JP2003195280A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】反射時の特性と透過時の特性との相反する調整
を容易にして、優れた半透過型の液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】液晶表示装置Ｂにおいて、ガラス基板２上
にストライプ状透明電極群３を形成し、透明電極群３上
にＣｒ膜４とＡｌ膜５との積層からなるストライプ状光
反射性金属層を被着する。これらの上に配向膜６を形成
する。一方のガラス基板１上にカラーフィルター７とオ
ーバーコート層８とストライプ状透明電極群９と配向膜
１０を形成している。これらガラス基板２とガラス基板
１とを液晶層１１を介してストライプ状透明電極群３、
９が直交するように貼り合わせる。そして、光反射性金
属層に対し画素の端部に対応して光透過部を設けて、こ
の光透過部にて透過モードとなし、さらに樹脂ブラック
レジストＳをカラーフィルタ７の周辺にカラーフィルタ
７の膜厚に比べて大きな膜厚にて形成して、カラーフィ
ルタ７を遮樹脂ブラックレジストＳの端部上に延在せし
めるよう成す。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は反射型（反射モー
ド）と透過型（透過モード）の双方の機能を有する液晶
表示装置に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】近年、液晶表示装置は小型もしくは中型
の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精
細のモニターにまで使用されている。とくに携帯情報端
末などのように屋外・屋内両方にわたって使用される機
器においては、外光が十分強い環境では表示装置の照明
手段として積極的に外光を利用し、外光が弱い環境では
バックライトを使用するという半透過型の液晶表示装置
が主流になっている。 【０００３】従来の半透過型液晶表示装置を図２に示
す。同図はこの液晶表示装置Ａの断面模式図である。 【０００４】液晶表示装置Ａによれば、１はコモン側の
ガラス基板、２はセグメント側のガラス基板であって、
ガラス基板２上に多数平行に配列したＩＴＯからなるス
トライプ状透明電極群３と、一定方向にラビングしたポ
リイミド樹脂からなる配向膜４とを順次形成している。 【０００５】また、ガラス基板１上にスパッタリングに
よりアルミニウム金属からなる光半透過層５を形成し、
この光半透過層５上にカラーフィルタ６とアクリル系樹
脂からなるオーバーコート層７と、多数平行に配列した
ＩＴＯからなるストライプ状透明電極群８とを形成し、
さらにストライプ状透明電極群８上に一定方向にラビン
グしたポリイミド樹脂からなる配向膜９を形成してい
る。 【０００６】そして、これらガラス基板２とガラス基板
１とをたとえば２００〜２６０°の角度でツイストされ
たカイラルネマチック液晶からなる液晶層１０を介し
て、双方のストライプ状透明電極群３、８が交差（直
交）するように、シール部材(図示せず)により貼り合わ
せる。また、図示していないが、両ガラス基板１、２間
には液晶層１０の厚みを一定にするためにスペーサを多
数個配している。 【０００７】さらにガラス基板２の外側に光散乱材１
１、ポリカーボネートからなる第１位相差板１２、第２
位相差板１３、ヨウ素系の偏光板１４とを順次積み重
ね、ガラス基板１の外側にポリカーボネートからなる第
３位相差板１５、ヨウ素系の偏光板１６とを順次積み重
ねている。これらの配設にあたっては、アクリル系の材
料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。 【０００８】上記構成の液晶表示装置Ａにおいては、太
陽光、蛍光灯などの外部照明による照射光は偏光板１４
と第２位相差板１３、第１位相差板１２、光散乱材１
１、ガラス基板２とを順次通過し、この入射光がストラ
イプ状透明電極群３と配向膜４と液晶層１０、さらに配
向膜９とストライプ状透明電極群８とオーバーコート層
７とカラーフィルタ６を通して光半透過層５に到達し、
ついで反射され、その反射光が入射時と逆の過程を経て
光出射される。また、バックライトの光は偏光板１６と
第３位相差板１５、ガラス基板１、光半透過層５、カラ
ーフィルタ６等を順次通過し、光出射される。 【０００９】このような構成の液晶表示装置Ａにおいて
は、光半透過層５としてアルミニウム、クロム、銀など
からなる薄膜あるいはアルミニウム合金、クロム合金、
銀合金からなる薄膜を用い、その厚みを通常５０〜５０
０Å、好適には１００〜４００Åにすることによって半
透過層としての機能を持たせている。 【００１０】あるいは金属薄膜に代えて誘電体ハーフミ
ラーにより半透過層を形成してもよい。すなわち、低屈
折率層と高屈折率層とを交互に順次積層構造にし、低屈
折率層としては、屈折率が１．３〜１．６のＳｉＯ₂、
ＡｌＦ₃、ＣａＦ₂、ＭｇＦ₂など、高屈折率層として
は、屈折率が２．０〜２．８のＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｓｒ
Ｏ ₃などで形成する構造である。いずれにしても、カラ
ーフィルタ６のＲＧＢに対し、各一画素内で均質な半透
過層を形成している。 【００１１】一方、液晶表示装置Ａにおいて、上記に示
した半透過層に対応するカラーフィルタ６については、
従来の透過型液晶装置と同様に、ＲＧＢ各一画素内にて
均一の厚みをもったカラーフィルタを形成し、そのカラ
ーフィルタの全体的な厚みや透過率、色度を調整するこ
とで、反射時と透過時の明るさ、色再現性のバランスを
とっている。 【００１２】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の半透過型液晶表示装置Ａによれば、ＲＧＢ各一画素
内で均質な半透過層を形成し、対応するカラーフィルタ
をＲＧＢ各一画素内で均一な厚みで形成した場合、次の
ような課題があった。 【００１３】すなわち、半透過膜をある反射率・透過率
の割合で形成し、反射時と透過時の明るさ・色再現性を
カラーフィルタによって調整しようとした場合、たとえ
ば反射時の明るさを上げるためにカラーフィルタの厚さ
を薄くする、あるいは透過率の高いカラーフィルタを用
いた場合に、透過時の色再現性が低くなり、あるいは透
過時の色再現性を良くするために色の濃いカラーフィル
タを用いた場合に、反射時の明るさが低下するという課
題があった。 【００１４】要するに、反射時の特性と透過時の特性が
相反するものであり、実際には反射時の特性あるいは透
過時の特性のいずれか一方を優先したり、双方の特性の
バランスをとったりすることで妥協しなければならなか
った。これらの課題は、透過時には光がカラーフィルタ
を１回しか通過しないのに対して、反射時には２回通過
することに起因している。 【００１５】 【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、基板上に透明導電層と光反射性金属層との積層体に
てストライプ状積層電極群を形成し、このストライプ状
積層電極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明
基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層
してなる他方部材とを、これらストライプ状積層電極群
とストライプ状透明電極群とが交差するようネマチック
液晶を介して貼り合わせて画素をマトリクス状に配列せ
しめた装置において、上記光反射性金属層に対し画素の
端部に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透
過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードと
なし、さらに他方部材に対し画素に対応してカラーフィ
ルタを配するとともに、遮光膜をこのカラーフィルタの
周辺にカラーフィルタの膜厚に比べて大きな膜厚にて形
成して、カラーフィルタを遮光膜の端部上に延在せしめ
るよう成したことを特徴とする。 【００１６】本発明によれば、光反射性金属層のうちＲ
ＧＢ各一画素内で透過時に利用される領域の金属層を取
り除くことでもって、スリットなどの光透過部を設け、
この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領
域にて反射モードとなし、これにより、半透過型の液晶
表示装置とする。 【００１７】そして、本発明においては、他方部材に対
し画素に対応してカラーフィルタを配し、さらに遮光膜
をＲＧＢ各一画素に対応するカラーフィルタの周辺に形
成するが、その際、遮光膜をカラーフィルタの膜厚に比
べて大きな膜厚にて形成し、カラーフィルタを遮光膜の
端部上に延在せしめるよう成したことで、次のような作
用効果を得ることができる。 【００１８】すなわち、反射モードに必要とされる反射
率・色再現性から光反射性金属層の光反射部面積とカラ
ーフィルタの各要素(色の濃さ・厚み)を設定した場合、
従来の半透過型液晶表示装置のカラーフィルタの構成に
よれば、光透過部にも同じ色の濃さ・厚みのカラーフィ
ルタが形成され、これによって透過モードにおいて色再
現性が悪くなっていた。しかしながら、本発明では画素
間に配する遮光膜を合成樹脂などからなるブラックレジ
ストにて、カラーフィルタに対し厚く形成し、そして、
カラーフィルタを遮光膜の端部にまで被着することで、
光透過部のカラーフィルタの平均膜厚が増大し、これに
よって色再現性の低下を抑え、その結果、鮮明な色調が
得られる。 【００１９】ちなみに、反射モード用カラーフィルター
の厚さを透過モード用カラーフィルターの厚さに比べて
薄くする技術が提案されているが（特開２００１−１６
６２８９号参照）、この技術によれば、カラーフィルタ
ー形成前に反射領域となる部分にあらかじめ透明層を形
成することで、その分、工程が増大するが、これに対す
る本発明では、画素間遮光膜となる樹脂ブラックレジス
トを形成する際に、次の工程で形成するカラーフィルタ
に比べ膜厚を厚くしておくだけでよく、これにより、工
程数の増大がなく、製造コストが低減される。 【００２０】 【発明の実施の形態】本発明を図面により説明する。図
１は本発明の半透過型液晶表示装置Ｂの断面模式図であ
る。 【００２１】液晶表示装置Ｂによれば、１はコモン側の
ガラス基板、２はセグメント側のガラス基板であって、
ガラス基板２上に多数平行に配列したＩＴＯからなる前
記透明導電層であるストライプ状透明電極群３を形成
し、この透明電極群３上にスパッタリングにより一様に
成膜したＣｒ膜４、Ａｌ膜５をフォトリソグラフィ工程
によって、画素間および透過領域部（光透過部）をパタ
ーニングして取り除くことで、Ｃｒ膜４とＡｌ膜５によ
る前記光反射性金属層を形成する。そして、この上に一
定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜６
を形成している。なお、Ｃｒ膜４はＩＴＯ層とＡｌ膜と
の接着性を高めるために介在させる。 【００２２】このような光反射性金属層の形成方法を図
３により説明する。このストライプ状光反射性金属層は
図３に示す如く、スパッタリングにより一様に成膜した
Ｃｒ膜４、Ａｌ膜５をフォトリソグラフィ工程によっ
て、画素間および光透過部をパターニングして取り除く
ことにより得られる。 【００２３】同図によれば、セグメント側ガラス基板２
(０．５ｍｍ厚)（同図にてGlassと表示する）上に多数
平行に配列したＩＴＯからなるストライプ状透明電極群
(セグメント電極)をフォトリソグラフィによって形成す
る。この工程は、従来周知のとおりであり、同図にて
「レジスト塗布」、「露光、現像」、「ＩＴＯエッチン
グ」、「レジスト剥離」として示す。 【００２４】ついでスパッタリングによりＣｒ膜(３５
０Å)、Ａｌ膜(１０００Å)を一様に成膜し、フォトリ
ソグラフィによって画素間および光透過部を同時にパタ
ーニングして取り除くことで、光透過部を設けた光反射
性金属層とした。これらの工程は図３に示すとおり、
「Ｃｒ、Ａｌ成膜」、「レジスト塗布」、「露光、現
像」、「Ａｌ，Ｃｒエッチング」、「レジスト剥離」と
して示す。 【００２５】以上のような工程を経ることで、一方部材
が得られ、他方部材については、下記のとおりである。
図１に加えて、さらに図４に示す要部の断面図にて構成
を詳述する。 【００２６】ガラス基板１(０．５ｍｍ厚)上にＲＧＢの
配列と平行になるようストライプ状に前記遮光膜である
画素間の樹脂ブラックレジストＳを形成し、カラーフィ
ルタ７(厚さ１μｍでＲＧＢ平均透過率５８．５％)も形
成する。これらはフォトリソグラフィによって形成し、
それらの上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層
８を被着形成し、この上に多数平行に配列したＩＴＯか
らなるストライプ状透明電極群９(コモン電極)をフォト
リソグラフィによって形成し、さらにストライプ状透明
電極群９上にポリイミド樹脂からなる配向膜１０を形成
して一定方向にラビングした。 【００２７】そして、これらガラス基板２とガラス基板
１とをたとえば２００〜２６０°（たとえば２４０°）
の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からな
る液晶層１１を介して、双方のストライプ状透明電極群
３、９が交差（直交）するように、シール部材(図示せ
ず)により貼り合わせる。また、図示していないが、両
ガラス基板１、２間には液晶層１１の厚みを一定にする
ためにスペーサを多数個配している。 【００２８】さらにガラス基板１の外側に光散乱材１
２、ポリカーボネートからなる第１位相差板１３、第２
位相差板１４、ヨウ素系の偏光板１５とを順次積み重
ね、ガラス基板２の外側にポリカーボネートからなる第
３位相差板１６、ヨウ素系の偏光板１７とを順次積み重
ねている。これらの配設にあたっては、アクリル系の材
料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。 【００２９】なお、前記光反射性金属層としてはＣｒ、
Ａｌの積層構造を設けたが、この積層構造に代えて、Ａ
ｌＮｄなどのＡｌ合金、ＡｇおよびＡｇ合金等の金属膜
を使用しても良い。 【００３０】そして、本発明の液晶表示装置Ｂについて
は、ＲＧＢ各一画素の端に透過時に利用される領域（光
透過部）となるスリットなどを設けて透過モードと成し
たが、さらに画素に対応するカラーフィルタ７を設ける
に当り、樹脂ブラックレジストＳの膜厚をカラーフィル
タ７の膜厚に対し厚くし、そして、カラーフィルタ７を
樹脂ブラックレジストＳの端部にまで被着した構成にし
ており、これにより、光透過部のカラーフィルタの平均
膜厚が増大し、色再現性の低下を抑えることができる。 【００３１】参考までに、図４に示す構造によれば、樹
脂ブラックレジストＳの膜厚をカラーフィルタ７の膜厚
に対し厚くして、さらにカラーフィルタ７を樹脂ブラッ
クレジストＳの端部にまで被着した構成であるが、この
ような構成に対する等価モデルを図５に示す。 【００３２】図４によれば、カラーフィルタ７を樹脂ブ
ラックレジストＳの端部に大きく盛り上げていること
で、光透過部の一部（樹脂ブラックレジストの周辺部）
のカラーフィルタ膜厚が増大し、これにより、図５に示
す如く、反射領域部のカラーフィルタの厚みに比べ、透
過領域部のカラーフィルタが大きな厚みで樹脂ブラック
レジストＳの周囲（透過領域部に対応）に配設された構
成に相当し、その結果、透過モードにおける色再現性の
低下が抑えられる。 【００３３】つぎに樹脂ブラックレジストＳの構成によ
る光透過部との関係を図６により述べる。同図はセグメ
ント側基板における光透過部の配置部位を示すととも
に、コモン側基板における樹脂ブラックレジストの配置
関係を光透過部との関係でもって示す。 【００３４】図６によれば、ガラス基板１上にＲＧＢの
各カラーフィルタを帯状に平行にストライプ配列した場
合であって、このような帯状カラーフィルタでは、各画
素は長方形になり、その長辺が帯に平行になる。よっ
て、画素ごとに設ける光透過部を画素長辺両サイドに配
置している。 【００３５】以下、図６に示す構成に対する具体例を述
べる。 【００３６】（例１）長辺Ｌ１が２３０μｍであり、短
辺Ｍ１を７０μｍにした一画素に対し、Ｍ２・Ｍ３をそ
れぞれ８．７５μｍにする。これにより、Ｍ２＋Ｍ３＝
１７．５μｍとなり、光透過部の一画素に対する面積比
を２５％にした。 【００３７】樹脂ブラックレジスト(ストライプ状)につ
いては、幅１０μｍ・厚さ２μｍで形成し、カラーフィ
ルタは幅７５μｍ・厚さ１μｍにて形成し、これによ
り、反射領域および透過領域の一部には１μｍの厚みの
カラーフィルタが形成され、その他の透過領域部分（樹
脂ブラックレジストの周辺部）には３μｍの厚みのカラ
ーフィルタが形成された。 【００３８】このような構成によれば、透過領域全体で
のカラーフィルタの厚みは平均すると、計算上１．２３
μｍになり、これにより、反射領域に比べカラーフィル
タを厚く形成したことに相当する。 【００３９】（例２）セグメント側基板は、例１と同じ
構成であるが、樹脂ブラックレジスト(ストライプ状)に
ついては、幅１０μｍ・厚さ３μｍで形成し、カラーフ
ィルタは幅７５μｍ・厚さ１μｍにて形成し、これによ
り、反射領域および透過領域の一部には１μｍの厚みの
カラーフィルタが形成され、その他の透過領域部分（樹
脂ブラックレジストの周辺部）には４μｍの厚みのカラ
ーフィルタが形成された。 【００４０】このような構成によれば、透過領域全体で
のカラーフィルタの厚みは平均すると、計算上１．３４
μｍになり、これにより、反射領域に比べカラーフィル
タを厚く形成したことに相当する。 【００４１】（比較例）セグメント側基板は、例１と同
じ構成であるが、樹脂ブラックレジスト(ストライプ状)
については、幅１０μｍ・厚さ１μｍで形成し、カラー
フィルタは幅７０μｍ・厚さ１μｍにて形成し、これに
より、反射領域および透過領域ともに１μｍの厚みのカ
ラーフィルタが形成された。 【００４２】以上の各例にて作製した液晶表示パネルの
特性を表1に示す。同表によれば、反射モードにて反射
率、色域面積、コントラストを測定し、透過モードにお
いては、透過率、色域面積、コントラストを測定した。 【００４３】 【表１】 【００４４】例１と例２によれば、比較例に比べ、透過
色域面積がそれぞれ１．３９倍、１．５８倍になった。
その半面、透過率が若干低下傾向にあるが、実際上には
ほとんど問題にならない程度の変化であった。 【００４５】また、本発明のさらに他の特徴を説明す
る。上述した構成の液晶表示装置Ｂによれば、図３に示
す如くストライプ状透明電極群と光反射性金属層(反射
層スリットなど)とを形成する工程を経ることで、ＩＴ
Ｏパターンと金属反射層との間にて露光上ズレが生じ、
このような露光ズレが生じると、反射層スリットなどの
設計によっては一画素内での反射領域が小さくなり、反
射率が減少する。一方、透過領域が大きくなり、透過率
が増加し、製品上の特性バラツキが生じることが考えら
れる。 【００４６】この課題に対し、本例の液晶表示装置Ｂで
は、図７に示す如く、光透過部をＣｒ膜４およびＡｌ膜
５とからなる光反射性金属層の配列方向と平行するよう
なスリットにする。 【００４７】このように光透過部をセグメント電極と平
行に設けるが、同図に示すように、さらにそのスリット
部位を一画素内のサイド部に設けている。 【００４８】すなわち、セグメント側基板によれば、長
辺Ｌ１と短辺Ｍ１の一画素に対し、設計上短辺Ｍ１より
も小さな幅の光反射性金属層を帯状に形成することで、
各セグメント電極に光透過部を設けた構成にする。Ｍ２
とＭ３は、それぞれストライプ状透明電極群３と帯状の
光反射性金属層との双方の端部の間隔である。 【００４９】上記のような構成の反射層スリットによれ
ば、図３に示す如くストライプ状透明電極群と光反射性
金属層(反射層スリット)とを形成する工程を経ること
で、図７Ａに示すようにＩＴＯパターンと金属反射層と
の間にて露光上ズレがない場合に比べて、同図Ｂに示す
如く、ＩＴＯパターンと金属反射層との間にて露光上ズ
レが生じることがあっても、一画素内での反射領域に変
化がなく、反射率が減少したり、透過領域が大きくなっ
て透過率が増加することもなく、これにより、製品上の
一定の品質特性が得られる。 【００５０】つぎに他の液晶表示装置を述べる。上述し
た構成の半透過型液晶表示装置Ｂによれば、その光反射
性金属層としてＡｇ合金(たとえばＡＰ)などを用いた場
合に、反射表示が透過表示に比べ黄色寄りになる傾向に
なり、反射モードと透過モードとの双方間にて色調に差
がみられる場合がある。 【００５１】このように光反射性金属層にＡＰを用いた
半透過型液晶表示装置Ｂについて、反射モードと透過モ
ードの色度座標の比較を図８にて示す。 【００５２】同図からわかるように、反射モードと透過
モードにてＲ・Ｇ・Ｂおよび白(Ｗｈｉｔｅと記す)の色
度が大きく異なっている。 【００５３】このような課題に対して、本発明者はカラ
ーフィルタ形成時の成膜条件を調整することで解決でき
ることを知見した。 【００５４】すなわち、叙上の半透過型液晶表示装置Ｂ
によれば、図４に示す如く、光反射部・光透過部および
樹脂ブラックレジスト端部にわたって、同一の膜厚(た
とえば１μm)にてカラーフィルタを一様に形成している
が、これに代えて、成膜条件を変えることで、これらの
膜厚を変えることができる。 【００５５】このような構成例を図９に示す。同図は本
発明の他の半透過型液晶表示装置の要部断面図であり、
図４に示す部材と同一箇所には同一符号を付す。 【００５６】図９に示す装置によれば、Ｒ・Ｇ・Ｂのそ
れぞれに対しカラーフィルタレジストの粘度・成膜条件
を調整することで、光透過部の樹脂ブラックレジストの
端部付近にてスロープ状にカラーフィルタを形成し、Ｒ
・Ｇ・Ｂそれぞれの透過部の平均膜厚を変えることがで
きる。 【００５７】このように透過モードでのＲ・Ｇ・Ｂの色
度をそれぞれ独立に調整することで、透過モードでの色
調を反射モードの色調に近づけることができ、これによ
り、反射モードと透過モードでの色調の差を低減した
り、無くすことができる。 【００５８】光半透過層にＡＰを用いた図９の半透過型
液晶表示装置において、反射モードと透過モードの色度
座標の比較を図１０にて示す。 【００５９】同図からわかるように、反射モードと透過
モードのＲ・Ｇ・Ｂおよび白(Ｗｈｉｔｅと記する)の色
度の差が小さくなっており、反射モードと透過モードの
色調の差を低減もしくは無くすことができた。 【００６０】以上のように光透過部の樹脂ブラックレジ
スト端部に対するカラーフィルタの成膜条件を規定する
ことで、透過モードでの色調の調整ができ、たとえば金
属反射層をＡｇ合金等にした場合に透過モード時に比べ
反射モード時の表示が黄色寄りの色調になるなどの反射
モードと透過モードの色調の差を低減もしくは解消する
ことができた。 【００６１】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種
々の変更や改良等はなんら差し支えない。たとえば、遮
光膜である画素間の樹脂ブラックレジストＳについて
は、上述の如く、ＲＧＢの配列と平行になるようストラ
イプ状に樹脂ブラックレジストＳを形成し、カラーフィ
ルタ７も同様に形成したが、このように樹脂ブラックレ
ジスト（遮光膜）をストライプ状に配列することに代え
て、画素間の樹脂ブラックレジスト（遮光層）をマトリ
ックス状に配置してもよい。 【００６２】 【発明の効果】以上のとおり、本発明の液晶表示装置に
よれば、光反射性金属層に対し画素の端部に対応して光
透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、
光透過部以外の領域にて反射モードとなし、さらに他方
部材に対し画素に対応してカラーフィルタを配するとと
もに、遮光膜をこのカラーフィルタの周辺にカラーフィ
ルタの膜厚に比べて大きな膜厚にて形成して、カラーフ
ィルタを遮光膜の端部上に延在せしめるよう成したこと
で、透過領域のカラーフィルタの平均膜厚が増大し、こ
れによって透過モードでの色再現性の低下を抑え、その
結果、反射モードの特性をもとに選択したカラーフィル
タを用いた場合でも透過モードで鮮明な色調が得られ
た。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の液晶表示装置の断面模式図である。 【図２】従来の液晶表示装置の断面模式図である。 【図３】本発明の液晶表示装置の製造方法を示す工程図
である。 【図４】本発明の液晶表示装置の要部構成を説明する断
面模式図である。 【図５】本発明の液晶表示装置の要部構成の等価モデル
を説明する断面模式図である。 【図６】セグメント側基板とコモン側基板の双方の拡大
図である。 【図７】Ａ、Ｂはそれぞれセグメント側基板の拡大図で
あり、Ａは露光ズレがない場合、Ｂは露光ズレがある場
合である。 【図８】図４に示す液晶表示装置の光反射性金属層に対
しＡＰを用いた場合の透過モードと反射モードの色度座
標の線図である。 【図９】本発明の他の液晶表示装置の要部構成を説明す
る断面模式図である。 【図１０】図９に示す液晶表示装置の光反射性金属層に
対しＡＰを用いた場合の透過モードと反射モードの色度
座標の線図である。 【符号の説明】 １・・・コモン側のガラス基板 ２・・・セグメント側のガラス基板 ３・・・ストライプ状透明電極群 ４・・・Ｃｒ膜 ５・・・Ａｌ膜 ６、１０・・・配向膜 ７・・・カラーフィルタ ８・・・オーバーコート層 ９・・・ストライプ状透明電極群 １１・・・液晶層 Ｓ・・・樹脂ブラックレジスト

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】基板上に透明導電層と光反射性金属層との
   積層体にてストライプ状積層電極群を形成し、このスト
   ライプ状積層電極群上に配向層を積層してなる一方部材
   と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを
   順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状積
   層電極群とストライプ状透明電極群とが交差するようネ
   マチック液晶を介して貼り合わせて画素をマトリクス状
   に配列せしめた液晶表示装置であって、上記光反射性金
   属層に対し画素の端部に対応して光透過部を設けて、こ
   の光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域
   にて反射モードとなし、さらに他方部材に対し画素に対
   応してカラーフィルタを配するとともに、遮光膜をこの
   カラーフィルタの周辺にカラーフィルタの膜厚に比べて
   大きな膜厚にて形成して、カラーフィルタを遮光膜の端
   部上に延在せしめるよう成した液晶表示装置。