JP2003170193A - 水処理方法 - Google Patents
水処理方法Info
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- JP2003170193A JP2003170193A JP2001371708A JP2001371708A JP2003170193A JP 2003170193 A JP2003170193 A JP 2003170193A JP 2001371708 A JP2001371708 A JP 2001371708A JP 2001371708 A JP2001371708 A JP 2001371708A JP 2003170193 A JP2003170193 A JP 2003170193A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 工業用水の循環水の流路において、スケー
ルの付着による伝熱の阻害や流量の低下等の障害の発生
を防止する水処理方法を提供する。 【解決手段】工業循環水の循環水の流路に有機ホスホン
酸系スケール防止剤を添加してスケール成分の発生・付
着を防止する方法において、前記循環水の循環流路の少
なくとも一部に磁界を印加して行うことを特徴とする水
処理方法。
ルの付着による伝熱の阻害や流量の低下等の障害の発生
を防止する水処理方法を提供する。 【解決手段】工業循環水の循環水の流路に有機ホスホン
酸系スケール防止剤を添加してスケール成分の発生・付
着を防止する方法において、前記循環水の循環流路の少
なくとも一部に磁界を印加して行うことを特徴とする水
処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は水処理方法に関す
る。さらに詳しくは、本発明は、工業用水の循環水系に
おいて、スケールの付着による伝熱の阻害や流量の低下
等の障害を防止するための水処理方法に関する。
る。さらに詳しくは、本発明は、工業用水の循環水系に
おいて、スケールの付着による伝熱の阻害や流量の低下
等の障害を防止するための水処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、各種の工場を循環する開放循環冷
却水、製鉄所を循環する高炉集塵水や転炉集塵水等の工
業用水の循環水系においては、循環水中の塩類濃度の上
昇等により、熱交換器や配管等に炭酸カルシウムを主と
するカルシウム系スケールが付着して伝熱の阻害や流量
の低下等の障害が発生する。そこで、カルシウム系スケ
ールの付着を抑制するために、従来から数多くのスケー
ル防止剤や循環水を電磁場処理するための装置等が知ら
れている。
却水、製鉄所を循環する高炉集塵水や転炉集塵水等の工
業用水の循環水系においては、循環水中の塩類濃度の上
昇等により、熱交換器や配管等に炭酸カルシウムを主と
するカルシウム系スケールが付着して伝熱の阻害や流量
の低下等の障害が発生する。そこで、カルシウム系スケ
ールの付着を抑制するために、従来から数多くのスケー
ル防止剤や循環水を電磁場処理するための装置等が知ら
れている。
【０００３】スケール防止剤としては、アクリル系共重
合体、有機ホスホン酸、有機キレート剤等の薬剤が提案
されている。また、循環水を電磁場処理するための代表
的な装置としては、スケールキラー（日本製鋼所製）等
があり、さらに、電磁場処理水を製造および供給する装
置（特開平９−２２０５７８号公報等）や、アニオン系
の薬剤を添加した後に変調電場処理を行うことによっ
て、変調電場処理を促進させ、スケールの付着を防止す
る方法（特開平２００１−２５９６９１号公報）が提案
されている。
合体、有機ホスホン酸、有機キレート剤等の薬剤が提案
されている。また、循環水を電磁場処理するための代表
的な装置としては、スケールキラー（日本製鋼所製）等
があり、さらに、電磁場処理水を製造および供給する装
置（特開平９−２２０５７８号公報等）や、アニオン系
の薬剤を添加した後に変調電場処理を行うことによっ
て、変調電場処理を促進させ、スケールの付着を防止す
る方法（特開平２００１−２５９６９１号公報）が提案
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、工業用
水の循環水の流路におけるスケール付着防止のために、
電磁場処理を行ったり、この処理を薬剤の添加と併用し
て行ったりする試みがなされているが、さらなるスケー
ル付着防止の効果が望まれている。
水の循環水の流路におけるスケール付着防止のために、
電磁場処理を行ったり、この処理を薬剤の添加と併用し
て行ったりする試みがなされているが、さらなるスケー
ル付着防止の効果が望まれている。
【０００５】本発明は、工業用水の循環水の流路におい
て、スケールの付着による伝熱の阻害や流量の低下等の
障害の発生を防止する水処理方法を提供することを課題
とする。
て、スケールの付着による伝熱の阻害や流量の低下等の
障害の発生を防止する水処理方法を提供することを課題
とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を行った結果、循環水に特定の
スケール防止薬剤を添加し、前記薬剤が添加された循環
水に磁力を印加することにより、循環水中に存在してい
るスケールの付着を効率的に防止できることを見出し、
本発明を完成するに到った。
題を解決すべく鋭意研究を行った結果、循環水に特定の
スケール防止薬剤を添加し、前記薬剤が添加された循環
水に磁力を印加することにより、循環水中に存在してい
るスケールの付着を効率的に防止できることを見出し、
本発明を完成するに到った。
【０００７】かくして、この発明によれば、工業用水の
循環水の流路に有機ホスホン酸系スケール防止剤を添加
してスケール成分の発生・付着を防止する方法におい
て、前記循環水の循環流路の少なくとも一部に磁界を印
加して行うことを特徴とする水処理方法が提供される。
循環水の流路に有機ホスホン酸系スケール防止剤を添加
してスケール成分の発生・付着を防止する方法におい
て、前記循環水の循環流路の少なくとも一部に磁界を印
加して行うことを特徴とする水処理方法が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明における「工業用水の循環
水の流路」とは、炭酸カルシウム等を主体とするスケー
ルが付着しやすい流路であれば特に限定されない。具体
的には、各種工場内において構内を循環する開放循環冷
却水、製鉄所の高炉集塵水や転炉集塵水の循環水系およ
び製紙工場の紙パルプ工程の循環水の流路などが挙げら
れる。本発明の水処理方法は、開放循環冷却水および転
炉集塵水の循環水の流路における水処理に特に好適に用
いられる。
水の流路」とは、炭酸カルシウム等を主体とするスケー
ルが付着しやすい流路であれば特に限定されない。具体
的には、各種工場内において構内を循環する開放循環冷
却水、製鉄所の高炉集塵水や転炉集塵水の循環水系およ
び製紙工場の紙パルプ工程の循環水の流路などが挙げら
れる。本発明の水処理方法は、開放循環冷却水および転
炉集塵水の循環水の流路における水処理に特に好適に用
いられる。
【０００９】本発明の水処理方法は、循環水の循環流路
の少なくとも一部に磁界を印加する工程と工業用水の循
環水の流路に有機ホスホン酸系スケール防止剤を添加す
る工程とからなる。これら２つの工程は、磁気を帯びた
循環水と有機ホスホン酸系スケール防止剤とが接触する
ように行われる。前記スケール防止剤の添加と前記磁界
の印加は、必ずしも連続して行われることを要せず、と
もに断続して行うことができる。例えば、磁界の印加
後、停止期間をはさんで磁界の印加を開始する工程を繰
り返してもよい。
の少なくとも一部に磁界を印加する工程と工業用水の循
環水の流路に有機ホスホン酸系スケール防止剤を添加す
る工程とからなる。これら２つの工程は、磁気を帯びた
循環水と有機ホスホン酸系スケール防止剤とが接触する
ように行われる。前記スケール防止剤の添加と前記磁界
の印加は、必ずしも連続して行われることを要せず、と
もに断続して行うことができる。例えば、磁界の印加
後、停止期間をはさんで磁界の印加を開始する工程を繰
り返してもよい。
【００１０】本発明の水処理方法では、公知の有機ホス
ホン酸系のスケール防止剤が用いられる。そのなかで
も、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸
（ＨＥＤＰ）、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリ
カルボン酸（ＰＢＴＣ）、アクリル酸−２−アクリロイ
ルアミノ−２−メチル−１−プロパンスルホン酸ナトリ
ウム・次亜リン酸付加重合物、１，１，１−ニトリロト
リメチルホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチルホ
スホン酸またはそれらの塩が好ましい。
ホン酸系のスケール防止剤が用いられる。そのなかで
も、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸
（ＨＥＤＰ）、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリ
カルボン酸（ＰＢＴＣ）、アクリル酸−２−アクリロイ
ルアミノ−２−メチル−１−プロパンスルホン酸ナトリ
ウム・次亜リン酸付加重合物、１，１，１−ニトリロト
リメチルホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチルホ
スホン酸またはそれらの塩が好ましい。
【００１１】それらの塩としては、リチウム塩、ナトリ
ウム塩およびカリウム塩などのアルカリ金属塩、ならび
にアンモニウム塩などが挙げられる。上記のアクリル酸
−２−アクリロイルアミノ−２−メチル−１−プロパン
スルホン酸ナトリウム・次亜リン酸付加重合物の塩とし
ては、そのナトリウム塩が、例えば、Biolab社のBelcle
ne（登録商標）４００として市販されている。このBelc
lene４００は、スライム障害防止の点でも効果がある。
ウム塩およびカリウム塩などのアルカリ金属塩、ならび
にアンモニウム塩などが挙げられる。上記のアクリル酸
−２−アクリロイルアミノ−２−メチル−１−プロパン
スルホン酸ナトリウム・次亜リン酸付加重合物の塩とし
ては、そのナトリウム塩が、例えば、Biolab社のBelcle
ne（登録商標）４００として市販されている。このBelc
lene４００は、スライム障害防止の点でも効果がある。
【００１２】循環水に添加する前記のスケール防止剤の
添加割合は、通常、１〜５０ｍｇ／リットル、好ましく
は２〜２０ｍｇ／リットルである。スケール防止剤の添
加割合が１ｍｇ／リットル未満の場合には、十分なスケ
ール防止効果が期待できないので好ましくない。また、
スケール防止剤の添加割合が５０ｍｇ／リットルを超え
る場合には、それ以上の効果が期待できず、かつコスト
的に不利になるので好ましくない。
添加割合は、通常、１〜５０ｍｇ／リットル、好ましく
は２〜２０ｍｇ／リットルである。スケール防止剤の添
加割合が１ｍｇ／リットル未満の場合には、十分なスケ
ール防止効果が期待できないので好ましくない。また、
スケール防止剤の添加割合が５０ｍｇ／リットルを超え
る場合には、それ以上の効果が期待できず、かつコスト
的に不利になるので好ましくない。
【００１３】循環水の循環流路の少なくとも一部に磁界
を印加する方法（以下、磁気処理と称する）としては、
循環流路の少なくとも一部に捲回したコイルに交流電流
を通電することが挙げられる。磁気処理の他の形態とし
ては、循環水の流路を横切る方向に対向する電極あるい
は電磁石の少なくとも一対を配設し、前記電極あるいは
電磁石の対に通電することによって行われる。また、磁
気処理は、公知の永久磁石や磁力発生装置を用いて行う
ことができる。上記したコイル、磁石あるいは電極等
は、循環水と接するように配設されてもよいし、循環水
と接しないように配設されてもよい。
を印加する方法（以下、磁気処理と称する）としては、
循環流路の少なくとも一部に捲回したコイルに交流電流
を通電することが挙げられる。磁気処理の他の形態とし
ては、循環水の流路を横切る方向に対向する電極あるい
は電磁石の少なくとも一対を配設し、前記電極あるいは
電磁石の対に通電することによって行われる。また、磁
気処理は、公知の永久磁石や磁力発生装置を用いて行う
ことができる。上記したコイル、磁石あるいは電極等
は、循環水と接するように配設されてもよいし、循環水
と接しないように配設されてもよい。
【００１４】これらによって、循環水の循環流路の少な
くとも一部に磁界が印加され、循環流路の循環水が磁界
を通過する。磁界の強度は、循環水中のカルシウムイオ
ンの含有量や循環水系における循環水量などに応じて設
定すればよい。したがって、処理対象の循環水中のカル
シウムイオンの含有量を予め測定しておき、磁界の強度
を設定すればよい。
くとも一部に磁界が印加され、循環流路の循環水が磁界
を通過する。磁界の強度は、循環水中のカルシウムイオ
ンの含有量や循環水系における循環水量などに応じて設
定すればよい。したがって、処理対象の循環水中のカル
シウムイオンの含有量を予め測定しておき、磁界の強度
を設定すればよい。
【００１５】本発明における循環水に対するスケール防
止剤の添加および磁力の印加後、循環水中の懸濁物の量
が多い場合には、これを除去し、処理された循環水を循
環使用することが好ましい。懸濁物を除去する方法とし
ては、公知の方法、例えば沈殿池を用いる方法が挙げら
れる。
止剤の添加および磁力の印加後、循環水中の懸濁物の量
が多い場合には、これを除去し、処理された循環水を循
環使用することが好ましい。懸濁物を除去する方法とし
ては、公知の方法、例えば沈殿池を用いる方法が挙げら
れる。
【００１６】本発明の水処理方法によれば、特定のスケ
ール防止剤を循環水に添加するとともに、循環水の循環
流路の少なくとも一部に磁界を印加することにより、ス
ケールの発生および付着の抑制に顕著な効果が認められ
る。
ール防止剤を循環水に添加するとともに、循環水の循環
流路の少なくとも一部に磁界を印加することにより、ス
ケールの発生および付着の抑制に顕著な効果が認められ
る。
【００１７】本発明の水処理方法を、図１を用いて具体
的に説明する。図１は、転炉から排出されたガスの流れ
（図中の破線矢印で示す）およびそのガスを処理する集
塵水の循環経路を示す概略図である。転炉から排出され
たガス（転炉ガス）は、乾式集塵器（図示しない）で集
塵され、次いで湿式集塵器１に送られて、ダスト等が除
去され、転炉ガスホルダー（図示しない）に回収され
る。
的に説明する。図１は、転炉から排出されたガスの流れ
（図中の破線矢印で示す）およびそのガスを処理する集
塵水の循環経路を示す概略図である。転炉から排出され
たガス（転炉ガス）は、乾式集塵器（図示しない）で集
塵され、次いで湿式集塵器１に送られて、ダスト等が除
去され、転炉ガスホルダー（図示しない）に回収され
る。
【００１８】湿式集塵に用いられた水（転炉集塵水）
は、沈殿槽２で固形物が回収され、貯水槽３および循環
ポンプ４を経て磁気処理部５に送られ、循環系でくり返
し利用される。なお、必要に応じてＡ点（水補充口）で
新しい水が補充され、Ｂ点（凝集沈殿物排出口）では凝
集沈殿物が排出除去される。
は、沈殿槽２で固形物が回収され、貯水槽３および循環
ポンプ４を経て磁気処理部５に送られ、循環系でくり返
し利用される。なお、必要に応じてＡ点（水補充口）で
新しい水が補充され、Ｂ点（凝集沈殿物排出口）では凝
集沈殿物が排出除去される。
【００１９】さらに、上記の転炉集塵水の循環水系に
は、転炉集塵水に凝集剤を添加する凝集剤添加装置６を
沈殿槽２の上流側に配設し、有機ホスホン酸系スケール
防止剤を添加するスケール防止剤添加装置７を磁気処理
部５の上流側に配設する。しかし、スケール防止剤添加
装置７および磁気処理部５が配設される位置は上記に限
定されない。
は、転炉集塵水に凝集剤を添加する凝集剤添加装置６を
沈殿槽２の上流側に配設し、有機ホスホン酸系スケール
防止剤を添加するスケール防止剤添加装置７を磁気処理
部５の上流側に配設する。しかし、スケール防止剤添加
装置７および磁気処理部５が配設される位置は上記に限
定されない。
【００２０】
【実施例】本発明を試験例により以下に説明するが、こ
れらの試験例により本発明が限定されるものではない。
れらの試験例により本発明が限定されるものではない。
【００２１】試験例（スケール抑制試験装置を用いたス
ケールの抑制効果を確認する試験）某製鉄所の転炉集塵
水の循環水系から採取した水を試験水として、図２に示
したスケール抑制試験装置１０を用いて転炉集塵水の循
環水系におけるスケールの抑制効果を確認する試験を行
った。
ケールの抑制効果を確認する試験）某製鉄所の転炉集塵
水の循環水系から採取した水を試験水として、図２に示
したスケール抑制試験装置１０を用いて転炉集塵水の循
環水系におけるスケールの抑制効果を確認する試験を行
った。
【００２２】スケール抑制試験装置１０は、図２に示し
たように、試験用循環ポンプ１１によって循環される水
路１２に、磁気処理部５、テストチューブ１３、流量計
１４、溶液タンク１５およびバルブ１６を配設してな
る。水路１２は塩化ビニルからなる内径２５ｍｍのパイ
プで構成されている。溶液タンク１５は、容量１５リッ
トルのポリエチレン容器からなり、貯留された試験水を
所定の温度に調整するヒータ１７を内側に配置した。
たように、試験用循環ポンプ１１によって循環される水
路１２に、磁気処理部５、テストチューブ１３、流量計
１４、溶液タンク１５およびバルブ１６を配設してな
る。水路１２は塩化ビニルからなる内径２５ｍｍのパイ
プで構成されている。溶液タンク１５は、容量１５リッ
トルのポリエチレン容器からなり、貯留された試験水を
所定の温度に調整するヒータ１７を内側に配置した。
【００２３】磁気処理部５は、エスケーエイ株式会社の
商品名「Scale Watcher(スケールウォッチャー)」で型
式「PDS-L 01」を用いた。具体的には、図２に示したよ
うに、コイル５１を水路１２に巻き付け、コイル５１の
両端を電源回路部５２に接続した。電源回路部５２は、
７００〜３０００Ｈｚの帯域で周波数が時間的に変化す
る方形波の交流電流をコイル５１に供給できるように構
成されている。これによって、コイル５１の内側の水路
１２部分に磁界が形成され、この磁界を通過する循環水
に磁力が印加される。
商品名「Scale Watcher(スケールウォッチャー)」で型
式「PDS-L 01」を用いた。具体的には、図２に示したよ
うに、コイル５１を水路１２に巻き付け、コイル５１の
両端を電源回路部５２に接続した。電源回路部５２は、
７００〜３０００Ｈｚの帯域で周波数が時間的に変化す
る方形波の交流電流をコイル５１に供給できるように構
成されている。これによって、コイル５１の内側の水路
１２部分に磁界が形成され、この磁界を通過する循環水
に磁力が印加される。
【００２４】このスケール抑制効果確認試験は、この発
明による実施例と従来技術による比較例として、スケー
ル防止剤としての薬剤の添加と、磁気処理部５による磁
界の有無を組み合わせたテーブル（後記の表２）を作成
し、このテーブルにしたがって順次、同一条件で行っ
た。
明による実施例と従来技術による比較例として、スケー
ル防止剤としての薬剤の添加と、磁気処理部５による磁
界の有無を組み合わせたテーブル（後記の表２）を作成
し、このテーブルにしたがって順次、同一条件で行っ
た。
【００２５】まず、図１の貯水槽３の出口に相当する位
置から転炉集塵水を試験水として１０リットル採取し、
溶液タンク１５に入れた。次いで、溶液タンク１５にス
ケール防止剤を添加した。ヒータ１７によって試験水の
温度を３０℃に調整し、テストチューブ１３を通過する
試験水の流速が１．０ｍ／ｓとなるようにバルブ１６で
循環流量を調整した後、循環ポンプ１１を駆動してテス
トチューブ１３に試験水を流通させた。
置から転炉集塵水を試験水として１０リットル採取し、
溶液タンク１５に入れた。次いで、溶液タンク１５にス
ケール防止剤を添加した。ヒータ１７によって試験水の
温度を３０℃に調整し、テストチューブ１３を通過する
試験水の流速が１．０ｍ／ｓとなるようにバルブ１６で
循環流量を調整した後、循環ポンプ１１を駆動してテス
トチューブ１３に試験水を流通させた。
【００２６】磁気処理は、コイル５１の両端を接続した
電源回路部５２から７００Ｈｚ付近の帯域で周波数が時
間的に変化する方形波の交流電流をコイル５１に供給し
た。
電源回路部５２から７００Ｈｚ付近の帯域で周波数が時
間的に変化する方形波の交流電流をコイル５１に供給し
た。
【００２７】それぞれの試験開始から７日後に、テスト
チューブ１３をスケール抑制試験装置１０から取り出し
た。試験の評価は、取り出されたテストチューブ１３の
それぞれについてスケール付着速度（ＭＣＭ）を算出
し、算出されたスケール付着速度を比較することにより
行った。
チューブ１３をスケール抑制試験装置１０から取り出し
た。試験の評価は、取り出されたテストチューブ１３の
それぞれについてスケール付着速度（ＭＣＭ）を算出
し、算出されたスケール付着速度を比較することにより
行った。
【００２８】テストチューブ１３の設定条件を以下に示
す。 材質／ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４） 内径／１．３９ｃｍ 長さ／１０ｃｍ 内面積／４３．６７ｃｍ2
す。 材質／ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４） 内径／１．３９ｃｍ 長さ／１０ｃｍ 内面積／４３．６７ｃｍ2
【００２９】有機ホスホン酸系スケール防止剤を添加す
る前の試験水の水質を表１に示す。
る前の試験水の水質を表１に示す。
【００３０】
【表１】
【００３１】前記した実施例と比較例のテーブルと試験
結果を表２に示す。
結果を表２に示す。
【００３２】
【表２】
【００３３】供試薬剤Ａ〜Ｄのそれぞれを以下に示す。
Ａ：１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸
（ＨＥＤＰ） Ｂ：２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸
（ＰＢＴＣ） Ｃ：アクリル酸−２−アクリロイルアミノ−２−メチル
−１−プロパンスルホン酸ナトリウム・次亜リン酸付加
重合物のナトリウム塩の５０重量％の水溶液（「Belcle
ne 400」：Biolab社製のスケール防止剤） Ｄ：ポリアクリル酸ナトリウム
（ＨＥＤＰ） Ｂ：２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸
（ＰＢＴＣ） Ｃ：アクリル酸−２−アクリロイルアミノ−２−メチル
−１−プロパンスルホン酸ナトリウム・次亜リン酸付加
重合物のナトリウム塩の５０重量％の水溶液（「Belcle
ne 400」：Biolab社製のスケール防止剤） Ｄ：ポリアクリル酸ナトリウム
【００３４】スケール付着速度（ＭＣＭ）の算出は、試
験後のテストチューブ１３を乾燥してその重量Ｗ７ を
測定し、次いでこのテストチューブ１３を酸洗浄してそ
の重量Ｗ０ を測定し、これらの測定結果から下記の式
によりスケール付着速度（ＭＣＭ）を算出した。 付着速度ＭＣＭ＝〔（Ｗ７ −Ｗ０ ）×1000×30〕／（Ａt ×Ｄ）・・・式 １ 上記の式１において、Ａt はテストチューブ１３の内面
積（ｃｍ2）、Ｄは試験日数（日）をそれぞれ意味す
る。なお、ＭＣＭは、〔ｍｇ／ｃｍ2・月数〕を意味す
る。
験後のテストチューブ１３を乾燥してその重量Ｗ７ を
測定し、次いでこのテストチューブ１３を酸洗浄してそ
の重量Ｗ０ を測定し、これらの測定結果から下記の式
によりスケール付着速度（ＭＣＭ）を算出した。 付着速度ＭＣＭ＝〔（Ｗ７ −Ｗ０ ）×1000×30〕／（Ａt ×Ｄ）・・・式 １ 上記の式１において、Ａt はテストチューブ１３の内面
積（ｃｍ2）、Ｄは試験日数（日）をそれぞれ意味す
る。なお、ＭＣＭは、〔ｍｇ／ｃｍ2・月数〕を意味す
る。
【００３５】表２の結果から、薬剤Ａ、ＢまたはＣから
選ばれる１種と、磁気処理を組み合わせることにより、
スケール防止剤を単独で用いた場合の１０分の１の添加
量で効果的にスケールを防止できることが分かった。ま
た、磁気処理を単独で行うよりも有機ホスホン酸系のス
ケール防止剤（薬剤Ａ、ＢおよびＣ）を事前に添加して
おくことによって、より効果的にスケールを防止できる
ことが分かった。
選ばれる１種と、磁気処理を組み合わせることにより、
スケール防止剤を単独で用いた場合の１０分の１の添加
量で効果的にスケールを防止できることが分かった。ま
た、磁気処理を単独で行うよりも有機ホスホン酸系のス
ケール防止剤（薬剤Ａ、ＢおよびＣ）を事前に添加して
おくことによって、より効果的にスケールを防止できる
ことが分かった。
【００３６】上記の例では、磁気処理部５に、コイル５
１を用いたが、コイル５１の代りに、あるいはコイル５
１と併用して循環水の流れ方向と直角方向に対向する陽
極および陰極を水路１２に配設し、陽極および陰極に任
意の直流電圧を印加する構成としてもよい。これによっ
て、陽極および陰極間の水路１２部分に磁界が形成さ
れ、この磁界を循環水が通過する。
１を用いたが、コイル５１の代りに、あるいはコイル５
１と併用して循環水の流れ方向と直角方向に対向する陽
極および陰極を水路１２に配設し、陽極および陰極に任
意の直流電圧を印加する構成としてもよい。これによっ
て、陽極および陰極間の水路１２部分に磁界が形成さ
れ、この磁界を循環水が通過する。
【００３７】
【発明の効果】この発明では、工業用水の循環水の流路
において、有機ホスホン酸系スケール防止剤の添加と磁
界の印加を併用することにより、スケールの付着を効率
的に防止するための水処理方法を提供することができ
る。
において、有機ホスホン酸系スケール防止剤の添加と磁
界の印加を併用することにより、スケールの付着を効率
的に防止するための水処理方法を提供することができ
る。
【図１】この発明の水処理方法を、転炉からの排出ガス
の処理に適用する場合に用いられる集塵水の処理装置の
一例を示す模式図である。
の処理に適用する場合に用いられる集塵水の処理装置の
一例を示す模式図である。
【図２】試験例に用いたスケール抑制試験装置を示す模
式図である。
式図である。
１ 湿式集塵器
２ 沈殿槽
３ 貯水槽
４ 循環ポンプ
５ 磁気処理部
６ 凝集剤添加装置
７ スケール防止剤添加装置
１０ スケール抑制試験装置
１１ 試験用循環ポンプ
１２ 水路
１３ テストチューブ
１４ 流量計
１５ 溶液タンク
１６ バルブ
１７ ヒータ
５１ コイル
５２ 電源回路部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０２Ｆ 1/48 Ｃ０２Ｆ 1/48 Ａ
5/00 ６１０ 5/00 ６１０Ａ
６１０Ｇ
６２０ ６２０Ｂ
5/10 ６１０ 5/10 ６１０Ａ
5/12 5/12
Claims (4)
- 【請求項１】 工業循環水の循環水の流路に有機ホスホ
ン酸系スケール防止剤を添加してスケール成分の発生・
付着を防止する方法において、前記循環水の循環流路の
少なくとも一部に磁界を印加して行うことを特徴とする
水処理方法。 - 【請求項２】 磁界の印加が、循環流路の少なくとも一
部に捲回したコイルに交流電流を通電することによって
行われる請求項１に記載の水処理方法。 - 【請求項３】 有機ホスホン酸系スケール防止剤が、１
−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、２−
ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸、アクリ
ル酸−２−アクリロイルアミノ−２−メチル−１−プロ
パンスルホン酸ナトリウム・次亜リン酸付加重合物、
１，１，１−ニトリロトリメチルホスホン酸、エチレン
ジアミンテトラメチルホスホン酸またはそれらの塩であ
る請求項１または２に記載の水処理方法。 - 【請求項４】 有機ホスホン酸系スケール防止剤の添加
割合が循環水に対して０．２〜１０ｍｇ／リットルであ
る請求項１〜３のいずれか１つに記載の水処理方法。
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| JP2001371708A JP4139857B2 (ja) | 2001-12-05 | 2001-12-05 | 水処理方法 |
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| JP2003170193A true JP2003170193A (ja) | 2003-06-17 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010274195A (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-09 | Kurita Water Ind Ltd | 転炉集塵水系の鉄スケール付着防止方法及び付着防止剤 |
| JP2012115752A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Kobe Steel Ltd | 磁場発生装置ならびにそれを用いる水処理システムおよび水処理方法 |
-
2001
- 2001-12-05 JP JP2001371708A patent/JP4139857B2/ja not_active Expired - Fee Related
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