JP4116002B2 - 被処理水の机上試験方法と流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法 - Google Patents
被処理水の机上試験方法と流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4116002B2 JP4116002B2 JP2005033232A JP2005033232A JP4116002B2 JP 4116002 B2 JP4116002 B2 JP 4116002B2 JP 2005033232 A JP2005033232 A JP 2005033232A JP 2005033232 A JP2005033232 A JP 2005033232A JP 4116002 B2 JP4116002 B2 JP 4116002B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electric field
- water
- scale
- fluid
- treated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
請求項1記載の発明は、流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の付着を防止及び/又は除去する流体の変調電場処理の効果を試験するための被処理水の机上試験方法において、周波数が時間的に変化する方形波の交流電流を流し、該電流により流体内に変調電場を誘起させるコイルを巻いた傾斜状に配置したパイプの内部に前記流体流路内に流す流体と同じ流体を通過させ、該パイプ内を通過した前記変調電場処理がなされた流体の一部をガラス板上に滴下させた後に、常温乾燥させ、乾燥されたガラス上の乾燥体の界面部における変化を顕微鏡で確認して、前記流体の変調電場処理の効果の程度を判定することで、前記流体の変調電場処理の効果を試験するための被処理水の机上試験方法である。
(b)流体の前記変調電場処理を促進するアニオン系薬剤を添加した後に前記変調電場処理を行う。
(c)流体の前記変調電場処理を促進する炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム又は水酸化ナトリウムを添加した後に前記変調電場処理を行う。
(d)前記(b)及び(c)の処理と共に又はこれとは別に前記変調電場処理用の電流値などの出力を上げる。
本発明の変調電場処理により発生する渦電流の原因となる誘導電場Eが図2(a)に示すように形成され、その誘導電場Eが図2(b)に示すように極大値となり、これが電子供与帯として還元状態となる。
O2+2H2O+4e−→4OH−
Fe2O3(赤錆)→Fe3O4(黒錆)
なお、本発明の変調電場処理によって帯電する箇所は水中における水−スケール結晶、水−ガス(空気等)、水−配管内壁等、水−油分等の界面等である。
また、本発明は上記各方法の発明を実施するための装置も含む。
未処理水を図3に示す机上試験装置に通過させ、机上試験装置用の被処理液を調整する。 机上試験は、パイプ1に巻いたコイル2に、経過時間に対して電流値の異なる交流電流(出力0.14Aから25Aの間で変化、周波数10Hz〜10MHz)を流して電磁波を変換器3で発生させた状態で、ボトル4内の被処理水をパイプ1を通過させることにより行う。
なお、実機条件において高温下である場合には前記机上試験でも実機と同一条件となるように加温等を行い、同様の判定を行う。
直接ガラス板上に処理水を滴下させ、常温乾燥させる。次いで乾燥した試料の界面部での結晶体等の変化により変調電場処理効果の判定をするのは未処理水の場合と同様である。実機処理条件下に類似する処理により装置を選定の上、再度、机上処理液を調整し、変調電場処理出力不足等の確認及び変調電場処理を阻害するカチオン系薬剤等の薬剤、浮遊物質などの不純物の残留の有無を確認し、適切に対応した後実機で処理を再開することが必要である。
また変調電場処理出力は机上試験の結果と実機の条件を勘案して適切な出力を設定する。
1.界面活性剤(カチオン系)
2.高分子剤 (カチオン系)
3.清缶剤(ボイラー)
4.スケール防止剤
5.防食剤(リン酸塩系、カチオン系高分子を含む)
6.スライム防止剤
7.帯電防止剤
8.リンス剤(乾燥仕上剤)
9.床ワックス剤
10.その他、消泡剤(シリコーン系)、海生物付着防止剤等
すなわち、カチオン系薬剤がマイナスに帯電する流体配管内壁をプラスに帯電させる共に、スケール結晶体表面のプラス荷電力を高め、プラス(流体配管内壁)対プラス(スケール結晶体)の反発力によって流体配管内壁面にスケールが付着するのを防止する。また、スケール結晶間の反発力によってスケール結晶体の成長性も抑制する。すなわち、上記防食剤の腐食防止作用は本発明の変調電場処理作用でスケール結晶体をマイナスに帯電させて、マイナス帯電の流体配管内壁と反発させることで防食させることとは正反対の帯電作用に基づくものである。
1.界面活性剤
界面活性剤はカチオン性(プラス)、アニオン性(マイナス)及びノニオン性界面活性剤に分別されるが、泡切れがよい、手に着かない等のコマーシャルで、よく耳にする洗剤の大部分はアニオン系界面活性剤であり、変調電場処理装置への阻害作用の無いものである。皿、コップ、手などは負(マイナス)に帯電しているのでアニオン系洗剤を使用すると水洗いしやすい。旧世代の洗剤はカチオン系のものであり、現在、家庭用にはほとんど使用されなくなったが、工業用には、まだ使用しているところが見られる。
キレート剤、ヘキサメタリン酸ソーダなどであるが、マイナスに帯電する配管内壁をプラス帯電させると共に、スケール結晶体表面のプラス荷電力を高め、プラス−プラスの反発力によってスケール付着を防止する薬剤である。また、スケール結晶間の反発力によって、スケール結晶の成長性も抑制する。
塩素剤に代表される抗菌力、また第4級アンモニウム塩の有する殺菌力は負に帯電する細菌、藻類等に良く吸着しやすいが、これは、スライム防止剤が正の荷電を有しているためである。スライム防止剤を過剰に注入すると、その強力な酸化作用が被処理水中に残留するために腐食障害を起こすおそれがある。
重合リン酸塩類や高分子類等からなり、リン酸またはポリマー被膜を生成して、防食効果を得るものである。ただし、過剰に注入すると、スケール防止剤中のヘキサメタリン酸と同様なリン酸カルシウムの生成があるだけでなく、加水分解で生成されたリン酸イオンは細菌類の必須栄養源となり、スライム生成による障害が生じることもある。
また、前記スライム防止剤を用いる場合、その強い酸化力によって、鋼材腐食が促進するため、防食剤が併用されることが多い。この場合、マイナスに帯電する配管内壁に被膜状に付着し、プラスに帯電させる。すなわちプラス帯電しているスライム防止剤を配管内壁から反発させることで、配管内壁の腐食防止を図るものである。
浮遊物質(SS)は水に不溶解性の物質であり、泥、Fe・Al系凝集ブロック、スケール結晶も含まれる。泥などの浮遊物質(SS)は、その大部分がマイナスに帯電しているが、Fe・Al系凝集フロック又はスケール結晶の大部分はプラスに帯電している。
従って、本発明の机上試験を行い、本来マイナスに帯電している浮遊物質であっても、本発明の変調電場処理を適用する前に浮遊物質を被処理水から除去することが必要な場合がある。
過度にプラスに帯電したスケール結晶体を形成する被処理水に対して、本発明の変調電場処理単独では効果が出ない場合には、アニオン系薬剤を低濃度で被処理水に注入することで、良好な処理効果が得られる。この場合には、変調電場処理装置も低出力のもので対応することができる。
カルシウムスケール障害の激しい設備においては炭酸ナトリウムまたは炭酸水素ナトリウム注入を併用することで、上記アニオン系薬剤の併用処理と同様に、変調電場処理の効果を促進させることができる。
なお、本明細書において「電場処理」とは被処理水の近傍に配置したコイルに交流電流を流すことから、被処理水に「電磁波を作用させること」を意味している。
まず、本発明の実施の形態の変調電場処理が実際に効果があったのか確認する本発明の机上試験方法について説明し、当該変調電場処理による効果の確認をした上で、本発明の変調電場処理の実例について説明する。
なお、実機条件において高温下である場合には前記机上試験でも実機と同一条件となるように加温等を行い、同様の判定を行う。
変調電場処理していない冷却設備の循環水をガラス上で乾燥させた後の顕微鏡写真を図8(a)(×(100)15μm/目盛)に示すが、界面付近に大きな結晶体が寄っており、スケールが生じている設備であることが分かる。
ある市販されている特定の清缶剤を含む被処理水の変調電場処理効果を見るために、机上試験で変調電場処理を行った被処理水に当該清缶剤の濃度を増加させながら添加した。その結果を図9の顕微鏡検査写真に示す。図9(a)(×(100)15μm/目盛)は前記清缶剤10ppmを含む被処理水、図9(b)(×(100)15μm/目盛)は前記清缶剤200ppmを含む被処理水の写真であり、薬剤注入量が増えると共に、界面付近での粒子の集合性が高まり、本発明の変調電場処理の適用ができないことが明らかとなった。
変調電場処理した水道水に市販されている特定のスケール分散剤の濃度を種々変化させて加え、前記手順に従って得た界面の顕微鏡写真を図10(a)と図10(b)に示す。
図10(a)(×(100)15μm/目盛)はスケール防止剤50ppmを含む被処理水、図10(b)(×(100)15μm/目盛)はスケール防止剤200ppmを含む被処理水の写真であり、薬剤注入量が増えると共に、界面付近での粒子の集合性が高まっており、机上試験の判定方法によりカチオン系薬剤であると推定した。従って、カチオン系スライム防止剤を含む被処理水に本発明の変調電場処理を行っても効果が無いことが分かる。
特定の市販重合リン酸塩系防食剤を100ppm含む被処理水を本発明の変調電場処理を行わないで、界面の様子を見た顕微鏡写真が図11(×(100)15μm/目盛)であり、本発明の変調電場処理を行った被処理水の界面の様子を見た顕微鏡写真が図12(×(100)15μm/目盛)であるが、この場合も、カチオン系防食剤を含む被処理水に本発明の変調電場処理を行っても効果が無いことが分かる。
変調電場処理した水道水に特定の市販スライム防止剤の濃度を種々変化させて加え、前記手順に従って得た界面の顕微鏡写真を図13(a)と図13(b)に示す。
図13(a)(×(100)15μm/目盛)はスライム防止剤10ppmを含む被処理水、図13(b)(×(100)15μm/目盛)はスライム防止剤200ppmを含む被処理水の写真であり、薬剤注入量が増えると共に、界面付近での粒子の集合性が高まっており、机上試験の判定方法によりカチオン系薬剤であると推定した。この場合も、カチオン系スライム防止剤を含む被処理水に本発明の変調電場処理を行っても効果が無いことが分かる。
変調電場処理した被処理水に特定の市販帯電防止剤の濃度を種々変化させて加え、前記手順に従って得た界面の顕微鏡写真を図14(a)と図14(b)に示す。
図14(a)(×(100)15μm/目盛)は帯電防止剤と界面活性剤を10ppmを含む被処理水、図14(b)(×(100)15μm/目盛)は帯電防止剤と界面活性剤を200ppmを含む被処理水の写真であり、薬剤注入量が増えると共に、界面付近での粒子の集合性が高まっており、机上試験の判定方法によりカチオン系薬剤であると推定した。この場合も、カチオン系スライム防止剤を含む被処理水に本発明の変調電場処理を行っても効果が無いことが分かる。
変調電場処理した被処理水に特定の市販されているリンス剤の濃度を種々変化させて加え、前記手順に従って得た界面の顕微鏡写真を図15(a)と図15(b)に示す。
図15(a)(×(100)15μm/目盛)はリンス剤50ppmを含む被処理水、図15(b)(×(100)15μm/目盛)はリンス防止剤200ppmを含む被処理水の写真であり、薬剤注入量が増えると共に、界面付近での粒子の集合性が高まっており、机上試験の判定方法によりカチオン系薬剤であると推定した。この場合も、リンス剤を含む被処理水に本発明の変調電場処理を行っても効果が無いことが分かる。
変調電場処理した被処理水に特定の市販海生物付着防止剤の濃度を種々変化させて加え、前記手順に従って机上試験を行い、界面の顕微鏡写真を図16(a)と図16(b)に示す。
図16(a)(×(100)15μm/目盛)は海生物付着防止剤50ppmを含む被処理水、図16(b)(×(100)15μm/目盛)は海生物付着防止剤200ppmを含む被処理水の写真であり、薬剤注入量が増えると共に、界面付近での粒子の集合性が高まっており、机上試験の判定方法によりカチオン系薬剤であると推定した。この場合も、海生物付着防止剤を含む被処理水に本発明の変調電場処理を行っても効果が無いことが分かる。
発電所設備の軸受け冷却水のサンプリングラックを長期間使用中にスケールが付着するので、その対策として本発明の変調電場処理を適用した。
図20に示すディーゼル発電機の開放型冷却設備の二次冷却水の循環流路に本発明の変調電場処理を適用した。
図20で熱交換器17から排出する二次冷却水は開放型冷却塔18で冷却されてポンプ19とストレーナ20を介して再び熱交換器に戻される。この実機の二次冷却水の循環流路に本発明の変調電場処理装置14を適用するに先立ち、この二次冷却水の循環流路の壁面にスケールが付着することを防止するために使用されるスライム防止剤及びスケール分散剤を二次冷却水に添加してある場合に本発明の変調電場処理が効果的か否か確認する机上試験を行った。
地熱発電設備への本発明の変調電場処理装置を適用した場合について、補助薬剤(炭酸水素ナトリウム)との併用で変調電場処理装置単独での処理以上の効果が得られるかどうか、机上試験を行った。前記手順に従って得た界面の顕微鏡写真を図25(a)(×(100)15μm/目盛)と図25(b)(×(100)15μm/目盛)に炭酸水素ナトリウムをそれぞれ10ppmと100ppm添加した場合の結果を示す。
3 変換器 4 ボトル
5 ビーカ 6 ガラス板
10 冷却水タンク 11 薬品注入設備
12 熱交換装置 13 サンプリングラック
14 変調電場処理装置 15 循環冷却水配管
17 熱交換器 18 開放型冷却塔
19 ポンプ 20 ストレーナ
Claims (2)
- 流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の付着を防止及び/又は除去する流体の変調電場処理の効果を試験するための被処理水の机上試験方法において、
経過時間に対して電流値が異なり、かつ周波数が時間的に変化する方形波の交流電流を流し、該電流により流体内に変調電場を誘起させるコイルを巻いた傾斜状に配置したパイプの内部に前記流体流路内に流す流体と同じ流体を通過させ、
該パイプ内を通過した前記変調電場処理がなされた流体の一部をガラス板上に滴下させた後に、常温乾燥させ、
乾燥されたガラス上の乾燥体の界面部における変化を顕微鏡で確認して、前記流体の変調電場処理の効果の程度を判定することで、前記流体の変調電場処理の効果を試験するための被処理水の机上試験方法。 - 第一の流体流路または該第一の流体流路に導入する流体用の第二の流体流路の表面にコイルを巻きつけ、該コイルに周波数が時間的に変化する方形波の交流電流を流し、コイルに流れる電流により誘起される変調電場により前記第一の流体流路又は第二の流体流路を流れる流体を処理することにより前記第一の流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法において、
請求項1記載の被処理水の机上試験方法を実施し、その机上試験方法による結果が良くない場合には、さらに前記第一の流体流路又は第二の流体流路を流れる流体に対する変調電場処理用の電力の出力を上げた後に前記変調電場処理を行うことを特徴とする第一の流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005033232A JP4116002B2 (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | 被処理水の机上試験方法と流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005033232A JP4116002B2 (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | 被処理水の机上試験方法と流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000075253A Division JP3674676B2 (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | 流体流路の錆び、スケール、その他の成分付着防止及び/又は除去方法と装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005199274A JP2005199274A (ja) | 2005-07-28 |
JP4116002B2 true JP4116002B2 (ja) | 2008-07-09 |
Family
ID=34824732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005033232A Expired - Fee Related JP4116002B2 (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | 被処理水の机上試験方法と流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4116002B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101466643B (zh) | 2006-05-29 | 2011-07-27 | 株式会社志贺机能水研究所 | 水的电磁场处理方法及电磁场处理装置 |
JP5273598B2 (ja) * | 2006-05-29 | 2013-08-28 | 株式会社志賀機能水研究所 | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 |
CN103025666B (zh) * | 2010-08-13 | 2014-08-27 | 株式会社志贺机能水研究所 | 水的电磁场处理方法以及电磁场处理装置 |
CN105461021A (zh) * | 2014-09-01 | 2016-04-06 | 君能控股有限公司 | 用于脱盐和海上运输的多相交变电流双离子推进系统 |
-
2005
- 2005-02-09 JP JP2005033232A patent/JP4116002B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005199274A (ja) | 2005-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4305855B2 (ja) | 被処理流体の変調電磁場処理装置と方法 | |
US7419603B2 (en) | Water treatment method | |
US9371244B2 (en) | Desalination system and process | |
JPH0994598A (ja) | 開放循環冷却水系の防食・防スケール方法 | |
JP4116002B2 (ja) | 被処理水の机上試験方法と流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法 | |
CN107675150A (zh) | 一种循环水系统的化学清洗预膜方法 | |
Lee et al. | Use of catalytic materials for the mitigation of mineral fouling | |
JP2011255345A (ja) | 被処理流体の電磁波処理装置と方法 | |
JP3674676B2 (ja) | 流体流路の錆び、スケール、その他の成分付着防止及び/又は除去方法と装置 | |
JP2002519512A (ja) | シリカおよびシリケートの沈積の抑制 | |
JP3247942B2 (ja) | 流体流路の防錆などの方法と装置 | |
JP2017072122A (ja) | スケール付着防止装置及び地熱バイナリ発電システム | |
CN105755474A (zh) | 一种炼油厂循环水系统化学清洗预膜方法 | |
KR100704421B1 (ko) | 3차원 파울링 저감장치 및 방법 | |
Joshy et al. | Scale control on pipe materials: A review | |
JP2010110667A (ja) | 電磁処理装置と方法 | |
JPS593679B2 (ja) | 循環冷却水系における水処理設備 | |
Kazi | Particulate matter: Interfacial properties, fouling, and its mitigation | |
JP5707677B2 (ja) | 転炉集塵水系の鉄スケール付着防止方法及び付着防止剤 | |
US6063288A (en) | Inhibition of silica and silicate deposition using imidazolines | |
CN218810919U (zh) | 一种无药化絮凝除垢水处理系统 | |
Sanders | An integrated study of corrosion and scale interactions in the absence and presence of combined chemicals | |
US20230212758A1 (en) | Method of Chemically Cleaning Pipework Systems | |
WO2024029107A1 (ja) | 地熱等の再生可能エネルギーを利用したバイナリー発電システム | |
JP2023021133A (ja) | マンガンスケール発生抑制剤及びマンガンスケール発生抑制方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080414 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080416 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130425 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140425 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |