JP2003205428A5 - - Google Patents

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Claims (10)

  1. 被加工物を着脱自在に保持する保持部と、
    前記保持部で保持した被加工物に近接自在な加工電極と、
    前記保持部で保持した被加工物に給電する給電電極と、
    加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に流体を供給する流体供給部と、
    前記加工電極と前記給電電極との間に電圧を印加する電源と、
    前記保持部で保持した被加工物と前記加工電極とを互いに対向させた状態で相対運動させる駆動部と、
    前記駆動部を数値制御する数値制御部を有することを特徴とする電解加工装置。
  2. 被加工物と前記加工電極との間または被加工物と前記給電電極との間の少なくとも一方にイオン交換体を配置することを特徴とする請求項1記載の電解加工装置。
  3. 前記加工電極と前記給電電極との間に一定電流または一定電圧を供給することを特徴とする請求項1または2記載の電解加工装置。
  4. 前記数値制御部は、前記駆動部により前記保持部で保持した被加工物と前記加工電極との相対運動速度を数値制御することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電解加工装置。
  5. 前記数値制御部は、前記駆動部により前記保持部で保持した被加工物と前記加工電極との相対的なステップ走査における停止時間を数値制御することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電解加工装置。
  6. 保持部で保持した被加工物に給電電極により給電しながら加工電極を近接させ、
    加工物と前記加工電極または前記給電電極の少なくとも一方との間に流体を供給し、
    前記加工電極と前記給電電極との間に電圧を印加しつつ、
    前記保持部で保持した被加工物と前記加工電極とを互いに対向させた状態で数値制御部で数値制御しつつ相対運動させることを特徴とする電解加工方法。
  7. 被加工物と前記加工電極との間または被加工物と前記給電電極との間の少なくとも一方にはイオン交換体が配置されていることを特徴とする請求項6記載の電解加工方法。
  8. 前記加工電極と前記給電電極との間に一定電流または一定電圧を供給することを特徴とする請求項6または7記載の電解加工方法。
  9. 加工開始前または加工進行中における少なくとも一方の被加工物の形状を計測し、
    その計測形状と目的加工形状の座標データを前記数値制御部に入力し、
    両形状の座標差に応じて前記保持部で保持した被加工物と前記加工電極との相対運動速度を数値制御することを特徴とする請求項6乃至8のいずれかに記載の電解加工方法。
  10. 加工開始前または加工進行中における少なくとも一方の被加工物の形状を計測し、
    その計測形状と目的加工形状の座標データを前記数値制御部に入力し、
    両形状の座標差に応じて前記保持部で保持した被加工物と前記加工電極との相対的なステップ走査における停止時間を数値制御することを特徴とする請求項6乃至8のいずれかに記載の電解加工方法。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050051432A1 (en) * 2001-12-13 2005-03-10 Mitsuhiko Shirakashi Electrolytic processing apparatus and method
DE102006062031B3 (de) * 2006-12-29 2008-06-19 Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale System zum Antreiben und Steuern einer bewegbaren Elektrodenanordnung in einer elektro-chemischen Prozessanlage
DE102006062037B4 (de) * 2006-12-29 2013-10-31 Advanced Micro Devices, Inc. Verfahren zum Steuern eines elektrochemischen Ätzprozesses und System mit einer elektrochemischen Ätzanlage
MD3808G2 (ro) * 2007-05-25 2009-08-31 Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы Instalaţie de prelucrare electrică a metalelor
CN104400156B (zh) * 2014-09-12 2017-10-10 南京航空航天大学 非圆截面电解切割电极及其装置
CN106191946B (zh) * 2016-08-08 2018-10-09 江苏大学 一种多电位吸液电沉积3d打印的装置和方法
CN108385158A (zh) * 2018-03-16 2018-08-10 江西宏业铜箔有限公司 一种高延低峰值超薄铜箔的光面微蚀处理工艺及设备
TWI720548B (zh) * 2019-07-17 2021-03-01 逢甲大學 變脈寬定電流控制之電化學加工方法及其裝置
TWI742663B (zh) * 2020-05-15 2021-10-11 國立臺灣師範大學 電解加工設備及其方法
US20230390887A1 (en) * 2022-06-06 2023-12-07 Applied Materials, Inc. Face-up wafer electrochemical planarization apparatus

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5149405A (en) * 1991-05-28 1992-09-22 Lehr Precision Inc. Four-axis ECM machine and method of operation
JP3837783B2 (ja) * 1996-08-12 2006-10-25 森 勇蔵 超純水中の水酸基による加工方法
DE69940611D1 (de) * 1998-12-07 2009-04-30 Yuzo Mori Bearbeitungs-/reinigungsverfahren mit hilfe von hydroxyd-ionen in ultrareinem wasser
JP2001064799A (ja) * 1999-08-27 2001-03-13 Yuzo Mori 電解加工方法及び装置
JP4513145B2 (ja) * 1999-09-07 2010-07-28 ソニー株式会社 半導体装置の製造方法および研磨方法
JP4141114B2 (ja) * 2000-07-05 2008-08-27 株式会社荏原製作所 電解加工方法及び装置
US7101465B2 (en) * 2001-06-18 2006-09-05 Ebara Corporation Electrolytic processing device and substrate processing apparatus
JP4043234B2 (ja) * 2001-06-18 2008-02-06 株式会社荏原製作所 電解加工装置及び基板処理装置
US7638030B2 (en) * 2001-06-18 2009-12-29 Ebara Corporation Electrolytic processing apparatus and electrolytic processing method

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