JP2003192792A - フェノキシホスファゼン系化合物の改質方法、難燃性樹脂組成物及び難燃性樹脂成形体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、合成樹脂に良好な難燃性、熱的安
定性、成形加工性等の性質を付与し得るだけでなく、合
成樹脂の変色を抑制し得るフェノキシホスファゼン系化
合物を提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明は、フェノキシホスファゼン系化
合物を、（１）活性炭、シリカゲル、活性アルミナ、活
性白土、合成ゼオライト及び高分子吸着剤から選ばれた
少なくとも１種の吸着剤で処理するか、又は（２）金属
水素錯化合物、ヒドラジン、次亜塩素酸塩、チオ硫酸
塩、ジアルキル硫酸、オルトエステル、ジアゾアルカ
ン、ラクトン、アルカンスルトン、エポキシ化合物及び
過酸化水素水から選ばれた少なくとも１種の反応剤と反
応させることを特徴とするフェノキシホスファゼン系化
合物の改質方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フェノキシホスフ
ァゼン系化合物の改質方法、難燃性樹脂組成物及び難燃
性樹脂成形体に関する。

【０００２】

【従来の技術】フェノキシホスファゼン系化合物は、ジ
クロロホスファゼン化合物とフェノール系化合物のアル
カリ金属塩とを反応させることにより製造されるオリゴ
マー又はポリマーであり、従来から合成樹脂の添加剤、
改質剤等としての使用が検討されている。

【０００３】しかしながら、フェノキシホスファゼン系
化合物は合成樹脂に良好な難燃性、熱的安定性、成形加
工性等の性質を付与し得るものの、合成樹脂を変色させ
るという重大な欠点を有している。

【０００４】更に合成樹脂にフェノキシホスファゼン系
化合物を配合した当初には見られないが、この配合物を
長期に亘って保存した場合には、合成樹脂の有している
耐熱性、耐候性、耐着色性、耐薬品性等の性質を損なう
虞れがある。特に、フェノキシホスファゼン系化合物を
ポリカーボネート樹脂又はポリカーボネート樹脂と他の
樹脂との混合樹脂に配合してなる樹脂組成物において
は、ポリカーボネート樹脂の分子量低下を引き起こし、
その透明性や白度等の色相を著しく低下させることが避
けられない。

【０００５】フェノキシホスファゼン系化合物に、塩酸
や硫酸等の酸性水溶液による洗浄処理や、水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ水溶液又は水による
洗浄処理を施すことは行われているが、このような処理
ではフェノキシホスファゼン系化合物の上記欠点を満足
の行くレベルまで解消することはできない。

【０００６】加えて、上記洗浄処理を施したフェノキシ
ホスファゼン系化合物を配合してなる樹脂組成物を成形
する際に、装置を腐食させるという問題点もある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、合成樹脂に
良好な難燃性、熱的安定性、成形加工性等の性質を付与
し得るだけでなく、合成樹脂の変色を抑制し得るフェノ
キシホスファゼン系化合物を提供することを課題とす
る。

【０００８】本発明は、合成樹脂にフェノキシホスファ
ゼン系化合物を配合した組成物を長期に亘って保存した
場合においても、合成樹脂の有している耐熱性、耐候
性、耐着色性、耐薬品性等の性質を損なうことがなく、
特にポリカーボネート樹脂又はポリカーボネート樹脂と
他の樹脂との混合物にフェノキシホスファゼン系化合物
を配合した場合であってもポリカーボネート樹脂の分子
量を殆ど低下させず、その透明性や白度等の色相を殆ど
低下させることのないフェノキシホスファゼン系化合物
を提供することを課題とする。

【０００９】本発明は、フェノキシホスファゼン系化合
物を配合してなる樹脂組成物を成形する際に、装置を腐
食させる虞れのないフェノキシホスファゼン系化合物を
提供することを課題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、フェノキシホスファ
ゼン系化合物を特定の吸着剤と接触させるか又は反応剤
と反応させることにより所望のフェノキシホスファゼン
系化合物が得られることを見い出した。本発明は、斯か
る知見に基づき完成されたものである。 １．本発明は、フェノキシホスファゼン系化合物を、活
性炭、シリカゲル、活性アルミナ、活性白土、合成ゼオ
ライト及び高分子吸着剤から選ばれた少なくとも１種の
吸着剤で処理することを特徴とするフェノキシホスファ
ゼン系化合物の改質方法である。 ２．本発明は、フェノキシホスファゼン系化合物を、金
属水素錯化合物、ヒドラジン、次亜塩素酸塩、チオ硫酸
塩、ジアルキル硫酸、オルトエステル、ジアゾアルカ
ン、ラクトン、アルカンスルトン、エポキシ化合物及び
過酸化水素水から選ばれた少なくとも１種の反応剤と反
応させることを特徴とするフェノキシホスファゼン系化
合物の改質方法である。 ３．本発明は、フェノキシホスファゼン系化合物が、
（１）一般式

【００１１】

【化４】

【００１２】〔式中ｍは３〜２５の整数を示す。Ｐｈは
フェニル基を示す。〕で表される環状フェノキシホスフ
ァゼン化合物、（２）一般式

【００１３】

【化５】

【００１４】〔式中Ｘ¹は基−Ｎ＝Ｐ(ＯＰｈ)₃又は基−
Ｎ＝Ｐ(Ｏ)ＯＰｈを示し、Ｙ¹は基−Ｐ(ＯＰｈ)₄又は基
−Ｐ(Ｏ)(ＯＰｈ)₂を示す。ｎは３〜１００００の整数
を示す。Ｐｈは前記に同じ。〕で表される鎖状フェノキ
シホスファゼン化合物、並びに（３）前記環状フェノキ
シホスファゼン化合物及び鎖状フェノキシホスファゼン
化合物から選ばれる少なくとも１種のホスファゼン化合
物が、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェ
ニレン基及び一般式

【００１５】

【化６】

【００１６】〔式中Ａは−Ｃ(ＣＨ₃)₂−、−ＳＯ₂−、
−Ｓ−又は−Ｏ−を示す。ａは０又は１を示す。〕で表
されるビスフェニレン基から選ばれる少なくとも１種の
架橋基により架橋されてなる化合物であって、（ａ）該
架橋基はホスファゼン化合物のフェニル基が脱離した２
個の酸素原子間に介在し、（ｂ）フェニル基の含有割合
が上記フェノキシホスファゼン化合物（１）及び／又は
（２）中の全フェニル基の総数を基準に５０〜９９．９
％であり、且つ（ｃ）分子内にフリーの水酸基を有しな
い架橋フェノキシホスファゼン化合物から成る群から選
ばれる少なくとも１種である上記１又は２に記載のフェ
ノキシホスファゼン系化合物の改質方法である。 ４．本発明は、上記１又は２に記載の方法により改質さ
れたフェノキシホスファゼン系化合物である。 ５．本発明は、合成樹脂に上記１〜３に記載の方法で得
られるフェノキシホスファゼン系化合物を配合してなる
難燃性樹脂組成物である。 ６．本発明は、上記５に記載の難燃性樹脂組成物を成形
して得られる難燃性樹脂成形体である。

【００１７】本発明によれば、フェノキシホスファゼン
系化合物が本来有する好ましい特性、即ち合成樹脂に良
好な難燃性、熱的安定性、成形加工性等を付与し得ると
いう特性を損なうことなく、合成樹脂に配合しても該合
成樹脂の特性、特にその色相を損なわない、フェノキシ
ホスファゼン系化合物を提供することができる。

【００１８】本発明の方法で改質されたフェノキシホス
ファゼン系化合物は、非処理のフェノキシホスファゼン
系化合物に比べ、着色が少なく、酸価が低く、加熱によ
る減量が少なく、純度が高いものである。

【００１９】本発明の方法で改質されたフェノキシホス
ファゼン系化合物を合成樹脂に添加、配合する場合に
は、合成樹脂の色相（透明性、白度等）、耐熱性、耐候
性、耐薬品性等に悪影響を及ぼす虞れが少ない。特に、
本発明の方法で改質されたフェノキシホスファゼン系化
合物をポリカーボネート樹脂又はポリカーボネート樹脂
と他の樹脂との混合樹脂に配合する場合には、ポリカー
ボネート樹脂の分解が抑制され、その分子量低下が殆ど
起こらず、ひいては樹脂組成物の色相、耐衝撃性等の機
械的特性、耐熱性、成形加工性等の樹脂本来の特性の低
下を起こす虞れが少ない。

【００２０】また本発明の処理を施したフェノキシホス
ファゼン系化合物は、酸性水溶液洗浄やアルカリ性水溶
液洗浄を施したフェノキシホスファゼン系化合物に比べ
て、高品質となり、特に耐加水分解性、耐腐食性、耐着
色性等が向上し、臭気も低く、過酷な条件下での長期の
保管が可能となり、加工時の装置の腐食等の弊害を防止
できる。

【００２１】本発明において、このような優れた効果が
得られる理由は十分明らかではないが、その一つとして
は、フェノキシホスファゼン系化合物を合成する際に副
反応により生成し合成樹脂の物性に悪影響を及ぼすリン
酸残基、アミノ基等を有する微量不純物や未反応の原料
等が、本発明の処理により効率的に除去或いは不活性化
されるのではないかと推測される。

【００２２】

【発明の実施の形態】本発明において処理の対象になる
フェノキシホスファゼン系化合物としては、ジクロロホ
スファゼン化合物と、フェノール化合物又はそのアルカ
リ金属塩との反応により得られるものであれば特に制限
されず、従来公知のものを広く使用することができる。

【００２３】斯かるフェノキシホスファゼン系化合物の
具体例としては、例えば（１）上記一般式（１）で表さ
れる環状フェノキシホスファゼン化合物（以下「環状フ
ェノキシホスファゼン化合物（１）」という）、（２）
上記一般式（２）で表される鎖状フェノキシホスファゼ
ン化合物（以下「鎖状フェノキシホスファゼン化合物
（２）」という）、（３）環状フェノキシホスファゼン
化合物（１）及び鎖状フェノキシホスファゼン化合物
（２）から選ばれる少なくとも１種のホスファゼン化合
物が、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェ
ニレン基及び上記一般式（３）で表されるビスフェニレ
ン基から選ばれる少なくとも１種の架橋基により架橋さ
れてなる化合物であって、（ａ）該架橋基はホスファゼ
ン化合物のフェニル基が脱離した２個の酸素原子間に介
在し、（ｂ）フェニル基の含有割合が上記フェノキシホ
スファゼン化合物（１）及び／又は（２）中の全フェニ
ル基の総数を基準に５０〜９９．９％であり、且つ
（ｃ）分子内にフリーの水酸基を有しない架橋フェノキ
シホスファゼン化合物（以下「架橋フェノキシホスファ
ゼン化合物（３）」という）等を挙げることができる。

【００２４】尚、一般式（２）における末端基Ｘ¹及び
Ｙ¹は反応条件等により変化し、通常の反応条件で、例
えば非水の系で穏和な反応を行った場合には、Ｘ¹が基
−Ｎ＝Ｐ(ＯＰｈ)₃、Ｙ¹が基−Ｐ(ＯＰｈ)₄の構造とな
り、水分もしくはアルカリ金属水酸化物が反応系内に存
在するような反応条件で、又は転移反応が生じるような
過酷な反応条件で反応を行った場合には、Ｘ¹が基−Ｎ
＝Ｐ(ＯＰｈ)₃、Ｙ¹が基−Ｐ(ＯＰｈ)₄の構造の他に、
Ｘ¹が基−Ｎ＝Ｐ(Ｏ)ＯＰｈ、Ｙ¹が基−Ｐ(Ｏ)(ＯＰｈ)
₂の構造のものが混在する状態となる。

【００２５】また、本明細書において、「分子内にフリ
ーの水酸基を有していない」とは、分析化学便覧（改訂
第３版、日本分析化学会編、丸善（株）、１９８１年）
第３５３頁に記載の無水酢酸とピリジンによるアセチル
化法に従って定量した場合に、フリーの水酸基量が検出
限界以下であることを意味する。ここで検出限界とは、
試料（架橋フェノキシホスファゼン化合物（３））１ｇ
当たりの水酸基当量としての検出限界であり、より具体
的には１×１０^-6水酸基当量／ｇ以下である。

【００２６】尚、上記のアセチル化法で架橋フェノキシ
ホスファゼン化合物（３）を分析すると、残留する原料
フェノールの水酸基の量も加算されるが、原料フェノー
ルは高速液体クロマトグラフィーによって定量できるの
で、架橋フェノキシホスファゼン化合物（３）中のフリ
ーの水酸基のみを定量することができる。

【００２７】上記のフェノキシホスファゼン系化合物の
うち、環状フェノキシホスファゼン化合物（１）及び鎖
状フェノキシホスファゼン化合物（２）は、ジクロロホ
スファゼン化合物とアルカリ金属フェノラートとを反応
させることにより製造される。

【００２８】ジクロロホスファゼン化合物としては公知
のものを使用でき、例えば、一般式（４）

【００２９】

【化７】

【００３０】〔式中ｍは前記に同じ。〕で表される環状
ジクロロホスファゼン化合物（以下「環状ジクロロホス
ファゼン化合物（４）」という）、一般式（５）

【００３１】

【化８】

【００３２】〔式中Ｘ²は基−Ｎ＝ＰＣｌ₃又は基−Ｎ＝
Ｐ(Ｏ)Ｃｌを示し、Ｙ²は基−Ｐ(Ｃｌ)₄又は基−Ｐ(Ｏ)
Ｃｌ₂を示す。ｎは前記に同じ。〕で表される鎖状ジク
ロロホスファゼン化合物（以下「鎖状ジクロロホスファ
ゼン化合物（５）」という）等を挙げることができる。
ジクロロホスファゼン化合物は１種を単独で使用でき又
は２種以上を併用でき、環状のものと鎖状のものを併用
してもよい。

【００３３】ジクロルホスファゼン化合物は、例えば、
H.R.Allcock著、″Phosphorus-Nitrogen Compounds″,Ac
ademic Press,(1972) や J.E.Mark,H.R.Allcock,R.West
著,″Inorganic Polymers″,Prentice-Hall Internatio
nal Inc.,(1992)等に記載の公知の方法に従って製造で
きる。その一例を示せば、塩化アンモニウムと五塩化リ
ン（又は塩化アンモニウムと三塩化リンと塩素）とを、
クロルベンゼンやテトラクロルエタン中で、１２０〜１
３０℃程度で反応させて、脱塩酸化することで、ｍが３
〜２５である環状ジクロルホスファゼン化合物（４）や
ｎが３〜２５である鎖状ジクロルホスファゼン化合物
（５）が製造できる。これらのジクロルホスファゼン化
合物（ジクロルホスファゼンオリゴマー）は、通常混合
物として得られる。また、このようにして得られる環状
及び鎖状のジクロルホスファゼンオリゴマー混合物か
ら、蒸留又は再結晶により、ヘキサクロルシクロトリホ
スファゼン、オクタクロルシクロテトラホスファゼン及
びデカクロルシクロペンタホスファゼン等の環状のジク
ロルホスファゼン化合物を分離することができる。ま
た、ヘキサクロルシクロトリホスファゼンを２２０〜２
５０℃に加熱し、開環重合することにより、ｎが２５か
ら１００００である鎖状ジクロルホスファゼン化合物
（５）を製造できる。ジクロルホスファゼン化合物は、
環状及び鎖状のジクロルホスファゼンとを混合したま
ま、又は分離して各々単独で用いてもよい。

【００３４】アルカリ金属フェノラートとしても公知の
ものを使用でき、例えば、一般式（６）

【００３５】

【化９】

【００３６】〔式中Ｍはアルカリ金属を示す。〕で表さ
れるアルカリ金属フェノラート（以下「アルカリ金属フ
ェノラート（６）」という）を挙げることができる。一
般式（６）中、Ｍで示されるアルカリ金属としては、ナ
トリウム、カリウム、リチウム等を挙げることができ
る。アルカリ金属フェノラート（６）の具体例として
は、例えば、ナトリウムフェノラート、カリウムフェノ
ラート、リチウムフェノラート等を挙げることができ
る。アルカリ金属フェノラートは１種を単独で使用でき
又は２種以上を併用できる。

【００３７】架橋フェノキシホスファゼン化合物（３）
は、例えば、ジクロロホスファゼン化合物に、アルカリ
金属フェノラートとジフェノラートとを混合して反応さ
せ（第一工程）、次いで得られる化合物にアルカリ金属
フェノラートを更に反応させる（第二工程）ことにより
製造される。

【００３８】ジクロロホスファゼン化合物としては、上
記と同様のものを使用できる。勿論、２種以上を混合使
用してもよいし、環状のものと鎖状のものを併用しても
よい。アルカリ金属フェノラートとしても上記と同様の
ものを使用でき、２種以上併用してもよい。

【００３９】ジフェノラートとしては公知のものを使用
でき、例えば、一般式（７）

【００４０】

【化１０】

【００４１】〔式中Ｍは前記に同じ。〕で表されるｏ
−，ｍ−，ｐ−置換アルカリ金属ジフェノラート（以下
「アルカリ金属ジフェノラート（７）」という）、一般
式（８）

【００４２】

【化１１】

【００４３】〔式中Ａ、ａ及びＭは前記に同じ。〕で表
されるアルカリ金属ジフェノラート（以下「アルカリ金
属ジフェノラート（８）」という）等を挙げることがで
きる。アルカリ金属ジフェノラート（７）において、２
つの基−Ｏ−Ｍ（Ｍは前記に同じ。）は、オルト、メタ
又はパラのいずれの位置関係にあってもよい。アルカリ
金属ジフェノラート（７）の具体例としては、例えば、
レゾルシノール、ハイドロキノン、カテコール等のアル
カリ金属塩を挙げることができる。これらの中でも、ナ
トリウム塩及びリチウム塩が好ましい。アルカリ金属ジ
フェノラート（７）は、１種を単独で使用でき又は２種
以上を併用できる。アルカリ金属ジフェノラート（８）
の具体例としては、例えば、４，４’−イソプロピリデ
ンジフェノール（ビスフェノール−Ａ）、４，４’−ス
ルホニルジフェノール（ビスフェノール−Ｓ）、４，
４’−チオジフェノール、４，４’−オキシジフェノー
ル、４，４’−ジフェノール等のアルカリ金属塩等を挙
げることができる。これらの中でも、ナトリウム塩及び
リチウム塩が好ましい。アルカリ金属ジフェノラート
（８）は、１種を単独で使用でき又は２種以上を併用で
きる。アルカリ金属ジフェノラート（７）及びアルカリ
金属ジフェノラート（８）をそれぞれ単独で使用しても
よいし、これらを併用してもよい。

【００４４】架橋ホスファゼン化合物（３）の製造の第
一工程においては、ジクロルホスファゼン化合物中の塩
素原子がアルカリ金属フェノラート及びアルカリ金属ジ
フェノラートとの反応によって全て消費されないよう
に、即ちジクロルホスファゼン化合物中の塩素原子がア
ルカリ金属フェノラート及びアルカリ金属ジフェノラー
トとの反応によっても尚残存しているように、アルカリ
金属フェノラート及びアルカリ金属ジフェノラートの使
用量を調節することが望ましい。これにより、アルカリ
金属ジフェノラートの両−Ｏ−Ｍ基（Ｍは前記に同
じ。）がジクロルホスファゼン化合物のリン原子に結合
する。第一工程では、アルカリ金属フェノラート及びア
ルカリ金属ジフェノラートの使用量は、ジクロルホスフ
ァゼン化合物の塩素量を基準にして、両フェノラートの
合計で通常０．０５〜０．９当量程度、好ましくは０．
１〜０．８当量程度とすればよい。

【００４５】第二工程においては、上記第一工程で生成
する化合物中の塩素原子がアルカリ金属フェノラートと
の反応によって全て消費されるように、アルカリ金属フ
ェノラートの使用量を調節することが望ましい。アルカ
リ金属フェノラートの使用量は、ジクロルホスファゼン
化合物の塩素量を基準にして、通常１〜１．５当量程
度、好ましくは１〜１．２当量程度とすればよい。

【００４６】アルカリ金属フェノラート（第一工程及び
第二工程で用いる合計量）とアルカリ金属ジフェノラー
トとの使用割合（アルカリ金属ジフェノラート／アルカ
リ金属フェノラート、モル比）は、通常１／２０００〜
１／４程度、好ましくは、１／２０〜１／６とすればよ
い。

【００４７】第一工程及び第二工程の反応は、各々通常
室温〜１５０℃程度、好ましくは８０〜１４０℃程度の
温度下に行われ、通常１〜１２時間程度、好ましくは３
〜７時間程度で終了する。第一工程及び第二工程の反応
は、いずれも、通常ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素等の有機溶媒中で行
われる。

【００４８】斯くして得られる架橋フェノキシホスファ
ゼン化合物（３）は、分解温度が２５０〜３５０℃の範
囲にある。また、架橋フェノキシホスファゼン化合物
（３）中のフェニル基の含有割合は、環状フェノキシホ
スファゼン化合物（１）及び／又は鎖状フェノキシホス
ファゼン化合物（２）中の全フェニル基の総数を基準に
５０〜９９．９％であり、好ましくは７０〜９０％であ
る。

【００４９】改質方法Ａ：本発明において、吸着剤を用
いてフェノキシホスファゼン系化合物を処理するに当た
っては、吸着剤とフェノキシホスファゼン系化合物とが
接触し得る方法である限り従来公知の方法をいずれも採
用できる。例えば、吸着剤とフェノキシホスファゼン系
化合物とを同一槽内で混合したり（バッチ式）、吸着剤
をカラム等に充填してフェノキシホスファゼン系化合物
を通過させたりすればよい。

【００５０】本発明において使用される吸着剤として
は、活性炭、シリカゲル、活性アルミナ、活性白土、合
成ゼオライト及び高分子吸着剤から選ばれる少なくとも
１種である。

【００５１】活性炭としては、薬品賦活活性炭や水蒸気
賦活活性炭が好ましく、その形状は円柱状、破砕状、顆
粒状、球状及び粉末状のいずれであってもよい。シリカ
ゲルとしては、微粒状、小粒状、中粒状及び大粒状のい
ずれの形状であってもよい。活性アルミナとしては、酸
性、塩基性及び中性のいずれの性状であってもよい。活
性白土としては、粉末状及び粒状のいずれの形状であっ
てもよい。合成ゼオライトとしては、市販品を広く使用
でき、有効径が約３Å〜約１０Åのいずれの形状であっ
てもよい。有効径としては、例えば約３Å、約４Å、約
５Å及び約１０Åのものを挙げることができる。また、
合成ゼオライトの形状は、ペレット状、ビーズ状及び粉
末状のいずれであってもよい。高分子吸着剤としては、
吸着能を有する合成樹脂である限り、従来公知のものを
広く使用できる。

【００５２】バッチ式を採用する場合、吸着剤の使用量
は特に制限されず、フェノキシホスファゼン系化合物の
種類や量、吸着剤の種類等の各種条件に応じて広い範囲
から適宜選択できるが、フェノキシホスファゼン系化合
物１００重量部に対し、通常１〜５０重量部、好ましく
は２〜２５重量部とすればよい。吸着剤の添加量が１重
量部未満であると改質効果が不十分になる可能性があ
り、５０重量部を大きく越えると不純物だけでなくフェ
ノキシホスファゼン系化合物の吸着も起こり、ひいては
歩留まりの低下を招くことも考えられる。

【００５３】吸着剤をカラムに充填して処理を実施する
場合、吸着剤の使用量に制限はなく、カラム操作に支障
のない量の充填剤をカラムに詰めて、これを連続使用
し、吸着能が低下した時点で充填剤を交換するか、或い
は再生すればよい。

【００５４】フェノキシホスファゼン系化合物と吸着剤
との接触は、フェノキシホスファゼン系化合物を溶融し
た状態で行ってもよいし、溶媒に溶解した状態で行って
もよい。使用される溶媒としては、フェノキシホスファ
ゼン系化合物を溶解させることができ、且つ吸着剤の作
用を阻害しない溶媒である限り、従来公知のものをいず
れも使用することができる。

【００５５】例えば、ジクロロホスファゼン化合物とア
ルカリ金属フェノラートとの反応混合物をそのまま吸着
剤と接触させる場合は、ジクロロホスファゼン化合物と
アルカリ金属フェノラートとの反応溶媒として、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン等のハロゲ
ン化芳香族炭化水素類等が使用されているのが好まし
く、また反応混合物を希釈する場合も、前記反応溶媒と
同様のものを使用すればよい。

【００５６】また、反応混合物から一旦単離したものを
有機溶媒に溶解する場合は、上記の溶媒以外に、クロロ
ホルム、四塩化炭素、クロロエタン等のハロゲン化炭化
水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、
ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類、ギ酸メチル、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トリ
オキサン等のエーテル類、アセトニトリル、ベンゾニト
リル、ピリジン等の窒素含有炭化水素類等が挙げられ
る。

【００５７】これらの溶媒は、１種単独で使用してもよ
いし、２種以上を混合して使用してもよい。これら溶媒
の中でも、クロロホルム、アセトン及びテトラヒドロフ
ランが好ましい。

【００５８】フェノキシホスファゼン系化合物を溶媒に
溶解して処理を行う場合、フェノキシホスファゼン系化
合物の濃度に関しては特に制限されるものではないが、
操作の容易さを考えると、１〜９０％が好ましく、５〜
８０％が特に好ましい。

【００５９】処理温度は、フェノキシホスファゼン系化
合物を溶融した状態で処理する場合には、フェノキシホ
スファゼン系化合物の融点〜２００℃程度までが好まし
い。また、フェノキシホスファゼン系化合物を溶媒に溶
解した状態で処理する場合には、フェノキシホスファゼ
ン系化合物が溶解する温度であればいずれでもよいが、
通常、０℃〜使用する溶媒の沸点の範囲内で処理するの
がよい。処理時間は、フェノキシホスファゼン系化合物
が長時間吸着剤と接触しても悪影響はないので特に制限
はなく、５分〜１２時間程度がよい。

【００６０】改質方法Ｂ：本発明において使用される反
応剤は、金属水素錯化合物、ヒドラジン、次亜塩素酸
塩、チオ硫酸塩、ジアルキル硫酸、オルトエステル、ジ
アゾアルカン、ラクトン、アルカンスルトン、エポキシ
化合物及び過酸化水素水から選ばれた少なくとも１種で
ある。

【００６１】金属水素錯化合物としては、例えば水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム等が挙
げられる。次亜塩素酸塩としては、例えば次亜塩素酸カ
リウム、次亜塩素酸ナトリウム等が挙げられる。チオ硫
酸塩としては、例えばチオ硫酸カリウム、チオ硫酸ナト
リウム等が挙げられる。ジアルキル硫酸としては、例え
ばジメチル硫酸、ジエチル硫酸等が挙げられる。オルト
エステルとしては、例えばオルト酢酸トリエチル、オル
トプロピオン酸トリエチル等が挙げられる。ジアゾアル
カンとしては、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン等が
挙げられる。ラクトンとしては、例えばプロピオンラク
トン、ブチロラクトン等が挙げられる。アルカンスルト
ンとしては、例えば１，３−プロパンスルトン、１，４
−ブタンスルトン等が挙げられる。エポキシ化合物とし
ては、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド、
ブチレンオキシド等が挙げられる。

【００６２】過酸化水素水を用いる場合、その濃度は１
〜３０重量％が好ましく、５〜２０重量％が特に好まし
い。

【００６３】上記反応剤の中で好ましい化合物は、水素
化ホウ素ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、ジメチル硫
酸、オルト酢酸トリエチル、ジアゾメタン及び１，３−
プロパンスルトンである。

【００６４】本発明において使用される反応剤の当量
は、フェノキシホスファゼン系化合物のＰ＝Ｎ １ユニ
ットに対し、０．００１〜１００当量、好ましくは０．
０１〜５０当量である。反応剤の添加量が０．００１当
量未満であると改質効果が不十分であり、１００当量を
超えると反応剤が無駄になるだけでなく副反応が起こる
可能性も出てくる。

【００６５】フェノキシホスファゼン系化合物と反応剤
とを反応させるに当たっては、フェノキシホスファゼン
系化合物を溶融させた状態で反応剤と共に攪拌後分離し
てもよいが、高粘度による攪拌効率の悪さ、加熱濾過又
は加熱分液等の各種操作の困難さ、煩雑さ等を考える
と、適当な溶媒に溶解して反応させるのが好ましい。こ
こで溶媒としては、フェノキシホスファゼン系化合物を
溶解させることができ、且つ反応剤と反応しない溶媒で
あればいずれでもよい。溶媒としては、上記吸着剤で処
理する際に使用される溶媒と同じ溶媒を使用することが
できる。このような溶媒の中でも、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン及びモノクロルベンゼンが好ましい。

【００６６】フェノキシホスファゼン系化合物を溶媒に
溶解し、これを反応剤と反応させる場合、フェノキシホ
スファゼン系化合物の濃度に関しては特に制限はない
が、操作の容易さを考えると、１〜９０％が好ましく、
５〜８０％が特に好ましい。

【００６７】反応温度は、反応剤によって異なり、一概
に言えるものではない。また、フェノキシホスファゼン
系化合物を溶融した状態で処理する場合には、フェノキ
シホスファゼン系化合物の融点〜２００℃程度までが好
ましい。また、フェノキシホスファゼン系化合物を溶媒
に溶解した状態で処理する場合には、フェノキシホスフ
ァゼン系化合物が溶解する温度であればいずれでもよい
が、通常、０℃〜使用する溶媒の沸点の範囲内で処理す
るのがよい。反応時間は、反応剤によって異なり一概に
言えないが、一般に５分〜１２時間程度がよい。

【００６８】更に、本発明では、上記改質方法Ａによる
処理及び上記改質方法Ｂによる処理の二つの処理を順次
に行ってもよく、或いはこれら二つの処理を同時に行っ
てもよい。

【００６９】上記改質方法Ａ及び／又は改質方法Ｂで使
用されるフェノキシホスファゼン系化合物としては、ジ
クロロホスファゼン化合物とアルカリ金属フェノラート
等との反応で得られた反応混合物をそのまま用いてもよ
いし、該反応混合物を更に上記で述べたような適当な有
機溶媒で希釈したものでもよいし、該反応混合物から単
離したものを溶融したものでもよいし、該単離物を適当
な有機溶媒に溶解したものでもよいし、一旦長期保存さ
れていたものを溶融或いは溶解したものでもよい。

【００７０】上記改質方法Ａ及び／又は改質方法Ｂに
は、上記の各種フェノキシホスファゼン系化合物の中で
も、架橋フェノキシホスファゼン化合物（３）を好まし
く使用できる。

【００７１】本発明の方法により改質されたフェノキシ
ホスファゼン系化合物を配合し得る合成樹脂としては特
に制限されず、公知の熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の
いずれでもよい。

【００７２】熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソプレン、ポリ
エステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレン
テレフタレート等）、ポリブタジエン、ポリスチレン、
耐衝撃性ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹
脂（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチ
レン樹脂（ＡＢＳ樹脂）、メチルメタクリレート−ブタ
ジエン−スチレン樹脂（ＭＢＳ樹脂）、メチルメタクリ
レート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂
（ＭＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−アクリルゴム−
スチレン樹脂（ＡＡＳ樹脂）、ポリメチル（メタ）アク
リレート、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル
（ＰＰＥ）、変性ポリフェニレンエーテル、ポリアミ
ド、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミド、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリアリレート、
ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリチオ
エーテルスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリベンズ
イミダゾール、ポリカルボジイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー等を挙げること
ができる。これらの中でも、ポリエステル、ＡＢＳ樹
脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、
ポリアミド等が好ましく、ポリカーボネート又はこれと
他の樹脂、例えばＡＢＳ樹脂等との混合物が特に好まし
い。

【００７３】熱硬化性樹脂の具体例としては、例えば、
ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹
脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂（ビスフェノール−Ａ
型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、
ビスフェノール−ＡＤ型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル
系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、複
素環式エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、臭素
化ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂等）等を挙げるこ
とができる。これらの中でも、ポリウレタン、フェノー
ル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等が好ましく、エ
ポキシ樹脂が特に好ましい。

【００７４】本発明において、熱可塑性樹脂及び熱硬化
性樹脂は、いずれも１種を単独で使用でき又は２種以上
を併用できる。

【００７５】本発明の方法により改質されたフェノキシ
ホスファゼン系化合物の配合量は特に制限されず、配合
しようとする合成樹脂の種類、他の添加剤の有無、他の
添加剤を配合する場合はその種類や配合量、得ようとす
る樹脂組成物の用途等の各種条件に応じて広い範囲から
適宜選択できるが、難燃性、特に長期的な難燃性の付与
等を考慮すると、通常合成樹脂１００重量部に対して、
０．１〜１００重量部程度、好ましくは０．５〜４０重
量部程度とすればよい。

【００７６】本発明の方法により改質されたフェノキシ
ホスファゼン系化合物の酸価は、色調、分子量低下等の
合成樹脂に及ぼす影響を考慮すると、通常０．０２５未
満、好ましくは０．０２０未満、より好ましくは０．０
１５未満、更に好ましくは０．０１０未満であるのがよ
い。

【００７７】本発明の樹脂組成物には、その難燃性能、
特にドリッピング（燃焼時の滴下による延焼）防止性能
をより一層向上させる目的で、無機充填剤、フッ素樹脂
等を配合することができる。無機充填剤及びフッ素樹脂
は、いずれかを単独で配合してもよいし又は両方を同時
に配合してもよい。

【００７８】無機質充填剤には、ドリッピング防止効果
の増強と共に、樹脂組成物の機械的強度をも向上させる
という特性を有している。

【００７９】無機質充填剤としては公知の樹脂充填剤を
使用でき、例えば、マイカ、カオリン、タルク、シリ
カ、クレー、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、硫酸カルシウム、珪酸カルシウム、酸化チタン、
硝子ビーズ、硝子バルーン、硝子フレーク、繊維状チタ
ン酸アルカリ金属塩（チタン酸カリウム繊維、チタン酸
ナトリウム繊維等）、繊維状硼酸塩（ホウ酸アルミニウ
ム繊維、ホウ酸マグネシウム繊維等）、酸化亜鉛繊維、
酸化チタン繊維、酸化マグネシウム繊維、石膏繊維、珪
酸アルミニウム繊維、珪酸カルシウム繊維、炭化珪素繊
維、炭化チタン繊維、窒化珪素繊維、窒化チタン繊維、
炭素繊維、アルミナ繊維、アルミナ−シリカ繊維、ジル
コニア繊維、石英繊維、薄片状チタン酸塩、薄片状二酸
化チタン等を挙げることができる。

【００８０】これらの中でも、繊維状物やマイカ、薄片
状（又は板状）チタン酸塩、薄片状酸化チタン等の形状
異方性を有するものが好ましく、繊維状チタン酸アルカ
リ金属塩、繊維状ホウ酸塩、酸化亜鉛繊維、珪酸カルシ
ウム繊維、薄片状チタン酸塩、薄片状酸化チタン等が特
に好ましい。

【００８１】無機質充填剤は、１種を単独で使用でき又
は２種以上を併用できる。

【００８２】無機質充填剤の配合量は特に制限されず、
配合する樹脂の種類、フェノキシホスファゼン系化合物
の使用量、他の添加剤の種類や配合量、得られる樹脂組
成物の用途等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択
できるが、難燃性の向上と機械的特性の向上のバランス
を考慮すると、通常合成樹脂１００重量部に対し、０．
０１〜５０重量部程度、好ましくは１〜２０重量部程度
とすればよい。

【００８３】フッ素樹脂としては公知のものを使用で
き、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦ
Ｅ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピ
レン共重合体（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン−パ
ーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦ
Ａ）、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体（Ｅ
ＴＦＥ）、ポリ（トリフルオロクロロエチレン）（ＣＴ
ＦＥ）、ポリフルオロビニリデン（ＰＶｄＦ）等を挙げ
ることができる。これらの中でも、ＰＴＦＥが好まし
い。

【００８４】フッ素樹脂は１種を単独で使用でき又は２
種以上を併用できる。

【００８５】フッ素樹脂の配合量は特に制限されず、配
合する樹脂の種類、フェノキシホスファゼン系化合物の
使用量、他の添加剤の種類や配合量、得られる樹脂組成
物の用途等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択で
きるが、通常合成樹脂１００重量部に対し、０．００１
〜２０重量部程度、好ましくは０．０１〜５重量部程度
とすればよい。

【００８６】更に、本発明の樹脂組成物には、その好ま
しい特性を損なわない範囲で、各種の難燃剤を配合する
ことができる。難燃剤としては特に制限されず、公知の
ものを使用でき、例えば、フェノキシホスファゼン系化
合物以外のホスファゼン化合物、ハロゲン含有有機リン
化合物、ハロゲンを含まない有機リン化合物、無機系難
燃剤等を挙げることができる。これらは、１種を単独で
使用でき又は２種以上を併用できる。

【００８７】また、本発明の樹脂組成物には、その好ま
しい特性を損なわない範囲で、一般的な樹脂添加剤を配
合することができる。該樹脂添加剤としては特に制限さ
れないが、例えば、紫外線吸収剤（ベンゾフェノン系、
ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系等）、光
安定剤（ヒンダードアミン系等）、酸化防止剤（ヒンダ
ードフェノール系、有機リン系過酸化物分解剤、有機イ
オウ系過酸化物分解剤等）、遮光剤（ルチル型酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム等）、金属不
活性剤（ベンゾトリアゾール系等）、消光剤（有機ニッ
ケル等）、防曇剤、防黴剤、抗菌剤、顔料等を挙げるこ
とができる。

【００８８】本発明の難燃性樹脂組成物は、熱可塑性樹
脂又は熱硬化性樹脂に、フェノキシホスファゼン系化合
物及び必要に応じて無機質充填剤、フッ素樹脂、他の難
燃剤、その他の添加剤の所定量又は適量を、公知の方法
で混合及び／又は混練することによって製造できる。例
えば、粉末、ビーズ、フレーク又はペレット状の各成分
の混合物を、１軸押出機、２軸押出機等の押出機、バン
バリーミキサー、加圧ニーダー、２本ロール等の混練機
等を用いて混合及び／又は混練すればよい。

【００８９】本発明の難燃性樹脂組成物は、例えば、プ
レス成形、射出成形、押出成形、注型成形等の公知の成
形方法により、単一層又は複数層の樹脂板、シート、フ
ィルムや球状、方状、異形品等の任意の形状の成形品と
することができる。

【００９０】本発明の難燃性樹脂組成物は、合成樹脂が
使用可能なあらゆる分野で適用でき、例えば、電気・電
子・通信機器、精密機器、自動車等の輸送機器、繊維製
品、各種製造機械類、食品包装フィルムや容器、農林水
産分野、建設用資材、医療用品、家具類の構成部品等を
挙げることができる。

【００９１】より具体的な用途としては、電気・電子・
通信機器では、例えば、プリンタ、コンピュータ、ワー
ドプロセッサー、キーボード、小型情報端末機（ＰＤ
Ａ）、電話機、携帯電話、ファクシミリ、複写機、電子
式金銭登録機（ＥＣＲ）、電卓、電子手帳、電子辞書、
カード、ホルダー、文具等の事務・ＯＡ機器、洗濯機、
冷蔵庫、掃除機、電子レンジ、照明器具、ゲーム機、ア
イロン、炬燵等の家電製品、テレビ、ＶＴＲ、ビデオカ
メラ、カセット付きラジオ、テープレコーダー、ミニデ
ィスクプレーヤー、ＣＤプレーヤー、スピーカー、液晶
ディスプレイ等のＡＶ機器、コネクター、リレー、コン
デンサ、スイッチ、プリント基板材料、コイルボビン、
半導体封止材料、電線、ケーブル、トランス、偏向ヨー
ク、分電盤、時計等の電気・電子部品及び通信機器等を
挙げることができる。

【００９２】更に、各種のいすや座席の詰め物、表地、
ベルト、天井や壁張り、コーパーチブルトップ、アーム
レスト、ドアトリム、リアパッケージトレイ、カーペッ
ト、マット、サンバイザー、ホイールカバー、マットレ
スカバー、エアバッグ、絶縁材、吊り手、吊り手帯、電
線被覆材、電気絶縁材、塗料、コーティング材、上張り
材、床材、隅壁、カーペット、壁紙、壁装材、外装材、
内装材、屋根材、防音板、断熱板、窓材等の自動車、車
両、船舶、航空機及び建築用材料、衣類、カーテン、シ
ーツ、合板、合繊板、絨毯、玄関マット、シート、バケ
ツ、ホース、容器、めがね、鞄、ケース、ゴーグル、ス
キー板、スノーボード板、スケートボード板、ラケッ
ト、テント、楽器等の生活・スポーツ用品を挙げること
ができる。

【００９３】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げ、本発明を具
体的に説明する。尚、以下において、単に「部」とある
のは、特に断らない限り重量部を意味する。

【００９４】実施例１（パラフェニレンによる架橋構造
を有するフェノキシホスファゼン系化合物の合成） フェノール１０３．５ｇ（１．１モル）、水酸化ナトリ
ウム４４．０ｇ（１．１モル）、水５０ｇ及びトルエン
５００ｍｌの混合物を加熱還流し、水のみを系外に取り
除くことにより、ナトリウムフェノラートのトルエン溶
液を調製した。

【００９５】前記反応と並行し、２リットル四つ口フラ
スコにハイドロキノン１６．５ｇ（０．１５モル）、フ
ェノール９４．１ｇ（１．０モル）、水酸化リチウム３
１．１ｇ（１．３モル）、水５２ｇ及びトルエン６００
ｍｌの混合物を入れ、加熱還流し、水のみを系外に取り
除くことにより、ハイドロキノンとフェノールのリチウ
ム塩のトルエン溶液を調製した。このトルエン溶液にジ
クロルホスファゼンオリゴマー（３量体７２％、４量体
１７％、５量体及び６量体７％、７量体２％、８量体以
上２％の混合物）１．０ユニットモル（１１５．９ｇ）
を含む２０％クロルベンゼン溶液５８０ｇを、攪拌下で
３０℃以下で滴下した後、１１０℃で３時間攪拌反応し
た。次に、先に調製したナトリウムフェノラートのトル
エン溶液を攪拌下で添加した後、１１０℃で４時間反応
を継続した。

【００９６】反応終了後、反応混合物を３％水酸化ナト
リウム水溶液１．０リットルで３回洗浄し、次に、水
１．０リットルで３回洗浄した。トルエンを減圧留去
後、１２０℃、４ｈＰａ以下で１１時間加熱真空乾燥し
た。得られた無溶媒の溶融物（２１１ｇ）に、活性白土
（商品名：ガレオンアースＶ２、水澤化学工業（株）
製）１０ｇを添加し、１２０℃で１時間撹拌した。活性
白土を熱時濾別後、冷却し、２０８ｇの白色固体を得
た。

【００９７】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の酸価は０．００８ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解
塩素は０．０２％、リン含有率並びにＣＨＮ元素分析値
より最終物の組成は、［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−ｐ−Ｐｈ−Ｏ
−）_0.15（−Ｏ−Ｐｈ）_1.7］であることが確認され
た。

【００９８】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算（ＧＰＣ分析による）で１０７０であり、ＴＧ／ＤＴ
Ａ分析では明確な融点は示さず、分解開始温度は３０８
℃、５％重量減少温度は３１３℃であった。

【００９９】またアセチル化法によって残存ヒドロキシ
基の定量を行った結果、検出限界（サンプル１ｇ当たり
のヒドロキシ当量として：１×１０^-6当量／ｇ以下）以
下であった。

【０１００】ポリカーボネート樹脂（商品名：ユーピロ
ンＳ−２０００Ｆ、三菱エンジニアリングプラスチック
ス（株）製、以下同じ）７５部、ＡＢＳ樹脂（商品名：
サンタックＵＴ−６１、三井化学（株）製、以下同じ）
２５部及びポリテトラフルオロエタン（ＰＴＦＥ、商品
名：フルオンＧ３０７、旭硝子（株）製）０．５部に、
上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物１
２．５部を２軸混練機にて混練・ペレット化した後、射
出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ１．４ｍｍの円板に成
形した。この円板の黄変度（（△ＹＩ）、ＰＣ樹脂７５
部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰＴＦＥ０．５部から成形し
た円板の黄色度（ＹＩ）基準）をスガ試験機（株）製カ
ラーコンピュータにて測定したところ、２．２であっ
た。

【０１０１】ポリカーボネート樹脂１００部及びＰＴＦ
Ｅ ０．５部に、上記で得られた架橋フェノキシホスフ
ァゼン化合物５．０部を２軸混練機にて２７０℃で混練
・ペレット化した後、そのペレットをテトラヒドロフラ
ン（ＴＨＦ）に溶解し、ＧＰＣ分析にて重量平均分子量
（Ｍｗ）を測定したところ、５５２００（ポリスチレン
換算）であった。尚、ポリカーボネート樹脂１００部及
びＰＴＦＥ０．５部の混練物のＭｗは５５４００（ポリ
スチレン換算）であった。このことから、上記で得られ
た架橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した場合で
も、ポリカーボネート樹脂の重量平均分子量は殆ど変わ
っておらず、ポリカーボネート樹脂の分解が抑制されて
いることがわかる。

【０１０２】実施例２（パラフェニレンによる架橋構造
を有するフェノキシホスファゼン系化合物の合成） 無溶媒の溶融物を得るまでは実施例１と同様に合成し
た。その後、この溶融物をテトラヒドロフラン１．０リ
ットルとメタノール０．１リットルの混合溶媒に溶解
し、水素化ホウ素ナトリウム２１ｇを添加し室温下で２
４時間撹拌した。

【０１０３】反応終了後、反応混合物を２．５％塩酸水
溶液にて中和した後、有機層を減圧下で濃縮した。得ら
れた固体をトルエン１．０リットルに溶解し、２．５％
水酸化ナトリウム水溶液で２回、２．５％塩酸水溶液で
１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、２％硫酸
ナトリウム水溶液で２回洗浄した後、有機層を減圧下で
濃縮した。得られた生成物を８０℃、４ｈＰａ以下で１
１時間加熱真空乾燥して、２０２ｇの白色固体を得た。

【０１０４】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の酸価は０．００９ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解
塩素は０．０２％、リン含有率並びにＣＨＮ元素分析値
より最終物の組成は、［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−ｐ−Ｐｈ−Ｏ
−）_0.15（−Ｏ−Ｐｈ）_1.7］であることが確認され
た。

【０１０５】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算（ＧＰＣ分析による）で１０７０であり、ＴＧ／ＤＴ
Ａ分析では明確な融点は示さず、分解開始温度は３０８
℃、５％重量減少温度は３１３℃であった。

【０１０６】またアセチル化法によって残存ヒドロキシ
基の定量を行った結果、検出限界以下であった。

【０１０７】ポリカーボネート（以下、ＰＣと略記）樹
脂（ユーピロンＳ−２０００Ｆ）７５部、ＡＢＳ樹脂
（サンタック ＵＴ−６１）２５部及びＰＴＦＥ ０．
５部に、上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化
合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペレット化した
後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ１．４ｍｍの円
板に成形した。この円板の△ＹＩをスガ試験機（株）製
カラーコンピュータにて測定したところ、２．４であっ
た。

【０１０８】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ０．５部
に、本架橋フェノキシホスファゼン化合物５．０部を２
軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化した後、その
ペレットをＴＨＦに溶解し、 ＧＰＣ分析にて重量平均
分子量（Ｍｗ）を測定したところ、５５１００（ポリス
チレン換算）であった。尚、ＰＣ樹脂１００部及びＰＴ
ＦＥ０．５部の混練物のＭｗは、５５４００（ポリスチ
レン換算）であった。このことから、上記で得られた架
橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した場合でも、
ＰＣ樹脂の重量平均分子量は殆ど変わっておらず、ＰＣ
樹脂の分解が抑制されていることがわかる。

【０１０９】比較例１（パラフェニレンによる架橋構造
を有するフェノキシホスファゼン系化合物の合成） 反応後の後処理時に活性白土による処理を行わない以外
は、実施例１と同様に合成し、２１１ｇの微黄色固体を
得た。

【０１１０】この架橋フェノキシホスファゼン化合物の
酸価は０．０３９ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解塩素は０．
０４％、リン含有率並びにＣＨＮ元素分析値より最終物
の組成は、［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−ｐ−Ｐｈ−Ｏ−）_0.15（−
Ｏ−Ｐｈ）_1.7］であることが確認された。

【０１１１】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算（ＧＰＣ分析による）で１０８０であり、ＴＧ／ＤＴ
Ａ分析では明確な融点は示さず、分解開始温度は３０６
℃、５％重量減少温度は３１１℃であった。アセチル化
法による残存ヒドロキシ基量は検出限界以下であった。

【０１１２】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ ０．５部に、上記で得られた架橋フェノキシホ
スファゼン化合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペ
レット化した後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ
１．４ｍｍの円板に成形した。この円板の△ＹＩは５．
２であった。

【０１１３】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ ０．５部
に、上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物
５．０部を２軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化
した後、そのペレットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析に
て重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ５４８００
（ポリスチレン換算）だった。尚、ＰＣ樹脂１００部及
びＰＴＦＥ ０．５部の混練物のＭｗは５５４００（ポ
リスチレン換算）であった。このことから、上記で得ら
れた架橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した場合
には、ＰＣ樹脂の重量平均分子量が低下し、ＰＣ樹脂が
分解されていることがわかる。

【０１１４】実施例３（２，２−ビス（ｐ−オキシフェ
ニル）イソプロピリデン基による架橋構造を有するフェ
ノキシホスファゼン系化合物の合成） フェノール６５．９ｇ（０．７モル）及びトルエン５０
０ｍｌを１リットル四つ口フラスコに入れ、攪拌下、内
部の液温を２５℃に保ちつつ、金属ナトリウム１４．９
ｇ（０．６５グラム原子）を細かく裁断して投入した。
投入終了後７７〜１１３℃で金属ナトリウムが完全に消
失するまで８時間攪拌を続けた。

【０１１５】前記反応と並行し、ビスフェノール−Ａ
５７．１ｇ（０．２５モル）、フェノール１０３．５ｇ
（１．１モル）及びＴＨＦ ８００ｍｌを３リットル四
つ口フラスコに入れ、攪拌下、内部の液温を２５℃に保
ちつつ、金属リチウム１１．１ｇ（１．６グラム原子）
を細かく裁断して投入した。投入終了後、６１〜６８℃
で金属リチウムが完全に消失するまで、８時間攪拌を続
けた。このスラリー溶液にジクロルホスファゼンオリゴ
マー（濃度：３７％、クロルベンゼン溶液３１３ｇ、組
成：３量体７２％、４量体１７％、５量体及び６量体７
％、７量体２％、８量体以上２％の混合物）１．０モル
（１１５．９ｇ）を攪拌下、内部の液温を２０℃以下に
保ちつつ、１時間かけて滴下した後、８０℃で２時間反
応した。次いで攪拌下、内部の液温を２０℃に保ちつ
つ、別途調製したナトリウムフェノラート溶液を１時間
かけて添加した後、８０℃で５時間反応した。

【０１１６】反応終了後、反応混合物を濃縮しＴＨＦを
除き、新たにトルエン１リットルを添加した。このトル
エン溶液を２％水酸化ナトリウム水溶液１リットルで３
回洗浄し、次に、水１リットルで３回洗浄した後、室温
下で活性アルミナ（和光純薬工業（株）製）５０ｇで作
製したカラムに通した。得られた有機層を減圧下で濃縮
した。得られた生成物を８０℃、４ｈＰａ以下で１１時
間加熱真空乾燥して、２２７ｇの白色固体を得た。

【０１１７】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の酸価は０．００７ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解
塩素は０．０３％、リン含有率並びにＣＨＮ元素分析値
より最終物の組成は、［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ
₃）₂−Ｐｈ−Ｏ−）_0.25（−Ｏ−Ｐｈ）_1.50］であるこ
とが確認された。

【０１１８】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算（ＧＰＣ分析による）で１１２０であり、ＴＧ／ＤＴ
Ａ分析では明確な融点は示さず、分解開始温度は３１０
℃、５％重量減少温度は３１６℃であった。アセチル化
法による残存ヒドロキシ基量は検出限界以下であった。

【０１１９】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ ０．５部に、上記で得られた架橋フェノキシホ
スファゼン化合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペ
レット化した後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ
１．４ｍｍの円板に成形した。この円板の△ＹＩは２．
３であった。

【０１２０】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ ０．５部
に、上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物
５．０部を２軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化
した後、そのペレットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析に
て重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ５５１００
（ポリスチレン換算）だった。尚、ＰＣ樹脂１００部及
びＰＴＦＥ ０．５部の混練物のＭｗは５５４００（ポ
リスチレン換算）であった。このことから、上記で得ら
れた架橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した場合
でも、ＰＣ樹脂の重量平均分子量は殆ど変わっておら
ず、ＰＣ樹脂の分解が抑制されていることがわかる。

【０１２１】実施例４（２，２−ビス（ｐ−オキシフェ
ニル）イソプロピリデン基による架橋構造を有するフェ
ノキシホスファゼン系化合物の合成） 反応終了後の処理を、反応混合物を濃縮しＴＨＦを除
き、新たにトルエン１リットルを添加した。このトルエ
ン溶液を５％チオ硫酸ナトリウム水溶液０．５リットル
で３回、２％硫酸ナトリウム水溶液で３回洗浄した後、
有機層を減圧下で濃縮した。得られた生成物を８０℃、
４ｈＰａ以下で１１時間加熱真空乾燥した以外は実施例
３と同様に合成し、２２０ｇの白色固体を得た。

【０１２２】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の酸価は０．００８ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解
塩素は０．０３％、リン含有率並びにＣＨＮ元素分析値
より最終物の組成は、［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ
₃）₂−Ｐｈ−Ｏ−）_0.25（−Ｏ−Ｐｈ）_1.50］であるこ
とが確認された。

【０１２３】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算（ＧＰＣ分析による）で１１２０であり、ＴＧ／ＤＴ
Ａ分析では明確な融点は示さず、分解開始温度は３０９
℃、５％重量減少温度は３１５℃であった。

【０１２４】また、アセチル化法によって残存ヒドロキ
シル基の定量を行った結果、検出限界以下であった。

【０１２５】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ０．５部に、上記で得られた架橋フェノキシホス
ファゼン化合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペレ
ット化した後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ１．
４ｍｍの円板に成形した。この円板の△ＹＩは、２．６
であった。

【０１２６】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ０．５部
に、上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物
５．０部を２軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化
した後、そのペレットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析に
て重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、５５００
０（ポリスチレン換算）だった。尚、ＰＣ樹脂１００部
及びＰＴＦＥ０．５部の混練物のＭｗは、５５４００
（ポリスチレン換算）であった。このことから、上記で
得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した
場合でも、ＰＣ樹脂の重量平均分子量は殆ど変わってお
らず、ＰＣ樹脂の分解が抑制されていることがわかる。

【０１２７】比較例２（２，２−ビス（ｐ−オキシフェ
ニル）イソプロピリデン基による架橋構造を有するフェ
ノキシホスファゼン系化合物の合成） 反応後の後処理時に活性アルミナによるカラム処理を行
わない以外は、実施例３と同様に合成し、２２９ｇの白
色固体を得た。

【０１２８】この架橋フェノキシホスファゼン化合物の
酸価は０．０３５ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解塩素は０．
０７％、リン含有率並びにＣＨＮ元素分析値より最終物
の組成は、［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｐｈ
−Ｏ−）_0.25（−Ｏ−Ｐｈ） _1.50］であることが確認さ
れた。

【０１２９】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算（ＧＰＣ分析による）で１１３０であり、ＴＧ／ＤＴ
Ａ分析では明確な融点は示さず、分解開始温度は３０８
℃、５％重量減少温度は３１３℃であった。アセチル化
法による残存ヒドロキシ基量は検出限界以下であった。

【０１３０】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ ０．５部に、上記で得られた架橋フェノキシホ
スファゼン化合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペ
レット化した後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ
１．４ｍｍの円板に成形した。この円板の△ＹＩは、
５．６であった。

【０１３１】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ ０．５部
に、上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物
５．０部を２軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化
した後、そのペレットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析に
て重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ５４７００
（ポリスチレン換算）だった。尚、ＰＣ樹脂１００部及
びＰＴＦＥ ０．５部の混練物のＭｗは５５４００（ポ
リスチレン換算）であった。このことから、上記で得ら
れた架橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した場合
には、ＰＣ樹脂の重量平均分子量が低下し、ＰＣ樹脂が
分解されていることがわかる。

【０１３２】実施例５ （４，４−スルホニルジフェニ
レン（ビスフェノール−Ｓ残基）による架橋構造を有す
るフェノキシホスファゼン系化合物の合成） フェノール３７．６ｇ（０．４モル）及びＴＨＦ ５０
０ｍｌを１リットル四つ口フラスコに入れ、攪拌下、内
部の液温を２５℃に保ちつつ、金属ナトリウム９．２ｇ
（０．４５グラム原子）を細かく裁断して投入した。投
入終了後６５〜７２℃で金属ナトリウムが完全に消失す
るまで５時間攪拌を続けた。

【０１３３】前記反応と並行し、１リットルの四つ口フ
ラスコで、フェノール１６０．０ｇ（１．７０モル）と
ビスフェノール−Ｓ １２．５ｇ（０．０５モル）をＴ
ＨＦ５００ｍｌに溶解し、２５℃以下で金属ナトリウム
４１．４ｇ（１．８グラム原子）を投入し、投入終了後
１時間かけて６１℃まで昇温、６１℃〜６８℃で６時間
攪拌を続け、ナトリウムフェノラート混合溶液を調製し
た。この溶液をジクロルホスファゼンオリゴマー（３量
体７２％、４量体１７％、５量体及び６量体７％、７量
体２％、８量体以上２％の混合物）１．０ユニットモル
（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン溶液５８
０ｇに、２５℃以下の冷却・攪拌下で滴下後、７１〜７
３℃で５時間攪拌反応した。次に、先に調製したナトリ
ウムフェノラート混合溶液を滴下した後、７１〜７３℃
で３時間反応を継続した。

【０１３４】反応終了後、反応混合物を濃縮し、クロル
ベンゼン５００ｍｌに再溶解した後、５％水酸化ナトリ
ウム水洗浄を３回、５％硫酸洗浄、５％炭酸水素ナトリ
ウム水洗浄、水洗３回を行い、活性炭（カルボラフィ
ン、武田薬品工業（株）製）１０ｇを添加し、室温下で
１時間撹拌した。活性炭を濾別後、濃縮乾固して白色固
体２１６ｇを得た。

【０１３５】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の酸価は０．００６ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解
塩素は０．０１％以下であり、燐含有率並びにＣＨＮ元
素分析値より、この物の組成はほぼ［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐ
ｈ−ＳＯ₂−Ｐｈ−Ｏ−）_{0.0 5}（−Ｏ−Ｐｈ）_1.90］で
あることが確認された。

【０１３６】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算で１０７０であり、ＴＧ／ＤＴＡ分析による融解温度
（Ｔｍ）は１０６℃、分解開始温度は３２３℃、５％重
量減少温度は３３７℃であった。アセチル化法による残
存ヒドロキシ基量は検出限界以下であった。

【０１３７】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ ０．５部に、上記で得られた架橋フェノキシホ
スファゼン化合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペ
レット化した後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ
１．４ｍｍの円板に成形した。この円板の△ＹＩは、
２．０であった。

【０１３８】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ ０．５部
に、上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物
５．０部を２軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化
した後、そのペレットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析に
て重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、５５２０
０（ポリスチレン換算）だった。尚、ＰＣ樹脂１００部
及びＰＴＦＥ ０．５部の混練物のＭｗは５５４００
（ポリスチレン換算）であった。このことから、上記で
得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した
場合でも、ＰＣ樹脂の重量平均分子量は殆ど変わってお
らず、ＰＣ樹脂の分解が抑制されていることがわかる。

【０１３９】実施例６（４，４−スルホニルジフェニレ
ン（ビスフェノール−Ｓ残基）による架橋構造を有する
フェノキシホスファゼン系化合物の合成） 反応後の後処理時の活性炭による処理以降を５０％水酸
化カリウム水溶液２５ｇを加え、１２０℃で撹拌しなが
ら１，３−プロパンスルトン２５ｇを徐々に滴下した
後、さらに１２０℃で２時間撹拌した。反応後、５％重
曹水溶液で３回、２％芒硝水溶液で２回洗浄した後、濃
縮乾固に変更した以外は実施例５と同様に合成し、白色
固体２１１ｇを得た。

【０１４０】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の酸価は０．００８ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解
塩素は０．０１％以下であり、燐含有率並びにＣＨＮ元
素分析値より、この物の組成はほぼ［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐ
ｈ−ＳＯ₂−Ｐｈ−Ｏ−）_{0.0 5}（−Ｏ−Ｐｈ）_1.90］で
あることを確認した。

【０１４１】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算で１０７０であり、ＴＧ／ＤＴＡ分析による融解温度
（Ｔｍ）は１０６℃、分解開始温度は３２２℃、５％重
量減少温度は３３７℃であった。また、アセチル化法に
よって残存ヒドロキシ基の定量を行った結果、検出限界
以下であった。

【０１４２】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ０．５部に、上記で得られた架橋フェノキシホス
ファゼン化合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペレ
ット化した後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ１．
４ｍｍの円板に成形した。この円板の△ＹＩは、２．１
であった。

【０１４３】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ０．５部
に、上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物
５．０部を２軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化
した後、そのペレットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析に
て重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、５５２０
０（ポリスチレン換算）だった。尚、ＰＣ樹脂１００部
及びＰＴＦＥ０．５部の混練物のＭｗは、５５４００
（ポリスチレン換算）であった。このことから、上記で
得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した
場合でも、ＰＣ樹脂の重量平均分子量は殆ど変わってお
らず、ＰＣ樹脂の分解が抑制されていることがわかる。

【０１４４】比較例３（４，４−スルホニルジフェニレ
ン（ビスフェノール−Ｓ残基）による架橋構造を有する
フェノキシホスファゼン系化合物の合成） 反応後の後処理時に活性炭による処理を行わない以外
は、実施例５と同様に合成し、淡黄色固体２１８ｇを得
た。

【０１４５】この架橋フェノキシホスファゼン化合物の
酸価は０．０３２ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解塩素は０．
０１％以下であり、燐含有率並びにＣＨＮ元素分析値よ
り、この物の組成はほぼ［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−ＳＯ₂
−Ｐｈ−Ｏ−）_0.05（−Ｏ−Ｐｈ）_1.90］であることを
確認した。

【０１４６】重量平均分子量（Ｍｗ）はポリスチレン換
算で１０８０であり、ＴＧ／ＤＴＡ分析による融解温度
（Ｔｍ）は１０３℃、分解開始温度は３２０℃、５％重
量減少温度は３３４℃、アセチル化法による残存ヒドロ
キシ基量は検出限界以下であった。

【０１４７】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ ０．５部に、上記で得られた架橋フェノキシホ
スファゼン化合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペ
レット化した後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ
１．４ｍｍの円板に成形した。この円板の△ＹＩは５．
１であった。

【０１４８】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ ０．５部
に、上記で得られた架橋フェノキシホスファゼン化合物
５．０部を２軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化
した後、そのペレットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析に
て重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ５４７００
（ポリスチレン換算）だった。尚、ＰＣ樹脂１００部及
びＰＴＦＥ ０．５部の混練物のＭｗは５５４００（ポ
リスチレン換算）であった。このことから、上記で得ら
れた架橋フェノキシホスファゼン化合物を配合した場合
には、ＰＣ樹脂の重量平均分子量が低下し、ＰＣ樹脂が
分解されていることがわかる。

【０１４９】実施例７（フェノキシホスファゼン系化合
物の合成） 撹拌機、温度計及び還流冷却器を備えた１リットル四つ
口フラスコにフェノール１２３．０ｇ（１．３モル）を
入れ、ＴＨＦ５００ｍｌを加え均一に溶解した。次に、
２５℃以下で金属ナトリウム２７．６ｇを投入し、投入
終了後１時間かけて６１℃まで昇温、６１℃〜６８℃で
６時間撹拌を続け、ナトリウムフェノラート溶液を調製
した。

【０１５０】前記反応と並行し、２リットル四ツ口フラ
スコに、５８．０ｇ（０．５ユニットモル）のヘキサク
ロロシクロトリホスファゼン及びオクタクロロシクロテ
トラホスファゼンの混合物（３量体７６％、４量体２４
％)をＴＨＦ２５０ｍｌに溶解し、２５℃以下で撹拌し
た状態で、先に調製した前記ナトリウムフェノラート溶
液を滴下した。滴下後、７１〜７３℃で１５時間撹拌反
応した。反応終了後、反応混合物を濃縮し、５００ｍｌ
のトルエンに再溶解した後、水洗、５％水酸化ナトリウ
ム水溶液洗浄を３回、５％塩酸水溶液洗浄、５％炭酸水
素ナトリウム水溶液洗浄、水洗を行った。このトルエン
溶液にシリカゲル（商品名：ワコーゲルＣ−２００、和
光純薬工業（株）製）１０ｇを添加し、室温下で１時間
撹拌した。シリカゲルを濾別後、有機層を減圧下で濃縮
した。得られた生成物を８０℃、４ｈＰａ以下で１１時
間加熱真空乾燥して、白色固体１０２ｇを得た。

【０１５１】上記で得られたフェノキシホスファゼン化
合物の酸価は０．０１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解塩素
は０．０３％以下であった。ＴＧ／ＤＴＡ分析による融
解温度（Ｔｍ）は１０９℃、分解開始温度は３２６℃、
５％重量減少温度は３４０℃であった。アセチル化法に
よる残存ヒドロキシ基量は検出限界以下であった。

【０１５２】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ ０．５部に、上記で得られたフェノキシホスフ
ァゼン化合物１２．５部を２軸混練機にて混練・ペレッ
ト化した後、射出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ１．４
ｍｍの円板に成形した。この円板の△ＹＩは２．３であ
った。

【０１５３】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ ０．５部
に、上記で得られたフェノキシホスファゼン化合物５．
０部を２軸混練機にて２７０℃で混練・ペレット化した
後、そのペレットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析にて重
量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、５５０００
（ポリスチレン換算）だった。尚、ＰＣ樹脂１００部及
びＰＴＦＥ ０．５部の混練物のＭｗは５５４００（ポ
リスチレン換算）であった。このことから、上記で得ら
れたフェノキシホスファゼン化合物を配合した場合で
も、ＰＣ樹脂の重量平均分子量は殆ど変わっておらず、
ＰＣ樹脂の分解が抑制されていることがわかる。

【０１５４】比較例４（フェノキシホスファゼン系化合
物の合成） 反応後の後処理時に活性炭による処理を行わない以外
は、実施例７と同様に合成し、微黄色固体１０９ｇを得
た。

【０１５５】このフェノキシホスファゼン化合物の酸価
は０．０４５ｍｇＫＯＨ／ｇ、加水分解塩素は０．０８
％であった。ＴＧ／ＤＴＡ分析による融解温度（Ｔｍ）
は１０７℃、分解開始温度は３２４℃、５％重量減少温
度は３３８℃、アセチル化法による残存ヒドロキシ基量
は検出限界以下であった。

【０１５６】ＰＣ樹脂７５部、ＡＢＳ樹脂２５部及びＰ
ＴＦＥ０．５部に、本フェノキシホスファゼン化合物１
２．５部を２軸混練機にて混練・ペレット化した後、射
出成形機にて直径５０ｍｍ、厚さ１．４ｍｍの円板に成
形した。この円板の△ＹＩは６．４であった。

【０１５７】ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ ０．５部
に、上記で得られたフェノキシホスファゼン化合物５．
０部を２軸混練機にて混練・ペレット化した後、そのペ
レットをＴＨＦに溶解し、ＧＰＣ分析にて重量平均分子
量（Ｍｗ）を測定したところ、５３５００（ポリスチレ
ン換算）であった。尚、ＰＣ樹脂１００部及びＰＴＦＥ
０．５部の混練物のＭｗは、５５４００（ポリスチレ
ン換算）であった。このことから、上記で得られたフェ
ノキシホスファゼン化合物を配合した場合には、ＰＣ樹
脂の重量平均分子量が低下し、ＰＣ樹脂が分解されてい
ることがわかる。

【０１５８】実施例１〜７及び比較例１〜４の結果か
ら、本発明の改質されたホスファゼン系化合物を用いる
場合には、合成樹脂、特にＰＣ樹脂とＡＢＳ樹脂との混
合物の色相（白度）を損なわないことが明らかである。 実施例８〜１４及び比較例５〜８ 表１に示す組成（部）で樹脂、実施例１〜７及び比較例
１〜４で得られたフェノキシホスファゼン系化合物並び
にポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を混合し、
本発明の樹脂組成物及び比較用の樹脂組成物を製造し
た。尚、樹脂のうち、ＰＣ樹脂、ＡＢＳ樹脂及びＰＴＦ
Ｅとしては上記実施例１に記載されているものを使用
し、それ以外のものは次のものを用いた。

【０１５９】ＰＢＴ：商品名トレコン１２００Ｓ、東レ
（株）製 ｍ−ＰＰＥ：商品名ザイロンＸ−９１０８、旭化成工業
（株）製 得られた樹脂組成物を各種物性試験に供した。試験方法
は、下記の通りである。 難燃性（ＵＬ９４Ｖ）：ＵＬ９４Ｖ規格に従い、１.６
ｍｍ厚のテストピースを用いて評価した。 流動性（ＭＦＲ）：ＪＩＳ Ｋ ７２１０に従い、下記
に示す条件１〜３でＭＦＲを測定した。

【０１６０】 条件１：２１．１８Ｎ（２．１６ｋｇｆ）２８０℃ 条件２：３７．２６Ｎ（３．８０ｋｇｆ）２３０℃ 条件３：２１．１８Ｎ（２．１６ｋｇｆ）２７５℃ 耐熱性（ＨＤＴ）：ＪＩＳ Ｋ ７１９１に従い、４ｍ
ｍ厚のテストピースを用い、１.８２ＭＰａ（１８.５ｋ
ｇｆ／ｃｍ²）で評価した。 耐衝撃性（ＩＺＯＤ）：ＪＩＳ Ｋ ７１１０に従い、
４.１ｍｍ厚のノッチ付きテストピースのアイゾット衝
撃強度を測定した。

【０１６１】結果を表１に併記する。

【０１６２】

【表１】

【０１６３】以上の結果から、本発明の方法で処理され
たフェノキシホスファゼン系化合物を配合しても、非処
理のフェノキシホスファゼン系化合物と同等又はそれ以
上の難燃性、耐熱性及び機械的特性を実現できることが
わかる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 85/02 Ｃ０８Ｌ 85/02 101/00 101/00 Ｃ０９Ｋ 21/10 Ｃ０９Ｋ 21/10 21/12 21/12 21/14 21/14 (72)発明者 薮原 忠男 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 亀島 隆 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 西岡 洋一 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 高瀬 裕行 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内 Ｆターム(参考） 4F071 AA12 AA14 AA15 AA20 AA22 AA33 AA34 AA41 AA42 AA43 AA50 AA51 AA53 AA54 AA60 AA61 AA68 AE07 AH03 AH04 AH07 AH12 AH19 BB01 BB03 BB05 BB06 BC01 BC07 4H028 AA23 AA29 AA30 AA31 AA36 AA38 AA40 AA44 AA48 BA06 4H050 AA02 AD17 4J002 AC031 AC061 BB031 BB121 BC031 BC061 BF051 BG021 BN121 BN151 BN161 CC031 CC161 CC181 CD001 CF061 CF071 CF161 CF211 CG001 CH071 CH091 CK021 CL001 CM031 CM041 CN011 CN031 CP031 CQ012 FD132 GG00 GL00 GM00 GN00 GQ00 4J030 CB55 CF09 CG22

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フェノキシホスファゼン系化合物を、活
   性炭、シリカゲル、活性アルミナ、活性白土、合成ゼオ
   ライト及び高分子吸着剤から選ばれた少なくとも１種の
   吸着剤で処理することを特徴とするフェノキシホスファ
   ゼン系化合物の改質方法。
2. 【請求項２】 フェノキシホスファゼン系化合物が、
   （１）一般式 【化１】 〔式中ｍは３〜２５の整数を示す。Ｐｈはフェニル基を
   示す。〕で表される環状フェノキシホスファゼン化合
   物、（２）一般式 【化２】 〔式中Ｘ¹は基−Ｎ＝Ｐ(ＯＰｈ)₃又は基−Ｎ＝Ｐ(Ｏ)Ｏ
   Ｐｈを示し、Ｙ¹は基−Ｐ(ＯＰｈ)₄又は基−Ｐ(Ｏ)(Ｏ
   Ｐｈ)₂を示す。ｎは３〜１００００の整数を示す。Ｐｈ
   は前記に同じ。〕で表される鎖状フェノキシホスファゼ
   ン化合物、並びに（３）前記環状フェノキシホスファゼ
   ン化合物及び鎖状フェノキシホスファゼン化合物から選
   ばれる少なくとも１種のホスファゼン化合物が、ｏ−フ
   ェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基及び
   一般式 【化３】 〔式中Ａは−Ｃ(ＣＨ₃)₂−、−ＳＯ₂−、−Ｓ−又は−
   Ｏ−を示す。ａは０又は１を示す。〕で表されるビスフ
   ェニレン基から選ばれる少なくとも１種の架橋基により
   架橋されてなる化合物であって、（ａ）該架橋基はホス
   ファゼン化合物のフェニル基が脱離した２個の酸素原子
   間に介在し、（ｂ）フェニル基の含有割合が上記フェノ
   キシホスファゼン化合物（１）及び／又は（２）中の全
   フェニル基の総数を基準に５０〜９９．９％であり、且
   つ（ｃ）分子内にフリーの水酸基を有しない架橋フェノ
   キシホスファゼン化合物から成る群から選ばれる少なく
   とも１種である請求項１に記載のフェノキシホスファゼ
   ン系化合物の改質方法。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載の方法により改質
   されたフェノキシホスファゼン系化合物。
4. 【請求項４】 合成樹脂に請求項１又は２に記載の方法
   で得られるフェノキシホスファゼン系化合物を配合して
   なる難燃性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の難燃性樹脂組成物を成
   形して得られる難燃性樹脂成形体。