JP2003166955A - めっき膜形成装置およびその制御方法 - Google Patents
めっき膜形成装置およびその制御方法Info
- Publication number
- JP2003166955A JP2003166955A JP2001365825A JP2001365825A JP2003166955A JP 2003166955 A JP2003166955 A JP 2003166955A JP 2001365825 A JP2001365825 A JP 2001365825A JP 2001365825 A JP2001365825 A JP 2001365825A JP 2003166955 A JP2003166955 A JP 2003166955A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- plating solution
- ray
- forming apparatus
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 めっき液の組成を簡単な方法で常時的確に監
視できるめっき膜形成装置およびその制御方法を提供す
る。 【解決手段】 めっき膜形成装置は、内部でめっきを行
なうためのめっき形成槽１と、このめっき形成槽１で用
いるめっき液の調整を行なうためのめっき液補充槽２
と、めっき形成槽１とめっき液補充槽２との間をめっき
液が流通可能なように結ぶ流路としての水平流路３と、
この流路内のめっき液に向けてＸ線を照射するためのＸ
線管５と、上記流路内のめっき液から放射される蛍光Ｘ
線を検出するためのＸ線検出器６とを備える。
視できるめっき膜形成装置およびその制御方法を提供す
る。 【解決手段】 めっき膜形成装置は、内部でめっきを行
なうためのめっき形成槽１と、このめっき形成槽１で用
いるめっき液の調整を行なうためのめっき液補充槽２
と、めっき形成槽１とめっき液補充槽２との間をめっき
液が流通可能なように結ぶ流路としての水平流路３と、
この流路内のめっき液に向けてＸ線を照射するためのＸ
線管５と、上記流路内のめっき液から放射される蛍光Ｘ
線を検出するためのＸ線検出器６とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置などの
製造工程に用いられるめっき膜形成装置に関するもので
ある。さらに、そのようなめっき膜形成装置の制御方法
に関する。
製造工程に用いられるめっき膜形成装置に関するもので
ある。さらに、そのようなめっき膜形成装置の制御方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置などに用いられるめっき膜に
おいては、その組成や膜厚を精密に制御する必要があ
る。めっき膜の組成を制御するためには、めっき液の組
成を制御する必要がある。従来のめっき膜形成装置は、
図６に示すように、めっき処理を行なうための液槽であ
るめっき形成槽１と、めっき液の補充を行なうためのめ
っき液補充槽２とを備えており、めっき液は循環ポンプ
（図示省略）によって両者の間を循環している。めっき
液の組成を所望の状態に保つためには、たとえば、「分
析機器総覧 ２００１」ｐ１５６（日本分析機器工業会
編）に記載されているようにめっき液補充槽２からめっ
き液を採取してインラインの蛍光Ｘ線分析装置１６で測
定することにより、管理を行なっている。
おいては、その組成や膜厚を精密に制御する必要があ
る。めっき膜の組成を制御するためには、めっき液の組
成を制御する必要がある。従来のめっき膜形成装置は、
図６に示すように、めっき処理を行なうための液槽であ
るめっき形成槽１と、めっき液の補充を行なうためのめ
っき液補充槽２とを備えており、めっき液は循環ポンプ
（図示省略）によって両者の間を循環している。めっき
液の組成を所望の状態に保つためには、たとえば、「分
析機器総覧 ２００１」ｐ１５６（日本分析機器工業会
編）に記載されているようにめっき液補充槽２からめっ
き液を採取してインラインの蛍光Ｘ線分析装置１６で測
定することにより、管理を行なっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようなめっき膜形
成装置においては、管理できるめっき液の組成は、めっ
き液の採取および測定の頻度および循環量に対する採取
量に依存する。一度に多量のめっき処理を行なうにもか
かわらず、めっき液補充槽２の容量に対して採取量が少
ない場合には、めっき液の組成の把握が不正確になり、
その結果、めっき形成槽１に送り込まれるめっき液の組
成が所定の管理値から外れてしまう。
成装置においては、管理できるめっき液の組成は、めっ
き液の採取および測定の頻度および循環量に対する採取
量に依存する。一度に多量のめっき処理を行なうにもか
かわらず、めっき液補充槽２の容量に対して採取量が少
ない場合には、めっき液の組成の把握が不正確になり、
その結果、めっき形成槽１に送り込まれるめっき液の組
成が所定の管理値から外れてしまう。
【０００４】一方、めっき液において測定すべき金属成
分は通常複数ある。Ｘ線検出器によってこれらの成分を
測定するためには、１つのＸ線検出器を分割した構造が
考えられる。たとえば、特開平１１−１１８９３０号公
報には、Ｘ線透過／光遮蔽基板１２に溝を設けて、各溝
に蛍光体セル１３を設けた構造が開示されている。この
構造を図７に示す。この構造のセンサでは、蛍光体セル
１３からの信号を光電変換部１４で画像信号として取り
出している。この構造を、めっき液の各金属成分の測定
に応用することも考えられる。しかし、そのためには個
々の蛍光体セル１３において検出した光から所望の元素
に対応する特性Ｘ線のみを検出するために光電変換部１
４以降に波高弁別器を設けてエネルギー分離を行なう必
要がある。その場合、セルの数だけの波高弁別器が必要
となり、非常に高価で調整が困難になる。
分は通常複数ある。Ｘ線検出器によってこれらの成分を
測定するためには、１つのＸ線検出器を分割した構造が
考えられる。たとえば、特開平１１−１１８９３０号公
報には、Ｘ線透過／光遮蔽基板１２に溝を設けて、各溝
に蛍光体セル１３を設けた構造が開示されている。この
構造を図７に示す。この構造のセンサでは、蛍光体セル
１３からの信号を光電変換部１４で画像信号として取り
出している。この構造を、めっき液の各金属成分の測定
に応用することも考えられる。しかし、そのためには個
々の蛍光体セル１３において検出した光から所望の元素
に対応する特性Ｘ線のみを検出するために光電変換部１
４以降に波高弁別器を設けてエネルギー分離を行なう必
要がある。その場合、セルの数だけの波高弁別器が必要
となり、非常に高価で調整が困難になる。
【０００５】そこで、本発明では、めっき液の組成を簡
単な方法で常時的確に監視できるめっき膜形成装置およ
びその制御方法を提供することを目的とする。
単な方法で常時的確に監視できるめっき膜形成装置およ
びその制御方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に基づくめっき膜形成装置は、内部でめっき
を行なうためのめっき形成槽と、上記めっき形成槽で用
いるめっき液の調整を行なうためのめっき液補充槽と、
上記めっき形成槽と上記めっき液補充槽との間を上記め
っき液が流通可能なように結ぶ流路と、上記流路内の上
記めっき液に向けてＸ線を照射するためのＸ線管と、上
記流路内の上記めっき液から放射される蛍光Ｘ線を検出
するためのＸ線検出器とを備える。この構成を採用する
ことにより、めっき液が循環している流路で直接行なう
ので、めっき液を採取する必要がなく、常時測定するこ
とができる。
め、本発明に基づくめっき膜形成装置は、内部でめっき
を行なうためのめっき形成槽と、上記めっき形成槽で用
いるめっき液の調整を行なうためのめっき液補充槽と、
上記めっき形成槽と上記めっき液補充槽との間を上記め
っき液が流通可能なように結ぶ流路と、上記流路内の上
記めっき液に向けてＸ線を照射するためのＸ線管と、上
記流路内の上記めっき液から放射される蛍光Ｘ線を検出
するためのＸ線検出器とを備える。この構成を採用する
ことにより、めっき液が循環している流路で直接行なう
ので、めっき液を採取する必要がなく、常時測定するこ
とができる。
【０００７】上記発明において好ましくは、上記Ｘ線検
出器を複数備える。この構成を採用することにより、１
つ１つのＸ線検出器の感度が低くても全体として感度を
上げることができる。また、検出できる幾何学的範囲を
広くすることができる。さらに、各Ｘ線検出器にめっき
液中の複数の金属成分をそれぞれ分担して検出させるこ
とによって、複数の金属成分を同時に監視することがで
きる。
出器を複数備える。この構成を採用することにより、１
つ１つのＸ線検出器の感度が低くても全体として感度を
上げることができる。また、検出できる幾何学的範囲を
広くすることができる。さらに、各Ｘ線検出器にめっき
液中の複数の金属成分をそれぞれ分担して検出させるこ
とによって、複数の金属成分を同時に監視することがで
きる。
【０００８】上記発明において好ましくは、上記複数の
Ｘ線検出器は、上記Ｘ線管を取り囲むように配置されて
いる。この構成を採用することにより、Ｘ線検出器を中
心とした少ないスペースにＸ線検出器をまとめることが
でき、さらにＸ線管からＸ線を照射されたことによって
めっき液から発生する蛍光Ｘ線を効率良く検出すること
ができる。
Ｘ線検出器は、上記Ｘ線管を取り囲むように配置されて
いる。この構成を採用することにより、Ｘ線検出器を中
心とした少ないスペースにＸ線検出器をまとめることが
でき、さらにＸ線管からＸ線を照射されたことによって
めっき液から発生する蛍光Ｘ線を効率良く検出すること
ができる。
【０００９】上記発明において好ましくは、上記複数の
Ｘ線検出器は、上記Ｘ線管から照射されたＸ線が上記め
っき液に入射する点を中心としてほぼ放射状に配置され
ている。この構成を採用することにより、Ｘ線管からＸ
線を照射されたことによってめっき液から発生する蛍光
Ｘ線を効率良く検出することができる。Ｘ線管を挟んで
特に互いに対向する側にも配置することで、蛍光Ｘ線の
放射をより確実に検出することができる。
Ｘ線検出器は、上記Ｘ線管から照射されたＸ線が上記め
っき液に入射する点を中心としてほぼ放射状に配置され
ている。この構成を採用することにより、Ｘ線管からＸ
線を照射されたことによってめっき液から発生する蛍光
Ｘ線を効率良く検出することができる。Ｘ線管を挟んで
特に互いに対向する側にも配置することで、蛍光Ｘ線の
放射をより確実に検出することができる。
【００１０】上記発明において好ましくは、上記複数の
Ｘ線検出器のうち少なくとも一部においては、検出窓を
覆うように金属箔が配置され、上記金属箔を介して蛍光
Ｘ線を検出する。この構成を採用することにより、設置
する金属箔の種類と厚みを選択することで、特定のエネ
ルギー値以上のＸ線は、金属箔に吸収され、それ以下の
エネルギー値のＸ線のみがＸ線検出器の検出窓に入射す
るようにすることができるので、各金属成分の含有率を
検出することができる。
Ｘ線検出器のうち少なくとも一部においては、検出窓を
覆うように金属箔が配置され、上記金属箔を介して蛍光
Ｘ線を検出する。この構成を採用することにより、設置
する金属箔の種類と厚みを選択することで、特定のエネ
ルギー値以上のＸ線は、金属箔に吸収され、それ以下の
エネルギー値のＸ線のみがＸ線検出器の検出窓に入射す
るようにすることができるので、各金属成分の含有率を
検出することができる。
【００１１】上記発明において好ましくは、上記流路は
Ｘ線照射検出用窓を上記めっき液の液面より上側に有
し、上記Ｘ線管は、上記Ｘ線照射検出用窓を介して上側
からＸ線を照射し、上記Ｘ線検出器は、上記Ｘ線照射検
出用窓を介して上側から蛍光Ｘ線を検出する。この構成
を採用することにより、液面より上側から照射および検
出を行なうので、めっき液に触れることなく照射および
検出が行なえる。Ｘ線管、Ｘ線検出器およびＸ線照射検
出用窓がめっき液に触れないので、これらにめっき膜が
付着することもなく、長時間安定してＸ線の照射および
検出を行なうことができる。
Ｘ線照射検出用窓を上記めっき液の液面より上側に有
し、上記Ｘ線管は、上記Ｘ線照射検出用窓を介して上側
からＸ線を照射し、上記Ｘ線検出器は、上記Ｘ線照射検
出用窓を介して上側から蛍光Ｘ線を検出する。この構成
を採用することにより、液面より上側から照射および検
出を行なうので、めっき液に触れることなく照射および
検出が行なえる。Ｘ線管、Ｘ線検出器およびＸ線照射検
出用窓がめっき液に触れないので、これらにめっき膜が
付着することもなく、長時間安定してＸ線の照射および
検出を行なうことができる。
【００１２】上記目的を達成するため、本発明に基づく
めっき膜形成装置の制御方法は、上述のいずれかに記載
のめっき膜形成装置において、上記Ｘ線検出器からの信
号を処理することによって、上記めっき液中の金属成分
を監視し、上記金属成分の含有量が所定値より下回ると
きには上記めっき液補充槽に上記金属成分を自動的に補
充する。この方法を採用することにより、めっき液の組
成を簡単に管理できるので、長時間安定して所望の組成
のめっき膜を形成することができる。
めっき膜形成装置の制御方法は、上述のいずれかに記載
のめっき膜形成装置において、上記Ｘ線検出器からの信
号を処理することによって、上記めっき液中の金属成分
を監視し、上記金属成分の含有量が所定値より下回ると
きには上記めっき液補充槽に上記金属成分を自動的に補
充する。この方法を採用することにより、めっき液の組
成を簡単に管理できるので、長時間安定して所望の組成
のめっき膜を形成することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）
（構成）図１、図２を参照して、本発明に基づく実施の
形態１におけるめっき膜形成装置の構成について説明す
る。図１に示すように、このめっき膜形成装置は、めっ
き形成槽１とめっき液補充槽２とを備えている。両者
は、水平流路３によって接続されており、めっき液は、
水平流路３を介して、めっき形成槽１とめっき液補充槽
２との間を循環するようになっている。水平流路３の途
中には、液面より上側に位置するように窓４が設けられ
ており、ここにＸ線管５がＸ線を水平流路３内に照射す
る姿勢で接続されている。図１、図２に示すように、Ｘ
線管５の周りには複数のＸ線検出器６が取り囲むように
配置されている。Ｘ線検出器６は、Ｘ線管５からめっき
液に向けてＸ線が照射された結果、めっき液から照射さ
れる蛍光Ｘ線を検出できるように、Ｘ線管から照射され
たＸ線がめっき液の液面に入射する点を中心としてほぼ
放射状に配置されている。窓４は水平流路３においてめ
っき液の液面より上側にあり、Ｘ線管は、窓４を介して
上側からＸ線を照射し、Ｘ線検出器は、窓４を介して上
側から蛍光Ｘ線を検出する。
形態１におけるめっき膜形成装置の構成について説明す
る。図１に示すように、このめっき膜形成装置は、めっ
き形成槽１とめっき液補充槽２とを備えている。両者
は、水平流路３によって接続されており、めっき液は、
水平流路３を介して、めっき形成槽１とめっき液補充槽
２との間を循環するようになっている。水平流路３の途
中には、液面より上側に位置するように窓４が設けられ
ており、ここにＸ線管５がＸ線を水平流路３内に照射す
る姿勢で接続されている。図１、図２に示すように、Ｘ
線管５の周りには複数のＸ線検出器６が取り囲むように
配置されている。Ｘ線検出器６は、Ｘ線管５からめっき
液に向けてＸ線が照射された結果、めっき液から照射さ
れる蛍光Ｘ線を検出できるように、Ｘ線管から照射され
たＸ線がめっき液の液面に入射する点を中心としてほぼ
放射状に配置されている。窓４は水平流路３においてめ
っき液の液面より上側にあり、Ｘ線管は、窓４を介して
上側からＸ線を照射し、Ｘ線検出器は、窓４を介して上
側から蛍光Ｘ線を検出する。
【００１４】図１に示すように、めっき液補充槽２に
は、自動定量補給弁７を介してめっき液成分補充タンク
８が接続されている。図２に示すように、Ｘ線検出器６
から送られる信号は、信号処理回路９において処理さ
れ、自動定量補給弁７は信号処理回路９から発せられる
信号によって制御される。
は、自動定量補給弁７を介してめっき液成分補充タンク
８が接続されている。図２に示すように、Ｘ線検出器６
から送られる信号は、信号処理回路９において処理さ
れ、自動定量補給弁７は信号処理回路９から発せられる
信号によって制御される。
【００１５】（作用・効果）このめっき膜形成装置によ
れば、Ｘ線管５からめっき液にＸ線が照射されることに
よって、めっき液中の金属成分から蛍光Ｘ線が放射され
る。Ｘ線検出器６を複数としたことで、全体の感度を上
げることができ、また、検出可能な立体角を大きく確保
できる。複数のＸ線検出器６はＸ線管５の周りを取り囲
むように配置されており、しかも入射する点を中心とし
てほぼ放射状に配置されているので、Ｘ線検出器６は放
射される蛍光Ｘ線を検出しやすくなっている。
れば、Ｘ線管５からめっき液にＸ線が照射されることに
よって、めっき液中の金属成分から蛍光Ｘ線が放射され
る。Ｘ線検出器６を複数としたことで、全体の感度を上
げることができ、また、検出可能な立体角を大きく確保
できる。複数のＸ線検出器６はＸ線管５の周りを取り囲
むように配置されており、しかも入射する点を中心とし
てほぼ放射状に配置されているので、Ｘ線検出器６は放
射される蛍光Ｘ線を検出しやすくなっている。
【００１６】Ｘ線検出器６から出力される信号は、信号
処理回路９に送られ、処理されるが、信号処理回路９で
は、処理信号強度と、予め作成し、記憶させた検量線お
よび注目する金属成分の管理規準濃度とを比較すること
で、注目する金属成分が不足しているか否かが判断され
る。不足していると判断された場合は、信号処理回路９
から自動定量補給弁７に指示が送られ、その金属成分が
めっき液成分補充タンク８からめっき液補充槽２に補充
される。
処理回路９に送られ、処理されるが、信号処理回路９で
は、処理信号強度と、予め作成し、記憶させた検量線お
よび注目する金属成分の管理規準濃度とを比較すること
で、注目する金属成分が不足しているか否かが判断され
る。不足していると判断された場合は、信号処理回路９
から自動定量補給弁７に指示が送られ、その金属成分が
めっき液成分補充タンク８からめっき液補充槽２に補充
される。
【００１７】このＸ線照射は、めっき液が循環している
流路で直接行なうので、めっき液を採取する必要もな
く、常時測定することができる。なお、Ｘ線検出器６
は、エネルギー分解能を有し、かつ取扱いが容易なペル
チェ冷却型の半導体検出器であることが望ましい。窓４
は、水平流路３内の液面より上側になるように設けられ
ているので、めっき液に触れることはない。窓４にめっ
き液が触れないので、窓４にめっき膜が付着することな
く、長時間安定してＸ線の照射および検出を行なうこと
ができる。
流路で直接行なうので、めっき液を採取する必要もな
く、常時測定することができる。なお、Ｘ線検出器６
は、エネルギー分解能を有し、かつ取扱いが容易なペル
チェ冷却型の半導体検出器であることが望ましい。窓４
は、水平流路３内の液面より上側になるように設けられ
ているので、めっき液に触れることはない。窓４にめっ
き液が触れないので、窓４にめっき膜が付着することな
く、長時間安定してＸ線の照射および検出を行なうこと
ができる。
【００１８】以上より、めっき作業を中断することな
く、連続的にめっき液中の注目する金属成分の含有量を
測定し、リアルタイムで補充槽への成分補充情報として
反映することができる。したがって、長期に渡って組成
の安定しためっき膜を形成することができる。
く、連続的にめっき液中の注目する金属成分の含有量を
測定し、リアルタイムで補充槽への成分補充情報として
反映することができる。したがって、長期に渡って組成
の安定しためっき膜を形成することができる。
【００１９】なお、ここでは、窓４にはＸ線が透過可能
な部材を配置して、その外側にＸ線管５、Ｘ線検出器６
を配置することとしたが、窓４を単なる開口部とし、こ
の開口部から直接、Ｘ線管５およびＸ線検出器６を水平
流路３内に挿入して配置してもよい。
な部材を配置して、その外側にＸ線管５、Ｘ線検出器６
を配置することとしたが、窓４を単なる開口部とし、こ
の開口部から直接、Ｘ線管５およびＸ線検出器６を水平
流路３内に挿入して配置してもよい。
【００２０】（実施の形態２）
（構成）図３、図４を参照して、本発明に基づく実施の
形態１におけるめっき膜形成装置の構成について説明す
る。このめっき膜形成装置は、基本的には実施の形態１
におけるものと同様であるが、複数のＸ線検出器６のう
ち一部については、検出窓のすぐ外に金属箔１１ａ，１
１ｂが配置されている。金属箔１１ａ，１１ｂは、図３
に示すように各Ｘ線検出器６の検出窓付近にホルダを設
け、ホルダに保持させることとしてもよい。図４に示す
ように金属箔１１ａ，１１ｂは対応するＸ線検出器６の
検出窓を覆うように配置されるので、めっき液から照射
される蛍光Ｘ線はこの金属箔１１ａ，１１ｂを透過した
後にＸ線検出器６に入射する。このめっき膜形成装置に
おいては、Ｘ線検出器６は、エネルギー分解能を有しな
い比例計数管またはシンチレーション検出器であっても
よい。
形態１におけるめっき膜形成装置の構成について説明す
る。このめっき膜形成装置は、基本的には実施の形態１
におけるものと同様であるが、複数のＸ線検出器６のう
ち一部については、検出窓のすぐ外に金属箔１１ａ，１
１ｂが配置されている。金属箔１１ａ，１１ｂは、図３
に示すように各Ｘ線検出器６の検出窓付近にホルダを設
け、ホルダに保持させることとしてもよい。図４に示す
ように金属箔１１ａ，１１ｂは対応するＸ線検出器６の
検出窓を覆うように配置されるので、めっき液から照射
される蛍光Ｘ線はこの金属箔１１ａ，１１ｂを透過した
後にＸ線検出器６に入射する。このめっき膜形成装置に
おいては、Ｘ線検出器６は、エネルギー分解能を有しな
い比例計数管またはシンチレーション検出器であっても
よい。
【００２１】（作用・効果）図５に示すように、Ｘ線に
金属箔を透過させた場合、Ｘ線のエネルギー値によっ
て、透過率が大きく変化する。特に、一定のエネルギー
値を超えた途端に透過率が急激に下がる傾向が見られ
る。すなわち、金属成分の種類によって透過率が大きく
変わる。
金属箔を透過させた場合、Ｘ線のエネルギー値によっ
て、透過率が大きく変化する。特に、一定のエネルギー
値を超えた途端に透過率が急激に下がる傾向が見られ
る。すなわち、金属成分の種類によって透過率が大きく
変わる。
【００２２】そこで、この性質を利用し、Ｘ線検出器６
の検出窓に設置する金属箔の種類と厚みを選択すること
で、特定のエネルギー値以上のＸ線は、金属箔に吸収さ
れ、それ以下のエネルギー値のＸ線のみがＸ線検出器６
の検出窓に入射するようにすることができる。複数ある
Ｘ線検出器６のそれぞれに所定の金属箔を設置すること
によって、監視したい金属成分が複数ある場合にも、各
金属成分に対応する蛍光Ｘ線を効率良く検出することが
できる。たとえば、めっき液に金（Ａｕ）と銅（Ｃｕ）
とが含まれる場合、図５に示すように、あるＸ線検出器
６の前に厚み１５μｍの亜鉛箔（フォイル）を設置すれ
ば、金の蛍光Ｘ線は８０〜９０％が吸収されるのに対
し、銅の蛍光Ｘ線は５０〜６０％がＸ線検出器まで到達
する。また、これと同時に別のＸ線検出器６の前に厚み
１５μｍのコバルト箔（フォイル）を設置すれば、金の
蛍光Ｘ線は亜鉛箔の場合と同様に大部分が吸収され、銅
の蛍光Ｘ線も８０〜９０％が吸収される。したがって、
エネルギー分解能を有しないＸ線検出器であっても３つ
以上あれば、上記２種類の金属箔と組み合わせること
で、金と銅との含有量を検出することができる。すなわ
ち、金属箔なしのＸ線検出器のカウント数をＡ、亜鉛箔
付きのＸ線検出器のカウント数をＢ、コバルト箔付きの
Ｘ線検出器のカウント数をＣ、金の真の蛍光Ｘ線強度を
ｘ、銅の真の蛍光Ｘ線強度をｙとすれば、大まかに捉え
れば、 Ａ＝ｘ＋ｙ Ｂ＝０．１ｘ＋０．６ｙ Ｃ＝０．１ｘ＋０．１ｙ の関係が得られるから、この連立方程式を解くことによ
って容易にｘおよびｙの値を得ることができる。めっき
液中の監視したい金属成分に応じてこのように金属箔を
適切に選択して用いることにより、複雑で高価な波高分
別回路を用いずとも、めっき液の成分の監視を行なうこ
とができる。なお、めっき液中の監視したい金属成分が
１種類のみの場合でも、適当な金属箔を設けた検出器と
金属箔を設けない検出器とを組み合わせることで、両者
のカウント数の差から所望の成分の蛍光Ｘ線を効率良く
抽出することが可能である。
の検出窓に設置する金属箔の種類と厚みを選択すること
で、特定のエネルギー値以上のＸ線は、金属箔に吸収さ
れ、それ以下のエネルギー値のＸ線のみがＸ線検出器６
の検出窓に入射するようにすることができる。複数ある
Ｘ線検出器６のそれぞれに所定の金属箔を設置すること
によって、監視したい金属成分が複数ある場合にも、各
金属成分に対応する蛍光Ｘ線を効率良く検出することが
できる。たとえば、めっき液に金（Ａｕ）と銅（Ｃｕ）
とが含まれる場合、図５に示すように、あるＸ線検出器
６の前に厚み１５μｍの亜鉛箔（フォイル）を設置すれ
ば、金の蛍光Ｘ線は８０〜９０％が吸収されるのに対
し、銅の蛍光Ｘ線は５０〜６０％がＸ線検出器まで到達
する。また、これと同時に別のＸ線検出器６の前に厚み
１５μｍのコバルト箔（フォイル）を設置すれば、金の
蛍光Ｘ線は亜鉛箔の場合と同様に大部分が吸収され、銅
の蛍光Ｘ線も８０〜９０％が吸収される。したがって、
エネルギー分解能を有しないＸ線検出器であっても３つ
以上あれば、上記２種類の金属箔と組み合わせること
で、金と銅との含有量を検出することができる。すなわ
ち、金属箔なしのＸ線検出器のカウント数をＡ、亜鉛箔
付きのＸ線検出器のカウント数をＢ、コバルト箔付きの
Ｘ線検出器のカウント数をＣ、金の真の蛍光Ｘ線強度を
ｘ、銅の真の蛍光Ｘ線強度をｙとすれば、大まかに捉え
れば、 Ａ＝ｘ＋ｙ Ｂ＝０．１ｘ＋０．６ｙ Ｃ＝０．１ｘ＋０．１ｙ の関係が得られるから、この連立方程式を解くことによ
って容易にｘおよびｙの値を得ることができる。めっき
液中の監視したい金属成分に応じてこのように金属箔を
適切に選択して用いることにより、複雑で高価な波高分
別回路を用いずとも、めっき液の成分の監視を行なうこ
とができる。なお、めっき液中の監視したい金属成分が
１種類のみの場合でも、適当な金属箔を設けた検出器と
金属箔を設けない検出器とを組み合わせることで、両者
のカウント数の差から所望の成分の蛍光Ｘ線を効率良く
抽出することが可能である。
【００２３】（実施の形態３）
（制御方法）本発明に基づく実施の形態３におけるめっ
き膜形成装置の制御方法について説明する。実施の形態
１，２で説明しためっき膜形成装置において、Ｘ線検出
器からの信号を信号処理回路９で処理し、所定の金属成
分の含有量を算出する。この含有量が所定値より下回る
ときは、自動定量補給弁７を自動的に開き、対応する金
属成分をめっき液補充槽に補充する。図１、図２では、
自動定量補給弁７およびめっき液成分補充タンク８は１
つずつしか表示していないが、これらは複数の金属成分
に対応して複数設けておいてもよい。
き膜形成装置の制御方法について説明する。実施の形態
１，２で説明しためっき膜形成装置において、Ｘ線検出
器からの信号を信号処理回路９で処理し、所定の金属成
分の含有量を算出する。この含有量が所定値より下回る
ときは、自動定量補給弁７を自動的に開き、対応する金
属成分をめっき液補充槽に補充する。図１、図２では、
自動定量補給弁７およびめっき液成分補充タンク８は１
つずつしか表示していないが、これらは複数の金属成分
に対応して複数設けておいてもよい。
【００２４】このような制御方法によれば、めっき液の
組成を簡単に管理できるので、長時間安定して所望の組
成のめっき膜を形成することができる。
組成を簡単に管理できるので、長時間安定して所望の組
成のめっき膜を形成することができる。
【００２５】なお、今回開示した上記実施の形態はすべ
ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の
範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって
示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での
すべての変更を含むものである。
ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の
範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって
示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での
すべての変更を含むものである。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、Ｘ線管およびＸ線検出
器をめっき液が循環している流路近傍に配置して、循環
するめっき液に対して直接測定を行なうので、めっき液
を採取する必要がなく、常時測定することができる。ま
た、複数のＸ線検出器をＸ線管を取り囲むように配置す
るので、Ｘ線管からＸ線を照射されたことによってめっ
き液から発生する蛍光Ｘ線を効率良く検出することがで
きる。
器をめっき液が循環している流路近傍に配置して、循環
するめっき液に対して直接測定を行なうので、めっき液
を採取する必要がなく、常時測定することができる。ま
た、複数のＸ線検出器をＸ線管を取り囲むように配置す
るので、Ｘ線管からＸ線を照射されたことによってめっ
き液から発生する蛍光Ｘ線を効率良く検出することがで
きる。
【図１】 本発明に基づく実施の形態１におけるめっき
膜形成装置の概念図である。
膜形成装置の概念図である。
【図２】 本発明に基づく実施の形態１におけるめっき
膜形成装置の信号の流れを示す説明図である。
膜形成装置の信号の流れを示す説明図である。
【図３】 本発明に基づく実施の形態２におけるめっき
膜形成装置の一部の概念図である。
膜形成装置の一部の概念図である。
【図４】 本発明に基づく実施の形態２におけるめっき
膜形成装置の金属箔の配置の説明図である。
膜形成装置の金属箔の配置の説明図である。
【図５】 各金属箔におけるＸ線の透過率を表すグラフ
である。
である。
【図６】 従来技術に基づくめっき膜形成装置の概念図
である。
である。
【図７】 従来のＸ線検出器を分割した構造の例を示す
概念図である。
概念図である。
１ めっき形成槽、２ めっき液補充槽、３ 水平流
路、４ 窓、５ Ｘ線管、６ Ｘ線検出器、７ 自動定
量補給弁、８ めっき液成分補充タンク、９ 信号処理
回路、１０ ホルダ、１１ａ，１１ｂ 金属箔、１２
Ｘ線透過／光遮蔽基板、１３ 蛍光体セル、１４ 光電
変換部、１６ 蛍光Ｘ線分析装置。
路、４ 窓、５ Ｘ線管、６ Ｘ線検出器、７ 自動定
量補給弁、８ めっき液成分補充タンク、９ 信号処理
回路、１０ ホルダ、１１ａ，１１ｂ 金属箔、１２
Ｘ線透過／光遮蔽基板、１３ 蛍光体セル、１４ 光電
変換部、１６ 蛍光Ｘ線分析装置。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ２５Ｄ 21/12 Ｃ２５Ｄ 21/12 Ｃ
21/14 21/14 Ｂ
Ｇ０１Ｔ 1/36 Ｇ０１Ｔ 1/36 Ｚ
Ｆターム(参考） 2G001 AA01 BA04 CA01 DA02 DA06
EA06 EA08 GA01 HA03 JA09
KA01 MA02 PA18
2G088 EE29 FF03 GG21 JJ01 JJ08
4K022 AA05 AA42 DA01 DB28
Claims (7)
- 【請求項１】 内部でめっきを行なうためのめっき形成
槽と、 前記めっき形成槽で用いるめっき液の調整を行なうため
のめっき液補充槽と、 前記めっき形成槽と前記めっき液補充槽との間を前記め
っき液が流通可能なように結ぶ流路と、 前記流路内の前記めっき液に向けてＸ線を照射するため
のＸ線管と、 前記流路内の前記めっき液から放射される蛍光Ｘ線を検
出するためのＸ線検出器とを備える、めっき膜形成装
置。 - 【請求項２】 前記Ｘ線検出器を複数備える、請求項１
に記載のめっき膜形成装置。 - 【請求項３】 前記複数のＸ線検出器は、前記Ｘ線管を
取り囲むように配置されている、請求項２に記載のめっ
き膜形成装置。 - 【請求項４】 前記複数のＸ線検出器は、前記Ｘ線管か
ら照射されたＸ線が前記めっき液に入射する点を中心と
してほぼ放射状に配置されている、請求項２または３に
記載のめっき膜形成装置。 - 【請求項５】 前記複数のＸ線検出器のうち少なくとも
一部においては、検出窓を覆うように金属箔が配置さ
れ、前記金属箔を介して蛍光Ｘ線を検出する、請求項２
から４のいずれかに記載のめっき膜形成装置。 - 【請求項６】 前記流路はＸ線照射検出用窓を前記めっ
き液の液面より上側に有し、前記Ｘ線管は、前記Ｘ線照
射検出用窓を介して上側からＸ線を照射し、前記Ｘ線検
出器は、前記Ｘ線照射検出用窓を介して上側から蛍光Ｘ
線を検出する、請求項１から５のいずれかに記載のめっ
き膜形成装置。 - 【請求項７】 請求項１から６のいずれかに記載のめっ
き膜形成装置において、前記Ｘ線検出器からの信号を処
理することによって、前記めっき液中の金属成分を監視
し、前記金属成分の含有量が所定値より下回るときには
前記めっき液補充槽に前記金属成分を自動的に補充す
る、めっき膜形成装置の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001365825A JP2003166955A (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | めっき膜形成装置およびその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001365825A JP2003166955A (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | めっき膜形成装置およびその制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003166955A true JP2003166955A (ja) | 2003-06-13 |
Family
ID=19175804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001365825A Pending JP2003166955A (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | めっき膜形成装置およびその制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003166955A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008126892A1 (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-23 | Mitsubishi Electric Corporation | 樹脂中Ｂｒ検出方法、樹脂分別装置、および再生樹脂製品の製造方法 |
| WO2019230376A1 (ja) * | 2018-05-31 | 2019-12-05 | キヤノン株式会社 | 識別装置 |
-
2001
- 2001-11-30 JP JP2001365825A patent/JP2003166955A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008126892A1 (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-23 | Mitsubishi Electric Corporation | 樹脂中Ｂｒ検出方法、樹脂分別装置、および再生樹脂製品の製造方法 |
| JP5463909B2 (ja) * | 2007-04-11 | 2014-04-09 | 三菱電機株式会社 | 樹脂中Ｂｒ検出方法、樹脂分別装置、および再生樹脂製品の製造方法 |
| WO2019230376A1 (ja) * | 2018-05-31 | 2019-12-05 | キヤノン株式会社 | 識別装置 |
| JP2019211252A (ja) * | 2018-05-31 | 2019-12-12 | キヤノン株式会社 | 識別装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9746433B2 (en) | X-ray fluorescence spectrometer and X-ray fluorescence analyzing method | |
| EP2588892B1 (en) | Method of identifying materials from multi-energy x-rays | |
| JP6596414B2 (ja) | Ｘ線検出器におけるｘ線線量パラメータを測定するための装置、及び放射線学的情報を取り扱うためのコンピュータネットワーク | |
| US20130195244A1 (en) | X-Ray Inspector | |
| JP2003050115A (ja) | Ｘ線膜厚計 | |
| JP2008309807A (ja) | Ｘ線エネルギースペクトルの放射線量子の背景補正された計数を決定する方法 | |
| JP2004536284A (ja) | Ｘ線蛍光分析器 | |
| JP2007218845A (ja) | 透過ｘ線測定方法 | |
| US7528939B2 (en) | Method and apparatus for real-time measurement of trace metal concentration in chemical mechanical polishing (CMP) slurry | |
| JP2000258536A (ja) | ガンマ線検出器からの検出結果をリアルタイムで選別するための方法および装置ならびに検出素子の一様化のための補正を行うための方法および装置 | |
| US7289598B2 (en) | X-ray fluorescent analysis apparatus | |
| JP4677217B2 (ja) | サンプル検査方法、サンプル検査装置、マイクロエレクトロニックデバイス製造用クラスタツール、マイクロエレクトロニックデバイス製造用装置 | |
| JP2005513478A5 (ja) | ||
| JP2003166955A (ja) | めっき膜形成装置およびその制御方法 | |
| JP4831689B2 (ja) | 光子又は粒子の計数方法 | |
| JP2006313132A (ja) | 試料分析方法およびｘ線分析装置 | |
| AU2019290026A1 (en) | System and method for moisture measurement | |
| CN101101269A (zh) | 能量分散型辐射探测系统和测量目标元素的含量的方法 | |
| JPH10221047A (ja) | 蛍光ｘ線膜厚分析装置及び方法 | |
| JP6191051B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP2004239731A (ja) | 放射線非破壊検査装置および放射線非破壊検査方法 | |
| JP5846469B2 (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置及び全反射蛍光ｘ線分析方法 | |
| JP5043387B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析による被膜分析方法及び装置 | |
| US5750883A (en) | Method and apparatus for determining the salt content of snack foods | |
| JP2008268075A (ja) | 非破壊検査方法及び非破壊検査装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050520 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050524 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050927 |