JP2003188218A - プローブカード及びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法 - Google Patents

プローブカード及びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法

Info

Publication number
JP2003188218A
JP2003188218A JP2001384455A JP2001384455A JP2003188218A JP 2003188218 A JP2003188218 A JP 2003188218A JP 2001384455 A JP2001384455 A JP 2001384455A JP 2001384455 A JP2001384455 A JP 2001384455A JP 2003188218 A JP2003188218 A JP 2003188218A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
probe card
probe
chip
needle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001384455A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Taguchi
和男 田口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2001384455A priority Critical patent/JP2003188218A/ja
Publication of JP2003188218A publication Critical patent/JP2003188218A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高周波に対応するプローブ針で且つ多ピンへ
の対応が容易なプローブカードを提供する。 【解決手段】 本発明のプローブカードは、半導体基板
に形成され、製品チップの電極とミラー位置に配置され
たスタッドバンプ22を有するニードル用チップ21
と、このチップ21上に配置されたプローブカード基板
20と、チップ21下に配置され、基板20にチップ2
1を実装する第1のフィルム23と、第1のフィルム下
に配置された第2のフィルム13と、を具備する。第1
のフィルム23は、バンプ22が挿入されたビアホール
23a,23bと、バンプ22と基板20とが電気的に
接続された配線パターンと、を有し、第2のフィルム1
3は、バンプ22が挿入されたホール23c,23d
と、接地電位に接続される導電膜と、を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プローブカード及
びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のICプローブカードはプローブニ
ードルを備えており、このプローブニードルはW、Be
Cuなどを材料とする針を曲げ加工した後、半田付けな
どでプローブカード上に固定されるものである。プロー
ブ検査を行う際は、プローブニードルの針先を精密にコ
ントロールすることで、ニードルの接触圧とパッドもし
くはバンプ表面の保護をバランスさせている。また、プ
ローブ検査において高周波を用いて測定する際は、プロ
ーブニードルとそれをコネクタに継ぐ配線を複数用いる
ことでシールドしたり、あるいは同軸化することで、ク
ロスカップルや輻射ノイズの低減を図っていた。
【0003】ウエハ上に多数個形成された半導体ICの
電気的な特性試験を行うために、プローバテストシステ
ムが用いられている。このシステムは、各半導体ICの
電極パターンに応じて配置された複数の導電体のプロー
ブニードル(プローブ針)を備えたプローブカードを有
している。
【0004】図8は、従来の高周波プローブカードの一
部切欠き斜視図である。この高周波プローブカードは、
ガラスエポキシ樹脂、アルミナセラミック等からなる2
枚の平板状の誘電体基板110c、110dを有し、そ
の2枚の誘電体基板が接着剤等で積層状態に接合されて
いる。この誘電体基板には、円形の開口部110aと図
示せぬ高周波用の測定器が取り付けられるコネクタ部1
10bとが形成されている。上層の誘電体基板110c
の表面には銅箔等からなる複数の電源用導体111が形
成され、さらに上層と下層の誘電体基板110c、11
0d間には銅箔等からなる複数の帯状ストリップ導体1
12が形成されている。この各ストリップ導体112は
幅Wを有し、電源用導体111と共に、誘電体基板の開
口部110aからコネクタ部110bまで延設されてい
る。
【0005】下層の誘電体基板110dの裏面には、そ
の全面又はストリップ導体112と対向する箇所に、ア
ースと接続される銅箔等のアース面導体113が形成さ
れている。これらのアース面導体113とストリップ導
体112とは、厚みHの誘電体基板110dを介してほ
ぼ平行に配置され、マイクロストリップ線路を構成して
いる。さらに、誘電体基板110c、110dにおける
開口部110aの壁面には、その開口部110aの下方
へ突出する複数のプローブ針114が取り付けられ、そ
れぞれ電源用導体111及びストリップ導体112に接
続されている。
【0006】このような高周波プローブカードを用いて
高周波素子のプロービングテストを行うには、誘電体基
板110c、110dのコネクタ部110bを測定器に
取り付け、プローブ針114の先端を高周波素子の入出
力端子に機械的に接触させる。測定器から電源電流及び
高周波信号を出力すると、電源電流は電源用導体111
及びプローブ針114を通して高周波素子に供給される
と共に、高周波信号はストリップ導体112及びプロー
ブ針114を通して高周波素子に供給される。すると、
高周波素子が駆動し、その高周波素子からの信号がプロ
ーブ針114及びストリップ導体112を通して測定器
側へ送られるので、その測定器によって高周波素子に対
する種々の高周波特性が測定できる。
【0007】図9は、他の従来のプローブ装置を示す構
成図である。図10は、図9に示すプローブ装置の同軸
型プローブ針を示す斜視図である。
【0008】図9に示すウエハ101上のIC、LSI
等の電気的特性を測定するのに、高い周波数領域でも電
気的特性の測定が可能なプローブ針として図10に示す
同軸ケーブル103の先端中心に信号線104を突出さ
せ、同軸ケーブル103の先端外周にグランド部105
を取り付けてその先端を信号線104の先端に平行に2
00μm程度接近させて成る同軸型プローブ針106を
用いる。図9に示すように、計測器107のX、Y、Z
軸方向に移動可能なアーム108に同軸型プローブ針1
06をセットし、ウエハ101上のIC、LSI等のパ
ッド102に接触させて電気的特性を測定する方法が採
られている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上述したような高周波
に対応するプローブ針は一般に高価であり、ICチップ
上にも余計な電源パッドが必要であったり、シールドと
の間隔に制約が大きいなどの理由により、多ピンへの適
用は非常に困難である。
【0010】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたものであり、その目的は、高周波に対応するプロー
ブ針で且つ多ピンへの対応が容易なプローブカード及び
その製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法
を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係るプローブカードは、プローブ検査を行
う際に製品チップと電気的に接続させるプローブカード
であって、半導体基板に形成され、製品チップの電極と
ミラー位置に配置された突起部を有するニードル用チッ
プと、このニードル用チップ上に配置されたプローブカ
ード基板と、ニードル用チップ下に配置され、プローブ
カード基板にニードル用チップを実装するための第1の
フィルムと、第1のフィルムの下に配置された第2のフ
ィルムと、を具備し、第1のフィルムは、突起部が挿入
されたホールと、突起部とプローブカード基板とが電気
的に接続された配線パターンと、を有するものであり、
第2のフィルムは、突起部が挿入されたホールと、接地
電位に接続される導電膜と、を有することを特徴とす
る。
【0012】上記プローブカードによれば、ニードル用
チップにプローブニードルとして使用する突起部を形成
し、この突起部を製品チップの電極位置に対してミラー
位置に配置している。このようにプローブニードルに代
えて突起部をニードル用チップに形成しているため、狭
ピッチの電極を備えた製品チップに容易に対応させるこ
とができる。また、ニードル用チップに第1及び第2の
フィルムを取り付け、第1のフィルムに形成した配線パ
ターンを信号線用として用い、第2のフィルムの下面に
形成した導電膜をシールドとして用いることにより、高
周波に対応するプローブカードを形成することが可能と
なる。
【0013】本発明に係るプローブカードは、プローブ
検査を行う際に製品チップと電気的に接続させるプロー
ブカードであって、半導体基板に形成され、製品チップ
の電極とミラー位置に配置された突起部を有するニード
ル用チップと、このニードル用チップ上に配置されたプ
ローブカード基板と、ニードル用チップ下に配置され、
プローブカード基板にニードル用チップを実装するため
のフィルムと、このフィルムに形成され、上記突起部が
挿入されたホールと、フィルムの一方の面に形成され、
突起部とプローブカード基板とが電気的に接続された配
線パターンと、フィルムの他方の面に形成され、接地電
位に接続される導電膜と、を具備することを特徴とす
る。
【0014】また、本発明に係るプローブカードにおい
て、上記ニードル用チップには、半導体基板に形成さ
れ、上記突起部に電気的に接続された接合用パッドをさ
らに含み、この接合用パッドが上記配線パターンに電気
的に接続されていることも可能である。
【0015】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、上記第1のフィルムに形成され、配線パターンに
電気的に接続された接合ステージをさらに含み、この接
合ステージと上記接合用パッドとをACFによって電気
的に接続していることも可能である。
【0016】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、上記突起部がバンプであることが好ましい。
【0017】また、本発明に係るプローブカードにおい
て、上記半導体基板は、導電体であって、プローブ検査
の際に所定の電位に固定されるものであることも可能で
ある。ニードル用チップが測定するチップの上面をカバ
ーすることになるので、ニードル用チップの基板電位を
固定することで、外部からのノイズなどの外乱の混入を
防ぐシールドとして作用させることができる。
【0018】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、上記ニードル用チップにアンプが作り込まれてい
ることも可能である。これにより、微小な信号などは適
切な処理をした上で出力させることが可能になる。
【0019】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、上記第2のフィルムの下に配置された弾性膜をさ
らに含むことも可能である。これにより、第2のフィル
ムの下に弾性膜を配置しているので、突起部をウエハの
製品チップの電極に押圧して接触させてプローブ検査を
行う際に、過剰な押圧をウエハ面に分散させることがで
きる。これにより、プローブニードルとして作用する突
起部の先を保護しながら接触圧を確保することができ
る。また、本発明に係るプローブカードにおいては、上
記フィルムの下に配置された弾性膜をさらに含むことも
可能である。
【0020】本発明に係るプローブカードの製造方法
は、プローブ検査を行う際に製品チップと電気的に接続
させるプローブカードの製造方法であって、半導体基板
に形成され、製品チップの電極とミラー位置に配置され
た突起部を有するニードル用チップを準備する工程と、
プローブカード基板を準備する工程と、上記突起部に対
応する位置に配置されたホール及び配線パターンを備え
た第1のフィルムと、上記突起部に対応する位置に配置
されたホール及び接地電位に接続される導電膜を備えた
第2のフィルムと、を準備する工程と、ニードル用チッ
プ上にプローブカード基板を配置し、このニードル用チ
ップの突起部を第1のフィルムのホールに挿入し、上記
配線パターンによって突起部とプローブカード基板とを
電気的に接続することにより、第1のフィルムによって
ニードル用チップをプローブカード基板に実装する工程
と、第1のフィルムの下に第2のフィルムを配置し、ニ
ードル用チップの突起部を第2のフィルムのホールに挿
入する工程と、を具備することを特徴とする。
【0021】本発明に係るプローブカードの製造方法
は、プローブ検査を行う際に製品チップと電気的に接続
させるプローブカードの製造方法であって、半導体基板
に形成され、製品チップの電極とミラー位置に配置され
た突起部を有するニードル用チップを準備する工程と、
プローブカード基板を準備する工程と、上記突起部に対
応する位置に配置されたホール、配線パターン、及び、
接地電位に接続される導電膜を備えたフィルムを準備す
る工程と、ニードル用チップ上にプローブカード基板を
配置し、このニードル用チップの突起部をフィルムのホ
ールに挿入し、上記配線パターンによって突起部とプロ
ーブカード基板とを電気的に接続することにより、フィ
ルムによってニードル用チップをプローブカード基板に
実装する工程と、を具備することを特徴とする。
【0022】また、本発明に係るプローブカードの製造
方法において、上記半導体基板には上記突起部に電気的
に接続された接合用パッドが形成されており、上記実装
する工程では、該接合用パッドを上記配線パターンに電
気的に接続していることも可能である。
【0023】また、本発明に係るプローブカードの製造
方法において、上記第1のフィルムには配線パターンに
電気的に接続された接合ステージが形成されており、上
記実装する工程では、該接合ステージと上記接合用パッ
ドとをACFによって電気的に接続していることも可能
である。
【0024】また、本発明に係るプローブカードの製造
方法においては、上記突起部がバンプであることが好ま
しい。
【0025】また、本発明に係るプローブカードの製造
方法において、上記半導体基板は、導電体であって、プ
ローブ検査の際に所定の電位に固定されるものであるこ
とも可能である。
【0026】また、本発明に係るプローブカードの製造
方法においては、上記ニードル用チップにアンプが作り
込まれていることも可能である。
【0027】また、本発明に係るプローブカードの製造
方法において、上記第2のフィルムの下には弾性膜が配
置されていることも可能である。また、本発明に係るプ
ローブカードの製造方法において、上記フィルムの下に
は弾性膜が配置されていることも可能である。
【0028】本発明に係るプローブ装置は、製品チップ
にプローブ検査を行うためのプローブ装置であって、製
品チップに電圧を印加する電源及び製品チップからの出
力を取り込む入力部を有するテストヘッドと、このテス
トヘッドに接続されたプローブカードと、製品チップを
有する半導体ウエハを保持するステージと、を具備し、
上記プローブカードは、半導体基板に形成され、製品チ
ップの電極とミラー位置に配置された突起部を有するニ
ードル用チップと、このニードル用チップ上に配置され
たプローブカード基板と、ニードル用チップ下に配置さ
れ、プローブカード基板にニードル用チップを実装する
ための第1のフィルムと、第1のフィルムの下に配置さ
れた第2のフィルムと、を備え、第1のフィルムは、突
起部が挿入されたホールと、突起部とプローブカード基
板とが電気的に接続された配線パターンと、を有するも
のであり、第2のフィルムは、突起部が挿入されたホー
ルと、接地電位に接続される導電膜と、を有することを
特徴とする。
【0029】本発明に係るプローブ装置は、製品チップ
にプローブ検査を行うためのプローブ装置であって、製
品チップに電圧を印加する電源及び製品チップからの出
力を取り込む入力部を有するテストヘッドと、このテス
トヘッドに接続されたプローブカードと、製品チップを
有する半導体ウエハを保持するステージと、を具備し、
上記プローブカードは、半導体基板に形成され、製品チ
ップの電極とミラー位置に配置された突起部を有するニ
ードル用チップと、このニードル用チップ上に配置され
たプローブカード基板と、ニードル用チップ下に配置さ
れ、プローブカード基板にニードル用チップを実装する
ためのフィルムと、このフィルムに形成され、上記突起
部が挿入されたホールと、フィルムの一方の面に形成さ
れ、突起部とプローブカード基板とが電気的に接続され
た配線パターンと、フィルムの他方の面に形成され、接
地電位に接続される導電膜と、を有することを特徴とす
る。
【0030】また、本発明に係るプローブ装置において
は、上記突起部がバンプであることが好ましい。
【0031】また、本発明に係るプローブ装置におい
て、上記ニードル用チップは、上記半導体基板に形成さ
れ、上記突起部に電気的に接続された接合用パッドをさ
らに含み、この接合用パッドが上記配線パターンに電気
的に接続されていることも可能である。
【0032】また、本発明に係るプローブ装置におい
て、上記第1のフィルムは、上記配線パターンに電気的
に接続された接合ステージをさらに含み、この接合ステ
ージと上記接合用パッドとをACFによって電気的に接
続していることも可能である。
【0033】また、本発明に係るプローブ装置におい
て、上記半導体基板は、導電体であって、プローブ検査
の際に所定の電位に固定されるものであることも可能で
ある。
【0034】また、本発明に係るプローブ装置において
は、上記ニードル用チップにアンプが作り込まれている
ことも可能である。
【0035】また、本発明に係るプローブ装置におい
て、上記第2のフィルムの下には弾性膜が配置されてい
ることも可能である。また、本発明に係るプローブ装置
において、上記フィルムの下には弾性膜が配置されてい
ることも可能である。
【0036】本発明に係るプローブ装置を用いた検査方
法は、上述したプローブ装置を用いてプローブ検査を行
う方法であって、ステージに半導体ウエハを保持し、製
品チップとプローブカードのニードル用チップを位置合
わせし、製品チップの電極にニードル用チップの突起部
を接触させ、導電膜に接地電位を印加し、テストヘッド
から製品チップに電圧を印加し、製品チップからの出力
をテストヘッドに取り込むことにより、プローブ検査を
行うことを特徴とする。
【0037】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は、本発明に係る第1
の実施の形態によるプローブカードの概略を示す構成図
である。
【0038】プローブカード5はプローブカード基板2
0を有しており、このプローブカード基板20の表面及
び内部にはプリント配線(図示せず)が設けられてい
る。プローブカード基板20の中央部下にはニードル用
チップ21が配置されており、このニードル用チップ2
1の下面にはプローブニードルとして作用するスタッド
バンプ22が複数形成されている。これらのスタッドバ
ンプ22はプローブ検査が行われるチップのパッド位置
に一致するように配置されている。つまり、該チップの
パッド位置を鏡に写した位置(以下、「ミラー位置」と
いう。)にスタッドバンプ22は配置されている。ただ
し、ミラー位置には、パッド位置を鏡に写した位置に完
全に一致するものだけでなく、一部が一致するものも含
むものとする。
【0039】ここでは、ニードル用チップ21にスタッ
ドバンプ22を形成しているが、このスタッドバンプに
限定されるものではなく、プローブニードルとして作用
するような突起部であれば、他のバンプ、例えばマイク
ロバンプをニードル用チップに形成することも可能であ
る。マイクロバンプを用いる場合は、ニードル用チップ
のみにマイクロバンプを取り付けても良い。
【0040】ニードル用チップ21の下面にはスタッド
バンプ22の部分にビアホール23a,23bが開けら
れた第1のフィルム23及びホール23c,23dが開
けられた第2のフィルム13が配置されており、第1の
フィルム23と第2のフィルム13は2枚重ねて貼り合
わされている。このビアホール23a,23b及びホー
ル23c,23dからスタッドバンプ22が下方に突出
している。また、第1のフィルム23の一部はプローブ
カード基板20に貼り付けられている。第1のフィルム
23には電極(図示せず)及び配線パターン(図示せ
ず)が形成されており、これら電極及び配線パターンは
図示せぬACF(anisotropic conductivefilm;異方性
導電膜)によってスタッドバンプ22に電気的に接続さ
れている。また、配線パターンはプローブカード基板2
0のプリント配線に電気的に接続されている。第2のフ
ィルム13の下面には導電膜(図示せず)が全面に形成
されており、この導電膜は接地電位に接続されている。
【0041】なお、ACFとは、熱可塑性または熱硬化
性の樹脂内に導電性の微小な粒子を分散させてシート状
にした膜であり、上下から加熱・加圧することで樹脂が
軟化し、導電性粒子が接触して電気的な接続を得られる
ものである。ここでは、ACFを用いているが、ACF
に代えてメンブレンを用いることも可能である。また、
第1及び第2のフィルム23,13としては、種々のフ
ィルムを用いることも可能であり、例えばTAB(Tape
Automated Bonding)フィルムを用いることも可能であ
る。
【0042】次に、上記ニードル用チップ21を製造す
る方法について図2〜図4を参照しつつ説明する。図2
(a)は、製品チップ及びニードル用チップを作り込ん
だウエハを示す概略平面図であり、図2(b)は、図2
(a)に示す製品チップの能動面側を拡大した平面図で
あり、図2(c)は、図2(a)に示すニードル用チッ
プの能動面側を拡大した平面図である。図3は、図2
(c)に示すニードル用チップに第1及び第2のフィル
ムを取り付けた状態を示す断面図である。図4(a)
は、図3に示す第1のフィルムの上面の一部を示す平面
図であり、図4(b)は、図3に示す第1のフィルムの
下面の一部を示す平面図である。図4(c)は、図3に
示す第2のフィルムの下面の一部を示す平面図である。
【0043】図2(a)に示すように、ウエハ(シリコ
ン基板)25にニードル用チップ21及び製品チップ2
4を製作する。次いで、このウエハ25をダイシングす
ることにより、図2(b),(c)に示す製品チップ2
4及びニードル用チップ21を分離する。ニードル用チ
ップ21の表面には、スタッドバンプ22及びそれに接
続された接合用パッド29が形成されている。また、高
周波対応の場合、プローブの直近のニードル用チップ2
1にはアンプ18が作り込まれ、処理した信号を出力す
ることが好ましい。アンプ18の入力端子及びアンプの
オフセットなどの調整用入力端子は所定のスタッドバン
プに接続されている。アンプの出力端子の接続先にスタ
ッドバンプは必ずしも必要ではなく、フィルムとの接合
を確保できるACF接合ステージがあれば良いこともあ
るし、また、ACF接合ステージがない場合はフィルム
とテスターとを完全に直結しても良い。また、製品チッ
プ24の表面にはバンプ26が形成されている。スタッ
ドバンプ22は、製品チップ24のバンプ26の位置に
対してミラー位置に配置されている。なお、バンプは電
界メッキ法などの種々の方法により形成される。また、
電源や微調整用の制御信号がスタッドバンプを介さずに
テスターから直接供給されるようにしても良い。また、
高周波対応ではないものの場合でも複数のアンプをニー
ドル用チップに作り込むことも可能である。
【0044】次に、図3に示すように、スタッドバンプ
部分にビアホール23a,23bが開けられた第1のフ
ィルム23及びホール23c,23dが開けられた第2
のフィルム13を準備する。第1のフィルム23の上面
(ニードル用チップ側の面)には、図4(a)に示すよ
うに、ビアホール23a,23bそれぞれに電気的に接
続されたACF接合ステージ27が形成されている。ま
た、第1のフィルム23の下面(ニードル用チップ側と
逆の面)には、図4(b)に示すように、ビアホール2
3a,23bそれぞれに電気的に接続された配線パター
ン28が形成されている。図4(c)に示すように、第
2のフィルム13にはホール23c,23dが形成され
ており、第2のフィルム13の下面の全面には導電膜1
9が形成されている。なお、ホール23c,23dそれ
ぞれはビアホール23a,23bに対応した位置に配置
されており、ホール23c,23dの大きさはスタッド
バンプ22より大きく形成されている。
【0045】ここでは、配線パターン28を第1のフィ
ルム23の片側の面のみに形成しているが、配線パター
ンはプローブカードへの実装形態次第なので、第1のフ
ィルムの両面に配線パターンを形成することも可能であ
り、また第1のフィルムの逆側の片面のみに形成するこ
とも可能である。また、第2のフィルム13では片面に
導電膜を形成しているが、もう一方の面に配線パターン
などを形成することも可能である。また、必ずしも2枚
のフィルムを用いる必要はなく、一方の面に配線パター
ンを形成し、他方の面(接地面)に導電膜を形成するこ
とにより、1枚のフィルムでプローブカード基板20に
ニードル用チップ21を実装することも可能である。ま
た、3枚以上のフィルムでプローブカード基板にニード
ル用チップを実装することも可能である。
【0046】次いで、図3に示すように、第1のフィル
ム23をニードル用チップ21の表面にACF(図示せ
ず)を介して被せ、ビアホール23a,23bにスタッ
ドバンプ22を貫通させ、ACFによってACF接合ス
テージ27をニードル用チップ21の接合用パッド29
に電気的に接続させる。次いで、第2のフィルム13を
第1のフィルム23の下に被せ、ホール23c,23d
にスタッドバンプ22を貫通させる。このスタッドバン
プは導電膜19に電気的に接続されていない。なお、予
め第1のフィルム23と第2のフィルム13を貼り合わ
せておき、この貼り合わせ済みのフィルムを用いること
も可能である。
【0047】このようにして製造した第1及び第2のフ
ィルム23,13を備えたニードル用チップ21を、図
1に示すようにプローブカード基板20に搭載し、第1
及び第2のフィルム23,13とプローブカード基板2
0を電気的に接続させる。これにより、スタッドバンプ
22は接合用パッド29、ACF接合ステージ27、ビ
アホール23a、配線パターン28を介してプローブカ
ード基板20のプリント配線に電気的に接続され、プロ
ーブカードが製造される。
【0048】図5は、図1に示すプローブカードを適用
したプローブ装置の要部を示す構成図である。このプロ
ーブ装置は、図示せぬ昇降機構によって昇降可能に構成
されたテストヘッド1と、このテストヘッド1の下方で
図示せぬ装置本体内に順次配置されたパフォーマンスボ
ード2と、このパフォーマンスボード2と接続するよう
にインサートリング3により支持された接続リング4
と、この接続リング4の下方に配置されたプローブカー
ド5を備えている。
【0049】上記テストヘッド1の内部には被検査体と
して半導体ウエハW上の製品チップに電圧を印加する試
料用電源や製品チップからの出力を測定部に取り込むた
めの入力部などからなるピンエレクトロニクス6が内蔵
されている。このピンエレクトロニクス6はパフォーマ
ンスボード2上に搭載された複数の電子部品回路7に対
して電気的に接続されている。これら電子部品回路7
は、例えばマトリックス・リレー、ドライバ回路等から
なる各種測定回路として構成されている。各電子部品回
路7の接続リング4との接続端子8はパフォーマンスボ
ード2の本体である例えばエポキシ系樹脂製の基板9の
下面に例えば基板9と同心円をなす4つの円周上に配列
されている。
【0050】また、上記接続リング4の上面には接続端
子8に対応するポゴピン40が同心円をなすように形成
された4つの円周上に配列され、その下面には各ポゴピ
ン40に導通するポゴピン11がプローブカード5の接
続端子(図示せず)に対応して設けられている。これに
よりテストヘッド1は、パフォーマンスボード2及び接
続リング4を介してプローブカード5と電気的に接続で
きるように構成されている。
【0051】プローブカード5の下方には略円形状のス
テージ37が設けられ、このステージ37の上面に配置
されたウエハチャック38により半導体ウエハWを水平
に保持するようになっている。このウエハチャック38
の内部には加熱装置39及び冷却媒体の循環路30が温
度調整機構として設けられている。検査時に必要に応じ
て加熱装置39により半導体ウエハWを例えば150℃
まで加熱でき、また循環路30を流れる冷却媒体により
半導体ウエハWを例えば−10℃まで冷却できるように
なっている。
【0052】また、上記ステージ37はウエハチャック
38を水平方向、上下方向及びθ方向で駆動させる駆動
機構(図示せず)を有している。半導体ウエハWのアラ
イメント時に駆動機構の駆動によりステージ37がレー
ル31,32上でX、Y方向へ移動すると共にウエハチ
ャック38がθ方向で回転し、更に、ウエハチャック3
8にはターゲット板33が取り付けられており、その上
方に配置された光学的撮像装置34,35及び静電容量
センサ36によりターゲット板33及び所定の製品チッ
プを検出し、この検出信号に基づいてプローブカード5
と半導体ウエハW上の製品チップの位置を演算するよう
になっている。そして、この演算結果に基づいてステー
ジ37の駆動機構が駆動制御されて半導体ウエハW上の
検査すべき製品チップをプローブカード5にアライメン
トするようにしてある。
【0053】次に、動作について説明する。例えば15
0℃の温度下で半導体ウエハWの電気的検査を行う場合
には、加熱装置39を作動させ半導体ウエハWを加熱
し、例えば150℃に温度設定し、その温度を維持す
る。次いで、ターゲット板33、光学的撮像装置34、
35及び静電容量センサ36などから得られた検出デー
タに基づいてステージ37が駆動して半導体ウエハWを
プローブカード5に対してアライメントする。
【0054】アライメント終了後、テストヘッド1を下
降させると共にプローブカード5を上昇させる。これに
よりパフォーマンスボード2下面の接続端子8が接続リ
ング4上面のポゴピン40と電気的に接続されると共
に、プローブカード5の接続端子(図示せず)が接続リ
ング4下面のポゴピン11と電気的に接続される。その
結果、テストヘッド1のピンエレクトロニクス6とパフ
ォーマンスボード2の電子部品回路7が電気的に接続さ
れ、更にこれらは接続リング4のポゴピン40,11を
介してプローブカード5の接続端子に電気的に接続さ
れ、ピンエレクトロニクス6とニードル用チップのスタ
ッドバンプ22とが導通可能な状態になる。
【0055】その後、ウエハチャック38を上昇させて
半導体ウエハW上の製品チップの各電極(図2(b)に
示すバンプ26)にスタッドバンプ22の先端を接触さ
せ、更にウエハチャック38を所定量オーバードライブ
させてスタッドバンプ22とバンプ26とを導通可能な
状態にする。
【0056】この状態でテストヘッド1から所定の電気
信号を送信し、パフォーマンスボード2、接続リング
4、スタッドバンプ22及びバンプ26を介して製品チ
ップに電気信号を入力すると、この入力信号に基づいた
出力信号が製品チップから接続リング4及びパフォーマ
ンスボード2の電子部品回路7を介してピンエレクトロ
ニクス6に取り込まれ、製品チップの電気的検査が行わ
れる。
【0057】このようにしてウエハチャック38内の加
熱装置39により半導体ウエハWを例えば150℃に設
定維持した高温下で製品チップの電気的検査を行うた
め、製品チップについて信頼性の高い電気的検査を行う
ことができる。
【0058】上記第1の実施の形態によれば、ウエハ2
5に製品チップ24及びニードル用チップ21を作りこ
み、このニードル用チップ21にプローブニードルとし
て使用するスタッドバンプ22を形成し、このスタッド
バンプ22を製品チップ24のバンプ26の位置に対し
てミラー位置に配置している。このようなニードル用チ
ップ21をプローブカード基板20に搭載してプローブ
カード5を形成し、このプローブカード5を備えたプロ
ーブ装置を用いて製品チップの電気的検査を行ってい
る。プローブ針に代えてスタッドバンプ22をニードル
用チップ21に形成しているため、狭ピッチの電極(パ
ッド又はバンプ)を備えた製品チップに容易に対応させ
ることができる。また、狭ピッチへの対応が容易である
ので、従来のプローブカードに比べて圧倒的に安価に実
現することができる。
【0059】また、両面配線可能なフィルム23,13
を2枚貼り合わせることで、信号線をシールドして所定
の特性インピーダンスを得ることができる。つまり、ニ
ードル用チップ21に第1及び第2のフィルム23,1
3を取り付け、第1のフィルム23に形成した配線パタ
ーンを信号線用として用い、第2のフィルム13の下面
全面に形成した導電膜19をシールドとして用いること
により、高周波に対応するプローブカードを形成するこ
とが可能となる。また、第1のフィルム23の配線パタ
ーンの一部をシールド線として用いた場合、若干の配線
間隔を増大させることは必要であるが、このシールド線
のパターンに自由度は大きいため、比較的に多ピンのI
Cに適用することができる。また、プローブ検査を行う
際、スタッドバンプ22を搭載したニードル用チップ2
1が測定するチップの上面をカバーすることになるの
で、ニードル用チップの基板電位を固定することで、外
部からのノイズなどの外乱の混入を防ぐシールドとして
作用させることも可能である。
【0060】また、製品の流動がある限りニードル用チ
ップ21の補充も可能である。また、ニードル用チップ
をプローブカード基板から交換することも比較的容易で
ある。従って、メンテナンスが簡単で低コスト化が可能
となる。
【0061】また、上述したようにスタッドバンプ22
を製品チップ24のバンプ26の位置に対してミラー位
置に配置し、製品チップと同じダイを用いているため、
ニードル用チップと製品チップをピッタリ重ねれば良
く、針先位置の検出は不要となる。従って、高い精度の
位置合わせの必要がなく、位置合わせが容易となる。よ
って、画像処理などの制御系の負担を小さくすることが
でき、装置価格を低く抑えることが期待できる。
【0062】また、前述したようにニードル用チップに
アンプ18を搭載することも可能である。これにより、
微小な信号などは適切な処理をした上で出力させること
が可能になる。
【0063】尚、上記第1の実施の形態では、第2のフ
ィルム13の下面全面に導電膜19を形成しているが、
導電膜をシールドとして作用させることができれば、必
ずしも第2のフィルム13の下面全面に形成する必要は
ない。また、上記第1の実施の形態では、ニードル用チ
ップ21にアンプ18を作り込んでいるが、アンプに限
られるものではなく、ニードル用チップにアンプに代え
て又はアンプと共に所定の負荷(R、C等)を作り込む
ことも可能である。
【0064】図6は、本発明に係る第2の実施の形態に
よるプローブカードの概略を示す構成図であり、図1と
同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ
説明する。
【0065】第2のフィルム13の下方(即ちプローブ
検査を行う際のウエハ側)には所定の厚さの弾性膜41
が貼り付けられている。弾性膜41の材質は、弾性のあ
る膜であれば種々の材質を用いることも可能である。
【0066】次に、プローブカードを製造する方法につ
いて図6及び図7を参照しつつ説明するが、第1の実施
の形態と同一部分の説明は省略する。
【0067】図7は、図6に示すニードル用チップに第
1及び第2のフィルム23,13を取り付けた状態を示
す断面図である。
【0068】図7に示すように、第2のフィルム13を
第1のフィルム23の下に被せ、ホール23c,23d
にスタッドバンプ22を貫通させた後、第2のフィルム
13の下に弾性膜41を貼り付ける。このようにして製
造した第1及び第2のフィルム23,13を備えたニー
ドル用チップ21を、図6に示すようにプローブカード
基板20に搭載する。
【0069】図6に示すプローブカードは図5に示すプ
ローブ装置に適用することができる。上記第2の実施の
形態においても第1の実施の形態と同様の効果を得るこ
とができる。
【0070】また、上記第2の実施の形態では、第2の
フィルム13の下に弾性膜41を貼り付けているので、
スタッドバンプ22をウエハの製品チップの電極(パッ
ド又はバンプ)に押圧して接触させてプローブ検査を行
う際に、過剰な押圧をウエハ面に分散させることができ
る。これにより、プローブ針として作用するスタッドバ
ンプ22の先を保護しながら接触圧を確保することがで
きる。従って、比較的もろい材料でスタッドバンプ22
を形成することが可能となり、スタッドバンプ22の寿
命を延ばすことができる。また、バンプを形成した製品
チップのように比較的デリケートなチップのプローブ検
査にニードル用チップ21を適用しても、バンプを損傷
することを抑制できる。
【0071】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ニ
ードル用チップにプローブニードルとして使用する突起
部を形成し、この突起部を製品チップの電極位置に対し
てミラー位置に配置し、また、ニードル用チップに第1
及び第2のフィルムを取り付け、第1のフィルムに配線
パターンを形成し、第2のフィルムの下面に導電膜を形
成している。したがって、高周波に対応するプローブ針
で且つ多ピンへの対応が容易なプローブカード及びその
製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法を提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1の実施の形態によるプローブ
カードの概略を示す構成図である。
【図2】(a)は、製品チップ及びニードル用チップを
作り込んだウエハを示す概略平面図であり、(b)は、
(a)に示す製品チップの能動面側を拡大した平面図で
あり、(c)は、(a)に示すニードル用チップの能動
面側を拡大した平面図である。
【図3】図2(c)に示すニードル用チップに第1及び
第2のフィルムを取り付けた状態を示す断面図である。
【図4】(a)は、図3に示す第1のフィルムの上面の
一部を示す平面図であり、(b)は、図3に示す第1の
フィルムの下面の一部を示す平面図であり、(c)は、
図3に示す第2のフィルムの下面の一部を示す平面図で
ある。
【図5】図1に示すプローブカードを適用したプローブ
装置の要部を示す構成図である。
【図6】本発明に係る第2の実施の形態によるプローブ
カードの概略を示す構成図である。
【図7】図6に示すニードル用チップに第1及び第2の
フィルムを取り付けた状態を示す断面図である。
【図8】従来の高周波プローブカードの一部切欠き斜視
図である。
【図9】他の従来のプローブ装置を示す構成図である。
【図10】図9に示すプローブ装置の同軸型プローブ針
を示す斜視図である。
【符号の説明】
1…テストヘッド 101…ウエハ 2…パフォーマンスボード 102…パッド 3…インサートリング 103…同軸ケーブ
ル 4…接続リング 104…信号線 5…プローブカード 105…グランド部 6…ピンエレクトロニクス 106…同軸型プロ
ーブ針 7…電子部品回路 107…計測器 8…接続端子 108…アーム 9…基板 110a…開口部 10,20…プローブカード基板 110b…コネク
タ部 10a…開口部 110c,110
d…誘電体基板 11,40…ポゴピン 111…電源用導
体 12…固定リング 112…ストリッ
プ導体 13…第2のフィルム 113…アース面
導体 14…プローブニードル 14a…アーム部 14b…触針部 16…樹脂部 18…アンプ 19…導電膜 21…ニードル用チップ 22…スタッドバンプ 23…第1のフィルム 23a,23b…ビアホール 23c,23d…ホール 24…製品チップ 25…ウエハ 26…バンプ 27…ACF接合ステージ 28…配線パターン 29…接合用パッド 30…循環路 31,32…レール 33…ターゲット板 34,35…光学的撮像装置 36…静電容量センサ 37ステージ 38…ウエハチャック 39…加熱装置 41…弾性膜

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プローブ検査を行う際に製品チップと電
    気的に接続させるプローブカードであって、 半導体基板に形成され、製品チップの電極とミラー位置
    に配置された突起部を有するニードル用チップと、 このニードル用チップ上に配置されたプローブカード基
    板と、 ニードル用チップ下に配置され、プローブカード基板に
    ニードル用チップを実装するための第1のフィルムと、 第1のフィルムの下に配置された第2のフィルムと、 を具備し、 第1のフィルムは、突起部が挿入されたホールと、突起
    部とプローブカード基板とが電気的に接続された配線パ
    ターンと、を有するものであり、 第2のフィルムは、突起部が挿入されたホールと、接地
    電位に接続される導電膜と、を有することを特徴とする
    プローブカード。
  2. 【請求項2】 プローブ検査を行う際に製品チップと電
    気的に接続させるプローブカードであって、 半導体基板に形成され、製品チップの電極とミラー位置
    に配置された突起部を有するニードル用チップと、 このニードル用チップ上に配置されたプローブカード基
    板と、 ニードル用チップ下に配置され、プローブカード基板に
    ニードル用チップを実装するためのフィルムと、 このフィルムに形成され、上記突起部が挿入されたホー
    ルと、 フィルムの一方の面に形成され、突起部とプローブカー
    ド基板とが電気的に接続された配線パターンと、 フィルムの他方の面に形成され、接地電位に接続される
    導電膜と、 を具備することを特徴とするプローブカード。
  3. 【請求項3】 上記ニードル用チップには、半導体基板
    に形成され、上記突起部に電気的に接続された接合用パ
    ッドをさらに含み、この接合用パッドが上記配線パター
    ンに電気的に接続されていることを特徴とする請求項1
    に記載のプローブカード。
  4. 【請求項4】 上記第1のフィルムに形成され、配線パ
    ターンに電気的に接続された接合ステージをさらに含
    み、この接合ステージと上記接合用パッドとをACFに
    よって電気的に接続していることを特徴とする請求項3
    に記載のプローブカード。
  5. 【請求項5】 上記突起部がバンプであることを特徴と
    する請求項1〜4のうちいずれか1項記載のプローブカ
    ード。
  6. 【請求項6】 上記半導体基板は、導電体であって、プ
    ローブ検査の際に所定の電位に固定されるものであるこ
    とを特徴とする請求項1〜5のうちいずれか1項記載の
    プローブカード。
  7. 【請求項7】 上記ニードル用チップにアンプが作り込
    まれていることを特徴とする請求項1〜6のうちいずれ
    か1項記載のプローブカード。
  8. 【請求項8】 上記第2のフィルムの下に配置された弾
    性膜をさらに含むことを特徴とする請求項1、3、4の
    うちいずれか1項記載のプローブカード。
  9. 【請求項9】 上記フィルムの下に配置された弾性膜を
    さらに含むことを特徴とする請求項2に記載のプローブ
    カード。
  10. 【請求項10】 プローブ検査を行う際に製品チップと
    電気的に接続させるプローブカードの製造方法であっ
    て、 半導体基板に形成され、製品チップの電極とミラー位置
    に配置された突起部を有するニードル用チップを準備す
    る工程と、 プローブカード基板を準備する工程と、 上記突起部に対応する位置に配置されたホール及び配線
    パターンを備えた第1のフィルムと、上記突起部に対応
    する位置に配置されたホール及び接地電位に接続される
    導電膜を備えた第2のフィルムと、を準備する工程と、 ニードル用チップ上にプローブカード基板を配置し、こ
    のニードル用チップの突起部を第1のフィルムのホール
    に挿入し、上記配線パターンによって突起部とプローブ
    カード基板とを電気的に接続することにより、第1のフ
    ィルムによってニードル用チップをプローブカード基板
    に実装する工程と、 第1のフィルムの下に第2のフィルムを配置し、ニード
    ル用チップの突起部を第2のフィルムのホールに挿入す
    る工程と、 を具備することを特徴とするプローブカードの製造方
    法。
  11. 【請求項11】 プローブ検査を行う際に製品チップと
    電気的に接続させるプローブカードの製造方法であっ
    て、 半導体基板に形成され、製品チップの電極とミラー位置
    に配置された突起部を有するニードル用チップを準備す
    る工程と、 プローブカード基板を準備する工程と、 上記突起部に対応する位置に配置されたホール、配線パ
    ターン、及び、接地電位に接続される導電膜を備えたフ
    ィルムを準備する工程と、 ニードル用チップ上にプローブカード基板を配置し、こ
    のニードル用チップの突起部をフィルムのホールに挿入
    し、上記配線パターンによって突起部とプローブカード
    基板とを電気的に接続することにより、フィルムによっ
    てニードル用チップをプローブカード基板に実装する工
    程と、 を具備することを特徴とするプローブカードの製造方
    法。
  12. 【請求項12】 上記半導体基板には上記突起部に電気
    的に接続された接合用パッドが形成されており、上記実
    装する工程では、該接合用パッドを上記配線パターンに
    電気的に接続していることを特徴とする請求項10に記
    載のプローブカードの製造方法。
  13. 【請求項13】 上記第1のフィルムには配線パターン
    に電気的に接続された接合ステージが形成されており、
    上記実装する工程では、該接合ステージと上記接合用パ
    ッドとをACFによって電気的に接続していることを特
    徴とする請求項12に記載のプローブカードの製造方
    法。
  14. 【請求項14】 上記突起部がバンプであることを特徴
    とする請求項10〜13のうちいずれか1項記載のプロ
    ーブカードの製造方法。
  15. 【請求項15】 上記半導体基板は、導電体であって、
    プローブ検査の際に所定の電位に固定されるものである
    ことを特徴とする請求項10〜14のうちいずれか1項
    記載のプローブカードの製造方法。
  16. 【請求項16】 上記ニードル用チップにアンプが作り
    込まれていることを特徴とする請求項10〜15のうち
    いずれか1項記載のプローブカードの製造方法。
  17. 【請求項17】 上記第2のフィルムの下には弾性膜が
    配置されていることを特徴とする請求項10、12、1
    3のうちいずれか1項記載のプローブカードの製造方
    法。
  18. 【請求項18】 上記フィルムの下には弾性膜が配置さ
    れていることを特徴とする請求項11に記載のプローブ
    カードの製造方法。
  19. 【請求項19】 製品チップにプローブ検査を行うため
    のプローブ装置であって、 製品チップに電圧を印加する電源及び製品チップからの
    出力を取り込む入力部を有するテストヘッドと、 このテストヘッドに接続されたプローブカードと、 製品チップを有する半導体ウエハを保持するステージ
    と、 を具備し、 上記プローブカードは、半導体基板に形成され、製品チ
    ップの電極とミラー位置に配置された突起部を有するニ
    ードル用チップと、このニードル用チップ上に配置され
    たプローブカード基板と、ニードル用チップ下に配置さ
    れ、プローブカード基板にニードル用チップを実装する
    ための第1のフィルムと、第1のフィルムの下に配置さ
    れた第2のフィルムと、を備え、第1のフィルムは、突
    起部が挿入されたホールと、突起部とプローブカード基
    板とが電気的に接続された配線パターンと、を有するも
    のであり、第2のフィルムは、突起部が挿入されたホー
    ルと、接地電位に接続される導電膜と、を有することを
    特徴とするプローブ装置。
  20. 【請求項20】 製品チップにプローブ検査を行うため
    のプローブ装置であって、 製品チップに電圧を印加する電源及び製品チップからの
    出力を取り込む入力部を有するテストヘッドと、 このテストヘッドに接続されたプローブカードと、 製品チップを有する半導体ウエハを保持するステージ
    と、 を具備し、 上記プローブカードは、半導体基板に形成され、製品チ
    ップの電極とミラー位置に配置された突起部を有するニ
    ードル用チップと、このニードル用チップ上に配置され
    たプローブカード基板と、ニードル用チップ下に配置さ
    れ、プローブカード基板にニードル用チップを実装する
    ためのフィルムと、このフィルムに形成され、上記突起
    部が挿入されたホールと、フィルムの一方の面に形成さ
    れ、突起部とプローブカード基板とが電気的に接続され
    た配線パターンと、フィルムの他方の面に形成され、接
    地電位に接続される導電膜と、を有することを特徴とす
    るプローブ装置。
  21. 【請求項21】 上記突起部がバンプであることを特徴
    とする請求項19又は20に記載のプローブ装置。
  22. 【請求項22】 上記ニードル用チップは、上記半導体
    基板に形成され、上記突起部に電気的に接続された接合
    用パッドをさらに含み、この接合用パッドが上記配線パ
    ターンに電気的に接続されていることを特徴とする請求
    項19に記載のプローブ装置。
  23. 【請求項23】 上記第1のフィルムは、上記配線パタ
    ーンに電気的に接続された接合ステージをさらに含み、
    この接合ステージと上記接合用パッドとをACFによっ
    て電気的に接続していることを特徴とする請求項22に
    記載のプローブ装置。
  24. 【請求項24】 上記半導体基板は、導電体であって、
    プローブ検査の際に所定の電位に固定されるものである
    ことを特徴とする請求項19〜23のうちいずれか1項
    記載のプローブ装置。
  25. 【請求項25】 上記ニードル用チップにアンプが作り
    込まれていることを特徴とする請求項19〜23のうち
    いずれか1項記載のプローブカード。
  26. 【請求項26】 上記第2のフィルムの下には弾性膜が
    配置されていることを特徴とする請求項19、22、2
    3のうちいずれか1項記載のプローブ装置。
  27. 【請求項27】 上記フィルムの下には弾性膜が配置さ
    れていることを特徴とする請求項20に記載のプローブ
    装置。
  28. 【請求項28】 請求項19〜27のうちのいずれか1
    項に記載のプローブ装置を用いてプローブ検査を行う方
    法であって、 ステージに半導体ウエハを保持し、製品チップとプロー
    ブカードのニードル用チップを位置合わせし、製品チッ
    プの電極にニードル用チップの突起部を接触させ、導電
    膜に接地電位を印加し、テストヘッドから製品チップに
    電圧を印加し、製品チップからの出力をテストヘッドに
    取り込むことにより、プローブ検査を行うことを特徴と
    するプローブ装置を用いた検査方法。
JP2001384455A 2001-12-18 2001-12-18 プローブカード及びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法 Withdrawn JP2003188218A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001384455A JP2003188218A (ja) 2001-12-18 2001-12-18 プローブカード及びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001384455A JP2003188218A (ja) 2001-12-18 2001-12-18 プローブカード及びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003188218A true JP2003188218A (ja) 2003-07-04

Family

ID=27594185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001384455A Withdrawn JP2003188218A (ja) 2001-12-18 2001-12-18 プローブカード及びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003188218A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102012202B1 (ko) * 2018-09-12 2019-08-20 주식회사 메가프로브 프로브 카드와 그 제조 방법 및 이를 이용한 반도체 소자의 검사 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102012202B1 (ko) * 2018-09-12 2019-08-20 주식회사 메가프로브 프로브 카드와 그 제조 방법 및 이를 이용한 반도체 소자의 검사 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100309889B1 (ko) 프로우브장치
JP3611637B2 (ja) 回路部材の電気接続構造
US5210485A (en) Probe for wafer burn-in test system
US6064217A (en) Fine pitch contact device employing a compliant conductive polymer bump
JP4465995B2 (ja) プローブシート、プローブカード、半導体検査装置および半導体装置の製造方法
JP4647139B2 (ja) コンタクトストラクチャ
KR100733945B1 (ko) 실리콘 핑거 접촉기를 갖는 접촉 구조체 및 그 제조 방법
TW502354B (en) Inspection device for semiconductor
WO2006009061A1 (ja) プローブカセット、半導体検査装置および半導体装置の製造方法
JP2002110751A (ja) 半導体集積回路装置の検査装置および製造方法
KR20070103073A (ko) 프로브 카드 어셈블리와, 이 프로브 카드 어셈블리에프로브를 부착하는 방법
JP4376370B2 (ja) 高速測定対応プローブ装置
JPH04234141A (ja) Tabフレームおよびその基板への接続方法
JP2004053409A (ja) プローブカード
JP2681850B2 (ja) プローブボード
JP2002283049A (ja) コンタクトピンのはんだ付け方法およびコンタクトピン
JP2003188218A (ja) プローブカード及びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法
JP2737774B2 (ja) ウェハテスタ
JPH07122601A (ja) プローブ装置及びそのメンテナンス用治具
JPH09159694A (ja) Lsiテストプローブ装置
JP3310930B2 (ja) プローブカード
JP2000227443A (ja) プローブカード
JP2003188217A (ja) ニードル用チップ、ニードル用チップを備えた半導体ウエハ、プローブカード及びその製造方法、プローブ装置及びこれを用いた検査方法
JP2004245669A (ja) プローブカード及びその製造方法、プローブ装置、プローブ試験方法、半導体装置の製造方法
JP2976322B2 (ja) プローブ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050301