JP2003171251A - 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途 - Google Patents

遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途

Info

Publication number
JP2003171251A
JP2003171251A JP2002357349A JP2002357349A JP2003171251A JP 2003171251 A JP2003171251 A JP 2003171251A JP 2002357349 A JP2002357349 A JP 2002357349A JP 2002357349 A JP2002357349 A JP 2002357349A JP 2003171251 A JP2003171251 A JP 2003171251A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
composition
derivatives
composition according
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002357349A
Other languages
English (en)
Inventor
Didier Candau
キャンドー ディディエ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LOreal SA
Original Assignee
LOreal SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LOreal SA filed Critical LOreal SA
Publication of JP2003171251A publication Critical patent/JP2003171251A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K51/00—Preparations containing radioactive substances for use in therapy or testing in vivo
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
    • A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
    • A61K8/35—Ketones, e.g. benzophenone
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
    • A61K8/44—Aminocarboxylic acids or derivatives thereof, e.g. aminocarboxylic acids containing sulfur; Salts; Esters or N-acylated derivatives thereof
    • A61K8/445—Aminocarboxylic acids or derivatives thereof, e.g. aminocarboxylic acids containing sulfur; Salts; Esters or N-acylated derivatives thereof aromatic, i.e. the carboxylic acid directly linked to the aromatic ring
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
    • A61K8/4906—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with one nitrogen as the only hetero atom
    • A61K8/4913—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with one nitrogen as the only hetero atom having five membered rings, e.g. pyrrolidone carboxylic acid
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/58—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen, sulfur or phosphorus
    • A61K8/585—Organosilicon compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82B—NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B3/00—Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G49/00—Compounds of iron
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Birds (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造が容易で改善された日光保護ファクター
を有する抗日光組成物を提供する。 【解決手段】 化粧品的に許容可能なビヒクルに：(ｉ)
第１の遮蔽剤としてベンゾトリアゾール官能基を有する
シリコン誘導体；(ｉｉ)第２の遮蔽剤としてジベンゾイ
ルメタン誘導体；(ｉｉｉ)第３の遮蔽剤として次の式
(ＩＩＩ)： 【化１】 [上式中、Ｒ１及びＲ２は水素原子、アルキル基等を示
し；また窒素原子と共同して５-又は６員環を形成可能
であり；Ｒ３及びＲ４はアルキル基、アルケニル基等を
示し；Ｘは水素原子又はＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７
基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、水素原子、アルキル
基等を示し；Ｙは-(ＣＨ２)２-、-(ＣＨ２)３-等を示
し；Ｚは-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３等を表
し；ｍは０〜３の整数であり；ｎは０〜３の整数であ
り；ｏは１〜２の整数である]のアミノ置換２-ヒドロキ
シベンゾフェノン誘導体を、相乗効果が生じる割合で含
有せしめる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、化粧品的に許容可
能な媒体ビヒクルに： (ｉ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を
有する少なくとも１つのシリコン誘導体； (ｉｉ)第２の遮蔽剤として、少なくとも１つのジベンゾ
イルメタン誘導体； (ｉｉｉ)第３の遮蔽剤として、少なくとも１つの特定の
アミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体； を含有せしめてなることを特徴とする、特に皮膚及び／
又は毛髪を光保護するための、局所使用される新規の化
粧品用又は皮膚用(皮膚科学的)組成物に関する。これら
３つの遮蔽剤を組み合わせることにより、付与される保
護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して相乗効果が得られ
る。また本発明は、紫外線の影響から、皮膚及び毛髪を
保護するためのそれらの用途にも関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２８０
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
褐色化し、ＵＶ-Ｂ線の名称で知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は自然なサンタ
ン状態の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑が
形成される；よって、このＵＶ-Ｂ線は遮蔽しなければ
ならない。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を
持ち、皮膚を褐色化するＵＶ-Ａ線も皮膚に悪い変化を
引き起こすおそれがあることが知られており、敏感肌又
は頻繁に太陽光線にさらされている皮膚の場合は特にし
かりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾性を喪失さ
せ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因とな
るものである。ＵＶ-Ａ線は紅斑反応の惹起を誘発した
り、ある個人においてはこの反応を悪化させ、光毒性又
は光アレルギー反応の原因にもなりうる。よって、ＵＶ
-Ａ線もまた遮蔽することが望ましい。
【０００３】皮膚の光(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)保護
を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提供さ
れている。抗日光組成物の効力は、ＵＶ遮蔽剤を用いな
い場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要なＵＶ線の線
量に対する、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合の紅斑形成閾値に
達するまでに必要なＵＶ線の線量の比率を数学的に表し
たものである日光保護ファクター(ＳＰＦ)により、一般
的に表される。よってこのファクターは、その生物学的
作用の範囲がＵＶ-Ｂ領域を中心としている紅斑に対す
る保護効果に関連しており、従ってこのＵＶ-Ｂ線に対
する保護性を記載するものである。
【０００４】皮膚におけるＵＶ-Ａ線の影響、及びＵＶ-
Ｂ及び／又はＵＶ-Ａ線を吸収可能な遮蔽剤を組み合わ
せて含有する多くの組成物の開発を考慮して、ＵＶ-Ａ
線に対する保護性を評価するための特定の方法が開発さ
れている。ＵＶ-Ａ線に対する保護性の特徴付けには、
皮膚をＵＶ-Ａ線に暴露して２〜４時間後に観察された
皮膚の色調を測定するＰＰＤ(持続性色素暗色化：Persi
stent Pigment Darkening)法が特に推奨され使用されて
いる。この方法は、1996年、製品のＵＶ-Ａ表示のため
の公式な試験法として日本化粧品工業協会(Japanese Co
smetic Industry Association：ＪＣＩＡ)に採用され、
欧州及び合衆国の試験研究所において頻繁に使用されて
いる[日本化粧品工業協会技術報告。ＵＶＡ保護効果の
ための測定規格(Measurement Standards for UVA prote
ction efficacy)、1995年、11月21日発行、1996年1月1
日から有効]。日光保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤ(ＵＶ-
ＡＰＰＤＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合の色素沈
着閾値に達するまでに必要なＵＶ-Ａ線の線量(ＭＰＰＤ
ｎｐ)に対する、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合の色素沈着閾
値に達するまでに必要なＵＶ-Ａ線の線量(ＭＰＰＤｐ)
の比率を数学的に表したものである。 ＵＶ-ＡＰＰＤＰＦ＝(ＭＰＰＤｐ)／(ＭＰＰＤｎｐ)
【０００５】これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
的に許容可能なビヒクル)の形態であり、有害な紫外線
を選択的に吸収可能な一又は複数の従来からの親油性及
び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してな
るもので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の日光
保護ファクターに従って選択される。
【０００６】ＵＶ-Ａ線領域及びＵＶ-Ｂ線領域の双方に
おいて良好な遮蔽特性を示し、ベンゾトリアゾール官能
基を有する親油性のシリコーン誘導体から形成される化
粧品用ＵＶ遮蔽剤は、従来技術において公知である。そ
れらは、欧州特許出願公開第０３９２８８３号、欧州特
許出願公開第０６６０７０１号、欧州特許出願公開第０
７０８１０８号、欧州特許出願公開第０７１１７７８号
及び欧州特許出願公開第７１１７７９号に開示されてい
る。欧州特許出願公開第０７４２００３号及び欧州特許
出願公開第０８６０１６５号には、日光保護ファクター
の相乗活性を生じさせる目的で、ベンゾトリアゾール官
能基を有するこれらのシリコーン遮蔽剤と、スルホン官
能基を有する特定の水溶性遮蔽剤、すなわちベンゼン-
１,４-ジ(３-メチリデン-１０-ショウノウスルホン酸)
又は２-フェニルベンゾイミダゾール-５-スルホン酸及
びその塩類を組み合わせることが既に提案されている。
これらの相乗遮蔽系は、水溶性の遮蔽剤を溶解させる少
なくとも１つの水相と、シリコーン遮蔽剤を溶解させる
ための脂肪相とを使用することが必要であり、処方の可
能性を大幅に低減する。ジベンゾイルメタン誘導体又は
ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコーン誘導体等
の他の付加的な遮蔽剤を含有可能な、アミノ置換２-ヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体をベースとする抗日光組
成物は、欧州特許出願公開第１０４６３９１号及び独国
特許第１００１２４０８号において知られている。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】上
述した光保護の分野において多くの研究を行ったとこ
ろ、本出願人は、予期しないことに、また驚くべきこと
に、従来技術でそれ自体は既に知られている３つの特定
のファミリーの遮蔽化合物、(１)ジベンゾイルメタン誘
導体、(２)ベンゾトリアゾールシリコン誘導体及び(３)
特定のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体
を組み合わせることで、その相乗効果のために、極めて
改善された日光保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤを示す抗
日光組成物が得られることを見出した。このような組み
合わせにより、極めて改善され、それ自身のみで使用さ
れる遮蔽剤で得られるよりもとにかく高い日光保護ファ
クターＵＶ-ＡＰＰＤを有する抗日光組成物を得ること
ができる。さらに、本発明の遮蔽剤の特定の組み合わせ
は、非常に広範囲の化粧品用ビヒクルに導入することが
できる。この発見が、本発明の基礎を形成する。
【０００８】よって、本発明の主題事項の一つは、化粧
品的に許容可能なビヒクルに： (ｉ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を
有する少なくとも１つのシリコン誘導体； (ｉｉ)第２の遮蔽剤として、少なくとも１つのジベンゾ
イルメタン誘導体； (ｉｉｉ)第３の遮蔽剤として、以下に記載する式(ＩＩ
Ｉ)の少なくとも１つのアミノ置換２-ヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体； を含有せしめてなることを特徴とする、新規の化粧品用
組成物、特に抗日光化粧品用組成物を提供することにあ
る。本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫外線か
ら、皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧
品用組成物の調製における、上述した組成物の使用にあ
る。一般的に、前記第１、第２及び第３の遮蔽剤は、付
与される日光保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して相
乗効果が生じるような割合で本発明の組成物中に存在す
る。本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な
記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【０００９】本発明で使用されるベンゾトリアゾール官
能基を有するシリコン誘導体は、次の式(１)： Ｏ(３-ａ)／２Ｓｉ(Ｒ７)ａ-Ｇ (１) {上式中： − Ｒ７はハロゲン化されていてもよいＣ１-Ｃ１０ア
ルキル基又はフェニル基又はトリメチルシリルオキシ基
を表し、 − ａは０〜３から選択される整数であり、 − 符号Ｇは、次の式(２)：
【化１１】 ［上式中： − Ｙは同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８アルキル
基、ハロゲン及びＣ１-Ｃ４アルコキシ基から選択さ
れ、後者の場合、同じ芳香環上の隣接する２つのＹ基
は、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有するアル
キリデンジオキシ基を共同して形成し得るものであると
理解され、 − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ に相当する、ケイ素原子に直接結合する一価の基を示
す}の少なくとも１つの単位を含有するベンゾトリアゾ
ール官能基を有するシロキサン又はシランであることが
好ましい。
【００１０】これらの化合物は、特に欧州特許出願公開
第０３９２８８３号、欧州特許出願公開第０６６０７０
１号、欧州特出願公開第０７０８１０８号、欧州特許出
願公開第０７１１７７８号及び欧州特許出願公開第７１
１７７９号に開示されている。好ましくは、本発明で使
用されるシリコン誘導体は、特に欧州特許公開第０６６
０７０１号に開示されているベンゾトリアゾールシリコ
ーンの一般的ファミリーに属するものである。
【００１１】本発明の実施に特に適切なベンゾトリアゾ
ールシリコーンのファミリーは、次の式(５)又は(６)：
【化１２】
【化１３】 {上式中： − Ｒ７は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ１０アルキ
ル、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル及びト
リメチルシリルオキシ基から選択され、Ｒ７基の数の少
なくとも８０％はメチルであり； − Ｄは同一又は異なっており、Ｒ７基及び符号Ｇから
選択され、 − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数で
あり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｄの少なくとも１つは
Ｇを示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であ
り、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり、 − 符号Ｇは上述した式(２)に相当するものである｝ に相当する化合物を含むものである。
【００１２】上述した式(２)から明らかなように、ベン
ゾトリアゾール単位に対する-(Ｘ) ｍ-(ＣＨ２)ｐ-ＣＨ
(Ｚ)-ＣＨ２-の結合は、シリコーン鎖のケイ素原子に対
する前記ベンゾトリアゾール単位の結合を確実にするも
のであるが、これは、本発明において、次の式：
【化１４】 に示す、ベンゾトリアゾールの２つの芳香環によって提
供される全ての利用可能な位置で起こり得る。この結合
は、好ましくは３、４又は５位(ヒドロキシル官能基を
有する芳香環)、又は４'位(トリアゾール環に隣接した
ベンゼン環)で生じるか、さらに好ましくは３、４又は
５位で生じる。本発明の好ましい実施態様では３位で結
合する。同様に、Ｙ置換基単位又は単位類の結合は、ベ
ンゾトリアゾールの他の任意の利用可能な位置で生じ得
る。しかしながら、この結合は、好ましくは３、４、
４'、５及び／又は６位で生じる。本発明の好ましい実
施態様においては、単位Ｙは５位で結合する。
【００１３】上述した式(５)及び(６)において、アルキ
ル基は直鎖状又は分枝状であってよく、特に、メチル、
エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イソ
ブチル、tert-ブチル、ｎ-アミル、イソアミル、ネオペ
ンチル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、２-
エチルヘキシル及びtert-オクチル基から選択され得
る。本発明の好ましいＲ７アルキル基は、メチル、エチ
ル、プロピル、ｎ-ブチル、ｎ-オクチル及び２-エチル
ヘキシル基である。さらに好ましくは、Ｒ７基は、全て
メチル基である。上述した式(５)又は(６)の化合物の中
でも式(５)に相当するもの、すなわち、短い直鎖を含む
ジオルガノシロキサン類が好ましく使用される。上述し
た式(５)の化合物の中でも、Ｄ基が、両方ともＲ７基で
あるものが、好ましく使用される。
【００１４】本発明の範囲内に入る直鎖状のジオルガノ
シロキサン類としては、次の特徴： − ＤはＲ７基であり、 − Ｒ７はアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜１０であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチ
ル、tert-ブチル又はＣ１-Ｃ４アルコキシから選択さ
れ、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０、又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、 のうち、少なくとも１つ、好ましくは全てを有する統計
的誘導体(statistical derivatives)又はブロックが定
まった誘導体が好ましい。
【００１５】本発明に特に適したベンゾトリアゾールシ
リコーン類のファミリーの一つは、次の一般式(７)：
【化１５】 ［上式中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、Ｅは、
【化１６】 の二価の基を表す］で定まるものである。本発明の特に
好ましい実施態様におけるベンゾトリアゾールシリコー
ンは、次の式：
【化１７】 に相当する化合物ドロメトリゾールトリシロキサン(Ｃ
ＴＦＡ名)である。
【００１６】上述した式(１)、(５)、(６)及び(７)の生
成物を調製するために適した方法は、特に、米国特許第
３２２０９７２号、米国特許第３６９７４７３号、米国
特許第４３４０７０９号、米国特許第４３１６０３３号
及び米国特許第４３２８３４６号、及び欧州特許出願公
開第０３９２８８３号及び欧州特許出願公開第０７４２
００３号に開示されている。
【００１７】ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコ
ン誘導体は、組成物の全重量に対して０．５〜２０重量
％、好ましくは１〜１０重量％、特に２〜８重量％の範
囲の含有量で、本発明の組成物中に存在し得る。上述し
たように、本発明で目的としているジベンゾイルメタン
誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であ
り、特に、仏国特許公開第２３２６４０５号、仏国特許
公開第２４４０９３３号及び欧州特許公開第０１１４６
０７号公報に開示されており、該公報の教示は、これら
の生成物の実際の定義に関して、全てが本記載に参照と
して含まれるものである。
【００１８】本発明で特に目的としているジベンゾイル
メタン誘導体としては、これらに限定されるものではな
いが、特に： − ２-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
ンゾイルメタン、 を挙げることができる。
【００１９】上述したジベンゾイルメタン誘導体の中で
も、特にホフマン-ラロシュ社(Hoffmann LaRoche)から
「パルソール(Parsol)1789」の商品名で販売されている
４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンが本
発明において最も好ましく使用され、この遮蔽剤は次の
展開式(Ｉ)：
【化１８】 に相当するものである。
【００２０】本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン
誘導体は４-イソプロピルジベンゾイルメタンで、この
遮蔽剤はメルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusole
x)8020」の名前で販売されており、次の展開式(ＩＩ)：
【化１９】 に相当するものである。ジベンゾイルメタン誘導体又は
誘導体類は、組成物の全重量に対して好ましくは０．５
〜２０重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％、特に
２〜８重量％の含有量で本発明の組成物中に存在する。
【００２１】本発明のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体は、次の式(ＩＩＩ)：
【化２０】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル
基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ３-Ｃ１０シク
ロアルケニル基を示し；Ｒ１及びＲ２はそれらが結合し
ている窒素原子と共同して、５-又は６員環を形成可能
で、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ
２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ
１０シクロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル
基、Ｃ１-Ｃ１２アルコキシ基、(Ｃ１-Ｃ２０)アルコキ
シカルボニル基、Ｃ１-Ｃ １２アルキルアミノ基、ジ(Ｃ
１-Ｃ１２)アルキルアミノ基、アリール基又はヘテロア
リールで、置換されていてもよいもの、又はカルボキシ
ラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選
択される水溶性置換基を示し；Ｘ'は水素原子又はＣＯ
ＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ
７は同一又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ２０ア
ルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シク
ロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、-(Ｙ'
Ｏ)Ｏ-Ｚ'基又はアリール基を示し；Ｙ'は-(ＣＨ２)
２-、-(ＣＨ２)３-、-(ＣＨ２)４-又は-ＣＨ-(ＣＨ３)-
ＣＨ２-を示し；Ｚ'は-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２
ＣＨ３、-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ３又は-ＣＨ(ＣＨ
３)-ＣＨ３を表し；ｍ'は０〜３で変化する整数であ
り；ｎ'は０〜３で変化する整数であり；ｏは１〜２で
変化する整数である]に相当するものである。
【００２２】Ｃ１-Ｃ２０アルキル基としては、例え
ば：メチル、エチル、ｎ-プロピル、１-メチルエチル、
ｎ-ブチル、１-メチルプロピル、２-メチルプロピル、
１,１-ジメチルエチル、ｎ-ペンチル、１-メチルブチ
ル、２-メチルブチル、３-メチルブチル、２,２-ジメチ
ルプロピル、１-エチルプロピル、ｎ-ヘキシル、１,１-
ジメチルプロピル、１,２-ジメチルプロピル、１-メチ
ルペンチル、２-メチルペンチル、３-メチルペンチル、
４-メチルペンチル、１,１-ジメチルブチル、１,２-ジ
メチルブチル、１,３-ジメチルブチル、２,２-ジメチル
ブチル、２,３-ジメチルブチル、３,３-ジメチルブチ
ル、１-エチルブチル、２-エチルブチル、１,２,２-ト
リメチルプロピル、１-エチル-１-メチルプロピル、１-
エチル-２-メチルプロピル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチ
ル、ｎ-ノニル、ｎ-デシル、ｎ-ウンデシル、ｎ-ドデシ
ル、ｎ-トリデシル、ｎ-テトラデシル、ｎ-ペンタデシ
ル、ｎ-ヘキサデシル、ｎ-ヘプタデシル、ｎ-オクタデ
シル、ｎ-ノナデシル又はｎ-イコシル(icosyl)を挙げる
ことができる。
【００２３】Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基としては、例え
ば：ビニル、ｎ-プロペニル、イソプロペニル、１-ブテ
ニル、２-ブテニル、１-ペンテニル、２-ペンテニル、
２-メチル-１-ブテニル、２-メチル-２-ブテニル、３-
メチル-１-ブテニル、１-ヘキセニル、２-ヘキセニル、
１-ヘプテニル、２-ヘプテニル、１-オクテニル又は２-
オクテニルを挙げることができる。Ｃ１-Ｃ１２アルコ
キシ基としては：メトキシ、エトキシ、ｎ-プロポキ
シ、ｎ-ブトキシ、ｎ-ペントキシ、１-メチルプロポキ
シ、３-メチルブトキシ、２,２-ジメチルプロポキシ、
１-メチル-１-エチルプロポキシ、オクトキシ、２-メチ
ルプロポキシ、１,１-ジメチルプロポキシ、ヘキソキ
シ、ヘプトキシ又は２-エチルヘキソキシを挙げること
ができる。
【００２４】Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基としては、
例えば：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１-メチルシク
ロプロピル、１-エチルシクロプロピル、１-プロピルシ
クロプロピル、１-ブチルシクロプロピル、１-ペンチル
シクロプロピル、１-メチル-１-ブチルシクロプロピ
ル、１,２-ジメチルシクロプロピル、１-メチル-２-エ
チルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又
はシクロデシルを挙げることができる。一又は複数の二
重結合を有するＣ３-Ｃ１０シクロアルケニル基として
は：シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテ
ニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１,
３-シクロヘキサジエニル、１,４-シクロヘキサジエニ
ル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シク
ロオクテニル、１,５-シクロオクタジエニル、シクロオ
クタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニル
を挙げることができる。シクロアルキル又はシクロアル
ケニル基は、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲ
ン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミ
ノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキルアミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキ
ル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又はヒドロキシルから選択
される一又は複数(好ましくは１〜３)の置換基を有し得
る。それらは、そのフリーの結合手が水素又はＣ１-Ｃ
４アルキル基により占有され得る、１〜３のヘテロ原
子、例えば硫黄、酸素又は窒素をさらに有してもよい。
【００２５】アリール基は、好ましくは、例えば塩素、
フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミ
ノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキル
アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又
はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは
１〜３)の置換基を有し得るフェニル又はナフチル環か
ら選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフ
ェニル及びナフチルである。ヘテロアリール基は、一般
的に、硫黄、酸素又は窒素から選択される一又は複数の
ヘテロ原子を含有する。
【００２６】水溶性基は、例えばカルボキシラート又は
スルホナート基であり、特に、それらの生理学的に許容
可能なカチオンとの塩類、例えばアルカリ金属塩又はト
リアルキルアンモニウム塩、例えばトリ(ヒドロキシア
ルキル)アンモニウム又は２-メチルプロパン-１-オール
-２-アンモニウム塩である。さらに、アンモニウム基、
例えばアルキルアンモニウム、及びそれらの生理学的に
許容可能なアニオンとの塩の形態を挙げることもでき
る。Ｒ１及びＲ２基と窒素原子とで形成される５-又は
６員環の例としては、特にピロリジン又はピペリジンを
挙げることができる。アミノ基は、カルボニル基に対し
てオルト、メタ又はパラ位、好ましくはパラ位におい
て、ベンゼン環に結合可能である。
【００２７】式(ＩＩＩ)の好ましい化合物のファミリー
には、次の式(ＩＩＩａ)：
【化２１】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、又はＣ１-Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれ
らが結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を
形成し；Ｘ'はＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示
し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
３-Ｃ６シクロアルキル基を示し；Ｒ６及びＲ７は同一
又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基
又はＣ５-Ｃ６シクロアルキル基を示す]から選択される
ものが含まれる。式(ＩＩＩａ)の特に好ましい化合物
は：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ４
アルキル基、特にエチルを示し；Ｒ５がＣ３-Ｃ８アル
キル基を示し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異なっており、
Ｃ１-Ｃ８アルキル基を示す；ものである。
【００２８】式(ＩＩＩ)の好ましい化合物の他のファミ
リーには、次の式(ＩＩＩｂ)：
【化２２】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-
Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれらが結合している
窒素原子と共同して５-又は６員環を形成する]から選択
されるものが含まれる。式(ＩＩＩｂ)の化合物として
は、特に： − ４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニ
ルケトン、 − ４-ピロリジノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニルケ
トン、 を挙げることができる。
【００２９】式(ＩＩＩ)の特に好ましい化合物のファミ
リーには、次の式(ＩＩＩｃ)：
【化２３】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、又はＣ１-Ｃ８アルキル基を示すか、又はそれら
が結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形
成し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又は
Ｃ３-Ｃ６シクロアルキル基を示す]から選択されるもの
が含まれる。式(ＩＩＩｃ)の化合物としては： − ２-(４-ピロリジノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベン
ゾアート − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸メチル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸２-エチルヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸シクロヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸ｎ-ヘキシル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
ベンゾアート − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸メチル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸イソブチル を挙げることができる。特に好ましい式(ＩＩＩ)の化合
物は、２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイ
ル)安息香酸ｎ-ヘキシルである。
【００３０】上述した式(Ｉ)の化合物はそれ自体公知で
あり、それらの構造及び合成は、欧州特許出願第１０４
６３９１号及び独国特許第１００１２４０８号(本明細
書の内容の一体部分を形成する)に開示されている。本
発明のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体
は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．１〜２０
重量％、より好ましくは０．１〜１５重量％、特に０．
５〜１０重量％の範囲の割合で、本発明の組成物に存在
している。
【００３１】本発明の組成物は、ＵＶ-Ａ及び／又はＵ
Ｖ-Ｂ領域に活性のある他の付加的な有機ＵＶ遮蔽剤(吸
収剤)をさらに含有可能であり、該遮蔽剤は、水溶性、
脂溶性、もしくは一般的に使用されている化粧品用溶媒
に不溶である。付加的な有機遮蔽剤は、特にアントラニ
ラート類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；ショウ
ノウ誘導体；トリアジン誘導体、例えば米国特許第４３
６７３９０号、欧州特許第８６３１４５号、欧州特許第
５１７１０４号、欧州特許第５７０８３８号、欧州特許
第７９６８５１号、欧州特許第７７５６９８号、欧州特
許第８７８４６９号及び欧州特許第９３３３７６号に開
示されているもの；上述した式(ＩＩＩ)のもの以外のベ
ンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘
導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート
誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；
ビスベンゾアゾリル誘導体、例えば欧州特許第６６９３
２３号及び米国特許第２４６３２６４号に開示されてい
るもの；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチレ
ンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導
体、例えば米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５
１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、独
国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許第８９３
１１９号に開示されているもの；本発明のもの以外の遮
蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類、例えば特に国際公開
第９３／０４６６５号に開示されているもの；アルキル
スチレン誘導体、例えば独国特許出願第１９８５５６４
９号に開示されているもの、４,４-ジアリールブタジエ
ン誘導体、例えば欧州特許出願第０９６７２００号、独
国特許出願第１９７５５６４９号、欧州特許出願第１３
３３９８１号に開示されているもの、及びそれらの混合
物から選択される。
【００３２】ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のあ
る付加的な有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下
に示すものが挙げられる：パラ-アミノ安息香酸誘導体 ： − ＰＡＢＡ、 − エチルＰＡＢＡ、 − エチル-ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、 − 特に、ＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０
７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチル
ＰＡＢＡ、 − グリセリルＰＡＢＡ、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｐ２５」の名称
で販売されているＰＥＧ-２５-ＰＡＢＡ。
【００３３】サリチル酸誘導体： − ロナ(Rona)／ＥＭインダストリーから「ユーソレッ
クス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサ
ラート(homosalate)、 − ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)
から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で
販売されているサリチル酸エチルヘキシル、 − スケル社(Scher)から「ディピサル(Dipsal)」の名
称で販売されているジプロピレングリコールサリチラー
ト、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００３４】ケイ皮酸誘導体： − 特にホフマン-ラ・ロシュ社から「パルソールＭＣ
Ｘ」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチル
ヘキシル、 − メトキシケイ皮酸イソプロピル、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
Ｅ１０００」の商品名で販売されているメトキシケイ皮
酸イソアミル、 − シンノキサート、 − ＤＥＡメトキシシンナマート、 − メチルケイ皮酸ジイソプロピル、 − グリセリル-エチルヘキサノアート-ジメトキシシン
ナマート。
【００３５】β,β-ジフェニルアクリラート誘導体： − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名
で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、 − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で
販売されているエトクリレン(Etocrylene)。ベンゾフェノン誘導体 ： − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-１、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-２、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販
売されているベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisor
b)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-
６、 − アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社か
ら「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商
品名で販売されているベンゾフェノン-８、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で
販売されているベンゾフェノン-９、 − ベンゾフェノン-１２。
【００３６】ベンジリデンショウノウ誘導体： − シメックス社(Chimex)から「メギゾリル(Mexoryl)
ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウ
ノウ、 − シメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造
されているベンジリデンショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造
されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、 − シメックス社から「メギゾリルＳＸ」の名称で製造
されているテレフタリイデンジショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造
されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショ
ウノウ。ベンゾイミダゾール誘導体 ： − 特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品
名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホ
ン酸、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミ
ダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００３７】トリアジン誘導体： − チバ・スペシャリティー・ケミカルズ(Ciba Specialt
y Chemicals)から「チノソーブ(Tinosorb)Ｓ」の商品名
で販売されているアニソトリアジン、 − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名
で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、 − シグマ３Ｖ社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasor
b)ＨＥＢ」の商品名で販売されているジエチルヘキシル
ブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
ルマロナート)-ｓ-トリアジン。フェニルベンゾトリアゾール誘導体 ： − ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラト
リゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロ
メトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン、 − チバ・スペシャリティー・ケミカルズから「チノソー
ブ(Tinosorb)Ｍ」の商品名で水性分散液におけるマイク
ロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミ
カル(Fairmount Chemical)から「ミキシム(Mixxim)ＢＢ
／１００」の商品名で固体形態のものとして販売されて
いるメチレンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
チルフェノール)。
【００３８】アントラニル誘導体： − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチ
ル。イミダゾリン誘導体 ： − エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイ
ミダゾリンプロピオナート。ベンザルマロナート誘導体 ： − ホフマン-ラ・ロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の
商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有
するポリオルガノシロキサン。−４,４-ジアリールブタジエン誘導体： − -１,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチルプロピル)-
４,４-ジフェニルブタジエン、 − 及びそれらの混合物。
【００３９】特に好ましい溶解性の有機ＵＶ遮蔽剤は次
の化合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二
ナトリウム − アニソトリアジン、 − エチルヘキシルトリアゾン、 − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
ルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
チルフェノール)、 及びそれらの混合物、から選択される。
【００４０】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料類(一次粒子
の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは
１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体、ＵＶ光保護
剤としてよく知られている酸化チタン(アモルファス、
又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔
料類をさらに含有してもよい。また、従来のコーティン
グ剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウム
である。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナ
ノ顔料類としては、特に、欧州特許出願公開第０５１８
７７２号及び欧州特許出願公開第０５１８７７３号に開
示されているものがある。また、本発明の組成物は、皮
膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にす
るための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシア
セトン(ＤＨＡ)をさらに含有してもよい。
【００４１】また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、
有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、
酸化防止剤、フリーラジカルに抗するための薬剤、乳白
剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α-ヒドロ
キシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香
料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰア
ンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性
又は酸性化剤、着色料、又は化粧品、特にエマルション
の形態の抗日光組成物の製造において通常使用されてい
る任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用ア
ジュバントをさらに含有してもよい。
【００４２】脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物
からなり得る。「油」という用語は、周囲温度で液状の
化合物を意味すると理解される。「ロウ」という用語
は、周囲温度で固体又は実質的に固体であり、その融点
が一般的に３５℃を越える化合物を意味すると理解され
る。それらは脂肪酸、脂肪アルコール、及び直鎖状又は
環状の脂肪酸エステル類、例えば安息香酸、トリメリト
酸及びヒドロキシ安息香酸誘導体を含み得る。油として
は、鉱物性油(流動パラフィン)；植物性油(スイートア
ルモンド油、マカダミア油、クロフサスグリ種油又はホ
ホバ油)；合成油、例えばペルヒドロスクワレン、脂肪
アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル類(例えばファイ
ンテックス社(Finetex)から「フィンソルブ(Finsolv)Ｔ
Ｎ」の商品名で販売されているＣ１２-Ｃ１５安息香酸
アルキル、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプロ
ピル、カプリン酸／カプリル酸のものを含むトリグリセ
リド)、又はオキシエチレン化又はオキシプロピレン化
された脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油(シク
ロメチコーン、ポリジメチルシロキサン又はＰＤＭＳ
類)；フッ化油；又はポリアルキレン類を挙げることが
できる。ロウ状化合物としては、パラフィンロウ、カル
ナウバロウ、ミツロウ又は硬化ヒマシ油を挙げることが
できる。もちろん、当業者であれば、本発明の組成物に
固有の有利な特性、特に保護ファクターの相乗性が、考
えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受け
ないように留意して、これらの任意の付加的な化合物及
び／又はその量を留意して選択するであろう。
【００４３】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製され得る。これらの組成物
は、特に、単一又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／
Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリー
ム、ミルク、ゲル又はクリームゲル、パウダー又は固体
状チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾ
ールとして包装されてもよく、フォーム又はスプレーの
形態であってもよい。エマルションである場合、このエ
マルションの水相は、公知の方法［バンガム(Bangha
m)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watki
ns)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第２３１
５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により調
製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００４４】本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒ
トの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日
光組成物として又はメークアップ製品として使用するこ
とができる。本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として
使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又
は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又
はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エ
アゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することが
できる。
【００４５】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線から毛
髪を保護するために使用される場合、それは、シャンプ
ー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の
小胞体分散液の形態で提供することができ、また、例え
ばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パ
ーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化処理の前、
処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタ
イリング又はトリートメント用のローション又はスタイ
リング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛
髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネント
ウエーブ処理、毛髪のストレート化、染色又は脱色のた
めの組成物を構成し得る。組成物が、まつげ、眉毛又は
皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメ
ントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、ア
イシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライ
ナーとして使用される場合、それは、固体状又はペース
ト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中
水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸
濁液として提供され得る。
【００４６】指針として、水中油型エマルション型のビ
ヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００４７】本記載の最初に挙げたように、本発明の主
題事項は、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛
髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物
の調製における上述した組成物の使用にある。
【００４８】以下に本発明を例証するが限定するもので
はない実施例を記載する。
【表１】
【００４９】
【表２】
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C083 AB211 AB212 AB231 AB232 AB241 AB242 AC031 AC032 AC062 AC122 AC211 AC212 AC302 AC311 AC312 AC391 AC392 AC471 AC472 AC542 AC551 AC552 AC851 AC852 AD091 AD092 AD151 AD152 AD282 AD531 AD532 AD611 BB01 BB11 BB21 BB25 BB41 BB42 BB43 BB47 BB48 BB51 CC11 CC14 CC19 CC31 CC38 DD08 DD17 DD21 DD22 DD31 DD39 DD41 EE11 EE17 EE21

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 化粧品的に許容可能なビヒクルに： (ｉ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を
    有する少なくとも１つのシリコン誘導体； (ｉｉ)第２の遮蔽剤として、少なくとも１つのジベンゾ
    イルメタン誘導体； (ｉｉｉ)第３の遮蔽剤として、次の式(ＩＩＩ)： 【化１】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル
    基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ３-Ｃ１０シク
    ロアルケニル基を示し；Ｒ１及びＲ２はそれらが結合し
    ている窒素原子と共同して、５-又は６員環を形成可能
    で、 Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ２０ア
    ルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シク
    ロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、Ｃ１-
    Ｃ１２アルコキシ基、(Ｃ１-Ｃ２０)アルコキシカルボ
    ニル基、Ｃ１-Ｃ １２アルキルアミノ基、ジ(Ｃ１-Ｃ
    １２)アルキルアミノ基、アリール基又はヘテロアリー
    ルで、置換されていてもよいもの、又はカルボキシラー
    ト基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択さ
    れる水溶性置換基を示し；Ｘ'は水素原子又はＣＯＯＲ
    ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は
    同一又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキ
    ル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロア
    ルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、-(Ｙ'Ｏ)
    Ｏ-Ｚ'基又はアリール基を示し；Ｙ'は-(ＣＨ２)２-、-
    (ＣＨ２)３-、-(ＣＨ２)４-又は-ＣＨ-(ＣＨ３)-ＣＨ２
    -を示し；Ｚ'は-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２Ｃ
    Ｈ３、-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ３又は-ＣＨ(Ｃ
    Ｈ３)-ＣＨ３を表し；ｍ'は０〜３で変化する整数であ
    り；ｎ'は０〜３で変化する整数であり；ｏは１〜２で
    変化する整数である]の少なくとも１つのアミノ置換２-
    ヒドロキシベンゾフェノン誘導体；を含有せしめてなる
    ことを特徴とする抗日光化粧品用組成物等の化粧品用組
    成物。
  2. 【請求項２】 前記第１、第２及び第３の遮蔽剤が、付
    与される日光保護ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して相
    乗効果が生じるような割合で組成物中に存在している請
    求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
    コン誘導体が、次の式(１)： Ｏ(３-ａ)／２Ｓｉ(Ｒ７)ａ-Ｇ (１) {上式中： − Ｒ７はハロゲン化されていてもよいＣ１-Ｃ１０ア
    ルキル基又はフェニル基又はトリメチルシリルオキシ基
    を表し、 − ａは０〜３から選択される整数であり、 − 符号Ｇは、次の式(２)： 【化２】 ［上式中： − Ｙは同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８アルキル
    基、ハロゲン及びＣ１-Ｃ４アルコキシ基から選択さ
    れ、後者の場合、同じ芳香環上の隣接する２つのＹ基
    は、アルキリデン基が１から２の炭素原子を有するアル
    キリデンジオキシ基を共同して形成し得るものであると
    理解され、 − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ に相当する、ケイ素原子に直接結合する一価の基を示
    す}の少なくとも１つの単位を含有するベンゾトリアゾ
    ール官能基を有するポリオルガノシロキサン類及び／又
    はシラン類から選択される請求項１又は２に記載の組成
    物。
  4. 【請求項４】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
    コン誘導体が、次の式(５)又は(６)： 【化３】 【化４】 {上式中： − Ｒ７は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ１０アルキ
    ル、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル及びト
    リメチルシリルオキシ基から選択され、Ｒ７基の数の少
    なくとも８０％はメチルであり； − Ｄは同一又は異なっており、Ｒ７基及び符号Ｇから
    選択され、 − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数で
    あり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｄの少なくとも１つは
    Ｇを示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であ
    り、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり、 − 符号Ｇは請求項３に記載の式(２)に相当するもので
    ある｝ の一方に相当することを特徴とする請求項１ないし３の
    いずれか１項に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
    コン誘導体が、次の式(７)： 【化５】 ［上式中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、Ｅは、 【化６】 の二価の基を表す]に相当することを特徴とする請求項
    ４に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシ
    リコン誘導体が、次の式： 【化７】 のドロメトリゾールトリシロキサンであることを特徴と
    する請求項５に記載の組成物。
  7. 【請求項７】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
    コン誘導体が、組成物の全重量に対して０．５〜１５重
    量％、好ましくは１〜１０重量％の範囲の含有量で存在
    していることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか
    １項に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 ジベンゾイルメタン誘導体が： − ２-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
    ン、 − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
    イルメタン、 − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
    イルメタン、 − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
    ン、 − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
    ンゾイルメタン、 から選択されることを特徴とする請求項１ないし７のい
    ずれか１項に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 ジベンゾイルメタン誘導体が４-tert-ブ
    チル-４'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特
    徴とする請求項８に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 ジベンゾイルメタン誘導体が４-イソ
    プロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請
    求項８に記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物
    の全重量に対して０．５〜１５重量％、好ましくは１〜
    １０重量％、特に２〜８重量％の範囲の含有量で存在し
    ている請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の組成
    物。
  12. 【請求項１２】 式(ＩＩＩ)のアミノ置換２-ヒドロキ
    シベンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、次の式(ＩＩ
    Ｉａ)： 【化８】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子又はＣ１-Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれら
    が結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形
    成し；Ｘ'はＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；
    Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ３-Ｃ
    ６シクロアルキル基を示し；Ｒ６及びＲ７が同一又は異
    なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
    ５-Ｃ６シクロアルキル基を示す]のものから選択される
    請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 式(ＩＩＩａ)の化合物は：Ｒ１及びＲ
    ２が同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ４アルキル基、特
    にエチルを示し；Ｒ５がＣ３-Ｃ８アルキル基を示し；
    Ｒ６及びＲ７は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８アル
    キル基を示す、請求項１２に記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 式(ＩＩＩ)のアミノ置換２-ヒドロキ
    シベンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、次の式(ＩＩ
    Ｉｂ)： 【化９】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-
    Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれらが結合している
    窒素原子と共同して５-又は６員環を形成する]のものか
    ら選択される請求項１ないし１１のいずれか１項に記載
    の組成物。
  15. 【請求項１５】 式(ＩＩＩｂ)の化合物が： − ４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニ
    ルケトン、 − ４-ピロリジノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニルケ
    トン、 である請求項１４に記載の組成物。
  16. 【請求項１６】 式(ＩＩＩ)のアミノ置換２-ヒドロキ
    シベンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、次の式(ＩＩ
    Ｉｃ)： 【化１０】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子又はＣ１-Ｃ８アルキル基を示すか、又はそれらが
    結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形成
    し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
    ３-Ｃ６シクロアルキル基を示す]のものから選択される
    請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
  17. 【請求項１７】 式(ＩＩＩｃ)の化合物が： − ２-(４-ピロリジノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベン
    ゾアート − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸メチル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸２-エチルヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸シクロヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸ｎ-ヘキシル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    ベンゾアート − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸メチル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸イソブチル から選択される請求項１６に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 式(ＩＩＩｃ)の化合物が、２-(４-ジ
    エチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ｎ-ヘ
    キシルである請求項１７に記載の組成物。
  19. 【請求項１９】 式(ＩＩＩ)のアミノ置換２-ヒドロキ
    シベンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重
    量に対して０．１〜２０重量％の範囲の割合で存在して
    いる請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成
    物。
  20. 【請求項２０】 式(ＩＩＩ)のアミノ置換２-ヒドロキ
    シベンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重
    量に対して０．１〜２０重量％の範囲の割合で存在して
    いる請求項１９に記載の組成物。
  21. 【請求項２１】 式(ＩＩＩ)のアミノ置換２-ヒドロキ
    シベンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重
    量に対して０．５〜１０重量％の範囲の割合で存在して
    いる請求項２０に記載の組成物。
  22. 【請求項２２】 ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性
    のある他の有機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴
    とする請求項１ないし２１のいずれか１項に記載の組成
    物。
  23. 【請求項２３】 付加的な有機ＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類
    が、アントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸
    誘導体；ショウノウ誘導体；トリアジン誘導体；式(Ｉ
    ＩＩ)のもの以外のベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフ
    ェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導
    体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘
    導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾリル誘導体；ｐ
    -アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチレンビス(ヒド
    ロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体；ベンゾト
    リアゾールシリコン誘導体以外の遮蔽シリコーン類及び
    遮蔽ポリマー類；α-アルキルスチレンから誘導された
    二量体；４,４-ジアリールブタジエン誘導体；及びそれ
    らの混合物から選択される請求項２２に記載の組成物。
  24. 【請求項２４】 有機ＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類が次の化
    合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − ブチルメトキシジベンゾイルメタン、 − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、 − テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二
    ナトリウム − アニソトリアジン、 − エチルヘキシルトリアゾン、 − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
    ルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
    チルフェノール、 − １,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチルプロピル)-
    ４,４-ジフェニルブタジエン、 − 及びそれらの混合物、 から選択されることを特徴とする請求項２３に記載の組
    成物。
  25. 【請求項２５】 被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又
    はナノ顔料をさらに含有していることを特徴とする請求
    項１ないし２４のいずれか１項に記載の組成物。
  26. 【請求項２６】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
    被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウ
    ム又は酸化セリウム及びそれらの混合物から選択される
    ことを特徴とする請求項２５に記載の組成物。
  27. 【請求項２７】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
    及び／又は褐色にするための少なくとも１つの薬剤をさ
    らに含有することを特徴とする請求項１ないし２６のい
    ずれか１項に記載の組成物。
  28. 【請求項２８】 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非
    イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカ
    ルに抗するための薬剤、乳白剤、安定剤、エモリエン
    ト、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
    剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性
    剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラ
    ー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤又は着色
    料から選択される少なくとも１つのアジュバントをさら
    に含有していることを特徴とする請求項１ないし２７の
    いずれか１項に記載の組成物。
  29. 【請求項２９】 ヒトの表皮を保護するための組成物又
    は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、水
    中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミル
    ク、ゲル、クリームゲル、縣濁液、分散液、パウダー、
    チューブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供さ
    れることを特徴とする請求項１ないし２８のいずれか１
    項に記載の組成物。
  30. 【請求項３０】 まつげ、眉毛又は皮膚をメークアップ
    するための組成物であり、無水又は水性、ペースト状又
    は固体状の形態、エマルション、縣濁液又は分散液の形
    態で提供されることを特徴とする請求項１ないし２９の
    いずれか１項に記載の組成物。
  31. 【請求項３１】 紫外線から毛髪を保護するための組成
    物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルショ
    ン又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供されるこ
    とを特徴とする請求項１ないし２９のいずれか１項に記
    載の組成物。
  32. 【請求項３２】 太陽光線等の紫外線から、皮膚及び／
    又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用
    組成物の調製における、請求項１ないし２９のいずれか
    １項に記載の組成物の使用。
  33. 【請求項３３】 少なくとも１つのベンゾトリアゾール
    シリコン誘導体型の遮蔽剤と、１つのジベンゾイルメタ
    ン誘導体型の遮蔽剤を含有し、太陽光線等の紫外線から
    皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用
    又は皮膚用組成物の調製における、付与される日光保護
    ファクターＵＶ-ＡＰＰＤに関して相乗効果を生じせし
    めるための、アミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン
    誘導体の使用。
JP2002357349A 2001-12-07 2002-12-09 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途 Pending JP2003171251A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0115857 2001-12-07
FR0115857A FR2833167B1 (fr) 2001-12-07 2001-12-07 Compositions cosmetiques antisolaires a base d'un melange synergique de filtres et utilisations

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003171251A true JP2003171251A (ja) 2003-06-17

Family

ID=8870229

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002357349A Pending JP2003171251A (ja) 2001-12-07 2002-12-09 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6627179B2 (ja)
EP (1) EP1323411A1 (ja)
JP (1) JP2003171251A (ja)
KR (1) KR20030047812A (ja)
CN (1) CN1425366A (ja)
AU (1) AU2002302149B2 (ja)
BR (1) BR0207143A (ja)
CA (1) CA2412803A1 (ja)
FR (1) FR2833167B1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009541255A (ja) * 2006-06-23 2009-11-26 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 化粧品および／または皮膚用製剤のサンケア指数を高める方法
JP2012512215A (ja) * 2008-12-17 2012-05-31 ロレアル Ｕｖ照射によって誘発される皮膚の褐変化を制御するための化粧方法、組成物

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2319799T3 (es) * 2004-07-20 2009-05-12 Ciba Holding Inc. Preparados cosmeticos o dermatologicos fotoprotectores.
FR2886144B1 (fr) * 2005-05-27 2007-06-29 Oreal Procede de photostabilisation d'un derive de dibenzoylmethane par un derive sulfone de merocyanine ; compositions cosmetiques photoprotectrices contenant cette associaton.
GB0621050D0 (en) * 2006-10-23 2006-11-29 Univ Strathclyde Functionalised polymers for labelling metal surfaces
KR101669663B1 (ko) * 2009-01-29 2016-10-26 바스프 에스이 화장품 조성물의 안정화
ES2608456T3 (es) 2009-08-28 2017-04-11 L'oréal Composición que contiene al menos un filtro de tipo 2-hidroxibenzofenona lipófila y una s-triazina siliciada sustituida por al menos dos grupos alquilaminobenzoatos
WO2012055064A1 (en) * 2010-10-25 2012-05-03 L'oreal Process for preparing 2-hydroxyphenyl benzotriazole siloxane compounds
CN114539306B (zh) * 2022-02-15 2024-10-15 河南旭瑞新材料科技有限公司 一种甲酚曲唑三硅氧烷的合成工艺

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4571734A (en) * 1983-08-05 1986-02-18 International Business Machines Corporation Method and apparatus for decoding the output signal of a partial-response class-IV communication or recording-device channel
FR2695560B1 (fr) * 1992-09-17 1994-11-04 Oreal Composition cosmétique filtrante photostable contenant un filtre UV-A et un polymère filtre du type silicone benzotriazole.
FR2747037B1 (fr) * 1996-04-05 1998-05-29 Oreal Compositions cosmetiques filtrantes contenant un dibenzoylmethane, un beta,beta'-diphenylacrylate d'alkyle et une silicone benzotriazole et utilisations
FR2782516B1 (fr) * 1998-08-21 2001-09-07 Oreal Procede de photostabilisation de filtres solaires derives du dibenzoylmethane, compositions cosmetiques filtrantes photostabilisees ainsi obtenues et leurs utilisation
DE10012408A1 (de) * 2000-03-15 2001-09-20 Basf Ag Verwendung von Lichtschutzmittelkombinationen, die als wesentlichen Bestandteil aminosubstituierte Hydroxybenzophenone enthalten als photostabile UV-Filter in kosmetischen und pharmazeutischen Zubereitungen
DE10143964A1 (de) * 2001-09-07 2003-03-27 Basf Ag Emulgatorarme oder emulgatorfreie Systeme vom Typ Öl-in-Wasser mit einem Gehalt an Stabilisatoren und einem aminosubstituierten Hydroxybenzophenon
DE10143963A1 (de) * 2001-09-07 2003-03-27 Basf Ag Kosmetische und dermatologische Zubereitungen in Form von W/O-Emulsionen, enthaltend ein aminosubstituiertes Hydroxybenzophenon
DE10155965A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Iminodibernsteinsäure und/oder ihren Salzen
DE10155962A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Acrylamid-Polymeren
DE10155957A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Pentanatrium-Ethylendiamintetramethylenphosphonat
DE10155966A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Emulgatorfreie kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen
DE10155963A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen, Triazin- und/oder Benzotriazol-Derivaten
DE10155958A1 (de) 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Alkylnaphthalaten
DE10155716A1 (de) * 2001-11-14 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und/oder dermatologische Lichtschutzzubereitung
DE10155865A1 (de) * 2001-11-14 2003-05-28 Beiersdorf Ag Kosmetische und/oder dermatologische Lichtschutzzubereitung

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009541255A (ja) * 2006-06-23 2009-11-26 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 化粧品および／または皮膚用製剤のサンケア指数を高める方法
JP2012512215A (ja) * 2008-12-17 2012-05-31 ロレアル Ｕｖ照射によって誘発される皮膚の褐変化を制御するための化粧方法、組成物
JP2016040334A (ja) * 2008-12-17 2016-03-24 ロレアル Ｕｖ照射によって誘発される皮膚の褐変化を制御するための化粧方法、組成物
JP2018048210A (ja) * 2008-12-17 2018-03-29 ロレアル Ｕｖ照射によって誘発される皮膚の褐変化を制御するための化粧方法、組成物

Also Published As

Publication number Publication date
FR2833167B1 (fr) 2004-05-21
US20030157038A1 (en) 2003-08-21
AU2002302149A1 (en) 2003-06-19
KR20030047812A (ko) 2003-06-18
EP1323411A1 (fr) 2003-07-02
AU2002302149B2 (en) 2004-05-06
FR2833167A1 (fr) 2003-06-13
CA2412803A1 (fr) 2003-06-07
CN1425366A (zh) 2003-06-25
US6627179B2 (en) 2003-09-30
BR0207143A (pt) 2003-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1317918B1 (fr) Compositions cosmétiques antisloaires base d'un mélange synergique de filtres et utilisations
US6699461B2 (en) UV-photostabilized sunscreen compositions comprising dibenzoylmethane/benzophenone compounds
JP4805521B2 (ja) １，３，５−トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体及びアミノ置換２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体を含有する遮蔽組成物
JP2003171251A (ja) 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途
US6635239B2 (en) Stable/improvedly self-tanning compositions comprising amino-substituted 2-hydroxybenzophenone compounds
JP3844349B2 (ja) 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした化粧品用サンスクリーン組成物及び使用
JP2004196804A (ja) ｎ−ブチルフタルイミド／イソプロピルフタルイミドの共融混合物に溶解したトリアジン誘導体を含有する組成物；美容用途
JP2004517096A (ja) １，３，５−トリアジン誘導体とジベンゾイルメタン誘導体と４，４−ジアリールブタジエン化合物を含有する遮蔽組成物
US6703002B2 (en) Synergistically UV-photoprotecting sunscreen compositions comprising camphorsulfonic acid/benzophenone compounds
JP2004517094A (ja) ジベンゾイルメタンから誘導されたタイプの遮蔽剤と４，４−ジアリールブタジエンタイプの遮蔽剤を含有する遮蔽組成物
JP2004099601A (ja) ゾル−ゲル法により得られたジベンゾイルメタン型の日焼け止め剤を含む光安定化した物質、及び該物質を含む化粧及び／又は皮膚科学的組成物
JP2004262943A (ja) 新規のベンザルマロン酸塩のアミン、アミド、スルホンアミド及びカルバマート誘導体、これらの誘導体を含有する光保護用化粧品組成物
US20030165443A1 (en) Composition containing a dibenzoylmethane derivative and an alpha-alkylstyrene dimer uv stabilising method
JP2004182732A (ja) 少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と少なくとも一の３−（２−アザシクロアルキリデン）−１，３−ジヒドロインドル−２−オン誘導体を含有する遮蔽組成物及び光安定化方法
JP2004517095A (ja) ジベンゾイルメタンから誘導されたタイプの遮蔽剤とｐ−メチル−ベンジリデンショウノウとジアリールブタジエン化合物を含有する遮蔽組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050125

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20050419

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20050506

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20051018