JP2003114351A - Optical fiber array - Google Patents

Optical fiber array

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JP2003114351A
JP2003114351A JP2001268090A JP2001268090A JP2003114351A JP 2003114351 A JP2003114351 A JP 2003114351A JP 2001268090 A JP2001268090 A JP 2001268090A JP 2001268090 A JP2001268090 A JP 2001268090A JP 2003114351 A JP2003114351 A JP 2003114351A
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JP
Japan
Prior art keywords
optical fiber
substrate
resin layer
coating resin
fiber ribbon
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001268090A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kotaro Hayashi
康太郎 林
Naoaki Fujii
直明 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Priority to JP2001268090A priority Critical patent/JP2003114351A/en
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical fiber array which can accurately transmit a light signal so that when the optical fiber array is manufactured, its flank is not ground largely or some of end surfaces of the optical fibers is not ground obliquely. SOLUTION: The optical fiber array which has a plurality of grooves formed in a part of the top surface of a substrate and also has the optical fibers housed in the grooves via adhesives and on which a lid part partially housing the optical fibers is fitted to the substrate is characterized in that a recessed part for partially housing the optical fibers together is formed on the surface of the lid part which faces the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバアレイ
に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical fiber array.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、通信分野を中心として光ファイバ
に注目が集まっている。特にIT(情報技術)分野にお
いては、高速インターネット網の整備に、光ファイバを
用いた通信技術が必要となる。光ファイバは、低損
失、高帯域、細径・軽量、無誘導、省資源等の
特徴を有しており、この特徴を有する光ファイバを用い
た通信システムでは、従来のメタリックケーブルを用い
た通信システムに比べ、中継器数を大幅に削減すること
ができ、建設、保守が容易になり、通信システムの経済
化、高信頼性化を図ることができる。
2. Description of the Related Art In recent years, attention has been focused on optical fibers mainly in the communication field. Particularly in the IT (information technology) field, communication technology using optical fibers is required to maintain a high-speed Internet network. Optical fiber has the features of low loss, high bandwidth, small diameter / light weight, no induction, resource saving, etc. In the communication system using the optical fiber having this feature, the communication using the conventional metallic cable is used. Compared with the system, the number of repeaters can be greatly reduced, construction and maintenance are facilitated, and the communication system can be made economical and highly reliable.

【0003】また、光ファイバでは、一つの波長の光だ
けでなく、多くの異なる波長の光を1本の光ファイバで
同時に多重伝送することができるため、多様な用途に対
応可能な大容量の伝送路を実現することができ、映像サ
ービス等にも対応することができるという大きな利点を
有する。
Further, in the optical fiber, not only the light of one wavelength but also the light of many different wavelengths can be simultaneously multiplexed and transmitted by one optical fiber, so that it has a large capacity for various purposes. This has a great advantage that a transmission line can be realized and a video service can be supported.

【0004】また、光ファイバ通信において、光ファイ
バを、受光素子、端末機器(パソコン、モバイル、ゲー
ム等)に直接または光導波路等を介して接続するために
は、複数の光ファイバを所定の間隔で離間して配列させ
る必要があり、これを達成するために、光ファイバアレ
イが用いられている。
Further, in optical fiber communication, in order to connect the optical fiber to a light receiving element, a terminal device (personal computer, mobile, game, etc.) directly or through an optical waveguide or the like, a plurality of optical fibers are arranged at predetermined intervals. In order to achieve this, an optical fiber array is used.

【0005】従来、光ファイバアレイとしては、例え
ば、基板に形成された複数のV溝のそれぞれに光ファイ
バが整列して収容され、該光ファイバが接着剤を介して
固定されたものが開示されている。このような光ファイ
バアレイでは、通常、基板のV溝に収納された光ファイ
バを保護するために、基板上に接着剤を介して、板状の
蓋部が接着されていた。
Conventionally, as an optical fiber array, for example, an optical fiber array in which optical fibers are housed in alignment with each of a plurality of V-grooves and the optical fibers are fixed via an adhesive is disclosed. ing. In such an optical fiber array, in order to protect the optical fiber housed in the V-groove of the substrate, a plate-like lid is usually adhered onto the substrate via an adhesive.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような従来の光フ
ァイバアレイでは、光ファイバの位置ズレが発生した
り、光ファイバの表面に傷が発生していたり、光ファイ
バを介して光信号が所望の方向に出射されなかったりす
ることがあった。そこで、本発明等がこのような不都合
が発生する原因について鋭意検討したところ、その原因
は、製造時の研磨処理工程にあることが明らかとなっ
た。これについて、以下、図面を参照しながら説明す
る。
In such a conventional optical fiber array, the optical fiber is misaligned, the surface of the optical fiber is scratched, or an optical signal is desired through the optical fiber. Sometimes it was not emitted in the direction. Then, the inventors of the present invention diligently studied the cause of such an inconvenience, and it became clear that the cause was the polishing treatment step at the time of manufacturing. This will be described below with reference to the drawings.

【0007】図9(a)は、従来の光ファイバアレイの
一実施形態を模式的に示す斜視図であり、(b)は、
(a)の部分平面図であり、(c)は、(a)のA−A
線断面図であり、(d)は、(a)のB−B線部分断面
図である。図9(a)に示すように、従来の光ファイバ
アレイ400では、基板451上に、複数のV溝457
が並列に形成され、このV溝457のそれぞれに、光フ
ァイバ415が接着剤459を介して収納されている。
また、基板451上面には、略板状の蓋部460が接着
剤469を介して載置、固定されている。
FIG. 9A is a perspective view schematically showing an embodiment of a conventional optical fiber array, and FIG. 9B is a perspective view thereof.
It is a partial top view of (a), (c) is AA of (a).
It is a line sectional view, and (d) is a BB line partial sectional view of (a). As shown in FIG. 9A, in the conventional optical fiber array 400, a plurality of V grooves 457 are formed on the substrate 451.
Are formed in parallel, and an optical fiber 415 is housed in each of the V grooves 457 via an adhesive 459.
Further, a substantially plate-shaped lid portion 460 is placed and fixed on the upper surface of the substrate 451 via an adhesive 469.

【0008】このような従来の光ファイバアレイを製造
する場合、まず、光ファイバを収納するための複数のV
溝を有する基板を作成し、その後、この基板の溝に接着
剤を介して光ファイバを載置、収納し、さらに、光ファ
イバの収納された基板上に接着剤を介して略板状の蓋部
を取り付けることにより光ファイバアレイを製造してい
た。また、このようにして製造した光ファイバアレイお
いては、光ファイバの端面が基板の底面に対して垂直で
あると、光信号を伝送した場合にもどり光が発生し、こ
れが光信号の正確な伝送を阻害することがあるため、通
常、光ファイバの端面に研磨処理を施すことにより、
(d)に示すように該端面に傾斜を持たせており、例え
ば、この端面と鉛直方向とのなす角θを約8°としてい
た。
When manufacturing such a conventional optical fiber array, first, a plurality of Vs for accommodating optical fibers are stored.
A substrate having a groove is created, and then an optical fiber is placed and housed in the groove of the substrate via an adhesive, and further, a substantially plate-shaped lid is mounted on the substrate in which the optical fiber is housed via the adhesive. The optical fiber array was manufactured by attaching the parts. Further, in the optical fiber array manufactured in this manner, if the end face of the optical fiber is perpendicular to the bottom surface of the substrate, light is generated even when an optical signal is transmitted, which causes an error in the optical signal. Since it may hinder transmission, usually, by polishing the end face of the optical fiber,
As shown in (d), the end face is inclined, and for example, the angle θ formed by this end face and the vertical direction is about 8 °.

【0009】このように、光ファイバアレイの端面に傾
斜を持たせた場合、光信号伝送時にもどり光が発生する
問題は解消されるものの、端面に傾斜を持たせるために
研磨処理を施した際に以下のような問題が発生すること
があった。すなわち、(c)に示すように、蓋部の形状
が板状体である場合、光ファイバアレイの側面付近は樹
脂(接着剤)の存在量が多いため、光ファイバアレイ端
面の中央付近に比べて研磨されやすい傾向にあり、
(b)に示すように、光ファイバアレイの側面付近が大
きく削りとられ、平面視した際の光ファイバの側面付近
の形状が湾曲した形状となることがあった(図中、Cの
部分参照)。
As described above, when the end face of the optical fiber array is tilted, the problem that the returning light is generated during the transmission of the optical signal is solved, but when the end face is subjected to the polishing treatment so as to be tilted. The following problems may occur. That is, as shown in (c), when the shape of the lid is a plate-shaped body, the amount of resin (adhesive) is large in the vicinity of the side surface of the optical fiber array. Tend to be easily polished,
As shown in (b), the vicinity of the side surface of the optical fiber array was largely scraped off, and the shape of the vicinity of the side surface of the optical fiber in a plan view sometimes became a curved shape (see a portion C in the figure). ).

【0010】このように、光ファイバアレイの側面付近
が大きく削り取られた場合、基板の側面に近い溝に収納
した光ファイバの端面が研磨されすぎたり、光ファイバ
の端面の一部が斜めに研磨されたりすることとなり、そ
の結果、光ファイバの位置ズレが発生したり、光ファイ
バと接着剤との間で剥離が発生したり、接着剤にクラッ
クが発生したり、光ファイバの表面が傷付けられたりす
ることがあった。また、光ファイバの端面の一部が斜め
に研磨された場合には、該光ファイバの端面から光信号
が斜めに出射し、正確に光信号を伝送することができな
いことがあった。なお、図9は、従来の光ファイバアレ
イを説明するための模式図であり、(a)に示す斜視図
においては、光ファイバアレイの端面が有する傾斜、お
よび、側面付近の研磨状態がわかりにくいものとなって
いるが、実際には、(d)の部分断面部および(b)の
部分平面図に示すような傾斜および研磨状態を有してい
る。
As described above, when the vicinity of the side surface of the optical fiber array is largely shaved off, the end surface of the optical fiber housed in the groove near the side surface of the substrate is excessively polished, or a part of the end surface of the optical fiber is obliquely polished. As a result, misalignment of the optical fiber occurs, peeling occurs between the optical fiber and the adhesive, cracks occur in the adhesive, and the surface of the optical fiber is damaged. There was something that happened. Further, when a part of the end surface of the optical fiber is polished obliquely, an optical signal may be obliquely emitted from the end surface of the optical fiber, and the optical signal may not be accurately transmitted. FIG. 9 is a schematic diagram for explaining a conventional optical fiber array, and in the perspective view shown in FIG. 9A, the inclination of the end face of the optical fiber array and the polishing state near the side face are difficult to understand. However, in reality, it has an inclined and polished state as shown in the partial sectional view of (d) and the partial plan view of (b).

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
鋭意検討した結果、蓋部として、基板と対向する面に、
光ファイバの一部を一括して収納する凹部が形成されて
いるものを用いることにより、製造時に、基板、光ファ
イバおよび蓋部の端面に傾斜を持たせるために研磨処理
を施しても、光ファイバアレイの側面付近が基板の中央
付近に比べて大きく削り取られることがないことを見出
し、本発明の光ファイバアレイを完成した。
Therefore, the present inventors have
As a result of diligent study, as a lid, on the surface facing the substrate,
By using the one in which the concave portion for accommodating a part of the optical fiber is formed, even if the polishing treatment is performed to make the end faces of the substrate, the optical fiber and the lid part inclined at the time of manufacture, It has been found that the side surface of the fiber array is not largely scraped off as compared with the vicinity of the center of the substrate, and the optical fiber array of the present invention has been completed.

【0012】すなわち、本発明の光ファイバアレイは、
基板上面の一部に複数の溝が形成され、上記溝に、接着
剤を介して光ファイバが収納されており、上記基板上に
上記光ファイバの一部を収納する蓋部が取り付けられた
光ファイバアレイであって、上記蓋部の上記基板と対向
する面に、上記光ファイバの一部を一括して収納する凹
部が形成されていることを特徴とする。
That is, the optical fiber array of the present invention is
A plurality of grooves are formed in a part of the upper surface of the substrate, an optical fiber is accommodated in the groove through an adhesive, and a lid part for accommodating a part of the optical fiber is attached on the substrate. The fiber array is characterized in that a recess for accommodating a part of the optical fibers is formed on a surface of the lid portion facing the substrate.

【0013】また、本発明の光ファイバアレイにおい
て、上記蓋部は、無機材料または金属材料からなるもの
であることが望ましく、上記無機材料は、セラミックま
たはシリコンであることが望ましい。
Further, in the optical fiber array of the present invention, the lid is preferably made of an inorganic material or a metal material, and the inorganic material is preferably ceramic or silicon.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の光ファイバアレイは、本
発明の光ファイバアレイは、基板上面の一部に複数の溝
が形成され、上記溝に、接着剤を介して光ファイバが収
納されており、上記基板上に上記光ファイバの一部を収
納する蓋部が取り付けられた光ファイバアレイであっ
て、上記蓋部の上記基板と対向する面に、上記光ファイ
バの一部を一括して収納する凹部が形成されていること
を特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The optical fiber array of the present invention is the optical fiber array of the present invention, wherein a plurality of grooves are formed in a part of the upper surface of the substrate, and the optical fibers are accommodated in the grooves via an adhesive. In the optical fiber array in which a lid portion for accommodating a part of the optical fiber is attached on the substrate, a part of the optical fiber is collectively attached to a surface of the lid portion facing the substrate. It is characterized in that a concave portion for accommodating is stored.

【0015】本発明の光ファイバアレイでは、基板上
に、該基板と対向する面に、光ファイバの一部を一括し
て収納する凹部が形成されている蓋部が取り付けられて
いるため、光ファイバアレイの側面付近の樹脂の存在量
が光ファイバアレイの中央付近に比べて多いということ
がなく、光ファイバアレイの端面に傾斜を持たせるため
に基板、光ファイバおよび蓋部の端面に研磨処理を施し
ても、光ファイバアレイの側面付近が大きく削り取られ
たり、光ファイバの端面の一部が斜めに研磨されたりす
ることがない。そのため、上述したような不都合が発生
することもなく、本発明の光ファイバアレイでは、正確
に光信号を伝送することができる。
In the optical fiber array of the present invention, the optical fiber array is provided with the lid portion on the surface facing the substrate, in which the concave portion for accommodating a part of the optical fiber is formed. The amount of resin near the side surface of the fiber array is not greater than that near the center of the optical fiber array, and the end surfaces of the substrate, optical fiber, and lid are polished to make the end surface of the optical fiber array inclined. Even if the above process is performed, the vicinity of the side surface of the optical fiber array is not largely scraped off, and a part of the end face of the optical fiber is not obliquely polished. Therefore, the above-described inconvenience does not occur, and the optical fiber array of the present invention can accurately transmit an optical signal.

【0016】本発明の光ファイバアレイについて図面を
参照しながら説明する。図1(a)は、本発明の光ファ
イバアレイの一例を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、光ファイバアレイに取り付けた蓋部のみを示
す斜視図であり、(c)は、(a)のA−A線断面図で
ある。
The optical fiber array of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a partial perspective view schematically showing an example of the optical fiber array of the present invention,
(B) is a perspective view showing only the lid part attached to the optical fiber array, and (c) is a sectional view taken along the line AA of (a).

【0017】図1に示すように、光ファイバアレイ10
0では、基板151上に、複数のV溝157が並列に形
成され、このV溝157のそれぞれに、光ファイバ11
5が接着剤159を介して収納されている。また、基板
151上面には、溝157とは別に、光ファイバをその
周囲の被覆樹脂層113、114とともに一括して保持
するための被覆樹脂層保持部158が形成されている。
なお、この被覆樹脂層保持部158の上面は、溝157
を形成した溝形成面よりも低くなっている。また、被覆
樹脂層114は、その周囲に形成した接着剤層(図示せ
ず)により被覆樹脂層保持部158に固定されている。
なお、被覆樹脂層保持部158は、必要に応じて、形成
すればよく、基板上にはV溝のみが形成されていてもよ
い。また、図中、111はコア、112はクラッドであ
る。また、基板上には、被覆樹脂層保持部に代えて、光
ファイバをその周囲の被覆樹脂層ごと収納することがで
きる凹部が形成されていてもよい。なお、ここでいう凹
部の形状としては、図1に示す被覆樹脂層保持部の側方
外縁部に基板上面と同一の高さか、または、これよりも
低い壁面が設けられたような形状等が挙げられる。
As shown in FIG. 1, the optical fiber array 10
0, a plurality of V grooves 157 are formed in parallel on the substrate 151, and the optical fiber 11 is provided in each of the V grooves 157.
5 is stored via an adhesive 159. In addition to the groove 157, a coating resin layer holding portion 158 for collectively holding the optical fiber together with the coating resin layers 113 and 114 around the groove is formed on the upper surface of the substrate 151.
The upper surface of the coating resin layer holding portion 158 has a groove 157.
It is lower than the groove forming surface on which is formed. The coating resin layer 114 is fixed to the coating resin layer holding portion 158 by an adhesive layer (not shown) formed around the coating resin layer 114.
The covering resin layer holding portion 158 may be formed as necessary, and only the V groove may be formed on the substrate. In the figure, 111 is a core and 112 is a clad. Further, instead of the coating resin layer holding portion, a recess may be formed on the substrate, which can accommodate the optical fiber together with the surrounding coating resin layer. It should be noted that the shape of the concave portion here is, for example, a shape in which the side outer edge portion of the coating resin layer holding portion shown in FIG. 1 has the same height as the upper surface of the substrate or a wall surface lower than this is provided. Can be mentioned.

【0018】また、図1に示す光ファイバアレイ100
においては、4本の光ファイバが収納されているが、本
発明の光ファイバアレイの溝に収納される光ファイバの
本数は4本に限定されるわけではなく、3本以下であっ
てもよいし、5本以上であってもよい。
The optical fiber array 100 shown in FIG.
In the above, four optical fibers are stored, but the number of optical fibers stored in the groove of the optical fiber array of the present invention is not limited to four and may be three or less. However, it may be five or more.

【0019】また、光ファイバアレイ100において、
光ファイバ115を収納する溝157を形成した領域の
上には、蓋部160が取り付けられており、この蓋部1
60には、光ファイバ115の一部(光ファイバのうち
溝157に収納されなかった部分)を一括して収納する
凹部161が形成されている。また、この凹部161と
光ファイバとの間隙にも接着剤169が充填されてい
る。また、基板151の外縁部と蓋部160の外縁部と
は、接着剤層179を介して密着している。
In the optical fiber array 100,
A lid 160 is attached on the region where the groove 157 for accommodating the optical fiber 115 is formed.
A recessed portion 161 is formed in 60 for accommodating a part of the optical fiber 115 (a portion of the optical fiber which is not accommodated in the groove 157) in a lump. An adhesive 169 is also filled in the gap between the recess 161 and the optical fiber. The outer edge of the substrate 151 and the outer edge of the lid 160 are in close contact with each other with an adhesive layer 179.

【0020】このような蓋部を有する光ファイバアレイ
では、その側面付近の基板と蓋部との間隙には、接着剤
のみならず蓋部の一部(蓋部に形成した凹部の壁面)も
が存在することとなるため、光ファイバアレイの端面に
傾斜を持たせるために研磨処理を施す際にも、光ファイ
バアレイの側面付近が大きく削り取られることがなく、
そのため、光ファイバの端面の一部が斜めに研磨される
こともない。従って、本発明の光ファイバアレイでは、
光ファイバの位置ズレが発生したり、光ファイバから光
が斜めに出射したりすることがなく、光信号を正確に伝
送することができる。
In the optical fiber array having such a lid, not only the adhesive but also a part of the lid (the wall surface of the recess formed in the lid) is provided in the gap between the substrate and the lid near the side surface. Therefore, even when the polishing process is performed to give the end face of the optical fiber array an inclination, the vicinity of the side face of the optical fiber array is not largely scraped off,
Therefore, a part of the end face of the optical fiber is not polished obliquely. Therefore, in the optical fiber array of the present invention,
It is possible to accurately transmit an optical signal without causing a positional deviation of the optical fiber or obliquely emitting light from the optical fiber.

【0021】また、上記蓋部に形成されている光ファイ
バの一部を一括して収納する形状の凹部は、個々の光フ
ァイバを別個に収納する形状の凹部よりもその形成が容
易であり、また、上記凹部に収納された光ファイバ同士
の間には空隙が存在するため、光ファイバの相対的な位
置ズレが発生しにくく、さらに、該空隙内には、接着剤
等を充填しやすい。
Further, the concave portion formed in the lid portion and having a shape for accommodating a part of the optical fibers collectively is easier to form than the concave portion having a shape for accommodating the individual optical fibers separately, Further, since there is a gap between the optical fibers housed in the recesses, relative positional deviation of the optical fibers is unlikely to occur, and furthermore, an adhesive or the like is easily filled in the gap.

【0022】また、図1に示した蓋部160に形成され
た凹部161は、その壁面が、基板151の上面と略直
角をなすように形成され、その断面は、平面のみを組み
合わせた形状である。なお、上記凹部の形状は、上述し
たような形状に限定されるわけではなく、壁面が、傾斜
面を有する形状や、曲面を有する形状、平面と曲面とを
組み合わせた形状等であってもよい。また、図1に示す
光ファイバアレイ100では、基板の溝を形成した領域
のみを覆う形状の蓋部60が取りつけられているが、本
発明の光ファイバアレイにおいて、蓋部の形状は、基板
の全面を覆う形状(溝を形成した領域および被覆樹脂層
保持部を一体的に覆う形状(図8(b)参照))であっ
てもよい。また、基板の溝を形成した領域のみを覆う形
状の蓋部とともに、被覆樹脂層保持部のみを覆う形状の
蓋部が別途取りつけられていてもよい。
Further, the recess 161 formed in the lid 160 shown in FIG. 1 is formed such that the wall surface thereof is substantially perpendicular to the upper surface of the substrate 151, and its cross section is formed by combining only planes. is there. The shape of the recess is not limited to the shape described above, and the wall surface may have a shape having an inclined surface, a shape having a curved surface, a shape combining a flat surface and a curved surface, or the like. . Further, in the optical fiber array 100 shown in FIG. 1, the lid 60 having a shape that covers only the grooved region of the substrate is attached, but in the optical fiber array of the present invention, the shape of the lid is the same as that of the substrate. It may be a shape that covers the entire surface (a shape that integrally covers the grooved region and the covering resin layer holding portion (see FIG. 8B)). In addition, a lid having a shape that covers only the grooved region of the substrate and a lid that has a shape that covers only the coating resin layer holding portion may be separately attached.

【0023】また、蓋部に形成された光ファイバを一括
して収納するための凹部の深さは、光ファイバの直径の
95%以下であることが望ましい。上記凹部の深さが、
光ファイバの直径の95%を超えると、基板上面に形成
した溝の深さによっては、凹部中の光ファイバの占める
部分が少なく、光ファイバが上下方向に位置ズレを起す
ことがある。なお、上記凹部の深さは、光ファイバの該
凹部に収納される部分の高さと同一であることが望まし
い。
Further, the depth of the concave portion for accommodating the optical fibers formed in the lid portion at one time is preferably 95% or less of the diameter of the optical fibers. The depth of the recess is
If the diameter of the optical fiber exceeds 95%, the optical fiber may occupy a small portion in the recess depending on the depth of the groove formed on the upper surface of the substrate, and the optical fiber may be displaced in the vertical direction. The depth of the recess is preferably the same as the height of the portion of the optical fiber accommodated in the recess.

【0024】上記蓋部の材質としては、例えば、シリコ
ン、炭化ケイ素、アルミナ、窒化アルミニウム、ムライ
ト、セラミック、ガリウム砒素、ジルコニア、石英、ガ
ラス等の無機材料;銅、鉄、ニッケル等の金属材料;熱
硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂、これらの複合
体等の有機材料やこれらの有機材料にガラス繊維等の補
強材を含浸させたもの等が挙げられる。これらのなかで
は、無機材料または金属材料が望ましい。熱や湿度によ
る変形が少なく、機械的強度に優れるからである。
Examples of the material of the lid include inorganic materials such as silicon, silicon carbide, alumina, aluminum nitride, mullite, ceramics, gallium arsenide, zirconia, quartz and glass; metallic materials such as copper, iron and nickel; Examples thereof include thermosetting resins, thermoplastic resins, photosensitive resins, organic materials such as composites thereof, and those obtained by impregnating these organic materials with a reinforcing material such as glass fiber. Among these, inorganic materials or metallic materials are desirable. This is because it is less deformed by heat and humidity and has excellent mechanical strength.

【0025】特に、ガラスまたは石英が望ましい。ガラ
スまたは石英からなる蓋部を用いる場合には、蓋部と、
基板および光ファイバとの間に充填させる接着剤として
紫外線硬化型接着剤を用いることができる。これらの材
質からなる蓋部は、紫外線を透過するからである。な
お、紫外線等の光を透過しない材質からなる蓋部を用い
る場合には、蓋部と基板等との間に充填する接着剤とし
て熱硬化型接着剤を用いることとなる。
Particularly, glass or quartz is preferable. When using a lid made of glass or quartz,
An ultraviolet curable adhesive can be used as an adhesive to be filled between the substrate and the optical fiber. This is because the lid made of these materials transmits ultraviolet rays. When a lid made of a material that does not transmit light such as ultraviolet rays is used, a thermosetting adhesive is used as the adhesive filled between the lid and the substrate.

【0026】また、図1に示す光ファイバアレイ100
においては、複数のV溝157が形成された基板151
に、一端部の被覆樹脂層が除去されることにより光ファ
イバが露出した光ファイバリボン110が収納されてい
る。上記光ファイバリボンとしては特に限定されず、従
来公知のものを用いることができ、例えば、図1に示す
ようなコア111とクラッド112とからなる光ファイ
バ115の周囲に一次被覆樹脂層が形成され、この一次
被覆樹脂層で被覆された光ファイバ115が並列に配置
された状態で二次被覆樹脂層により一括して被覆されて
いる光ファイバリボン110を用いることができる。
The optical fiber array 100 shown in FIG.
In the substrate 151, a plurality of V grooves 157 are formed.
The optical fiber ribbon 110 in which the optical fiber is exposed by removing the coating resin layer at one end is housed in. The optical fiber ribbon is not particularly limited, and a conventionally known one can be used. For example, a primary coating resin layer is formed around an optical fiber 115 composed of a core 111 and a clad 112 as shown in FIG. It is possible to use the optical fiber ribbon 110 in which the optical fibers 115 coated with the primary coating resin layer are collectively arranged with the secondary coating resin layer while the optical fibers 115 are arranged in parallel.

【0027】光ファイバリボンを構成する光ファイバ1
15としては、例えば、石英ガラス(SiO)を主成
分とする石英系光ファイバ、ソーダ石灰、ガラス、ホウ
硅ガラス等を主成分とする多成分系光ファイバ、シリコ
ーン樹脂やアクリル樹脂等のプラスチックを主成分とす
るプラスチック系光ファイバ等が挙げられる。これらの
なかでは、石英系光ファイバが望ましい。
Optical fiber 1 constituting an optical fiber ribbon
As 15, there are, for example, a silica-based optical fiber whose main component is silica glass (SiO 2 ), a multi-component optical fiber whose main component is soda lime, glass, borosilicate glass, and a plastic such as silicone resin or acrylic resin. Examples include plastic optical fibers containing as a main component. Of these, quartz optical fiber is desirable.

【0028】一次被覆樹脂層113は、光ファイバが傷
付いたりすること等を防止する保護層としての役割を果
たしている。また、その材料としては特に限定されず、
例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン
樹脂、フッ素樹脂等の熱硬化性樹脂や、メタクリル酸や
アクリル酸等を用い、上述した熱硬化性樹脂の熱硬化基
を(メタ)アクリル化反応させた感光性樹脂等が挙げら
れる。なお、上記一次被覆樹脂層の層数は1層に限定さ
れず、2層以上であってもよい。
The primary coating resin layer 113 plays a role as a protective layer for preventing the optical fiber from being damaged. The material is not particularly limited,
For example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a silicone resin, a urethane resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, or a fluororesin, or methacrylic acid or acrylic acid is used, and the thermosetting group of the thermosetting resin described above is used. Examples thereof include (meth) acrylated photosensitive resins. The number of the primary coating resin layers is not limited to one and may be two or more.

【0029】また、二次被覆樹脂層114は、一次被覆
樹脂層がその周囲に形成された光ファイバを保護すると
ともに、光ファイバが並列に配置された光ファイバリボ
ンの形態を保持する役割を果たしている。また、その材
料としては特に限定されず、上記一次被覆樹脂層の材料
と同様の熱硬化性樹脂や感光性樹脂等が挙げられる。な
お、上記二次被覆樹脂層の層数は1層に限定されず、2
層以上であってもよい。
The secondary coating resin layer 114 plays a role of protecting the optical fibers formed around the primary coating resin layer and maintaining the shape of the optical fiber ribbon in which the optical fibers are arranged in parallel. There is. The material is not particularly limited, and examples thereof include the same thermosetting resin and photosensitive resin as the material of the primary coating resin layer. The number of the secondary coating resin layers is not limited to one, and
It may be more than one layer.

【0030】また、光ファイバアレイ100において、
被覆樹脂層が除去され、V溝157に収納された光ファ
イバの表面には、粗化面(図示せず)が形成されている
ことが望ましい。上記粗化面は、その平均粗度Raが1
〜100nmであることが望ましい。平均粗度Raが、
1nm未満では、光ファイバと接着剤との密着性はほと
んど向上せず、一方、平均粗度Raが100nmを超え
ると、光ファイバ表面の凹凸が大きくなるため、粗化面
の断面の形状が円形状からはずれ、光ファイバの位置ズ
レが発生しやすくなり、光信号の伝送に悪影響を及ぼす
ことがある。より望ましい粗化面の平均粗度Raは、1
0〜50nmである。
In the optical fiber array 100,
It is desirable that the coating resin layer is removed and a roughened surface (not shown) is formed on the surface of the optical fiber housed in the V groove 157. The roughened surface has an average roughness Ra of 1
It is desirable that the thickness is ˜100 nm. The average roughness Ra is
If it is less than 1 nm, the adhesiveness between the optical fiber and the adhesive is hardly improved, while if the average roughness Ra exceeds 100 nm, the unevenness of the surface of the optical fiber becomes large, so that the cross-sectional shape of the roughened surface is circular. The optical fiber may be out of shape, and the optical fiber is likely to be displaced, which may adversely affect optical signal transmission. The more desirable average roughness Ra of the roughened surface is 1
It is 0 to 50 nm.

【0031】また、上記粗化面を形成する方法は特に限
定されないが、フッ化物を含む粗化液を用いて形成する
ことが望ましい。上記範囲の平均粗度Raを有する粗化
面を、短時間で形成することができるからである。
The method for forming the roughened surface is not particularly limited, but it is desirable to use a roughening solution containing fluoride. This is because a roughened surface having an average roughness Ra within the above range can be formed in a short time.

【0032】上記フッ化物を含む粗化液としては、例え
ば、HF水溶液、HF−NHF混合液、NaF水溶
液、BaF水溶液、KF水溶液、CaF水溶液、X
eF水溶液等が挙げられる。これらのなかでは、HF
を含む溶液が望ましい。光ファイバに悪影響(光ファイ
バの変形等)を及ぼすことなく、所望の平均粗度Raを
有する粗化面を短時間で形成することができるからであ
り、特に、石英系光ファイバや多成分系光ファイバの表
面に粗化面を形成するのに適している。
As the roughening liquid containing the above-mentioned fluoride, for example, HF aqueous solution, HF-NH 4 F mixed liquid, NaF aqueous solution, BaF 2 aqueous solution, KF aqueous solution, CaF 2 aqueous solution, X
Examples include eF 2 aqueous solution. Among these, HF
A solution containing is desirable. This is because a roughened surface having a desired average roughness Ra can be formed in a short time without adversely affecting the optical fiber (deformation of the optical fiber, etc.). It is suitable for forming a roughened surface on the surface of an optical fiber.

【0033】また、光ファイバアレイ100において
は、その一端部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリ
ボンが基板に収納されているが、基板の溝に収納される
光ファイバは、複数本の単心の光ファイバであってもよ
いし、複数の光ファイバリボンが積み重ねられた積層光
ファイバリボンであってもよい。積層光ファイバリボン
を用いる場合には、基板の溝に、複数の光ファイバを高
密度で並列に配置することができる。
Further, in the optical fiber array 100, the optical fiber ribbon from which the coating resin layer at one end is removed is housed in the substrate, but the optical fiber housed in the groove of the substrate is a plurality of single fibers. It may be a core optical fiber or a laminated optical fiber ribbon in which a plurality of optical fiber ribbons are stacked. When a laminated optical fiber ribbon is used, a plurality of optical fibers can be arranged in high density in parallel in the groove of the substrate.

【0034】図2(a)は、積層光ファイバリボンを用
いた本発明の光ファイバアレイの一例を模式的に示す部
分斜視図であり、(b)は、光ファイバアレイに取り付
けた蓋部のみを示す斜視図であり、(c)は、(a)の
A−A線断面図である。図2に示すように、光ファイバ
アレイ200では、積層光ファイバリボン210の一端
部の露出した光ファイバ235、245が基板251上
面のV溝257に接着剤259を介して収納されてい
る。また、基板251上面には、V溝257とは別に、
積層光ファイバリボン210を被覆樹脂層ごと一括して
保持するための被覆樹脂層保持部258が形成されてい
る。なお、この被覆樹脂層保持部258の上面は、溝2
57を形成した溝形成面よりも低くなっている。また、
この被覆樹脂層は、その周囲に形成した接着剤層(図示
せず)により被覆樹脂層保持部258に固定されてい
る。また、このような、積層光ファイバリボンを用いた
光ファイバアレイにおいても、上述したように、基板上
に、被覆樹脂層保持部に代えて、積層光ファイバリボン
を被覆樹脂層ごと一括して収納することができる凹部が
形成されていてもよい。
FIG. 2 (a) is a partial perspective view schematically showing an example of an optical fiber array of the present invention using a laminated optical fiber ribbon, and FIG. 2 (b) shows only a lid part attached to the optical fiber array. FIG. 4C is a perspective view showing the above, and FIG. 7C is a sectional view taken along line AA of FIG. As shown in FIG. 2, in the optical fiber array 200, the exposed optical fibers 235 and 245 at one end of the laminated optical fiber ribbon 210 are housed in the V groove 257 on the upper surface of the substrate 251 via the adhesive 259. Further, on the upper surface of the substrate 251, apart from the V groove 257,
A coating resin layer holding portion 258 for holding the laminated optical fiber ribbon 210 together with the coating resin layer is formed. In addition, the upper surface of the coating resin layer holding portion 258 has the groove 2
It is lower than the groove forming surface on which 57 is formed. Also,
This coating resin layer is fixed to the coating resin layer holding portion 258 by an adhesive layer (not shown) formed around it. Further, also in such an optical fiber array using the laminated optical fiber ribbon, as described above, the laminated optical fiber ribbon is housed together with the coating resin layer in place of the coating resin layer holding portion on the substrate. A recess that can be formed may be formed.

【0035】また、光ファイバアレイ200において
も、積層光ファイバリボン210を収納した基板251
上には、蓋部260が形成されており、この蓋部260
には、光ファイバ235、245の一部(光ファイバの
うち溝257に収納されなかった部分)を一括して収納
する凹部261が形成されている。また、このような凹
部261と光ファイバとの間隙にも接着剤269が充填
されている。また、基板251の外縁部と蓋部260の
外縁部とは、接着剤層279を介して密着している。
Also in the optical fiber array 200, the substrate 251 in which the laminated optical fiber ribbon 210 is housed
A lid 260 is formed on the top of the lid 260.
A recessed portion 261 is formed in which a part of the optical fibers 235 and 245 (a part of the optical fiber that is not housed in the groove 257) is housed together. The adhesive 269 is also filled in the gap between the recess 261 and the optical fiber. Further, the outer edge portion of the substrate 251 and the outer edge portion of the lid portion 260 are in close contact with each other via the adhesive layer 279.

【0036】また、積層光ファイバリボン210は、そ
れぞれ一端部の光ファイバが露出した2本の光ファイバ
リボン230、240が積み重ねられ、下段の光ファイ
バリボン240の露出した光ファイバ245と、上段の
光ファイバリボン230の露出した光ファイバ235と
が交互に配置されている。
In the laminated optical fiber ribbon 210, two optical fiber ribbons 230 and 240 each having an exposed optical fiber at one end are stacked, and the exposed optical fiber 245 of the lower optical fiber ribbon 240 and the upper optical fiber ribbon 245 of the upper optical fiber ribbon 240 are stacked. The exposed optical fibers 235 of the optical fiber ribbon 230 are alternately arranged.

【0037】また、積層光ファイバリボン210では、
露出した光ファイバ235、245が同一の高さに配置
されるように、露出した光ファイバ235、245は、
それぞれが、その一部で曲げられている。なお、積層光
ファイバリボン210では、上段の光ファイバリボン2
30の露出した光ファイバ235、および、下段の光フ
ァイバリボン240の露出した光ファイバ245のそれ
ぞれの一部が曲げられているが、両者の光ファイバを同
一の高さに配置することができるのであれば、上段の光
ファイバリボンの露出した光ファイバのみが曲げられて
いてもよいし、下段の光ファイバリボンの露出した光フ
ァイバのみが曲げられていてもよい。
In the laminated optical fiber ribbon 210,
The exposed optical fibers 235, 245 are arranged so that the exposed optical fibers 235, 245 are arranged at the same height.
Each is bent in part. In the laminated optical fiber ribbon 210, the upper optical fiber ribbon 2
Although the exposed optical fibers 235 of 30 and the exposed optical fibers 245 of the lower optical fiber ribbon 240 are partly bent, both optical fibers can be arranged at the same height. If so, only the exposed optical fiber of the upper optical fiber ribbon may be bent, or only the exposed optical fiber of the lower optical fiber ribbon may be bent.

【0038】また、上記積層光ファイバリボン210に
おいては、上段の光ファイバリボン230と、下段の光
ファイバリボン240とが、接着剤等を介して固定され
ていることが望ましい。高密度で並列に配置した光ファ
イバの位置ズレがより発生しにくくなるからである。
In the laminated optical fiber ribbon 210, it is desirable that the upper optical fiber ribbon 230 and the lower optical fiber ribbon 240 are fixed to each other with an adhesive or the like. This is because the positional deviation of the optical fibers arranged in parallel at high density is less likely to occur.

【0039】また、上述したように、本発明の光ファイ
バアレイにおいて、光ファイバは接着剤を介して溝に収
納されている。また、光ファイバと蓋部に形成した凹部
との間隙には、接着剤が充填されていることが望まし
い。
Further, as described above, in the optical fiber array of the present invention, the optical fibers are housed in the groove via the adhesive. Further, it is desirable that the gap between the optical fiber and the recess formed in the lid is filled with an adhesive.

【0040】上記接着剤としては、例えば、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、および、紫外線硬化樹脂等の感光性
樹脂のうちの少なくとも一種を含むものが挙げられる。
これらのなかでは、熱硬化性樹脂、および、紫外線硬化
樹脂等の感光性樹脂が望ましい。上記熱硬化性樹脂とし
ては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコ
ーン樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等が挙げられ
る。
Examples of the adhesive include those containing at least one of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photosensitive resin such as an ultraviolet curable resin.
Among these, a thermosetting resin and a photosensitive resin such as an ultraviolet curable resin are preferable. Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin, silicone resin, polyimide resin, and fluororesin.

【0041】上記エポキシ樹脂としては、例えば、ビス
フェノール型エポキシ樹脂や、ノボラック型エポキシ樹
脂等が挙げられる。上記ビスフェノール型エポキシ樹脂
を用いることは、A型やF型の樹脂を選択することによ
り、希釈溶媒を使用しなくてもその粘度を調整すること
ができる点から望ましく、より低粘度に調整することが
できる点からビスフェノールF型エポキシ樹脂がより望
ましい。また、上記ノボラック型エポキシ樹脂を用いる
ことは、この樹脂が、高強度で耐熱性や耐薬品性に優
れ、また、熱分解しにくい点から望ましい。また、上記
ノボラック型エポキシ樹脂としては、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂が望ましい。
Examples of the epoxy resin include bisphenol type epoxy resin and novolac type epoxy resin. The use of the above bisphenol type epoxy resin is desirable in that the viscosity can be adjusted by selecting an A type or F type resin without using a diluting solvent, and it is preferable to adjust the viscosity to a lower value. The bisphenol F type epoxy resin is more preferable in that it can be obtained. Further, it is preferable to use the above novolac type epoxy resin because the resin has high strength, excellent heat resistance and chemical resistance, and is less likely to be thermally decomposed. Further, as the novolac type epoxy resin, a phenol novolac type epoxy resin and a cresol novolac type epoxy resin are desirable.

【0042】また、上記ビスフェノール型エポキシ樹脂
と上記ノボラック型エポキシ樹脂とは、混合して用いる
ことが望ましい。この場合、上記ビスフェノール型エポ
キシ樹脂と上記ノボラック型エポキシ樹脂との混合比
は、1:1〜1:100であることが望ましい。この範
囲で混合することにより、粘度の上昇を抑えることがで
きるからである。
The bisphenol type epoxy resin and the novolac type epoxy resin are preferably mixed and used. In this case, the mixing ratio of the bisphenol type epoxy resin and the novolac type epoxy resin is preferably 1: 1 to 1: 100. This is because mixing within this range can suppress an increase in viscosity.

【0043】上記感光性樹脂としては、例えば、フッ素
化エポキシ樹脂、フッ素化エポキシアクリレート樹脂等
の紫外線硬化樹脂が挙げられ、これらの具体例として
は、例えば、ダイキン工業社製、オプトダインUV−1
000、オプトダインUV−2000、オプトダインU
V−3000、オプトダインUV−4000等が挙げら
れる。
Examples of the above-mentioned photosensitive resin include UV-curable resins such as fluorinated epoxy resin and fluorinated epoxy acrylate resin, and specific examples of these are, for example, Optodyne UV-1 manufactured by Daikin Industries, Ltd.
000, Optodyne UV-2000, Optodyne U
V-3000, Optodyne UV-4000 and the like.

【0044】また、上記感光性樹脂としては、例えば、
上記熱硬化性樹脂に感光性を付与した樹脂等も挙げられ
る。具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸等を用い
て、熱硬化性樹脂の熱硬化基を(メタ)アクリル化した
もの等が挙げられる。これらのなかでは、エポキシ樹脂
の(メタ)アクリレートが望ましく、一分子中に2個以
上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂がより望ましい。
また、上記感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂
等も挙げられる。これらの感光性樹脂は単独で用いても
よいし、2種以上併用してもよい。
The photosensitive resin may be, for example,
The resin etc. which added the photosensitivity to the said thermosetting resin are also mentioned. Specifically, for example, the one in which the thermosetting group of the thermosetting resin is (meth) acrylated by using (meth) acrylic acid or the like can be mentioned. Among these, the (meth) acrylate of the epoxy resin is preferable, and the epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is more preferable.
Examples of the photosensitive resin also include acrylic resin and the like. These photosensitive resins may be used alone or in combination of two or more.

【0045】上記接着剤は、必要に応じて、硬化剤、樹
脂粒子、無機粒子、金属粒子等の粒子、光沢剤、反応安
定剤、光重合剤等の添加剤を含んでいてもよい。これら
の添加剤を含むことにより、流動性の向上や硬化度の調
整等を図ることができるからである。上記硬化剤として
は特に限定されず、一般に使用される硬化剤を用いるこ
とができ、具体例としては、例えば、イミダゾール系硬
化剤、アミン系硬化剤等が挙げられる。
The above-mentioned adhesive may optionally contain additives such as a curing agent, resin particles, inorganic particles, particles such as metal particles, a brightening agent, a reaction stabilizer and a photopolymerization agent. By including these additives, it is possible to improve the fluidity and adjust the degree of curing. The curing agent is not particularly limited, and commonly used curing agents can be used, and specific examples thereof include an imidazole curing agent and an amine curing agent.

【0046】上記樹脂粒子としては、例えば、熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂等からなるものが挙げられ、具体的
には、例えば、アミノ樹脂(メラミン樹脂、尿素樹脂、
グアナミン樹脂)、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、
ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ビスマレイミド−ト
リアジン樹脂等からなるものが挙げられる。これらは単
独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。また、
上記樹脂粒子としては、アクリロニトリル−ブタジエン
ゴム、ポリクロロプレンゴム等のゴムからなる粒子を用
いることもできる。
Examples of the above resin particles include those made of thermosetting resin, thermoplastic resin and the like. Specifically, for example, amino resin (melamine resin, urea resin,
(Guanamine resin), epoxy resin, phenol resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyphenylene resin,
Examples include polyolefin resins, fluororesins, bismaleimide-triazine resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Also,
As the resin particles, particles made of rubber such as acrylonitrile-butadiene rubber and polychloroprene rubber can also be used.

【0047】上記無機粒子としては、アルミナ、水酸化
アルミニウム等のアルミニウム化合物、炭酸カルシウ
ム、水酸化カルシウム等のカルシウム化合物、炭酸カリ
ウム等のカリウム化合物、マグネシア、ドロマイト、塩
基性炭酸マグネシウム等のマグネシウム化合物、シリ
カ、ゼオライト等のケイ素化合物等からなるものが挙げ
られる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併用
してもよいまた、上記無機粒子としては、リンやリン化
合物からなるものを用いることもできる。
Examples of the inorganic particles include aluminum compounds such as alumina and aluminum hydroxide, calcium compounds such as calcium carbonate and calcium hydroxide, potassium compounds such as potassium carbonate, magnesium compounds such as magnesia, dolomite, and basic magnesium carbonate. Examples thereof include those made of silicon compounds such as silica and zeolite. These may be used alone or in combination of two or more, and as the above-mentioned inorganic particles, phosphorus or a phosphorus compound may be used.

【0048】上記金属粒子としては、例えば、金、銀、
銅、スズ、亜鉛、ステンレス、アルミニウム、ニッケ
ル、鉄、鉛等からなるものが挙げられる。これらは単独
で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。これらの
粒子を含むことにより、熱膨張係数の調整や難燃性の向
上等を図ることができる。
Examples of the metal particles include gold, silver,
Examples include copper, tin, zinc, stainless steel, aluminum, nickel, iron and lead. These may be used alone or in combination of two or more. By including these particles, adjustment of the thermal expansion coefficient and improvement of flame retardancy can be achieved.

【0049】また、上記接着剤は、溶剤を含んでいても
よいが、溶剤を全く含まないものが望ましい。溶剤を含
まない接着剤では、硬化処理後に気泡がより発生しにく
いからである。また、溶剤を含む場合、溶剤としては、
例えば、NMP(ノルマルメチルピロリドン)、DMD
G(ジエチレングリコールジメチルエーテル)、グリセ
リン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、メチル
セルソルブ、メチルセルソルブアセテート、メタノー
ル、エタノール、ブタノール、プロパノール等が挙げら
れる。
The adhesive may contain a solvent, but it is desirable that the adhesive does not contain any solvent. This is because bubbles are less likely to occur in the adhesive containing no solvent after the curing treatment. When a solvent is included, the solvent is
For example, NMP (normal methylpyrrolidone), DMD
Examples thereof include G (diethylene glycol dimethyl ether), glycerin, cyclohexanol, cyclohexanone, methylcellosolve, methylcellosolve acetate, methanol, ethanol, butanol, propanol and the like.

【0050】次に、本発明の光ファイバアレイの製造方
法について説明する。ここでは、光ファイバリボンを用
いた光ファイバアレイの製造方法について説明する。
(1)上記光ファイバアレイを製造するには、まず、基
板に複数の溝を形成する。上記基板の材料としては特に
限定されず、外形加工を施した際の平坦性に優れ、鏡面
加工を施し易く、かつ、形状保持性に優れるものであれ
ばよい。具体的には、例えば、シリコン、炭化ケイ素、
アルミナ、窒化アルミニウム、ムライト、セラミック、
ガリウム砒素、ジルコニア、石英、ガラス等の無機材
料;銅、鉄、ニッケル等の金属材料;熱硬化性樹脂、熱
可塑性樹脂、感光性樹脂、これらの複合体等の有機材料
やこれらの有機材料にガラス繊維等の補強材を含浸させ
たもの等が挙げられる。
Next, a method of manufacturing the optical fiber array of the present invention will be described. Here, a method for manufacturing an optical fiber array using an optical fiber ribbon will be described.
(1) To manufacture the optical fiber array, first, a plurality of grooves are formed in the substrate. The material of the substrate is not particularly limited as long as it is excellent in flatness when subjected to outer shape processing, easily subjected to mirror surface processing, and excellent in shape retention. Specifically, for example, silicon, silicon carbide,
Alumina, aluminum nitride, mullite, ceramic,
Inorganic materials such as gallium arsenide, zirconia, quartz and glass; metallic materials such as copper, iron and nickel; thermosetting resins, thermoplastic resins, photosensitive resins, organic materials such as composites thereof, and organic materials thereof Examples include those impregnated with a reinforcing material such as glass fiber.

【0051】これらのなかでは、熱や湿度による伸縮
(変形)が少なく、機械的強度に優れる点から無機材料
が望ましい。このような特性を有する無機材料からなる
基板では、光ファイバを収納した際に、特に、光ファイ
バの変形やうねりが発生しにくく、光ファイバを介して
光信号を伝送する際に特に不都合が発生しにくいからで
ある。
Among these, an inorganic material is preferable because it is less likely to expand or contract (deform) due to heat or humidity and has excellent mechanical strength. In the case of a substrate made of an inorganic material having such characteristics, when an optical fiber is housed, deformation or waviness of the optical fiber is unlikely to occur, and inconvenience particularly occurs when transmitting an optical signal through the optical fiber. Because it is difficult to do.

【0052】上記基板に溝を形成する方法としては、例
えば、下記(i)〜(vi)の工程を経る方法等を用いる
ことができる。図3(a)〜(f)は、基板に溝を形成
する方法の一例を示す断面図である。
As a method of forming the groove in the above-mentioned substrate, for example, a method of passing through the following steps (i) to (vi) can be used. 3A to 3F are cross-sectional views showing an example of a method of forming a groove on a substrate.

【0053】(i)まず、基板151上にマスク層15
2(152a、152b)を形成する(図3(a)参
照)。なお、上記マスク層の層数は、図4に示すような
2層に限定されず、1層であってもよいし、3層以上で
あってもよい。
(I) First, the mask layer 15 is formed on the substrate 151.
2 (152a, 152b) are formed (see FIG. 3A). The number of mask layers is not limited to two as shown in FIG. 4 and may be one or three or more.

【0054】マスク層152を形成する方法としては、
例えば、スパッタリング、CVD、めっき等により薄膜
を形成する方法、熱酸化等により酸化膜を形成する方
法、これらを組み合わせた方法等を用いることができ
る。これらのなかでは、例えば、シリコンからなる基板
上にマスク層を形成する場合には、まず、熱酸化により
酸化膜(SiO膜)を形成し、次に、この酸化膜上
に、CVDにより薄膜を形成する方法が望ましい。この
ようなマスク層を形成することにより、後工程で任意の
部分にエッチング処理を施すことにより、任意の形状の
マスクを形成することができる。
As a method of forming the mask layer 152,
For example, a method of forming a thin film by sputtering, CVD, plating or the like, a method of forming an oxide film by thermal oxidation or the like, a method combining these, or the like can be used. Among these, for example, when forming a mask layer on a substrate made of silicon, first an oxide film (SiO 2 film) is formed by thermal oxidation, and then a thin film is formed on this oxide film by CVD. A method of forming is desirable. By forming such a mask layer, it is possible to form a mask having an arbitrary shape by subjecting an arbitrary portion to etching treatment in a later step.

【0055】(ii)次に、マスク層152上にレジスト
用樹脂層154を形成する(図3(b)参照)。具体的
には、予め粘度を調整しておいたレジスト用樹脂組成物
をスピンコータ、カーテンコータ、ロールコータ、印刷
等により塗布する方法や、予めフィルム状に成形してお
いたレジスト用樹脂フィルムを貼り付ける方法等を用い
ることができる。
(Ii) Next, a resist resin layer 154 is formed on the mask layer 152 (see FIG. 3B). Specifically, a method in which a resist resin composition whose viscosity has been adjusted in advance is applied by a spin coater, a curtain coater, a roll coater, printing, or the like, or a resist resin film which has been formed into a film shape in advance is attached. A method of attaching can be used.

【0056】上記レジスト用樹脂組成物やレジスト用樹
脂フィルムとしては、例えば、樹脂成分と、必要に応じ
て配合された硬化剤、粒子、ゴム成分、添加剤、反応安
定剤、溶剤等とからなるものが挙げられる。上記樹脂成
分としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感
光性樹脂、熱硬化性樹脂の一部が感光性基で置換された
樹脂、これらの複合樹脂等が挙げられる。
The resin composition for resist and the resin film for resist are composed of, for example, a resin component and a curing agent, particles, a rubber component, an additive, a reaction stabilizer, a solvent and the like which are blended as necessary. There are things. Examples of the resin component include a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a photosensitive resin, a resin in which a part of the thermosetting resin is replaced with a photosensitive group, a composite resin of these, and the like.

【0057】具体的には、例えば、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポ
リフェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等
の熱硬化性樹脂;これらの熱硬化性樹脂の熱硬化基(例
えば、エポキシ樹脂におけるエポキシ基)にメタクリル
酸やアクリル酸等を反応させ、アクリル基(感光性基)
を付与した樹脂;フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフ
ォン(PES)、ポリスルフォン(PSF)、ポリフェ
ニレンスルホン(PPS)、ポリフェニレンサルファイ
ド(PPES)、ポリフェニルエーテル(PPE)、ポ
リエーテルイミド(PI)等の熱可塑性樹脂;アクリル
樹脂、紫外線硬化樹脂等の感光性樹脂等が挙げられるこ
れらのなかでは、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
イミド樹脂、アクリル樹脂、紫外線硬化樹脂が望まし
い。後工程で、レジスト用樹脂層下のマスク層にエッチ
ング液を用いた処理を施す際に、該エッチング液に対す
る耐性に優れるからである。上記硬化剤としては、イミ
ダゾール系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤
等が挙げられる。
Specifically, for example, thermosetting resins such as epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, bismaleimide resin, polyphenylene resin, polyolefin resin, and fluororesin; thermosetting groups of these thermosetting resins (for example, , (Epoxy group in epoxy resin) is reacted with methacrylic acid or acrylic acid to form an acrylic group (photosensitive group).
Resins provided with: thermoplastics such as phenoxy resin, polyether sulfone (PES), polysulfone (PSF), polyphenylene sulfone (PPS), polyphenylene sulfide (PPES), polyphenyl ether (PPE), and polyetherimide (PI) Resin: Acrylic resin, photosensitive resin such as ultraviolet curable resin, and the like. Among these, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, acrylic resin, and ultraviolet curable resin are preferable. This is because when the mask layer under the resist resin layer is treated with an etching solution in a later step, the resistance to the etching solution is excellent. Examples of the curing agent include imidazole curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, and the like.

【0058】また、上記レジスト用樹脂層の厚さは10
〜50μmが望ましい。また、上記レジスト用樹脂層
は、硬化状態であってもよいし、半硬化状態であっても
よい。具体的には、例えば、後工程で露光、現像処理に
より、基板に形成する溝に相当する部分のレジスト用樹
脂層を除去する場合には、半硬化状態であることが望ま
しく、レーザ処理等により、上記溝に相当する部分のレ
ジスト用樹脂層を除去する場合には、硬化状態であって
もよいし、半硬化状態であってもよい。なお、完全に硬
化した状態や、半硬化状態のレジスト用樹脂層を形成す
る場合、硬化処理は、例えば、70〜200℃に加熱す
ることにより行うことが望ましい。また、段階的に加熱
温度を変化させるステップ硬化を行ってもよい。
The resist resin layer has a thickness of 10
˜50 μm is desirable. The resist resin layer may be in a cured state or a semi-cured state. Specifically, for example, in the case where the resist resin layer in the portion corresponding to the groove to be formed on the substrate is removed by exposure and development in a later step, it is preferably in a semi-cured state. When the resist resin layer corresponding to the groove is removed, it may be in a cured state or a semi-cured state. In the case of forming a resist resin layer in a completely cured state or a semi-cured state, it is desirable to perform the curing treatment by heating at 70 to 200 ° C, for example. Moreover, you may perform step hardening which changes a heating temperature step by step.

【0059】(iii)次に、レジスト用樹脂層154の
一部、すなわち、基板151に形成する溝に相当する部
分を除去し、エッチングレジスト155とする(図3
(c)参照)。レジスト用樹脂層154の除去は、例え
ば、露光、現像処理により行うことができる。具体的に
は、例えば、半硬化状態のレジスト用樹脂層上にマスク
を載置した後、露光処理を施し、その後、アルカリ溶液
や有機溶剤等の薬液による現像処理を施す。上記現像処
理は、上記薬液中に上記レジスト用樹脂層を形成した基
板を浸漬したり、上記薬液をスプレーしたりすることに
より行うことができる。また、上記マスクとしては、上
記レジスト用樹脂層の除去部分に相当する部分に溝のパ
ターンが描画されたマスクを用いることができる。
(Iii) Next, a part of the resist resin layer 154, that is, a part corresponding to the groove formed in the substrate 151 is removed to obtain an etching resist 155 (FIG. 3).
(See (c)). The resist resin layer 154 can be removed by, for example, exposure and development treatment. Specifically, for example, a mask is placed on the semi-cured resin layer for resist, an exposure process is performed, and then a development process using a chemical solution such as an alkaline solution or an organic solvent is performed. The developing treatment can be performed by immersing the substrate having the resin layer for resist in the chemical solution or spraying the chemical solution. As the mask, it is possible to use a mask in which a groove pattern is drawn in a portion corresponding to the removed portion of the resist resin layer.

【0060】また、レジスト用樹脂層154の除去は、
レーザ処理を用いて行ってもよい。上記レーザ処理に用
いるレーザとしては、例えば、炭酸ガスレーザ、エキシ
マレーザ、UVレーザ、YAGレーザ等が挙げられる。
これらのレーザは、上記レジスト用樹脂層の除去部分の
形状や、上記レジスト用樹脂層の組成等を考慮して使い
分ければよい。なお、この工程で形成するエッチングレ
ジストの形状を調整することにより、後工程を経て形成
する溝の形状を調整することができる。
The removal of the resist resin layer 154 is
Alternatively, laser processing may be used. Examples of the laser used for the laser processing include carbon dioxide gas laser, excimer laser, UV laser, and YAG laser.
These lasers may be selectively used in consideration of the shape of the removed portion of the resist resin layer, the composition of the resist resin layer, and the like. By adjusting the shape of the etching resist formed in this step, it is possible to adjust the shape of the groove formed through the subsequent steps.

【0061】(iv)次に、エッチングレジスト155非
形成部に露出したマスク層152を除去し、基板151
の溝を形成する部分を露出させたマスク156を形成す
る(図3(d)参照)。マスク層152の除去は、例え
ば、酸素プラズマや窒素プラズマ等を用いたプラズマ処
理、コロナ処理、逆スパッタリング等のドライエッチン
グ処理により行うことができる。具体的には、例えば、
真空下または減圧下において、マスク層に酸素プラズマ
を照射することにより行うことができる。このようなド
ライエッチング処理を行うことにより、エッチングレジ
ストに損傷や変形等を発生させることなく、選択的にレ
ジスト非形成部分のマスク層のみを除去することができ
る。
(Iv) Next, the mask layer 152 exposed in the portion where the etching resist 155 is not formed is removed, and the substrate 151 is removed.
A mask 156 is formed by exposing the portions where the grooves are formed (see FIG. 3D). The mask layer 152 can be removed by, for example, plasma treatment using oxygen plasma or nitrogen plasma, corona treatment, or dry etching treatment such as reverse sputtering. Specifically, for example,
This can be performed by irradiating the mask layer with oxygen plasma under vacuum or reduced pressure. By performing such a dry etching process, it is possible to selectively remove only the mask layer in the resist non-forming portion without causing damage or deformation of the etching resist.

【0062】また、マスク層152の除去は、例えば、
エッチング液や酸溶液に、マスク層152が形成された
基板を浸漬したり、溶液中に浸漬するとともに超音波処
理を施したり、エッチング液や酸溶液をマスク層にスプ
レーしたりすることによっても行うことができる。具体
的にどのような除去方法を選択するかは、マスク層の材
質や厚さ等を考慮して適宜決定すればよく、例えば、マ
スク層が酸化膜からなる場合には、プラズマ処理やエッ
チング液による処理を選択し、マスク層が金属層からな
る場合には、逆スパッタリングやエッチング液による処
理を選択すればよい。
The mask layer 152 can be removed by, for example,
It is also performed by immersing the substrate on which the mask layer 152 is formed in an etching solution or an acid solution, immersing the substrate in the solution and performing ultrasonic treatment, or spraying the etching solution or the acid solution on the mask layer. be able to. The removal method to be specifically selected may be appropriately determined in consideration of the material and thickness of the mask layer. For example, when the mask layer is made of an oxide film, plasma treatment or etching solution is used. When the mask layer is made of a metal layer, reverse sputtering or a treatment with an etching solution may be selected.

【0063】(v)次に、上記エッチングレジスト15
5を剥離除去する(図3(e)参照)。エッチングレジ
スト155の剥離除去は、NaOH、KOH等のアルカ
リ溶液、硫酸、酢酸、炭酸等の酸溶液、メタノール、エ
タノール等のアルコール類、アミン類、ケトン、アセト
ン等の有機溶剤等を用いて行うことができる。これによ
り、基板151上に、溝を形成する部分に相当する部分
が開口したマスク156のみが形成されることとなる。
(V) Next, the etching resist 15
5 is peeled off and removed (see FIG. 3E). The removal of the etching resist 155 should be carried out using an alkaline solution such as NaOH, KOH, an acid solution such as sulfuric acid, acetic acid, carbonic acid, alcohols such as methanol and ethanol, amines, ketones, organic solvents such as acetone, and the like. You can As a result, only the mask 156 having the opening corresponding to the portion where the groove is formed is formed on the substrate 151.

【0064】(vi)次に、基板151に溝157を形成
する(図3(f)参照)。溝157は、例えば、基板1
51にマスク156を介して、エッチング液を吹き付け
たり、マスク156が形成された基板151をエッチン
グ液中に浸漬したりすることにより形成することができ
る。上記エッチング液としては、例えば、NaOH、K
OH等のアルカリ、硝酸、燐酸、硫酸等の酸、フッ化水
素、フッ化臭素等のフッ素系化合物、ハロゲン化物、過
酸化水素水、メタノール、エタノール等のアルコール類
等を用いることができる。これらのエッチング液を用い
て溝を形成した場合、溝の断面の形状は、V字状や倒立
台形状、矩形状、これらを組み合わせた形状等となる。
(Vi) Next, a groove 157 is formed in the substrate 151 (see FIG. 3 (f)). The groove 157 is, for example, the substrate 1
It can be formed by spraying an etching solution on 51 through the mask 156 or by immersing the substrate 151 on which the mask 156 is formed in the etching solution. Examples of the etching solution include NaOH and K
An alkali such as OH, an acid such as nitric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, a fluorine-based compound such as hydrogen fluoride or bromine fluoride, a halide, a hydrogen peroxide solution, an alcohol such as methanol or ethanol, or the like can be used. When the groove is formed by using these etching solutions, the cross-sectional shape of the groove is V-shaped, inverted trapezoidal shape, rectangular shape, or a combination thereof.

【0065】上記エッチング液の濃度は、10〜50重
量%が望ましい。上記濃度が、10重量%未満ではエッ
チング処理に長時間を要することがあり、一方、50重
量%を超えてもエッチング速度はほとんど変化しない。
また、上記エッチング液の温度は20〜90℃が望まし
く、エッチング速度は0.5〜5.0μm/分が望まし
い。上記エッチング液の温度が20℃未満では、充分に
エッチングできないことがあり、エッチング液の温度が
90℃を超えてもエッチング量はほとんど変わらず、作
業時の安全性が低下することとなる。
The concentration of the etching solution is preferably 10 to 50% by weight. If the concentration is less than 10% by weight, the etching process may take a long time, while if it exceeds 50% by weight, the etching rate hardly changes.
The temperature of the etching solution is preferably 20 to 90 ° C., and the etching rate is preferably 0.5 to 5.0 μm / min. If the temperature of the etching solution is lower than 20 ° C., the etching may not be sufficiently performed, and even if the temperature of the etching solution exceeds 90 ° C., the etching amount is hardly changed, and the safety during the work is lowered.

【0066】ここで、その材質がシリコンやガリウム砒
素の基板に溝を形成する場合には、KOH等のアルカリ
溶液を用いたエッチング処理を行うことが望ましい。シ
リコンやガリウム砒素からなる基板に、エッチング処理
を行う場合、エッチング面、エッチング液の種類、およ
び、エッチングレジスト非形成部の形状として適宜なも
のを選択することにより、所望の形状の溝を形成するこ
とができる。
Here, when a groove is formed in a substrate whose material is silicon or gallium arsenide, it is desirable to perform an etching process using an alkaline solution such as KOH. When a substrate made of silicon or gallium arsenide is subjected to etching treatment, a groove having a desired shape is formed by selecting an appropriate etching surface, type of etching solution, and shape of the etching resist non-forming portion. be able to.

【0067】すなわち、KOHを含むエッチング液を用
いてシリコン基板をエッチングする場合、シリコン基板
の(100)面が、(111)面および(110)面に
比べて優先的にエッチングされ、それぞれの結晶面のエ
ッチング速度比がほぼ一定であるため、所望の形状の溝
を形成することができる。具体的には、シリコン基板の
(100)面にエッチング処理を施す場合には、断面の
形状がV字状や倒立台形状の溝を形成することができ、
(110)面にエッチング処理を施す場合には、断面の
形状が矩形状の溝を形成することができる。
That is, when a silicon substrate is etched using an etching solution containing KOH, the (100) plane of the silicon substrate is preferentially etched as compared with the (111) plane and the (110) plane, and each crystal is crystallized. Since the etching rate ratio of the surface is almost constant, a groove having a desired shape can be formed. Specifically, when the (100) surface of the silicon substrate is subjected to etching treatment, it is possible to form a groove having a V-shaped or inverted trapezoidal cross section.
When the (110) plane is subjected to etching treatment, a groove having a rectangular cross section can be formed.

【0068】また、KOHを含むエッチング液を用いて
ガリウム砒素基板をエッチングする場合には、(11
1)Ga面のエッチング速度が最も遅く、(111)A
s面のエッチング速度が最も速いことを利用することに
より、所望の形状の溝を形成することができる。
When the gallium arsenide substrate is etched using an etching solution containing KOH, (11
1) The slowest etching rate of Ga surface is (111) A
By utilizing the fact that the s-plane has the highest etching rate, it is possible to form a groove having a desired shape.

【0069】この工程で、エッチング処理を施す際に
は、エッチング液中に界面活性剤等を添加しておいても
よい。エッチング処理時に激しく発泡する場合には、こ
の発泡によりエッチング面に凹凸が形成されることがあ
るが、界面活性剤を添加しておくことによりエッチング
処理時の発泡を抑えることができるからである。また、
上記エッチング処理を超音波を印加しながら行ってもよ
い。超音波を印加することによっても発泡を抑えること
ができるからである。
When the etching treatment is performed in this step, a surfactant or the like may be added to the etching solution. When the foaming occurs violently during the etching process, irregularities may be formed on the etching surface due to the foaming, but by adding a surfactant, the foaming during the etching process can be suppressed. Also,
The etching process may be performed while applying ultrasonic waves. This is because foaming can also be suppressed by applying ultrasonic waves.

【0070】また、基板をエッチング液中に浸漬してエ
ッチング処理を行う場合には、基板を揺動したり、エッ
チング液を攪拌したりしながらエッチング処理を行って
もよい。このような(i)〜(vi)工程を経ることによ
り、基板に所望の形状の溝を形成することができる。
When the substrate is dipped in the etching solution to perform the etching process, the etching process may be performed while the substrate is swung or the etching solution is stirred. Through the steps (i) to (vi), a groove having a desired shape can be formed on the substrate.

【0071】また、この(1)の工程においては、基板
に溝を形成するとともに、光ファイバや光ファイバリボ
ンを被覆樹脂層ごと保持するための被覆樹脂層保持部を
形成することが望ましい。上記被覆樹脂層保持部の形成
方法としては特に限定されず、例えば、ダイヤモンド刃
を備えた装置を用いる方法等が挙げられる。また、上記
被覆樹脂層保持部の形成は、一回で行ってもよいし、二
回以上に分けて行ってもよい。
Further, in the step (1), it is desirable to form a groove in the substrate and to form a coating resin layer holding portion for holding the optical fiber or the optical fiber ribbon together with the coating resin layer. The method for forming the coated resin layer holding portion is not particularly limited, and examples thereof include a method using a device equipped with a diamond blade. Further, the formation of the coating resin layer holding portion may be performed once or may be performed twice or more.

【0072】また、上記被覆樹脂層保持部を形成した際
に、該被覆樹脂層保持部の底面は凹凸を有することがあ
る。この場合、凹凸を平坦化するための研磨処理を行っ
てもよいが、光ファイバリボン等を収納した際に光ファ
イバリボンが大きく傾いたりするほどの凹凸でなけれ
ば、特に、研磨処理等を施すことなく、そのままにして
おくことが望ましい。これは、上記被覆樹脂層保持部で
被覆樹脂層を接着剤層を介して保持した場合に、アンカ
ー効果により被覆樹脂層保持部と接着剤との密着性が向
上するからである。また、ここで被覆樹脂層保持部を形
成する場合、該被覆樹脂層保持部には、保持する光ファ
イバリボン等の形状に追従するように、高さの異なる複
数の保持面が形成されていてもよい。また、基板上に、
被覆樹脂層保持部に代えて、光ファイバをその周囲の被
覆樹脂層ごと収納することができる凹部を形成する場合
にも、ここで、基板に切削加工を施すことにより該凹部
を形成すればよい。
Further, when the coated resin layer holding portion is formed, the bottom surface of the coated resin layer holding portion may have irregularities. In this case, a polishing process may be performed to flatten the unevenness, but if the unevenness is such that the optical fiber ribbon is greatly inclined when the optical fiber ribbon or the like is stored, the polishing process is particularly performed. It is desirable to leave it as it is. This is because when the coating resin layer holding portion holds the coating resin layer via the adhesive layer, the adhesion between the coating resin layer holding portion and the adhesive improves due to the anchor effect. Further, when forming the coating resin layer holding portion here, a plurality of holding surfaces having different heights are formed in the coating resin layer holding portion so as to follow the shape of the optical fiber ribbon to be held. Good. Also, on the substrate,
In the case of forming a concave portion that can accommodate the optical fiber together with the surrounding coating resin layer instead of the covering resin layer holding portion, the concave portion may be formed by cutting the substrate here. .

【0073】(2)ここでは、基板の作製とは別に、一
部の被覆樹脂層が除去され、光ファイバが露出した光フ
ァイバリボンを作製する。ここで、除去する被覆樹脂層
は、光ファイバリボンの一端部の被覆樹脂層であってよ
いし、光ファイバリボンの両端部以外の一部の被覆樹脂
層であってもよいが、光ファイバリボンの両端部以外の
一部の被覆樹脂層であることが望ましい。このような両
端部以外の一部の被覆樹脂層を除去した光ファイバリボ
ンでは、その両端部が被覆樹脂層で固定されているた
め、より光ファイバの軸方向のバラツキが発生しにく
く、後工程で、基板に収納するのに適しているからであ
る。
(2) Here, apart from the production of the substrate, an optical fiber ribbon in which a part of the coating resin layer is removed and the optical fiber is exposed is produced. Here, the coating resin layer to be removed may be the coating resin layer at one end of the optical fiber ribbon or may be a portion of the coating resin layer other than both ends of the optical fiber ribbon. It is desirable that it is a part of the coating resin layer other than both end portions of. In the optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than the both ends is removed, since both ends thereof are fixed by the coating resin layer, variation in the axial direction of the optical fiber is less likely to occur, and the post-process Therefore, it is suitable for being stored in the substrate.

【0074】上記被覆樹脂層の除去は、例えば、ストリ
ッパー等の工具を用いて機械的に除去する方法や、有機
溶剤を用いて被覆樹脂層を溶解することにより化学的に
除去する方法等を用いることができる。また、レーザ光
を照射することにより除去する方法も用いることができ
る。
The above-mentioned coating resin layer is removed by, for example, a mechanical removal method using a tool such as a stripper, or a chemical removal method by dissolving the coating resin layer using an organic solvent. be able to. Further, a method of removing by irradiation with laser light can also be used.

【0075】以下、レーザ光を照射することにより被覆
樹脂層を除去する方法について説明する。上記被覆樹脂
層の除去は、例えば、光ファイバリボンを銅張積層板等
の支持体上に水平に固定した後、レーザ光を照射するこ
とにより行う。
A method of removing the coating resin layer by irradiating laser light will be described below. The coating resin layer is removed, for example, by horizontally fixing the optical fiber ribbon on a support such as a copper clad laminate and then irradiating it with laser light.

【0076】この場合、まず、光ファイバリボンの主面
に垂直な一の方向からレーザ光を照射し、その後、上記
光ファイバリボンの主面に垂直な一の方向と反対の方向
からレーザ光を照射することが望ましい。レーザ光を光
ファイバリボンの主面に垂直な一の方向からのみ照射す
ると、光ファイバの影となる部分の被覆樹脂層を充分に
除去することができず、この部分の被覆樹脂層を完全に
除去するには、高出力のレーザ光を長時間照射しなけれ
ばならないため、光ファイバ表面を傷つけるおそれが高
まることとなり、また、経済的にも不利である。これに
対し、上述した方法でレーザ光を照射する場合には、被
覆樹脂層を、確実にかつ効率よく除去することができ、
さらに、除去後の被覆樹脂層の形状、特に、被覆樹脂層
の非除去部分の端面の形状を精度よく制御することがで
きる。
In this case, first, laser light is emitted from one direction perpendicular to the main surface of the optical fiber ribbon, and then laser light is emitted from a direction opposite to the one direction perpendicular to the main surface of the optical fiber ribbon. Irradiation is desirable. If the laser light is irradiated only from one direction perpendicular to the main surface of the optical fiber ribbon, the coating resin layer in the shadow of the optical fiber cannot be removed sufficiently, and the coating resin layer in this portion cannot be completely removed. In order to remove it, it is necessary to irradiate a high-power laser beam for a long time, which increases the risk of damaging the surface of the optical fiber and is economically disadvantageous. On the other hand, in the case of irradiating the laser beam by the method described above, the coating resin layer can be removed reliably and efficiently,
Further, the shape of the coating resin layer after the removal, particularly the shape of the end surface of the non-removed portion of the coating resin layer can be controlled with high accuracy.

【0077】上記レーザ光の照射は、例えば、CO
ーザ、エキシマレーザ等を用いて行うことができる。こ
れらのなかでは、COレーザを用いることが望まし
い。光ファイバ(クラッド)を傷付けるおそれがより少
なく、所望の部分の被覆樹脂層のみを除去することがで
きるからである。なお、エキシマレーザを用いて石英系
光ファイバの被覆樹脂層を剥離する場合にも特に大きな
問題は発生せず、炭酸ガスレーザに比べて、ランニング
コストが安価であるが、被覆樹脂層の剥離後、光ファイ
バの表面に被覆樹脂の炭化物が残るおそれがある。
Irradiation of the above laser light can be performed using, for example, a CO 2 laser, an excimer laser, or the like. Of these, it is desirable to use a CO 2 laser. This is because the optical fiber (clad) is less likely to be damaged and only the coating resin layer in a desired portion can be removed. Incidentally, even when peeling the coating resin layer of the silica-based optical fiber using an excimer laser does not cause a particularly large problem, compared to the carbon dioxide laser, running cost is low, after peeling the coating resin layer, Carbide of the coating resin may remain on the surface of the optical fiber.

【0078】上記COレーザを用いてレーザ光を光フ
ァイバリボンに照射する場合、レーザ光は、連続的に照
射してもよいが、間欠的に照射(以下、パルス照射とい
う)することが望ましい。パルス照射する場合、連続的
に照射する場合に比べて、その出力を高くすることがで
きるため、効率よく被覆樹脂層を除去することができ、
また、被覆樹脂層を徐々に除去するため、その除去状態
を確認しながら加工を行うことができ、光ファイバ(ク
ラッド)を傷付けるおそれがさらに少ない。
When the optical fiber ribbon is irradiated with the laser light using the CO 2 laser, the laser light may be continuously irradiated, but intermittent irradiation (hereinafter, referred to as pulse irradiation) is desirable. . In the case of pulse irradiation, the output can be increased as compared with the case of continuous irradiation, so that the coating resin layer can be efficiently removed,
Further, since the coating resin layer is gradually removed, the processing can be performed while confirming the removed state, and the possibility of damaging the optical fiber (clad) is further reduced.

【0079】このようにCOレーザを用いてレーザ光
をパルス照射する場合、そのパルス幅は、10〜100
μsであることが望ましい。パルス幅が10μs未満で
あると、被覆樹脂層を充分に除去するためにレーザ光の
照射回数を増やす必要があり、あまり効率的でなく、一
方、パルス幅が100μsを超えると、光ファイバ(ク
ラッド)を傷付けるおそれがある。
When the CO 2 laser is used to pulse-irradiate the laser beam, the pulse width is 10 to 100.
It is preferably μs. If the pulse width is less than 10 μs, it is necessary to increase the number of times of laser light irradiation in order to sufficiently remove the coating resin layer, which is not very efficient. On the other hand, if the pulse width exceeds 100 μs, the optical fiber (clad ) May be damaged.

【0080】また、COレーザを用いてレーザ光を照
射する場合、その照射条件は、被覆樹脂層の材料、厚さ
等を考慮して適宜選択すればよいが、通常、その積算エ
ネルギーは、2.0〜9.0mJ/cmであることが
望ましい。積算エネルギーが2.0mJ/cm未満で
あると、被覆樹脂層を完全に除去することができない場
合があり、一方、積算エネルギーが9.0mJ/cm
を超えると、光ファイバ(クラッド)を傷付けるおそれ
がある。
When the CO 2 laser is used to irradiate the laser beam, the irradiation conditions may be appropriately selected in consideration of the material, thickness, etc. of the coating resin layer, but normally the integrated energy is It is desirable that it is 2.0 to 9.0 mJ / cm 2 . If the cumulative energy is less than 2.0 mJ / cm 2 , the coating resin layer may not be completely removed, while the cumulative energy is 9.0 mJ / cm 2.
If it exceeds, the optical fiber (clad) may be damaged.

【0081】また、レーザ光の照射回数は、被覆樹脂層
の材料、厚さ、および、COレーザの出力等に応じて
適宜選択すればよく、例えば、クラッド径が125μm
で、隣合うクラッド同士の外縁部の最短距離(以下、ク
ラッド間隔)が250μmの光ファイバリボンに、上記
した範囲のパルス幅および積算エネルギーでレーザ光を
照射する場合には、3〜8回程度であることが望まし
い。上記照射回数が3回未満であると、被覆樹脂層を完
全に除去することが困難な場合があり、一方、8回を超
えると、光ファイバリボンの一の主面にレーザ光を照射
した際にほとんどの被覆樹脂層が除去され、光ファイバ
リボンの一の主面と反対の面にレーザ光を照射する前に
光ファイバがバラバラになってしまい、上記反対の面に
レーザ光を照射することが困難となることがある。
The number of times of laser light irradiation may be appropriately selected according to the material and thickness of the coating resin layer, the output of the CO 2 laser, and the like. For example, the clad diameter is 125 μm.
In the case of irradiating the optical fiber ribbon having the shortest distance between outer edges of the adjacent clads (hereinafter referred to as the clad interval) of 250 μm with the laser beam with the pulse width and the accumulated energy in the above range, about 3 to 8 times. Is desirable. If the number of times of irradiation is less than 3 times, it may be difficult to completely remove the coating resin layer, while if it exceeds 8 times, one main surface of the optical fiber ribbon is irradiated with laser light. Most of the coating resin layer is removed on the optical fiber ribbon, and the optical fiber is scattered before the laser beam is irradiated on the surface opposite to the one main surface of the optical fiber ribbon. Can be difficult.

【0082】図4(a)は、レーザ光を照射することに
より、光ファイバリボンの被覆樹脂層を剥離する方法の
一例を模式的に示す正面図であり、(b)はその側面図
である。図4(a)および(b)に示すように、レーザ
光を照射することにより被覆樹脂層を剥離する場合、レ
ーザ照射装置20を光ファイバリボン110の一の主面
の上方に配置し、レーザ照射装置20から光ファイバリ
ボン110に向かって、光ファイバリボン110の一の
主面に垂直なレーザ光21を照射して、このレーザ光2
1を照射した部分の被覆樹脂層を除去しながら、光ファ
イバリボン110をその幅方向に移動させる。
FIG. 4A is a front view schematically showing an example of a method of peeling the coating resin layer of the optical fiber ribbon by irradiating it with a laser beam, and FIG. 4B is a side view thereof. . As shown in FIGS. 4A and 4B, when the coating resin layer is peeled off by irradiating the laser beam, the laser irradiation device 20 is arranged above one main surface of the optical fiber ribbon 110, and A laser beam 21 perpendicular to one main surface of the optical fiber ribbon 110 is emitted from the irradiation device 20 toward the optical fiber ribbon 110, and the laser beam 2 is emitted.
The optical fiber ribbon 110 is moved in the width direction while removing the coating resin layer in the portion irradiated with 1.

【0083】この場合、初めに光ファイバリボン110
の厚さの1/2程度の被覆樹脂層を除去した後、光ファ
イバリボン110を反転してレーザ光21を照射し、残
りの被覆樹脂層を除去することが望ましい。初めに除去
する被覆樹脂層が多すぎると、その時点で、それぞれの
光ファイバ115がバラバラになってしまい、次に、光
ファイバリボン110を反転した後、再度、レーザ光2
1を照射する際に、レーザ光21を正確に照射すること
が困難となることがあり、また、光ファイバ115に直
接照射されるレーザ光の照射量も多くなり、光ファイバ
115を傷付けるおそれがより高まることとなるからで
ある。
In this case, first, the optical fiber ribbon 110
After removing the coating resin layer having a thickness of about 1/2, it is desirable to reverse the optical fiber ribbon 110 and irradiate the laser beam 21 to remove the remaining coating resin layer. If there are too many coating resin layers to be removed initially, the respective optical fibers 115 will come apart at that time, and then the optical fiber ribbon 110 will be inverted, and then the laser light 2 will be removed again.
When irradiating 1, the laser beam 21 may be difficult to irradiate accurately, and the irradiation amount of the laser beam directly irradiating the optical fiber 115 increases, which may damage the optical fiber 115. It will be higher.

【0084】また、光ファイバリボンの幅方向への移動
は、光ファイバリボン110の厚さの1/4程度の被覆
樹脂層を除去するごとに、レーザ照射エリアの半径分行
うことが望ましい。光ファイバリボンをこのように移動
させることで、初めにレーザ光21を照射した領域と、
次にレーザ光21を照射した領域との重なっている領域
の被覆樹脂層が、光ファイバリボン110の厚さの1/
2程度除去されることとなり、かつ、このような厚さの
被覆樹脂層を、光ファイバリボン110の幅方向の全体
に渡って確実に除去することができるからである。な
お、図4(a)における右端の被覆樹脂層(初めにレー
ザ光を照射する部分)は、レーザ光の照射エリアの半径
分だけ照射し、光ファイバリボンの厚さの1/4程度の
被覆樹脂層を除去しておけばよい。
The movement of the optical fiber ribbon in the width direction is preferably performed by the radius of the laser irradiation area each time the coating resin layer of about ¼ of the thickness of the optical fiber ribbon 110 is removed. By moving the optical fiber ribbon in this manner, the region initially irradiated with the laser light 21 and
Next, the coating resin layer in the area overlapping with the area irradiated with the laser light 21 is 1 / thick of the thickness of the optical fiber ribbon 110.
This is because about 2 is removed, and the coating resin layer having such a thickness can be reliably removed over the entire width direction of the optical fiber ribbon 110. The coating resin layer at the right end in FIG. 4A (the portion that is initially irradiated with laser light) is irradiated by the radius of the irradiation area of the laser light, and the coating is about 1/4 of the thickness of the optical fiber ribbon. It is only necessary to remove the resin layer.

【0085】また、上述した方法で光ファイバリボンの
厚さの1/2程度の被覆樹脂層を幅方向に除去した後、
光ファイバリボン110をその軸線方向にズラし、その
厚さの1/2程度の被覆樹脂層を幅方向に除去する工程
を繰り返すことで、レーザ光21の照射径よりも広い領
域の被覆樹脂層を除去することができる。その後、光フ
ァイバリボン110を反転した後、同様に残りの被覆樹
脂層を除去することで、レーザ光21の照射径よりも広
い領域の被覆樹脂層を完全に除去することができる。
Further, after removing the coating resin layer of about ½ of the thickness of the optical fiber ribbon in the width direction by the above-mentioned method,
By repeating the step of shifting the optical fiber ribbon 110 in the axial direction and removing the coating resin layer having a thickness of about ½ in the width direction, the coating resin layer in a region wider than the irradiation diameter of the laser light 21. Can be removed. Then, after the optical fiber ribbon 110 is turned over, the remaining coating resin layer is similarly removed, whereby the coating resin layer in a region wider than the irradiation diameter of the laser light 21 can be completely removed.

【0086】この場合、先に除去した被覆樹脂層領域
と、後のレーザ光の照射領域とが重ならないように、レ
ーザ照射領域を制御することが望ましい。先に除去した
被覆樹脂層領域と、後のレーザ照射領域とが重なると、
この重なった部分の被覆樹脂層が除去されすぎ、光ファ
イバがバラバラになってしまうことがあるからである。
また、レーザ照射領域の制御は、光ファイバリボンの位
置合わせによって行ってもよいし、マスクやレンズ等を
介してレーザ光を照射することによって行ってもよく、
また、これらを組み合わせて行ってもよい。
In this case, it is desirable to control the laser irradiation area so that the previously removed coating resin layer area and the subsequent laser light irradiation area do not overlap. When the coating resin layer region removed earlier and the laser irradiation region later overlap,
This is because the coating resin layer in the overlapping portion may be excessively removed, and the optical fiber may be disjointed.
Further, the control of the laser irradiation region may be performed by aligning the optical fiber ribbon, or may be performed by irradiating the laser beam through a mask, a lens, or the like,
Further, these may be combined.

【0087】なお、ここでは、光ファイバリボンを移動
させながら被覆樹脂層を除去する方法について説明した
が、レーザ照射装置を移動させながら被覆樹脂層を除去
してもよい。また、被覆樹脂層を除去する領域の大きさ
や、レーザ光の照射径等によっては、被覆樹脂層を除去
する全領域に一度にレーザ光を照射してもよい。
Although the method of removing the coating resin layer while moving the optical fiber ribbon has been described here, the coating resin layer may be removed while moving the laser irradiation device. Further, depending on the size of the area where the coating resin layer is removed, the irradiation diameter of the laser light, and the like, the entire area where the coating resin layer is removed may be irradiated with the laser light at once.

【0088】また、被覆樹脂層を除去した後には、上述
した方法により、光ファイバの表面に粗化面を形成する
ことが望ましい。光ファイバの表面に粗化面を形成した
場合には、後工程で基板の側面から未硬化の接着剤を流
し込む際に、表面張力による未硬化の接着剤の流入の度
合いが略均一であるため、確実に溝と光ファイバとの間
隙に未硬化の接着剤を流し込むことができる。
After removing the coating resin layer, it is desirable to form a roughened surface on the surface of the optical fiber by the method described above. When a roughened surface is formed on the surface of the optical fiber, the degree of inflow of the uncured adhesive due to the surface tension is substantially uniform when the uncured adhesive is poured from the side surface of the substrate in a later step. As a result, the uncured adhesive can be reliably poured into the gap between the groove and the optical fiber.

【0089】(3)次に、上記(1)の工程で作製した
基板の溝に、光ファイバリボンの露出した光ファイバを
収納した後、該光ファイバを接着剤により基板に固定す
る。ここで、その一端部の被覆樹脂層が除去された光フ
ァイバリボンを収納する場合、それぞれの光ファイバの
端面と基板の側面とが揃うように収納してもよいし、そ
れぞれの光ファイバが基板の側面から一定長さだけ突出
するように収納してもよい。
(3) Next, after the exposed optical fiber of the optical fiber ribbon is housed in the groove of the substrate manufactured in the above step (1), the optical fiber is fixed to the substrate with an adhesive. Here, when storing the optical fiber ribbon from which the coating resin layer at one end is removed, the optical fiber ribbon may be stored so that the end face of each optical fiber and the side face of the substrate are aligned, or each optical fiber is placed on the substrate. You may store so that it may protrude from the side surface of a certain length.

【0090】また、ここで、その両端部以外の一部の被
覆樹脂層が除去された光ファイバリボンを収納した場合
には、光ファイバリボンを収納した後、基板に収納しな
かった光ファイバリボンの一端部を切断除去することと
なる。なお、光ファイバリボンの一端部を切断除去する
場合、それぞれの光ファイバの端面と基板の側面とが揃
うように切断除去してもよいし、それぞれの光ファイバ
が基板の側面から一定長さだけ突出するように切断除去
してもよい。上記光ファイバリボンの切断除去は、カッ
ター等を用いた切削加工により行うことができる。ま
た、機械研磨により行ってもよい。
When the optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends is removed is housed, the optical fiber ribbon which is not housed in the substrate after housing the optical fiber ribbon is housed. Will be cut off at one end. In addition, when cutting and removing one end of the optical fiber ribbon, it may be cut and removed so that the end face of each optical fiber and the side surface of the substrate are aligned, or each optical fiber has a certain length from the side surface of the substrate. You may cut and remove so that it may protrude. The cutting and removal of the optical fiber ribbon can be performed by cutting using a cutter or the like. Alternatively, mechanical polishing may be performed.

【0091】また、上記(1)の工程で、光ファイバリ
ボンを被覆樹脂層ごと保持するための被覆樹脂層保持部
を形成した場合には、この工程で、溝に光ファイバを収
納するとともに、該被覆樹脂層保持部上に光ファイバリ
ボンを被覆樹脂層ごと載置する。また、基板上に、被覆
樹脂層保持部に代えて凹部を形成した場合には、該凹部
に光ファイバリボンを被覆樹脂層ごと収納する。
Further, in the step (1), when the coating resin layer holding portion for holding the optical fiber ribbon together with the coating resin layer is formed, the optical fiber is housed in the groove in this step, and The optical fiber ribbon together with the coating resin layer is placed on the coating resin layer holder. Further, when a concave portion is formed on the substrate instead of the coating resin layer holding portion, the optical fiber ribbon is housed in the concave portion together with the coating resin layer.

【0092】なお、上記(1)の工程において、上記
(i)〜(vi)の工程を経ることにより溝を形成した場
合には、基板上にマスクが形成されているため、本工程
で光ファイバを収納する部分は、厳密には、マスク非形
成部分と基板に設けた溝とを合わせた部分であるが、本
明細書においては、基板に溝を形成した後には、この両
者を合わせた部分を溝ということとする。
In the step (1), when the groove is formed by going through the steps (i) to (vi), the mask is formed on the substrate, so that the optical Strictly speaking, the portion for accommodating the fiber is a portion where the mask non-formation portion and the groove provided on the substrate are combined, but in the present specification, after the groove is formed on the substrate, the both are combined. The part is called a groove.

【0093】このように、光ファイバリボンの露出した
光ファイバを溝に収納した後、該光ファイバを固定す
る。具体的には、例えば、溝の端部から未硬化の接着剤
を流し込み、その後、該接着剤を硬化させることにより
光ファイバを固定する。また、基板に被覆樹脂層保持部
を形成し、該被覆樹脂層保持部に光ファイバリボンを被
覆樹脂層ごと載置した場合には、該被覆樹脂層の周囲に
も接着剤を塗布し被覆樹脂層を被覆樹脂層保持部に固定
することが望ましい。なお、光ファイバを収納する前
に、予め,溝内等に接着剤を流し込んでおき、光ファイ
バを収納した後、接着剤を硬化することにより光ファイ
バを固定してもよい。
In this way, after the exposed optical fiber of the optical fiber ribbon is housed in the groove, the optical fiber is fixed. Specifically, for example, an uncured adhesive is poured from the end of the groove, and then the adhesive is cured to fix the optical fiber. In addition, when the coating resin layer holding portion is formed on the substrate and the optical fiber ribbon is placed on the coating resin layer holding portion together with the coating resin layer, an adhesive is also applied around the coating resin layer to form the coating resin layer. It is desirable to fix the layer to the coating resin layer holding portion. It should be noted that before storing the optical fiber, an adhesive may be poured into the groove or the like in advance, and after storing the optical fiber, the adhesive may be cured to fix the optical fiber.

【0094】上記接着剤の硬化は、例えば、80〜25
0℃で加熱することにより行うことができる。また、感
光性樹脂を含む接着剤の硬化は、紫外線や赤外線を照射
することにより行えばよい。
The above-mentioned adhesive is cured by, for example, 80 to 25.
It can be performed by heating at 0 ° C. The adhesive containing the photosensitive resin may be cured by irradiating it with ultraviolet rays or infrared rays.

【0095】(4)次に、光ファイバを収納、固定した
基板上に、該光ファイバの一部を一括して収納する凹部
が形成された蓋部を取り付ける。ここで、基板上への蓋
部の取り付けは、通常、接着剤層を介して行う。従っ
て、予め、基板の外縁部および/または蓋部の外縁部に
未硬化の接着剤を塗布しておき、この未硬化の接着剤を
硬化させて形成した接着剤層を介して基板と蓋部とを密
着させる。また、上記蓋部の形成は、無機材料や金属材
料からなる板状体に、切削加工を施すことにより行うこ
とができる。
(4) Next, a lid having a concave portion for accommodating a part of the optical fiber is attached to the substrate on which the optical fiber is accommodated and fixed. Here, the attachment of the lid on the substrate is usually performed via an adhesive layer. Therefore, an uncured adhesive is applied to the outer edge portion of the substrate and / or the outer edge portion of the lid portion in advance, and the substrate and the lid portion are interposed via the adhesive layer formed by curing the uncured adhesive agent. And close contact. The lid can be formed by cutting a plate-like body made of an inorganic material or a metal material.

【0096】また、蓋部を形成した後には、該蓋部と光
ファイバとの間隙にも、未硬化の接着剤を流し込み、こ
の接着剤を硬化させることにより蓋部と光ファイバとを
固定することが望ましい。また、光ファイバを基板の溝
に収納した後、光ファイバを溝に固定する前に、先に蓋
部の形成を行い、その後、溝と光ファイバとの間隙、お
よび、凹部と光ファイバとの間隙に同時に未硬化の接着
剤を流し込むことが望ましい。接着剤を塗布した後、こ
の接着剤上に蓋部を載置した場合、接着剤と蓋部との間
に空気が入り込みやすくなるからである。また、接着剤
として感光性樹脂からなるものを用いた場合には、蓋部
を介して、紫外線や赤外線を照射することとなるため、
上述したように、蓋部の材質は、石英やガラス等の紫外
線や赤外線を透過するものであることが望ましい。
After the lid is formed, an uncured adhesive is poured into the gap between the lid and the optical fiber, and the adhesive is cured to fix the lid and the optical fiber. Is desirable. Further, after housing the optical fiber in the groove of the substrate and before fixing the optical fiber in the groove, the lid is formed first, and then the gap between the groove and the optical fiber, and the recess and the optical fiber It is desirable to pour uncured adhesive into the gap at the same time. This is because when the lid is placed on the adhesive after applying the adhesive, air easily enters between the adhesive and the lid. Further, when the adhesive made of a photosensitive resin is used, since ultraviolet rays and infrared rays are radiated through the lid,
As described above, it is desirable that the material of the lid portion be a material such as quartz or glass that transmits ultraviolet rays and infrared rays.

【0097】その後、基板、光ファイバおよび蓋部の端
面に研磨処理を施すことにより、これらの端面を揃える
とともに、光ファイバアレイの端面に傾斜を持たせる。
ここで、蓋部として光ファイバの一部を一括して収納す
るための凹部が形成されたものを用いているため、光フ
ァイバアレイの側面付近が大きく削り取られたり、光フ
ァイバの端面の一部が斜めに研磨されたりすることがな
いため、製造した光ファイバアレイに不都合が発生する
ことがない。
Thereafter, the end faces of the substrate, the optical fiber and the lid are subjected to a polishing treatment so that these end faces are aligned and the end faces of the optical fiber array are inclined.
Here, since the lid is formed with a concave portion for accommodating a part of the optical fiber at a time, the vicinity of the side surface of the optical fiber array is largely scraped off, or a part of the end surface of the optical fiber is cut. Is not obliquely polished, so that no inconvenience occurs in the manufactured optical fiber array.

【0098】また、上記(3)の工程において、その両
端部以外の一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリ
ボンを収納し、該光ファイバリボンの基板に収納されな
かった部分を切断除去する場合、この切断除去は蓋部を
形成した後であって、上記研磨処理を施す前に行っても
よい。
In the step (3), the optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer other than both ends thereof is removed is housed, and the part of the optical fiber ribbon which is not housed in the substrate is cut and removed. In this case, this cutting and removal may be performed after forming the lid portion and before performing the polishing treatment.

【0099】このような工程を経ることにより、本発明
の光ファイバアレイを製造することができる。なお、こ
こでは、光ファイバリボンを用いて光ファイバアレイを
製造する方法について説明したが、本発明の光ファイバ
アレイは、単心の光ファイバを用いたり、積層光ファイ
バリボンを用いても製造することができる。
Through the above steps, the optical fiber array of the present invention can be manufactured. Although the method of manufacturing the optical fiber array using the optical fiber ribbon has been described here, the optical fiber array of the present invention can be manufactured by using a single-core optical fiber or a laminated optical fiber ribbon. be able to.

【0100】具体的には、単心の光ファイバを用いて光
ファイバアレイを製造する場合には、例えば、一端部の
被覆樹脂層を剥離した複数本の光ファイバを整列器を用
いて並列に整列させた後、上記(3)の工程で、整列器
で保持したまま、基板に収納し、その後、上記した方法
と同様の方法を用いて光ファイバの固定や蓋部の形成等
を行うことにより光ファイバアレイを製造することがで
きる。
Specifically, when manufacturing an optical fiber array using a single-core optical fiber, for example, a plurality of optical fibers from which the coating resin layer at one end is peeled off are arranged in parallel using an aligner. After aligning, in the step (3) above, the substrate is stored in the substrate while being held by the aligner, and then the optical fiber is fixed and the lid is formed using the same method as described above. The optical fiber array can be manufactured by.

【0101】また、積層光ファイバリボンを用いて光フ
ァイバアレイを製造する場合には、例えば、図5に示す
ような、その一部の被覆樹脂層が除去された積層光ファ
イバリボン300を作製し、その後、この積層光ファイ
バリボンを基板に収納、固定させることにより光ファイ
バアレイを製造することができる。図5は、積層光ファ
イバリボンの一実施形態を模式的に示す部分斜視図であ
る。
When an optical fiber array is manufactured using the laminated optical fiber ribbon, for example, a laminated optical fiber ribbon 300 in which a part of the coating resin layer is removed is prepared as shown in FIG. After that, the optical fiber array can be manufactured by housing and fixing this laminated optical fiber ribbon on the substrate. FIG. 5 is a partial perspective view schematically showing an embodiment of the laminated optical fiber ribbon.

【0102】図5に示すように、積層光ファイバリボン
300は、その両端部以外の一部の光ファイバ345a
が露出した第二の光ファイバリボン(下段の光ファイバ
リボン)340の露出した光ファイバ345aの間に、
その一端部の光ファイバ335aが露出した第一の光フ
ァイバリボン(上段の光ファイバリボン)330の露出
した光ファイバ335aが配置されるように、第一の光
ファイバリボン330と第二の光ファイバリボン340
とが積み重ねられている。
As shown in FIG. 5, the laminated optical fiber ribbon 300 has a part of the optical fiber 345a other than both ends thereof.
Between the exposed optical fibers 345a of the exposed second optical fiber ribbon (lower optical fiber ribbon) 340,
The first optical fiber ribbon 330 and the second optical fiber 330 are arranged so that the exposed optical fiber 335a of the first optical fiber ribbon (upper optical fiber ribbon) 330 with the optical fiber 335a at one end thereof exposed. Ribbon 340
And are stacked.

【0103】また、積層光ファイバリボン300では、
露出した光ファイバ335a、345aが同一の高さに
配置されるように、露出した光ファイバ335a、34
5aは、それぞれが、その一部で曲げられている。この
ように、光ファイバ335aおよび光ファイバ345a
を同一の高さに配置することより、基板の溝に収納する
のに適した形状となる。
In the laminated optical fiber ribbon 300,
The exposed optical fibers 335a, 345a are arranged so that the exposed optical fibers 335a, 345a are arranged at the same height.
Each of 5a is bent at a part thereof. Thus, optical fiber 335a and optical fiber 345a
By arranging the same at the same height, it becomes a shape suitable for being housed in the groove of the substrate.

【0104】なお、積層光ファイバリボン300では、
第一の光ファイバリボン330の露出した光ファイバ3
35a、および、第二の光ファイバリボン340の露出
した光ファイバ345aのそれぞれの一部が曲げられて
いるが、両者の光ファイバを同一の高さに配置すること
ができるのであれば、第一の光ファイバリボンの露出し
た光ファイバのみが曲げられていてもよいし、第二の光
ファイバリボンの露出した光ファイバのみが曲げられて
いてもよい。
In the laminated optical fiber ribbon 300,
The exposed optical fiber 3 of the first optical fiber ribbon 330
35a and a part of each of the exposed optical fibers 345a of the second optical fiber ribbon 340 are bent, but if both optical fibers can be arranged at the same height, Only the exposed optical fiber of the optical fiber ribbon may be bent, or only the exposed optical fiber of the second optical fiber ribbon may be bent.

【0105】また、積層光ファイバリボン300におい
て、第一の光ファイバリボン330と第二の光ファイバ
リボンとは、接着剤を介して固定されていることが望ま
しい。なお、図5に示す積層光ファイバリボン300に
おいては、8本の光ファイバが同一の高さに配置されて
いるが、積層光ファイバリボンにおける光ファイバの本
数は8本に限定されず、7本以下であってもよいし、9
本以上であってもよい。また、上記第一および第二の光
ファイバリボンのそれぞれの光ファイバの本数は、図5
に示す光ファイバリボンのように同数か、第一の光ファ
イバリボンのほうが1本多いか、または、第二の光ファ
イバリボンのほうが1本多いことが望ましい。このよう
な場合、光ファイバを最も高密度で配列させることがで
きるからである。
In the laminated optical fiber ribbon 300, it is desirable that the first optical fiber ribbon 330 and the second optical fiber ribbon are fixed to each other with an adhesive. Note that in the laminated optical fiber ribbon 300 shown in FIG. 5, eight optical fibers are arranged at the same height, but the number of optical fibers in the laminated optical fiber ribbon is not limited to eight, and seven optical fibers are provided. May be less than or equal to 9
It may be more than a book. Further, the number of optical fibers in each of the first and second optical fiber ribbons is as shown in FIG.
It is desirable that the number of optical fiber ribbons is the same as that of the optical fiber ribbons shown in (1), the number of the first optical fiber ribbons is one more, or that of the second optical fiber ribbons is one more. This is because in such a case, the optical fibers can be arranged at the highest density.

【0106】上記積層光ファイバリボンの作製は、例え
ば、まず、光ファイバリボンの一端部の被覆樹脂層を、
上述したような、工具を用いる方法、有機溶剤で溶解さ
せる方法等により除去することにより第一の光ファイバ
リボンを作製し、これとは別に、上記と同様の被覆樹脂
層の除去方法を用いて、光ファイバリボンの両端部以外
の一部の被覆樹脂層を除去することにより第二の光ファ
イバリボンを作製し、次に、光ファイバの一部を曲げた
後、両者の光ファイバが、交互に等間隔で配置されるよ
うに、第一および第二の光ファイバリボンを接着剤を介
して積み重ねることにより行うことができる。なお、被
覆樹脂層の除去は、レーザ光を照射する方法を用いて行
ってもよい。
In the production of the laminated optical fiber ribbon, for example, first, the coating resin layer at one end of the optical fiber ribbon is
As described above, a first optical fiber ribbon is produced by removing it by a method using a tool, a method of dissolving with an organic solvent, or the like, and separately from this, using the same method for removing the coating resin layer as described above. , A second optical fiber ribbon is produced by removing a part of the coating resin layer other than both ends of the optical fiber ribbon, and then, after bending a part of the optical fiber, both optical fibers are alternately It can be performed by stacking the first and second optical fiber ribbons with an adhesive so that they are evenly spaced apart. The coating resin layer may be removed by using a method of irradiating laser light.

【0107】このような積層光ファイバリボンを基板に
収納、固定させる方法としては、上記(3)の工程で用
いた方法と同様の方法を用いることができる。なお、上
記積層光ファイバリボンを用いて光ファイバアレイを製
造する場合も、上記基板に積層光ファイバリボンを収
納、固定した後、第二の光ファイバリボンの一端部の切
断除去と光ファイバの端面等の研磨処理とを行う。
As a method for accommodating and fixing such a laminated optical fiber ribbon on the substrate, the same method as the method used in the step (3) can be used. Even when an optical fiber array is manufactured using the laminated optical fiber ribbon, after the laminated optical fiber ribbon is housed and fixed in the substrate, the second optical fiber ribbon is cut off and the end face of the optical fiber is removed. And the like.

【0108】[0108]

【実施例】以下、本発明をさらに詳細に説明する。The present invention will be described in more detail below.

【0109】(実施例1) A.一部の被覆樹脂層が除去された光ファイバリボンの
作製 直径250μmの光ファイバ115が、クラッド間隔2
50μmで8本並列に配置され、該光ファイバの周囲に
アクリレート系紫外線硬化型樹脂からなる被覆樹脂層
(一次被覆層113および二次被覆層114)が被覆さ
れた光ファイバリボン(住友電気工業社製)を準備し、
この光ファイバリボンの一端部から5〜50mmのとこ
ろの部分の被覆樹脂層(一次被覆層および二次被覆層)
を下記の方法で剥離した(図6(a)参照)。
(Example 1) A. Fabrication of an optical fiber ribbon from which a part of the coating resin layer has been removed.
Optical fiber ribbons (Sumitomo Electric Industrial Co., Ltd.) in which eight fibers of 50 μm are arranged in parallel, and a coating resin layer (primary coating layer 113 and secondary coating layer 114) made of an acrylate-based ultraviolet curable resin is coated around the optical fibers. Made),
A coating resin layer (primary coating layer and secondary coating layer) at a portion 5 to 50 mm from one end of this optical fiber ribbon
Was peeled by the following method (see FIG. 6A).

【0110】すなわち、まず、上記光ファイバリボンを
銅張積層板上に固定した後、パルス発振型COレーザ
照射装置(三菱電機社製)を用いて以下の条件でレーザ
光を照射し、その後、レーザ光の照射位置をその照射径
の半径分(200μm)ズラし、再度、下記の条件でレ
ーザ光の照射を行う工程を繰り返して、被覆樹脂層をそ
の厚さの約1/2除去をし、次に、光ファイバリボンを
反転させた後、上記と同様にして残りの約1/2の被覆
樹脂層を除去して光ファイバを露出させた。なお、図6
に示した光ファイバリボンは、4本の光ファイバが並列
に配置されているが、この図は模式図であり、実際に
は、上述したように8本の光ファイバが並列に配置され
た光ファイバリボンを用いた。
That is, first, the above optical fiber ribbon was fixed on a copper clad laminate, and then laser light was irradiated under the following conditions using a pulse oscillation type CO 2 laser irradiation device (manufactured by Mitsubishi Electric Corporation), and then The step of displacing the irradiation position of the laser light by the radius of the irradiation diameter (200 μm) and irradiating the laser light again under the following conditions is repeated to remove about 1/2 of the thickness of the coating resin layer. Then, after inverting the optical fiber ribbon, the remaining about 1/2 coating resin layer was removed in the same manner as above to expose the optical fiber. Note that FIG.
In the optical fiber ribbon shown in Fig. 4, four optical fibers are arranged in parallel, but this figure is a schematic diagram. In reality, as described above, the optical fiber in which eight optical fibers are arranged in parallel is used. A fiber ribbon was used.

【0111】レーザ照射条件 レーザマスク径 φ5.1mm レンズ位置 190mm パルス幅 15μs レーザ光の照射径 φ400μm ショット回数 5回 積算エネルギー 3.2mJ/cm [0111]Laser irradiation conditions Laser mask diameter φ5.1mm Lens position 190mm Pulse width 15μs Laser beam irradiation diameter φ400 μm 5 shots Accumulated energy 3.2 mJ / cmTwo

【0112】B.蓋部の作製 石英ガラスからなる基板に、ダイヤモンドカッターを用
いた切削加工を施すことにより、露出した光ファイバを
収納するための凹部161を形成し、蓋部160とした
(図7(a)参照)。なお、該凹部は、その断面の形状
が矩形状である。
B. Fabrication of lid part A substrate made of quartz glass is subjected to a cutting process using a diamond cutter to form a concave part 161 for accommodating an exposed optical fiber, which is a lid part 160 (see FIG. 7A). ). The recess has a rectangular cross section.

【0113】C.光ファイバアレイの作製 (1)その表面に研磨処理を施した厚さ約0.7mmの
シリコン基板151を出発材料とし、このシリコン基板
151上に下記の方法によりマスク層152を形成した
(図3(a)参照)。すなわち、まず、シリコン基板1
51の表面に熱酸化炉中で、厚さ0.04μmのSiO
膜152aを形成し、次に、このSiO膜上に減圧
CVD法を用いて、厚さ0.1μmのSi膜15
2bを形成することにより、SiO膜152aとSi
膜152bとの2層からなるマスク層152を形
成した。
C. Fabrication of optical fiber array (1) Starting from a silicon substrate 151 having a thickness of about 0.7 mm whose surface is polished, a mask layer 152 was formed on this silicon substrate 151 by the following method (FIG. 3). (See (a)). That is, first, the silicon substrate 1
51 in the thermal oxidation furnace with a thickness of 0.04 μm SiO 2
2 film 152a is formed, and then a Si 3 N 4 film 15 having a thickness of 0.1 μm is formed on the SiO 2 film by using the low pressure CVD method.
By forming 2b, the SiO 2 film 152a and Si
A mask layer 152 composed of two layers including the 3 N 4 film 152b was formed.

【0114】(2)次に、マスク層52上に、厚さ25
μmのレジスト用樹脂フィルムを貼り付けることにより
レジスト用樹脂層154を形成した(図3(b)参
照)。
(2) Next, a thickness of 25 is formed on the mask layer 52.
A resin layer for resist 154 was formed by attaching a resin film for resist having a thickness of μm (see FIG. 3B).

【0115】(3)次に、上記レジスト用樹脂層154
上に溝パターンが描画されたマスクを載置し、800m
J/cmで露光し、その後、アルカリ溶液で現像処理
することにより、マスク層上にエッチングレジスト15
5を形成した(図3(c)参照)。
(3) Next, the resist resin layer 154 is formed.
Place a mask with a groove pattern drawn on it, 800m
It is exposed to J / cm 2 and then developed with an alkaline solution to form an etching resist 15 on the mask layer.
5 was formed (see FIG. 3 (c)).

【0116】(4)次に、上記エッチングレジスト15
5非形成部に露出したマスク層を下記の方法により除去
し、基板151の一部を露出させたマスク156を形成
した(図3(d)参照)。すなわち、まず、露出したS
膜を、酸素プラズマを用いたドライエッチング
処理により除去することによりSiO膜を露出させ、
さらに、このSiO 膜をHF系のエッチング液を用い
たウェットエッチング処理により除去し、シリコン基板
を露出させた。
(4) Next, the etching resist 15
5 Remove the mask layer exposed in the non-formed area by the following method
Then, a mask 156 exposing a part of the substrate 151 is formed.
(See FIG. 3D). That is, first, the exposed S
iThreeNFourDry etching of the film using oxygen plasma
SiO by removing by treatmentTwoExpose the membrane,
Furthermore, this SiO TwoThe film uses an HF-based etchant
Removed by wet etching process, silicon substrate
Exposed.

【0117】(5)次に、10重量%のNaOHを用い
てエッチングレジストを剥離除去した(図3(e)参
照)。これにより、シリコン基板151上には、溝を形
成する部分に相当する部分が開口したマスク156のみ
が形成されていることとなった。
(5) Next, the etching resist was stripped off using 10% by weight of NaOH (see FIG. 3E). As a result, on the silicon substrate 151, only the mask 156 having the opening corresponding to the portion where the groove is formed is formed.

【0118】(6)次に、マスク156が形成されたシ
リコン基板151を、KOH濃度25重量%、液温度7
8℃のエッチング液(KOH:100g、HO:30
0g)中に浸漬することにより、深さ90μmのV溝を
8本形成した(図3(f)参照)。その後、基板51の
一部に光ファイバリボンを被覆樹脂層ごと保持するため
の被覆樹脂層保持部58(図6(a)参照)を、ダイヤ
モンドカッターを用いた切削加工を施すことにより形成
した。なお、図6に示した基板には、溝は4本しか形成
されていないが、この図は模式図であり、実際には、上
述したように、基板上に8本の溝を形成した。
(6) Next, the silicon substrate 151 on which the mask 156 is formed is subjected to a KOH concentration of 25% by weight and a liquid temperature of 7%.
8 ° C. etching solution (KOH: 100 g, H 2 O: 30
0 g) to form eight V grooves having a depth of 90 μm (see FIG. 3 (f)). After that, a coating resin layer holding portion 58 (see FIG. 6A) for holding the optical fiber ribbon together with the coating resin layer was formed on a part of the substrate 51 by performing a cutting process using a diamond cutter. Although only four grooves are formed on the substrate shown in FIG. 6, this drawing is a schematic diagram, and in fact, eight grooves were formed on the substrate as described above.

【0119】(7)次に、上記Aで作製した光ファイバ
リボン110Aの光ファイバ115の露出した部分を、
V溝157に載置し(図6(a)、(b)参照)、さら
に、上記Bで作製した蓋部160を基板151上に接着
剤(ダイキン工業社製、UV−3000)を介して取り
付けた(図7(a)参照)。なお、接着剤は、蓋部の外
縁部に予め塗布しておいた。さらに、溝157と光ファ
イバ115との間隙、蓋部160と光ファイバ115と
の間隙に、接着剤(ダイキン工業社製、UV−300
0)を流し込んだ。また、被覆樹脂層保持部158上に
載置した被覆樹脂層の周囲にも上記接着剤(UV−30
00)を塗布した。
(7) Next, the exposed portion of the optical fiber 115 of the optical fiber ribbon 110A produced in the above A is
It is placed in the V groove 157 (see FIGS. 6A and 6B), and the lid 160 manufactured in the above B is further placed on the substrate 151 via an adhesive (UV-3000, manufactured by Daikin Industries, Ltd.). It was attached (see FIG. 7 (a)). The adhesive was previously applied to the outer edge of the lid. Furthermore, an adhesive (UV-300 manufactured by Daikin Industries, Ltd., manufactured by Daikin Industries, Ltd.)
0) was poured. Further, the adhesive (UV-30) is also formed around the coating resin layer placed on the coating resin layer holding portion 158.
00) was applied.

【0120】次に、蓋部160を設けた基板151の上
部から、高圧水銀ランプを用いて、10J/cmの紫
外線を照射し、その後、60℃で1時間加熱することに
より、接着剤を完全に硬化させた。
Next, an ultraviolet ray of 10 J / cm 2 is irradiated from the upper portion of the substrate 151 provided with the lid portion 160 with a high pressure mercury lamp, and then the adhesive is heated at 60 ° C. for 1 hour. It was completely cured.

【0121】(8)次に、光ファイバリボン110Aの
一端部の基板に収納しなかった被覆樹脂層114aと、
この被覆樹脂層に覆われた光ファイバとをダイヤモンド
カッターにより切断除去し、さらに、光ファイバの端面
と、基板および蓋部の端面とが揃うように研磨処理を施
し、光ファイバアレイ101を製造した(図7(b)参
照)。なお、上記研磨処理は、光ファイバ、基板および
蓋部の端面が基板の底面に対して8°の傾斜を持つよう
に行った。
(8) Next, the coating resin layer 114a not housed in the substrate at one end of the optical fiber ribbon 110A,
The optical fiber covered with this coating resin layer was cut and removed by a diamond cutter, and further, polishing treatment was performed so that the end face of the optical fiber and the end faces of the substrate and the lid portion were aligned, to manufacture the optical fiber array 101. (See FIG. 7B). The polishing treatment was performed so that the end faces of the optical fiber, the substrate and the lid portion had an inclination of 8 ° with respect to the bottom face of the substrate.

【0122】(実施例2)実施例1のBの工程(蓋部の
作製)において、硼珪酸ガラス(パイレックス(R))
からなる基板に、ダイヤモンドカッターを用いた切削加
工を施すことにより、深さの異なる、露出した光ファイ
バを収納するための凹部171と、光ファイバリボンを
被覆樹脂層ごと収納するための凹部172とを有する蓋
部170を作製し(図8(a)参照)、実施例1のCの
(7)の工程において、この蓋部170を基板に取り付
けた以外は、実施例1と同様にして光ファイバアレイ1
02を製造した(図8(b)参照)。
(Example 2) In the step B of Example 1 (manufacture of the lid), borosilicate glass (Pyrex (R)) was used.
The substrate made of is subjected to a cutting process using a diamond cutter to form a recess 171 for accommodating the exposed optical fibers having different depths, and a recess 172 for accommodating the optical fiber ribbon together with the coating resin layer. A lid portion 170 having the above is manufactured (see FIG. 8A), and the lid portion 170 is attached to the substrate in the step (7) of C of the first embodiment, and the light is emitted in the same manner as in the first embodiment. Fiber array 1
No. 02 was manufactured (see FIG. 8B).

【0123】(実施例3) A.一部の被覆樹脂層が除去された積層光ファイバリボ
ンの作製 直径250μmの光ファイバが、クラッド間隔250μ
mで8本並列に配置され、該光ファイバの周囲にアクリ
レート系紫外線硬化型樹脂からなる被覆樹脂層(一次被
覆層および二次被覆層)が被覆された光ファイバリボン
(住友電気工業社製)を2本準備し、それぞれの光ファ
イバリボンに下記(i)および(ii)の加工を施した。
(Example 3) A. Fabrication of laminated optical fiber ribbon from which some coating resin layers have been removed
Optical fiber ribbons (Sumitomo Electric Industrial Co., Ltd.) in which eight (8) m are arranged in parallel and a coating resin layer (primary coating layer and secondary coating layer) made of an acrylate-based UV-curable resin is coated around the optical fibers. Was prepared, and each of the optical fiber ribbons was subjected to the following processing (i) and (ii).

【0124】(i)まず、光ファイバの一端部から30
mmまでの部分の被覆樹脂層(一次被覆層および二次被
覆層)を、実施例1のAの工程と同様の条件で除去する
ことにより光ファイバを露出させた。
(I) First, from the one end of the optical fiber,
The coating resin layers (primary coating layer and secondary coating layer) up to mm were removed under the same conditions as in step A of Example 1 to expose the optical fiber.

【0125】(ii)光ファイバの一端部から5〜50m
mのところの部分の被覆樹脂層(一次被覆層および二次
被覆層)を、実施例1のAの工程と同様の条件で除去す
ることにより光ファイバを露出させた。
(Ii) 5 to 50 m from one end of the optical fiber
The optical fiber was exposed by removing the coating resin layer (primary coating layer and secondary coating layer) at the portion m under the same conditions as in step A of Example 1.

【0126】(2)次に、上記(ii)の処理を施した第
二の光ファイバリボン340の上に、上記(i)の処理
を施した第一の光ファイバリボン330を積み重ねた。
さらに、両者の光ファイバの露出した部分335a、3
45aの高さが同一となるように、それぞれの光ファイ
バの一部を曲げ、積層光ファイバリボン300とした
(図6参照)。
(2) Next, the first optical fiber ribbon 330 treated with the above (i) was stacked on the second optical fiber ribbon 340 treated with the above (ii).
Furthermore, the exposed portions 335a, 3a of both optical fibers
Part of each optical fiber was bent so that the heights of 45a were the same, and a laminated optical fiber ribbon 300 was obtained (see FIG. 6).

【0127】なお、この工程で、第一の光ファイバリボ
ン330を第二の光ファイバリボン340上に積み重ね
る際には、光ファイバの一部を曲げた後、両者の光ファ
イバ335、345が、交互に等間隔で配置されるよう
に積み重ねた。また、この工程では、第二の光ファイバ
リボン340上に第一の光ファイバリボン330を積み
重ねる前に、予め、第二の光ファイバリボン340の二
次被覆樹脂の上面の一部に未硬化の接着剤(図示せず)
を塗布しておき、該接着剤を介して第二の光ファイバリ
ボン340上に第一の光ファイバリボン330を積み重
ね、その後、上記接着剤を硬化させることにより、両者
を固定した。
In this step, when stacking the first optical fiber ribbon 330 on the second optical fiber ribbon 340, after bending a part of the optical fiber, both optical fibers 335 and 345 are They were stacked so that they were alternately arranged at equal intervals. In this step, before stacking the first optical fiber ribbon 330 on the second optical fiber ribbon 340, a part of the upper surface of the secondary coating resin of the second optical fiber ribbon 340 is uncured in advance. Adhesive (not shown)
Was applied, the first optical fiber ribbon 330 was stacked on the second optical fiber ribbon 340 via the adhesive, and then the adhesive was cured to fix them.

【0128】B.蓋部の作製凹部の大きさを、積層光フ
ァイバリボンの露出した光ファイバを収納することがで
きる大きさにした以外は、実施例1のBと同様にして蓋
部を形成した。
B. Fabrication of lid part A lid part was formed in the same manner as in Example 1B, except that the size of the recessed part was such that the exposed optical fiber of the laminated optical fiber ribbon was accommodated.

【0129】C.光ファイバアレイの作製 (1)形成する溝の本数を16本とした以外は、実施例
1のCの(1)〜(6)の工程と同様にして、基板にV
溝を形成し、さらに、基板の一部に積層光ファイバリボ
ンを被覆樹脂層ごと保持するための被覆樹脂層保持部
を、ダイヤモンドカッターを用いた切削加工を施すこと
により形成した。
C. Fabrication of optical fiber array (1) V was applied to the substrate in the same manner as in steps (1) to (6) of C of Example 1 except that the number of grooves to be formed was 16.
A groove was formed, and a coating resin layer holding portion for holding the laminated optical fiber ribbon together with the coating resin layer was formed on a part of the substrate by cutting with a diamond cutter.

【0130】(2)次に、上記Aで作製した積層光ファ
イバリボンの露出した光ファイバを、V溝に載置し、さ
らに、上記Bで作製した蓋部を基板上に接着剤(ダイキ
ン工業社製、UV−3000)を介して取り付けた。な
お、接着剤は、蓋部の外縁部に予め塗布しておいた。さ
らに、溝と光ファイバとの間隙、蓋部と光ファイバとの
間隙に、接着剤(ダイキン工業社製、UV−3000)
を流し込んだ。また、被覆樹脂層保持部上に載置した被
覆樹脂層の周囲にも上記接着剤(UV−3000)を塗
布した。
(2) Next, the exposed optical fiber of the laminated optical fiber ribbon prepared in the above A is placed in the V groove, and the lid prepared in the above B is attached to the substrate with an adhesive (Daikin Industries Ltd.). UV-3000) manufactured by the same company. The adhesive was previously applied to the outer edge of the lid. Further, an adhesive (made by Daikin Industries, Ltd., UV-3000) is applied to the gap between the groove and the optical fiber and the gap between the lid portion and the optical fiber.
Poured. Further, the adhesive (UV-3000) was applied also around the coating resin layer placed on the coating resin layer holding portion.

【0131】次に、蓋部を設けた基板の上部から、高圧
水銀ランプを用いて、10J/cmの紫外線を照射
し、その後、60℃で1時間加熱することにより、接着
剤を完全に硬化させた。
Next, ultraviolet rays of 10 J / cm 2 were irradiated from the upper part of the substrate provided with the lid using a high pressure mercury lamp, and then the adhesive was completely heated by heating at 60 ° C. for 1 hour. Cured.

【0132】(3)次に、積層光ファイバリボンの一端
部の基板に収納しなかった被覆樹脂層と、この被覆樹脂
層に覆われた光ファイバとをダイヤモンドカッターによ
り切断除去し、さらに、光ファイバの端面と、基板およ
び蓋部の端面とが揃うように研磨処理を施し、光ファイ
バアレイを製造した。上記研磨処理は、光ファイバ、基
板および蓋部の端面が基板の底面に対して8°の傾斜を
持つように行った。
(3) Next, the coated resin layer not housed in the substrate at one end of the laminated optical fiber ribbon and the optical fiber covered with this coated resin layer are cut and removed by a diamond cutter, and the optical fiber An optical fiber array was manufactured by performing a polishing treatment so that the end faces of the fibers and the end faces of the substrate and the lid are aligned with each other. The polishing process was performed so that the end faces of the optical fiber, the substrate and the lid portion were inclined by 8 ° with respect to the bottom face of the substrate.

【0133】(実施例4)蓋部を形成する際に、硼珪酸
ガラス(パイレックス(R))からなる基板に、ダイヤ
モンドカッターを用いた切削加工を施すことにより、深
さの異なる、露出した光ファイバを収納するための凹部
と、光ファイバリボンを被覆樹脂層ごと収納するための
凹部とを有する蓋部を作製し、この蓋部を用いて、実施
例3のCの(2)の工程を行った以外は、実施例3と同
様にして光ファイバアレイを製造した。
(Embodiment 4) When forming a lid, a substrate made of borosilicate glass (Pyrex (R)) was subjected to a cutting process using a diamond cutter to expose exposed light of different depths. A lid having a concave portion for accommodating the fiber and a concave portion for accommodating the optical fiber ribbon together with the coating resin layer is produced, and the lid portion is used to perform the step (2) of C in Example 3. An optical fiber array was manufactured in the same manner as in Example 3 except that the steps were performed.

【0134】実施例1〜4および比較例1、2で得た光
ファイバアレイについて、光ファイバアレイ側の光ファ
イバの端面に検出器を載置し、光ファイバの他の端面か
ら光発光素子を用いて光を導入した際の光の検出位置か
ら、光ファイバの収納位置の設計からのズレを算出する
ことにより光ファイバの収納精度を評価した。また、光
ファイバアレイを上方から20Paの押圧力で20分間
押圧した後、上記と同様にして光ファイバの収納精度を
測定した。
With respect to the optical fiber arrays obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2, a detector was placed on the end face of the optical fiber on the side of the optical fiber array, and a light emitting element was mounted on the other end face of the optical fiber. The storage accuracy of the optical fiber was evaluated by calculating the deviation from the design of the storage position of the optical fiber from the detection position of the light when the light was introduced. Moreover, after pressing the optical fiber array from above with a pressing force of 20 Pa for 20 minutes, the accommodating accuracy of the optical fibers was measured in the same manner as above.

【0135】その結果、実施例1〜4の光ファイバアレ
イにおいて、光ファイバの収納位置の設計からのズレ
は、押圧前、押圧後ともに5%以下であり、光ファイバ
は高精度で所定の位置に収納されていた。さらに、実施
例1〜4の光ファイバアレイを8個または16個の受光
素子を配設した受光装置に接続し、結合損失を測定した
ところ、その結合損失は低く、製品として要求される品
質を充分に満足していた。
As a result, in the optical fiber arrays of Examples 1 to 4, the deviation from the design of the storage position of the optical fibers was 5% or less both before and after pressing, and the optical fibers were accurately positioned at the predetermined positions. It was stored in. Furthermore, when the optical fiber arrays of Examples 1 to 4 were connected to a light receiving device having 8 or 16 light receiving elements and the coupling loss was measured, the coupling loss was low, and the quality required as a product was obtained. I was fully satisfied.

【0136】また、実施例1〜4の光ファイバアレイに
ついて、その端面の研磨され具合を観察したところ、該
端面の側面付近が中央付近に比べて大きく削り取られて
いたり、光ファイバの端面の一部が斜めに研磨されてい
たりすることはなかった。また、実施例1〜4で作成し
た光ファイバアレイの蓋部を取り外し、光ファイバの表
面を顕微鏡で観察したところ、光ファイバ表面に傷等は
みられなかった。
Further, when the end faces of the optical fiber arrays of Examples 1 to 4 were observed to be polished, the side faces of the end faces were largely scraped off as compared with the central region, and one end face of the optical fiber was cut. The part was never polished at an angle. Further, when the lid of the optical fiber array prepared in Examples 1 to 4 was removed and the surface of the optical fiber was observed with a microscope, no scratches or the like were found on the surface of the optical fiber.

【0137】[0137]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ファイ
バアレイは、上述した構成からなるため、製造時に光フ
ァイバアレイの側面が光ファイバアレイの中央付近に比
べて大きく削り取られることがなく、また、光ファイバ
の端面の一部が斜めに研磨されたりすることがなく、正
確に光信号を伝送することができる。
As described above, since the optical fiber array of the present invention has the above-described structure, the side surface of the optical fiber array is not largely scraped off during manufacturing as compared with the vicinity of the center of the optical fiber array. In addition, a part of the end face of the optical fiber is not obliquely polished, and the optical signal can be accurately transmitted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は、蓋部が形成された本発明の光ファイ
バアレイの一例を模式的に示す部分斜視図であり、
(b)は、光ファイバアレイに取り付けた蓋部のみを示
す斜視図であり、(c)は、(a)のA−A線断面図で
ある。
FIG. 1A is a partial perspective view schematically showing an example of an optical fiber array of the present invention in which a lid is formed,
(B) is a perspective view showing only the lid part attached to the optical fiber array, and (c) is a sectional view taken along the line AA of (a).

【図2】(a)は、積層光ファイバリボンを用いた本発
明の光ファイバアレイの一例を模式的に示す部分斜視図
であり、(b)は、光ファイバアレイに取り付けた蓋部
のみを示す斜視図であり、(c)は、(a)のA−A線
断面図である。
FIG. 2 (a) is a partial perspective view schematically showing an example of an optical fiber array of the present invention using a laminated optical fiber ribbon, and FIG. 2 (b) shows only a lid part attached to the optical fiber array. It is a perspective view shown, (c) is a sectional view on the AA line of (a).

【図3】(a)〜(f)は、基板に溝を形成する方法の
一例を示す断面図である。
3A to 3F are cross-sectional views showing an example of a method for forming a groove in a substrate.

【図4】(a)は、光ファイバリボンの被覆樹脂層を剥
離する方法の一例を模式的に示す正面図であり、(b)
はその側面図である。
FIG. 4A is a front view schematically showing an example of a method for peeling a coating resin layer of an optical fiber ribbon, and FIG.
Is a side view thereof.

【図5】積層光ファイバリボンの一実施形態を模式的に
示す部分斜視図である。
FIG. 5 is a partial perspective view schematically showing an embodiment of a laminated optical fiber ribbon.

【図6】(a)、(b)は、本発明の光ファイバアレイ
の製造工程の一部を模式的に示す斜視図である。
6A and 6B are perspective views schematically showing a part of the manufacturing process of the optical fiber array of the present invention.

【図7】(a)、(b)は、本発明の光ファイバアレイ
の製造工程の一部を模式的に示す斜視図である。
7A and 7B are perspective views schematically showing a part of the manufacturing process of the optical fiber array of the present invention.

【図8】(a)、(b)は、本発明の光ファイバアレイ
の製造工程の一部を模式的に示す斜視図である。
8A and 8B are perspective views schematically showing a part of the manufacturing process of the optical fiber array of the present invention.

【図9】(a)〜(d)は、従来の光ファイバアレイの
製造工程の一例を模式的に示す断面図である。
9A to 9D are cross-sectional views schematically showing an example of a manufacturing process of a conventional optical fiber array.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

135、235、245 光ファイバ 151、251 基板 157、257 溝 160、170 蓋部 100、200 光ファイバアレイ 110 光ファイバリボン 210 積層光ファイバリボン 135, 235, 245 optical fiber 151,251 substrate 157,257 groove 160, 170 lid 100,200 Fiber Optic Array 110 optical fiber ribbon 210 laminated optical fiber ribbon

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上面の一部に複数の溝が形成され、
前記溝に、接着剤を介して光ファイバが収納されてお
り、前記基板上に前記光ファイバの一部を収納する蓋部
が取り付けられた光ファイバアレイであって、前記蓋部
の前記基板と対向する面に、前記光ファイバの一部を一
括して収納する凹部が形成されていることを特徴とする
光ファイバアレイ。
1. A plurality of grooves are formed in a part of the upper surface of the substrate,
An optical fiber array in which an optical fiber is accommodated in the groove via an adhesive, and a lid part for accommodating a part of the optical fiber is attached on the substrate, wherein the substrate of the lid part is An optical fiber array, characterized in that recesses for collectively storing a part of the optical fibers are formed on opposing surfaces.
【請求項2】 前記蓋部は、無機材料または金属材料か
らなるものである請求項1に記載の光ファイバアレイ。
2. The optical fiber array according to claim 1, wherein the lid is made of an inorganic material or a metal material.
【請求項3】 前記無機材料は、セラミックまたはシリ
コンである請求項2に記載の光ファイバアレイ。
3. The optical fiber array according to claim 2, wherein the inorganic material is ceramic or silicon.
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