JP2003183037A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003183037A5
JP2003183037A5 JP2002353980A JP2002353980A JP2003183037A5 JP 2003183037 A5 JP2003183037 A5 JP 2003183037A5 JP 2002353980 A JP2002353980 A JP 2002353980A JP 2002353980 A JP2002353980 A JP 2002353980A JP 2003183037 A5 JP2003183037 A5 JP 2003183037A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ppm
quartz glass
content
glass blank
molecules
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002353980A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4437886B2 (ja
JP2003183037A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE10159959A external-priority patent/DE10159959A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2003183037A publication Critical patent/JP2003183037A/ja
Publication of JP2003183037A5 publication Critical patent/JP2003183037A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4437886B2 publication Critical patent/JP4437886B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Claims (7)

  1. 250nm以下の波長の紫外線透過用光学部材のための石英ガラスブランクであって、実質的に酸素欠損部位の無いガラス構造を有し、H2含有量が3×1017分子/cm3〜2.0×1018分子/cm3の範囲であり、OH含有量が500重量ppm〜1000重量ppmの範囲であり、SiH基含有量が2×1017分子/cm3未満であり、塩素含有量60重量ppm〜120重量ppmの範囲であり、屈折率の不均質性△nが2ppm未満であり、ひずみ複屈折が2nm/cm未満である、石英ガラスブランク。
  2. 前記OH含有量は600重量ppm〜900重量ppmの範囲で、好ましくは、750重量ppm〜900重量ppmの範囲であることを特徴とする、請求項1に記載の石英ガラスブランク。
  3. 前記H2含有量は5×1017分子/cm3〜1×1018分子/cm3の範囲であることを特徴とする、請求項1または2に記載の石英ガラスブランク。
  4. 前記塩素含有量は80重量ppm〜100重量ppmの範囲あることを特徴とする、請求項1に記載の石英ガラスブランク。
  5. 250nm以下の波長の紫外線透過と組み合わせてマイクロリソグラフィーで使用される部材を製造するための、請求項1〜4のいずれか1項に記載の石英ガラスブランクの利用であって、少なくとも0.05mJ/cm2の所定のパルスエネルギー密度εで、かつ所定のパルス数Pの紫外線照射とともに使用するために、以下の規定式:
    H2min(分子/cm3)=1.0×108ε2P (2)、および、
    H2max(分子/cm3)=2×1019ε (3)
    に従う、最小水素含有量CH2minおよび最大水素含有量CH2maxを有する石英ガラスが選択されることを特徴とする、石英ガラスブランクの用。
  6. 以下の規定式:
    OH(重量ppm)=1700ε(mJ/cm20.4±50 (4)
    に従う、OH含有量COHを有する石英ガラスが選択されることを特徴とする、請求項5に記載の石英ガラスブランクの利用。
  7. パルスエネルギー密度εは0.3mJ/cm2未満で、特に、0.15mJ/cm2より小さいことを特徴とする、請求項5に記載の石英ガラスブランクの利用。
JP2002353980A 2001-12-06 2002-12-05 光学部材用石英ガラスブランクおよびその使用 Expired - Lifetime JP4437886B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10159959.5 2001-12-06
DE10159959A DE10159959A1 (de) 2001-12-06 2001-12-06 Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil und Verwendung desselben

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003183037A JP2003183037A (ja) 2003-07-03
JP2003183037A5 true JP2003183037A5 (ja) 2005-10-27
JP4437886B2 JP4437886B2 (ja) 2010-03-24

Family

ID=7708264

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002353980A Expired - Lifetime JP4437886B2 (ja) 2001-12-06 2002-12-05 光学部材用石英ガラスブランクおよびその使用

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7064093B2 (ja)
EP (1) EP1327613B1 (ja)
JP (1) JP4437886B2 (ja)
KR (1) KR20030047751A (ja)
AT (1) ATE278642T1 (ja)
DE (2) DE10159959A1 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003284494A1 (en) * 2002-11-29 2004-06-23 Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. Method for producing synthetic quartz glass and synthetic quartz glass article
US6992753B2 (en) 2003-12-24 2006-01-31 Carl Zeiss Smt Ag Projection optical system
DE102004017031B4 (de) * 2004-04-02 2008-10-23 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Optisches Bauteil aus Quarzglas, Verfahren zur Herstellung des Bauteils und Verwendung desselben
DE102004018887B4 (de) * 2004-04-15 2009-04-16 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Bauteils aus Quarzglas zum Einsatz mit einer UV-Strahlenquelle und Verfahren für die Eignungsdiagnose eines derartigen Quarzglas-Bauteils
KR100677382B1 (ko) * 2004-11-09 2007-02-02 엘지전자 주식회사 휴대단말기에서의 화면전환 방법
DE102005017752B4 (de) 2005-04-15 2016-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Optisches Bauteil aus Quarzglas, Verfahren zur Herstellung des Bauteils und Verwendung desselben
US8176752B2 (en) * 2009-07-23 2012-05-15 Corning Incorporated Silica glass with saturated induced absorption and method of making
DE102011120412B4 (de) 2011-12-08 2018-03-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Excimerlampe mit Emissionsfenster aus Quarzglas mit einem bestimmten Gehalt an Hydroxylgruppen, Wasserstoff und Chlor
JP6250920B2 (ja) * 2012-08-21 2017-12-20 岩崎電気株式会社 水処理方法
DE102012109209B4 (de) * 2012-09-28 2017-05-11 Osram Oled Gmbh Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements und optoelektronisches Bauelement
DE102013215292A1 (de) 2013-08-02 2015-02-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Beladen eines Rohlings aus Quarzglas mit Wasserstoff, Linsenelement und Projektionsobjektiv

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0401845B2 (en) * 1989-06-09 2001-04-11 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Optical members and blanks of synthetic silica glass and method for their production
WO1993000307A1 (en) * 1991-06-29 1993-01-07 Shin-Etsu Quartz Products Company Limited Synthetic quartz glass optical member for excimer laser and production thereof
US5326729A (en) * 1992-02-07 1994-07-05 Asahi Glass Company Ltd. Transparent quartz glass and process for its production
JP2879500B2 (ja) * 1992-06-29 1999-04-05 信越石英株式会社 エキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材及びその製造方法
JP3194667B2 (ja) 1994-03-26 2001-07-30 信越石英株式会社 光学用合成石英ガラス成形体及びその製造方法
US5707908A (en) * 1995-01-06 1998-01-13 Nikon Corporation Silica glass
US6087283A (en) * 1995-01-06 2000-07-11 Nikon Corporation Silica glass for photolithography
US6143676A (en) * 1997-05-20 2000-11-07 Heraeus Quarzglas Gmbh Synthetic silica glass used with uv-rays and method producing the same
JP4193358B2 (ja) 1998-01-30 2008-12-10 旭硝子株式会社 合成石英ガラス光学部材およびその製造方法
DE19962451C1 (de) * 1999-12-22 2001-08-30 Heraeus Quarzglas Verfahren für die Herstellung von opakem Quarzglas und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Si0¶2¶-Granulat
DE10159961C2 (de) * 2001-12-06 2003-12-24 Heraeus Quarzglas Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil sowie Verfahren zur Herstellung und Verwendung desselben

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003183037A5 (ja)
JP4263256B2 (ja) 光学的損傷に対する耐性を有する高純度溶融シリカガラス部材およびその製造方法
JP5253551B2 (ja) フォトリフラクティブ・ガラスおよびそれから製造された光学素子
DE69015453T3 (de) Optische Teile und Rohlinge aus synthetischem Siliziumdioxidglas und Verfahren zu ihrer Herstellung.
KR950704192A (ko) 실리카(Silitacs)
JP2003176141A5 (ja)
ATE415866T1 (de) Verbesserte applanationslinse
DE69127964T2 (de) Kieselsäuren
KR20080025412A (ko) 저 플루언스 의존성 투과율을 갖는 합성 실리카 물질 및이의 제조방법
EP1318124A3 (de) Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil sowie Verfahren zur Herstellung und Verwendung desselben
EP1067096A3 (en) Quartz glass members for excimer laser, and their method of manufacture
Zhang et al. 157-nm laser-induced modification of fused-silica glasses
ATE201390T1 (de) Vorform aus synthetischem kieselglas und vorrichtung zu ihrer herstellung
ATE236095T1 (de) Neutralgraue glaszusammensetzung mit niedriger lichtdurchlässigkeit
JPH0532432A (ja) 高出力レーザ用光学部材
Dyer et al. High reflectivity fibre gratings produced by incubated damage using a 193nm ArF laser
DE50201208D1 (de) Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil und Verwendung desselben
JP4323319B2 (ja) アルミニウムを含有する溶融シリカ
Skuja et al. Advances in silica based glasses for UV and vacuum UV laser optics
EP0985643A3 (en) Method for producing synthetic quartz glass for the use in ArF excimer laser lithography
JP2005504699A5 (ja)
JP2004525409A5 (ja)
JP3054412B2 (ja) 耐紫外線・耐放射線シリカガラスおよびその製造方法、耐紫外線・耐放射線光学素子およびその製造方法
JPH0129221Y2 (ja)
Violakis et al. Stress changes induced by cw-244-nm Ar+ irradiation in H2-loaded SMF-28e optical fibers