JP2003207622A - 偏光板、その製造方法および液晶表示装置 - Google Patents
偏光板、その製造方法および液晶表示装置Info
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- JP2003207622A JP2003207622A JP2002003775A JP2002003775A JP2003207622A JP 2003207622 A JP2003207622 A JP 2003207622A JP 2002003775 A JP2002003775 A JP 2002003775A JP 2002003775 A JP2002003775 A JP 2002003775A JP 2003207622 A JP2003207622 A JP 2003207622A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】偏光板打ち抜き工程で得率が向上することを可
能にする斜め延伸した偏光膜から構成され、単位面積あ
たりの欠陥の個数が少なく高性能で安価な長尺の偏光
板、この偏光板の製造方法、およびこの偏光板を用いた
液晶表示装置を提供する。 【解決手段】(a)偏光膜の吸収軸が長手方向に平行で
も垂直でもなく、(b)偏光度が550nmで80%以
上であり、(c)単板透過率が550nmで35%以上
であり、(d)面積100mm2当たり、クロスニコル
状態で観察される最大長が5μmを超え50μm以下の
欠陥数が100個以下、最大長50μmを超え100μ
m以下の欠陥数が10個以下、最大長100μmを越え
る欠陥数が実質0個である長尺の偏光板、この偏光板の
製造方法、およびこの偏光板を用いた液晶表示装置。
能にする斜め延伸した偏光膜から構成され、単位面積あ
たりの欠陥の個数が少なく高性能で安価な長尺の偏光
板、この偏光板の製造方法、およびこの偏光板を用いた
液晶表示装置を提供する。 【解決手段】(a)偏光膜の吸収軸が長手方向に平行で
も垂直でもなく、(b)偏光度が550nmで80%以
上であり、(c)単板透過率が550nmで35%以上
であり、(d)面積100mm2当たり、クロスニコル
状態で観察される最大長が5μmを超え50μm以下の
欠陥数が100個以下、最大長50μmを超え100μ
m以下の欠陥数が10個以下、最大長100μmを越え
る欠陥数が実質0個である長尺の偏光板、この偏光板の
製造方法、およびこの偏光板を用いた液晶表示装置。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、単位面積あたりの
欠陥が少なく、かつ高得率で偏光板が得られる長尺の偏
光板、該長尺の偏光板の製造方法及び該偏光板を用いた
液晶表示装置に関する。
欠陥が少なく、かつ高得率で偏光板が得られる長尺の偏
光板、該長尺の偏光板の製造方法及び該偏光板を用いた
液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】偏光板は液晶表示装置(以下、LCD)
の普及に伴い、需要が急増している。偏光板は一般に偏
光能を有する偏光層の両面あるいは片面に、接着剤層を
介して保護膜を貼り合わせられている。偏光層の素材と
してはポリビニルアルコール(以下、PVA)が主に用
いられており、PVAフィルムを一軸延伸してから、ヨ
ウ素あるいは二色性染料で染色するかあるいは染色して
から延伸し、さらにホウ素化合物で架橋して硬膜化する
ことにより偏光層用の偏光膜が形成される。保護膜とし
ては、光学的に透明で複屈折が小さいことから、主にセ
ルローストリアセテートが用いられている。通常長手方
向に一軸延伸するため、偏光膜の吸収軸は長手方向にほ
ぼ平行となる。
の普及に伴い、需要が急増している。偏光板は一般に偏
光能を有する偏光層の両面あるいは片面に、接着剤層を
介して保護膜を貼り合わせられている。偏光層の素材と
してはポリビニルアルコール(以下、PVA)が主に用
いられており、PVAフィルムを一軸延伸してから、ヨ
ウ素あるいは二色性染料で染色するかあるいは染色して
から延伸し、さらにホウ素化合物で架橋して硬膜化する
ことにより偏光層用の偏光膜が形成される。保護膜とし
ては、光学的に透明で複屈折が小さいことから、主にセ
ルローストリアセテートが用いられている。通常長手方
向に一軸延伸するため、偏光膜の吸収軸は長手方向にほ
ぼ平行となる。
【0003】従来のLCDにおいては、画面の縦あるい
は横方向に対して偏光板の透過軸を45゜傾けて配置し
ているため、ロール形態で製造される偏光板の打ち抜き
工程において、ロール長手方向に対し45゜方向に打ち
抜いていた。しかしながら45゜方向に打ち抜いたとき
には、ロールの端付近で使用できない部分が発生し、特
に大サイズの偏光板では、得率が小さくなるという問題
があった。また、貼り合わせ後の偏光板は材料の再利用
が難しく、結果として廃棄物が増えると言う問題があっ
た。
は横方向に対して偏光板の透過軸を45゜傾けて配置し
ているため、ロール形態で製造される偏光板の打ち抜き
工程において、ロール長手方向に対し45゜方向に打ち
抜いていた。しかしながら45゜方向に打ち抜いたとき
には、ロールの端付近で使用できない部分が発生し、特
に大サイズの偏光板では、得率が小さくなるという問題
があった。また、貼り合わせ後の偏光板は材料の再利用
が難しく、結果として廃棄物が増えると言う問題があっ
た。
【0004】また、位相差膜は、着色防止や視野角拡大
等の光学補償などを目的に、LCDに貼り付けられてい
る偏光板等に接着して用いられ、偏光板の透過軸に対し
配向軸を種々の角度で設定することが求められる。従来
は、縦または横一軸延伸したフィルムより、その配向軸
が辺に対して所定の傾斜角度となるように周辺を打ち抜
いて裁断する方式がとられており、偏光板同様に得率の
低下が問題となっていた。
等の光学補償などを目的に、LCDに貼り付けられてい
る偏光板等に接着して用いられ、偏光板の透過軸に対し
配向軸を種々の角度で設定することが求められる。従来
は、縦または横一軸延伸したフィルムより、その配向軸
が辺に対して所定の傾斜角度となるように周辺を打ち抜
いて裁断する方式がとられており、偏光板同様に得率の
低下が問題となっていた。
【0005】この問題を解決するため、ポリマーの配向
軸をフィルム搬送方向に対して所望の角度傾斜させる方
法がいくつか提案されている。特開2000−9912
号公報において、プラスチックフィルムを横または縦に
一軸延伸しつつ、その延伸方向の左右を異なる速度で前
期延伸方向とは相違する縦または横方向に引っ張り延伸
して、配向軸を前記一軸延伸方向に対し傾斜させること
が提案されている。しかしながらこの方法では例えばテ
ンター方式を用いた場合、左右で搬送速度差をつけねば
ならず、これに起因するツレ、シワ、フィルム寄りが発
生し、望ましい傾斜角度(偏光板においては45゜)を
得ることが困難である。左右速度差を小さくしようとす
れば、延伸工程を長くせざるを得ず、設備コストが非常
に大きなものとなる。
軸をフィルム搬送方向に対して所望の角度傾斜させる方
法がいくつか提案されている。特開2000−9912
号公報において、プラスチックフィルムを横または縦に
一軸延伸しつつ、その延伸方向の左右を異なる速度で前
期延伸方向とは相違する縦または横方向に引っ張り延伸
して、配向軸を前記一軸延伸方向に対し傾斜させること
が提案されている。しかしながらこの方法では例えばテ
ンター方式を用いた場合、左右で搬送速度差をつけねば
ならず、これに起因するツレ、シワ、フィルム寄りが発
生し、望ましい傾斜角度(偏光板においては45゜)を
得ることが困難である。左右速度差を小さくしようとす
れば、延伸工程を長くせざるを得ず、設備コストが非常
に大きなものとなる。
【0006】また、特開平3−182701号公報にお
いて、連続フィルムの左右両耳端に走行方向とθの角度
をなす左右対のフィルム保持ポイントを複数対有し、フ
ィルムの走行につれて、各々の対ポイントがθの方向に
延伸できる機構により、フィルムの走行方向に対し任意
の角度θの延伸軸を有するフィルムを製造する方法が提
案されている。しかし、この手法においてもフィルム進
行速度がフィルムの左右で変わるためフィルムにツレ、
シワが生じ、これを緩和するためには延伸工程を非常に
長くする必要があり、設備コストが大きくなる欠点があ
った。
いて、連続フィルムの左右両耳端に走行方向とθの角度
をなす左右対のフィルム保持ポイントを複数対有し、フ
ィルムの走行につれて、各々の対ポイントがθの方向に
延伸できる機構により、フィルムの走行方向に対し任意
の角度θの延伸軸を有するフィルムを製造する方法が提
案されている。しかし、この手法においてもフィルム進
行速度がフィルムの左右で変わるためフィルムにツレ、
シワが生じ、これを緩和するためには延伸工程を非常に
長くする必要があり、設備コストが大きくなる欠点があ
った。
【0007】更に、特開平2−113920公報におい
て、フィルムの両端部を、所定走行区間内におけるチャ
ックの走行距離が異なるようにように配置されたテンタ
ーレール上を走行する2列のチャック間に把持して走行
させることによりフィルムの長さ方向と斜交する方向に
延伸する製造方法が提案されている。しかし、この手法
においても斜交させた際に、ツレ、シワが生じ、光学用
フィルムには不都合であった。
て、フィルムの両端部を、所定走行区間内におけるチャ
ックの走行距離が異なるようにように配置されたテンタ
ーレール上を走行する2列のチャック間に把持して走行
させることによりフィルムの長さ方向と斜交する方向に
延伸する製造方法が提案されている。しかし、この手法
においても斜交させた際に、ツレ、シワが生じ、光学用
フィルムには不都合であった。
【0008】また、韓国公開公報P2001−0051
84号では、ラビング処理により透過軸を傾けた偏光板
の提案がなされている。ラビングによる配向規制はフィ
ルム表面から最大でナノオーダーの部分までしか効果が
無いことは一般的に知られており、ヨウ素や二色性色素
などの偏光子を十分配向させることができないため、結
果として偏光性能が低いという欠点があった。
84号では、ラビング処理により透過軸を傾けた偏光板
の提案がなされている。ラビングによる配向規制はフィ
ルム表面から最大でナノオーダーの部分までしか効果が
無いことは一般的に知られており、ヨウ素や二色性色素
などの偏光子を十分配向させることができないため、結
果として偏光性能が低いという欠点があった。
【0009】さらに、偏光板は、その表面に欠陥がある
ことにより光モレなどの故障が発生するので、このよう
な欠陥が偏光板表面に少ないことが性能上重要なことで
ある。しかし、従来の技術ではこのような欠陥を減らす
ことは困難であった。
ことにより光モレなどの故障が発生するので、このよう
な欠陥が偏光板表面に少ないことが性能上重要なことで
ある。しかし、従来の技術ではこのような欠陥を減らす
ことは困難であった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、偏光
板打ち抜き工程で得率を向上することを可能にする斜め
延伸した偏光膜から構成され、単位面積あたりの欠陥の
個数が少なく高品位で安価な長尺の偏光板およびその製
造方法を提供することにある。本発明のさらなる目的
は、上記偏光板を用いた液晶表示装置を提供することに
ある。
板打ち抜き工程で得率を向上することを可能にする斜め
延伸した偏光膜から構成され、単位面積あたりの欠陥の
個数が少なく高品位で安価な長尺の偏光板およびその製
造方法を提供することにある。本発明のさらなる目的
は、上記偏光板を用いた液晶表示装置を提供することに
ある。
【0011】
【課題を解決するための手段】発明者らは、上記目的を
達成すべく鋭意検討した結果、クリーン度を10000
以下とした一貫ラインで偏光板を作成することにより、
ツレ、シワ、フィルム寄り等を発生させずに、単位面積
あたりの欠陥の個数が少ない偏光板を得られること知見
し、本発明に到達した。即ち、本発明によれば、下記構
成の偏光板、その製造方法および液晶表示装置が提供さ
れ、本発明の上記目的が達成される。
達成すべく鋭意検討した結果、クリーン度を10000
以下とした一貫ラインで偏光板を作成することにより、
ツレ、シワ、フィルム寄り等を発生させずに、単位面積
あたりの欠陥の個数が少ない偏光板を得られること知見
し、本発明に到達した。即ち、本発明によれば、下記構
成の偏光板、その製造方法および液晶表示装置が提供さ
れ、本発明の上記目的が達成される。
【0012】1.偏光能を持つ偏光膜を少なくとも有す
る長尺の偏光板であって、(a)偏光膜の吸収軸が長手
方向に平行でも垂直でもなく、(b)偏光度が550n
mで80%以上であり、(c)単板透過率が550nm
で35%以上であり、(d)面積100mm2当たり、
クロスニコル状態で観察される最大長が5μmを超え5
0μm以下の欠陥数が100個以下であり、最大長50
μmを超え100μm以下の欠陥数が10個以下であ
り、最大長100μmを越える欠陥数が実質0個であ
る、ことを特徴とする偏光板。 2.偏光膜の少なくとも片面が透明保護膜で保護されて
おり、保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸とがなす角度が
10°以上90°未満であることを特徴とする偏光板。 3.連続的に供給される偏光膜用ポリマーフィルムの両
端を保持手段により保持し、該保持手段をフィルムの長
手方向に進行させつつ張力を付与して延伸することによ
り偏光膜を形成する工程および形成された偏光膜に保護
膜貼り合わせる工程を含む上記1または2に記載の偏光
板を製造する方法であって、上記偏光膜を形成する工程
が、(i)偏光膜用ポリマーフィルムの一方端の実質的
な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の
軌跡L1及びポリマーフィルムのもう一端の実質的な保
持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡
L2と、二つの実質的な保持解除点の距離Wが、下記式
(1)を満たしつつ、ポリマーフィルムの支持性を保
ち、揮発分率が5%以上の状態を存在させて延伸する工
程、および(ii)その後収縮させ揮発分率を低下させて
偏光膜を形成する工程、を含み、上記偏光膜に保護膜貼
り合わせる工程が、(iii)形成された偏光膜の少なく
とも片面に保護膜を貼り合わせる工程、および(iv)そ
の後、後加熱する工程、を含み、そして上記(i)〜
(iv)の工程をクリーン度10000以下に保たれた環
境下で行うことを特徴とする偏光板の製造方法。 式(1):|L2−L1|>0.4W 4.偏光板用ポリマーフィルムの表面に付着している異
物の数を面積100mm2当たり実質0個にした後、該
ポリマーフィルムを偏光膜を形成する工程に供給するこ
とを特徴とする上記3に記載の偏光板の製造方法。 5.上記1または2に記載の偏光板を、液晶セルの両側
に配置された偏光板のうち少なくとも一枚に用いること
を特徴とする液晶表示装置。
る長尺の偏光板であって、(a)偏光膜の吸収軸が長手
方向に平行でも垂直でもなく、(b)偏光度が550n
mで80%以上であり、(c)単板透過率が550nm
で35%以上であり、(d)面積100mm2当たり、
クロスニコル状態で観察される最大長が5μmを超え5
0μm以下の欠陥数が100個以下であり、最大長50
μmを超え100μm以下の欠陥数が10個以下であ
り、最大長100μmを越える欠陥数が実質0個であ
る、ことを特徴とする偏光板。 2.偏光膜の少なくとも片面が透明保護膜で保護されて
おり、保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸とがなす角度が
10°以上90°未満であることを特徴とする偏光板。 3.連続的に供給される偏光膜用ポリマーフィルムの両
端を保持手段により保持し、該保持手段をフィルムの長
手方向に進行させつつ張力を付与して延伸することによ
り偏光膜を形成する工程および形成された偏光膜に保護
膜貼り合わせる工程を含む上記1または2に記載の偏光
板を製造する方法であって、上記偏光膜を形成する工程
が、(i)偏光膜用ポリマーフィルムの一方端の実質的
な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の
軌跡L1及びポリマーフィルムのもう一端の実質的な保
持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡
L2と、二つの実質的な保持解除点の距離Wが、下記式
(1)を満たしつつ、ポリマーフィルムの支持性を保
ち、揮発分率が5%以上の状態を存在させて延伸する工
程、および(ii)その後収縮させ揮発分率を低下させて
偏光膜を形成する工程、を含み、上記偏光膜に保護膜貼
り合わせる工程が、(iii)形成された偏光膜の少なく
とも片面に保護膜を貼り合わせる工程、および(iv)そ
の後、後加熱する工程、を含み、そして上記(i)〜
(iv)の工程をクリーン度10000以下に保たれた環
境下で行うことを特徴とする偏光板の製造方法。 式(1):|L2−L1|>0.4W 4.偏光板用ポリマーフィルムの表面に付着している異
物の数を面積100mm2当たり実質0個にした後、該
ポリマーフィルムを偏光膜を形成する工程に供給するこ
とを特徴とする上記3に記載の偏光板の製造方法。 5.上記1または2に記載の偏光板を、液晶セルの両側
に配置された偏光板のうち少なくとも一枚に用いること
を特徴とする液晶表示装置。
【0013】
【発明の実施形態】本発明の偏光板は、偏光能を持つ偏
光膜を有し、通常、該偏光膜の両面又は片面に保護膜が
接着剤層を介して設けられている。また、通常、長尺の
偏光板(通常ロール形態)を製造し、それを用途に合わ
せて打ち抜くことにより、実用上の偏光板が得られるも
のである。本発明における「偏光板」は、特に断らない
限り、長尺の偏光板及び該打ち抜いた偏光板の両者を含
む意味で用いられる。
光膜を有し、通常、該偏光膜の両面又は片面に保護膜が
接着剤層を介して設けられている。また、通常、長尺の
偏光板(通常ロール形態)を製造し、それを用途に合わ
せて打ち抜くことにより、実用上の偏光板が得られるも
のである。本発明における「偏光板」は、特に断らない
限り、長尺の偏光板及び該打ち抜いた偏光板の両者を含
む意味で用いられる。
【0014】本発明の偏光板は、上記の通り、長尺の偏
光板において、吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもな
い(かかる長尺の偏光板を以下単に「斜め配向した」偏
光板と称することもある)。長手方向と吸収軸方向とが
なす角は、好ましくは10°から90°未満、より好ま
しくは20°〜70゜、更に好ましくは40°〜50
゜、特に好ましくは44〜46゜である。これにより、
長尺の偏光板からの打ち抜き工程において、得率よく単
板の偏光板を得ることができる。本発明では、長手方向
と吸収軸方向とがなす角度を自由に設定することができ
る。従って、他の光学部材と組み合わせて使用する際に
も最適な角度を選ぶことができる。
光板において、吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもな
い(かかる長尺の偏光板を以下単に「斜め配向した」偏
光板と称することもある)。長手方向と吸収軸方向とが
なす角は、好ましくは10°から90°未満、より好ま
しくは20°〜70゜、更に好ましくは40°〜50
゜、特に好ましくは44〜46゜である。これにより、
長尺の偏光板からの打ち抜き工程において、得率よく単
板の偏光板を得ることができる。本発明では、長手方向
と吸収軸方向とがなす角度を自由に設定することができ
る。従って、他の光学部材と組み合わせて使用する際に
も最適な角度を選ぶことができる。
【0015】また、本発明の偏光板は、単板透過率が5
50nmで35%以上かつ偏光度が550nmで80%
以上であることを特徴とする。単板透過率は、好ましく
は40%以上であり、偏光度は好ましくは95.0%以
上、より好ましくは99%以上、特に好ましくは99.
9%以上である。なお、本明細書において、特に断りの
ない限り透過率は単板透過率のことである。本発明の偏
光板は、優れた単板透過率及び偏光度を有しているた
め、液晶表示装置として用いる場合に、そのコントラス
トを高めることができ、有利である。
50nmで35%以上かつ偏光度が550nmで80%
以上であることを特徴とする。単板透過率は、好ましく
は40%以上であり、偏光度は好ましくは95.0%以
上、より好ましくは99%以上、特に好ましくは99.
9%以上である。なお、本明細書において、特に断りの
ない限り透過率は単板透過率のことである。本発明の偏
光板は、優れた単板透過率及び偏光度を有しているた
め、液晶表示装置として用いる場合に、そのコントラス
トを高めることができ、有利である。
【0016】また、本発明の偏光板は、欠陥が少ない。
すなわち、面積100mm2当たり、クロスニコル状態
で観察される最大長が5μmを超え50μm以下の欠陥
数が100個以下であり、最大長50μmを超え100
μm以下の欠陥数が10個以下であり、最大長100μ
mを越える欠陥数が実質0個である。このように欠陥が
少ないことにより、光モレなどの故障の発生が抑制され
る。
すなわち、面積100mm2当たり、クロスニコル状態
で観察される最大長が5μmを超え50μm以下の欠陥
数が100個以下であり、最大長50μmを超え100
μm以下の欠陥数が10個以下であり、最大長100μ
mを越える欠陥数が実質0個である。このように欠陥が
少ないことにより、光モレなどの故障の発生が抑制され
る。
【0017】本発明の斜め配向した偏光板は、以下に述
べる方法により容易に得ることができる。すなわち、斜
め配向をポリマーフィルムの延伸により得るとともに、
フィルムの延伸時の揮発分率を調整し、かつ延伸して偏
光膜を形成する工程および形成された偏光膜に保護膜を
貼り付ける工程をクリーンな環境で行うことにより得る
ことができる。さらには、延伸前のフィルムに付着して
いる異物の量を調節することは極めて好ましい。
べる方法により容易に得ることができる。すなわち、斜
め配向をポリマーフィルムの延伸により得るとともに、
フィルムの延伸時の揮発分率を調整し、かつ延伸して偏
光膜を形成する工程および形成された偏光膜に保護膜を
貼り付ける工程をクリーンな環境で行うことにより得る
ことができる。さらには、延伸前のフィルムに付着して
いる異物の量を調節することは極めて好ましい。
【0018】本発明において、単位面積あたりの欠陥の
個数が少ない偏光板を得るためには、偏光板製造の工
程、特に偏光膜を形成する工程および形成された偏光膜
に保護膜を貼り合わせる工程をクリーンで一貫した製造
ラインで行うことが重要である。さらに偏光膜用フィル
ムを染着前のフィルム表面の異物を洗い落とすことも好
ましい。以下に、延伸方法について説明した後、各重要
項目について説明する。
個数が少ない偏光板を得るためには、偏光板製造の工
程、特に偏光膜を形成する工程および形成された偏光膜
に保護膜を貼り合わせる工程をクリーンで一貫した製造
ラインで行うことが重要である。さらに偏光膜用フィル
ムを染着前のフィルム表面の異物を洗い落とすことも好
ましい。以下に、延伸方法について説明した後、各重要
項目について説明する。
【0019】<欠陥>本発明における欠陥とは、偏光板
どうしをクロスニコル状態で重ねたときに、光モレの現
象として観察される。本発明における欠陥の最大長と
は、偏光板単板に光を当てた場合にできる欠陥の投影さ
れた影の最大長で規定される。欠陥は異物および空気中
を浮遊するホコリなどに起因するものと推定される。つ
まり異物は球状のものが多いため、その直径が最大長に
相当するが、空気中を浮遊する細かい糸屑状のホコリに
基づく欠陥の場合にはその欠陥が取りうる影の最大長で
規定する。実際の測定においては、偏光板を偏光顕微鏡
を用いてクロスニコル状態で観察し、光モレが起きた欠
陥の最大長で大きさを規定することとする。測定をクロ
スニコル状態で行うことで欠陥部分は光が透過し、欠陥
の確認及び最大長の測定が容易である。本発明の偏光板
の単位面積当たりの欠陥の数は、偏光板の面積100m
m2当たり、クロスニコル状態で観察される最大長が5
μmを超え50μm以下の欠陥数が100個以下であ
り、最大長50μmを超え100μm以下の欠陥数が1
0個以下であり、最大長100μmを越える欠陥数が実
質0個である。単位面積あたりの欠陥数の評価をロール
形態偏光板の長手方向、幅方向から均等に10箇所以上
行い、それぞれの最大長での個数の平均値を最終的な欠
陥の個数とする。実質0個とは、全測定箇所における1
個以上の欠陥が確認された箇所の割合が1割未満である
場合のことを意味する。
どうしをクロスニコル状態で重ねたときに、光モレの現
象として観察される。本発明における欠陥の最大長と
は、偏光板単板に光を当てた場合にできる欠陥の投影さ
れた影の最大長で規定される。欠陥は異物および空気中
を浮遊するホコリなどに起因するものと推定される。つ
まり異物は球状のものが多いため、その直径が最大長に
相当するが、空気中を浮遊する細かい糸屑状のホコリに
基づく欠陥の場合にはその欠陥が取りうる影の最大長で
規定する。実際の測定においては、偏光板を偏光顕微鏡
を用いてクロスニコル状態で観察し、光モレが起きた欠
陥の最大長で大きさを規定することとする。測定をクロ
スニコル状態で行うことで欠陥部分は光が透過し、欠陥
の確認及び最大長の測定が容易である。本発明の偏光板
の単位面積当たりの欠陥の数は、偏光板の面積100m
m2当たり、クロスニコル状態で観察される最大長が5
μmを超え50μm以下の欠陥数が100個以下であ
り、最大長50μmを超え100μm以下の欠陥数が1
0個以下であり、最大長100μmを越える欠陥数が実
質0個である。単位面積あたりの欠陥数の評価をロール
形態偏光板の長手方向、幅方向から均等に10箇所以上
行い、それぞれの最大長での個数の平均値を最終的な欠
陥の個数とする。実質0個とは、全測定箇所における1
個以上の欠陥が確認された箇所の割合が1割未満である
場合のことを意味する。
【0020】<異物>偏光板用ポリマーフィルム、例え
ば偏光板用PVAロールには、耐接着防止の目的で添加
された澱粉微粒子等の異物が付着している。本発明の偏
光板を作成する場合、延伸前のポリマーフィルムに異物
が付着していると表面が粗くなるため、異物を取ること
が好ましい。特に偏光板作製時には、色むら・光学むら
の原因となる。異物の除去方法としては特に限定され
ず、延伸前のポリマーフィルムに悪影響を与えることな
く、異物を除去することができれば、いずれの方法でも
よい。例えば、水流を吹き付けることにより異物を掻き
落とす方法、気体噴射により異物を掻き落とす方法、
布、ゴム等のブレードを用いて異物を掻き落とす方法等
が挙げられる。本発明においては、フィルムを染着する
工程の前にその両面をイオン交換水の高圧水流にて洗浄
し、エアーブローして表面水分を飛ばす手法をとること
が好ましい。延伸前のフィルム表面の異物の量を調べる
方法は、該表面洗浄を行った後の延伸前フィルムをサン
プリングし、単位面積あたりの異物の個数を透過型光学
顕微鏡で100倍のレンズにより調べる方法が好まし
い。
ば偏光板用PVAロールには、耐接着防止の目的で添加
された澱粉微粒子等の異物が付着している。本発明の偏
光板を作成する場合、延伸前のポリマーフィルムに異物
が付着していると表面が粗くなるため、異物を取ること
が好ましい。特に偏光板作製時には、色むら・光学むら
の原因となる。異物の除去方法としては特に限定され
ず、延伸前のポリマーフィルムに悪影響を与えることな
く、異物を除去することができれば、いずれの方法でも
よい。例えば、水流を吹き付けることにより異物を掻き
落とす方法、気体噴射により異物を掻き落とす方法、
布、ゴム等のブレードを用いて異物を掻き落とす方法等
が挙げられる。本発明においては、フィルムを染着する
工程の前にその両面をイオン交換水の高圧水流にて洗浄
し、エアーブローして表面水分を飛ばす手法をとること
が好ましい。延伸前のフィルム表面の異物の量を調べる
方法は、該表面洗浄を行った後の延伸前フィルムをサン
プリングし、単位面積あたりの異物の個数を透過型光学
顕微鏡で100倍のレンズにより調べる方法が好まし
い。
【0021】<一貫工程>本発明に好ましく用いられる
PVAロールには、前述したように、通常接着防止の目
的で澱粉微粒子が被着している。しかし、そのような糊
がフィルム表面に残存した状態で偏光板を製造した場
合、光学的なムラが生じる不都合が生じる。一方、偏光
板を製造する各工程においても染着液中の不溶解物や、
空気中を浮遊する微塵などにより染色ムラ、光学ムラが
生じることになる。そのような欠陥を無くする目的で、
本発明においては、延伸・乾燥・保護膜貼り合わせ・後
加熱などの各工程を、PVA原反の送りだしから保護膜
貼り合わせ、もしくは後加熱工程後に巻き取るまで途切
れることなく、ロール形態偏光板フィルムが連続的に作
成される一貫工程で行うことが好ましい。
PVAロールには、前述したように、通常接着防止の目
的で澱粉微粒子が被着している。しかし、そのような糊
がフィルム表面に残存した状態で偏光板を製造した場
合、光学的なムラが生じる不都合が生じる。一方、偏光
板を製造する各工程においても染着液中の不溶解物や、
空気中を浮遊する微塵などにより染色ムラ、光学ムラが
生じることになる。そのような欠陥を無くする目的で、
本発明においては、延伸・乾燥・保護膜貼り合わせ・後
加熱などの各工程を、PVA原反の送りだしから保護膜
貼り合わせ、もしくは後加熱工程後に巻き取るまで途切
れることなく、ロール形態偏光板フィルムが連続的に作
成される一貫工程で行うことが好ましい。
【0022】一般にクリーンな環境の尺度として、クリ
ーン度が用いられる。クリーン度は、JIS B992
2に規定されており、例えば、オーム社出版の実用空調
便覧785ページに記載されているように、1立方フィ
ート中に何個の塵があるかの基準であり、100個しか
ない場合はクリーン度100と表される。本発明におい
ては異物を除去する目的で染着前に高速の水流で糊など
の異物を洗い落とすとともに、空気中に浮遊するホコリ
が偏光板表面に付着することを防ぐ目的で、一貫のライ
ンをクリーン度10000以下にすることが好ましく、
より好ましくは1000以下、特に好ましくは100以
下である。
ーン度が用いられる。クリーン度は、JIS B992
2に規定されており、例えば、オーム社出版の実用空調
便覧785ページに記載されているように、1立方フィ
ート中に何個の塵があるかの基準であり、100個しか
ない場合はクリーン度100と表される。本発明におい
ては異物を除去する目的で染着前に高速の水流で糊など
の異物を洗い落とすとともに、空気中に浮遊するホコリ
が偏光板表面に付着することを防ぐ目的で、一貫のライ
ンをクリーン度10000以下にすることが好ましく、
より好ましくは1000以下、特に好ましくは100以
下である。
【0023】一貫のラインとしては、フィルムを延伸
後、乾燥により収縮させ揮発分率を低下させる工程を有
する。通常、この工程は乾燥することにより行われる。
この場合、乾燥後もしくは乾燥中に形成された偏光膜の
少なくとも片面に保護膜を貼り合わせた後、後加熱する
工程を行うことが好ましい。具体的な貼り付け方法とし
ては乾燥後に行うことが好ましく、乾燥後というのはフ
ィルム中の含水率が10%以下の状態を指し、乾燥後で
あれば、乾燥工程中でも乾燥工程後でもありうる。保護
膜の貼りつけ方法は、乾燥工程中あるいは乾燥工程後、
両端を保持した状態で接着剤を用いてフィルムに保護膜
を貼り付け、その後両端を耳きりする、もしくは乾燥
後、両端保持部からフィルムを解除し、フィルム両端を
耳きりした後、保護膜を貼り付けるなどの方法がある。
耳きりの方法としては、刃物などのカッターで切る方
法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いる
ことができる。貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させる
ため、および偏光性能を良化させるために、後加熱する
ことが好ましい。後加熱の条件としては、接着剤により
異なるが、水系の場合は、30℃以上が好ましく、さら
に好ましくは40℃以上100℃以下、さらに好ましく
は50℃以上80℃以下である。以上のこれらの工程
は、一貫の製造ラインで行われることが、性能上及び生
産効率上更に好ましい。
後、乾燥により収縮させ揮発分率を低下させる工程を有
する。通常、この工程は乾燥することにより行われる。
この場合、乾燥後もしくは乾燥中に形成された偏光膜の
少なくとも片面に保護膜を貼り合わせた後、後加熱する
工程を行うことが好ましい。具体的な貼り付け方法とし
ては乾燥後に行うことが好ましく、乾燥後というのはフ
ィルム中の含水率が10%以下の状態を指し、乾燥後で
あれば、乾燥工程中でも乾燥工程後でもありうる。保護
膜の貼りつけ方法は、乾燥工程中あるいは乾燥工程後、
両端を保持した状態で接着剤を用いてフィルムに保護膜
を貼り付け、その後両端を耳きりする、もしくは乾燥
後、両端保持部からフィルムを解除し、フィルム両端を
耳きりした後、保護膜を貼り付けるなどの方法がある。
耳きりの方法としては、刃物などのカッターで切る方
法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いる
ことができる。貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させる
ため、および偏光性能を良化させるために、後加熱する
ことが好ましい。後加熱の条件としては、接着剤により
異なるが、水系の場合は、30℃以上が好ましく、さら
に好ましくは40℃以上100℃以下、さらに好ましく
は50℃以上80℃以下である。以上のこれらの工程
は、一貫の製造ラインで行われることが、性能上及び生
産効率上更に好ましい。
【0024】次に、本発明の他の要件について説明す
る。 <延伸方法>図1および図2に、ポリマーフィルムを斜
め延伸する本発明の方法の例が、概略平面図として、で
示されている。本発明の延伸方法は、(a)で示される
原反フィルムを矢印(イ)方向に導入する工程、(b)
で示される幅方向延伸工程、及び(c)で示される延伸
フィルムを次工程、即ち(ロ)方向に送る工程を含む。
以下「延伸工程」と称するときは、これらの(a)〜
(c)工程を含んで、本発明の延伸方法を行うための工
程全体を指す。フィルムは(イ)の方向から連続的に導
入され、上流側から見て左側の保持手段にB1点で初め
て保持される。この時点ではいま一方のフィルム端は保
持されておらず、幅方向に張力は発生しない。つまり、
B1点は本発明の実質的な保持開始点(以下、「実質保
持開始点」という)には相当しない。本発明では、実質
保持開始点は、フィルム両端が初めて保持される点で定
義される。実質保持開始点は、より下流側の保持開始点
A1と、A1から導入側フィルムの中心線11(図1)
または21(図2)に略垂直に引いた直線が、反対側の
保持手段の軌跡13(図1)または23(図2)と交わ
る点C1の2点で示される。この点を起点とし、両端の
保持手段を実質的に等速度で搬送すると、単位時間ごと
にA1はA2,A3…Anと移動し、C1は同様にC
2,C3…Cnに移動する。つまり同時点に基準となる
保持手段が通過する点AnとCnを結ぶ直線が、その時
点での延伸方向となる。
る。 <延伸方法>図1および図2に、ポリマーフィルムを斜
め延伸する本発明の方法の例が、概略平面図として、で
示されている。本発明の延伸方法は、(a)で示される
原反フィルムを矢印(イ)方向に導入する工程、(b)
で示される幅方向延伸工程、及び(c)で示される延伸
フィルムを次工程、即ち(ロ)方向に送る工程を含む。
以下「延伸工程」と称するときは、これらの(a)〜
(c)工程を含んで、本発明の延伸方法を行うための工
程全体を指す。フィルムは(イ)の方向から連続的に導
入され、上流側から見て左側の保持手段にB1点で初め
て保持される。この時点ではいま一方のフィルム端は保
持されておらず、幅方向に張力は発生しない。つまり、
B1点は本発明の実質的な保持開始点(以下、「実質保
持開始点」という)には相当しない。本発明では、実質
保持開始点は、フィルム両端が初めて保持される点で定
義される。実質保持開始点は、より下流側の保持開始点
A1と、A1から導入側フィルムの中心線11(図1)
または21(図2)に略垂直に引いた直線が、反対側の
保持手段の軌跡13(図1)または23(図2)と交わ
る点C1の2点で示される。この点を起点とし、両端の
保持手段を実質的に等速度で搬送すると、単位時間ごと
にA1はA2,A3…Anと移動し、C1は同様にC
2,C3…Cnに移動する。つまり同時点に基準となる
保持手段が通過する点AnとCnを結ぶ直線が、その時
点での延伸方向となる。
【0025】本発明の方法では、図1、図2のようにA
nはCnに対し次第に遅れてゆくため、延伸方向は、搬
送方向垂直から徐々に傾斜していく。本発明の実質的な
保持解除点(以下、「実質保持解除点」という)は、よ
り上流で保持手段から離脱するCx点と、Cxから次工
程へ送られるフィルムの中心線12(図1)または22
(図2)に略垂直に引いた直線が、反対側の保持手段の
軌跡14(図1)または24(図2)と交わる点Ayの
2点で定義される。最終的なフィルムの延伸方向の角度
は、実質的な延伸工程の終点(実質保持解除点)での左
右保持手段の行程差Ay−Ax(すなわち|L1−L2
|)と、実質保持解除点の距離W(CxとAyの距離)
との比率で決まる。従って、延伸方向が次工程への搬送
方向に対しなす傾斜角θは tanθ=W/( Ay−Ax)、即ち、 tanθ=W/|L1−L2| を満たす角度である。図1及び図2の上側のフィルム端
は、Ay点の後も18(図1)または28(図2)まで
保持されるが、もう一端が保持されていないため新たな
幅方向延伸は発生せず、18および28は本発明の実質
保持解除点ではない。
nはCnに対し次第に遅れてゆくため、延伸方向は、搬
送方向垂直から徐々に傾斜していく。本発明の実質的な
保持解除点(以下、「実質保持解除点」という)は、よ
り上流で保持手段から離脱するCx点と、Cxから次工
程へ送られるフィルムの中心線12(図1)または22
(図2)に略垂直に引いた直線が、反対側の保持手段の
軌跡14(図1)または24(図2)と交わる点Ayの
2点で定義される。最終的なフィルムの延伸方向の角度
は、実質的な延伸工程の終点(実質保持解除点)での左
右保持手段の行程差Ay−Ax(すなわち|L1−L2
|)と、実質保持解除点の距離W(CxとAyの距離)
との比率で決まる。従って、延伸方向が次工程への搬送
方向に対しなす傾斜角θは tanθ=W/( Ay−Ax)、即ち、 tanθ=W/|L1−L2| を満たす角度である。図1及び図2の上側のフィルム端
は、Ay点の後も18(図1)または28(図2)まで
保持されるが、もう一端が保持されていないため新たな
幅方向延伸は発生せず、18および28は本発明の実質
保持解除点ではない。
【0026】以上のように、本発明において、フィルム
の両端にある実質保持開始点は、左右各々の保持手段へ
の単純な噛み込み点ではない。本発明の二つの実質保持
開始点は、上記で定義したことをより厳密に記述すれ
ば、左右いずれかの保持点と他の保持点とを結ぶ直線が
フィルムを保持する工程に導入されるフィルムの中心線
と略直交している点であり、かつこれらの二つの保持点
が最も上流に位置するものとして定義される。同様に、
本発明において、二つの実質保持解除点は、左右いずれ
かの保持点と他の保持点とを結ぶ直線が、次工程に送り
だされるフィルムの中心線と略直交している点であり、
しかもこれら二つの保持点が最も下流に位置するものと
して定義される。ここで、略直交とは、フィルムの中心
線と左右の実質保持開始点、あるいは実質保持解除点を
結ぶ直線が、90±0.5゜であることを意味する。
の両端にある実質保持開始点は、左右各々の保持手段へ
の単純な噛み込み点ではない。本発明の二つの実質保持
開始点は、上記で定義したことをより厳密に記述すれ
ば、左右いずれかの保持点と他の保持点とを結ぶ直線が
フィルムを保持する工程に導入されるフィルムの中心線
と略直交している点であり、かつこれらの二つの保持点
が最も上流に位置するものとして定義される。同様に、
本発明において、二つの実質保持解除点は、左右いずれ
かの保持点と他の保持点とを結ぶ直線が、次工程に送り
だされるフィルムの中心線と略直交している点であり、
しかもこれら二つの保持点が最も下流に位置するものと
して定義される。ここで、略直交とは、フィルムの中心
線と左右の実質保持開始点、あるいは実質保持解除点を
結ぶ直線が、90±0.5゜であることを意味する。
【0027】テンター方式の延伸機を用いて本発明のよ
うに左右の行程差を付けようとする場合、レール長など
の機械的制約により、しばしば保持手段への噛み込み点
と実質保持開始点に大きなずれが生じたり、保持手段か
らの離脱点と実質保持解除点に大きなずれが生ずること
があるが、上記定義する実質保持開始点と実質保持解除
点間の工程が式(1)の関係を満たしていれば本発明の
目的は達成される。
うに左右の行程差を付けようとする場合、レール長など
の機械的制約により、しばしば保持手段への噛み込み点
と実質保持開始点に大きなずれが生じたり、保持手段か
らの離脱点と実質保持解除点に大きなずれが生ずること
があるが、上記定義する実質保持開始点と実質保持解除
点間の工程が式(1)の関係を満たしていれば本発明の
目的は達成される。
【0028】上記において、得られる延伸フィルムにお
ける配向軸の傾斜角度は、(c)工程の出口幅Wと、左
右の二つの実質的保持手段の行程差|L1−L2|の比
率で制御、調整することができる。
ける配向軸の傾斜角度は、(c)工程の出口幅Wと、左
右の二つの実質的保持手段の行程差|L1−L2|の比
率で制御、調整することができる。
【0029】本発明において、偏光板の透過率、偏光度
を向上させるためには、フィルム延伸時の延伸倍率、延
伸時の環境温度、ポリビニルアルコールの重合度、偏光
子を染着させる工程におけるヨウ化カリウム/ヨウ素重
量比、金属塩を使用することなどが重要である。しばし
ば長手方向に対し45゜配向したフィルムが求められ
る。この場合、45゜に近い配向角を得るために、下記
式(2)を満たすことが好ましく、 式(2) 0.9W<|L1−L2|<1.1W さらに好ましくは、下記式(3)を満たすことが好まし
い。 式(3) 0.97W<|L1−L2|<1.03W
を向上させるためには、フィルム延伸時の延伸倍率、延
伸時の環境温度、ポリビニルアルコールの重合度、偏光
子を染着させる工程におけるヨウ化カリウム/ヨウ素重
量比、金属塩を使用することなどが重要である。しばし
ば長手方向に対し45゜配向したフィルムが求められ
る。この場合、45゜に近い配向角を得るために、下記
式(2)を満たすことが好ましく、 式(2) 0.9W<|L1−L2|<1.1W さらに好ましくは、下記式(3)を満たすことが好まし
い。 式(3) 0.97W<|L1−L2|<1.03W
【0030】具体的な延伸工程の構成は、式(1)を満
たす限り、図1〜6に例示するように、設備コスト、生
産性を考慮して任意に設計できる。
たす限り、図1〜6に例示するように、設備コスト、生
産性を考慮して任意に設計できる。
【0031】延伸工程へのフィルム導入方向(イ)と、
次工程へのフィルム搬送方向(ロ)のなす角度は、任意
の数値が可能であるが、延伸前後の工程を含めた設備の
総設置面積を最小にする観点からは、この角度は小さい
方がよく、3゜以内が好ましく、0.5゜以内がさらに
好ましい。例えば図1、図4に例示するような構造で、
この値を達成することができる。このようにフィルム進
行方向が実質的に変わらない方法では、保持手段の幅を
拡大するのみでは、偏光板、位相差膜として好ましい長
手方向に対して45゜の配向角を得るのは困難である。
そこで、図1の如く、一旦延伸した後、収縮させる工程
を設けることで、|L1−L2|を大きくすることがで
きる。延伸率は1.1〜10.0倍が望ましく、より望
ましくは2〜10倍であり、その後の収縮率は10%以
上が望ましい。また、図4に示すように、延伸−収縮を
複数回繰り返すことも、|L1−L2|を大きくできる
ため好ましい。
次工程へのフィルム搬送方向(ロ)のなす角度は、任意
の数値が可能であるが、延伸前後の工程を含めた設備の
総設置面積を最小にする観点からは、この角度は小さい
方がよく、3゜以内が好ましく、0.5゜以内がさらに
好ましい。例えば図1、図4に例示するような構造で、
この値を達成することができる。このようにフィルム進
行方向が実質的に変わらない方法では、保持手段の幅を
拡大するのみでは、偏光板、位相差膜として好ましい長
手方向に対して45゜の配向角を得るのは困難である。
そこで、図1の如く、一旦延伸した後、収縮させる工程
を設けることで、|L1−L2|を大きくすることがで
きる。延伸率は1.1〜10.0倍が望ましく、より望
ましくは2〜10倍であり、その後の収縮率は10%以
上が望ましい。また、図4に示すように、延伸−収縮を
複数回繰り返すことも、|L1−L2|を大きくできる
ため好ましい。
【0032】また、延伸工程の設備コストを最小に抑え
る観点からは、保持手段の軌跡の屈曲回数、屈曲角度は
小さい程良い。この観点からは、図2、図3、図5に例
示する如くフィルム両端を保持する工程の出口における
フィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす
角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を
フィルム両端を保持させた状態で屈曲させることが好ま
しい。
る観点からは、保持手段の軌跡の屈曲回数、屈曲角度は
小さい程良い。この観点からは、図2、図3、図5に例
示する如くフィルム両端を保持する工程の出口における
フィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす
角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を
フィルム両端を保持させた状態で屈曲させることが好ま
しい。
【0033】本発明において両端を保持しつつ張力を付
与しフィルムを延伸する装置としては、いわゆる図1〜
図5のようなテンター装置が好ましい。また、従来型の
2次元的なテンターの他に、図6のように螺旋状に両端
の把持手段に行路差を付ける延伸工程を用いることもで
きる。
与しフィルムを延伸する装置としては、いわゆる図1〜
図5のようなテンター装置が好ましい。また、従来型の
2次元的なテンターの他に、図6のように螺旋状に両端
の把持手段に行路差を付ける延伸工程を用いることもで
きる。
【0034】テンター型の延伸機の場合、クリップが固
定されたチェーンがレールに沿って進む構造が多いが、
本発明のように左右不均等な延伸方法をとると、結果的
に図1及び2に例示される如く、工程入口、出口でレー
ルの終端がずれ、左右同時に噛み込み、離脱をしなくな
ることがある。この場合、実質工程長L1,L2は、上
に述べたように単純な噛み込み−離脱間の距離ではな
く、既に述べたように、あくまでフィルムの両端を保持
手段が保持している部分の行程長である。
定されたチェーンがレールに沿って進む構造が多いが、
本発明のように左右不均等な延伸方法をとると、結果的
に図1及び2に例示される如く、工程入口、出口でレー
ルの終端がずれ、左右同時に噛み込み、離脱をしなくな
ることがある。この場合、実質工程長L1,L2は、上
に述べたように単純な噛み込み−離脱間の距離ではな
く、既に述べたように、あくまでフィルムの両端を保持
手段が保持している部分の行程長である。
【0035】延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度
差があると、延伸工程出口におけるシワ、寄りが発生す
るため、左右のフィルム把持手段の搬送速度差は、実質
的に同速度であることが求められる。速度差は好ましく
は1%以下であり、さらに好ましくは0.5%未満であ
り、最も好ましくは0.05%未満である。ここで述べ
る速度とは、毎分当たりに左右各々の保持手段が進む軌
跡の長さのことである。一般的なテンター延伸機等で
は、チェーンを駆動するスプロケット歯の周期、駆動モ
ータの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速
度ムラがあり、しばしば数%のムラを生ずるが、これら
は本発明で述べる速度差には該当しない。
差があると、延伸工程出口におけるシワ、寄りが発生す
るため、左右のフィルム把持手段の搬送速度差は、実質
的に同速度であることが求められる。速度差は好ましく
は1%以下であり、さらに好ましくは0.5%未満であ
り、最も好ましくは0.05%未満である。ここで述べ
る速度とは、毎分当たりに左右各々の保持手段が進む軌
跡の長さのことである。一般的なテンター延伸機等で
は、チェーンを駆動するスプロケット歯の周期、駆動モ
ータの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速
度ムラがあり、しばしば数%のムラを生ずるが、これら
は本発明で述べる速度差には該当しない。
【0036】<揮発分率>また、左右の行程差が生じる
に従って、フィルムにシワ、寄りが発生する。この問題
を解決するために、本発明では、ポリマーフィルムの支
持性を保ち、揮発分率が5%以上の状態を存在させて延
伸、その後収縮させ揮発分率を低下させることを特徴と
している。本発明における揮発分率とは、フィルムの単
位体積あたりに含まれる揮発成分の体積を表し、揮発成
分体積をフィルム体積で割った値(%)である。本発明
において、偏光板用ポリマーフィルムの延伸前に揮発分
を含有させる工程を少なくとも1工程設けることが必要
である。揮発分を含有させる工程としては、フィルムを
キャストし、溶剤・水を含有させる、延伸前に溶剤・水
などに浸漬・塗布・噴霧する、延伸中に溶剤・水を塗布
することなどが挙げられる。後述する<染色処方・方法
><硬膜剤・金属塩添加>の項に記載の染色・硬膜剤添
加液添加工程が、揮発分を含有させる工程を兼ねても良
い。染色工程が兼ねる場合は、硬膜剤添加工程を延伸前
に設けることが好ましい。硬膜工程が兼ねる場合は、染
色工程は、延伸前もしくは延伸後にいずれに設けても良
い。また、延伸前であれば染色工程と延伸工程を同時に
行っても良い。ポリビニルアルコールなどの親水性ポリ
マーフィルムは、高温高湿環境下で水を含有するので、
高湿環境下で調湿後延伸、もしくは高湿条件下で延伸す
ることにより揮発分を含有させることができる。これら
の方法以外でも、ポリマーフィルムの揮発分を5%以上
にさせることができれば、いかなる手段を用いても良
い。
に従って、フィルムにシワ、寄りが発生する。この問題
を解決するために、本発明では、ポリマーフィルムの支
持性を保ち、揮発分率が5%以上の状態を存在させて延
伸、その後収縮させ揮発分率を低下させることを特徴と
している。本発明における揮発分率とは、フィルムの単
位体積あたりに含まれる揮発成分の体積を表し、揮発成
分体積をフィルム体積で割った値(%)である。本発明
において、偏光板用ポリマーフィルムの延伸前に揮発分
を含有させる工程を少なくとも1工程設けることが必要
である。揮発分を含有させる工程としては、フィルムを
キャストし、溶剤・水を含有させる、延伸前に溶剤・水
などに浸漬・塗布・噴霧する、延伸中に溶剤・水を塗布
することなどが挙げられる。後述する<染色処方・方法
><硬膜剤・金属塩添加>の項に記載の染色・硬膜剤添
加液添加工程が、揮発分を含有させる工程を兼ねても良
い。染色工程が兼ねる場合は、硬膜剤添加工程を延伸前
に設けることが好ましい。硬膜工程が兼ねる場合は、染
色工程は、延伸前もしくは延伸後にいずれに設けても良
い。また、延伸前であれば染色工程と延伸工程を同時に
行っても良い。ポリビニルアルコールなどの親水性ポリ
マーフィルムは、高温高湿環境下で水を含有するので、
高湿環境下で調湿後延伸、もしくは高湿条件下で延伸す
ることにより揮発分を含有させることができる。これら
の方法以外でも、ポリマーフィルムの揮発分を5%以上
にさせることができれば、いかなる手段を用いても良
い。
【0037】好ましい揮発分率は、ポリマーフィルムの
種類によって異なる。揮発分率の最大は、ポリマーフィ
ルムの支持性を保つ限り可能である。ポリビニルアルコ
ールでは、揮発分率は10%〜100%が好ましい。セ
ルロースアシレートでは、10%〜200%が好まし
い。
種類によって異なる。揮発分率の最大は、ポリマーフィ
ルムの支持性を保つ限り可能である。ポリビニルアルコ
ールでは、揮発分率は10%〜100%が好ましい。セ
ルロースアシレートでは、10%〜200%が好まし
い。
【0038】<揮発分成分の含有分布>長尺、特にロー
ル形態の偏光板を一貫工程で作製する場合には、染色の
ムラや抜けがないことが必要である。延伸前のフィルム
中の揮発成分に分布のムラ(フィルム面内の場所による
揮発成分量の差異)があると染色ムラ、抜けの原因とな
る。従って、延伸前のフィルム中の揮発分成分の含有分
布は小さいほうが好ましく、具体的には5%以下である
ことが好ましい。揮発分成分の含有分布とは、上記で定
義された揮発分率の1m2あたりの変動幅(平均揮発分
率に対する、最大値または最小値と該平均揮発分率との
差の大きい方の比)を表す。揮発分成分の含有分布を小
さくする方法として、フィルムの表裏表面を均一なエア
ーでブローする、ニップローラーにて均一に絞る、ワイ
パーなどで拭き取る(ブレード、スポンジ拭き取りな
ど)等の方法が挙げられるが、分布が均一になればいか
なる方法を用いても良い。図10〜12に一例としての
図を記載した。
ル形態の偏光板を一貫工程で作製する場合には、染色の
ムラや抜けがないことが必要である。延伸前のフィルム
中の揮発成分に分布のムラ(フィルム面内の場所による
揮発成分量の差異)があると染色ムラ、抜けの原因とな
る。従って、延伸前のフィルム中の揮発分成分の含有分
布は小さいほうが好ましく、具体的には5%以下である
ことが好ましい。揮発分成分の含有分布とは、上記で定
義された揮発分率の1m2あたりの変動幅(平均揮発分
率に対する、最大値または最小値と該平均揮発分率との
差の大きい方の比)を表す。揮発分成分の含有分布を小
さくする方法として、フィルムの表裏表面を均一なエア
ーでブローする、ニップローラーにて均一に絞る、ワイ
パーなどで拭き取る(ブレード、スポンジ拭き取りな
ど)等の方法が挙げられるが、分布が均一になればいか
なる方法を用いても良い。図10〜12に一例としての
図を記載した。
【0039】<弾性率>延伸前の偏光膜用ポリマーフィ
ルムの弾性率が低すぎると、延伸時・延伸後の収縮率が
低くなり、シワが消えにくくなる。また、高すぎると延
伸時にかかる張力が大きくなり、フィルム両端を保持す
る部分の強度を高くする必要が生じ、機械に対する負荷
が大きくなる。好ましいフィルムの弾性率は、ヤング率
で表すと好ましくは0.01MPa以上500MPa以
下で、さらに好ましくは0.1MPa以上100MPa
以下である。
ルムの弾性率が低すぎると、延伸時・延伸後の収縮率が
低くなり、シワが消えにくくなる。また、高すぎると延
伸時にかかる張力が大きくなり、フィルム両端を保持す
る部分の強度を高くする必要が生じ、機械に対する負荷
が大きくなる。好ましいフィルムの弾性率は、ヤング率
で表すと好ましくは0.01MPa以上500MPa以
下で、さらに好ましくは0.1MPa以上100MPa
以下である。
【0040】<収縮率:延伸中、延伸後の収縮>また、
延伸ポリマーフィルムの収縮は、延伸中、延伸後のいず
れの工程で行って良い。収縮は、斜め方向に配向する際
の発生するポリマーフィルムのシワが解消すればよい。
フィルムを収縮させる手段としては、加熱することによ
り揮発分を除去する方法などが挙げられるが、フィルム
を収縮させればいかなる手段を用いても良い。好ましい
フィルムの収縮率としては、長手方向に対する配向角θ
を用いて、1/sinθ倍以上収縮することである。
延伸ポリマーフィルムの収縮は、延伸中、延伸後のいず
れの工程で行って良い。収縮は、斜め方向に配向する際
の発生するポリマーフィルムのシワが解消すればよい。
フィルムを収縮させる手段としては、加熱することによ
り揮発分を除去する方法などが挙げられるが、フィルム
を収縮させればいかなる手段を用いても良い。好ましい
フィルムの収縮率としては、長手方向に対する配向角θ
を用いて、1/sinθ倍以上収縮することである。
【0041】<シワ発生から消失までの距離>斜め方向
に配向する際の発生するポリマーフィルムのシワは、本
発明における実質保持解除点までに消失していればよ
い。しかし、シワの発生から消失までに時間がかかる
と、延伸方向のばらつきが生じることがある。好ましく
は、シワが発生した地点からできるだけ短い移行距離で
シワが消失することが良い。このためには、揮発分量の
揮発速度を高くするなどの方法がある。
に配向する際の発生するポリマーフィルムのシワは、本
発明における実質保持解除点までに消失していればよ
い。しかし、シワの発生から消失までに時間がかかる
と、延伸方向のばらつきが生じることがある。好ましく
は、シワが発生した地点からできるだけ短い移行距離で
シワが消失することが良い。このためには、揮発分量の
揮発速度を高くするなどの方法がある。
【0042】<乾燥>発生したシワが消失する条件であ
れば、乾燥条件はいかようでもかまわない。好ましく
は、所望の配向角度が得られた後、できるだけ短い移動
距離で乾燥点が来るように調節するのがよい。乾燥点と
は、フィルムの表面膜温度が環境雰囲気温度と同じにな
る場所を意味する。このことから、乾燥速度もできるだ
け速いほうが好ましい。
れば、乾燥条件はいかようでもかまわない。好ましく
は、所望の配向角度が得られた後、できるだけ短い移動
距離で乾燥点が来るように調節するのがよい。乾燥点と
は、フィルムの表面膜温度が環境雰囲気温度と同じにな
る場所を意味する。このことから、乾燥速度もできるだ
け速いほうが好ましい。
【0043】<乾燥温度>発生したシワが消失する条件
であれば、乾燥条件はいかようでもかまわないが、延伸
するフィルムによって異なる。本発明によりポリビニル
アルコールフィルムを用いて偏光板を作成する場合に
は、20℃以上100℃以下が好ましく、より好ましく
は40℃以上90℃以下である。
であれば、乾燥条件はいかようでもかまわないが、延伸
するフィルムによって異なる。本発明によりポリビニル
アルコールフィルムを用いて偏光板を作成する場合に
は、20℃以上100℃以下が好ましく、より好ましく
は40℃以上90℃以下である。
【0044】<膨潤率>本発明において、ポリマーフィ
ルムがポリビニルアルコールで、硬膜剤を使用した場
合、斜め方向に延伸した状態を緩和せずに保つために
は、延伸前後で水に対する膨潤率が異なることが好まし
い。具体的には、延伸前の膨潤率が高く、延伸・乾燥後
の膨潤率が低くなることが好ましい。更に好ましくは、
延伸する前の水に対する膨潤率が3%以上で、乾燥後の
膨潤率が3%以下であることが好ましい。
ルムがポリビニルアルコールで、硬膜剤を使用した場
合、斜め方向に延伸した状態を緩和せずに保つために
は、延伸前後で水に対する膨潤率が異なることが好まし
い。具体的には、延伸前の膨潤率が高く、延伸・乾燥後
の膨潤率が低くなることが好ましい。更に好ましくは、
延伸する前の水に対する膨潤率が3%以上で、乾燥後の
膨潤率が3%以下であることが好ましい。
【0045】<屈折部>本発明で保持手段の軌跡を規制
するレールには、しばしば大きい屈曲率が求められる。
急激な屈曲によるフィルム把持手段同士の干渉、あるい
は局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持
手段の軌跡が円弧を描くようにすることが望ましい。
するレールには、しばしば大きい屈曲率が求められる。
急激な屈曲によるフィルム把持手段同士の干渉、あるい
は局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持
手段の軌跡が円弧を描くようにすることが望ましい。
【0046】<延伸速度>本発明にて、フィルムを延伸
する速度は、単位時間当りの延伸倍率で表すと、1.1
倍/分以上、好ましくは2倍/分以上で、早いほうが好
ましい。また、長手方向の進行速度は、0.1m/分以
上、好ましくは1m/分以上で、早いほうが生産性の観
点から見て好ましい。いずれの場合も、上限は、延伸す
るフィルム及び延伸機により異なる。
する速度は、単位時間当りの延伸倍率で表すと、1.1
倍/分以上、好ましくは2倍/分以上で、早いほうが好
ましい。また、長手方向の進行速度は、0.1m/分以
上、好ましくは1m/分以上で、早いほうが生産性の観
点から見て好ましい。いずれの場合も、上限は、延伸す
るフィルム及び延伸機により異なる。
【0047】<長手方向の張力>本発明において、フィ
ルムの両端を保持手段により保持する際、保持しやすい
ようにフィルムが張った状態にしておくことが好まし
い。具体的には、長手方向に張力をかけてフィルムを張
るなどの方法が挙げられる。張力としては、延伸前のフ
ィルム状態により異なるが、弛まない程度にすることが
好ましい。
ルムの両端を保持手段により保持する際、保持しやすい
ようにフィルムが張った状態にしておくことが好まし
い。具体的には、長手方向に張力をかけてフィルムを張
るなどの方法が挙げられる。張力としては、延伸前のフ
ィルム状態により異なるが、弛まない程度にすることが
好ましい。
【0048】<延伸時温度>本発明にて、フィルム延伸
時の環境温度は、少なくともフィルムに含まれる揮発分
の凝固点以上であればよい。フィルムがポリビニルアル
コールである場合には、25℃以上が好ましい。また、
偏光膜を作製するためのヨウ素・ホウ酸を浸漬したポリ
ビニルアルコールを延伸する場合には、25℃以上90
℃以下が好ましい。
時の環境温度は、少なくともフィルムに含まれる揮発分
の凝固点以上であればよい。フィルムがポリビニルアル
コールである場合には、25℃以上が好ましい。また、
偏光膜を作製するためのヨウ素・ホウ酸を浸漬したポリ
ビニルアルコールを延伸する場合には、25℃以上90
℃以下が好ましい。
【0049】<延伸時湿度>揮発分が水であるフィル
ム、例えばポリビニルアルコール、セルロースアシレー
トなどを延伸する場合は、調湿雰囲気下で延伸しても良
い。ポリビニルアルコールである場合は、50%以上が
好ましく、好ましくは80%以上、更に好ましくは90
%以上である。
ム、例えばポリビニルアルコール、セルロースアシレー
トなどを延伸する場合は、調湿雰囲気下で延伸しても良
い。ポリビニルアルコールである場合は、50%以上が
好ましく、好ましくは80%以上、更に好ましくは90
%以上である。
【0050】<偏光膜>本発明で延伸の対象とする偏光
膜用ポリマーフィルムに関しては特に制限はなく、熱可
塑性の適宜なポリマーからなるフィルムを用いることが
できる。ポリマーの例としては、PVA、ポリカーボネ
ート、セルロースアシレート、ポリスルホンなどを挙げ
ることができる。延伸前のフィルムの厚味は特に限定さ
れないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点
から、1μm〜1mmが好ましく、20〜200μmが
特に好ましい。
膜用ポリマーフィルムに関しては特に制限はなく、熱可
塑性の適宜なポリマーからなるフィルムを用いることが
できる。ポリマーの例としては、PVA、ポリカーボネ
ート、セルロースアシレート、ポリスルホンなどを挙げ
ることができる。延伸前のフィルムの厚味は特に限定さ
れないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点
から、1μm〜1mmが好ましく、20〜200μmが
特に好ましい。
【0051】偏光膜は、各種用途に用い得るが、長手方
向に対し配向軸が傾いている特性から、特に、配向軸が
長手方向に対してなす角度が40〜50゜、好ましくは
44〜46゜である偏光膜は、LCD用偏光板として好
ましく用いられる。また、位相差膜としても用いられ
る。
向に対し配向軸が傾いている特性から、特に、配向軸が
長手方向に対してなす角度が40〜50゜、好ましくは
44〜46゜である偏光膜は、LCD用偏光板として好
ましく用いられる。また、位相差膜としても用いられ
る。
【0052】偏光膜を偏光フィルムに用いる場合、ポリ
マーとしてはPVAが好ましく用いられる。PVAは、
通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例え
ば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン
類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能
な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル
基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン
基等を含有する変性PVAも用いることができる。
マーとしてはPVAが好ましく用いられる。PVAは、
通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例え
ば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン
類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能
な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル
基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン
基等を含有する変性PVAも用いることができる。
【0053】PVAのケン化度は特に限定されないが、
溶解性等の観点から80〜100mol%が好ましく、
90〜100mol%が特に好ましい。またPVAの重
合度は特に限定されないが、1000〜10000が好
ましく、1500〜5000が特に好ましい。
溶解性等の観点から80〜100mol%が好ましく、
90〜100mol%が特に好ましい。またPVAの重
合度は特に限定されないが、1000〜10000が好
ましく、1500〜5000が特に好ましい。
【0054】<染色処方・方法>PVAを染色して偏光
膜が得られるが、染色工程は気相または液相吸着により
行われる。液相で行う場合の例として、ヨウ素を用いる
場合には、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液にPVAフィ
ルムを浸漬させて行われる。ヨウ素は0.1〜20g/
l、ヨウ化カリウムは1〜200g/l、ヨウ素とヨウ
化カリウムの重量比は1〜200が好ましい。染色時間
は10〜5000秒が好ましく、液温度は5〜60℃が
好ましい。染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あ
るいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可
能である。染色工程は、本発明の延伸工程の前後いずれ
に置いても良いが、適度に膜が膨潤され延伸が容易にな
ることから、延伸工程前に液相で染色することが特に好
ましい。
膜が得られるが、染色工程は気相または液相吸着により
行われる。液相で行う場合の例として、ヨウ素を用いる
場合には、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液にPVAフィ
ルムを浸漬させて行われる。ヨウ素は0.1〜20g/
l、ヨウ化カリウムは1〜200g/l、ヨウ素とヨウ
化カリウムの重量比は1〜200が好ましい。染色時間
は10〜5000秒が好ましく、液温度は5〜60℃が
好ましい。染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あ
るいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可
能である。染色工程は、本発明の延伸工程の前後いずれ
に置いても良いが、適度に膜が膨潤され延伸が容易にな
ることから、延伸工程前に液相で染色することが特に好
ましい。
【0055】<硬膜剤(架橋剤)、金属塩添加>偏光膜
用ポリマー、例えばPVAを延伸して偏光膜を製造する
過程では、PVAに架橋させる硬膜剤を用いることが好
ましい。特に本発明の斜め延伸法を用いる場合、延伸工
程出口でPVAが十分に硬膜されていないと、工程のテ
ンションでPVAの配向方向がずれてしまうことがある
ため、延伸前工程あるいは延伸工程で架橋剤溶液に浸
漬、または溶液を塗布して硬膜剤を含ませるのが好まし
い。硬膜剤をPVAフィルムに付与する手段は、特に限
定されるものではなく、フィルムの液への浸漬、塗布、
噴霧等任意の方法を用いることができるが、特に浸漬
法、塗布法が好ましい。塗布手段としてはロールコー
タ、ダイコータ、バーコータ、スライドコータ、カーテ
ンコータ等、通常知られている任意の手段をとることが
できる。また、溶液を含浸させた布、綿、多孔質素材等
をフィルムに接触する方式も好ましい。硬膜剤として
は、米国再発行特許第232897号に記載のものが使
用できるが、ホウ酸、ホウ砂が実用的に好ましく用いら
れる。また、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、ニッ
ケル、マンガン等の金属塩も併せて用いることができ
る。
用ポリマー、例えばPVAを延伸して偏光膜を製造する
過程では、PVAに架橋させる硬膜剤を用いることが好
ましい。特に本発明の斜め延伸法を用いる場合、延伸工
程出口でPVAが十分に硬膜されていないと、工程のテ
ンションでPVAの配向方向がずれてしまうことがある
ため、延伸前工程あるいは延伸工程で架橋剤溶液に浸
漬、または溶液を塗布して硬膜剤を含ませるのが好まし
い。硬膜剤をPVAフィルムに付与する手段は、特に限
定されるものではなく、フィルムの液への浸漬、塗布、
噴霧等任意の方法を用いることができるが、特に浸漬
法、塗布法が好ましい。塗布手段としてはロールコー
タ、ダイコータ、バーコータ、スライドコータ、カーテ
ンコータ等、通常知られている任意の手段をとることが
できる。また、溶液を含浸させた布、綿、多孔質素材等
をフィルムに接触する方式も好ましい。硬膜剤として
は、米国再発行特許第232897号に記載のものが使
用できるが、ホウ酸、ホウ砂が実用的に好ましく用いら
れる。また、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、ニッ
ケル、マンガン等の金属塩も併せて用いることができ
る。
【0056】硬膜剤の付与は、延伸機に噛み込む前に行
ってもよいし、噛み込んだ後に行っても良く、幅方向延
伸が実質的に終了する図1、図2の例の(b)工程の終
端までのいずれかの工程で行えばよい。硬膜剤を添加し
た後に洗浄・水洗工程を設けてもよい。
ってもよいし、噛み込んだ後に行っても良く、幅方向延
伸が実質的に終了する図1、図2の例の(b)工程の終
端までのいずれかの工程で行えばよい。硬膜剤を添加し
た後に洗浄・水洗工程を設けてもよい。
【0057】<偏光子>ヨウ素の他に二色性色素で染色
することも好ましい。二色性色素の具体例としては、例
えばアゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色
素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキ
サジン系色素、チアジン系色素、アントラキノン系色素
等の色素系化合物をあげることができる。水溶性のもの
が好ましいが、この限りではない。又、これらの二色性
分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置
換基が導入されていることが好ましい。二色性分子の具
体例としては、例えばシー.アイ.ダイレクト.イエロ
ー12、シー.アイ.ダイレクト.オレンジ39、シ
ー.アイ.ダイレクト.オレンジ72、シー.アイ.ダ
イレクト.レッド 39、シー.アイ.ダイレクト.レ
ッド79、シー.アイ.ダイレクト.レッド 81、シ
ー.アイ.ダイレクト.レッド 83、シー.アイ.ダ
イレクト.レッド 89 、シー.アイ.ダイレクト.
バイオレット 48、シー.アイ.ダイレクト.ブルー
67、シー.アイ.ダイレクト.ブルー90、シー.
アイ.ダイレクト.グリーン 59、シー.アイ.アシ
ッド.レッド 37等が挙げられ、さらに特開昭62−
070802号、特開平1−161202号、特開平1
−172906号、特開平1−172907号、特開平
1−183602号、特開平1−248105号、特開
平1−265205号、特開平7−261024号、の
各公報記載の色素等が挙げられる。これらの二色性分子
は遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、
アミン類の塩として用いられる。これらの二色性分子は
2種以上を配合することにより、各種の色相を有する偏
光子を製造することができる。偏光素子または偏光板と
して偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物(色
素)や黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した
ものが単板透過率、偏光率とも優れており好ましい。
することも好ましい。二色性色素の具体例としては、例
えばアゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色
素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキ
サジン系色素、チアジン系色素、アントラキノン系色素
等の色素系化合物をあげることができる。水溶性のもの
が好ましいが、この限りではない。又、これらの二色性
分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置
換基が導入されていることが好ましい。二色性分子の具
体例としては、例えばシー.アイ.ダイレクト.イエロ
ー12、シー.アイ.ダイレクト.オレンジ39、シ
ー.アイ.ダイレクト.オレンジ72、シー.アイ.ダ
イレクト.レッド 39、シー.アイ.ダイレクト.レ
ッド79、シー.アイ.ダイレクト.レッド 81、シ
ー.アイ.ダイレクト.レッド 83、シー.アイ.ダ
イレクト.レッド 89 、シー.アイ.ダイレクト.
バイオレット 48、シー.アイ.ダイレクト.ブルー
67、シー.アイ.ダイレクト.ブルー90、シー.
アイ.ダイレクト.グリーン 59、シー.アイ.アシ
ッド.レッド 37等が挙げられ、さらに特開昭62−
070802号、特開平1−161202号、特開平1
−172906号、特開平1−172907号、特開平
1−183602号、特開平1−248105号、特開
平1−265205号、特開平7−261024号、の
各公報記載の色素等が挙げられる。これらの二色性分子
は遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、
アミン類の塩として用いられる。これらの二色性分子は
2種以上を配合することにより、各種の色相を有する偏
光子を製造することができる。偏光素子または偏光板と
して偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物(色
素)や黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した
ものが単板透過率、偏光率とも優れており好ましい。
【0058】また、PVAを脱水、あるいはポリ塩化ビ
ニルを脱塩化水素することによりポリエン構造をつく
り、共役二重結合により偏光を得るいわゆるポリビニレ
ン系偏光膜の製造にも、本発明の延伸法は好ましく用い
ることができる。
ニルを脱塩化水素することによりポリエン構造をつく
り、共役二重結合により偏光を得るいわゆるポリビニレ
ン系偏光膜の製造にも、本発明の延伸法は好ましく用い
ることができる。
【0059】<保護膜>本発明で製造された偏光膜は、
両面あるいは片面に保護膜を貼り付けて偏光板として用
いられる。保護膜の種類は特に限定されず、セルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート等のセル
ロースアシレート類、ポリカーボネート、ポリオレフィ
ン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができ
る。偏光板の保護膜には、透明性、適度な透湿度、低複
屈折性、適度な剛性といった物性が求められ、総合的に
みるとセルロースアシレート類が好ましく、特にセルロ
ースアセテートが好ましい。
両面あるいは片面に保護膜を貼り付けて偏光板として用
いられる。保護膜の種類は特に限定されず、セルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート等のセル
ロースアシレート類、ポリカーボネート、ポリオレフィ
ン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができ
る。偏光板の保護膜には、透明性、適度な透湿度、低複
屈折性、適度な剛性といった物性が求められ、総合的に
みるとセルロースアシレート類が好ましく、特にセルロ
ースアセテートが好ましい。
【0060】保護膜の物性は、用途に応じ任意の値が可
能であるが、通常の透過型LCDに用いる場合の代表的
な好ましい値を以下に示す。膜厚は取り扱い性や耐久性
の観点から5〜500μmが好ましく、20〜200μ
mがより好ましく、20〜100μmが特に好ましい。
レターデーション値は632.8nmにおいて0〜15
0nmが好ましく、0〜20nmがより好ましく、0〜
5nmが特に好ましい。保護膜の遅相軸は、偏光膜の吸
収軸と実質的に平行または直交させることが、直線偏光
の楕円化を避ける観点から好ましい。但し、保護膜に位
相差板等、偏光性を変化させる機能を持たせる場合に
は、この限りではなく、偏光板の吸収軸と保護膜の遅相
軸は任意の角度をとることができる。可視光線透過率は
60%以上が好ましく、90%以上が特に好ましい。9
0℃120時間処理後の寸度減少は、0.3〜0.01
%であることが好ましく、0.15〜0.01%である
ことが特に好ましい。フィルムの引っ張り試験による抗
張力値は、50〜1000MPaが好ましく、100〜
300MPaが特に好ましい。フィルムの透湿度は、1
00〜800g/m2・dayが好ましく、300〜6
00g/m2・day が特に好ましい。無論、本発明の
適用は、以上の値に限定されるものではない。
能であるが、通常の透過型LCDに用いる場合の代表的
な好ましい値を以下に示す。膜厚は取り扱い性や耐久性
の観点から5〜500μmが好ましく、20〜200μ
mがより好ましく、20〜100μmが特に好ましい。
レターデーション値は632.8nmにおいて0〜15
0nmが好ましく、0〜20nmがより好ましく、0〜
5nmが特に好ましい。保護膜の遅相軸は、偏光膜の吸
収軸と実質的に平行または直交させることが、直線偏光
の楕円化を避ける観点から好ましい。但し、保護膜に位
相差板等、偏光性を変化させる機能を持たせる場合に
は、この限りではなく、偏光板の吸収軸と保護膜の遅相
軸は任意の角度をとることができる。可視光線透過率は
60%以上が好ましく、90%以上が特に好ましい。9
0℃120時間処理後の寸度減少は、0.3〜0.01
%であることが好ましく、0.15〜0.01%である
ことが特に好ましい。フィルムの引っ張り試験による抗
張力値は、50〜1000MPaが好ましく、100〜
300MPaが特に好ましい。フィルムの透湿度は、1
00〜800g/m2・dayが好ましく、300〜6
00g/m2・day が特に好ましい。無論、本発明の
適用は、以上の値に限定されるものではない。
【0061】保護膜として好ましいセルロースアシレー
トの詳細について、以下に示す。好ましいセルロースア
シレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式
(I)〜(IV)の全てを満足するものである。
トの詳細について、以下に示す。好ましいセルロースア
シレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式
(I)〜(IV)の全てを満足するものである。
【0062】
(I) 2.6≦A+B≦3.0
(II) 2.0≦A≦3.0
(III) 0≦B≦0.8
(IV) 1.9<A−B
ここで、式中A及びBはセルロースの水酸基に置換され
ているアシル基の置換基を表し、Aはアセチル基の置換
度、またBは炭素原子数3〜5のアシル基の置換度であ
る。セルロースには1グルコース単位に3個の水酸基が
あり、上記の数字はその水酸基3.0に対する置換度を
表すもので、最大の置換度が3.0である。セルロース
トリアセテートは一般にAの置換度が2.6以上3.0
以下であり(この場合、置換されなかった水酸基が最大
0.4もある)、B=0の場合がセルローストリアセテ
ートである。偏光板保護膜として用いるセルロースアシ
レートは、アシル基が全部アセチル基のセルローストリ
アセテート、及びアセチル基が2.0以上で、炭素原子
数が3〜5のアシル基が0.8以下、置換されなかった
水酸基が0.4以下のものが好ましい。炭素原子数3〜
5のアシル基の場合、0.3以下が物性の点から特に好
ましい。なお、置換度は、セルロースの水酸基に置換す
る酢酸及び炭素原子数3〜5の脂肪酸の結合度を測定
し、計算によって得られる。測定方法としては、AST
MのD−817−91に準じて実施することが出来る。
ているアシル基の置換基を表し、Aはアセチル基の置換
度、またBは炭素原子数3〜5のアシル基の置換度であ
る。セルロースには1グルコース単位に3個の水酸基が
あり、上記の数字はその水酸基3.0に対する置換度を
表すもので、最大の置換度が3.0である。セルロース
トリアセテートは一般にAの置換度が2.6以上3.0
以下であり(この場合、置換されなかった水酸基が最大
0.4もある)、B=0の場合がセルローストリアセテ
ートである。偏光板保護膜として用いるセルロースアシ
レートは、アシル基が全部アセチル基のセルローストリ
アセテート、及びアセチル基が2.0以上で、炭素原子
数が3〜5のアシル基が0.8以下、置換されなかった
水酸基が0.4以下のものが好ましい。炭素原子数3〜
5のアシル基の場合、0.3以下が物性の点から特に好
ましい。なお、置換度は、セルロースの水酸基に置換す
る酢酸及び炭素原子数3〜5の脂肪酸の結合度を測定
し、計算によって得られる。測定方法としては、AST
MのD−817−91に準じて実施することが出来る。
【0063】アセチル基の他の炭素原子数3〜5のアシ
ル基はプロピオニル基(C2H5CO−)、ブチリル基
(C3H7CO−)(n−、iso−)、バレリル基(C
4H9CO−)(n−、iso−、sec−、tert
−)で、これらのうちn−置換のものがフィルムにした
時の機械的強さ、溶解し易さ等から好ましく、特にn−
プロピオニル基が好ましい。また、アセチル基の置換度
が低いと機械的強さ、耐湿熱性が低下する。炭素原子数
3〜5のアシル基の置換度が高いと有機溶媒への溶解性
は向上するが、それぞれの置換度が前記の範囲であれば
良好な物性を示す。
ル基はプロピオニル基(C2H5CO−)、ブチリル基
(C3H7CO−)(n−、iso−)、バレリル基(C
4H9CO−)(n−、iso−、sec−、tert
−)で、これらのうちn−置換のものがフィルムにした
時の機械的強さ、溶解し易さ等から好ましく、特にn−
プロピオニル基が好ましい。また、アセチル基の置換度
が低いと機械的強さ、耐湿熱性が低下する。炭素原子数
3〜5のアシル基の置換度が高いと有機溶媒への溶解性
は向上するが、それぞれの置換度が前記の範囲であれば
良好な物性を示す。
【0064】セルロースアシレートの重合度(粘度平
均)は200〜700が好ましく、特に250〜550
のものが好ましい。粘度平均重合度はオストワルド粘度
計で測定することができ、測定されたセルロースアシレ
ートの固有粘度[η]から下記式により求められる。D
P=[η]/Km (式中DPは粘度平均重合度、K
mは定数6×10-4)
均)は200〜700が好ましく、特に250〜550
のものが好ましい。粘度平均重合度はオストワルド粘度
計で測定することができ、測定されたセルロースアシレ
ートの固有粘度[η]から下記式により求められる。D
P=[η]/Km (式中DPは粘度平均重合度、K
mは定数6×10-4)
【0065】セルロースアシレート原料のセルロースと
しては、綿花リンターや木材パルプなどがあるが、何れ
の原料セルロースから得られるセルロースアシレートで
も使用できるし、混合して使用してもよい。
しては、綿花リンターや木材パルプなどがあるが、何れ
の原料セルロースから得られるセルロースアシレートで
も使用できるし、混合して使用してもよい。
【0066】上記セルロースアシレートは、通常ソルベ
ントキャスト法により製造される。ソルベントキャスト
法は、セルロースアシレートおよび各種添加剤を溶媒に
溶解して濃厚溶液(以下、ドープと称する)を調製し、
これをドラムまたはバンドのような無端支持体上に流延
し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成するものである。
ドープは、固形分量が10〜40質量%となるように濃
度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表
面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベ
ントキャスト法における流延および乾燥方法について
は、米国特許2336310号、同2367603号、
同2492078号、同2492977号、同2492
978号、同2607704号、同2739069号、
同2739070号、英国特許640731号、同73
6892号の各明細書、特公昭45−4554号、同4
9−5614号、特開昭60−176834号、同60
−203430号、同62−115035号の各公報に
記載がある。
ントキャスト法により製造される。ソルベントキャスト
法は、セルロースアシレートおよび各種添加剤を溶媒に
溶解して濃厚溶液(以下、ドープと称する)を調製し、
これをドラムまたはバンドのような無端支持体上に流延
し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成するものである。
ドープは、固形分量が10〜40質量%となるように濃
度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表
面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベ
ントキャスト法における流延および乾燥方法について
は、米国特許2336310号、同2367603号、
同2492078号、同2492977号、同2492
978号、同2607704号、同2739069号、
同2739070号、英国特許640731号、同73
6892号の各明細書、特公昭45−4554号、同4
9−5614号、特開昭60−176834号、同60
−203430号、同62−115035号の各公報に
記載がある。
【0067】2層以上のドープを流延する方法も好まし
く用いられる。複数のドープを流延する場合、支持体の
進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からドープ
を含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィル
ムを作製してもよく、例えば特開昭61−158414
号、特開平1−122419号、特開平11−1982
85号、などに記載の方法が適応できる。また、2つの
流延口からセルロースアシレート溶液を流延することに
よってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭6
0−27562号、特開昭61−94724号、特開昭
61−947245号、特開昭61−104813号、
特開昭61−158413号、特開平6−134933
号、に記載の方法で実施できる。また、特開昭56−1
62617号に記載の高粘度ドープの流れを低粘度のド
ープで包み込み、その高,低粘度のドープを同時に押出
す流延方法も好ましく用いられる。
く用いられる。複数のドープを流延する場合、支持体の
進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からドープ
を含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィル
ムを作製してもよく、例えば特開昭61−158414
号、特開平1−122419号、特開平11−1982
85号、などに記載の方法が適応できる。また、2つの
流延口からセルロースアシレート溶液を流延することに
よってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭6
0−27562号、特開昭61−94724号、特開昭
61−947245号、特開昭61−104813号、
特開昭61−158413号、特開平6−134933
号、に記載の方法で実施できる。また、特開昭56−1
62617号に記載の高粘度ドープの流れを低粘度のド
ープで包み込み、その高,低粘度のドープを同時に押出
す流延方法も好ましく用いられる。
【0068】セルロースアシレートを溶解する有機溶媒
の例には、炭化水素(例、ベンゼン、トルエン)、ハロ
ゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロベン
ゼン)、アルコール(例、メタノール、エタノール、ジ
エチレングリコール)、ケトン(例、アセトン)、エス
テル(例、酢酸エチル、酢酸プロピル)およびエーテル
(例、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ)などが
あげられる。炭素原子数1〜7のハロゲン化炭化水素が
好ましく用いられ、メチレンクロライドが最も好ましく
用いられる。セルロースアシレートの溶解性、支持体か
らの剥取り性、フィルムの機械強度等、光学特性等の物
性の観点から、メチレンクロライドの他に炭素原子数1
〜5のアルコールを一種、ないし数種類混合することが
好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対し2〜
25質量%が好ましく、5〜20質量%がより好まし
い。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール等があげられるが、メタノール、エタノール、n
−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用い
られる。
の例には、炭化水素(例、ベンゼン、トルエン)、ハロ
ゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロベン
ゼン)、アルコール(例、メタノール、エタノール、ジ
エチレングリコール)、ケトン(例、アセトン)、エス
テル(例、酢酸エチル、酢酸プロピル)およびエーテル
(例、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ)などが
あげられる。炭素原子数1〜7のハロゲン化炭化水素が
好ましく用いられ、メチレンクロライドが最も好ましく
用いられる。セルロースアシレートの溶解性、支持体か
らの剥取り性、フィルムの機械強度等、光学特性等の物
性の観点から、メチレンクロライドの他に炭素原子数1
〜5のアルコールを一種、ないし数種類混合することが
好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対し2〜
25質量%が好ましく、5〜20質量%がより好まし
い。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール等があげられるが、メタノール、エタノール、n
−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用い
られる。
【0069】セルロースアシレートの他に、乾燥後固形
分となる成分としては、可塑剤をはじめ、紫外線吸収
剤、無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアル
カリ土類金属の塩などの熱安定剤、帯電防止剤、難燃
剤、滑剤、油剤、支持体からの剥離促進剤、セルロース
アシレートの加水分解防止剤等を任意に含むことができ
る。
分となる成分としては、可塑剤をはじめ、紫外線吸収
剤、無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどのアル
カリ土類金属の塩などの熱安定剤、帯電防止剤、難燃
剤、滑剤、油剤、支持体からの剥離促進剤、セルロース
アシレートの加水分解防止剤等を任意に含むことができ
る。
【0070】好ましく添加される可塑剤としては、リン
酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リ
ン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート
(TPP)およびトリクレジルフォスフェート(TC
P)、クレジルジフェニルフォスフェート、オクチルジ
フェニルフォスフェート、ジフェニルビフェニルフォス
フェート、トリオクチルフォスフェート、トリブチルホ
スフェート等があげられる。カルボン酸エステルとして
は、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的
である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレー
ト(DMP)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチ
ルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DO
P)、ジフェニルフタレート(DPP)およびジエチル
ヘキシルフタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸
エステルの例には、O−アセチルクエン酸トリエチル
(OACTE)およびO−アセチルクエン酸トリブチル
(OACTB)、クエン酸アセチルトリエチル、クエン
酸アセチルトリブチル、が含まれる。その他のカルボン
酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸
メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリメチルトリ
メリテート等のトリメリット酸エステルが含まれる。グ
リコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリ
ブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチル
フタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグ
リコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートなどが
ある。
酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リ
ン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート
(TPP)およびトリクレジルフォスフェート(TC
P)、クレジルジフェニルフォスフェート、オクチルジ
フェニルフォスフェート、ジフェニルビフェニルフォス
フェート、トリオクチルフォスフェート、トリブチルホ
スフェート等があげられる。カルボン酸エステルとして
は、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的
である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレー
ト(DMP)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチ
ルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DO
P)、ジフェニルフタレート(DPP)およびジエチル
ヘキシルフタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸
エステルの例には、O−アセチルクエン酸トリエチル
(OACTE)およびO−アセチルクエン酸トリブチル
(OACTB)、クエン酸アセチルトリエチル、クエン
酸アセチルトリブチル、が含まれる。その他のカルボン
酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸
メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリメチルトリ
メリテート等のトリメリット酸エステルが含まれる。グ
リコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリ
ブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチル
フタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグ
リコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートなどが
ある。
【0071】以上に例示した可塑剤の中でも、トリフェ
ニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェ
ート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニ
ルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、ジメチ
ルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレー
ト、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレー
ト、トリメチルトリメリテートらを用いることが好まし
い。特にトリフェニルホスフェート、ビフェニルジフェ
ニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタ
リルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテートが
好ましい。これらの可塑剤は1種でもよいし2種以上併
用してもよい。可塑剤の添加量はセルロースアシレート
に対して5〜30質量%が好ましく、特に8〜16質量
%以下が好ましい。これらの化合物は、セルロースアシ
レート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒
と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加し
てもよい。
ニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェ
ート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニ
ルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、ジメチ
ルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレー
ト、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレー
ト、トリメチルトリメリテートらを用いることが好まし
い。特にトリフェニルホスフェート、ビフェニルジフェ
ニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタ
リルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテートが
好ましい。これらの可塑剤は1種でもよいし2種以上併
用してもよい。可塑剤の添加量はセルロースアシレート
に対して5〜30質量%が好ましく、特に8〜16質量
%以下が好ましい。これらの化合物は、セルロースアシ
レート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒
と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加し
てもよい。
【0072】紫外線吸収剤は、目的に応じ任意の種類の
ものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート
系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤
を用いることができるが、ベンゾフェノン系、ベンゾト
リアゾール系、サリチル酸エステル系が好ましい。ベン
ゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−アセトキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4,4’
−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−
オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデ
シルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2
−ヒドロキシ−3−メタクリロキシ)プロポキシベンゾ
フェノン等をあげることができる。ベンゾトリアゾール
系紫外線吸収剤としては、2(2’−ヒドロキシ−3’
−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−ク
ロルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−5’
−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキ
シ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5
−クロルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−
5’−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル等をあげることができる。サリチル酸エステル系とし
ては、フェニルサリシレート、 p−オクチルフェニル
サリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレ
ート等をあげることができる。これら例示した紫外線吸
収剤の中でも、特に2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4,4’−メ
トキシベンゾフェノン、2(2’−ヒドロキシ−3’−
tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロ
ルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−5’−
tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキ
シ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5
−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。吸収波長
の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波
長範囲で高い遮断効果を得ることができ、特に好まし
い。紫外線吸収剤の量はセルロースアシレートに対し
0.01〜5質量%が好ましく、0.1〜3質量%が特
に好ましい。紫外線吸収剤はセルロースアシレート溶解
時に同時に添加しても良いし、溶解後のドープに添加し
ても良い。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前
にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が好まし
い。
ものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート
系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤
を用いることができるが、ベンゾフェノン系、ベンゾト
リアゾール系、サリチル酸エステル系が好ましい。ベン
ゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−アセトキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4,4’
−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−
オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデ
シルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2
−ヒドロキシ−3−メタクリロキシ)プロポキシベンゾ
フェノン等をあげることができる。ベンゾトリアゾール
系紫外線吸収剤としては、2(2’−ヒドロキシ−3’
−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−ク
ロルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−5’
−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキ
シ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5
−クロルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−
5’−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル等をあげることができる。サリチル酸エステル系とし
ては、フェニルサリシレート、 p−オクチルフェニル
サリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレ
ート等をあげることができる。これら例示した紫外線吸
収剤の中でも、特に2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4,4’−メ
トキシベンゾフェノン、2(2’−ヒドロキシ−3’−
tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロ
ルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−5’−
tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキ
シ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5
−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。吸収波長
の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波
長範囲で高い遮断効果を得ることができ、特に好まし
い。紫外線吸収剤の量はセルロースアシレートに対し
0.01〜5質量%が好ましく、0.1〜3質量%が特
に好ましい。紫外線吸収剤はセルロースアシレート溶解
時に同時に添加しても良いし、溶解後のドープに添加し
ても良い。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前
にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が好まし
い。
【0073】セルロースアシレートに添加する無機微粒
子としては、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、
石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ア
ルミナなどを目的に応じ、任意に用いることができる。
これら微粒子はドープに添加する前に、高速ミキサー、
ボールミル、アトライター、超音波分散機等、任意の手
段でバインダー溶液中に分散を行うことが好ましい。バ
インダーとしてはセルロースアシレートが好ましい。紫
外線吸収剤等、他の添加物と共に分散を行うことも好ま
しい。分散溶媒は任意であるが、ドープ溶剤と近い組成
であることが好ましい。分散粒子の数平均粒径は0.0
1〜100μmが好ましく、0.1〜10μmが特に好
ましい。上記の分散液はセルロースアシレート溶解工程
に同時に添加しても良いし、任意の工程でドープに添加
できるが、紫外線吸収剤同様スタティックミキサ等を用
い、流延直前に添加する形態が好ましい。
子としては、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、
石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ア
ルミナなどを目的に応じ、任意に用いることができる。
これら微粒子はドープに添加する前に、高速ミキサー、
ボールミル、アトライター、超音波分散機等、任意の手
段でバインダー溶液中に分散を行うことが好ましい。バ
インダーとしてはセルロースアシレートが好ましい。紫
外線吸収剤等、他の添加物と共に分散を行うことも好ま
しい。分散溶媒は任意であるが、ドープ溶剤と近い組成
であることが好ましい。分散粒子の数平均粒径は0.0
1〜100μmが好ましく、0.1〜10μmが特に好
ましい。上記の分散液はセルロースアシレート溶解工程
に同時に添加しても良いし、任意の工程でドープに添加
できるが、紫外線吸収剤同様スタティックミキサ等を用
い、流延直前に添加する形態が好ましい。
【0074】支持体からの剥離促進剤としては、界面活
性剤が有効でありリン酸系、スルフォン酸系、カルボン
酸系、ノニオン系、カチオン系など特に限定されない。
これらは、例えば特開昭61−243837号などに記
載されている。
性剤が有効でありリン酸系、スルフォン酸系、カルボン
酸系、ノニオン系、カチオン系など特に限定されない。
これらは、例えば特開昭61−243837号などに記
載されている。
【0075】上記のセルロースアシレートフィルムを保
護膜に用いる場合、PVA系樹脂との密着性を高めるた
め、フィルム表面にケン化、コロナ処理、火炎処理、グ
ロー放電処理等の手段により、親水性を付与することが
好ましい。また、親水性樹脂をセルロースアシレートと
親和性のある溶媒に分散し、薄層塗布しても良い。以上
の手段の中では、フィルムの平面性、物性が損なわれな
いため、ケン化処理が特に好ましい。ケン化処理は、例
えば苛性ソーダのようなアルカリ水溶液にフィルムを浸
漬することで行われる。処理後は過剰のアルカリを除く
ため、低濃度の酸で中和し、水洗を十分行うことが好ま
しい。
護膜に用いる場合、PVA系樹脂との密着性を高めるた
め、フィルム表面にケン化、コロナ処理、火炎処理、グ
ロー放電処理等の手段により、親水性を付与することが
好ましい。また、親水性樹脂をセルロースアシレートと
親和性のある溶媒に分散し、薄層塗布しても良い。以上
の手段の中では、フィルムの平面性、物性が損なわれな
いため、ケン化処理が特に好ましい。ケン化処理は、例
えば苛性ソーダのようなアルカリ水溶液にフィルムを浸
漬することで行われる。処理後は過剰のアルカリを除く
ため、低濃度の酸で中和し、水洗を十分行うことが好ま
しい。
【0076】セルロースアシレートフィルムの表面処理
として好ましく用いられるアルカリケン化処理を具体的
に説明する。セルロースアシレートフィルム表面をアル
カリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾
燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶
液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶
液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は0.1N〜
3.0Nであることが好ましく、0.5N〜2.0Nで
あることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温
乃至90℃の範囲が好ましく、40℃乃至70℃がさら
に好ましい。次に一般には水洗され、しかる後に酸性水
溶液を通過させた後に、水洗して表面処理したセルロー
スアシレートフィルムを得る。この時、酸としては塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、蟻酸、クロロ酢酸、シュウ酸な
どであり、その濃度は0.01N〜3.0Nであること
が好ましく、0.05N〜2.0Nであることがさらに
好ましい。セルロースアシレートフィルムを偏光板の透
明保護膜として使用する場合、偏光膜との接着性の観点
から、酸処理、アルカリ処理、すなわちセルロースアシ
レートに対するケン化処理を実施することが特に好まし
い。これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは、
「ぬれの基礎と応用」(リアライズ社 1989.1
2.10)発行に記載のように、接触角法、湿潤熱法、
および吸着法により求めることができ、接触角法を用い
ることが好ましく、水の接触角が5〜90℃、更には5
〜70℃が好ましい。
として好ましく用いられるアルカリケン化処理を具体的
に説明する。セルロースアシレートフィルム表面をアル
カリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾
燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶
液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶
液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は0.1N〜
3.0Nであることが好ましく、0.5N〜2.0Nで
あることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温
乃至90℃の範囲が好ましく、40℃乃至70℃がさら
に好ましい。次に一般には水洗され、しかる後に酸性水
溶液を通過させた後に、水洗して表面処理したセルロー
スアシレートフィルムを得る。この時、酸としては塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、蟻酸、クロロ酢酸、シュウ酸な
どであり、その濃度は0.01N〜3.0Nであること
が好ましく、0.05N〜2.0Nであることがさらに
好ましい。セルロースアシレートフィルムを偏光板の透
明保護膜として使用する場合、偏光膜との接着性の観点
から、酸処理、アルカリ処理、すなわちセルロースアシ
レートに対するケン化処理を実施することが特に好まし
い。これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは、
「ぬれの基礎と応用」(リアライズ社 1989.1
2.10)発行に記載のように、接触角法、湿潤熱法、
および吸着法により求めることができ、接触角法を用い
ることが好ましく、水の接触角が5〜90℃、更には5
〜70℃が好ましい。
【0077】本発明の偏光板の保護膜表面には、特開平
4−229828号、特開平6−75115号、特開平
8−50206号等に記載のLCDの視野角補償のため
の光学異方層や、ディスプレイの視認性向上のための防
眩層や反射防止層、あるいはLCD輝度向上のための異
方性散乱や異方性光学干渉によるPS波分離機能を有す
る層(高分子分散液晶層、コレステリック液晶層等)、
偏光板の耐傷性を高めるためのハードコート層、水分や
酸素の拡散を抑えるガスバリア層、偏光膜あるいは接着
剤、粘着剤との密着力を高める易接着層、スベリ性を付
与する層等、任意の機能層を設けることができる。機能
層は偏光膜側に設けても良いし、偏光膜と反対面に設け
ても良く、目的に応じ適宜に選択できる。
4−229828号、特開平6−75115号、特開平
8−50206号等に記載のLCDの視野角補償のため
の光学異方層や、ディスプレイの視認性向上のための防
眩層や反射防止層、あるいはLCD輝度向上のための異
方性散乱や異方性光学干渉によるPS波分離機能を有す
る層(高分子分散液晶層、コレステリック液晶層等)、
偏光板の耐傷性を高めるためのハードコート層、水分や
酸素の拡散を抑えるガスバリア層、偏光膜あるいは接着
剤、粘着剤との密着力を高める易接着層、スベリ性を付
与する層等、任意の機能層を設けることができる。機能
層は偏光膜側に設けても良いし、偏光膜と反対面に設け
ても良く、目的に応じ適宜に選択できる。
【0078】本発明の偏光膜には、各種機能膜を保護膜
として直接片面または両面に貼合することができる。機
能膜の例としては、λ/4板、λ/2板などの位相差
膜、光拡散膜、偏光板と反対面に導電層を設けたプラス
チックセル、異方性散乱や異方性光学干渉機能等をもつ
輝度向上膜、反射板、半透過機能を持つ反射板等があげ
られる。
として直接片面または両面に貼合することができる。機
能膜の例としては、λ/4板、λ/2板などの位相差
膜、光拡散膜、偏光板と反対面に導電層を設けたプラス
チックセル、異方性散乱や異方性光学干渉機能等をもつ
輝度向上膜、反射板、半透過機能を持つ反射板等があげ
られる。
【0079】偏光板保護膜としては、上に述べた好まし
い保護膜を一枚、または複数枚積層して用いることがで
きる。偏光膜の両面に同じ保護膜を貼合しても良いし、
両面に異なる機能、物性をもつ保護膜をそれぞれ貼合し
ても良い。また、片面のみに上記保護膜を貼合し、反対
面には直接液晶セルを貼合するために、粘着剤層を直接
設けて保護膜を貼合しないことも可能である。この場合
粘着剤の外側には、剥離可能なセパレータフィルムを設
けることが好ましい。
い保護膜を一枚、または複数枚積層して用いることがで
きる。偏光膜の両面に同じ保護膜を貼合しても良いし、
両面に異なる機能、物性をもつ保護膜をそれぞれ貼合し
ても良い。また、片面のみに上記保護膜を貼合し、反対
面には直接液晶セルを貼合するために、粘着剤層を直接
設けて保護膜を貼合しないことも可能である。この場合
粘着剤の外側には、剥離可能なセパレータフィルムを設
けることが好ましい。
【0080】保護膜は、通常、ロール形態で供給され、
長尺の偏光板に対して、長手方向が一致するようにして
連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、保護
膜の配向軸(遅相軸)は何れの方向であってもよく、操
作上の簡便性から、保護膜の配向軸は、長手方向に平行
であることが好ましい。
長尺の偏光板に対して、長手方向が一致するようにして
連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、保護
膜の配向軸(遅相軸)は何れの方向であってもよく、操
作上の簡便性から、保護膜の配向軸は、長手方向に平行
であることが好ましい。
【0081】また、保護膜の遅相軸(配向軸)と偏光膜
の吸収軸(延伸軸)の角度も特に限定的でなく、偏光板
の目的に応じて適宜設定できる。本発明の長尺の偏光板
は、吸収軸が長手方向に平行でないため、配向軸が長手
方向に平行である保護膜を本発明の長尺偏光板に連続し
て貼り合わせる場合には、偏光膜の吸収軸と保護膜の配
向軸とが平行でない偏光板が得られる。偏光膜の吸収軸
と保護膜の配向軸が平行でない角度で貼り合わされてい
る偏光板は、寸度安定性に優れるという効果がある。こ
の性能は、特に液晶表示装置に用いたときに好ましく発
揮される。特に、保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸とが
なす角度が、好ましくは10°以上90°未満、より好
ましくは40°以上50°未満において、寸度安定効果
が効果的に発揮される。
の吸収軸(延伸軸)の角度も特に限定的でなく、偏光板
の目的に応じて適宜設定できる。本発明の長尺の偏光板
は、吸収軸が長手方向に平行でないため、配向軸が長手
方向に平行である保護膜を本発明の長尺偏光板に連続し
て貼り合わせる場合には、偏光膜の吸収軸と保護膜の配
向軸とが平行でない偏光板が得られる。偏光膜の吸収軸
と保護膜の配向軸が平行でない角度で貼り合わされてい
る偏光板は、寸度安定性に優れるという効果がある。こ
の性能は、特に液晶表示装置に用いたときに好ましく発
揮される。特に、保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸とが
なす角度が、好ましくは10°以上90°未満、より好
ましくは40°以上50°未満において、寸度安定効果
が効果的に発揮される。
【0082】<接着剤>偏光膜と保護層との接着剤は特
に限定されないが、PVA系樹脂(アセトアセチル基、
スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等
の変性PVAを含む)やホウ素化合物水溶液等が挙げら
れ、中でもPVA樹脂が好ましい。PVA樹脂にホウ素
化合物、ヨウ化カリウム水溶液等を添加して用いてもよ
い。接着剤層厚みは乾燥後に0.01乃至10μmが好
ましく、0.05乃至5μmが特に好ましい。
に限定されないが、PVA系樹脂(アセトアセチル基、
スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等
の変性PVAを含む)やホウ素化合物水溶液等が挙げら
れ、中でもPVA樹脂が好ましい。PVA樹脂にホウ素
化合物、ヨウ化カリウム水溶液等を添加して用いてもよ
い。接着剤層厚みは乾燥後に0.01乃至10μmが好
ましく、0.05乃至5μmが特に好ましい。
【0083】<粘着層>本発明の偏光板には他の液晶表
示装置部材との貼り合わせ用の粘着層を設けても良い。
粘着層の表面に剥離フィルムを設けることが好ましい。
粘着層は、光学的に透明であることはもとより、適度な
粘弾性や粘着特性を示すものである。本発明における粘
着層としては、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系
樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエー
テル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニ
ルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘
着剤等のポリマーを用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬
化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化せ
しめることができる。就中アクリル系共重合体において
最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性や耐
久性などに優れて好ましく用いうる。
示装置部材との貼り合わせ用の粘着層を設けても良い。
粘着層の表面に剥離フィルムを設けることが好ましい。
粘着層は、光学的に透明であることはもとより、適度な
粘弾性や粘着特性を示すものである。本発明における粘
着層としては、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系
樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエー
テル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニ
ルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘
着剤等のポリマーを用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬
化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化せ
しめることができる。就中アクリル系共重合体において
最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性や耐
久性などに優れて好ましく用いうる。
【0084】<打ち抜き>図7に従来の偏光板打ち抜き
の例を、図8に本発明の偏光板打ち抜きする例を示す。
従来の偏光板は、図7に示されるように、偏光の吸収軸
71すなわち延伸軸が長手方向72と一致しているのに
対し、本発明の偏光板は、図8に示されるように、偏光
の吸収軸81すなわち延伸軸が長手方向82に対して4
5゜傾斜しており、この角度がLCDにおける液晶セル
に貼り合わせる際の偏光板の吸収軸と、液晶セル自身の
縦または横方向とのなす角度に一致しているため、打ち
抜き工程において斜めの打ち抜きは不要となる。しかも
図8からわかるように、本発明の偏光板は切断が長手方
向に沿って一直線であるため、打ち抜かず長手方向に沿
ってスリットすることによっても製造可能であるため、
生産性も格段に優れている。
の例を、図8に本発明の偏光板打ち抜きする例を示す。
従来の偏光板は、図7に示されるように、偏光の吸収軸
71すなわち延伸軸が長手方向72と一致しているのに
対し、本発明の偏光板は、図8に示されるように、偏光
の吸収軸81すなわち延伸軸が長手方向82に対して4
5゜傾斜しており、この角度がLCDにおける液晶セル
に貼り合わせる際の偏光板の吸収軸と、液晶セル自身の
縦または横方向とのなす角度に一致しているため、打ち
抜き工程において斜めの打ち抜きは不要となる。しかも
図8からわかるように、本発明の偏光板は切断が長手方
向に沿って一直線であるため、打ち抜かず長手方向に沿
ってスリットすることによっても製造可能であるため、
生産性も格段に優れている。
【0085】<用途など>本発明の偏光板は、各種用途
に用いられる。偏光板を構成する偏光膜は、長手方向に
対し配向軸が傾いている特性より、特に、配向軸の傾斜
角度が長手方向に対し40〜50゜である偏光膜は、L
CD用偏光板(例えばTN、STN、OCB、ROC
B、ECB、CPA、IPS、VAなどのあらゆる液晶
モードにおいて)、有機ELディスプレイの反射防止用
円偏光板等に好ましく用いられる。また、上記偏光膜は
各種光学部材、例えばλ/4板、λ/2板などの位相差
フィルム、視野角拡大フィルム、防眩性フィルム、ハー
ドコートフィルムなどと組み合わせて用いる場合にも適
している。
に用いられる。偏光板を構成する偏光膜は、長手方向に
対し配向軸が傾いている特性より、特に、配向軸の傾斜
角度が長手方向に対し40〜50゜である偏光膜は、L
CD用偏光板(例えばTN、STN、OCB、ROC
B、ECB、CPA、IPS、VAなどのあらゆる液晶
モードにおいて)、有機ELディスプレイの反射防止用
円偏光板等に好ましく用いられる。また、上記偏光膜は
各種光学部材、例えばλ/4板、λ/2板などの位相差
フィルム、視野角拡大フィルム、防眩性フィルム、ハー
ドコートフィルムなどと組み合わせて用いる場合にも適
している。
【0086】
【実施例】本発明を詳細に説明するために、以下に実施
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
【0087】[実施例1]PVAフィルムの両面を水流
2.0L/分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブロ
ーして表面水分を飛ばして異物を除去した。該PVAフ
ィルムを透過型光学顕微鏡にて観察したところ、異物は
認められなかった。該PVAフィルムをヨウ素5.0g
/l、ヨウ化カリウム10.0g/lの水溶液に25℃
にて90秒浸漬し、さらにホウ酸10g/lの水溶液に
25℃にて60秒浸漬後、図1の形態のテンター延伸機
に導入し、7.0倍に一旦延伸した後5.3倍まで収縮
させ、以降幅を一定に保ち、70℃で乾燥した後テンタ
ーより離脱し、偏光膜を得た。延伸開始前のPVAフィ
ルムの含水率は31%で、乾燥後の含水率は1.1%で
あった。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.
05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工
程に送られるフィルムの中心線のなす角は、0゜であっ
た。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mで
あり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出
口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。さ
らに、得られた偏光膜の片側にPVA((株)クラレ製
PVA−117H)3%水溶液を接着剤としてケン化処
理した富士写真フィルム(株)製フジタック(セルロー
ストリアセテート、レターデーション値3.0nm)を
貼り合わせ、さらに80℃で後加熱して片面が保護膜で
覆われた有効幅650mmの偏光板を得た。以上の偏光
板を作製するための各工程は、クリーン度10000相
当のクリーンな一貫工程で作成された。得られた偏光板
の吸収軸方向は、長手方向に対し45゜傾斜しており、
フジタックの遅相軸とも45°傾斜していた。この偏光
板の550nmにおける透過率は43.1%、偏光度は
99.93%であった。また、最大長が5μmを超え5
0μm以下の欠陥は64個であり、最大長が50μmを
超え100μm以下の欠陥が7個であり、最大長100
μmを越える欠陥は0個であった。
2.0L/分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブロ
ーして表面水分を飛ばして異物を除去した。該PVAフ
ィルムを透過型光学顕微鏡にて観察したところ、異物は
認められなかった。該PVAフィルムをヨウ素5.0g
/l、ヨウ化カリウム10.0g/lの水溶液に25℃
にて90秒浸漬し、さらにホウ酸10g/lの水溶液に
25℃にて60秒浸漬後、図1の形態のテンター延伸機
に導入し、7.0倍に一旦延伸した後5.3倍まで収縮
させ、以降幅を一定に保ち、70℃で乾燥した後テンタ
ーより離脱し、偏光膜を得た。延伸開始前のPVAフィ
ルムの含水率は31%で、乾燥後の含水率は1.1%で
あった。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.
05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工
程に送られるフィルムの中心線のなす角は、0゜であっ
た。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mで
あり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出
口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。さ
らに、得られた偏光膜の片側にPVA((株)クラレ製
PVA−117H)3%水溶液を接着剤としてケン化処
理した富士写真フィルム(株)製フジタック(セルロー
ストリアセテート、レターデーション値3.0nm)を
貼り合わせ、さらに80℃で後加熱して片面が保護膜で
覆われた有効幅650mmの偏光板を得た。以上の偏光
板を作製するための各工程は、クリーン度10000相
当のクリーンな一貫工程で作成された。得られた偏光板
の吸収軸方向は、長手方向に対し45゜傾斜しており、
フジタックの遅相軸とも45°傾斜していた。この偏光
板の550nmにおける透過率は43.1%、偏光度は
99.93%であった。また、最大長が5μmを超え5
0μm以下の欠陥は64個であり、最大長が50μmを
超え100μm以下の欠陥が7個であり、最大長100
μmを越える欠陥は0個であった。
【0088】(欠陥の評価方法)本発明における欠陥の
評価は、偏光顕微鏡を用いて行った。即ち、作成した偏
光板を3cm×3cmサイズにカットし、該顕微鏡の試
料ステージ上に載せて100倍のレンズにより1cm×
1cm四方の範囲を観察した。該領域をクロスニコル状
態で観察し、確認された欠陥は一度画像で取りこんだ
後、ディスプレイ画面上で最大長を測定した。以上の測
定をロール形態偏光板の長手方向、幅方向から均等に1
0箇所以上行い、それぞれの最大長での個数の平均値を
最終的な欠陥の個数とした。
評価は、偏光顕微鏡を用いて行った。即ち、作成した偏
光板を3cm×3cmサイズにカットし、該顕微鏡の試
料ステージ上に載せて100倍のレンズにより1cm×
1cm四方の範囲を観察した。該領域をクロスニコル状
態で観察し、確認された欠陥は一度画像で取りこんだ
後、ディスプレイ画面上で最大長を測定した。以上の測
定をロール形態偏光板の長手方向、幅方向から均等に1
0箇所以上行い、それぞれの最大長での個数の平均値を
最終的な欠陥の個数とした。
【0089】(550nm透過率、偏光度の測定)島津
自記分光光度計UV2100にて透過率を測定した。さ
らに2枚の偏光板を吸収軸を一致させて重ねた場合の透
過率をH0(%)、吸収軸を直交させて重ねた場合の透
過率をH1(%)として、次式により偏光度P(%)を
求めた。 P=〔(H0−H1)/(H0+H1)〕1/2×100
自記分光光度計UV2100にて透過率を測定した。さ
らに2枚の偏光板を吸収軸を一致させて重ねた場合の透
過率をH0(%)、吸収軸を直交させて重ねた場合の透
過率をH1(%)として、次式により偏光度P(%)を
求めた。 P=〔(H0−H1)/(H0+H1)〕1/2×100
【0090】[実施例2]PVAフィルムの両面を水流
2.0L/分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブロ
ーして表面水分を飛ばして異物を除去した後、該PVA
フィルムをヨウ素5.0g/l、ヨウ化カリウム10.
0g/lの水溶液に25℃にて90秒浸漬し、さらにホ
ウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、図
1の形態のテンター延伸機に導入し、7.0倍に一旦延
伸した後5.3倍まで収縮させ、以降幅を一定に保ち、
70℃で乾燥した後テンターより離脱し、偏光膜を得
た。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は30%で、
乾燥後の含水率は1.3%であった。その後、実施例1
と同様にして、保護膜の貼り合わせまでの工程を一貫し
たラインで製造し、片面が保護膜で覆われた有効幅65
0mmの偏光板を得た。以上の偏光板を作製するための
各工程は、クリーン度1000相当のクリーンな一貫工
程で行われた。左右のテンタークリップの搬送速度差
は、0.05%未満であり、導入されるフィルムの中心
線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、0
゜であった。ここで、|L1−L2|は0.7m、Wは
0.7mであり、|L1−L2|=Wの関係にあった。
テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されな
かった。さらに、偏光膜のもう一方の側にPVA
((株)クラレ製PVA−117H)3%、ヨウ化カリ
ウム4%からなる水溶液を接着剤としてケン化処理した
富士写真フィルム(株)製フジタック(セルローストリ
アセテート、レターデーション値3.0nm)を貼り合
わせ、さらに80℃で後加熱して両面が保護膜で覆われ
た有効幅650mmの偏光板を得た。この工程もクリー
ン度1000相当のクリーンな雰囲気で行った。得られ
た偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し45゜傾斜し
ていた。この偏光板の550nmにおける透過率は4
2.7%、偏光度は99.91%であった。また、最大
長が5μmを超え50μm以上の欠陥は52個であり、
最大長が50μmを超え100μm以下の欠陥が5個で
あり、最大長100μmを越える欠陥は0個であった。
2.0L/分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブロ
ーして表面水分を飛ばして異物を除去した後、該PVA
フィルムをヨウ素5.0g/l、ヨウ化カリウム10.
0g/lの水溶液に25℃にて90秒浸漬し、さらにホ
ウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、図
1の形態のテンター延伸機に導入し、7.0倍に一旦延
伸した後5.3倍まで収縮させ、以降幅を一定に保ち、
70℃で乾燥した後テンターより離脱し、偏光膜を得
た。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は30%で、
乾燥後の含水率は1.3%であった。その後、実施例1
と同様にして、保護膜の貼り合わせまでの工程を一貫し
たラインで製造し、片面が保護膜で覆われた有効幅65
0mmの偏光板を得た。以上の偏光板を作製するための
各工程は、クリーン度1000相当のクリーンな一貫工
程で行われた。左右のテンタークリップの搬送速度差
は、0.05%未満であり、導入されるフィルムの中心
線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、0
゜であった。ここで、|L1−L2|は0.7m、Wは
0.7mであり、|L1−L2|=Wの関係にあった。
テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されな
かった。さらに、偏光膜のもう一方の側にPVA
((株)クラレ製PVA−117H)3%、ヨウ化カリ
ウム4%からなる水溶液を接着剤としてケン化処理した
富士写真フィルム(株)製フジタック(セルローストリ
アセテート、レターデーション値3.0nm)を貼り合
わせ、さらに80℃で後加熱して両面が保護膜で覆われ
た有効幅650mmの偏光板を得た。この工程もクリー
ン度1000相当のクリーンな雰囲気で行った。得られ
た偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し45゜傾斜し
ていた。この偏光板の550nmにおける透過率は4
2.7%、偏光度は99.91%であった。また、最大
長が5μmを超え50μm以上の欠陥は52個であり、
最大長が50μmを超え100μm以下の欠陥が5個で
あり、最大長100μmを越える欠陥は0個であった。
【0091】[実施例3]PVAフィルムの両面を水流
2.0L/分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブロ
ーして表面水分を飛ばして異物を除去した後、該PVA
フィルムをホウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60
秒浸漬後、図1の形態のテンター延伸機に導入し、7.
0倍に一旦延伸した後5.3倍まで収縮させ、以降幅を
一定に保ち、70℃で乾燥した後テンターより離脱し、
偏光膜を得た。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は
33%で、乾燥後の含水率は1.2%であった。その
後、実施例1と同様にして、保護膜の貼り合わせまでの
工程を一貫したラインで製造し片面が保護膜で覆われた
偏光板を作成した。該偏光板はクリーン度100相当の
クリーンな一貫工程で作成された。左右のテンタークリ
ップの搬送速度差は、0.05%未満であり、導入され
るフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心
線のなす角は、0゜であった。ここで|L1−L2|は
0.7m、Wは0.7mであり、|L1−L2|=Wの
関係にあった。テンター出口におけるシワ、フィルム変
形は観察されなかった。さらに、偏光膜のもう一方の側
にPVA((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶
液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム
(株)製フジタック(セルローストリアセテート、レタ
ーデーション値3.0nm)と貼り合わせ、さらに80
℃で後加熱して両面が保護膜で覆われた有効幅650m
mの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長
手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板の550
nmにおける透過率は43.4%、偏光度は99.97
%であった。また、最大長5〜50μmの欠陥は20個
であり、最大長50〜100μmの欠陥が2個であり、
最大長100μmを越える欠陥は0個であった。
2.0L/分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブロ
ーして表面水分を飛ばして異物を除去した後、該PVA
フィルムをホウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60
秒浸漬後、図1の形態のテンター延伸機に導入し、7.
0倍に一旦延伸した後5.3倍まで収縮させ、以降幅を
一定に保ち、70℃で乾燥した後テンターより離脱し、
偏光膜を得た。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は
33%で、乾燥後の含水率は1.2%であった。その
後、実施例1と同様にして、保護膜の貼り合わせまでの
工程を一貫したラインで製造し片面が保護膜で覆われた
偏光板を作成した。該偏光板はクリーン度100相当の
クリーンな一貫工程で作成された。左右のテンタークリ
ップの搬送速度差は、0.05%未満であり、導入され
るフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心
線のなす角は、0゜であった。ここで|L1−L2|は
0.7m、Wは0.7mであり、|L1−L2|=Wの
関係にあった。テンター出口におけるシワ、フィルム変
形は観察されなかった。さらに、偏光膜のもう一方の側
にPVA((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶
液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム
(株)製フジタック(セルローストリアセテート、レタ
ーデーション値3.0nm)と貼り合わせ、さらに80
℃で後加熱して両面が保護膜で覆われた有効幅650m
mの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長
手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板の550
nmにおける透過率は43.4%、偏光度は99.97
%であった。また、最大長5〜50μmの欠陥は20個
であり、最大長50〜100μmの欠陥が2個であり、
最大長100μmを越える欠陥は0個であった。
【0092】[実施例4:液晶表示装置の作成]次に図
9のように、実施例3で作成したヨウ素系偏光板91、
92をLCDの液晶セル93を挟持する2枚の偏光板と
して、偏光板91を表示側偏光板として、接着剤を介し
て液晶セル93に貼合してLCDを作成した。こうして
作成したLCDは優れた輝度、視野角特性、視認性を示
し、40℃、30%RHで1ヶ月間の使用によっても表
示品位の劣化は見られなかった。
9のように、実施例3で作成したヨウ素系偏光板91、
92をLCDの液晶セル93を挟持する2枚の偏光板と
して、偏光板91を表示側偏光板として、接着剤を介し
て液晶セル93に貼合してLCDを作成した。こうして
作成したLCDは優れた輝度、視野角特性、視認性を示
し、40℃、30%RHで1ヶ月間の使用によっても表
示品位の劣化は見られなかった。
【0093】[比較例1]PVAフィルムの両面を水流
2.0L/分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブロ
ーして表面水分を飛ばして異物を除去した後、該PVA
フィルムをヨウ素5.0g/l、ヨウ化カリウム10.
0g/lの水溶液に25℃にて90秒浸漬し、さらにホ
ウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、図
1の形態のテンター延伸機に導入し、7.0倍に一旦延
伸した後5.3倍まで収縮させ、以降幅を一定に保ち、
70℃で乾燥した後テンターより離脱し、偏光膜を得
た。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は33%で、
乾燥後の含水率は1.2%であった。該偏光板はクリー
ン度100000を超える劣悪環境下に一貫工程で作成
された。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.
05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工
程に送られるフィルムの中心線のなす角は、0゜であっ
た。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mで
あり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出
口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。さ
らに、得られた偏光膜の一方の側にPVA((株)クラ
レ製PVA−117H)3%、ヨウ化カリウム4%から
なる水溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィ
ルム(株)製フジタック(セルローストリアセテート、
レターデーション値3.0nm)を貼り合わせ、さらに
80℃で後加熱して有効幅650mmの偏光板を得た。
得られた片面が保護膜で覆われた偏光板の吸収軸方向
は、長手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板の
550nmにおける透過率は42.7%、偏光度は9
8.35%であった。また、最大長5〜50μmの欠陥
は137個であり、最大長50〜100μmの欠陥が2
0個であり、最大長100μmを越える欠陥は2個であ
った。
2.0L/分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブロ
ーして表面水分を飛ばして異物を除去した後、該PVA
フィルムをヨウ素5.0g/l、ヨウ化カリウム10.
0g/lの水溶液に25℃にて90秒浸漬し、さらにホ
ウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、図
1の形態のテンター延伸機に導入し、7.0倍に一旦延
伸した後5.3倍まで収縮させ、以降幅を一定に保ち、
70℃で乾燥した後テンターより離脱し、偏光膜を得
た。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は33%で、
乾燥後の含水率は1.2%であった。該偏光板はクリー
ン度100000を超える劣悪環境下に一貫工程で作成
された。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.
05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工
程に送られるフィルムの中心線のなす角は、0゜であっ
た。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mで
あり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出
口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。さ
らに、得られた偏光膜の一方の側にPVA((株)クラ
レ製PVA−117H)3%、ヨウ化カリウム4%から
なる水溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィ
ルム(株)製フジタック(セルローストリアセテート、
レターデーション値3.0nm)を貼り合わせ、さらに
80℃で後加熱して有効幅650mmの偏光板を得た。
得られた片面が保護膜で覆われた偏光板の吸収軸方向
は、長手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板の
550nmにおける透過率は42.7%、偏光度は9
8.35%であった。また、最大長5〜50μmの欠陥
は137個であり、最大長50〜100μmの欠陥が2
0個であり、最大長100μmを越える欠陥は2個であ
った。
【0094】[比較例2]PVAフィルムの洗浄を行な
わなかった以外は比較例1と同様の条件でクリーン度1
00000を超える環境下、一貫工程で偏光膜を得て、
さらに比較例1と同様の条件で富士写真フィルム(株)
製フジタック(セルローストリアセテート、レターデー
ション値3.0nm)を貼り合わせ、さらに80℃で後
加熱して有効幅650mmの偏光板を得た。テンター出
口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかったが、
洗浄を行わなかったことに起因したムラが多数観察され
た。得られた片面が保護膜で覆われた偏光板の吸収軸方
向は、長手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板
の550nmにおける透過率は42.7%、偏光度は9
8.35%であった。また、最大長5〜50μmの欠陥
は243個であり、最大長50〜100μmの欠陥が3
7個であり、最大長100μmを越える欠陥は5個であ
った。
わなかった以外は比較例1と同様の条件でクリーン度1
00000を超える環境下、一貫工程で偏光膜を得て、
さらに比較例1と同様の条件で富士写真フィルム(株)
製フジタック(セルローストリアセテート、レターデー
ション値3.0nm)を貼り合わせ、さらに80℃で後
加熱して有効幅650mmの偏光板を得た。テンター出
口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかったが、
洗浄を行わなかったことに起因したムラが多数観察され
た。得られた片面が保護膜で覆われた偏光板の吸収軸方
向は、長手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板
の550nmにおける透過率は42.7%、偏光度は9
8.35%であった。また、最大長5〜50μmの欠陥
は243個であり、最大長50〜100μmの欠陥が3
7個であり、最大長100μmを越える欠陥は5個であ
った。
【0095】比較例1、2と実施例1、2との比較から
明らかなように、延伸、保護膜貼り合わせ、後加熱の工
程をクリーン度の高い雰囲気下一貫で行い、かつ延伸前
のフィルム表面の異物をなくすことで単位面積あたりの
欠陥が少ない偏光板を得ることができる。また実施例3
から、それらを併用して行なうことで、さらに単位面積
あたりの欠陥の個数が少ない偏光板を得ることができる
ことが明らかである。
明らかなように、延伸、保護膜貼り合わせ、後加熱の工
程をクリーン度の高い雰囲気下一貫で行い、かつ延伸前
のフィルム表面の異物をなくすことで単位面積あたりの
欠陥が少ない偏光板を得ることができる。また実施例3
から、それらを併用して行なうことで、さらに単位面積
あたりの欠陥の個数が少ない偏光板を得ることができる
ことが明らかである。
【0096】
【発明の効果】本発明によれば、偏光板打ち抜き工程で
得率を向上することを可能にする斜め延伸した偏光膜か
ら構成され、単位面積あたりの欠陥の個数が少なく高品
位で安価な長尺の偏光板が提供される。この偏光板を用
いて、優れた表示品位の液晶表示装置が安価に提供され
る。
得率を向上することを可能にする斜め延伸した偏光膜か
ら構成され、単位面積あたりの欠陥の個数が少なく高品
位で安価な長尺の偏光板が提供される。この偏光板を用
いて、優れた表示品位の液晶表示装置が安価に提供され
る。
【図1】ポリマーフィルムを斜め延伸する本発明の方法
の一例を示す概略平面図である。
の一例を示す概略平面図である。
【図2】ポリマーフィルムを斜め延伸する本発明の方法
の一例を示す概略平面図である。
の一例を示す概略平面図である。
【図3】ポリマーフィルムを斜め延伸する本発明の方法
の一例を示す概略平面図である。
の一例を示す概略平面図である。
【図4】ポリマーフィルムを斜め延伸する本発明の方法
の一例を示す概略平面図である。
の一例を示す概略平面図である。
【図5】ポリマーフィルムを斜め延伸する本発明の方法
の一例を示す概略平面図である。
の一例を示す概略平面図である。
【図6】ポリマーフィルムを斜め延伸する本発明の方法
の一例を示す概略平面図である。
の一例を示す概略平面図である。
【図7】従来の偏光板を打ち抜く様子を示す概略平面図
である。
である。
【図8】本発明の偏光板を打ち抜く様子を示す概略平面
図である。
図である。
【図9】実施例4の液晶表示装置の層構成を示す概略平
面図である。
面図である。
【図10】エアーブロー装置の模式図を示す。
【図11】ニップ装置の模式図を示す。
【図12】ブレード装置の模式図を示す。
(イ) フィルム導入方向
(ロ) 次工程へのフィルム搬送方向
(a) フィルムを導入する工程
(b) フィルムを延伸する工程
(c) 延伸フィルムを次工程へ送る工程
A1 フィルムの保持手段への噛み込み位置とフィルム
延伸の起点位置(実質保持開始点:右) B1 フィルムの保持手段への噛み込み位置(左) C1 フィルム延伸の起点位置(実質保持開始点:左) Cx フィルム離脱位置とフィルム延伸の終点基準位置
(実質保持解除点:左) Ay フィルム延伸の終点基準位置(実質保持解除点:
右) |L1−L2| 左右のフィルム保持手段の行程差 W フィルムの延伸工程終端における実質幅 θ 延伸方向とフィルム進行方向のなす角 11 導入側フィルムの中央線 12 次工程に送られるフィルムの中央線 13 フィルム保持手段の軌跡(左) 14 フィルム保持手段の軌跡(右) 15 導入側フィルム 16 次工程に送られるフィルム 17、17’ 左右のフィルム保持開始(噛み込み)点 18、18’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点 21 導入側フィルムの中央線 22 次工程に送られるフィルムの中央線 23 フィルム保持手段の軌跡(左) 24 フィルム保持手段の軌跡(右) 25 導入側フィルム 26 次工程に送られるフィルム 27、27’ 左右のフィルム保持開始(噛み込み)点 28、28’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点 33,43,53,63 フィルム保持手段の軌跡
(左) 34,44,54,64 フィルム保持手段の軌跡
(右) 35,45,55,65 導入側フィルム 36,46,56,66 次工程に送られるフィルム 71 吸収軸(延伸軸) 72 長手方向 81 吸収軸(延伸軸) 82 長手方向 91、92 ヨウ素系偏光板 93 液晶セル 94 バックライト 101 エアーブロー装置 111 ニップ装置 121 ブレード装置
延伸の起点位置(実質保持開始点:右) B1 フィルムの保持手段への噛み込み位置(左) C1 フィルム延伸の起点位置(実質保持開始点:左) Cx フィルム離脱位置とフィルム延伸の終点基準位置
(実質保持解除点:左) Ay フィルム延伸の終点基準位置(実質保持解除点:
右) |L1−L2| 左右のフィルム保持手段の行程差 W フィルムの延伸工程終端における実質幅 θ 延伸方向とフィルム進行方向のなす角 11 導入側フィルムの中央線 12 次工程に送られるフィルムの中央線 13 フィルム保持手段の軌跡(左) 14 フィルム保持手段の軌跡(右) 15 導入側フィルム 16 次工程に送られるフィルム 17、17’ 左右のフィルム保持開始(噛み込み)点 18、18’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点 21 導入側フィルムの中央線 22 次工程に送られるフィルムの中央線 23 フィルム保持手段の軌跡(左) 24 フィルム保持手段の軌跡(右) 25 導入側フィルム 26 次工程に送られるフィルム 27、27’ 左右のフィルム保持開始(噛み込み)点 28、28’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点 33,43,53,63 フィルム保持手段の軌跡
(左) 34,44,54,64 フィルム保持手段の軌跡
(右) 35,45,55,65 導入側フィルム 36,46,56,66 次工程に送られるフィルム 71 吸収軸(延伸軸) 72 長手方向 81 吸収軸(延伸軸) 82 長手方向 91、92 ヨウ素系偏光板 93 液晶セル 94 バックライト 101 エアーブロー装置 111 ニップ装置 121 ブレード装置
フロントページの続き
(72)発明者 白土 健太郎
神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真
フイルム株式会社内
Fターム(参考) 2H049 BA02 BA07 BA26 BA27 BB13
BB33 BB43 BB51 BC03 BC13
BC14 BC22
2H091 FA08X FA08Y FB02 FB11
FC07 LA30
Claims (5)
- 【請求項1】 偏光能を持つ偏光膜を少なくとも有する
長尺の偏光板であって、(a)偏光膜の吸収軸が長手方
向に平行でも垂直でもなく、(b)偏光度が550nm
で80%以上であり、(c)単板透過率が550nmで
35%以上であり、(d)面積100mm2当たり、ク
ロスニコル状態で観察される最大長が5μmを超え50
μm以下の欠陥数が100個以下であり、最大長50μ
mを超え100μm以下の欠陥数が10個以下であり、
最大長100μmを越える欠陥数が実質0個である、こ
とを特徴とする偏光板。 - 【請求項2】 偏光膜の少なくとも片面が透明保護膜で
保護されており、保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸とが
なす角度が10°以上90°未満であることを特徴とす
る偏光板。 - 【請求項3】 連続的に供給される偏光膜用ポリマーフ
ィルムの両端を保持手段により保持し、該保持手段をフ
ィルムの長手方向に進行させつつ張力を付与して延伸す
ることにより偏光膜を形成する工程および形成された偏
光膜に保護膜貼り合わせる工程を含む請求項1または2
に記載の偏光板を製造する方法であって、 上記偏光膜を形成する工程が、(i)偏光膜用ポリマー
フィルムの一方端の実質的な保持開始点から実質的な保
持解除点までの保持手段の軌跡L1及びポリマーフィル
ムのもう一端の実質的な保持開始点から実質的な保持解
除点までの保持手段の軌跡L2と、二つの実質的な保持
解除点の距離Wが、下記式(1)を満たしつつ、ポリマ
ーフィルムの支持性を保ち、揮発分率が5%以上の状態
を存在させて延伸する工程、および(ii)その後収縮さ
せ揮発分率を低下させて偏光膜を形成する工程、を含
み、上記偏光膜に保護膜貼り合わせる工程が、(iii)
形成された偏光膜の少なくとも片面に保護膜を貼り合わ
せる工程、および(iv)その後、後加熱する工程、を含
み、そして上記(i)〜(iv)の工程をクリーン度10
000以下に保たれた環境下で行うことを特徴とする偏
光板の製造方法。 式(1):|L2−L1|>0.4W - 【請求項4】 偏光板用ポリマーフィルムの表面に付着
している異物の数を面積100mm2当たり実質0個に
した後、該ポリマーフィルムを偏光膜を形成する工程に
供給することを特徴とする請求項3に記載の偏光板の製
造方法。 - 【請求項5】 請求項1または2に記載の偏光板を、液
晶セルの両側に配置された偏光板のうち少なくとも一枚
に用いることを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002003775A JP2003207622A (ja) | 2002-01-10 | 2002-01-10 | 偏光板、その製造方法および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002003775A JP2003207622A (ja) | 2002-01-10 | 2002-01-10 | 偏光板、その製造方法および液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003207622A true JP2003207622A (ja) | 2003-07-25 |
Family
ID=27643280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002003775A Pending JP2003207622A (ja) | 2002-01-10 | 2002-01-10 | 偏光板、その製造方法および液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003207622A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008076872A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法、偏光板、および画像表示装置 |
US7671937B2 (en) | 2005-04-26 | 2010-03-02 | Teijin Limited | Polarizing plate |
JP2011128654A (ja) * | 2011-03-17 | 2011-06-30 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法、偏光板、および画像表示装置 |
-
2002
- 2002-01-10 JP JP2002003775A patent/JP2003207622A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7671937B2 (en) | 2005-04-26 | 2010-03-02 | Teijin Limited | Polarizing plate |
JP2008076872A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法、偏光板、および画像表示装置 |
JP2011128654A (ja) * | 2011-03-17 | 2011-06-30 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法、偏光板、および画像表示装置 |
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