JP2007041122A - Method of manufacturing polymer optical waveguide, polymer optical waveguide, and optical module using the same - Google Patents

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Hironori Yasuda
裕紀 安田
Mitsuki Hirano
光樹 平野
Tomiya Abe
富也 阿部
Yuzo Ito
雄三 伊藤
Takemasa Ushiwatari
剛真 牛渡
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily manufacture a polymer optical waveguide for bending a light beam transmitting through a core in a direction opposite to a substrate. <P>SOLUTION: In the method of manufacturing the polymer optical waveguide, which is provided with a core 13, a reflection surface 15 in which one end face of the core is formed into an overhanging slope to reflect a light beam transmitting through the core in the direction opposite to the substrate, and an over-clad 14 for covering the substrate including the core on a substrate 11, a sacrificial layer 21 having a slope 22 forming the reflection face 15 of the core 13 is formed on the substrate 11, a core material is formed in a part including at least the slope 22 of the sacrificial layer 21 on the substrate 11, the core 13 is formed by patterning the core material, the sacrificial layer 21 is removed to make one end face of the core 13 into the reflection surface 15, and the over-clad 14 covering the substrate 11 including the core 13 is formed on the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路に係り、特に、コア層内を伝搬する光信号を曲げて伝搬させるポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路、並びにそれを用いた光モジュールに関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a polymer optical waveguide and a polymer optical waveguide, and more particularly to a method for manufacturing a polymer optical waveguide for bending and propagating an optical signal propagating in a core layer, a polymer optical waveguide, and an optical module using the same. It is about.

近年、ポリマ光導波路の光インターコネクションへの適用が図られている。光インターコネクションでは、光路を急峻に(例えば基板に対して垂直方向に)曲げる光路変換機能を有するポリマ光導波路を形成し、そのポリマ光導波路の表面に光源や検出器等の光部品を実装した光モジュールが用いられている。   In recent years, application of polymer optical waveguides to optical interconnection has been attempted. In optical interconnection, a polymer optical waveguide having an optical path conversion function that bends the optical path sharply (for example, in a direction perpendicular to the substrate) is formed, and optical components such as a light source and a detector are mounted on the surface of the polymer optical waveguide. An optical module is used.

一般に、ポリマ光導波路を作製する方法としては、ドライエッチングを用いる方法、パターン露光及び現像を用いる方法、金型を用いる方法がある。   In general, methods for producing a polymer optical waveguide include a method using dry etching, a method using pattern exposure and development, and a method using a mold.

光路を曲げるための光路変換部としては、コアをダイシングソーで切断し、その切断面を光反射面に形成する方法がある。   As an optical path conversion unit for bending an optical path, there is a method of cutting a core with a dicing saw and forming the cut surface on a light reflecting surface.

また、凹型の金型で反射面を有するコアを形成した後、そのコアをクラッドに転写し、最後にコアの周囲にオーバクラッドを設ける方法がある(例えば、特許文献1参照)。   Further, there is a method in which after forming a core having a reflective surface with a concave mold, the core is transferred to a clad, and finally an over clad is provided around the core (see, for example, Patent Document 1).

他に、基板に凹部を形成し、その基板上にポリマ材料(コア材)を塗布してコアを形成し、基板上の凹部以外のコア材を除去した後、基板上全面にクラッドを設け、コア及びクラッドを別の基板に重ね合わせて転写する方法がある(例えば、特許文献2参照)。   In addition, a recess is formed on the substrate, a polymer material (core material) is applied on the substrate to form a core, and after removing the core material other than the recess on the substrate, a clad is provided on the entire surface of the substrate, There is a method in which the core and the clad are transferred onto another substrate (see, for example, Patent Document 2).

反射面としてコアの端面に金属ミラーを設けたポリマ光導波路の製造方法として、クラッドを平坦に形成し、そのクラッド上にミラーとなる金属層を形成し、その金属層を斜面を有するようにエッチングして金属ミラーを形成する方法がある(例えば、特許文献3参照)。   As a method of manufacturing a polymer optical waveguide in which a metal mirror is provided on the end face of the core as a reflection surface, a clad is formed flat, a metal layer to be a mirror is formed on the clad, and the metal layer is etched to have a slope. Thus, there is a method of forming a metal mirror (see, for example, Patent Document 3).

特開2004−78084号公報JP 2004-78084 A 特開2001−332870号公報JP 2001-332870 A 特開2002−107561号公報JP 2002-107561 A

しかしながら、従来の光路変換部を備えたポリマ光導波路の製造方法には、以下の問題点がある。   However, the conventional method for manufacturing a polymer optical waveguide provided with an optical path changing part has the following problems.

(1)ダイシングソーを用いてコアを切断し、その切断面を反射面に形成する製造方法では、光導波路内の所望のコアのみを切断することは困難であり、コア以外の部分(基板等)を掘削或いは切断してしまい、光導波路の強度や特性に悪影響を及す可能性がある。   (1) In a manufacturing method in which a core is cut using a dicing saw and the cut surface is formed as a reflecting surface, it is difficult to cut only a desired core in the optical waveguide. ) May be excavated or cut, and the strength and characteristics of the optical waveguide may be adversely affected.

(2)反射面を有するコアを別途形成し、そのコアを基板やクラッド上に設ける製造方法では、製造工程数が多く、製造時間が掛かってしまう。ひいては、高コスト化となる要因にもなる。   (2) In a manufacturing method in which a core having a reflective surface is separately formed and the core is provided on a substrate or a clad, the number of manufacturing steps is large and manufacturing time is required. As a result, it becomes a factor that increases the cost.

また、コアを伝搬する光を基板と反対方向に曲げる光回路を形成するために、反射面を有するコアを型を用いて形成し、そのコアを基板上に貼り付けて製造する方法では、コアを基板上に接着層を介して設けるため、接着層の存在が、コアを伝搬する光に影響を及ぼし、損失等の光特性が悪化してしまう。   Further, in order to form an optical circuit that bends light propagating through the core in the direction opposite to the substrate, the core having a reflective surface is formed using a mold, and the core is attached to the substrate for manufacturing. Is provided on the substrate via the adhesive layer, the presence of the adhesive layer affects the light propagating through the core, and optical characteristics such as loss are deteriorated.

(3)また、反射面としてコアの端面に金属ミラーを設けたポリマ光導波路では、金属層を形成した後、その金属層をエッチングして反射面を形成するが、この方法では、金属層を厚く形成しなければならず、金属層の積層やエッチングに時間が掛かってしまう。   (3) In a polymer optical waveguide in which a metal mirror is provided on the end face of the core as a reflection surface, a metal layer is formed and then the metal layer is etched to form a reflection surface. It must be formed thick, and it takes time to stack and etch the metal layer.

そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、コア内を伝搬する光を基板反対方向に曲げるポリマ光導波路を容易に短時間で作製できるポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路、並びに光モジュールを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a polymer optical waveguide manufacturing method, a polymer optical waveguide, and an optical waveguide capable of easily and quickly producing a polymer optical waveguide that bends light propagating in the core in the direction opposite to the substrate. To provide a module.

上記目的を達成するために、請求項1の発明は、基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、上記基板上に、上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコア材を形成し、そのコア材をパターニングしてコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成するポリマ光導波路の製造方法である。   In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is characterized in that a core and one end face of the core are formed in an overhanging inclined surface to reflect light propagating in the core in a direction opposite to the board. In the method of manufacturing a polymer optical waveguide comprising a reflecting surface to be formed and an overcladding covering the substrate including the core, a sacrificial layer having an inclined surface for forming the reflecting surface of the core is formed on the substrate. The core material is formed on the substrate including at least the sacrificial layer including the inclined surface, the core material is patterned to form the core, and the sacrificial layer is removed to form one end surface of the core on the reflective surface. And a method of manufacturing a polymer optical waveguide in which an overcladding covering a substrate including a core is formed.

請求項2の発明は、基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、
上記基板上に上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、コアの形状を有する型を載置し、その型にコア材を注入して上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法である。
The invention of claim 2 includes a core, a reflection surface that reflects light propagating in the core in a direction opposite to the substrate by forming one end face of the core as an overhanging inclined surface on the substrate, and the core. In a method of manufacturing a polymer optical waveguide having an overclad covering a substrate,
A sacrificial layer having an inclined surface for forming a reflective surface of the core is formed on the substrate, a mold having a core shape is placed, and a core material is injected into the mold to at least sacrifice the substrate. A core is formed on a portion including an inclined surface of the layer, the sacrificial layer is removed, one end surface of the core is formed on a reflective surface, and an overcladding covering the core including the core is formed on the substrate. It is a manufacturing method of a polymer optical waveguide.

請求項3の発明は、上記コアの反射面近傍のオーバクラッドを除去して出射窓を形成した請求項1または2記載のポリマ光導波路の製造方法である。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the method for producing a polymer optical waveguide according to the first or second aspect, wherein the exit window is formed by removing the over clad in the vicinity of the reflection surface of the core.

請求項4の発明は、上記犠牲層の傾斜面と、犠牲層の基板側の面との角度が略45°となるように犠牲層を形成した請求項1〜3いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the polymer light guide according to any one of the first to third aspects, wherein the sacrificial layer is formed so that an angle between the inclined surface of the sacrificial layer and the surface of the sacrificial layer on the substrate side is approximately 45 °. It is a manufacturing method of a waveguide.

請求項5の発明は、上記コア材に紫外線硬化樹脂を用い、基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分に紫外線硬化樹脂の層を形成した後、紫外線硬化樹脂の層に紫外線を照射して上記コアを形成すると共に、コア以外の部分を現像液により除去する請求項1,3,4いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。   In the invention of claim 5, an ultraviolet curable resin is used for the core material, and an ultraviolet curable resin layer is formed on a portion including at least the inclined surface of the sacrificial layer on the substrate, and then the ultraviolet curable resin layer is irradiated with ultraviolet rays. 5. The method for producing a polymer optical waveguide according to claim 1, wherein the core is formed and portions other than the core are removed with a developer.

請求項6の発明は、上記犠牲層を上記現像液に可溶な材料で形成し、上記現像液によりコアとなる部分以外の紫外線硬化樹脂の層を除去する際に、その現像液で上記犠牲層も同時に除去する請求項5記載のポリマ光導波路の製造方法である。   According to a sixth aspect of the present invention, the sacrificial layer is formed of a material soluble in the developer, and when the UV curable resin layer other than the core is removed by the developer, the sacrificial layer is used with the developer. 6. The method for producing a polymer optical waveguide according to claim 5, wherein the layer is also removed at the same time.

請求項7の発明は、上記犠牲層が、熱可塑性樹脂を材料とし、型材を用いて形成される請求項1〜6いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。   The invention according to claim 7 is the method for producing a polymer optical waveguide according to any one of claims 1 to 6, wherein the sacrificial layer is formed using a thermoplastic resin as a material and a mold material.

請求項8の発明は、請求項1〜7のいずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法を用いて製造されたポリマ光導波路である。   The invention of claim 8 is a polymer optical waveguide manufactured using the method for manufacturing a polymer optical waveguide according to any one of claims 1 to 7.

請求項9の発明は、請求項8記載のポリマ光導波路と、そのポリマ光導波路の反射面の上方に設けられた光源及び/又は光検出器とを備えた光モジュールである。   A ninth aspect of the present invention is an optical module comprising the polymer optical waveguide according to the eighth aspect and a light source and / or a photodetector provided above the reflection surface of the polymer optical waveguide.

本発明によれば、コア内を伝搬する光を基板反対方向に曲げるポリマ光導波路を容易に作製することができるといった優れた効果を発揮する。   According to the present invention, it is possible to easily produce a polymer optical waveguide that bends light propagating in the core in the direction opposite to the substrate.

以下、本発明の好適な一実施形態を添付図面に基づいて詳述する。   Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は本発明に係るポリマ光導波路の好適な実施の形態を示した断面図である。   FIG. 1 is a sectional view showing a preferred embodiment of a polymer optical waveguide according to the present invention.

本実施の形態のポリマ光導波路10は、基板11と、基板11上に設けられるアンダークラッド12と、アンダークラッド12上に設けられ断面が矩形状のコア13と、コア13を含めてアンダークラッド12を覆うように形成されるオーバクラッド14とを備える。コア13は、例えば、基板11の一辺から基板11の中央部に延びて形成されている。   The polymer optical waveguide 10 of the present embodiment includes a substrate 11, an underclad 12 provided on the substrate 11, a core 13 provided on the underclad 12 and having a rectangular cross section, and an underclad 12 including the core 13. And an overcladding 14 formed so as to cover the surface. For example, the core 13 is formed to extend from one side of the substrate 11 to the center of the substrate 11.

ポリマ光導波路10では、コア13の基板中央側の端面が反射面15に形成されている。反射面15は、基板11中央側の端部がオーバハング状に形成されている。すなわち、反射面15は、コアを伝搬した光を基板反対方向(図1中上側)に反射させる、或いはオーバクラッド14上方から入射される光をコア内に反射させる向きに形成されている。   In the polymer optical waveguide 10, the end surface of the core 13 on the center side of the substrate is formed on the reflection surface 15. The reflection surface 15 is formed in an overhang shape at the center side end of the substrate 11. That is, the reflecting surface 15 is formed in a direction in which light propagating through the core is reflected in the direction opposite to the substrate (upper side in FIG. 1), or light incident from above the overclad 14 is reflected into the core.

さらに、コア13の反射面15近傍のオーバクラッド14には出射窓として溝16が形成されている。これにより、コア13の基板中央側の端面は空気に臨んでおり、コア11と空気領域との界面を反射面15としている。換言すれば、斜めに形成された端面の上側はコア領域であり、端面の下側が空気になっている。光反射面15は、コアの底面(アンダークラッド12側の面)に対して略135°(図1中、θ)の平面をなしている。   Furthermore, a groove 16 is formed as an exit window in the over clad 14 in the vicinity of the reflecting surface 15 of the core 13. Thus, the end surface of the core 13 on the center side of the substrate faces the air, and the interface between the core 11 and the air region is the reflecting surface 15. In other words, the upper side of the obliquely formed end surface is the core region, and the lower side of the end surface is air. The light reflecting surface 15 forms a plane of approximately 135 ° (θ in FIG. 1) with respect to the bottom surface of the core (the surface on the underclad 12 side).

本実施の形態のポリマ光導波路10では、基板11上にアンダークラッド12を設け、アンダークラッド12上にコア13を設けたが、コア13よりも十分に屈折率の小さいポリマ材料で形成された基板11を用いた場合、アンダークラッド12は省略してもよい。   In the polymer optical waveguide 10 of the present embodiment, the underclad 12 is provided on the substrate 11 and the core 13 is provided on the underclad 12. However, the substrate is formed of a polymer material having a refractive index sufficiently smaller than that of the core 13. When 11 is used, the underclad 12 may be omitted.

次に、ポリマ光導波路の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing a polymer optical waveguide will be described.

まず、図2(a)に示すように、基板11上に、アンダークラッド12をほぼ平坦に形成する。基板11としては、ガラス(石英)基板、シリコン基板、ポリイミド基板、フッ素化アクリル基板、フッ素化ポリイミド基板、或いはガラスエポキシ基板等が挙げられる。アンダークラッド12を形成する材料としては、アクリル、エポキシ、ポリイミド、フッ素化アクリル、或いはフッ素化ポリイミド等が挙げられる。   First, as shown in FIG. 2A, an underclad 12 is formed on a substrate 11 almost flatly. Examples of the substrate 11 include a glass (quartz) substrate, a silicon substrate, a polyimide substrate, a fluorinated acrylic substrate, a fluorinated polyimide substrate, and a glass epoxy substrate. Examples of the material for forming the underclad 12 include acrylic, epoxy, polyimide, fluorinated acrylic, and fluorinated polyimide.

図2(b)に示すように、アンダークラッド12上に犠牲層21を設ける。犠牲層21は、コア13に反射面15を形成するための型となる層であり、基板11の中央部で傾斜面22が形成されている。犠牲層21は、図1の光反射面15下方の空気領域を補完する形状に、かつ、後に形成するコア13のコア幅以上の幅を有して形成される。傾斜面22は、犠牲層21の底面(アンダークラッド12側の面)に対して略45°の平面をなしている。   As shown in FIG. 2B, a sacrificial layer 21 is provided on the underclad 12. The sacrificial layer 21 is a layer serving as a mold for forming the reflecting surface 15 on the core 13, and an inclined surface 22 is formed at the center of the substrate 11. The sacrificial layer 21 is formed in a shape that complements the air region below the light reflecting surface 15 in FIG. 1 and has a width that is equal to or greater than the core width of the core 13 to be formed later. The inclined surface 22 forms a plane of approximately 45 ° with respect to the bottom surface of the sacrificial layer 21 (surface on the underclad 12 side).

犠牲層21は熱可塑性で、かつ有機溶剤やアルカリ現像液に可溶な樹脂で形成される。具体的には、アクリル樹脂、ポリカーボネイト等が挙げられる。   The sacrificial layer 21 is formed of a thermoplastic resin that is soluble in an organic solvent or an alkaline developer. Specific examples include acrylic resins and polycarbonate.

本実施の形態では、犠牲層21は、アンダークラッド12上に型材を用いて形成する。具体的には、アンダークラッド12上に所望の形状を有する型材を接着固定させ、その型材に熱可塑性樹脂を注入した後、熱可塑性樹脂をアンダークラッド12上で固化させ、型を外して得られる。型材をアンダークラッド12上に接着固定させる際、型材のアンダークラッド12への位置合わせは顕微鏡等で見ながら行われる。   In the present embodiment, the sacrificial layer 21 is formed on the underclad 12 using a mold material. Specifically, a mold material having a desired shape is bonded and fixed on the underclad 12, a thermoplastic resin is injected into the mold material, the thermoplastic resin is solidified on the underclad 12, and the mold is removed. . When the mold material is bonded and fixed on the underclad 12, the mold material is aligned with the underclad 12 while looking under a microscope or the like.

次に、アンダークラッド12及び傾斜面22上に、コア材として液体状の紫外線硬化樹脂(UV硬化型樹脂)をスピンコートで塗布する。樹脂を塗布して乾燥させた後、所望のコアのパターンに応じてコア材に紫外線を照射させる。コア材は、少なくとも傾斜面22上に塗布されればよいが、犠牲層21の上面にも塗布されてよい。   Next, a liquid ultraviolet curable resin (UV curable resin) as a core material is applied onto the underclad 12 and the inclined surface 22 by spin coating. After the resin is applied and dried, the core material is irradiated with ultraviolet rays in accordance with a desired core pattern. The core material only needs to be applied on at least the inclined surface 22, but may also be applied to the upper surface of the sacrificial layer 21.

図2(c)に示すように、紫外線照射した後、コア材を含めた基板11を現像液に浸漬し、コア材の未硬化部分を現像液に溶解させる。これにより、コア材は所望のパターンを有するコア13に形成される。コア材がポジ型の紫外線硬化樹脂である場合、除去するコア材に紫外線を照射(露光)し、未照射箇所を硬化させる。コア材がネガ型の紫外線感光性樹脂である場合、パターンとして残すコア材に紫外線を照射し、照射箇所を硬化させる。いずれの紫外線硬化樹脂を用いても、硬化させた箇所がコア13となり、コア13以外のコア材を除去する。   As shown in FIG.2 (c), after irradiating with an ultraviolet-ray, the board | substrate 11 containing a core material is immersed in a developing solution, and the uncured part of a core material is dissolved in a developing solution. Thereby, a core material is formed in the core 13 which has a desired pattern. When the core material is a positive type ultraviolet curable resin, the core material to be removed is irradiated (exposed) with ultraviolet rays, and the unirradiated portion is cured. When the core material is a negative ultraviolet photosensitive resin, the core material to be left as a pattern is irradiated with ultraviolet rays to cure the irradiated portion. Regardless of which ultraviolet curable resin is used, the cured portion becomes the core 13 and the core material other than the core 13 is removed.

ここで、本実施の形態では、コア材に紫外線を露光して硬化させ、コア材の未硬化部を現像液を用いて除去する直接露光法を用いて形成した。しかし、コアを形成する方法はこれに限らず、他に、コア材上にコア13のパターンを有するマスク(例えば、レジストマスクやメタルマスク)を形成し、RIE(反応性イオンエッチング)法を用いてコアをエッチング形成してもよい。他に、アンダークラッド12上に所望のコアパターンを有する金型を載置し、その金型内に樹脂を注入し、その樹脂を硬化させてコア13を形成してもよい。   Here, in this embodiment, the core material is formed by using a direct exposure method in which the core material is exposed to ultraviolet light and cured, and an uncured portion of the core material is removed using a developer. However, the method for forming the core is not limited to this, and a mask having a pattern of the core 13 (for example, a resist mask or a metal mask) is formed on the core material, and the RIE (reactive ion etching) method is used. The core may be formed by etching. Alternatively, the core 13 may be formed by placing a mold having a desired core pattern on the underclad 12, injecting a resin into the mold, and curing the resin.

図2(d)に示すように、犠牲層21を除去する。犠牲層21は、有機溶剤やアルカリ現像液等に浸漬して除去される。このとき、犠牲層21を熱可塑性樹脂で形成した場合、犠牲層21を含む基板11を温めて、犠牲層21を液体状にして除去してもよい。   As shown in FIG. 2D, the sacrificial layer 21 is removed. The sacrificial layer 21 is removed by being immersed in an organic solvent, an alkaline developer or the like. At this time, when the sacrificial layer 21 is formed of a thermoplastic resin, the substrate 11 including the sacrificial layer 21 may be warmed to remove the sacrificial layer 21 in a liquid state.

本実施の形態では、コア材に紫外線を照射した後、コア材と犠牲層21とが共に可溶な現像液を用いて、コア材の未硬化部と犠牲層21を同時に除去した。詳細には、コア材にネガ型の熱硬化性樹脂を用いることで、コア材の紫外線が照射された部分が硬化する。ここで、コア材への紫外線照射により、犠牲層21の傾斜面22下側の部分にも紫外線が照射されるが、犠牲層21にはコア材を形成する樹脂と異なる、すなわち、紫外線照射により硬化しない(紫外線に反応しない)樹脂を用いている。したがって、コア材及び犠牲層21を含む基板11を現像液に浸漬すると、傾斜面22の下側の部分を含む全ての犠牲層21と、コア材の未硬化部分とが現像液に溶解し、コア13の端面をオーバハング状に形成することができる。   In the present embodiment, after irradiating the core material with ultraviolet rays, the uncured portion of the core material and the sacrificial layer 21 are simultaneously removed using a developer in which both the core material and the sacrificial layer 21 are soluble. Specifically, by using a negative thermosetting resin for the core material, the portion of the core material irradiated with ultraviolet rays is cured. Here, the ultraviolet ray is irradiated to the portion below the inclined surface 22 of the sacrificial layer 21 by the ultraviolet ray irradiation to the core material, but the sacrificial layer 21 is different from the resin forming the core material. A resin that does not cure (does not react to ultraviolet rays) is used. Therefore, when the substrate 11 including the core material and the sacrificial layer 21 is immersed in the developer, all the sacrificial layers 21 including the lower portion of the inclined surface 22 and the uncured portion of the core material are dissolved in the developer. The end face of the core 13 can be formed in an overhang shape.

図2(e)に示すように、コア13及びアンダークラッド12上に、コア13を覆うオーバクラッド14を設ける。オーバクラッド14を形成する材料は紫外線硬化樹脂が好ましい。   As shown in FIG. 2E, an over clad 14 that covers the core 13 is provided on the core 13 and the under clad 12. The material for forming the overclad 14 is preferably an ultraviolet curable resin.

オーバクラッド14を形成した後、反射面15近傍のオーバクラッド14を除去する。具体的には、オーバクラッド14の上方に、反射面15近傍では紫外線を透過し、それ以外の箇所には紫外線を遮断するフォトマスク23を配置し、そのフォトマスク23を介してオーバクラッド14に紫外線UVを照射する。本実施の形態ではオーバクラッド14を形成する材料としてネガ型の紫外線硬化樹脂を用いており、オーバクラッド14の紫外線が露光された箇所が硬化部となる。   After the overcladding 14 is formed, the overcladding 14 near the reflecting surface 15 is removed. Specifically, a photomask 23 that transmits ultraviolet light in the vicinity of the reflecting surface 15 and blocks ultraviolet light is disposed above the overcladding 14 and is blocked by the overcladding 14 via the photomask 23. Irradiate ultraviolet rays UV. In the present embodiment, a negative type ultraviolet curable resin is used as a material for forming the over clad 14, and a portion of the over clad 14 exposed to ultraviolet rays is a cured portion.

図2(f)に示すように、紫外線を照射した後、オーバクラッド14を現像液に浸漬して未硬化部を除去し、溝16が形成される。オーバクラッド14の一部除去により形成された溝16内にコア13の端面が位置し、その端面が空気と接することで高反射率の反射面15が形成される。以上の工程により、ポリマ光導波路10が得られる。   As shown in FIG. 2 (f), after irradiating with ultraviolet rays, the overclad 14 is immersed in a developing solution to remove the uncured portion, and the groove 16 is formed. The end face of the core 13 is located in the groove 16 formed by partially removing the over clad 14, and the end face is in contact with air, so that a reflective surface 15 having high reflectivity is formed. The polymer optical waveguide 10 is obtained by the above process.

本実施の形態では、オーバクラッド14を紫外線硬化樹脂で形成し、溝16を上述した直接露光法により形成している。この直接露光法は、現像液でクラッドの未硬化部を除去するので、コア13の端面(反射面15)の下側にも十分に現像液が回りこみ、コア端面下側のオーバクラッド材を除去することができ、コア13の端面が空気層と接する反射面15を形成することができる。   In the present embodiment, the over clad 14 is formed of an ultraviolet curable resin, and the groove 16 is formed by the direct exposure method described above. In this direct exposure method, the uncured portion of the clad is removed with the developer, so that the developer sufficiently flows under the end surface (reflecting surface 15) of the core 13, and the over clad material below the core end surface is removed. The reflection surface 15 which can be removed and the end surface of the core 13 is in contact with the air layer can be formed.

さらに、図2(g)に示すように、オーバクラッド14上に光源(例えば、レーザダイオード(LD))25或いは光検出素子(例えば、フォトダイオード(PD))を設けて、ポリマ光導波路型の光モジュール24が得られる。光源25は、反射面15の直ぐ上方に位置するように、光源保持部材26で溝16上に保持される。光源保持部材26は半田バンプ27でオーバクラッド14上に接着されている。さらに、図3に示すように、光源25と反射面15との間に、光を集光するためのレンズ31を設けてもよい。   Further, as shown in FIG. 2G, a light source (for example, a laser diode (LD)) 25 or a light detection element (for example, a photodiode (PD)) is provided on the overcladding 14, and a polymer optical waveguide type is provided. The optical module 24 is obtained. The light source 25 is held on the groove 16 by the light source holding member 26 so as to be positioned immediately above the reflecting surface 15. The light source holding member 26 is bonded onto the over clad 14 with solder bumps 27. Furthermore, as shown in FIG. 3, a lens 31 for condensing light may be provided between the light source 25 and the reflecting surface 15.

本実施の形態のポリマ光導波路10の製造方法によれば、慣用のポリマ光導波路の製造工程に、犠牲層21を形成する工程と、コア13形成後、犠牲層21を除去する工程とを加えるだけで、コア13を伝搬した光を基板11と直角反対方向に曲げて伝送させる構造を有するポリマ光導波路を作製することができる。すなわち、慣用のポリマ光導波路の製造工程を利用して、大幅に変更することなく、コア13を伝搬した光を基板11と直角反対方向に曲げることのできるポリマ光導波路を容易に作製することができる。   According to the method of manufacturing the polymer optical waveguide 10 of the present embodiment, the step of forming the sacrificial layer 21 and the step of removing the sacrificial layer 21 after forming the core 13 are added to the manufacturing process of the conventional polymer optical waveguide. Thus, a polymer optical waveguide having a structure in which light propagating through the core 13 is bent and transmitted in a direction perpendicular to the substrate 11 can be manufactured. That is, it is possible to easily produce a polymer optical waveguide that can bend the light propagating through the core 13 in a direction perpendicular to the substrate 11 without making a significant change by using a conventional polymer optical waveguide manufacturing process. it can.

ここで、図1のポリマ光導波路10とは異なり、溝16を有しない光導波路、すなわち光反射面15に空気層が接しない光導波路では、コア13の端面に反射膜を設ける必要がある。しかしながら、反射膜としてコアの端面に金属膜(例えば、金)を設けることは難しい。なぜなら、コアの厚さ及び幅は数μmオーダであり、金属蒸着法を用いて、コアの端面だけに金属膜を蒸着することは困難なためである。   Here, unlike the polymer optical waveguide 10 of FIG. 1, a reflection film needs to be provided on the end surface of the core 13 in an optical waveguide that does not have the groove 16, that is, in an optical waveguide that does not contact the light reflecting surface 15. However, it is difficult to provide a metal film (for example, gold) on the end face of the core as a reflective film. This is because the thickness and width of the core are on the order of several μm, and it is difficult to deposit a metal film only on the end face of the core using the metal deposition method.

したがって、本実施の形態では、コア13の基板11中央側の端面を空気に臨むように形成し、コア13の端面における反射率を高くした反射面としているので、ポリマ光導波路を短時間でかつ容易に作製することができる。   Therefore, in the present embodiment, the end surface of the core 13 on the center side of the substrate 11 is formed so as to face the air, and the reflection surface with a high reflectivity at the end surface of the core 13 is used. It can be easily manufactured.

また、図2(d)において、アンダークラッド12上ではなく、別に所望のパターンの形状を有する金型を用い、その金型で形成したコアを、図2(d)のように、コアの尖りが上側(図2中基板11と反対側)となるようにアンダークラッドに貼付して形成することが考えられる。   Further, in FIG. 2D, a mold having a desired pattern shape is used separately from the undercladding 12, and the core formed by the mold is sharpened as shown in FIG. It is conceivable that it is formed by being attached to the under clad so that is on the upper side (the side opposite to the substrate 11 in FIG. 2).

しかしながら、金型で形成したコアを基板上に貼付するには、コア13をアンダークラッドに接着する接着層が必要になる。接着層は、厚みを制御するのが難しく、厚さの不均一な接着層は、コアの光伝送特性に影響する。また、コア13は微細なパターンを有して形成されるものであり、コアをアンダークラッド上に貼付する際に破損させてしまう虞がある。さらに、接着層は、コアやクラッドを形成する紫外線硬化樹脂に比べて、一般的に収縮しやすいものであり、接着層の収縮によりポリマ光導波路にたわみが生じてしまう。   However, in order to affix the core formed of the mold on the substrate, an adhesive layer that adheres the core 13 to the under clad is required. It is difficult to control the thickness of the adhesive layer, and the adhesive layer having a non-uniform thickness affects the optical transmission characteristics of the core. In addition, the core 13 is formed with a fine pattern, and may be damaged when the core is stuck on the underclad. Further, the adhesive layer is generally more easily contracted than the ultraviolet curable resin forming the core and the clad, and the polymer optical waveguide is bent due to the contraction of the adhesive layer.

したがって、本実施の形態のポリマ光導波路10の製造方法によれば、犠牲層21を形成した後、スピンコート等により、紫外線硬化樹脂をアンダークラッド12上に直接塗布してコア材を形成することで、撓み等がなく、良好な光伝送特性を有するポリマ光導波路を作製できる。   Therefore, according to the method of manufacturing the polymer optical waveguide 10 of the present embodiment, after forming the sacrificial layer 21, the core material is formed by directly applying the ultraviolet curable resin onto the underclad 12 by spin coating or the like. Thus, it is possible to produce a polymer optical waveguide having no optical deflection and good optical transmission characteristics.

また、本実施の形態のポリマ光導波路の製造方法によって作製されるポリマ光導波路10は、コアを貼付る工程がない。したがって、微細なパターンを有するコアを貼り付けることにより生じる製作誤差を小さくすることができる。   In addition, the polymer optical waveguide 10 manufactured by the method for manufacturing a polymer optical waveguide according to the present embodiment does not have a step of attaching a core. Therefore, it is possible to reduce manufacturing errors caused by attaching a core having a fine pattern.

本実施の形態のポリマ光導波路10の製造方法では、コア材に紫外線を照射した後、コア材と犠牲層21とが共に可溶な現像液を用いて、コア材の未硬化部と犠牲層21を同時に除去したが、コア13のパターンを形成した後、犠牲層21を除去してもよい。   In the method of manufacturing the polymer optical waveguide 10 of the present embodiment, after irradiating the core material with ultraviolet rays, an uncured portion of the core material and the sacrificial layer are formed using a developer in which both the core material and the sacrificial layer 21 are soluble. However, the sacrificial layer 21 may be removed after the pattern of the core 13 is formed.

犠牲層21は、オーバクラッド14を形成した後に除去してもよい。その際、オーバクラッド14には、犠牲層21を形成していた熱可塑性樹脂を吐出させる流通路を形成するのが好ましい。   The sacrificial layer 21 may be removed after the overcladding 14 is formed. At this time, it is preferable to form a flow path in the over clad 14 for discharging the thermoplastic resin that has formed the sacrificial layer 21.

本実施の形態では、ポリマ光導波路10の反射面15を平面状に形成したが、曲面状に形成してもよい。例えば、反射面15の焦点を光源25とするようにコア13の端面を凸面状に形成すれば、反射面15に集光機能を持たせることができ、図3に示すレンズ31を設ける必要がない。   In the present embodiment, the reflection surface 15 of the polymer optical waveguide 10 is formed in a planar shape, but may be formed in a curved surface shape. For example, if the end surface of the core 13 is formed in a convex shape so that the focal point of the reflecting surface 15 is the light source 25, the reflecting surface 15 can have a condensing function, and it is necessary to provide the lens 31 shown in FIG. Absent.

次に、本発明の実施の形態について、実施例に基づいて説明するが、本発明の実施の形態はこれらの実施例に限定されるものではない。   Next, embodiments of the present invention will be described based on examples, but the embodiments of the present invention are not limited to these examples.

(実施例1) ガラスエポキシ基板上にUV硬化型アクリル系材料(屈折率1.51)をスピンコートで塗布し、そのアクリル系材料に紫外線を照射して硬化させてアンダークラッドを形成した。次に、犠牲層を、アセトンに可溶の熱可塑性樹脂を用い、金型による方法で形成した。犠牲層を形成した後、コア材としてUV硬化型アクリル系材料(屈折率1.59)をスピンコート法で塗布し、そのコアのパターンを有するマスクを通してコア材にUVを照射し、コアを形成した。その後、現像液としてアセトンを用いてコア材の未硬化部及び犠牲層を同時に除去した。   Example 1 A UV curable acrylic material (refractive index of 1.51) was applied onto a glass epoxy substrate by spin coating, and the acrylic material was cured by irradiating with ultraviolet rays to form an underclad. Next, a sacrificial layer was formed by a mold method using a thermoplastic resin soluble in acetone. After the sacrificial layer was formed, a UV curable acrylic material (refractive index of 1.59) was applied as a core material by a spin coating method, and the core material was irradiated with UV through a mask having a pattern of the core to form a core. Thereafter, the uncured portion of the core material and the sacrificial layer were simultaneously removed using acetone as a developer.

次に、クラッド材をスピンコート法で塗布し、反射面近傍のオーバクラッドに溝が形成されるパターンを有するマスクを通してオーバクラッドに紫外線を照射してオーバクラッドを硬化させた。その後現像液としてアセトンを用いてオーバクラッド材の未露光部を除去して、ポリマ光導波路を得た。最後に、そのポリマ光導波路の反射面上方にLDを或いはPDを設けて、光モジュールを作製した。   Next, the clad material was applied by a spin coat method, and the over clad was cured by irradiating the over clad with ultraviolet rays through a mask having a pattern in which grooves were formed in the over clad near the reflecting surface. Thereafter, the unexposed portion of the overclad material was removed using acetone as a developer to obtain a polymer optical waveguide. Finally, an LD or PD was provided above the reflection surface of the polymer optical waveguide to produce an optical module.

(実施例2) アンダークラッドを形成する材料として屈折率1.44のUV硬化型アクリル系材料を用い、他は実施例1と同様にして光モジュールを作製した。   Example 2 An optical module was fabricated in the same manner as in Example 1 except that a UV curable acrylic material having a refractive index of 1.44 was used as a material for forming the underclad.

(実施例3) ガラスエポキシ基板上にUV硬化型アクリル系材料(屈折率1.51)をスピンコートで塗布し、そのアクリル系材料に紫外線を照射して硬化させてアンダークラッドを形成した。次に、犠牲層を、アセトンに可溶の熱可塑性樹脂を用い、金型による方法で形成した。犠牲層を形成した後、コアパターンを有する金型をアンダークラッド上に載置して、コアとなる紫外線硬化樹脂を金型内に注入し、その紫外線硬化樹脂を紫外線で硬化させてコアを形成した。   (Example 3) A UV curable acrylic material (refractive index of 1.51) was applied onto a glass epoxy substrate by spin coating, and the acrylic material was irradiated with ultraviolet rays and cured to form an underclad. Next, a sacrificial layer was formed by a mold method using a thermoplastic resin soluble in acetone. After forming the sacrificial layer, a mold having a core pattern is placed on the undercladding, an ultraviolet curable resin to be the core is injected into the mold, and the ultraviolet curable resin is cured with ultraviolet rays to form the core. did.

次に、オーバクラッドを形成した。オーバクラッドは、オーバクラッドに溝及び流通路が形成される金型を用いて形成した。その後、犠牲層をアセトンで除去し、オーバクラッド上にLD或いはPDを設けて光モジュールを作製した。   Next, an overcladding was formed. The overclad was formed using a mold in which grooves and flow passages were formed in the overclad. Thereafter, the sacrificial layer was removed with acetone, and an LD or PD was provided on the overcladding to produce an optical module.

本発明に係るポリマ光導波路の好適な実施の形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows suitable embodiment of the polymer optical waveguide which concerns on this invention. (a)〜(f)は、図1のポリマ光導波路の製造方法を説明する断面図であり、(g)は、(f)のポリマ光導波路を用いた光モジュールを示す断面図である。(A)-(f) is sectional drawing explaining the manufacturing method of the polymer optical waveguide of FIG. 1, (g) is sectional drawing which shows the optical module using the polymer optical waveguide of (f). 図2(g)の光モジュールの変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the optical module of FIG.2 (g).

符号の説明Explanation of symbols

10 ポリマ光導波路
11 基板
12 アンダークラッド
13 コア
14 オーバクラッド
15 反射面
21 犠牲層
22 傾斜面
UV 紫外線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Polymer optical waveguide 11 Substrate 12 Under clad 13 Core 14 Over clad 15 Reflecting surface 21 Sacrificial layer 22 Inclined surface UV Ultraviolet

Claims (9)

基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、
上記基板上に、上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコア材を形成し、そのコア材をパターニングしてコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法。
On the substrate, a core, a reflective surface that reflects light propagating in the core in the opposite direction by forming one end surface of the core in an overhanging inclined surface, and an overcladding that covers the substrate including the core In a method for producing a polymer optical waveguide comprising:
A sacrificial layer having an inclined surface for forming a reflective surface of the core is formed on the substrate, a core material is formed on a portion including the inclined surface of at least the sacrificial layer on the substrate, and the core material is patterned. Forming a core, removing the sacrificial layer, forming one end surface of the core as a reflective surface, and forming an overcladding covering the core including the core on the substrate. .
基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、
上記基板上に上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、コアの形状を有する型を載置し、その型にコア材を注入して上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法。
On the substrate, a core, a reflective surface that reflects light propagating in the core in the opposite direction by forming one end surface of the core in an overhanging inclined surface, and an overcladding that covers the substrate including the core In a method for producing a polymer optical waveguide comprising:
A sacrificial layer having an inclined surface for forming a reflective surface of the core is formed on the substrate, a mold having a core shape is placed, and a core material is injected into the mold to at least sacrifice the substrate. A core is formed on a portion including an inclined surface of the layer, the sacrificial layer is removed, one end surface of the core is formed on a reflective surface, and an overcladding covering the core including the core is formed on the substrate. A method for producing a polymer optical waveguide.
上記コアの反射面近傍のオーバクラッドを除去して出射窓を形成した請求項1または2記載のポリマ光導波路の製造方法。   3. The method of manufacturing a polymer optical waveguide according to claim 1, wherein an exit window is formed by removing an over clad in the vicinity of the reflection surface of the core. 上記犠牲層の傾斜面を、略45°の角度に形成した請求項1〜3いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法。   The method for producing a polymer optical waveguide according to claim 1, wherein the inclined surface of the sacrificial layer is formed at an angle of approximately 45 °. 上記コア材に紫外線硬化樹脂を用い、基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分に紫外線硬化樹脂の層を形成した後、紫外線硬化樹脂の層に紫外線を照射して上記コアを形成すると共に、コア以外の部分を現像液により除去する請求項1,3,4いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法。   An ultraviolet curable resin is used for the core material, and an ultraviolet curable resin layer is formed on at least a portion of the substrate including the inclined surface of the sacrificial layer, and then the ultraviolet curable resin layer is irradiated with ultraviolet rays to form the core. 5. The method for producing a polymer optical waveguide according to claim 1, wherein a portion other than the core is removed with a developer. 上記犠牲層を上記現像液に可溶な材料で形成し、上記現像液によりコアとなる部分以外の紫外線硬化樹脂の層を除去する際に、その現像液で上記犠牲層も同時に除去する請求項5記載のポリマ光導波路の製造方法。   The sacrificial layer is formed of a material soluble in the developer, and when the ultraviolet curable resin layer other than the core is removed by the developer, the sacrificial layer is also removed simultaneously with the developer. 6. A method for producing a polymer optical waveguide according to 5. 上記犠牲層は、熱可塑性樹脂を材料とし、型材を用いて形成される請求項1〜6いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法。   The said sacrificial layer is a manufacturing method of the polymer optical waveguide in any one of Claims 1-6 made from a thermoplastic resin as a material and using a mold material. 請求項1〜7のいずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法を用いて製造されたことを特徴とするポリマ光導波路。   A polymer optical waveguide manufactured using the method for manufacturing a polymer optical waveguide according to claim 1. 請求項8に記載のポリマ光導波路と、そのポリマ光導波路の反射面の上方に設けられた光源及び/又は光検出器とを備えたことを特徴とする光モジュール。
An optical module comprising: the polymer optical waveguide according to claim 8; and a light source and / or a light detector provided above a reflection surface of the polymer optical waveguide.
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