JP2003114363A - Optical fiber array - Google Patents

Optical fiber array

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JP2003114363A
JP2003114363A JP2001268091A JP2001268091A JP2003114363A JP 2003114363 A JP2003114363 A JP 2003114363A JP 2001268091 A JP2001268091 A JP 2001268091A JP 2001268091 A JP2001268091 A JP 2001268091A JP 2003114363 A JP2003114363 A JP 2003114363A
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JP
Japan
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optical fiber
resin layer
substrate
fiber ribbon
coating resin
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Application number
JP2001268091A
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Japanese (ja)
Inventor
Kotaro Hayashi
康太郎 林
Naoaki Fujii
直明 藤井
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Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide such an optical fiber array that, since optical fibers are surely fixed to grooves formed on a substrate with an adhesive, the displacement of the optical fibers does not occur. SOLUTION: In the optical fiber array, a plurality of grooves are formed in a part on a substrate and optical fibers are housed in the grooves with an adhesive. A roughened face is formed on the surface of the optical fiber.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバアレイ
に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical fiber array.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、通信分野を中心として光ファイバ
に注目が集まっている。特にIT(情報技術)分野にお
いては、高速インターネット網の整備に、光ファイバを
用いた通信技術が必要となる。光ファイバは、低損
失、高帯域、細径・軽量、無誘導、省資源等の
特徴を有しており、この特徴を有する光ファイバを用い
た通信システムでは、従来のメタリックケーブルを用い
た通信システムに比べ、中継器数を大幅に削減すること
ができ、建設、保守が容易になり、通信システムの経済
化、高信頼性化を図ることができる。
2. Description of the Related Art In recent years, attention has been focused on optical fibers mainly in the communication field. Particularly in the IT (information technology) field, communication technology using optical fibers is required to maintain a high-speed Internet network. Optical fiber has the features of low loss, high bandwidth, small diameter / light weight, no induction, resource saving, etc. In the communication system using the optical fiber having this feature, the communication using the conventional metallic cable is used. Compared with the system, the number of repeaters can be greatly reduced, construction and maintenance are facilitated, and the communication system can be made economical and highly reliable.

【0003】また、光ファイバでは、一つの波長の光だ
けでなく、多くの異なる波長の光を1本の光ファイバで
同時に多重伝送することができるため、多様な用途に対
応可能な大容量の伝送路を実現することができ、映像サ
ービス等にも対応することができるという大きな利点を
有する。
Further, in the optical fiber, not only the light of one wavelength but also the light of many different wavelengths can be simultaneously multiplexed and transmitted by one optical fiber, so that it has a large capacity for various purposes. This has a great advantage that a transmission line can be realized and a video service can be supported.

【0004】また、光ファイバ通信において、光ファイ
バを、受光素子、端末機器(パソコン、モバイル、ゲー
ム等)に直接または光導波路等を介して接続するために
は、複数の光ファイバを所定の間隔で離間して配列させ
る必要があり、これを達成するために、光ファイバアレ
イが用いられている。
Further, in optical fiber communication, in order to connect the optical fiber to a light receiving element, a terminal device (personal computer, mobile, game, etc.) directly or through an optical waveguide or the like, a plurality of optical fibers are arranged at predetermined intervals. In order to achieve this, an optical fiber array is used.

【0005】従来、光ファイバアレイとしては、例え
ば、基板に形成された複数のV溝のそれぞれに光ファイ
バが整列して収容され、該光ファイバが接着剤を介して
固定されたものが開示されている。
Conventionally, as an optical fiber array, for example, an optical fiber array in which optical fibers are housed in alignment with each of a plurality of V-grooves and the optical fibers are fixed via an adhesive is disclosed. ing.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような光ファイバ
アレイでは、該光ファイバアレイを光学素子に接続する
際や、光ファイバアレイに外部から力が加わった際に、
光ファイバの位置ズレが発生し、光ファイバアレイと受
光素子や発光素子等の光学素子との間で接続不良が発生
することがあった。また、このような光ファイバアレイ
を用いて信頼性評価を行った場合には、光ファイバ表面
と接着剤との間で剥離が発生することがあった。このよ
うな光ファイバの位置ズレや接着剤の剥離は、光ファイ
バと接着剤との密着性が不充分なために発生すると考え
られた。
In such an optical fiber array, when the optical fiber array is connected to an optical element or when an external force is applied to the optical fiber array,
Positional deviation of the optical fiber may occur, resulting in defective connection between the optical fiber array and the optical element such as the light receiving element or the light emitting element. Further, when reliability evaluation is performed using such an optical fiber array, peeling may occur between the surface of the optical fiber and the adhesive. It is considered that such positional deviation of the optical fiber and peeling of the adhesive occur due to insufficient adhesion between the optical fiber and the adhesive.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
鋭意検討した結果、光ファイバの表面に粗化面を形成す
ることにより、未硬化の接着剤の光ファイバに対する濡
れが向上するため、溝と光ファイバとの間隙に確実に接
着剤が充填されること、および、光ファイバと接着剤と
の密着性が向上するため、信頼性評価を行った際にも光
ファイバ表面と接着剤との間で剥離が発生しないことを
見出し、本発明の光ファイバアレイを完成した。
Therefore, the present inventors have
As a result of diligent study, by forming a roughened surface on the surface of the optical fiber, wetting of the uncured adhesive to the optical fiber is improved, so that the gap between the groove and the optical fiber is reliably filled with the adhesive. That is, and because the adhesion between the optical fiber and the adhesive is improved, it was found that peeling does not occur between the surface of the optical fiber and the adhesive even when reliability evaluation is performed, and the optical fiber of the present invention The array was completed.

【0008】すなわち、本発明の光ファイバアレイは、
基板上の一部に複数の溝が形成され、上記溝に、接着剤
を介して光ファイバが収納された光ファイバアレイであ
って、上記光ファイバの表面には、粗化面が形成されて
いることを特徴とする。
That is, the optical fiber array of the present invention is
An optical fiber array in which a plurality of grooves are formed in a part of a substrate, and an optical fiber is housed in the groove via an adhesive, and a roughened surface is formed on the surface of the optical fiber. It is characterized by being

【0009】本発明の光ファイバアレイにおいて、上記
粗化面の平均粗度Raは、1〜100nmであることが
望ましい。また、上記光ファイバアレイにおいて、上記
粗化面は、フッ化物を含む粗化液を用いて形成されてい
ることが望ましい。
In the optical fiber array of the present invention, the average roughness Ra of the roughened surface is preferably 1 to 100 nm. Further, in the optical fiber array, it is preferable that the roughened surface is formed by using a roughening liquid containing fluoride.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の光ファイバアレイは、基
板上の一部に複数の溝が形成され、上記溝に、接着剤を
介して光ファイバが収納された光ファイバアレイであっ
て、上記光ファイバの表面には、粗化面が形成されてい
ることを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An optical fiber array of the present invention is an optical fiber array in which a plurality of grooves are formed in a part of a substrate, and the optical fibers are housed in the grooves via an adhesive. A roughened surface is formed on the surface of the optical fiber.

【0011】本発明の光ファイバアレイでは、溝に収納
された光ファイバの表面に粗化面が形成されているた
め、光ファイバと接着剤とは密着性に優れ、光ファイバ
は確実に基板に形成された溝に収納され、固定されるこ
ととなる。また、光ファイバの表面に粗化面を形成する
ことにより、未硬化の接着剤の光ファイバ表面に対する
が濡れが向上し、溝と光ファイバとの間隙に、確実に接
着剤が充填されることとなるため、光ファイバが確実に
固定されることとなる。
In the optical fiber array of the present invention, since the roughened surface is formed on the surface of the optical fiber housed in the groove, the optical fiber and the adhesive have excellent adhesiveness, and the optical fiber is surely attached to the substrate. It will be stored and fixed in the formed groove. In addition, by forming a roughened surface on the surface of the optical fiber, wetting of the uncured adhesive with respect to the surface of the optical fiber is improved, and the adhesive is surely filled in the gap between the groove and the optical fiber. Therefore, the optical fiber is securely fixed.

【0012】本発明の光ファイバアレイについて図面を
参照しながら説明する。図1(a)は、本発明の光ファ
イバアレイの一例を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、(a)のA−A線断面図である。
The optical fiber array of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a partial perspective view schematically showing an example of the optical fiber array of the present invention,
(B) is the sectional view on the AA line of (a).

【0013】図1に示すように、光ファイバアレイ10
0は、基板151上に、複数のV溝157が並列に形成
され、このV溝157のそれぞれに、光ファイバ115
が接着剤159を介して収納されている。また、基板1
51上には、溝157とは別に、光ファイバをその周囲
の被覆樹脂層113、114とともに一括して保持する
ための被覆樹脂層保持部158が形成されており、ま
た、この被覆樹脂層保持部158上に載置した被覆樹脂
層114の周囲には接着剤層(図示せず)が形成されて
いる。なお、被覆樹脂層保持部158は、必要に応じ
て、形成すればよく、基板上にはV溝のみが形成されて
いてもよい。また、図中、111はコア、112はクラ
ッドである。また、基板上には、被覆樹脂層保持部に代
えて、光ファイバをその周囲の被覆樹脂層ごと収納する
ことができる凹部が形成されていてもよい。なお、ここ
でいう凹部の形状としては、図1に示す被覆樹脂層保持
部の側方外縁部に基板上面と同一の高さか、または、こ
れよりも低い壁面が設けられたような形状等が挙げられ
る。
As shown in FIG. 1, an optical fiber array 10 is provided.
In No. 0, a plurality of V grooves 157 are formed in parallel on the substrate 151, and each of the V grooves 157 has an optical fiber 115.
Are stored via an adhesive 159. Also, the substrate 1
In addition to the groove 157, a coating resin layer holding portion 158 for holding the optical fiber together with the coating resin layers 113 and 114 around the groove is formed on the 51, and the coating resin layer holding portion 158 is formed. An adhesive layer (not shown) is formed around the coating resin layer 114 placed on the portion 158. The covering resin layer holding portion 158 may be formed as necessary, and only the V groove may be formed on the substrate. In the figure, 111 is a core and 112 is a clad. Further, instead of the coating resin layer holding portion, a recess may be formed on the substrate, which can accommodate the optical fiber together with the surrounding coating resin layer. It should be noted that the shape of the concave portion here is, for example, a shape in which the side outer edge portion of the coating resin layer holding portion shown in FIG. 1 has the same height as the upper surface of the substrate or a wall surface lower than this is provided. Can be mentioned.

【0014】また、図1に示す光ファイバアレイ100
においては、4本の光ファイバが収納されているが、本
発明の光ファイバアレイに溝に収納される光ファイバの
本数は4本に限定されるわけではなく、3本以下であっ
てもよいし、5本以上であってもよい。
Also, the optical fiber array 100 shown in FIG.
In the above, four optical fibers are stored, but the number of optical fibers stored in the groove in the optical fiber array of the present invention is not limited to four and may be three or less. However, it may be five or more.

【0015】図2(a)は、蓋部が形成された本発明の
光ファイバアレイの一例を模式的に示す部分斜視図であ
り、(b)は、光ファイバアレイに取り付けた蓋部のみ
を示す斜視図であり、(c)は、(a)のA−A線断面
図である。図2に示すように、本発明の光ファイバアレ
イ101は、光ファイバリボン110を収納した基板1
51上に、蓋部160が形成されていてもよく、この蓋
部160には、光ファイバ115の一部(光ファイバの
うち溝157に収納されなかった部分)を一括して収納
する凹部161が形成されている。また、この凹部16
1と光ファイバとの間隙にも接着剤169が充填されて
いる。また、基板151の外縁部と蓋部160の外縁部
とは、接着剤(図示せず)を介して密着している。
FIG. 2 (a) is a partial perspective view schematically showing an example of the optical fiber array of the present invention in which a lid is formed, and FIG. 2 (b) shows only the lid attached to the optical fiber array. It is a perspective view shown, (c) is a sectional view on the AA line of (a). As shown in FIG. 2, the optical fiber array 101 of the present invention is a substrate 1 that accommodates an optical fiber ribbon 110.
A lid portion 160 may be formed on the 51, and the lid portion 160 has a concave portion 161 for accommodating a part of the optical fiber 115 (a portion of the optical fiber that is not accommodated in the groove 157). Are formed. In addition, the recess 16
The adhesive 169 is also filled in the gap between the optical fiber 1 and the optical fiber. Further, the outer edge portion of the substrate 151 and the outer edge portion of the lid 160 are in close contact with each other via an adhesive (not shown).

【0016】このような光ファイバアレイにおいて、被
覆樹脂層113、114が除去された光ファイバの表面
には、粗化面(図示せず)が形成されている。上記粗化
面は、その平均粗度Raが1〜100nmであることが
望ましい。平均粗度Raが、1nm未満では、光ファイ
バと接着剤との密着性はほとんど向上せず、一方、平均
粗度Raが100nmを超えると、光ファイバ表面の凹
凸が大きくなるため、粗化面の断面の形状が円形状から
はずれ、光ファイバの位置ズレが発生しやすくなり、光
信号の伝送に悪影響を及ぼすことがある。より望ましい
粗化面の平均粗度Raは、10〜50nmである。
In such an optical fiber array, a roughened surface (not shown) is formed on the surface of the optical fiber from which the coating resin layers 113 and 114 have been removed. The roughened surface preferably has an average roughness Ra of 1 to 100 nm. When the average roughness Ra is less than 1 nm, the adhesion between the optical fiber and the adhesive is hardly improved, while when the average roughness Ra exceeds 100 nm, the unevenness of the surface of the optical fiber becomes large, so that the roughened surface is large. The shape of the cross section of the optical fiber deviates from the circular shape, the positional deviation of the optical fiber is likely to occur, and the optical signal transmission may be adversely affected. A more desirable average roughness Ra of the roughened surface is 10 to 50 nm.

【0017】また、上記粗化面を形成する方法は特に限
定されないが、フッ化物を含む粗化液を用いて形成され
ていることが望ましい。上記範囲の平均粗度Raを有す
る粗化面を、短時間で形成することができるからであ
る。
The method for forming the roughened surface is not particularly limited, but it is preferable that the roughened surface is formed using a roughening liquid containing fluoride. This is because a roughened surface having an average roughness Ra within the above range can be formed in a short time.

【0018】上記フッ化物を含む粗化液としては、例え
ば、HF水溶液、HF−NHF混合液、NaF水溶
液、BaF水溶液、KF水溶液、CaF水溶液、X
eF水溶液等が挙げられる。これらのなかでは、HF
を含む溶液が望ましい。光ファイバに悪影響(光ファイ
バの変形等)を及ぼすことなく、所望の平均粗度Raを
有する粗化面を短時間で形成することができるからであ
り、特に、石英系光ファイバや多成分系光ファイバの表
面に粗化面を形成するのに適している。
As the roughening liquid containing the above-mentioned fluoride, for example, HF aqueous solution, HF-NH 4 F mixed liquid, NaF aqueous solution, BaF 2 aqueous solution, KF aqueous solution, CaF 2 aqueous solution, X is used.
Examples include eF 2 aqueous solution. Among these, HF
A solution containing is desirable. This is because a roughened surface having a desired average roughness Ra can be formed in a short time without adversely affecting the optical fiber (deformation of the optical fiber, etc.). It is suitable for forming a roughened surface on the surface of an optical fiber.

【0019】また、図1および2に示す光ファイバアレ
イ100、101においては、複数のV溝157が形成
された基板151に、一端部の被覆樹脂層が除去される
ことにより光ファイバが露出した光ファイバリボン11
0が収納されている。上記光ファイバリボンとしては特
に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例
えば、図1に示すようなコア111とクラッド112と
からなる光ファイバ115の周囲に一次被覆樹脂層11
3が形成され、この一次被覆樹脂層113で被覆された
光ファイバ115が並列に配置された状態で二次被覆樹
脂層114により一括して被覆されている光ファイバリ
ボン110を用いることができる。
In addition, in the optical fiber arrays 100 and 101 shown in FIGS. 1 and 2, the optical fibers are exposed by removing the coating resin layer at one end on the substrate 151 on which the plurality of V grooves 157 are formed. Optical fiber ribbon 11
0 is stored. The optical fiber ribbon is not particularly limited, and a conventionally known one can be used. For example, the primary coating resin layer 11 is provided around the optical fiber 115 composed of the core 111 and the clad 112 as shown in FIG.
It is possible to use the optical fiber ribbon 110 in which the optical fibers 115 coated with the primary coating resin layer 113 are collectively covered with the secondary coating resin layer 114 in a state where the optical fibers 115 coated with the primary coating resin layer 113 are arranged in parallel.

【0020】光ファイバリボンを構成する光ファイバ1
15としては、例えば、石英ガラス(SiO)を主成
分とする石英系光ファイバ、ソーダ石灰、ガラス、ホウ
硅ガラス等を主成分とする多成分系光ファイバ、シリコ
ーン樹脂やアクリル樹脂等のプラスチックを主成分とす
るプラスチック系光ファイバ等が挙げられる。これらの
なかでは、石英系光ファイバが望ましい。その表面に粗
化面を形成することにより、接着剤との密着性が特に向
上するため、本発明の光ファイバアレイに適しているか
らである。
Optical fiber 1 constituting an optical fiber ribbon
As 15, there are, for example, a silica-based optical fiber whose main component is silica glass (SiO 2 ), a multi-component optical fiber whose main component is soda lime, glass, borosilicate glass, and a plastic such as silicone resin or acrylic resin. Examples include plastic optical fibers containing as a main component. Of these, quartz optical fiber is desirable. By forming a roughened surface on the surface, the adhesiveness with the adhesive is particularly improved, which is suitable for the optical fiber array of the present invention.

【0021】一次被覆樹脂層113は、光ファイバが傷
付いたりすること等を防止する保護層としての役割を果
たしている。また、その材料としては特に限定されず、
例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン
樹脂、フッ素樹脂等の熱硬化性樹脂や、メタクリル酸や
アクリル酸等を用い、上述した熱硬化性樹脂の熱硬化基
を(メタ)アクリル化反応させた感光性樹脂等が挙げら
れる。なお、上記一次被覆樹脂層の層数は1層に限定さ
れず、2層以上であってもよい。
The primary coating resin layer 113 plays a role as a protective layer for preventing the optical fiber from being damaged. The material is not particularly limited,
For example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a silicone resin, a urethane resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, or a fluororesin, or methacrylic acid or acrylic acid is used, and the thermosetting group of the thermosetting resin described above is used. Examples thereof include (meth) acrylated photosensitive resins. The number of the primary coating resin layers is not limited to one and may be two or more.

【0022】また、二次被覆樹脂層114は、一次被覆
樹脂層がその周囲に形成された光ファイバを保護すると
ともに、光ファイバが並列に配置された光ファイバリボ
ンの形態を保持する役割を果たしている。また、その材
料としては特に限定されず、上記一次被覆樹脂層の材料
と同様の熱硬化性樹脂や感光性樹脂等が挙げられる。な
お、上記二次被覆樹脂層の層数は1層に限定されず、2
層以上であってもよい。
The secondary coating resin layer 114 plays a role of protecting the optical fiber formed around the primary coating resin layer and maintaining the shape of the optical fiber ribbon in which the optical fibers are arranged in parallel. There is. The material is not particularly limited, and examples thereof include the same thermosetting resin and photosensitive resin as the material of the primary coating resin layer. The number of the secondary coating resin layers is not limited to one, and
It may be more than one layer.

【0023】また、光ファイバアレイ100、101に
おいては、その一端部の被覆樹脂層が除去された光ファ
イバリボンが基板に収納されているが、基板の溝に収納
される光ファイバは、複数本の単心の光ファイバであっ
てもよいし、複数の光ファイバリボンが積み重ねられた
積層光ファイバリボンであってもよい。積層光ファイバ
リボンを用いる場合には、基板の溝に、複数の光ファイ
バを高密度で並列に配置することができる。
In the optical fiber arrays 100 and 101, the optical fiber ribbon from which the coating resin layer at one end is removed is housed in the substrate, but a plurality of optical fibers are housed in the groove of the substrate. It may be a single-core optical fiber or a laminated optical fiber ribbon in which a plurality of optical fiber ribbons are stacked. When a laminated optical fiber ribbon is used, a plurality of optical fibers can be arranged in high density in parallel in the groove of the substrate.

【0024】図3は、積層光ファイバリボンを用いた本
発明の光ファイバアレイの一例を模式的に示す部分斜視
図である。図3に示すように、光ファイバアレイ200
では、積層光ファイバリボン210の一端部の露出した
光ファイバ235、245が基板251上のV溝257
に接着剤(図示せず)を介して収納され、積層光ファイ
バリボン210の一部が被覆樹脂層ごと被覆樹脂層保持
部258に保持されている。その一端の露出した光ファ
イバは、その表面に粗化面(図示せず)が形成されてい
る。また、被覆樹脂層保持部258に保持された被覆樹
脂層の周囲には接着剤層(図示せず)が形成されてい
る。また、このような、積層光ファイバリボンを用いた
光ファイバアレイにおいても、基板上に、被覆樹脂層保
持部に代えて、積層光ファイバリボンを被覆樹脂層ごと
一括して収納することができる凹部が形成されていても
よい。
FIG. 3 is a partial perspective view schematically showing an example of the optical fiber array of the present invention using the laminated optical fiber ribbon. As shown in FIG. 3, the optical fiber array 200
Then, the exposed optical fibers 235 and 245 at one end of the laminated optical fiber ribbon 210 are connected to the V groove 257 on the substrate 251.
And a part of the laminated optical fiber ribbon 210 is held together with the coating resin layer in the coating resin layer holding portion 258. The exposed optical fiber at one end has a roughened surface (not shown) formed on its surface. Further, an adhesive layer (not shown) is formed around the coating resin layer held by the coating resin layer holding portion 258. Further, also in such an optical fiber array using the laminated optical fiber ribbon, a concave portion which can collectively store the laminated optical fiber ribbon together with the coating resin layer on the substrate instead of the coating resin layer holding portion. May be formed.

【0025】また、積層光ファイバリボン210は、そ
れぞれ一端部の光ファイバが露出した2本の光ファイバ
リボン230、240が積み重ねられ、下段の光ファイ
バリボン240の露出した光ファイバ245と、上段の
光ファイバリボン230の露出した光ファイバ235と
が交互に配置されている。
In the laminated optical fiber ribbon 210, two optical fiber ribbons 230 and 240 each having an exposed optical fiber at one end are stacked, and the exposed optical fiber 245 of the lower optical fiber ribbon 240 and the upper optical fiber 245 of the upper optical fiber ribbon 240 are stacked. The exposed optical fibers 235 of the optical fiber ribbon 230 are alternately arranged.

【0026】また、積層光ファイバリボン210では、
露出した光ファイバ235、245が同一の高さに配置
されるように、露出した光ファイバ235、245は、
それぞれが、その一部で曲げられている。なお、積層光
ファイバリボン210では、上段の光ファイバリボン2
30の露出した光ファイバ235、および、下段の光フ
ァイバリボン240の露出した光ファイバ245のそれ
ぞれの一部が曲げられているが、両者の光ファイバを同
一の高さに配置することができるのであれば、上段の光
ファイバリボンの露出した光ファイバのみが曲げられて
いてもよいし、下段の光ファイバリボンの露出した光フ
ァイバのみが曲げられていてもよい。
In the laminated optical fiber ribbon 210,
The exposed optical fibers 235, 245 are arranged so that the exposed optical fibers 235, 245 are arranged at the same height.
Each is bent in part. In the laminated optical fiber ribbon 210, the upper optical fiber ribbon 2
Although the exposed optical fibers 235 of 30 and the exposed optical fibers 245 of the lower optical fiber ribbon 240 are partly bent, both optical fibers can be arranged at the same height. If so, only the exposed optical fiber of the upper optical fiber ribbon may be bent, or only the exposed optical fiber of the lower optical fiber ribbon may be bent.

【0027】また、上記積層光ファイバリボン210に
おいては、上段の光ファイバリボン230と、下段の光
ファイバリボン240とが、接着剤等を介して固定され
ていることが望ましい。高密度で並列に配置した光ファ
イバの位置ズレがより発生しにくくなるからである。
In the laminated optical fiber ribbon 210, it is desirable that the upper optical fiber ribbon 230 and the lower optical fiber ribbon 240 are fixed to each other with an adhesive or the like. This is because the positional deviation of the optical fibers arranged in parallel at high density is less likely to occur.

【0028】また、上述したように、本発明の光ファイ
バアレイにおいて、光ファイバは接着剤を介して溝に収
納されている。上記接着剤としては、例えば、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、および、紫外線硬化樹脂等の感光
性樹脂のうちの少なくとも一種を含むものが挙げられ
る。これらのなかでは、熱硬化性樹脂、および、紫外線
硬化樹脂等の感光性樹脂が望ましい。上記熱硬化性樹脂
としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シ
リコーン樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等が挙げら
れる。
Further, as described above, in the optical fiber array of the present invention, the optical fibers are housed in the groove via the adhesive. Examples of the adhesive include those containing at least one of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photosensitive resin such as an ultraviolet curable resin. Among these, a thermosetting resin and a photosensitive resin such as an ultraviolet curable resin are preferable. Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin, silicone resin, polyimide resin, and fluororesin.

【0029】上記エポキシ樹脂としては、例えば、ビス
フェノール型エポキシ樹脂や、ノボラック型エポキシ樹
脂等が挙げられる。上記ビスフェノール型エポキシ樹脂
を用いることは、A型やF型の樹脂を選択することによ
り、希釈溶媒を使用しなくてもその粘度を調整すること
ができる点から望ましく、より低粘度に調整することが
できる点からビスフェノールF型エポキシ樹脂がより望
ましい。また、上記ノボラック型エポキシ樹脂を用いる
ことは、この樹脂が、高強度で耐熱性や耐薬品性に優
れ、また、熱分解しにくい点から望ましい。また、上記
ノボラック型エポキシ樹脂としては、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂が望ましい。
Examples of the epoxy resin include bisphenol type epoxy resin and novolac type epoxy resin. The use of the above bisphenol type epoxy resin is desirable in that the viscosity can be adjusted by selecting an A type or F type resin without using a diluting solvent, and it is preferable to adjust the viscosity to a lower value. The bisphenol F type epoxy resin is more preferable in that it can be obtained. Further, it is preferable to use the above novolac type epoxy resin because the resin has high strength, excellent heat resistance and chemical resistance, and is less likely to be thermally decomposed. Further, as the novolac type epoxy resin, a phenol novolac type epoxy resin and a cresol novolac type epoxy resin are desirable.

【0030】また、上記ビスフェノール型エポキシ樹脂
と上記ノボラック型エポキシ樹脂とは、混合して用いる
ことが望ましい。この場合、上記ビスフェノール型エポ
キシ樹脂と上記ノボラック型エポキシ樹脂との混合比
は、1:1〜1:100であることが望ましい。この範
囲で混合することにより、粘度の上昇を抑えることがで
きるからである。
The bisphenol type epoxy resin and the novolac type epoxy resin are preferably mixed and used. In this case, the mixing ratio of the bisphenol type epoxy resin and the novolac type epoxy resin is preferably 1: 1 to 1: 100. This is because mixing within this range can suppress an increase in viscosity.

【0031】上記感光性樹脂としては、例えば、フッ素
化エポキシ樹脂、フッ素化エポキシアクリレート樹脂等
の紫外線硬化樹脂が挙げられ、これらの具体例として
は、例えば、ダイキン工業社製、オプトダインUV−1
000、オプトダインUV−2000、オプトダインU
V−3000、オプトダインUV−4000等が挙げら
れる。
Examples of the above-mentioned photosensitive resin include UV-curable resins such as fluorinated epoxy resin and fluorinated epoxy acrylate resin. Specific examples of these are, for example, Optodyne UV-1 manufactured by Daikin Industries, Ltd.
000, Optodyne UV-2000, Optodyne U
V-3000, Optodyne UV-4000 and the like.

【0032】また、上記感光性樹脂としては、例えば、
上記熱硬化性樹脂に感光性を付与した樹脂等も挙げられ
る。具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸等を用い
て、熱硬化性樹脂の熱硬化基を(メタ)アクリル化した
もの等が挙げられる。これらのなかでは、エポキシ樹脂
の(メタ)アクリレートが望ましく、一分子中に2個以
上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂がより望ましい。
また、上記感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂
等も挙げられる。これらの感光性樹脂は単独で用いても
よいし、2種以上併用してもよい。
The photosensitive resin may be, for example,
The resin etc. which added the photosensitivity to the said thermosetting resin are also mentioned. Specifically, for example, the one in which the thermosetting group of the thermosetting resin is (meth) acrylated by using (meth) acrylic acid or the like can be mentioned. Among these, the (meth) acrylate of the epoxy resin is preferable, and the epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is more preferable.
Examples of the photosensitive resin also include acrylic resin and the like. These photosensitive resins may be used alone or in combination of two or more.

【0033】上記接着剤は、必要に応じて、硬化剤、樹
脂粒子、無機粒子、金属粒子等の粒子、光沢剤、反応安
定剤、光重合剤等の添加剤を含んでいてもよい。これら
の添加剤を含むことにより、流動性の向上や硬化度の調
整等を図ることができるからである。上記硬化剤として
は特に限定されず、一般に使用される硬化剤を用いるこ
とができ、具体例としては、例えば、イミダゾール系硬
化剤、アミン系硬化剤等が挙げられる。
The above adhesive may contain additives such as a curing agent, resin particles, inorganic particles, particles such as metal particles, a brightening agent, a reaction stabilizer, and a photopolymerization agent, if necessary. By including these additives, it is possible to improve the fluidity and adjust the degree of curing. The curing agent is not particularly limited, and commonly used curing agents can be used, and specific examples thereof include an imidazole curing agent and an amine curing agent.

【0034】上記樹脂粒子としては、例えば、熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂等からなるものが挙げられ、具体的
には、例えば、アミノ樹脂(メラミン樹脂、尿素樹脂、
グアナミン樹脂)、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、
ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ビスマレイミド−ト
リアジン樹脂等からなるものが挙げられる。これらは単
独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。また、
上記樹脂粒子としては、アクリロニトリル−ブタジエン
ゴム、ポリクロロプレンゴム等のゴムからなる粒子を用
いることもできる。
Examples of the resin particles include thermosetting resins, thermoplastic resins and the like. Specifically, for example, amino resins (melamine resin, urea resin,
(Guanamine resin), epoxy resin, phenol resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyphenylene resin,
Examples include polyolefin resins, fluororesins, bismaleimide-triazine resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Also,
As the resin particles, particles made of rubber such as acrylonitrile-butadiene rubber and polychloroprene rubber can also be used.

【0035】上記無機粒子としては、アルミナ、水酸化
アルミニウム等のアルミニウム化合物、炭酸カルシウ
ム、水酸化カルシウム等のカルシウム化合物、炭酸カリ
ウム等のカリウム化合物、マグネシア、ドロマイト、塩
基性炭酸マグネシウム等のマグネシウム化合物、シリ
カ、ゼオライト等のケイ素化合物等からなるものが挙げ
られる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併用
してもよいまた、上記無機粒子としては、リンやリン化
合物からなるものを用いることもできる。
Examples of the inorganic particles include aluminum compounds such as alumina and aluminum hydroxide, calcium compounds such as calcium carbonate and calcium hydroxide, potassium compounds such as potassium carbonate, magnesium compounds such as magnesia, dolomite and basic magnesium carbonate, Examples thereof include those made of silicon compounds such as silica and zeolite. These may be used alone or in combination of two or more, and as the above-mentioned inorganic particles, phosphorus or a phosphorus compound may be used.

【0036】上記金属粒子としては、例えば、金、銀、
銅、スズ、亜鉛、ステンレス、アルミニウム、ニッケ
ル、鉄、鉛等からなるものが挙げられる。これらは単独
で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。これらの
粒子を含むことにより、熱膨張係数の調整や難燃性の向
上等を図ることができる。
Examples of the metal particles include gold, silver,
Examples include copper, tin, zinc, stainless steel, aluminum, nickel, iron and lead. These may be used alone or in combination of two or more. By including these particles, adjustment of the thermal expansion coefficient and improvement of flame retardancy can be achieved.

【0037】また、上記接着剤は、溶剤を含んでいても
よいが、溶剤を全く含まないものが望ましい。溶剤を含
まない接着剤では、硬化処理後に気泡がより発生しにく
いからである。また、溶剤を含む場合、溶剤としては、
例えば、NMP(ノルマルメチルピロリドン)、DMD
G(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、グリセ
リン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、メチル
セルソルブ、メチルセルソルブアセテート、メタノー
ル、エタノール、ブタノール、プロパノール等が挙げら
れる。
The adhesive may contain a solvent, but it is desirable that the adhesive does not contain any solvent. This is because bubbles are less likely to occur in the adhesive containing no solvent after the curing treatment. When a solvent is included, the solvent is
For example, NMP (normal methylpyrrolidone), DMD
Examples thereof include G (diethylene glycol dimethyl ether), glycerin, cyclohexanol, cyclohexanone, methylcellosolve, methylcellosolve acetate, methanol, ethanol, butanol, propanol and the like.

【0038】次に、本発明の光ファイバアレイの製造方
法について説明する。ここでは、光ファイバリボンを用
いた光ファイバアレイの製造方法について説明する。 (1)上記光ファイバアレイを製造するには、まず、基
板に複数の溝を形成する。上記基板の材料としては特に
限定されず、外形加工を施した際の平坦性に優れ、鏡面
加工を施し易く、かつ、形状保持性に優れるものであれ
ばよい。具体的には、例えば、シリコン、炭化ケイ素、
アルミナ、窒化アルミニウム、ムライト、セラミック、
ガリウム砒素、ジルコニア、石英、ガラス等の無機材
料;銅、鉄、ニッケル等の金属材料;熱硬化性樹脂、熱
可塑性樹脂、感光性樹脂、これらの複合体等の有機材料
やこれらの有機材料にガラス繊維等の補強材を含浸させ
たもの等が挙げられる。
Next, a method for manufacturing the optical fiber array of the present invention will be described. Here, a method for manufacturing an optical fiber array using an optical fiber ribbon will be described. (1) To manufacture the optical fiber array, first, a plurality of grooves are formed in the substrate. The material of the substrate is not particularly limited as long as it is excellent in flatness when subjected to outer shape processing, easily subjected to mirror surface processing, and excellent in shape retention. Specifically, for example, silicon, silicon carbide,
Alumina, aluminum nitride, mullite, ceramic,
Inorganic materials such as gallium arsenide, zirconia, quartz and glass; metallic materials such as copper, iron and nickel; thermosetting resins, thermoplastic resins, photosensitive resins, organic materials such as composites thereof, and organic materials thereof Examples include those impregnated with a reinforcing material such as glass fiber.

【0039】これらのなかでは、熱や湿度による伸縮
(変形)が少なく、機械的強度に優れる点から無機材料
が望ましい。このような特性を有する無機材料からなる
基板では、光ファイバを収納した際に、特に、光ファイ
バの変形やうねりが発生しにくく、光ファイバを介して
光信号を伝送する際に特に不都合が発生しにくいからで
ある。
Among these, an inorganic material is preferable because it is less likely to expand and contract (deform) due to heat and humidity and has excellent mechanical strength. In the case of a substrate made of an inorganic material having such characteristics, when an optical fiber is housed, deformation or waviness of the optical fiber is unlikely to occur, and inconvenience particularly occurs when transmitting an optical signal through the optical fiber. Because it is difficult to do.

【0040】上記基板に溝を形成する方法としては、例
えば、下記(i)〜(vi)の工程を経る方法等を用いる
ことができる。図4(a)〜(f)は、基板に溝を形成
する方法の一例を示す断面図である。
As a method of forming the groove in the above-mentioned substrate, for example, a method of passing through the following steps (i) to (vi) can be used. 4A to 4F are cross-sectional views showing an example of a method for forming a groove on a substrate.

【0041】(i)まず、基板151上にマスク層15
2(152a、152b)を形成する(図4(a)参
照)。なお、上記マスク層の層数は、図4に示すような
2層に限定されず、1層であってもよいし、3層以上で
あってもよい。
(I) First, the mask layer 15 is formed on the substrate 151.
2 (152a, 152b) are formed (see FIG. 4A). The number of mask layers is not limited to two as shown in FIG. 4 and may be one or three or more.

【0042】マスク層152を形成する方法としては、
例えば、スパッタリング、CVD、めっき等により薄膜
を形成する方法、熱酸化等により酸化膜を形成する方
法、これらを組み合わせた方法等を用いることができ
る。これらのなかでは、例えば、シリコンからなる基板
上にマスク層を形成する場合には、まず、熱酸化により
酸化膜(SiO膜)を形成し、次に、この酸化膜上
に、CVDにより薄膜を形成する方法が望ましい。この
ようなマスク層を形成することにより、後工程で任意の
部分にエッチング処理を施すことにより、任意の形状の
マスクを形成することができる。
As a method of forming the mask layer 152,
For example, a method of forming a thin film by sputtering, CVD, plating or the like, a method of forming an oxide film by thermal oxidation or the like, a method combining these, or the like can be used. Among these, for example, when forming a mask layer on a substrate made of silicon, first an oxide film (SiO 2 film) is formed by thermal oxidation, and then a thin film is formed on this oxide film by CVD. A method of forming is desirable. By forming such a mask layer, it is possible to form a mask having an arbitrary shape by subjecting an arbitrary portion to etching treatment in a later step.

【0043】(ii)次に、マスク層152上にレジスト
用樹脂層154を形成する(図4(b)参照)。具体的
には、予め粘度を調整しておいたレジスト用樹脂組成物
をスピンコータ、カーテンコータ、ロールコータ、印刷
等により塗布する方法や、予めフィルム状に成形してお
いたレジスト用樹脂フィルムを貼り付ける方法等を用い
ることができる。
(Ii) Next, a resist resin layer 154 is formed on the mask layer 152 (see FIG. 4B). Specifically, a method in which a resist resin composition whose viscosity has been adjusted in advance is applied by a spin coater, a curtain coater, a roll coater, printing, or the like, or a resist resin film which has been formed into a film shape in advance is attached. A method of attaching can be used.

【0044】上記レジスト用樹脂組成物やレジスト用樹
脂フィルムとしては、例えば、樹脂成分と、必要に応じ
て配合された硬化剤、粒子、ゴム成分、添加剤、反応安
定剤、溶剤等とからなるものが挙げられる。上記樹脂成
分としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感
光性樹脂、熱硬化性樹脂の一部が感光性基で置換された
樹脂、これらの複合樹脂等が挙げられる。
The resin composition for resist and the resin film for resist are composed of, for example, a resin component and a curing agent, particles, a rubber component, an additive, a reaction stabilizer, a solvent and the like which are blended as necessary. There are things. Examples of the resin component include a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a photosensitive resin, a resin in which a part of the thermosetting resin is replaced with a photosensitive group, a composite resin of these, and the like.

【0045】具体的には、例えば、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポ
リフェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等
の熱硬化性樹脂;これらの熱硬化性樹脂の熱硬化基(例
えば、エポキシ樹脂におけるエポキシ基)にメタクリル
酸やアクリル酸等を反応させ、アクリル基(感光性基)
を付与した樹脂;フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフ
ォン(PES)、ポリスルフォン(PSF)、ポリフェ
ニレンスルホン(PPS)、ポリフェニレンサルファイ
ド(PPES)、ポリフェニルエーテル(PPE)、ポ
リエーテルイミド(PI)等の熱可塑性樹脂;アクリル
樹脂、紫外線硬化樹脂等の感光性樹脂等が挙げられるこ
れらのなかでは、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
イミド樹脂、アクリル樹脂、紫外線硬化樹脂が望まし
い。後工程で、レジスト用樹脂層下のマスク層にエッチ
ング液を用いた処理を施す際に、該エッチング液に対す
る耐性に優れるからである。上記硬化剤としては、イミ
ダゾール系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤
等が挙げられる。
Specifically, for example, thermosetting resins such as epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, bismaleimide resin, polyphenylene resin, polyolefin resin, and fluororesin; thermosetting groups of these thermosetting resins (for example, , (Epoxy group in epoxy resin) is reacted with methacrylic acid or acrylic acid to form an acrylic group (photosensitive group).
Resins provided with: thermoplastics such as phenoxy resin, polyether sulfone (PES), polysulfone (PSF), polyphenylene sulfone (PPS), polyphenylene sulfide (PPES), polyphenyl ether (PPE), and polyetherimide (PI) Resin: Acrylic resin, photosensitive resin such as ultraviolet curable resin, and the like. Among these, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, acrylic resin, and ultraviolet curable resin are preferable. This is because when the mask layer under the resist resin layer is treated with an etching solution in a later step, the resistance to the etching solution is excellent. Examples of the curing agent include imidazole curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, and the like.

【0046】また、上記レジスト用樹脂層の厚さは10
〜50μmが望ましい。また、上記レジスト用樹脂層
は、硬化状態であってもよいし、半硬化状態であっても
よい。具体的には、例えば、後工程で露光、現像処理に
より、基板に形成する溝に相当する部分のレジスト用樹
脂層を除去する場合には、半硬化状態であることが望ま
しく、レーザ処理等により、上記溝に相当する部分のレ
ジスト用樹脂層を除去する場合には、硬化状態であって
もよいし、半硬化状態であってもよい。なお、完全に硬
化した状態や、半硬化状態のレジスト用樹脂層を形成す
る場合、硬化処理は、例えば、70〜200℃に加熱す
ることにより行うことが望ましい。また、段階的に加熱
温度を変化させるステップ硬化を行ってもよい。
The thickness of the resin layer for resist is 10
˜50 μm is desirable. The resist resin layer may be in a cured state or a semi-cured state. Specifically, for example, in the case where the resist resin layer in the portion corresponding to the groove to be formed on the substrate is removed by exposure and development in a later step, it is preferably in a semi-cured state. When the resist resin layer corresponding to the groove is removed, it may be in a cured state or a semi-cured state. In the case of forming a resist resin layer in a completely cured state or a semi-cured state, it is desirable to perform the curing treatment by heating at 70 to 200 ° C, for example. Moreover, you may perform step hardening which changes a heating temperature step by step.

【0047】(iii)次に、レジスト用樹脂層154の
一部、すなわち、基板151に形成する溝に相当する部
分を除去し、エッチングレジスト155とする(図4
(c)参照)。レジスト用樹脂層154の除去は、例え
ば、露光、現像処理により行うことができる。具体的に
は、例えば、半硬化状態のレジスト用樹脂層上にマスク
を載置した後、露光処理を施し、その後、アルカリ溶液
や有機溶剤等の薬液による現像処理を施す。上記現像処
理は、上記薬液中に上記レジスト用樹脂層を形成した基
板を浸漬したり、上記薬液をスプレーしたりすることに
より行うことができる。また、上記マスクとしては、上
記レジスト用樹脂層の除去部分に相当する部分に溝のパ
ターンが描画されたマスクを用いることができる。
(Iii) Next, a part of the resist resin layer 154, that is, a part corresponding to the groove formed in the substrate 151 is removed to obtain an etching resist 155 (FIG. 4).
(See (c)). The resist resin layer 154 can be removed by, for example, exposure and development treatment. Specifically, for example, a mask is placed on the semi-cured resin layer for resist, an exposure process is performed, and then a development process using a chemical solution such as an alkaline solution or an organic solvent is performed. The developing treatment can be performed by immersing the substrate having the resin layer for resist in the chemical solution or spraying the chemical solution. As the mask, it is possible to use a mask in which a groove pattern is drawn in a portion corresponding to the removed portion of the resist resin layer.

【0048】また、レジスト用樹脂層154の除去は、
レーザ処理を用いて行ってもよい。上記レーザ処理に用
いるレーザとしては、例えば、炭酸ガスレーザ、エキシ
マレーザ、UVレーザ、YAGレーザ等が挙げられる。
これらのレーザは、上記レジスト用樹脂層の除去部分の
形状や、上記レジスト用樹脂層の組成等を考慮して使い
分ければよい。なお、この工程で形成するエッチングレ
ジストの形状を調整することにより、後工程を経て形成
する溝の形状を調整することができる。
The resist resin layer 154 is removed by
Alternatively, laser processing may be used. Examples of the laser used for the laser processing include carbon dioxide gas laser, excimer laser, UV laser, and YAG laser.
These lasers may be selectively used in consideration of the shape of the removed portion of the resist resin layer, the composition of the resist resin layer, and the like. By adjusting the shape of the etching resist formed in this step, it is possible to adjust the shape of the groove formed through the subsequent steps.

【0049】(iv)次に、エッチングレジスト155非
形成部に露出したマスク層152を除去し、基板151
の溝を形成する部分を露出させたマスク156を形成す
る(図4(d)参照)。マスク層152の除去は、例え
ば、酸素プラズマや窒素プラズマ等を用いたプラズマ処
理、コロナ処理、逆スパッタリング等のドライエッチン
グ処理により行うことができる。具体的には、例えば、
真空下または減圧下において、マスク層に酸素プラズマ
を照射することにより行うことができる。このようなド
ライエッチング処理を行うことにより、エッチングレジ
ストに損傷や変形等を発生させることなく、選択的にレ
ジスト非形成部分のマスク層のみを除去することができ
る。
(Iv) Next, the mask layer 152 exposed in the portion where the etching resist 155 is not formed is removed, and the substrate 151 is removed.
A mask 156 is formed by exposing a portion where the groove is formed (see FIG. 4D). The mask layer 152 can be removed by, for example, plasma treatment using oxygen plasma or nitrogen plasma, corona treatment, or dry etching treatment such as reverse sputtering. Specifically, for example,
This can be performed by irradiating the mask layer with oxygen plasma under vacuum or reduced pressure. By performing such a dry etching process, it is possible to selectively remove only the mask layer in the resist non-forming portion without causing damage or deformation of the etching resist.

【0050】また、マスク層152の除去は、例えば、
エッチング液や酸溶液に、マスク層152が形成された
基板を浸漬したり、溶液中に浸漬するとともに超音波処
理を施したり、エッチング液や酸溶液をマスク層にスプ
レーしたりすることによっても行うことができる。具体
的にどのような除去方法を選択するかは、マスク層の材
質や厚さ等を考慮して適宜決定すればよく、例えば、マ
スク層が酸化膜からなる場合には、プラズマ処理やエッ
チング液による処理を選択し、マスク層が金属層からな
る場合には、逆スパッタリングやエッチング液による処
理を選択すればよい。
The mask layer 152 can be removed by, for example,
It is also performed by immersing the substrate on which the mask layer 152 is formed in an etching solution or an acid solution, immersing the substrate in the solution and performing ultrasonic treatment, or spraying the etching solution or the acid solution on the mask layer. be able to. The removal method to be specifically selected may be appropriately determined in consideration of the material and thickness of the mask layer. For example, when the mask layer is made of an oxide film, plasma treatment or etching solution is used. When the mask layer is made of a metal layer, reverse sputtering or a treatment with an etching solution may be selected.

【0051】(v)次に、上記エッチングレジスト15
5を剥離除去する(図4(e)参照)。エッチングレジ
スト155の剥離除去は、NaOH、KOH等のアルカ
リ溶液、硫酸、酢酸、炭酸等の酸溶液、メタノール、エ
タノール等のアルコール類、アミン類、ケトン、アセト
ン等の有機溶剤等を用いて行うことができる。これによ
り、基板151上に、溝を形成する部分に相当する部分
が開口したマスク156のみが形成されることとなる。
(V) Next, the etching resist 15
5 is peeled and removed (see FIG. 4E). The removal of the etching resist 155 should be carried out using an alkaline solution such as NaOH, KOH, an acid solution such as sulfuric acid, acetic acid, carbonic acid, alcohols such as methanol and ethanol, amines, ketones, organic solvents such as acetone, and the like. You can As a result, only the mask 156 having the opening corresponding to the portion where the groove is formed is formed on the substrate 151.

【0052】(f)次に、基板151に溝157を形成
する(図4(f)参照)。溝157は、例えば、基板1
51にマスク156を介して、エッチング液を吹き付け
たり、マスク156が形成された基板151をエッチン
グ液中に浸漬したりすることにより形成することができ
る。上記エッチング液としては、例えば、NaOH、K
OH等のアルカリ、硝酸、燐酸、硫酸等の酸、フッ化水
素、フッ化臭素等のフッ素系化合物、ハロゲン化物、過
酸化水素水、メタノール、エタノール等のアルコール類
等を用いることができる。これらのエッチング液を用い
て溝を形成した場合、溝の断面の形状は、V字状や倒立
台形状、矩形状、これらを組み合わせた形状等となる。
(F) Next, a groove 157 is formed in the substrate 151 (see FIG. 4F). The groove 157 is, for example, the substrate 1
It can be formed by spraying an etching solution on 51 through the mask 156 or by immersing the substrate 151 on which the mask 156 is formed in the etching solution. Examples of the etching solution include NaOH and K
An alkali such as OH, an acid such as nitric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, a fluorine-based compound such as hydrogen fluoride or bromine fluoride, a halide, a hydrogen peroxide solution, an alcohol such as methanol or ethanol, or the like can be used. When the groove is formed by using these etching solutions, the cross-sectional shape of the groove is V-shaped, inverted trapezoidal shape, rectangular shape, or a combination thereof.

【0053】上記エッチング液の濃度は、10〜50重
量%が望ましい。上記濃度が、10重量%未満ではエッ
チング処理に長時間を要することがあり、一方、50重
量%を超えてもエッチング速度はほとんど変化しない。
また、上記エッチング液の温度は20〜90℃が望まし
く、エッチング速度は0.5〜5.0μm/分が望まし
い。上記エッチング液の温度が20℃未満では、充分に
エッチングできないことがあり、エッチング液の温度が
90℃を超えてもエッチング量はほとんど変わらず、作
業時の安全性が低下することとなる。
The concentration of the etching solution is preferably 10 to 50% by weight. If the concentration is less than 10% by weight, the etching process may take a long time, while if it exceeds 50% by weight, the etching rate hardly changes.
The temperature of the etching solution is preferably 20 to 90 ° C., and the etching rate is preferably 0.5 to 5.0 μm / min. If the temperature of the etching solution is lower than 20 ° C., the etching may not be sufficiently performed, and even if the temperature of the etching solution exceeds 90 ° C., the etching amount is hardly changed, and the safety during the work is lowered.

【0054】ここで、その材質がシリコンやガリウム砒
素の基板に溝を形成する場合には、KOH等のアルカリ
溶液を用いたエッチング処理を行うことが望ましい。シ
リコンやガリウム砒素からなる基板に、エッチング処理
を行う場合、エッチング面、エッチング液の種類、およ
び、エッチングレジスト非形成部の形状として適宜なも
のを選択することにより、所望の形状の溝を形成するこ
とができる。
Here, when the groove is formed in the substrate whose material is silicon or gallium arsenide, it is desirable to carry out an etching process using an alkaline solution such as KOH. When a substrate made of silicon or gallium arsenide is subjected to etching treatment, a groove having a desired shape is formed by selecting an appropriate etching surface, type of etching solution, and shape of the etching resist non-forming portion. be able to.

【0055】すなわち、KOHを含むエッチング液を用
いてシリコン基板をエッチングする場合、シリコン基板
の(100)面が、(111)面および(110)面に
比べて優先的にエッチングされ、それぞれの結晶面のエ
ッチング速度比がほぼ一定であるため、所望の形状の溝
を形成することができる。具体的には、シリコン基板の
(100)面にエッチング処理を施す場合には、断面の
形状がV字状や倒立台形状の溝を形成することができ、
(110)面にエッチング処理を施す場合には、断面の
形状が矩形状の溝を形成することができる。
That is, when a silicon substrate is etched using an etching solution containing KOH, the (100) plane of the silicon substrate is preferentially etched as compared with the (111) plane and the (110) plane, and the respective crystals are crystallized. Since the etching rate ratio of the surface is almost constant, a groove having a desired shape can be formed. Specifically, when the (100) surface of the silicon substrate is subjected to etching treatment, it is possible to form a groove having a V-shaped or inverted trapezoidal cross section.
When the (110) plane is subjected to etching treatment, a groove having a rectangular cross section can be formed.

【0056】また、KOHを含むエッチング液を用いて
ガリウム砒素基板をエッチングする場合には、(11
1)Ga面のエッチング速度が最も遅く、(111)A
s面のエッチング速度が最も速いことを利用することに
より、所望の形状の溝を形成することができる。
When the gallium arsenide substrate is etched using an etching solution containing KOH, (11
1) The slowest etching rate of Ga surface is (111) A
By utilizing the fact that the s-plane has the highest etching rate, it is possible to form a groove having a desired shape.

【0057】この工程で、エッチング処理を施す際に
は、エッチング液中に界面活性剤等を添加しておいても
よい。エッチング処理時に激しく発泡する場合には、こ
の発泡によりエッチング面に凹凸が形成されることがあ
るが、界面活性剤を添加しておくことによりエッチング
処理時の発泡を抑えることができるからである。また、
上記エッチング処理を超音波を印加しながら行ってもよ
い。超音波を印加することによっても発泡を抑えること
ができるからである。
When the etching treatment is performed in this step, a surfactant or the like may be added to the etching solution. When the foaming occurs violently during the etching process, irregularities may be formed on the etching surface due to the foaming, but by adding a surfactant, the foaming during the etching process can be suppressed. Also,
The etching process may be performed while applying ultrasonic waves. This is because foaming can also be suppressed by applying ultrasonic waves.

【0058】また、基板をエッチング液中に浸漬してエ
ッチング処理を行う場合には、基板を揺動したり、エッ
チング液を攪拌したりしながらエッチング処理を行って
もよい。このような(i)〜(vi)工程を経ることによ
り、基板に所望の形状の溝を形成することができる。
When the substrate is dipped in the etching solution to perform the etching process, the etching process may be performed while the substrate is swung or the etching solution is stirred. Through the steps (i) to (vi), a groove having a desired shape can be formed on the substrate.

【0059】また、この(1)の工程では、基材層上に
樹脂層が形成された積層体を基板とし、この積層体の樹
脂層に溝を形成してもよい。上記基材層としては、例え
ば、シリコン、炭化ケイ素、アルミナ、窒化アルミニウ
ム、ムライト、セラミック、ガリウム砒素、ジルコニ
ア、石英、ガラス等の無機材料;銅、鉄、ニッケル等の
金属材料;熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂、
これらの複合体等の有機材料やこれらの有機材料にガラ
ス繊維等の補強材を含浸させたもの等からなるものが挙
げられる。
In the step (1), the laminate having the resin layer formed on the base material layer may be used as the substrate, and the groove may be formed in the resin layer of the laminate. Examples of the base material layer include inorganic materials such as silicon, silicon carbide, alumina, aluminum nitride, mullite, ceramics, gallium arsenide, zirconia, quartz, and glass; metal materials such as copper, iron, and nickel; thermosetting resins. , Thermoplastic resin, photosensitive resin,
Examples thereof include organic materials such as these composites and those obtained by impregnating these organic materials with a reinforcing material such as glass fiber.

【0060】上記樹脂層としては、例えば、熱硬化性樹
脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂、および、熱硬化性樹脂
のうちの一部が感光性基で置換された樹脂のうちの少な
くとも一種を含む樹脂組成物等からなるものが挙げられ
る。上記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド
樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ
素樹脂等が挙げられる。
As the resin layer, for example, at least one of thermosetting resin, thermoplastic resin, photosensitive resin, and resin in which a part of the thermosetting resin is replaced with a photosensitive group is used. Examples of the resin composition include: Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, bismaleimide resin, polyphenylene resin, polyolefin resin, and fluororesin.

【0061】また、上記熱可塑性樹脂としては、例え
ば、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン(PE
S)、ポリスルフォン(PSF)、ポリフェニレンスル
ホン(PPS)、ポリフェニレンサルファイド(PPE
S)、ポリフェニルエーテル(PPE)、ポリエーテル
イミド(PI)等が挙げられる。上記感光性樹脂として
は、例えば、アクリル樹脂、紫外線硬化樹脂等が挙げら
れる。また、上記熱硬化性樹脂のうちの一部が感光性基
で置換された樹脂としては、上記熱硬化性樹脂の熱硬化
基に(メタ)アクリル酸等を反応させ、感光性基を付与
した樹脂等が挙げられる。
Examples of the thermoplastic resin include phenoxy resin and polyether sulfone (PE).
S), polysulfone (PSF), polyphenylene sulfone (PPS), polyphenylene sulfide (PPE)
S), polyphenyl ether (PPE), polyether imide (PI) and the like. Examples of the photosensitive resin include acrylic resin and ultraviolet curable resin. As the resin in which a part of the thermosetting resin is substituted with a photosensitive group, a thermosetting group of the thermosetting resin is reacted with (meth) acrylic acid or the like to give a photosensitive group. Resin etc. are mentioned.

【0062】このような基材層と樹脂層とからなる積層
体に溝を形成する方法としては、例えば、露光、現像処
理や、レーザ処理等を用いることができる。具体的に
は、露光、現像処理を行う場合には、例えば、樹脂層上
に、形成する溝に対応したパターンが描画されたマスク
を載置した後、露光処理を施し、その後現像液を用いて
現像処理を施すことにより樹脂層に複数の溝を一括して
形成することができる。なお、露光、現像処理を行う場
合、露光処理前の樹脂層は半硬化状態であること望まし
く、また、現像処理後には、溝が形成された樹脂層を完
全に硬化させるために、加熱処理等を施してもよい。
As a method of forming a groove in the laminate composed of such a base material layer and a resin layer, for example, exposure, development treatment, laser treatment or the like can be used. Specifically, when performing exposure and development processing, for example, after placing a mask on which a pattern corresponding to the groove to be formed is drawn on the resin layer, exposure processing is performed, and then a developing solution is used. A plurality of grooves can be collectively formed in the resin layer by subjecting the resin layer to development processing. When the exposure and development processes are performed, it is desirable that the resin layer before the exposure process is in a semi-cured state, and after the development process, in order to completely cure the resin layer in which the groove is formed, heat treatment or the like is performed. May be given.

【0063】また、レーザ処理を行う場合には、レーザ
としては、例えば、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ、
UVレーザ、YAGレーザ等を用いることができる。上
記レーザ処理では、樹脂層の材質を問わず溝を形成する
ことができる。なお、レーザ処理を行う場合、レーザ処
理前の樹脂層は半硬化状態であってもよいし、完全に硬
化した状態であってもよい。
When laser processing is performed, the laser may be, for example, carbon dioxide gas laser, excimer laser,
A UV laser, a YAG laser or the like can be used. In the laser treatment, the groove can be formed regardless of the material of the resin layer. When performing the laser treatment, the resin layer before the laser treatment may be in a semi-cured state or a completely cured state.

【0064】また、この(1)の工程においては、基板
に溝を形成するとともに、光ファイバや光ファイバリボ
ンを被覆樹脂層ごと保持するための被覆樹脂層保持部を
形成することが望ましい。上記被覆樹脂層保持部の形成
方法としては特に限定されず、例えば、ダイヤモンド刃
を備えた装置を用いる方法等が挙げられる。また、上記
被覆樹脂層保持部の形成は、一回で行ってもよいし、二
回以上に分けて行ってもよい。
Further, in the step (1), it is desirable to form a groove in the substrate and to form a coating resin layer holding portion for holding the optical fiber or the optical fiber ribbon together with the coating resin layer. The method for forming the coated resin layer holding portion is not particularly limited, and examples thereof include a method using a device equipped with a diamond blade. Further, the formation of the coating resin layer holding portion may be performed once or may be performed twice or more.

【0065】上記被覆樹脂層保持部を形成した際に、該
被覆樹脂層保持部の上面は凹凸を有することがある。こ
の場合、凹凸を平坦化するための研磨処理を行ってもよ
いが、光ファイバリボン等を保持した際に光ファイバリ
ボンが大きく傾いたりするほどの凹凸でなければ、特
に、研磨処理等を施すことなく、そのままにしておくこ
とが望ましい。これは、上記被覆樹脂層保持部に接着剤
を塗布した場合に、アンカー効果により基板と接着剤と
の密着性が向上するからである。また、ここで被覆樹脂
層保持部を形成する場合、該被覆樹脂層保持部には、保
持する光ファイバリボン等の形状に追従するように、高
さの異なる複数の保持面を形成してもよい。また、基板
上に、被覆樹脂層保持部に代えて、光ファイバをその周
囲の被覆樹脂層ごと収納することができる凹部を形成す
る場合にも、ここで、基板に切削加工を施すことにより
該凹部を形成すればよい。
When the coated resin layer holding portion is formed, the upper surface of the coated resin layer holding portion may have irregularities. In this case, a polishing process may be performed to flatten the unevenness, but if the unevenness is such that the optical fiber ribbon is greatly inclined when holding the optical fiber ribbon or the like, the polishing process is particularly performed. It is desirable to leave it as it is. This is because when the adhesive is applied to the coating resin layer holding portion, the adhesion between the substrate and the adhesive is improved due to the anchor effect. Further, when forming the coated resin layer holding portion here, even if a plurality of holding surfaces having different heights are formed in the coated resin layer holding portion so as to follow the shape of the optical fiber ribbon or the like to be held. Good. Further, in the case of forming a recess on the substrate, instead of the coating resin layer holding portion, which can accommodate the optical fiber together with the surrounding coating resin layer, the substrate may be subjected to a cutting process by cutting the substrate. The recess may be formed.

【0066】(2)ここでは、基板の作製とは別に、一
部の被覆樹脂層が除去され、光ファイバが露出した光フ
ァイバリボンを作製する。ここで、除去する被覆樹脂層
は、光ファイバリボンの一端部の被覆樹脂層であってよ
いし、光ファイバリボンの両端部以外の一部の被覆樹脂
層であってもよいが、光ファイバリボンの両端部以外の
一部の被覆樹脂層であることが望ましい。このような両
端部以外の一部の被覆樹脂層を除去した光ファイバリボ
ンでは、露出した光ファイバの両端が固定されているた
め、より光ファイバの軸方向のバラツキが発生しにく
く、後工程で、基板に収納するのに適しているからであ
る。
(2) Here, apart from the production of the substrate, an optical fiber ribbon in which a part of the coating resin layer is removed and the optical fiber is exposed is produced. Here, the coating resin layer to be removed may be the coating resin layer at one end of the optical fiber ribbon or may be a portion of the coating resin layer other than both ends of the optical fiber ribbon. It is desirable that it is a part of the coating resin layer other than both end portions of. In such an optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends is removed, both ends of the exposed optical fiber are fixed, so that variation in the axial direction of the optical fiber is less likely to occur, and in a post-process. This is because it is suitable for being stored in the substrate.

【0067】上記被覆樹脂層の除去は、例えば、ストリ
ッパ等の被覆樹脂剥離装置を用いて機械的に除去する方
法や、有機溶剤を用いて被覆樹脂層を溶解することによ
り化学的に除去する方法等を用いることができる。ま
た、レーザ光を照射することにより除去する方法を用い
てもよい。
The above-mentioned coating resin layer can be removed, for example, by a mechanical removal method using a coating resin peeling device such as a stripper, or a chemical removal method by dissolving the coating resin layer using an organic solvent. Etc. can be used. Alternatively, a method of removing by irradiation with laser light may be used.

【0068】以下、レーザ光を照射することにより被覆
樹脂層を除去する方法について説明する。上記被覆樹脂
層の除去は、例えば、光ファイバリボンを銅張積層板等
の支持体上に水平に固定した後、レーザ光を照射するこ
とにより行う。
A method of removing the coating resin layer by irradiating with laser light will be described below. The coating resin layer is removed, for example, by horizontally fixing the optical fiber ribbon on a support such as a copper clad laminate and then irradiating it with laser light.

【0069】この場合、まず、光ファイバリボンの主面
に垂直な一の方向からレーザ光を照射し、その後、上記
光ファイバリボンの主面に垂直な一の方向と反対の方向
からレーザ光を照射することが望ましい。レーザ光を光
ファイバリボンの主面に垂直な一の方向からのみ照射す
ると、光ファイバの影となる部分の被覆樹脂層を充分に
除去することができず、この部分の被覆樹脂層を完全に
除去するには、高出力のレーザ光を長時間照射しなけれ
ばならないため、光ファイバ表面を傷つけるおそれが高
まることとなり、また、経済的にも不利である。これに
対し、上述した方法でレーザ光を照射する場合には、被
覆樹脂層を、確実にかつ効率よく除去することができ、
さらに、除去後の被覆樹脂層の形状、特に、被覆樹脂層
の非除去部分の端面の形状を精度よく制御することがで
きる。
In this case, first, laser light is irradiated from one direction perpendicular to the main surface of the optical fiber ribbon, and then laser light is irradiated from a direction opposite to the one direction perpendicular to the main surface of the optical fiber ribbon. Irradiation is desirable. If the laser light is irradiated only from one direction perpendicular to the main surface of the optical fiber ribbon, the coating resin layer in the shadow of the optical fiber cannot be removed sufficiently, and the coating resin layer in this portion cannot be completely removed. In order to remove it, it is necessary to irradiate a high-power laser beam for a long time, which increases the risk of damaging the surface of the optical fiber and is economically disadvantageous. On the other hand, in the case of irradiating the laser beam by the method described above, the coating resin layer can be removed reliably and efficiently,
Further, the shape of the coating resin layer after the removal, particularly the shape of the end surface of the non-removed portion of the coating resin layer can be controlled with high accuracy.

【0070】上記レーザ光の照射は、例えば、CO
ーザ、エキシマレーザ等を用いて行うことができる。こ
れらのなかでは、COレーザを用いることが望まし
い。光ファイバ(クラッド)を傷付けるおそれがより少
なく、所望の部分の被覆樹脂層のみを除去することがで
きるからである。なお、エキシマレーザを用いて石英系
光ファイバの被覆樹脂層を剥離する場合にも特に大きな
問題は発生せず、炭酸ガスレーザに比べて、ランニング
コストが安価であるが、被覆樹脂層の剥離後、光ファイ
バの表面に被覆樹脂の炭化物が残るおそれがある。
Irradiation of the above laser light can be performed using, for example, a CO 2 laser, an excimer laser, or the like. Of these, it is desirable to use a CO 2 laser. This is because the optical fiber (clad) is less likely to be damaged and only the coating resin layer in a desired portion can be removed. Incidentally, even when peeling the coating resin layer of the silica-based optical fiber using an excimer laser does not cause a particularly large problem, compared to the carbon dioxide laser, running cost is low, after peeling the coating resin layer, Carbide of the coating resin may remain on the surface of the optical fiber.

【0071】上記COレーザを用いてレーザ光を光フ
ァイバリボンに照射する場合、レーザ光は、連続的に照
射してもよいが、間欠的に照射(以下、パルス照射とい
う)することが望ましい。パルス照射する場合、連続的
に照射する場合に比べて、その出力を高くすることがで
きるため、効率よく被覆樹脂層を除去することができ、
また、被覆樹脂層を徐々に除去するため、その除去状態
を確認しながら加工を行うことができ、光ファイバ(ク
ラッド)を傷付けるおそれがさらに少ない。
When the optical fiber ribbon is irradiated with the laser light by using the CO 2 laser, the laser light may be continuously irradiated, but it is preferable that the laser light is intermittently irradiated (hereinafter referred to as pulse irradiation). . In the case of pulse irradiation, the output can be increased as compared with the case of continuous irradiation, so that the coating resin layer can be efficiently removed,
Further, since the coating resin layer is gradually removed, the processing can be performed while confirming the removed state, and the possibility of damaging the optical fiber (clad) is further reduced.

【0072】このようにCOレーザを用いてレーザ光
をパルス照射する場合、そのパルス幅は、10〜100
μsであることが望ましい。パルス幅が10μs未満で
あると、被覆樹脂層を充分に除去するためにレーザ光の
照射回数を増やす必要があり、あまり効率的でなく、一
方、パルス幅が100μsを超えると、光ファイバ(ク
ラッド)を傷付けるおそれがある。
When the CO 2 laser is used to pulse-irradiate the laser beam, the pulse width is 10 to 100.
It is preferably μs. If the pulse width is less than 10 μs, it is necessary to increase the number of times of laser light irradiation in order to sufficiently remove the coating resin layer, which is not very efficient. On the other hand, if the pulse width exceeds 100 μs, the optical fiber (clad ) May be damaged.

【0073】また、COレーザを用いてレーザ光を照
射する場合、その照射条件は、被覆樹脂層の材料、厚さ
等を考慮して適宜選択すればよいが、通常、その積算エ
ネルギーは、2.0〜9.0mJ/cmであることが
望ましい。積算エネルギーが2.0mJ/cm未満で
あると、被覆樹脂層を完全に除去することができない場
合があり、一方、積算エネルギーが9.0mJ/cm
を超えると、光ファイバ(クラッド)を傷付けるおそれ
がある。
When the CO 2 laser is used to irradiate the laser beam, the irradiation conditions may be appropriately selected in consideration of the material, thickness, etc. of the coating resin layer. Normally, the integrated energy is It is desirable that it is 2.0 to 9.0 mJ / cm 2 . If the cumulative energy is less than 2.0 mJ / cm 2 , the coating resin layer may not be completely removed, while the cumulative energy is 9.0 mJ / cm 2.
If it exceeds, the optical fiber (clad) may be damaged.

【0074】また、レーザ光の照射回数は、被覆樹脂層
の材料、厚さ、および、COレーザの出力等に応じて
適宜選択すればよく、例えば、クラッド径125μm
で、隣合うクラッド同士の外縁部の最短距離(以下、ク
ラッド間隔ともいう)が250μmの光ファイバリボン
に、上記した範囲のパルス幅および積算エネルギーでレ
ーザ光を照射する場合には、3〜8回程度であることが
望ましい。上記照射回数が3回未満であると、被覆樹脂
層を完全に除去することが困難な場合があり、一方、8
回を超えると、光ファイバリボンの一の主面にレーザ光
を照射した際にほとんどの被覆樹脂層が除去され、光フ
ァイバリボンの一の主面と反対の面にレーザ光を照射す
る前に光ファイバがバラバラになってしまい、上記反対
の面にレーザ光を照射することが困難となることがあ
る。
The number of times of laser light irradiation may be appropriately selected according to the material and thickness of the coating resin layer, the output of the CO 2 laser, and the like.
When irradiating an optical fiber ribbon having a shortest distance between outer edges of adjacent clads (hereinafter also referred to as a clad interval) of 250 μm with a laser beam with a pulse width and integrated energy in the above range, 3 to 8 It is desirable to be about once. If the number of irradiations is less than 3, it may be difficult to completely remove the coating resin layer, while 8
Beyond the number of times, most of the coating resin layer is removed when the main surface of the optical fiber ribbon is irradiated with laser light, and before the main surface of the optical fiber ribbon is irradiated with laser light. The optical fibers may come apart, and it may be difficult to irradiate the opposite surface with laser light.

【0075】図5(a)は、このような本発明の加工方
法の一例を模式的に示す正面図であり、(b)はその側
面図である。図5(a)および(b)に示すように、本
発明の加工方法では、レーザ照射装置20を光ファイバ
リボン110の一の主面の上方に配置し、レーザ照射装
置20から光ファイバリボン110に向かって、光ファ
イバリボン110の一の主面に垂直なレーザ光21を照
射して、このレーザ光21を照射した部分の被覆樹脂層
を除去しながら、光ファイバリボン110をその幅方向
に移動させる。
FIG. 5 (a) is a front view schematically showing an example of such a processing method of the present invention, and FIG. 5 (b) is a side view thereof. As shown in FIGS. 5A and 5B, in the processing method of the present invention, the laser irradiation device 20 is arranged above one main surface of the optical fiber ribbon 110, and the laser irradiation device 20 moves from the optical fiber ribbon 110 to the optical fiber ribbon 110. Toward the main surface of the optical fiber ribbon 110, the laser light 21 perpendicular to the main surface is irradiated to remove the coating resin layer at the portion irradiated with the laser light 21, while the optical fiber ribbon 110 is moved in the width direction. To move.

【0076】また、本発明の加工方法においては、初め
に光ファイバリボン110の厚さの1/2程度の被覆樹
脂層を除去した後、光ファイバリボン110を反転して
レーザ光21を照射し、残りの被覆樹脂層を除去するこ
とが望ましい。初めに除去する被覆樹脂層が多すぎる
と、その時点で、それぞれの光ファイバ115がバラバ
ラになってしまい、次に、光ファイバリボン110を反
転した後、再度、レーザ光21を照射する際に、レーザ
光21を正確に照射することが困難となることがあり、
また、光ファイバ115に直接照射されるレーザ光の照
射量も多くなり、光ファイバ115を傷付けるおそれが
より高まることとなるからである。
Further, in the processing method of the present invention, after first removing the coating resin layer of about 1/2 the thickness of the optical fiber ribbon 110, the optical fiber ribbon 110 is inverted and the laser beam 21 is irradiated. It is desirable to remove the remaining coating resin layer. If there are too many coating resin layers to be removed initially, the respective optical fibers 115 will be scattered at that point, and then, after inverting the optical fiber ribbon 110, when irradiating the laser beam 21 again. , It may be difficult to accurately irradiate the laser light 21,
In addition, the irradiation amount of the laser light directly applied to the optical fiber 115 is increased, and the possibility of damaging the optical fiber 115 is further increased.

【0077】また、光ファイバリボンの幅方向への移動
は、光ファイバリボン110の厚さの1/4程度の被覆
樹脂層を除去するごとに、レーザ照射エリアの半径分行
うことが望ましい。光ファイバリボンをこのように移動
させることで、初めにレーザ光21を照射した領域と、
次にレーザ光21を照射した領域との重なっている領域
の被覆樹脂層が、光ファイバリボン110の厚さの1/
2程度除去されることとなり、かつ、このような厚さの
被覆樹脂層を、光ファイバリボン110の幅方向の全体
に渡って確実に除去することができるからである。な
お、図5(a)における右端の被覆樹脂層(初めにレー
ザ光を照射する部分)は、レーザ光の照射エリアの半径
分だけ照射し、光ファイバリボンの厚さの1/4程度の
被覆樹脂層を除去しておけばよい。
The movement of the optical fiber ribbon in the width direction is preferably performed by the radius of the laser irradiation area each time the coating resin layer of about ¼ of the thickness of the optical fiber ribbon 110 is removed. By moving the optical fiber ribbon in this manner, the region initially irradiated with the laser light 21 and
Next, the coating resin layer in the area overlapping with the area irradiated with the laser light 21 is 1 / thick of the thickness of the optical fiber ribbon 110.
This is because about 2 is removed, and the coating resin layer having such a thickness can be reliably removed over the entire width direction of the optical fiber ribbon 110. Note that the coating resin layer at the right end in FIG. 5A (the portion where the laser light is first irradiated) is irradiated by the radius of the irradiation area of the laser light, and the coating is about 1/4 of the thickness of the optical fiber ribbon. It is only necessary to remove the resin layer.

【0078】また、上述した方法で光ファイバリボンの
厚さの1/2程度の被覆樹脂層を幅方向に除去した後、
光ファイバリボン110をその軸線方向にズラし、その
厚さの1/2程度の被覆樹脂層を幅方向に除去する工程
を繰り返すことで、レーザ光21の照射径よりも広い領
域の被覆樹脂層を除去することができる。その後、光フ
ァイバリボン110を反転した後、同様に残りの被覆樹
脂層を除去することで、レーザ光21の照射径よりも広
い領域の被覆樹脂層を完全に除去することができる。
After removing the coating resin layer of about 1/2 the thickness of the optical fiber ribbon in the width direction by the above method,
By repeating the step of shifting the optical fiber ribbon 110 in the axial direction and removing the coating resin layer having a thickness of about ½ in the width direction, the coating resin layer in a region wider than the irradiation diameter of the laser light 21. Can be removed. Then, after the optical fiber ribbon 110 is turned over, the remaining coating resin layer is similarly removed, whereby the coating resin layer in a region wider than the irradiation diameter of the laser light 21 can be completely removed.

【0079】この場合、先に除去した被覆樹脂層領域
と、後のレーザ光の照射領域とが重ならないように、レ
ーザ照射領域を制御することが望ましい。先に除去した
被覆樹脂層領域と、後のレーザ照射領域とが重なると、
この重なった部分の被覆樹脂層が除去されすぎ、光ファ
イバがバラバラになってしまうことがあるからである。
また、レーザ照射領域の制御は、光ファイバリボンの位
置合わせによって行ってもよいし、マスクやレンズ等を
介してレーザ光を照射することによって行ってもよく、
また、これらを組み合わせて行ってもよい。
In this case, it is desirable to control the laser irradiation area so that the previously removed coating resin layer area and the subsequent laser light irradiation area do not overlap. When the coating resin layer region removed earlier and the laser irradiation region later overlap,
This is because the coating resin layer in the overlapping portion may be excessively removed, and the optical fiber may be disjointed.
Further, the control of the laser irradiation region may be performed by aligning the optical fiber ribbon, or may be performed by irradiating the laser beam through a mask, a lens, or the like,
Further, these may be combined.

【0080】なお、ここでは、光ファイバリボンを移動
させながら被覆樹脂層を除去する方法について説明した
が、レーザ照射装置を移動させながら被覆樹脂層を除去
してもよい。また、被覆樹脂層を除去する領域の大きさ
や、レーザ光の照射径等によっては、被覆樹脂層を除去
する全領域に一度にレーザ光を照射してもよい。
Although the method of removing the coating resin layer while moving the optical fiber ribbon has been described here, the coating resin layer may be removed while moving the laser irradiation device. Further, depending on the size of the area where the coating resin layer is removed, the irradiation diameter of the laser light, and the like, the entire area where the coating resin layer is removed may be irradiated with the laser light at once.

【0081】(3)次に、上記(1)の工程で作製した
基板の溝に、光ファイバリボンの露出した光ファイバを
収納した後、該光ファイバを接着剤により基板に固定す
る。ここで、その一端部の被覆樹脂層が除去された光フ
ァイバリボンを収納する場合、それぞれの光ファイバの
端面と基板の側面とが揃うように収納してもよいし、そ
れぞれの光ファイバが基板の側面から一定長さだけ突出
するように収納してもよい。
(3) Next, after the exposed optical fiber of the optical fiber ribbon is housed in the groove of the substrate manufactured in the above step (1), the optical fiber is fixed to the substrate with an adhesive. Here, when storing the optical fiber ribbon from which the coating resin layer at one end is removed, the optical fiber ribbon may be stored so that the end face of each optical fiber and the side face of the substrate are aligned, or each optical fiber is placed on the substrate. You may store so that it may protrude from the side surface of a certain length.

【0082】また、ここで、その両端部以外の一部の被
覆樹脂層が除去された光ファイバリボンを収納した場合
には、光ファイバリボンを収納した後、基板に収納しな
かった光ファイバリボンの一端部を切断除去することと
なる。なお、光ファイバリボンの一端部を切断除去する
場合、それぞれの光ファイバの端面と基板の側面とが揃
うように切断除去してもよいし、それぞれの光ファイバ
が基板の側面から一定長さだけ突出するように切断除去
してもよい。上記光ファイバリボンの切断除去は、カッ
ター等を用いた切削加工により行うことができる。ま
た、機械研磨により行ってもよい。
Further, when the optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends thereof is removed is housed, the optical fiber ribbon which has not been housed in the substrate after housing the optical fiber ribbon. Will be cut off at one end. In addition, when cutting and removing one end of the optical fiber ribbon, it may be cut and removed so that the end face of each optical fiber and the side surface of the substrate are aligned, or each optical fiber has a certain length from the side surface of the substrate. You may cut and remove so that it may protrude. The cutting and removal of the optical fiber ribbon can be performed by cutting using a cutter or the like. Alternatively, mechanical polishing may be performed.

【0083】また、上記(1)の工程で、光ファイバリ
ボンを被覆樹脂層ごと保持するための被覆樹脂層保持部
を形成した場合には、この工程で、溝に光ファイバを収
納するとともに、該被覆樹脂層保持部で光ファイバリボ
ンを被覆樹脂層ごと保持する。また、基板上に、被覆樹
脂層保持部に代えて凹部を形成した場合には、該凹部に
光ファイバリボンを被覆樹脂層ごと収納する。
In the step (1), when the coating resin layer holding portion for holding the optical fiber ribbon together with the coating resin layer is formed, the optical fiber is housed in the groove in this step, and The coating resin layer holding section holds the optical fiber ribbon together with the coating resin layer. Further, when a concave portion is formed on the substrate instead of the coating resin layer holding portion, the optical fiber ribbon is housed in the concave portion together with the coating resin layer.

【0084】なお、上記(1)の工程において、上記
(i)〜(vi)の工程を経ることにより溝を形成した場
合には、基板上にマスクが形成されているため、本工程
で光ファイバを収納する部分は、厳密には、マスク非形
成部分と基板に設けた溝とを合わせた部分であるが、本
明細書においては、基板に溝を形成した後には、この両
者を合わせた部分を溝ということとする。
In the step (1), when the groove is formed by going through the steps (i) to (vi), the mask is formed on the substrate, and therefore, the light is used in this step. Strictly speaking, the portion for accommodating the fiber is a portion where the mask non-formation portion and the groove provided on the substrate are combined, but in the present specification, after the groove is formed on the substrate, the both are combined. The part is called a groove.

【0085】このように、光ファイバリボンの露出した
光ファイバを溝に収納した後、該光ファイバを固定す
る。具体的には、例えば、溝の端部から未硬化の接着剤
を流し込み、その後、該接着剤を硬化させることにより
光ファイバを固定する。また、基板に被覆樹脂層保持部
を形成し、該被覆樹脂層保持部で光ファイバリボンを被
覆樹脂層ごと保持する場合には、該被覆樹脂層の周囲に
も接着剤を塗布し、被覆樹脂層を固定することが望まし
い。また、本発明の光ファイバアレイでは、溝に収納し
た光ファイバの表面に、上述したように、粗化面が形成
されているため、表面張力による未硬化の接着剤の流入
の度合いが略均一であり、確実に溝と光ファイバとの間
隙に未硬化の接着剤が流し込まれることとなる。なお、
光ファイバを収納する前に、予め,溝内等に接着剤を流
し込んでおき、光ファイバを収納した後、接着剤を硬化
してもよい。
In this way, after the exposed optical fiber of the optical fiber ribbon is housed in the groove, the optical fiber is fixed. Specifically, for example, an uncured adhesive is poured from the end of the groove, and then the adhesive is cured to fix the optical fiber. Further, when the coating resin layer holding portion is formed on the substrate and the optical fiber ribbon is held together with the coating resin layer by the coating resin layer holding portion, an adhesive is also applied to the periphery of the coating resin layer to cover the coating resin layer. It is desirable to fix the layers. Further, in the optical fiber array of the present invention, since the roughened surface is formed on the surface of the optical fiber housed in the groove as described above, the degree of inflow of the uncured adhesive due to the surface tension is substantially uniform. Therefore, the uncured adhesive is surely poured into the gap between the groove and the optical fiber. In addition,
The adhesive may be poured into the groove or the like before storing the optical fiber, and the adhesive may be cured after storing the optical fiber.

【0086】上記接着剤の硬化は、例えば、80〜25
0℃で加熱することにより行うことができる。また、感
光性樹脂を含む接着剤の硬化は、紫外線や赤外線を照射
することにより行えばよい。
The above-mentioned adhesive is cured by, for example, 80 to 25.
It can be performed by heating at 0 ° C. The adhesive containing the photosensitive resin may be cured by irradiating it with ultraviolet rays or infrared rays.

【0087】また、上記光ファイバリボンの露出した光
ファイバを収納、固定した後、露出した光ファイバのう
ちの溝に収納した部分を覆う蓋部を形成することが望ま
しい。上記蓋部の形状は、上記基板と対向する面に、そ
れぞれの光ファイバを別々に収納する溝が形成された形
状であってもよいが、上記基板と対向する面に、溝内に
収納されなかった光ファイバを一括して収納する凹部が
形成された形状であることが望ましい。光ファイバを一
括して収納するための凹部は、その形成が容易であり、
また、上記凹部に収納された光ファイバ同士の間には空
隙が存在するため、光ファイバの相対的な位置ズレが発
生しにくく、さらに、該空隙内には、接着剤等を充填し
やすい。
Further, it is preferable that after the exposed optical fiber of the optical fiber ribbon is housed and fixed, a lid portion is formed to cover the part of the exposed optical fiber housed in the groove. The shape of the lid may be a shape in which a groove for separately accommodating each optical fiber is formed on the surface facing the substrate, but it is accommodated in the groove on the surface facing the substrate. It is desirable to have a shape in which a concave portion for accommodating all the optical fibers that have not been formed is formed. The recess for accommodating the optical fibers at once is easy to form,
Further, since there is a gap between the optical fibers housed in the recesses, relative positional deviation of the optical fibers is unlikely to occur, and furthermore, an adhesive or the like is easily filled in the gap.

【0088】また、上記蓋部に光ファイバを一括して収
納するための凹部が形成されている場合、該凹部の形状
としては、ほぼ直角に交わる平面のみを組み合わせた形
状、曲面により形成された形状、平面と曲面とを組み合
わせた形状等が挙げられる。また、上記凹部の深さは、
光ファイバの溝内に収納されなかった部分の高さと同一
であることが望ましい。
Further, when the lid is provided with a recess for accommodating the optical fibers all at once, the shape of the recess is formed by combining only planes intersecting at right angles, or by a curved surface. A shape, a shape combining a flat surface and a curved surface, and the like can be given. The depth of the recess is
It is desirable that the height is the same as the height of the portion of the optical fiber which is not accommodated in the groove.

【0089】上記蓋部の材質としては、例えば、上記基
板の材質と同様のもの等が挙げられる。なお、上記蓋部
の材質と上記基板の材質とは、同一であってもよいし、
異なっていてもよい。また、上記凹部の形成は、上記蓋
部が無機材料や金属材料からなる場合は、これらからな
る板状体に切削加工を施すことにより行えばよく、上記
蓋部が有機材料からなる場合には、該有機材料を板状体
に成形した後、露光現像処理やレーザ処理を施したり、
または、完全に硬化した有機材料からなる板状体に切削
加工を施すことにより行えばよい。
Examples of the material of the lid include the same materials as those of the substrate. The material of the lid and the material of the substrate may be the same,
It may be different. Further, the formation of the recess may be performed by subjecting the plate-shaped body made of these to cutting processing when the lid is made of an inorganic material or a metal material, and when the lid is made of an organic material. After molding the organic material into a plate-like body, it is subjected to exposure and development treatment or laser treatment,
Alternatively, it may be performed by cutting a plate-shaped body made of a completely cured organic material.

【0090】また、上記蓋部の形状は、基板の全面を覆
う形状(溝を形成した領域および被覆樹脂層保持部を一
体的に覆う形状)であってもよい。また、基板に基板の
溝を形成した領域のみを覆う形状の蓋部とともに、被覆
樹脂層保持部のみを覆う形状の蓋部が別途取りつけられ
ていてもよい。
The shape of the lid may be a shape that covers the entire surface of the substrate (a shape that integrally covers the grooved region and the coating resin layer holding portion). Further, a lid having a shape that covers only the region where the groove of the substrate is formed on the substrate and a lid that has a shape covering only the coating resin layer holding portion may be separately attached.

【0091】このような蓋部を形成した場合には、該蓋
部と光ファイバとの間隙にも、接着剤を流し込み、接着
剤を硬化させることにより蓋部と光ファイバとを固定す
ることが望ましい。また、光ファイバを基板の溝に収納
した後、光ファイバを溝に固定する前に、先に蓋部の形
成を行い、その後、溝と光ファイバとの間隙、および、
凹部と光ファイバとの間隙に同時に接着剤を流し込むこ
とが望ましい。接着剤を塗布した後、この接着剤上に蓋
部を載置した場合、接着剤と蓋部との間に空気が入りこ
みやすくなるからである。
When such a lid is formed, an adhesive may be poured into the gap between the lid and the optical fiber and the adhesive may be cured to fix the lid and the optical fiber. desirable. In addition, after the optical fiber is housed in the groove of the substrate, before the optical fiber is fixed to the groove, the lid is formed first, and then the gap between the groove and the optical fiber,
It is desirable to pour the adhesive into the gap between the recess and the optical fiber at the same time. This is because when the lid is placed on the adhesive after the adhesive is applied, air easily enters between the adhesive and the lid.

【0092】また、この(3)の工程において、その両
端部以外の一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリ
ボンを収納し、該光ファイバリボンの基板に収納されな
かった部分を切断除去する場合、この切断除去は蓋部を
形成した後に行うことが望ましい。
In the step (3), the optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends thereof is removed is accommodated, and the portion of the optical fiber ribbon which is not accommodated in the substrate is cut and removed. In this case, it is desirable that this cutting removal be performed after the lid is formed.

【0093】また、その一端部が露出した光ファイバリ
ボンを収納した後や、両端部以外の一部の露出した光フ
ァイバの収納と、光ファイバリボンの一端部の切断除去
とを行った後には、光ファイバの端面に研磨処理を施す
ことが望ましい。ここで、研磨処理を施す場合には、光
ファイバ、基板および蓋部の端面に傾斜を持たすように
研磨処理を施すことが望ましい。光信号伝送時のもどり
光の発生を抑制することができるからである。また、こ
の場合、光ファイバの端面に研磨処理を施すとともに、
基板や蓋部の側面に研磨処理を施してもよい。
Also, after storing the optical fiber ribbon with one end exposed, or after storing a part of the exposed optical fiber other than both ends and cutting and removing one end of the optical fiber ribbon. It is desirable to polish the end surface of the optical fiber. Here, when performing the polishing treatment, it is desirable to perform the polishing treatment so that the end faces of the optical fiber, the substrate and the lid are inclined. This is because it is possible to suppress the generation of return light when transmitting an optical signal. In this case, while polishing the end face of the optical fiber,
The side surface of the substrate or the lid may be polished.

【0094】このような工程を経ることにより、本発明
の光ファイバアレイを製造することができる。なお、こ
こでは、光ファイバリボンを用いて光ファイバアレイを
製造する方法について説明したが、本発明の光ファイバ
アレイは、単心の光ファイバを用いたり、積層光ファイ
バリボンを用いても製造することができる。
Through the above steps, the optical fiber array of the present invention can be manufactured. Although the method of manufacturing the optical fiber array using the optical fiber ribbon has been described here, the optical fiber array of the present invention can be manufactured by using a single-core optical fiber or a laminated optical fiber ribbon. be able to.

【0095】具体的には、単心の光ファイバを用いて光
ファイバアレイを製造する場合には、例えば、一端部の
被覆樹脂層を剥離した複数本の光ファイバを整列器を用
いて並列に整列させた後、上記(3)の工程で、整列器
で保持したまま、基板に収納し、その後、上記した方法
と同様の方法を用いて光ファイバの固定や蓋部の形成等
を行うことにより光ファイバアレイを製造することがで
きる。
Specifically, when manufacturing an optical fiber array using a single-core optical fiber, for example, a plurality of optical fibers from which the coating resin layer at one end is peeled off are arranged in parallel using an aligner. After aligning, in the step (3) above, the substrate is stored in the substrate while being held by the aligner, and then the optical fiber is fixed and the lid is formed using the same method as described above. The optical fiber array can be manufactured by.

【0096】また、積層光ファイバリボンを用いて光フ
ァイバアレイを製造する場合には、例えば、図6に示す
ような、その一部の被覆樹脂層が除去された積層光ファ
イバリボン300を作製し、その後、この積層光ファイ
バリボンを基板に収納、固定させることにより光ファイ
バアレイを製造することができる。図6は、積層光ファ
イバリボンの一実施形態を模式的に示す部分斜視図であ
る。
When an optical fiber array is manufactured using the laminated optical fiber ribbon, for example, a laminated optical fiber ribbon 300 in which a part of the coating resin layer is removed is prepared as shown in FIG. After that, the optical fiber array can be manufactured by housing and fixing this laminated optical fiber ribbon on the substrate. FIG. 6 is a partial perspective view schematically showing an embodiment of the laminated optical fiber ribbon.

【0097】図6に示すように、積層光ファイバリボン
300は、その両端部以外の一部の光ファイバ345a
が露出した第二の光ファイバリボン(下段の光ファイバ
リボン)340の露出した光ファイバ345aの間に、
その一端部の光ファイバ335aが露出した第一の光フ
ァイバリボン(上段の光ファイバリボン)330の露出
した光ファイバ335aが配置されるように、第一の光
ファイバリボン330と第二の光ファイバリボン340
とが積み重ねられている。
As shown in FIG. 6, the laminated optical fiber ribbon 300 has a part of the optical fibers 345a other than both ends thereof.
Between the exposed optical fibers 345a of the exposed second optical fiber ribbon (lower optical fiber ribbon) 340,
The first optical fiber ribbon 330 and the second optical fiber 330 are arranged so that the exposed optical fiber 335a of the first optical fiber ribbon (upper optical fiber ribbon) 330 with the optical fiber 335a at one end thereof exposed. Ribbon 340
And are stacked.

【0098】また、積層光ファイバリボン300では、
露出した光ファイバ335a、345aが同一の高さに
配置されるように、露出した光ファイバ335a、34
5aは、それぞれが、その一部で曲げられている。この
ように、光ファイバ335aおよび光ファイバ345a
を同一の高さに配置することより、基板の溝に収納する
のに適した形状となる。
In the laminated optical fiber ribbon 300,
The exposed optical fibers 335a, 345a are arranged so that the exposed optical fibers 335a, 345a are arranged at the same height.
Each of 5a is bent at a part thereof. Thus, optical fiber 335a and optical fiber 345a
By arranging the same at the same height, it becomes a shape suitable for being housed in the groove of the substrate.

【0099】なお、積層光ファイバリボン300では、
第一の光ファイバリボン330の露出した光ファイバ3
35a、および、第二の光ファイバリボン340の露出
した光ファイバ345aのそれぞれの一部が曲げられて
いるが、両者の光ファイバを同一の高さに配置すること
ができるのであれば、第一の光ファイバリボンの露出し
た光ファイバのみが曲げられていてもよいし、第二の光
ファイバリボンの露出した光ファイバのみが曲げられて
いてもよい。
In the laminated optical fiber ribbon 300,
The exposed optical fiber 3 of the first optical fiber ribbon 330
35a and a part of each of the exposed optical fibers 345a of the second optical fiber ribbon 340 are bent, but if both optical fibers can be arranged at the same height, Only the exposed optical fiber of the optical fiber ribbon may be bent, or only the exposed optical fiber of the second optical fiber ribbon may be bent.

【0100】また、積層光ファイバリボン300におい
て、第一の光ファイバリボン330と第二の光ファイバ
リボンとは、接着剤を介して固定されていることが望ま
しい。なお、図6に示す積層光ファイバリボン300に
おいては、8本の光ファイバが同一の高さに配置されて
いるが、積層光ファイバリボンにおける光ファイバの本
数は8本に限定されず、7本以下であってもよいし、9
本以上であってもよい。また、上記第一および第二の光
ファイバリボンのそれぞれの光ファイバの本数は、図6
に示す光ファイバリボンのように同数か、第一の光ファ
イバリボンのほうが1本多いか、または、第二の光ファ
イバリボンのほうが1本多いことが望ましい。このよう
な場合、光ファイバを最も高密度で配列させることがで
きるからである。
In the laminated optical fiber ribbon 300, it is desirable that the first optical fiber ribbon 330 and the second optical fiber ribbon are fixed to each other with an adhesive. In the laminated optical fiber ribbon 300 shown in FIG. 6, eight optical fibers are arranged at the same height, but the number of optical fibers in the laminated optical fiber ribbon is not limited to eight, and seven optical fibers are provided. May be less than or equal to 9
It may be more than a book. The number of optical fibers in each of the first and second optical fiber ribbons is as shown in FIG.
It is desirable that the number of optical fiber ribbons is the same as that of the optical fiber ribbons shown in (1), the number of the first optical fiber ribbons is one more, or that of the second optical fiber ribbons is one more. This is because in such a case, the optical fibers can be arranged at the highest density.

【0101】上記積層光ファイバリボンの作製は、例え
ば、まず、光ファイバリボンの一端部の被覆樹脂層を、
上述したような、被覆樹脂剥離装置を用いる方法、有機
溶剤で溶解させる方法、レーザ光を照射する方法等を用
いて除去することにより第一の光ファイバリボンを作製
し、これとは別に、上記と同様の被覆樹脂層の除去方法
を用いて、光ファイバリボンの両端部以外の一部の被覆
樹脂層を除去することにより第二の光ファイバリボンを
作製し、次に、光ファイバの一部を曲げた後、両者の光
ファイバが、交互に等間隔で配置されるように、第一お
よび第二の光ファイバリボンを接着剤を介して積み重ね
ることにより行うことができる。
In the production of the laminated optical fiber ribbon, for example, first, the coating resin layer at one end of the optical fiber ribbon is
As described above, a first optical fiber ribbon is produced by removing using a method of using a coating resin peeling device, a method of dissolving with an organic solvent, a method of irradiating with a laser beam, and the like, apart from this, A second optical fiber ribbon is produced by removing a part of the coating resin layer other than both ends of the optical fiber ribbon by using the same method for removing the coating resin layer as described above. After bending, the first and second optical fiber ribbons may be stacked with an adhesive so that the two optical fibers are alternately arranged at equal intervals.

【0102】このような積層光ファイバリボンを基板に
収納、固定させる方法としては、上記(3)の工程で用
いた方法と同様の方法を用いることができる。なお、上
記積層光ファイバリボンを用いて光ファイバアレイを製
造する場合も、上記基板に積層光ファイバリボンを収
納、固定した後、第二の光ファイバリボンの一端部の切
断除去と光ファイバの端面等の研磨処理とを行う。
As a method for accommodating and fixing such a laminated optical fiber ribbon on a substrate, the same method as the method used in the step (3) can be used. Even when an optical fiber array is manufactured using the laminated optical fiber ribbon, after the laminated optical fiber ribbon is housed and fixed in the substrate, the second optical fiber ribbon is cut off and the end face of the optical fiber is removed. And the like.

【0103】[0103]

【実施例】以下、本発明をさらに詳細に説明する。The present invention will be described in more detail below.

【0104】(実施例1) A.一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリボンの
作製 (1)直径250μmの光ファイバ115が、クラッド
間隔250μmで8本並列に配置され、該光ファイバの
周囲にアクリレート系紫外線硬化型樹脂からなる被覆樹
脂層(一次被覆層113および二次被覆層114)が被
覆された光ファイバリボン(住友電気工業社製)を準備
し、この光ファイバリボンの一端部から5〜50mmの
ところの部分の被覆樹脂層(一次被覆層および二次被覆
層)を下記の方法で剥離した(図7(a)参照)。
(Example 1) A. Production of optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer has been removed (1) Eight optical fibers 115 having a diameter of 250 μm are arranged in parallel with a clad interval of 250 μm, and an acrylate-based ultraviolet curable resin is formed around the optical fibers. An optical fiber ribbon (manufactured by Sumitomo Electric Industries, Ltd.) coated with a coating resin layer (primary coating layer 113 and secondary coating layer 114) is prepared, and a portion 5 to 50 mm from one end of the optical fiber ribbon is prepared. The coating resin layers (primary coating layer and secondary coating layer) were peeled off by the following method (see FIG. 7 (a)).

【0105】すなわち、まず、上記光ファイバリボンを
銅張積層板上に固定した後、パルス発振型COレーザ
照射装置(三菱電機社製)を用いて以下の条件でレーザ
光を照射し、その後、レーザ光の照射位置をその照射径
の半径分(200μm)ズラし、再度、下記の条件でレ
ーザ光の照射を行う工程を繰り返して、被覆樹脂層をそ
の厚さの約1/2除去をし、次に、光ファイバリボンを
反転させた後、上記と同様にして残りの約1/2の被覆
樹脂層を除去して光ファイバを露出させた。なお、図7
に示した光ファイバリボンは、4本の光ファイバが並列
に配置されているが、この図は模式図であり、実際に
は、上述したように8本の光ファイバが並列に配置され
た光ファイバリボンを用いた。
That is, first, after fixing the above-mentioned optical fiber ribbon on the copper clad laminate, laser light was irradiated under the following conditions using a pulse oscillation type CO 2 laser irradiation device (manufactured by Mitsubishi Electric Corporation), and then The step of displacing the irradiation position of the laser light by the radius of the irradiation diameter (200 μm) and irradiating the laser light again under the following conditions is repeated to remove about 1/2 of the thickness of the coating resin layer. Then, after inverting the optical fiber ribbon, the remaining about 1/2 coating resin layer was removed in the same manner as above to expose the optical fiber. Note that FIG.
In the optical fiber ribbon shown in Fig. 4, four optical fibers are arranged in parallel, but this figure is a schematic diagram. In reality, as described above, the optical fiber in which eight optical fibers are arranged in parallel is used. A fiber ribbon was used.

【0106】レーザ照射条件 レーザマスク径 φ5.1mm レンズ位置 190mm パルス幅 15μs レーザ光の照射径 φ400μm ショット回数 5回 積算エネルギー 3.2mJ/cm [0106]Laser irradiation conditions Laser mask diameter φ5.1mm Lens position 190mm Pulse width 15μs Laser beam irradiation diameter φ400 μm 5 shots Accumulated energy 3.2 mJ / cmTwo

【0107】(2)次に、後工程で切断除去する側の被
覆樹脂層114aと露出した光ファイバ115とを1重
量%のHF水溶液中に60秒間浸漬することにより、露
出した光ファイバの表面に平均粗度Ra:20nmの粗
化面を形成した。なお、平均粗度Raは、表面粗さ測定
器(Veeco社製、Wyko)を用いて測定した。
(2) Next, the coating resin layer 114a on the side to be cut and removed in a later step and the exposed optical fiber 115 are immersed in a 1 wt% HF aqueous solution for 60 seconds to expose the surface of the exposed optical fiber. A roughened surface having an average roughness Ra of 20 nm was formed on. The average roughness Ra was measured using a surface roughness measuring device (Veeco, Wyko).

【0108】B.蓋部の作製 石英ガラスからなる基板に、ダイヤモンドカッターを用
いた切削加工を施すことにより、露出した光ファイバを
収納するための凹部161を形成し、蓋部160とした
(図8(a)参照)。なお、該凹部は、その断面の形状
が矩形状である。
B. Fabrication of the lid portion A substrate made of quartz glass was subjected to a cutting process using a diamond cutter to form a concave portion 161 for accommodating the exposed optical fiber, thereby forming a lid portion 160 (see FIG. 8A). ). The recess has a rectangular cross section.

【0109】C.光ファイバアレイの作製 (1)その表面に研磨処理を施した厚さ0.5〜2.0
mmのシリコン基板151を出発材料とし、このシリコ
ン基板151上に下記の方法によりマスク層152を形
成した(図4(a)参照)。すなわち、まず、シリコン
基板151の表面に熱酸化炉中で、厚さ0.04μmの
SiO膜152aを形成し、次に、このSiO膜上
に減圧CVD法を用いて、厚さ0.1μmのSi
膜152bを形成することにより、SiO膜152a
とSi膜152bとの2層からなるマスク層15
2を形成した。
C. Fabrication of optical fiber array (1) Thickness 0.5-2.0 with polishing treatment on its surface
A silicon substrate 151 having a size of mm was used as a starting material, and a mask layer 152 was formed on the silicon substrate 151 by the following method (see FIG. 4A). That is, first, the surface of the silicon substrate 151 by thermal oxidation furnace to form a SiO 2 film 152a having a thickness of 0.04 .mu.m, then using a vacuum CVD method on this SiO 2 film, a thickness of 0. 1 μm Si 3 N 4
The SiO 2 film 152a is formed by forming the film 152b.
And a Si 3 N 4 film 152b as a mask layer 15 composed of two layers.
Formed 2.

【0110】(2)次に、マスク層152上に、厚さ2
5μmのレジスト用樹脂フィルムを貼り付けることによ
りレジスト用樹脂層154を形成した(図4(b)参
照)。
(2) Next, a thickness of 2 is formed on the mask layer 152.
A resin layer for resist 154 was formed by sticking a resin film for resist of 5 μm (see FIG. 4B).

【0111】(3)次に、上記レジスト用樹脂層154
上に溝パターンが描画されたマスクを載置し、800m
J/cmで露光し、その後、アルカリ溶液で現像処理
することにより、マスク層上にエッチングレジスト15
5を形成した(図4(c)参照)。
(3) Next, the resist resin layer 154 is formed.
Place a mask with a groove pattern drawn on it, 800m
It is exposed to J / cm 2 and then developed with an alkaline solution to form an etching resist 15 on the mask layer.
5 was formed (see FIG. 4 (c)).

【0112】(4)次に、上記エッチングレジスト15
5非形成部に露出したマスク層を下記の方法により除去
し、基板151の一部を露出させたマスク156を形成
した(図4(d)参照)。すなわち、まず、露出したS
膜を、酸素プラズマを用いたドライエッチング
処理により除去することによりSiO膜を露出させ、
さらに、このSiO 膜をHF系のエッチング液を用い
たウェットエッチング処理により除去し、シリコン基板
を露出させた。
(4) Next, the etching resist 15
5 Remove the mask layer exposed in the non-formed area by the following method
Then, a mask 156 exposing a part of the substrate 151 is formed.
(See FIG. 4 (d)). That is, first, the exposed S
iThreeNFourDry etching of the film using oxygen plasma
SiO by removing by treatmentTwoExpose the membrane,
Furthermore, this SiO TwoThe film uses an HF-based etchant
Removed by wet etching process, silicon substrate
Exposed.

【0113】(5)次に、10重量%のNaOH水溶液
を用いてエッチングレジストを剥離除去した(図4
(e)参照)。これにより、シリコン基板151上に
は、溝を形成する部分に相当する部分が開口したマスク
156のみが形成されていることとなった。
(5) Next, the etching resist was peeled and removed using a 10 wt% NaOH aqueous solution (FIG. 4).
(See (e)). As a result, on the silicon substrate 151, only the mask 156 having the opening corresponding to the portion where the groove is formed is formed.

【0114】(6)次に、マスク156が形成されたシ
リコン基板151を、KOH濃度25重量%、液温度7
8℃のエッチング液(KOH:100g、HO:30
0g)中に浸漬することにより、深さ120μmのV溝
を8本形成した(図4(f)参照)。その後、基板15
1の一部に光ファイバリボンを被覆樹脂層ごと保持する
ための被覆樹脂層保持部158(図7(a)参照)を、
ダイヤモンドカッターを用いた切削加工を施すことによ
り形成した。なお、図7に示した基板には、溝は4本し
か形成されていないが、この図は模式図であり、実際に
は、上述したように、基板上に8本の溝を形成した。
(6) Next, the silicon substrate 151 on which the mask 156 is formed is subjected to a KOH concentration of 25% by weight and a liquid temperature of 7%.
8 ° C. etching solution (KOH: 100 g, H 2 O: 30
0 g) to form eight V-grooves having a depth of 120 μm (see FIG. 4 (f)). Then the substrate 15
A coating resin layer holding portion 158 (see FIG. 7A) for holding the optical fiber ribbon together with the coating resin layer in a part of 1
It was formed by performing a cutting process using a diamond cutter. Although only four grooves are formed on the substrate shown in FIG. 7, this figure is a schematic diagram, and in fact, as described above, eight grooves were formed on the substrate.

【0115】(7)次に、上記Aで作製した光ファイバ
リボン110Aの光ファイバ115の露出した部分を、
V溝157に載置し(図7(a)、(b)参照)、さら
に、上記Bで作製した蓋部160を基板151上に接着
剤(ダイキン工業社製、UV−3000)を介して取り
付けた(図8(a)参照)。なお、上記接着剤は、蓋部
の外縁部に予め塗布しておいた。さらに、溝157と光
ファイバ115との間隙、および、蓋部160と光ファ
イバ115との間隙に、接着剤(ダイキン工業社製、U
V−3000)を流し込んだ。また、被覆樹脂層保持部
158に載置した被覆樹脂層の周囲にも上記接着剤(U
V−3000)を塗布した。
(7) Next, the exposed portion of the optical fiber 115 of the optical fiber ribbon 110A produced in the above A is
It is placed in the V-shaped groove 157 (see FIGS. 7A and 7B), and the lid 160 manufactured in the above B is placed on the substrate 151 via an adhesive (UV-3000 manufactured by Daikin Industries, Ltd.). It was attached (see FIG. 8 (a)). The adhesive was previously applied to the outer edge of the lid. Furthermore, an adhesive (U, manufactured by Daikin Industries, Ltd., U manufactured by Daikin Industries, Ltd.
V-3000) was poured. Further, the adhesive (U) is also applied to the periphery of the coating resin layer placed on the coating resin layer holding portion 158.
V-3000) was applied.

【0116】次に、蓋部160を設けた基板151の上
部から、高圧水銀ランプを用いて、10J/cmの紫
外線を照射し、その後、60℃で1時間加熱することに
より、接着剤を完全に硬化させた。
Next, an ultraviolet ray of 10 J / cm 2 is irradiated from the upper part of the substrate 151 provided with the lid part 160 with a high pressure mercury lamp, and thereafter, the adhesive is heated at 60 ° C. for 1 hour. It was completely cured.

【0117】(8)次に、光ファイバリボン110Aの
一端部の基板に収納しなかった被覆樹脂層114aと、
この被覆樹脂層に覆われた光ファイバとをダイヤモンド
カッターにより切断除去し、さらに、光ファイバの端面
と、基板および蓋部の端面とが揃うように研磨処理を施
し、光ファイバアレイ101を製造した(図8(b)参
照)。
(8) Next, the coating resin layer 114a not accommodated in the substrate at one end of the optical fiber ribbon 110A,
The optical fiber covered with this coating resin layer was cut and removed by a diamond cutter, and further, polishing treatment was performed so that the end face of the optical fiber and the end faces of the substrate and the lid portion were aligned, to manufacture the optical fiber array 101. (See FIG. 8B).

【0118】(実施例2)実施例1のBの工程(蓋部の
作製)において、硼珪酸ガラス(パイレックス(R))
からなる基板に、ダイヤモンドカッターを用いた切削加
工を施すことにより、深さの異なる、露出した光ファイ
バを収納するための凹部171と、光ファイバリボンを
被覆樹脂層ごと収納するための凹部172とを有する蓋
部170を作製し(図9(a)参照)、実施例1のCの
(7)の工程において、この蓋部170を基板に取り付
けた以外は、実施例1と同様にして光ファイバアレイ1
02を製造した(図9(b)参照)。
(Example 2) In the process B of Example 1 (preparation of the lid portion), borosilicate glass (Pyrex (R)) was used.
The substrate made of is subjected to a cutting process using a diamond cutter to form a recess 171 for accommodating the exposed optical fibers having different depths, and a recess 172 for accommodating the optical fiber ribbon together with the coating resin layer. A lid portion 170 having the above is manufactured (see FIG. 9A), and in the step (7) of C of the embodiment 1, the light is emitted in the same manner as in the embodiment 1 except that the lid portion 170 is attached to the substrate. Fiber array 1
02 was produced (see FIG. 9 (b)).

【0119】(実施例3) A.一部の被覆樹脂層が除去された積層光ファイバリボ
ンの作製 (1)直径250μmの光ファイバが、クラッド間隔2
50μmで8本並列に配置され、該光ファイバの周囲に
アクリレート系紫外線硬化型接着剤からなる被覆樹脂層
(一次被覆層および二次被覆層)が被覆された光ファイ
バリボン(住友電気工業社製)を2本準備し、それぞれ
の光ファイバリボンに下記(i)および(ii)の加工を
施した。
(Example 3) A. Fabrication of laminated optical fiber ribbon from which some coating resin layers have been removed (1) An optical fiber with a diameter of 250 μm has a clad spacing of 2
Optical fiber ribbons (manufactured by Sumitomo Electric Industries, Ltd.) that are arranged in parallel with each other at 50 μm and have a coating resin layer (primary coating layer and secondary coating layer) made of an acrylate ultraviolet curing adhesive around the optical fibers. 2) was prepared, and each of the optical fiber ribbons was subjected to the following processing (i) and (ii).

【0120】(i)まず、光ファイバの一端部から30
mmまでの部分の被覆樹脂層(一次被覆層および2次被
覆層)を、実施例1のAの工程と同様の条件で除去する
ことにより光ファイバを露出させた。次に、露出した光
ファイバを1重量%のHF水溶液中に60秒間浸漬する
ことにより、露出した光ファイバの表面に平均粗度R
a:20nmの粗化面を形成し、第一の光ファイバリボ
ンとした。
(I) First, from the one end of the optical fiber,
The coating resin layer (primary coating layer and secondary coating layer) up to mm was removed under the same conditions as in step A of Example 1 to expose the optical fiber. Next, the exposed optical fiber is immersed in a 1% by weight HF aqueous solution for 60 seconds, so that the surface of the exposed optical fiber has an average roughness R.
a: A roughened surface having a thickness of 20 nm was formed to obtain a first optical fiber ribbon.

【0121】(ii)光ファイバの一端部から5〜50m
mのところの部分の被覆樹脂層(1次被覆層および2次
被覆層)を、実施例1のAの工程と同様の条件で除去す
ることにより光ファイバを露出させた。次に、後工程で
切断除去する側の被覆樹脂層と露出した光ファイバとを
1重量%のHF水溶液中に60秒間浸漬することによ
り、露出した光ファイバの表面に平均粗度Ra:20n
mの粗化面を形成し、第二の光ファイバリボンとした。
(Ii) 5 to 50 m from one end of the optical fiber
The coating resin layer (primary coating layer and secondary coating layer) at the portion m was removed under the same conditions as in step A of Example 1 to expose the optical fiber. Next, the coating resin layer on the side to be cut and removed in a later step and the exposed optical fiber were dipped in a 1 wt% HF aqueous solution for 60 seconds to give an average roughness Ra: 20n on the surface of the exposed optical fiber.
A roughened surface of m was formed to obtain a second optical fiber ribbon.

【0122】(2)次に、上記(ii)の処理を施した第
二の光ファイバリボン340の上に、上記(i)の処理
を施した第一の光ファイバリボン330を積み重ねた。
さらに、両者の光ファイバの露出した部分335a、3
45aの高さが同一となるように、それぞれの光ファイ
バの一部を曲げ、積層光ファイバリボン300とした
(図6参照)。
(2) Next, the first optical fiber ribbon 330 treated with the above (i) was stacked on the second optical fiber ribbon 340 treated with the above (ii).
Furthermore, the exposed portions 335a, 3a of both optical fibers
Part of each optical fiber was bent so that the heights of 45a were the same, and a laminated optical fiber ribbon 300 was obtained (see FIG. 6).

【0123】なお、この工程で、第一の光ファイバリボ
ン330を第二の光ファイバリボン340上に積み重ね
る際には、光ファイバの一部を曲げた後、両者の光ファ
イバ335、345が、交互に等間隔で配置されるよう
に積み重ねた。また、この工程では、第二の光ファイバ
リボン340上に第一の光ファイバリボン330を積み
重ねる前に、予め、第二の光ファイバリボン340の二
次被覆樹脂の上面の一部に接着剤(図示せず)を塗布し
ておき、該接着剤を介して第二の光ファイバリボン34
0上に第一の光ファイバリボン330を積み重ね、その
後、上記接着剤を硬化させることにより、両者を固定し
た。
In this step, when stacking the first optical fiber ribbon 330 on the second optical fiber ribbon 340, after bending a part of the optical fiber, both optical fibers 335 and 345 are They were stacked so that they were alternately arranged at equal intervals. In addition, in this step, before the first optical fiber ribbon 330 is stacked on the second optical fiber ribbon 340, an adhesive (a part of the upper surface of the secondary coating resin of the second optical fiber ribbon 340 is previously formed ( (Not shown) is applied in advance, and the second optical fiber ribbon 34 is applied through the adhesive.
The first optical fiber ribbons 330 were stacked on top of each other, and then the adhesive was cured to fix the two.

【0124】B.蓋部の作製 凹部の大きさを、露出した光ファイバを収納することが
できる大きさにした以外は、実施例1のBと同様にして
蓋部を形成した。
B. Fabrication of lid The lid was formed in the same manner as in Example 1B, except that the size of the recess was set to accommodate the exposed optical fiber.

【0125】C.光ファイバアレイの作製 (1)形成する溝の本数を16本とした以外は、実施例
1のCの(1)〜(6)の工程と同様にして、基板にV
溝を形成し、さらに、基板の一部に積層光ファイバリボ
ンを被覆樹脂層ごと保持するための被覆樹脂層保持部
を、ダイヤモンドカッターを用いた切削加工を施すこと
により形成した。
C. Fabrication of optical fiber array (1) V was applied to the substrate in the same manner as in steps (1) to (6) of C of Example 1 except that the number of grooves to be formed was 16.
A groove was formed, and a coating resin layer holding portion for holding the laminated optical fiber ribbon together with the coating resin layer was formed on a part of the substrate by cutting with a diamond cutter.

【0126】(2)次に、上記Aで作製した積層光ファ
イバリボンの露出した光ファイバを、V溝に載置し、さ
らに、上記Bで作製した蓋部を基板上に接着剤(ダイキ
ン工業社製、UV−3000)を介して取り付けた。な
お、上記接着剤は、蓋部の外縁部に予め塗布しておい
た。さらに、溝と光ファイバとの間隙、および、蓋部と
光ファイバとの間隙に、接着剤(ダイキン工業社製、U
V−3000)を流し込んだ。また、被覆樹脂層保持部
に載置した被覆樹脂層の周囲にも、上記接着剤(UV−
3000)を塗布した。
(2) Next, the exposed optical fiber of the laminated optical fiber ribbon prepared in the above A is placed in the V groove, and the lid prepared in the above B is attached to the substrate with an adhesive (Daikin Industries, Ltd.). UV-3000) manufactured by the same company. The adhesive was previously applied to the outer edge of the lid. Furthermore, an adhesive (U, manufactured by Daikin Industries Ltd., U manufactured by Daikin Industries Ltd.)
V-3000) was poured. In addition, the adhesive (UV-
3000) was applied.

【0127】次に、蓋部を設けた基板の上部から、高圧
水銀ランプを用いて、10J/cmの紫外線を照射
し、その後、60℃で1時間加熱することにより、接着
剤を完全に硬化させた。
Next, ultraviolet rays of 10 J / cm 2 were radiated from above the substrate provided with the lid using a high pressure mercury lamp, and then the adhesive was completely heated by heating at 60 ° C. for 1 hour. Cured.

【0128】(3)次に、積層光ファイバリボンの一端
部の基板に収納しなかった被覆樹脂層と、この被覆樹脂
層に覆われた光ファイバとをダイヤモンドカッターによ
り切断除去し、さらに、光ファイバの端面と、基板およ
び蓋部の端面とが揃うように研磨処理を施し、光ファイ
バアレイを製造した。
(3) Next, the coated resin layer not housed in the substrate at one end of the laminated optical fiber ribbon and the optical fiber coated with this coated resin layer are cut and removed by a diamond cutter, and the optical fiber An optical fiber array was manufactured by performing a polishing treatment so that the end faces of the fibers and the end faces of the substrate and the lid are aligned with each other.

【0129】(実施例4)蓋部を形成する際に、深さの
異なる、露出した光ファイバを収納するための凹部と、
光ファイバリボンを被覆樹脂層ごと収納するための凹部
とを有する蓋部を形成した以外は実施例2と同様にして
蓋部を形成し、この蓋部を用いて、実施例3のCの
(2)の工程を行った以外は、実施例3と同様にして光
ファイバアレイを製造した。
(Embodiment 4) When forming a lid, a recess for accommodating exposed optical fibers having different depths, and
A lid was formed in the same manner as in Example 2 except that a lid having a recess for accommodating the optical fiber ribbon together with the coating resin layer was formed, and using this lid, the C of Example 3 ( An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 3 except that the step 2) was performed.

【0130】(比較例1)実施例1のAの(2)の工
程、すなわち、露出した光ファイバの表面に粗化面を形
成する工程を行わなかった以外は、実施例1と同様にし
て光ファイバアレイを製造した。なお、露出した光ファ
イバの表面の平均粗度Raは、1.0nm未満であっ
た。
(Comparative Example 1) The procedure of Example 1 was repeated, except that the step (2) of A of Example 1, that is, the step of forming a roughened surface on the exposed surface of the optical fiber was not performed. An optical fiber array was manufactured. The average roughness Ra of the exposed surface of the optical fiber was less than 1.0 nm.

【0131】(比較例2)比較例1と同様、露出した光
ファイバの表面に粗化面を形成する工程を行わなかった
以外は、実施例2と同様にして光ファイバアレイを製造
した。
Comparative Example 2 An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the step of forming a roughened surface on the exposed surface of the optical fiber was not performed as in Comparative Example 1.

【0132】実施例1〜4および比較例1、2で得た光
ファイバアレイについて、130℃で3分間、および、
−65℃で3分間保持するサイクルを1サイクルとし、
このサイクルを1000サイクル繰り返す信頼性試験を
施し、その後、光ファイバアレイを光ファイバを通るよ
うに、光ファイバアレイの軸方向に切断し、その断面を
観察した。
The optical fiber arrays obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were heated at 130 ° C. for 3 minutes, and
One cycle is a cycle of holding at -65 ° C for 3 minutes,
A reliability test was performed in which this cycle was repeated 1000 times, and then the optical fiber array was cut in the axial direction of the optical fiber array so as to pass through the optical fiber, and the cross section was observed.

【0133】その結果、実施例1〜4の光ファイバアレ
イでは、接着剤と基板や光ファイバ、蓋部と間での剥離
の発生は観察されず、また、接着剤にもクラックは発生
していなかった。これに対し、比較例1および2の光フ
ァイバアレイでは、接着剤と光ファイバとの間で剥離が
発生している部分があった。また、接着剤の一部にもク
ラックが発生していた。
As a result, in the optical fiber arrays of Examples 1 to 4, no peeling was observed between the adhesive and the substrate, the optical fiber, or the lid, and cracks were also generated in the adhesive. There wasn't. On the other hand, in the optical fiber arrays of Comparative Examples 1 and 2, there was a portion where peeling occurred between the adhesive and the optical fiber. Also, cracks were generated in a part of the adhesive.

【0134】また、信頼性試験を行う前の実施例1〜4
の光ファイバアレイを分解し、接着剤の充填され具合を
観察したところ、溝と光ファイバとの間隙および蓋部と
光ファイバとの間隙は接着剤で完全に充填されており、
接着剤中にもボイドが発生している部分は見られなかっ
た。これに対し、信頼性試験を行う前の比較例1および
2の光ファイバアレイを分解し、接着剤の充填され具合
を観察したところ、接着剤が未充填の部分や、接着剤中
にボイドが発生している部分があった。
Further, Examples 1 to 4 before carrying out the reliability test
After disassembling the optical fiber array and observing how the adhesive was filled, the gap between the groove and the optical fiber and the gap between the lid and the optical fiber were completely filled with the adhesive.
No void was found in the adhesive. On the other hand, when the optical fiber arrays of Comparative Examples 1 and 2 before the reliability test were disassembled and the filling state of the adhesive was observed, a portion not filled with the adhesive or a void in the adhesive was found. There was a part that was occurring.

【0135】また、実施例1〜4の光ファイバアレイを
8個または16個の受光素子を配設した受光装置に接続
し、結合損失を測定したところ、その結合損失は低く、
製品として要求される品質を充分に満足していた。
When the optical fiber arrays of Examples 1 to 4 were connected to a light receiving device having 8 or 16 light receiving elements and the coupling loss was measured, the coupling loss was low.
I was satisfied with the quality required for the product.

【0136】[0136]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ファイ
バアレイは、上述した構成からなるため、光ファイバと
接着剤とは密着性に優れ、光ファイバは、確実に基板に
形成された溝に収納され、固定されることとなる。ま
た、本発明の光ファイバアレイでは、未硬化の接着剤の
光ファイバ表面に対する濡れが向上しており、溝と光フ
ァイバとの間隙には確実に接着剤が充填されるため、光
ファイバが基板に確実に固定されている。
As described above, since the optical fiber array of the present invention has the above-mentioned structure, the optical fiber and the adhesive have excellent adhesiveness, and the optical fiber has a groove formed surely on the substrate. It will be stored and fixed in. Further, in the optical fiber array of the present invention, the wetting of the uncured adhesive on the surface of the optical fiber is improved, and the adhesive is surely filled in the gap between the groove and the optical fiber. Is securely fixed to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は、本発明の光ファイバアレイの一例を
模式的に示す部分斜視図であり、(b)は、(a)のA
−A線断面図である。
FIG. 1A is a partial perspective view schematically showing an example of an optical fiber array of the present invention, and FIG. 1B is a part A of FIG.
FIG.

【図2】(a)は、蓋部が形成された本発明の光ファイ
バアレイの一例を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、光ファイバアレイに取り付けた蓋部のみを示
す斜視図であり、(c)は、(a)のA−A線断面図で
ある。
FIG. 2A is a partial perspective view schematically showing an example of the optical fiber array of the present invention in which a lid is formed,
(B) is a perspective view showing only the lid part attached to the optical fiber array, and (c) is a sectional view taken along the line AA of (a).

【図3】積層光ファイバリボンを用いた本発明の光ファ
イバアレイの一例を模式的に示す部分斜視図である。
FIG. 3 is a partial perspective view schematically showing an example of an optical fiber array of the present invention using a laminated optical fiber ribbon.

【図4】(a)〜(f)は、基板に溝を形成する方法の
一例を示す断面図である。
4A to 4F are cross-sectional views showing an example of a method for forming a groove in a substrate.

【図5】(a)は、このような本発明の加工方法の一例
を模式的に示す正面図であり、(b)はその側面図であ
る。
5A is a front view schematically showing an example of such a processing method of the present invention, and FIG. 5B is a side view thereof.

【図6】積層光ファイバリボンの一実施形態を模式的に
示す部分斜視図である。
FIG. 6 is a partial perspective view schematically showing an embodiment of a laminated optical fiber ribbon.

【図7】(a)、(b)は、本発明の光ファイバアレイ
の製造工程の一部を模式的に示す斜視図である。
7A and 7B are perspective views schematically showing a part of the manufacturing process of the optical fiber array of the present invention.

【図8】(a)、(b)は、本発明の光ファイバアレイ
の製造工程の一部を模式的に示す斜視図である。
8A and 8B are perspective views schematically showing a part of the manufacturing process of the optical fiber array of the present invention.

【図9】(a)、(b)は、本発明の光ファイバアレイ
の製造工程の一部を模式的に示す斜視図である。
9A and 9B are perspective views schematically showing a part of the manufacturing process of the optical fiber array of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

135、235、245 光ファイバ 151、251 基板 157、257 溝 160、170 蓋部 100、200 光ファイバアレイ 110 光ファイバリボン 210 積層光ファイバリボン 135, 235, 245 optical fiber 151,251 substrate 157,257 groove 160, 170 lid 100,200 Fiber Optic Array 110 optical fiber ribbon 210 laminated optical fiber ribbon

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H036 JA02 KA01 KA02 LA02 LA03 LA04 LA05 LA07 LA08 2H037 BA05 BA14 DA04 DA06 DA12 DA17    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H036 JA02 KA01 KA02 LA02 LA03                       LA04 LA05 LA07 LA08                 2H037 BA05 BA14 DA04 DA06 DA12                       DA17

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上の一部に複数の溝が形成され、前
記溝に、接着剤を介して光ファイバが収納された光ファ
イバアレイであって、前記光ファイバの表面には、粗化
面が形成されていることを特徴とする光ファイバアレ
イ。
1. An optical fiber array in which a plurality of grooves are formed in a part of a substrate, and the optical fibers are housed in the grooves via an adhesive, and the surface of the optical fiber is roughened. An optical fiber array characterized in that a surface is formed.
【請求項2】 前記粗化面の平均粗度Raは、1〜10
0nmである請求項1に記載の光ファイバアレイ。
2. The average roughness Ra of the roughened surface is 1 to 10.
The optical fiber array according to claim 1, which is 0 nm.
【請求項3】 前記粗化面は、フッ化物を含む粗化液を
用いて形成されている請求項1または2に記載の光ファ
イバアレイ。
3. The optical fiber array according to claim 1, wherein the roughened surface is formed by using a roughening liquid containing fluoride.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010128112A (en) * 2008-11-26 2010-06-10 Furukawa Electric Co Ltd:The Bending connector structure, and method of manufacturing the same
WO2018147417A1 (en) * 2017-02-13 2018-08-16 モリト株式会社 End part mounting tool and assembly provided with same

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