写する方法がある(例えば、特許文献2参照)。 In addition, a recess is formed on the substrate, a polymer material (core material) is applied on the substrate to form a core, and after removing the core material other than the recess on the substrate, a clad is provided on the entire surface of the substrate, There is a method in which the core and the clad are transferred onto another substrate (see, for example, Patent Document 2).
反射面としてコアの端面に金属ミラーを設けたポリマ光導波路の製造方法として、クラッドを平坦に形成し、そのクラッド上にミラーとなる金属層を形成し、その金属層を斜面を有するようにエッチングして金属ミラーを形成する方法がある(例えば、特許文献3参照)。 As a method of manufacturing a polymer optical waveguide in which a metal mirror is provided on the end face of the core as a reflection surface, a clad is formed flat, a metal layer to be a mirror is formed on the clad, and the metal layer is etched to have a slope. Thus, there is a method of forming a metal mirror (see, for example, Patent Document 3).
しかしながら、従来の光路変換部を備えたポリマ光導波路の製造方法には、以下の問題点がある。 However, the conventional method for manufacturing a polymer optical waveguide provided with an optical path changing part has the following problems.
(1)ダイシングソーを用いてコアを切断し、その切断面を反射面に形成する製造方法では、光導波路内の所望のコアのみを切断することは困難であり、コア以外の部分(基板等)を掘削或いは切断してしまい、光導波路の強度や特性に悪影響を及す可能性がある。 (1) In a manufacturing method in which a core is cut using a dicing saw and the cut surface is formed as a reflecting surface, it is difficult to cut only a desired core in the optical waveguide. ) May be excavated or cut, and the strength and characteristics of the optical waveguide may be adversely affected.
(2)反射面を有するコアを別途形成し、そのコアを基板やクラッド上に設ける製造方法では、製造工程数が多く、製造時間が掛かってしまう。ひいては、高コスト化となる要因にもなる。 (2) In a manufacturing method in which a core having a reflective surface is separately formed and the core is provided on a substrate or a clad, the number of manufacturing steps is large and manufacturing time is required. As a result, it becomes a factor that increases the cost.
また、コアを伝搬する光を基板と反対方向に曲げる光回路を形成するために、反射面を有するコアを型を用いて形成し、そのコアを基板上に貼り付けて製造する方法では、コアを基板上に接着層を介して設けるため、接着層の存在が、コアを伝搬する光に影響を及ぼし、損失等の光特性が悪化してしまう。 Further, in order to form an optical circuit that bends light propagating through the core in the direction opposite to the substrate, the core having a reflective surface is formed using a mold, and the core is attached to the substrate for manufacturing. Is provided on the substrate via the adhesive layer, the presence of the adhesive layer affects the light propagating through the core, and optical characteristics such as loss are deteriorated.
(3)また、反射面としてコアの端面に金属ミラーを設けたポリマ光導波路では、金属層を形成した後、その金属層をエッチングして反射面を形成するが、この方法では、金属層を厚く形成しなければならず、金属層の積層やエッチングに時間が掛かってしまう。 (3) In a polymer optical waveguide in which a metal mirror is provided on the end face of the core as a reflection surface, a metal layer is formed and then the metal layer is etched to form a reflection surface. It must be formed thick, and it takes time to stack and etch the metal layer.
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、コア内を伝搬する光を基板反対方向に曲げるポリマ光導波路を容易に短時間で作製できるポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路、並びに光モジュールを提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a polymer optical waveguide manufacturing method, a polymer optical waveguide, and an optical waveguide capable of easily and quickly producing a polymer optical waveguide that bends light propagating in the core in the direction opposite to the substrate. To provide a module.
上記目的を達成するために、請求項1の発明は、基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、上記基板上に、上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコア材を形成し、そのコア材をパターニングしてコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成するポリマ光導波路の製造方法である。
In order to achieve the above object, the invention of
請求項2の発明は、基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、
上記基板上に上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、コアの形状を有する型を載置し、その型にコア材を注入して上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法である。
The invention of
A sacrificial layer having an inclined surface for forming a reflective surface of the core is formed on the substrate, a mold having a core shape is placed, and a core material is injected into the mold to at least sacrifice the substrate. A core is formed on a portion including an inclined surface of the layer, the sacrificial layer is removed, one end surface of the core is formed on a reflective surface, and an overcladding covering the core including the core is formed on the substrate. It is a manufacturing method of a polymer optical waveguide.
請求項3の発明は、上記コアの反射面近傍のオーバクラッドを除去して出射窓を形成した請求項1または2記載のポリマ光導波路の製造方法である。 According to a third aspect of the present invention, there is provided the method for producing a polymer optical waveguide according to the first or second aspect, wherein the exit window is formed by removing the over clad in the vicinity of the reflection surface of the core.
請求項4の発明は、上記犠牲層の傾斜面と、犠牲層の基板側の面との角度が略45°となるように犠牲層を形成した請求項1〜3いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the polymer light guide according to any one of the first to third aspects, wherein the sacrificial layer is formed so that an angle between the inclined surface of the sacrificial layer and the surface of the sacrificial layer on the substrate side is approximately 45 °. It is a manufacturing method of a waveguide.
請求項5の発明は、上記コア材に紫外線硬化樹脂を用い、基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分に紫外線硬化樹脂の層を形成した後、紫外線硬化樹脂の層に紫外線を照射して上記コアを形成すると共に、コア以外の部分を現像液により除去する請求項1,3,4いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。
In the invention of claim 5, an ultraviolet curable resin is used for the core material, and an ultraviolet curable resin layer is formed on a portion including at least the inclined surface of the sacrificial layer on the substrate, and then the ultraviolet curable resin layer is irradiated with ultraviolet rays. 5. The method for producing a polymer optical waveguide according to
請求項6の発明は、上記犠牲層を上記現像液に可溶な材料で形成し、上記現像液によりコアとなる部分以外の紫外線硬化樹脂の層を除去する際に、その現像液で上記犠牲層も同時に除去する請求項5記載のポリマ光導波路の製造方法である。 According to a sixth aspect of the present invention, the sacrificial layer is formed of a material soluble in the developer, and when the UV curable resin layer other than the core is removed by the developer, the sacrificial layer is used with the developer. 6. The method for producing a polymer optical waveguide according to claim 5, wherein the layer is also removed at the same time.
請求項7の発明は、上記犠牲層が、熱可塑性樹脂を材料とし、型材を用いて形成される請求項1〜6いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。
The invention according to claim 7 is the method for producing a polymer optical waveguide according to any one of
請求項8の発明は、請求項1〜7のいずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法を用いて製造されたポリマ光導波路である。
The invention of claim 8 is a polymer optical waveguide manufactured using the method for manufacturing a polymer optical waveguide according to any one of
請求項9の発明は、請求項8記載のポリマ光導波路と、そのポリマ光導波路の反射面の上方に設けられた光源及び/又は光検出器とを備えた光モジュールである。 A ninth aspect of the present invention is an optical module comprising the polymer optical waveguide according to the eighth aspect and a light source and / or a photodetector provided above the reflection surface of the polymer optical waveguide.
本発明によれば、コア内を伝搬する光を基板反対方向に曲げるポリマ光導波路を容易に作製することができるといった優れた効果を発揮する。 According to the present invention, it is possible to easily produce a polymer optical waveguide that bends light propagating in the core in the direction opposite to the substrate.
以下、本発明の好適な一実施形態を添付図面に基づいて詳述する。 Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は本発明に係るポリマ光導波路の好適な実施の形態を示した断面図である。 FIG. 1 is a sectional view showing a preferred embodiment of a polymer optical waveguide according to the present invention.
本実施の形態のポリマ光導波路10は、基板11と、基板11上に設けられるアンダークラッド12と、アンダークラッド12上に設けられ断面が矩形状のコア13と、コア13を含めてアンダークラッド12を覆うように形成されるオーバクラッド14とを備える。コア13は、例えば、基板11の一辺から基板11の中央部に延びて形成されている。
The polymer
ポリマ光導波路10では、コア13の基板中央側の端面が反射面15に形成されている。反射面15は、基板11中央側の端部がオーバハング状に形成されている。すなわち、反射面15は、コアを伝搬した光を基板反対方向(図1中上側)に反射させる、或いはオーバクラッド14上方から入射される光をコア内に反射させる向きに形成されている。
In the polymer
さらに、コア13の反射面15近傍のオーバクラッド14には出射窓として溝16が形成されている。これにより、コア13の基板中央側の端面は空気に臨んでおり、コア11と空気領域との界面を反射面15としている。換言すれば、斜めに形成された端面の上側はコア領域であり、端面の下側が空気になっている。光反射面15は、コアの底面(アンダークラッド12側の面)に対して略135°(図1中、θ)の平面をなしている。
Furthermore, a
本実施の形態のポリマ光導波路10では、基板11上にアンダークラッド12を設け、アンダークラッド12上にコア13を設けたが、コア13よりも十分に屈折率の小さいポリマ材料で形成された基板11を用いた場合、アンダークラッド12は省略してもよい。
In the polymer
次に、ポリマ光導波路の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing a polymer optical waveguide will be described.
まず、図2(a)に示すように、基板11上に、アンダークラッド12をほぼ平坦に形成する。基板11としては、ガラス(石英)基板、シリコン基板、ポリイミド基板、フッ素化アクリル基板、フッ素化ポリイミド基板、或いはガラスエポキシ基板等が挙げられる。アンダークラッド12を形成する材料としては、アクリル、エポキシ、ポリイミド、フッ素化アクリル、或いはフッ素化ポリイミド等が挙げられる。
First, as shown in FIG. 2A, an underclad 12 is formed on a
図2(b)に示すように、アンダークラッド12上に犠牲層21を設ける。犠牲層21は、コア13に反射面15を形成するための型となる層であり、基板11の中央部で傾斜面22が形成されている。犠牲層21は、図1の光反射面15下方の空気領域を補完する形状に、かつ、後に形成するコア13のコア幅以上の幅を有して形成される。傾斜面22は、犠牲層21の底面(アンダークラッド12側の面)に対して略45°の平面をなしている。
As shown in FIG. 2B, a
犠牲層21は熱可塑性で、かつ有機溶剤やアルカリ現像液に可溶な樹脂で形成される。具体的には、アクリル樹脂、ポリカーボネイト等が挙げられる。
The
本実施の形態では、犠牲層21は、アンダークラッド12上に型材を用いて形成する。具体的には、アンダークラッド12上に所望の形状を有する型材を接着固定させ、その型材に熱可塑性樹脂を注入した後、熱可塑性樹脂をアンダークラッド12上で固化させ、型を外して得られる。型材をアンダークラッド12上に接着固定させる際、型材のアンダークラッド12への位置合わせは顕微鏡等で見ながら行われる。
In the present embodiment, the
次に、アンダークラッド12及び傾斜面22上に、コア材として液体状の紫外線硬化樹脂(UV硬化型樹脂)をスピンコートで塗布する。樹脂を塗布して乾燥させた後、所望のコアのパターンに応じてコア材に紫外線を照射させる。コア材は、少なくとも傾斜面22上に塗布されればよいが、犠牲層21の上面にも塗布されてよい。
Next, a liquid ultraviolet curable resin (UV curable resin) as a core material is applied onto the
図2(c)に示すように、紫外線照射した後、コア材を含めた基板11を現像液に浸漬し、コア材の未硬化部分を現像液に溶解させる。これにより、コア材は所望のパターンを有するコア13に形成される。コア材がポジ型の紫外線硬化樹脂である場合、除去するコア材に紫外線を照射(露光)し、未照射箇所を硬化させる。コア材がネガ型の紫外線感光性樹脂である場合、パターンとして残すコア材に紫外線を照射し、照射箇所を硬化させる。いずれの紫外線硬化樹脂を用いても、硬化させた箇所がコア13となり、コア13以外のコア材を除去する。
As shown in FIG.2 (c), after irradiating with an ultraviolet-ray, the board |
ここで、本実施の形態では、コア材に紫外線を露光して硬化させ、コア材の未硬化部を現像液を用いて除去する直接露光法を用いて形成した。しかし、コアを形成する方法はこれに限らず、他に、コア材上にコア13のパターンを有するマスク(例えば、レジストマスクやメタルマスク)を形成し、RIE(反応性イオンエッチング)法を用いてコアをエッチング形成してもよい。他に、アンダークラッド12上に所望のコアパターンを有する金型を載置し、その金型内に樹脂を注入し、その樹脂を硬化させてコア13を形成してもよい。
Here, in this embodiment, the core material is formed by using a direct exposure method in which the core material is exposed to ultraviolet light and cured, and an uncured portion of the core material is removed using a developer. However, the method for forming the core is not limited to this, and a mask having a pattern of the core 13 (for example, a resist mask or a metal mask) is formed on the core material, and the RIE (reactive ion etching) method is used. The core may be formed by etching. Alternatively, the
図2(d)に示すように、犠牲層21を除去する。犠牲層21は、有機溶剤やアルカリ現像液等に浸漬して除去される。このとき、犠牲層21を熱可塑性樹脂で形成した場合、犠牲層21を含む基板11を温めて、犠牲層21を液体状にして除去してもよい。
As shown in FIG. 2D, the
本実施の形態では、コア材に紫外線を照射した後、コア材と犠牲層21とが共に可溶な現像液を用いて、コア材の未硬化部と犠牲層21を同時に除去した。詳細には、コア材にネガ型の熱硬化性樹脂を用いることで、コア材の紫外線が照射された部分が硬化する。ここで、コア材への紫外線照射により、犠牲層21の傾斜面22下側の部分にも紫外線が照射されるが、犠牲層21にはコア材を形成する樹脂と異なる、すなわち、紫外線照射により硬化しない(紫外線に反応しない)樹脂を用いている。したがって、コア材及び犠牲層21を含む基板11を現像液に浸漬すると、傾斜面22の下側の部分を含む全ての犠牲層21と、コア材の未硬化部分とが現像液に溶解し、コア13の端面をオーバハング状に形成することができる。
In the present embodiment, after irradiating the core material with ultraviolet rays, the uncured portion of the core material and the
図2(e)に示すように、コア13及びアンダークラッド12上に、コア13を覆うオーバクラッド14を設ける。オーバクラッド14を形成する材料は紫外線硬化樹脂が好ましい。
As shown in FIG. 2E, an over clad 14 that covers the
オーバクラッド14を形成した後、反射面15近傍のオーバクラッド14を除去する。具体的には、オーバクラッド14の上方に、反射面15近傍では紫外線を透過し、それ以外の箇所には紫外線を遮断するフォトマスク23を配置し、そのフォトマスク23を介してオーバクラッド14に紫外線UVを照射する。本実施の形態ではオーバクラッド14を形成する材料としてネガ型の紫外線硬化樹脂を用いており、オーバクラッド14の紫外線が露光された箇所が硬化部となる。
After the
図2(f)に示すように、紫外線を照射した後、オーバクラッド14を現像液に浸漬して未硬化部を除去し、溝16が形成される。オーバクラッド14の一部除去により形成された溝16内にコア13の端面が位置し、その端面が空気と接することで高反射率の反射面15が形成される。以上の工程により、ポリマ光導波路10が得られる。
As shown in FIG. 2 (f), after irradiating with ultraviolet rays, the
本実施の形態では、オーバクラッド14を紫外線硬化樹脂で形成し、溝16を上述した直接露光法により形成している。この直接露光法は、現像液でクラッドの未硬化部を除去するので、コア13の端面(反射面15)の下側にも十分に現像液が回りこみ、コア端面下側のオーバクラッド材を除去することができ、コア13の端面が空気層と接する反射面15を形成することができる。
In the present embodiment, the over clad 14 is formed of an ultraviolet curable resin, and the
さらに、図2(g)に示すように、オーバクラッド14上に光源(例えば、レーザダイオード(LD))25或いは光検出素子(例えば、フォトダイオード(PD))を設けて、ポリマ光導波路型の光モジュール24が得られる。光源25は、反射面15の直ぐ上方に位置するように、光源保持部材26で溝16上に保持される。光源保持部材26は半田バンプ27でオーバクラッド14上に接着されている。さらに、図3に示すように、光源25と反射面15との間に、光を集光するためのレンズ31を設けてもよい。
Further, as shown in FIG. 2G, a light source (for example, a laser diode (LD)) 25 or a light detection element (for example, a photodiode (PD)) is provided on the
本実施の形態のポリマ光導波路10の製造方法によれば、慣用のポリマ光導波路の製造工程に、犠牲層21を形成する工程と、コア13形成後、犠牲層21を除去する工程とを加えるだけで、コア13を伝搬した光を基板11と直角反対方向に曲げて伝送させる構造を有するポリマ光導波路を作製することができる。すなわち、慣用のポリマ光導波路の製造工程を利用して、大幅に変更することなく、コア13を伝搬した光を基板11と直角反対方向に曲げることのできるポリマ光導波路を容易に作製することができる。
According to the method of manufacturing the polymer
ここで、図1のポリマ光導波路10とは異なり、溝16を有しない光導波路、すなわち光反射面15に空気層が接しない光導波路では、コア13の端面に反射膜を設ける必要がある。しかしながら、反射膜としてコアの端面に金属膜(例えば、金)を設けることは難しい。なぜなら、コアの厚さ及び幅は数μmオーダであり、金属蒸着法を用いて、コアの端面だけに金属膜を蒸着することは困難なためである。
Here, unlike the polymer
したがって、本実施の形態では、コア13の基板11中央側の端面を空気に臨むように形成し、コア13の端面における反射率を高くした反射面としているので、ポリマ光導波路を短時間でかつ容易に作製することができる。
Therefore, in the present embodiment, the end surface of the core 13 on the center side of the
また、図2(d)において、アンダークラッド12上ではなく、別に所望のパターンの形状を有する金型を用い、その金型で形成したコアを、図2(d)のように、コアの尖りが上側(図2中基板11と反対側)となるようにアンダークラッドに貼付して形成することが考えられる。
Further, in FIG. 2D, a mold having a desired pattern shape is used separately from the
しかしながら、金型で形成したコアを基板上に貼付するには、コア13をアンダークラッドに接着する接着層が必要になる。接着層は、厚みを制御するのが難しく、厚さの不均一な接着層は、コアの光伝送特性に影響する。また、コア13は微細なパターンを有して形成されるものであり、コアをアンダークラッド上に貼付する際に破損させてしまう虞がある。さらに、接着層は、コアやクラッドを形成する紫外線硬化樹脂に比べて、一般的に収縮しやすいものであり、接着層の収縮によりポリマ光導波路にたわみが生じてしまう。
However, in order to affix the core formed of the mold on the substrate, an adhesive layer that adheres the core 13 to the under clad is required. It is difficult to control the thickness of the adhesive layer, and the adhesive layer having a non-uniform thickness affects the optical transmission characteristics of the core. In addition, the
したがって、本実施の形態のポリマ光導波路10の製造方法によれば、犠牲層21を形成した後、スピンコート等により、紫外線硬化樹脂をアンダークラッド12上に直接塗布してコア材を形成することで、撓み等がなく、良好な光伝送特性を有するポリマ光導波路を作製できる。
Therefore, according to the method of manufacturing the polymer
また、本実施の形態のポリマ光導波路の製造方法によって作製されるポリマ光導波路10は、コアを貼付る工程がない。したがって、微細なパターンを有するコアを貼り付けることにより生じる製作誤差を小さくすることができる。
In addition, the polymer
本実施の形態のポリマ光導波路10の製造方法では、コア材に紫外線を照射した後、コア材と犠牲層21とが共に可溶な現像液を用いて、コア材の未硬化部と犠牲層21を同時に除去したが、コア13のパターンを形成した後、犠牲層21を除去してもよい。
In the method of manufacturing the polymer
犠牲層21は、オーバクラッド14を形成した後に除去してもよい。その際、オーバクラッド14には、犠牲層21を形成していた熱可塑性樹脂を吐出させる流通路を形成するのが好ましい。
The
本実施の形態では、ポリマ光導波路10の反射面15を平面状に形成したが、曲面状に形成してもよい。例えば、反射面15の焦点を光源25とするようにコア13の端面を凸面状に形成すれば、反射面15に集光機能を持たせることができ、図3に示すレンズ31を設ける必要がない。
In the present embodiment, the
次に、本発明の実施の形態について、実施例に基づいて説明するが、本発明の実施の形態はこれらの実施例に限定されるものではない。 Next, embodiments of the present invention will be described based on examples, but the embodiments of the present invention are not limited to these examples.
(実施例1) ガラスエポキシ基板上にUV硬化型アクリル系材料(屈折率1.51)をスピンコートで塗布し、そのアクリル系材料に紫外線を照射して硬化させてアンダークラッドを形成した。次に、犠牲層を、アセトンに可溶の熱可塑性樹脂を用い、金型による方法で形成した。犠牲層を形成した後、コア材としてUV硬化型アクリル系材料(屈折率1.59)をスピンコート法で塗布し、そのコアのパターンを有するマスクを通してコア材にUVを照射し、コアを形成した。その後、現像液としてアセトンを用いてコア材の未硬化部及び犠牲層を同時に除去した。 Example 1 A UV curable acrylic material (refractive index of 1.51) was applied onto a glass epoxy substrate by spin coating, and the acrylic material was cured by irradiating with ultraviolet rays to form an underclad. Next, a sacrificial layer was formed by a mold method using a thermoplastic resin soluble in acetone. After the sacrificial layer was formed, a UV curable acrylic material (refractive index of 1.59) was applied as a core material by a spin coating method, and the core material was irradiated with UV through a mask having a pattern of the core to form a core. Thereafter, the uncured portion of the core material and the sacrificial layer were simultaneously removed using acetone as a developer.
次に、クラッド材をスピンコート法で塗布し、反射面近傍のオーバクラッドに溝が形成されるパターンを有するマスクを通してオーバクラッドに紫外線を照射してオーバクラッドを硬化させた。その後現像液としてアセトンを用いてオーバクラッド材の未露光部を除去して、ポリマ光導波路を得た。最後に、そのポリマ光導波路の反射面上方にLDを或いはPDを設けて、光モジュールを作製した。 Next, the clad material was applied by a spin coat method, and the over clad was cured by irradiating the over clad with ultraviolet rays through a mask having a pattern in which grooves were formed in the over clad near the reflecting surface. Thereafter, the unexposed portion of the overclad material was removed using acetone as a developer to obtain a polymer optical waveguide. Finally, an LD or PD was provided above the reflection surface of the polymer optical waveguide to produce an optical module.
(実施例2) アンダークラッドを形成する材料として屈折率1.44のUV硬化型アクリル系材料を用い、他は実施例1と同様にして光モジュールを作製した。 Example 2 An optical module was fabricated in the same manner as in Example 1 except that a UV curable acrylic material having a refractive index of 1.44 was used as a material for forming the underclad.
(実施例3) ガラスエポキシ基板上にUV硬化型アクリル系材料(屈折率1.51)をスピンコートで塗布し、そのアクリル系材料に紫外線を照射して硬化させてアンダークラッドを形成した。次に、犠牲層を、アセトンに可溶の熱可塑性樹脂を用い、金型による方法で形成した。犠牲層を形成した後、コアパターンを有する金型をアンダークラッド上に載置して、コアとなる紫外線硬化樹脂を金型内に注入し、その紫外線硬化樹脂を紫外線で硬化させてコアを形成した。 (Example 3) A UV curable acrylic material (refractive index of 1.51) was applied onto a glass epoxy substrate by spin coating, and the acrylic material was irradiated with ultraviolet rays and cured to form an underclad. Next, a sacrificial layer was formed by a mold method using a thermoplastic resin soluble in acetone. After forming the sacrificial layer, a mold having a core pattern is placed on the undercladding, an ultraviolet curable resin to be the core is injected into the mold, and the ultraviolet curable resin is cured with ultraviolet rays to form the core. did.
次に、オーバクラッドを形成した。オーバクラッドは、オーバクラッドに溝及び流通路が形成される金型を用いて形成した。その後、犠牲層をアセトンで除去し、オーバクラッド上にLD或いはPDを設けて光モジュールを作製した。 Next, an overcladding was formed. The overclad was formed using a mold in which grooves and flow passages were formed in the overclad. Thereafter, the sacrificial layer was removed with acetone, and an LD or PD was provided on the overcladding to produce an optical module.
10 ポリマ光導波路
11 基板
12 アンダークラッド
13 コア
14 オーバクラッド
15 反射面
21 犠牲層
22 傾斜面
UV 紫外線
DESCRIPTION OF
Claims (9)
上記基板上に、上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコア材を形成し、そのコア材をパターニングしてコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法。 On the substrate, a core, a reflective surface that reflects light propagating in the core in the opposite direction by forming one end surface of the core in an overhanging inclined surface, and an overcladding that covers the substrate including the core In a method for producing a polymer optical waveguide comprising:
A sacrificial layer having an inclined surface for forming a reflective surface of the core is formed on the substrate, a core material is formed on a portion including the inclined surface of at least the sacrificial layer on the substrate, and the core material is patterned. Forming a core, removing the sacrificial layer, forming one end surface of the core as a reflective surface, and forming an overcladding covering the core including the core on the substrate. .
上記基板上に上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、コアの形状を有する型を載置し、その型にコア材を注入して上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法。 On the substrate, a core, a reflective surface that reflects light propagating in the core in the opposite direction by forming one end surface of the core in an overhanging inclined surface, and an overcladding that covers the substrate including the core In a method for producing a polymer optical waveguide comprising:
A sacrificial layer having an inclined surface for forming a reflective surface of the core is formed on the substrate, a mold having a core shape is placed, and a core material is injected into the mold to at least sacrifice the substrate. A core is formed on a portion including an inclined surface of the layer, the sacrificial layer is removed, one end surface of the core is formed on a reflective surface, and an overcladding covering the core including the core is formed on the substrate. A method for producing a polymer optical waveguide.
An optical module comprising: the polymer optical waveguide according to claim 8; and a light source and / or a light detector provided above a reflection surface of the polymer optical waveguide.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005222774A JP2007041122A (en) | 2005-08-01 | 2005-08-01 | Method of manufacturing polymer optical waveguide, polymer optical waveguide, and optical module using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005222774A JP2007041122A (en) | 2005-08-01 | 2005-08-01 | Method of manufacturing polymer optical waveguide, polymer optical waveguide, and optical module using the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007041122A true JP2007041122A (en) | 2007-02-15 |
Family
ID=37799182
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005222774A Pending JP2007041122A (en) | 2005-08-01 | 2005-08-01 | Method of manufacturing polymer optical waveguide, polymer optical waveguide, and optical module using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007041122A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011037686A1 (en) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Intel Corporation | Optical modulator utilizing wafer bonding technology |
JP2012237778A (en) * | 2011-05-10 | 2012-12-06 | Adeka Corp | Method for manufacturing optical waveguide having optical path conversion function |
JP2021515279A (en) * | 2018-02-27 | 2021-06-17 | オプトスクライブ リミテッド | Optical equipment and its manufacturing method |
-
2005
- 2005-08-01 JP JP2005222774A patent/JP2007041122A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011037686A1 (en) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Intel Corporation | Optical modulator utilizing wafer bonding technology |
US8450186B2 (en) | 2009-09-25 | 2013-05-28 | Intel Corporation | Optical modulator utilizing wafer bonding technology |
JP2012237778A (en) * | 2011-05-10 | 2012-12-06 | Adeka Corp | Method for manufacturing optical waveguide having optical path conversion function |
JP2021515279A (en) * | 2018-02-27 | 2021-06-17 | オプトスクライブ リミテッド | Optical equipment and its manufacturing method |
JP7400741B2 (en) | 2018-02-27 | 2023-12-19 | インテル・コーポレーション | Optical device and its manufacturing method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4732356B2 (en) | Planar waveguide having patterned clad and manufacturing method thereof | |
US7050691B2 (en) | Optical waveguide and method of manufacturing the same | |
US7421858B2 (en) | Optical transmission substrate, method for manufacturing optical transmission substrate and optoelectronic integrated circuit | |
US8422836B2 (en) | Printed circuit board element and method for producing the same | |
JP2010078882A (en) | Polymer optical waveguide and method of manufacturing the same | |
JP2008139465A (en) | Method of manufacturing optoelectric hybrid board | |
JP2009198804A (en) | Optical module and optical waveguide | |
JP2007178852A (en) | Optical wiring board and optical module using the same | |
JP2008059001A (en) | Method for manufacturing optical waveguide | |
JP2008281624A (en) | Waveguide element for mounting optical fiber, and method for manufacturing the same | |
JP2007183468A (en) | Manufacturing method of optical waveguide with mirror | |
JP2007041122A (en) | Method of manufacturing polymer optical waveguide, polymer optical waveguide, and optical module using the same | |
JP2007183467A (en) | Optical waveguide with mirror and its manufacturing method | |
JP2007187871A (en) | Polymer optical waveguide and method for manufacturing same | |
JP2004125899A (en) | Optical waveguide with lens | |
JP2701326B2 (en) | Method for connecting optical waveguide and method for manufacturing optical waveguide connecting portion | |
JP2004258076A (en) | Optical fiber cable layer and its manufacturing method | |
JP2006065166A (en) | Processing method of optical fiber | |
JP2005106882A (en) | Optical device, optical waveguide member, core forming method, optical interconnection system and fiber distribution module | |
JP2006047526A (en) | Method for processing optical fiber | |
JP4984993B2 (en) | Manufacturing method of optical waveguide | |
JP3487218B2 (en) | Method for manufacturing optical module and optical waveguide | |
JP4458328B2 (en) | Optical waveguide manufacturing method | |
JP2005078022A (en) | Optical waveguide module and its manufacturing method | |
JP2000221347A (en) | Mirror structure and its production |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070914 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090819 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090825 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091023 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091222 |