JP2003164704A - 表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置 - Google Patents

表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置

Info

Publication number
JP2003164704A
JP2003164704A JP2001368660A JP2001368660A JP2003164704A JP 2003164704 A JP2003164704 A JP 2003164704A JP 2001368660 A JP2001368660 A JP 2001368660A JP 2001368660 A JP2001368660 A JP 2001368660A JP 2003164704 A JP2003164704 A JP 2003164704A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
container
solution
mixed solution
utilizing
separating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001368660A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanori Sato
正典 佐藤
Kazuo Matsuura
一雄 松浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HONKE MATSURA SHUZOJO KK
HONKE MATSUURA SHUZOJO KK
Honda Electronics Co Ltd
Original Assignee
HONKE MATSURA SHUZOJO KK
HONKE MATSUURA SHUZOJO KK
Honda Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HONKE MATSURA SHUZOJO KK, HONKE MATSUURA SHUZOJO KK, Honda Electronics Co Ltd filed Critical HONKE MATSURA SHUZOJO KK
Priority to JP2001368660A priority Critical patent/JP2003164704A/ja
Publication of JP2003164704A publication Critical patent/JP2003164704A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 これまで開発されてきた非熱プロセスは、膜
分離においては膜の劣化や分離速度に問題があり、超音
波による霧化作用を利用したものにおいては、発生する
ミストを回収するための手段が必要になるなど、いずれ
も簡単に利用できるものではなかった。 【解決手段】 容器1は浅く形成され、容器1の上部に
溶液供給装置3が装着され、溶液供給装置3から混合溶
液ば2が容器1に供給され、容器1の排出部1aから混
合溶液2の上部の溶液2aをオーバーフローさせ、オー
バーフローした溶液2aは回収装置4で回収され、容器
1の底部に残留した溶液2bを排出する排出装置1bが
装着され、排出装置1bから排出された残留溶液2bは
容器1の下部に装着された残留溶液回収装置5で回収さ
れ、容器1の溶液2の表面近傍に超音波振動子6が装着
されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、混合溶液の気液体
界面に表面波を起こし、表面過剰現象に促進して混合溶
液を分離するようにした過剰現象を利用する混合溶液の
分離装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、アルコール類の分離精製装置と
しては、物質間の沸点差を利用した蒸留装置や蒸発装置
(以下蒸留装置と称す)が用いられているが、この蒸留
装置は様々な改造や付属装置が考案されており、広く化
学工業で用いられている。この蒸留装置において、蒸留
課程が一回の単蒸留又はこれを組み合わせた連続蒸留が
基本的な形で用いられており、又、圧力を大気圧以外の
領域に保持しながら操作を簡単にしたものもあるが、概
して熱に依存したプロセスであり、多大なエネルギーを
必要とし、又、沸点が近い物質を分離するために、分離
工程を多く取る必要があり、装置が複雑になったり、大
規模になることが避けられなかった。
【0003】このため、近年では、非熱プロセスに注目
が集まりつつあり、膜分離技術を応用した分離装置や超
音波の霧化作用を利用した分離装置が開発されている
(特許第1666846号及び特許第1856715号
を参照)・
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これま
で開発されてきた非熱プロセスは、膜分離においては膜
の劣化や分離速度に問題があり、又、超音波による霧化
作用を利用したものにおいては、発生するミストを回収
するための手段が必要になるなど、いずれも簡単に利用
できるものではなかった。
【0005】
【課題を解決しようとする手段】本発明は、混合溶液の
薄い層を形成させるための容器と、該容器に混合溶液を
供給する手段と、前記容器の端部から前記混合溶液の表
面層のみをオーバーフローさせる手段と、オーバーフロ
ーした溶液を回収する手段と、前記容器に残留した溶液
を前記容器底部から抜き出す手段とからなるものであ
り、前記容器を多段に構成し、順次オーバーフロー手段
で1つの容器からオーバーフローした溶液を次々にオー
バーフローさせて分離するようにしてもよいし、前記混
合溶液はアルコールと水とからなるようにしてもよい
し、前記容器の縁部分又は前記溶液の表面に超音波を照
射する手段をもうけてもよいし、前記溶液の縁部分に界
面活性作用を有する素材を使用してもよいし、前記溶液
の表面が接する気相を疎水性のガスで満たしてもよい
し、混合溶液の薄い層を形成させるための容器と、該容
器に混合溶液を供給する手段と、前記容器の溶液の薄層
の表面のみを加熱する手段と、発生した蒸気を回収する
手段と、前記容器に残留した溶液を前記容器底部から抜
き出す手段とからなるものであり、又、混合溶液の薄い
層を形成させるための容器と、該容器に混合溶液を供給
する手段と、前記容器の溶液の表面近傍に設けた金属製
の線材に振動又は振動と熱あるいは熱を加える手段と、
該手段によって前記溶液から発生する飛沫もしくは蒸気
を回収する手段と、前記容器に残留した溶液を前記容器
底部から抜き出す手段とからなるものであり、さらに、
混合溶液の薄い層を形成させるための容器と、該容器に
混合溶液を供給する手段と、前記溶液の表面にのみ接す
る疎水性の素材を設けた回転体と、該回転体の表面に付
着した前記溶液を気相側で回収するワイパーと、前記容
器に残留した溶液を前記容器底部から抜き出す手段とか
らなるものであり、又、混合溶液の薄い層を形成させる
ための容器と、該容器に混合溶液を供給する手段と、前
記容器の前記溶液の底部から表面に向かって空気あるい
は疎水性気体を吹き込む手段と、前記容器に残留した溶
液を前記容器底部から抜き出す手段とからなるものであ
り、さらに、混合溶液の薄い層を形成させるための容器
と、該容器に混合溶液を供給する手段と、前記容器の前
記溶液の表面に多数の微細な管の下部が接するように設
置し、該微細な管によって、前記溶液の表面に存在する
溶液のみを抜き取る手段と、前記容器に残留した溶液を
前記容器底部から抜き出す手段とからなるものであり、
又、前記容器の前記溶液中から表面に空気あるいは疎水
性気体の気泡を吹き込む手段を備えたてもよいし、さら
に、前記容器の前記溶液中から表面に空気あるいは前記
溶液に沿って超音波を照射する手段を備えてもよい。
【0006】
【発明の実施の形態】表面過剰現象は、アルコールなど
の疎水性のアルキル基と親水性の水酸基が共存する分子
構造を有する物質と、水の混合液において観察される現
象であり、バルクの水は分子間に強力な水素結合を有す
るので、近接分子の少ない表面、すなわち気相側の分子
はポテンシャルエネルギーが高い不安定な状態にある。
ここに、アルコールが存在すると、そのポテンシャルエ
ネルギーを低下させるために、表面張力の小さなアルコ
ールを選択的に溶液外に取り出す手段を使用すれば、消
費エネルギーの小さな、簡単な構造のアルコール溶液の
分離が可能となる。表面近傍の気液界面付近にのみ存在
するアルコール溶液のみを溶液外に取り出すための最も
簡単な方法はオーバーフローさせることであり、さら
に、これを連続して繰り返すことによって徐々に濃度の
高いアルコール溶液の分離が可能となる。
【0007】
【実施例】図1は本発明の実施例の過剰現象を利用する
混合溶液の分離装置の構成図、図2は図1の一部の拡大
図、図3は図1の2種混合溶液の分離方法及びその装置
を説明するための図で、容器1は混合溶液2の薄い層を
形成するために、浅く形成され、又、容器1の上部に溶
液供給装置3が装着され、溶液供給装置3から混合溶液
(例えばアルコールと水)2が容器1に供給され、容器
1の排出部1aから混合溶液2の上部の溶液2aをオー
バーフローさせ、オーバーフローした溶液2aは回収装
置4で回収され、さらに、容器1の底部に残留した溶液
2bを排出する排出装置1bが装着され、この排出装置
1bから排出された残留溶液2bは容器1の下部に装着
された残留溶液回収装置5で回収されるように構成さ
れ、容器1の溶液2の表面近傍に超音波振動子6が装着
され、この超音波振動子6に発振器7から発振出力が印
加されている。
【0008】このように構成された本実施例の混合溶液
の分離装置では、図2に示すように、超音波振動子6か
ら混合溶液2の表面2cに向けて超音波を照射すると、
混合溶液2の表面2cに表面波2dが立てられる。
【0009】ここで、図3の(A)で、混合溶液2の表
面2cに表面波2dが立ってなければ、混合溶液2の表
面2cにアルコール分子8は均一に並んでいるが、図3
の(B)に示すように、混合溶液2に表面2cに表面波
2dを立てると、アルコール分子8の間に分子の隙間8
aが生じ、この隙間8aに中のアルコール分子8bが隙
間8aを埋めるように表面過剰現象により挿入されて、
図3の(C)のように、混合溶液2の表面波2dにアル
コール分子8が均一に挿入されるので、これを繰り返す
ことにより、混合溶液2の表面のアルコール分子8の層
が厚くなる。
【0010】このように、浅い容器1の混合溶液2の表
面2dにアルコール濃度の高い表面層ができれば、図1
に示すように、容器1の排出部1aからアルコール濃度
が高い溶液2aをオーバーフローさせて回収することに
より、アルコール濃度の高い溶液2aを回収することが
できる。
【0011】なお、上記実施例では、混合溶液2をアル
コールと水によって説明したが、これに限定されるもの
ではなく、他の混合溶液においても、2種混合溶液を分
離することができ、又、超音波振動子6は圧電セラミッ
ク以外に櫛形電極を用いたIDT(Inter Digital Tran
sducer)などが利用できる。
【0012】図4は、本発明の他の実施例の過剰現象を
利用する混合溶液の分離装置の構成図で、容器1に溶液
供給装置3より溶液2が供給され、容器1の上部に熱源
10を装着し、この熱源10に電源11より通電し、吸
入管12より外気を導入し、蒸発したアルコール蒸気を
排出管13を通して冷却装置14に導き、この冷却装置
14にコンプレッサー、ポンプ、電源などからなる作動
装置15で冷媒が循環されることにより、アルコール蒸
気を冷却装置14で結露させ、液体に戻った濃度の高い
アルコール溶液は回収装置4で回収される。
【0013】このように構成した本実施例では、熱源1
0の加熱により容器1に供給された混合溶液2の表面は
アルコールの過剰現象を生じ、この過剰現象によって蒸
発されたアルコールは冷却装置14に供給されて結露さ
れ、液体に戻って濃度の高いアルコールとして回収装置
4で回収される。
【0014】図5は本発明の他の実施例の過剰現象を利
用する混合溶液の分離装置の平面図、図6は図5の分離
装置の断面図で、容器1の溶液2に浸漬して複数の線材
16が装着され、線材16のそれぞれの端部に超音波振
動子17が接続されている。
【0015】このように構成した本実施例の分離装置で
は、超音波振動子17で線材16を振動することによ
り、混合溶液2の液面近傍に過剰に存在するアルコール
をミストもしくは蒸気として発生し、この濃度の高いミ
スト又は蒸気を図4の冷却装置14等で回収する。
【0016】図7は本発明の他の実施例の過剰現象を利
用する混合溶液の分離装置の構成図で、1は容器、2は
溶液、3は溶液供給装置、4は回収装置で、これらの構
成は上記実施例と同じであるので説明は省略するが、本
実施例では、容器1の端部に回転体18を溶液2の表面
に接触させて装着し、この回転体18の側部にワイパー
19を接触させる。
【0017】このように構成した本実施例の分離装置で
は、容器1に薄く満たされた混合溶液2の液面近傍に過
剰に存在するアルコール溶液を回転体18に吸着させて
外に鳥だの、気相側でワイパー19により機械的に回転
体18に付着したアルコールを剥ぎ取って高い濃度のア
ルコールを回収装置4で回収する。
【0018】図8は本発明の他の実施例の過剰現象を利
用する混合溶液の分離装置の構成図で、1は容器、2は
溶液、4は回収装置、19はワイパーであり、これらの
構成は上記実施例と同じであるので説明は省略するが、
本実施例では、容器1の溶液2の表面近傍に多数のキャ
ピラリー管20を設置し、このキャピラリー管20の上
面に沿ってワイパー19を移動するように構成し、キャ
ピラリー管20の側部に回収装置4が装着され、容器1
の底部に設置したノズル21にガス供給装置22から望
ましくは疎水性のガスを供給するように構成する。
【0019】このように構成した本実施例では、ガス供
給装置22から通気されたガスによって発生した気泡2
3が溶液2の液面に達するまでの間に気泡23と溶液2
の間の界面にアルコール溶液を吸着させて過剰なアルコ
ール溶液相を形成させ、この気泡23が溶液2の液面ま
で運ばれ、この運ばれた気泡23はキャピラリー管20
の下部で崩壊されることにより、過剰なアルコール溶液
相がキャピラリー管20の中に入り込み、毛細管現象及
びノズル21から通気させるガスの圧力によってキャピ
ラリー管20の上部まで運ばれ、ワイパー19によって
キャピラリー管20の上面を移動することにより、濃度
の高いアルコール溶液を回収装置4で回収され、アルコ
ール濃度の高くなった溶液は系外へ抜き取られ、必要に
応じて溶液供給装置3及び残留溶液回収装置5を装着す
る。
【0020】なお、本発明の分離装置は上記実施例に限
定されるものではなく、容器を多段に構成し、順次オー
バーフロー手段で1つの容器からオーバーフローした溶
液を次々にオーバーフローさせて分離するようにしても
よく、本発明の主旨を逸脱しない範囲内において種々の
変更を加えることができる。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の過剰現象
を利用した混合溶液の分離装置では、溶液の表面に高濃
度に局在する物質のみを選択的に分離することができる
ので、簡単な構造を有しながら比熱プロセスを実現する
ことができるので、小さなエネルギーで効率よく溶液を
分離することができるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例の混合溶液の分離装置の断面
図である。
【図2】図1の一部の拡大図である。
【図3】図1の動作を説明するための図である。
【図4】本発明の他の実施例の過剰現象を利用する混合
溶液の分離装置の構成図である。
【図5】本発明の他の実施例の過剰現象を利用する混合
溶液の分離装置の平面図である。
【図6】図5の分離装置の断面図である。
【図7】本発明の他の実施例の過剰現象を利用する混合
溶液の分離装置の構成図である。
【図8】本発明の他の実施例の過剰現象を利用する混合
溶液の分離装置の構成図である。
【符号の説明】
1 容器 2 混合溶液 3 混合供給装置 4 溶液回収装置 5 残留溶液回収装置 6 超音波振動子 7 発振器 10 熱源 11 電源 12 吸入管 13 排出管 14 冷却装置 15 作動装置 16 線材 17 超音波振動子 18 回転体 19 ワイパー 20 キャピラリー管 21 ノズル 22 ガス供給装置 23 気泡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01D 17/035 B01D 17/035 Z 17/09 17/09 B01J 19/00 B01J 19/00 B (72)発明者 松浦 一雄 徳島県鳴門市大麻町池谷字柳の本19番地 株式会社本家松浦酒造場内 Fターム(参考) 4G075 AA13 BB05 BB07 BD05 BD13 BD15 BD16 CA62 DA02 DA12 EA02 EE13 FC20

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 混合溶液の薄い層を形成させるための容
    器と、該容器に混合溶液を供給する手段と、前記容器の
    端部から前記混合溶液の表面層のみをオーバーフローさ
    せる手段と、オーバーフローした溶液を回収する手段
    と、前記容器に残留した溶液を前記容器底部から抜き出
    す手段とからなることを特徴とする表面過剰現象を利用
    する混合溶液の分離装置。
  2. 【請求項2】 前記容器を多段に構成し、順次オーバー
    フロー手段で1つの容器からオーバーフローした溶液を
    次々にオーバーフローさせて分離することを特徴とする
    請求項1記載の過剰現象を利用する混合溶液の分離装
    置。
  3. 【請求項3】 前記混合溶液はアルコールと水とからな
    ることを特徴とする請求項1記載の過剰現象を利用する
    混合溶液の分離装置。
  4. 【請求項4】 前記容器の縁部分又は前記溶液の表面に
    超音波を照射する手段をもうけることを特徴とする請求
    項1記載の過剰現象を利用する混合溶液の分離装置。
  5. 【請求項5】 前記溶液の縁部分に界面活性作用を有す
    る素材を使用することを特徴とする請求項1記載の過剰
    現象を利用する混合溶液の分離装置。
  6. 【請求項6】 前記溶液の表面が接する気相を疎水性の
    ガスで満たすことを特徴とする請求項1記載の過剰現象
    を利用する混合溶液の分離装置。
  7. 【請求項7】 混合溶液の薄い層を形成させるための容
    器と、該容器に混合溶液を供給する手段と、前記容器の
    溶液の薄層の表面のみを加熱する手段と、発生した蒸気
    を回収する手段と、前記容器に残留した溶液を前記容器
    底部から抜き出す手段とからなることを特徴とする表面
    過剰現象を利用する混合溶液の分離装置。
  8. 【請求項8】 混合溶液の薄い層を形成させるための容
    器と、該容器に混合溶液を供給する手段と、前記容器の
    溶液の表面近傍に設けた金属製の線材に振動又は振動と
    熱あるいは熱を加える手段と、該手段によって前記溶液
    から発生する飛沫もしくは蒸気を回収する手段と、前記
    容器に残留した溶液を前記容器底部から抜き出す手段と
    からなることを特徴とする表面過剰現象を利用する混合
    溶液の分離装置。
  9. 【請求項9】 混合溶液の薄い層を形成させるための容
    器と、該容器に混合溶液を供給する手段と、前記溶液の
    表面にのみ接する疎水性の素材を設けた回転体と、該回
    転体の表面に付着した前記溶液を気相側で回収するワイ
    パーと、前記容器に残留した溶液を前記容器底部から抜
    き出す手段とからなることを特徴とする表面過剰現象を
    利用する混合溶液の分離装置。
  10. 【請求項10】 混合溶液の薄い層を形成させるための
    容器と、該容器に混合溶液を供給する手段と、前記容器
    の前記溶液の底部から表面に向かって空気あるいは疎水
    性気体を吹き込む手段と、前記容器に残留した溶液を前
    記容器底部から抜き出す手段とからなることを特徴とす
    る表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置。
  11. 【請求項11】 混合溶液の薄い層を形成させるための
    容器と、該容器に混合溶液を供給する手段と、前記容器
    の前記溶液の表面に多数の微細な管の下部が接するよう
    に設置し、該微細な管によって、前記溶液の表面に存在
    する溶液のみを抜き取る手段と、前記容器に残留した溶
    液を前記容器底部から抜き出す手段とからなることを特
    徴とする表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置。
  12. 【請求項12】 前記容器の前記溶液中から表面に空気
    あるいは疎水性気体の気泡を吹き込む手段を備えたこと
    を特徴とする請求項11記載の過剰現象を利用する混合
    溶液の分離装置。
  13. 【請求項13】 前記容器の前記溶液中から表面に空気
    あるいは前記溶液に沿って超音波を照射する手段を備え
    たことを特徴とする請求項11記載の過剰現象を利用す
    る混合溶液の分離装置。
JP2001368660A 2001-12-03 2001-12-03 表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置 Pending JP2003164704A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001368660A JP2003164704A (ja) 2001-12-03 2001-12-03 表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001368660A JP2003164704A (ja) 2001-12-03 2001-12-03 表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003164704A true JP2003164704A (ja) 2003-06-10

Family

ID=19178213

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001368660A Pending JP2003164704A (ja) 2001-12-03 2001-12-03 表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003164704A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005066553A (ja) * 2003-08-27 2005-03-17 Choonpa Jozosho Kk 溶液の超音波分離方法とこの方法に使用される超音波分離装置
JP2009285586A (ja) * 2008-05-29 2009-12-10 Honda Electronic Co Ltd 超音波エタノール分離装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005066553A (ja) * 2003-08-27 2005-03-17 Choonpa Jozosho Kk 溶液の超音波分離方法とこの方法に使用される超音波分離装置
JP2009285586A (ja) * 2008-05-29 2009-12-10 Honda Electronic Co Ltd 超音波エタノール分離装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101934627B1 (ko) 마이크로·나노 버블에 의한 세정 방법 및 세정 장치
CN100355016C (zh) 生产结构体的方法和氧化硅膜用蚀刻剂
US20110155169A1 (en) Ultrasonic cleaning fluid, method and apparatus
KR20030022136A (ko) 피처리물처리장치 및 그것을 사용한 플라즈마설비
JP3367038B2 (ja) アルコール溶液のアルコール分離装置
JP2011131140A (ja) 超音波霧化方法と霧化装置
KR20050085049A (ko) 소밀한 상태의 기체 및 음파를 사용하는 기판을 처리하는기판 처리 장치
JP3606980B2 (ja) 超音波分溜方法及びその装置、並びに高濃度アルコール分離方法及びその装置
JP2003164704A (ja) 表面過剰現象を利用する混合溶液の分離装置
JPH0964000A (ja) ドライ洗浄装置
JPH049670A (ja) 分析装置
JP3479120B2 (ja) 超音波によるアルコール分溜装置
KR100333341B1 (ko) 실또는띠형상의물품특히와이어를세정하는방법
JP2003503830A (ja) 化学的膜洗浄及び乾燥
JP2002224502A (ja) 超音波による2種混合溶液の分離方法及びその装置
CN209992272U (zh) 一种微孔雾化进样装置
KR100242942B1 (ko) 다중 발진 초음파 세정장치
JPH0969506A (ja) 超音波洗浄システム
JP2785923B2 (ja) ワーク洗浄装置
JPH0819735A (ja) 濃縮・分画装置およびそれを用いる濃縮・分画方法ならびに酒類の製造方法
JP2003311226A (ja) 洗浄処理方法及び洗浄処理装置
RU2133559C1 (ru) Способ очистки поверхности подложек и печатных плат
JP4049342B2 (ja) 塗工液の脱気方法
WO2022190670A1 (ja) 超音波霧化分離装置及び調湿システム
JPH03169012A (ja) 半導体基板異物除去装置