JP2003158086A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2003158086A5 JP2003158086A5 JP2002264226A JP2002264226A JP2003158086A5 JP 2003158086 A5 JP2003158086 A5 JP 2003158086A5 JP 2002264226 A JP2002264226 A JP 2002264226A JP 2002264226 A JP2002264226 A JP 2002264226A JP 2003158086 A5 JP2003158086 A5 JP 2003158086A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002264226A JP4439794B2 (ja) | 2001-09-10 | 2002-09-10 | 半導体装置の作製方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001273770 | 2001-09-10 | ||
JP2001-273770 | 2001-09-10 | ||
JP2001273482 | 2001-09-10 | ||
JP2001-273482 | 2001-09-10 | ||
JP2002264226A JP4439794B2 (ja) | 2001-09-10 | 2002-09-10 | 半導体装置の作製方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003158086A JP2003158086A (ja) | 2003-05-30 |
JP2003158086A5 true JP2003158086A5 (ja) | 2005-10-27 |
JP4439794B2 JP4439794B2 (ja) | 2010-03-24 |
Family
ID=27347471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002264226A Expired - Fee Related JP4439794B2 (ja) | 2001-09-10 | 2002-09-10 | 半導体装置の作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4439794B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4838982B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2011-12-14 | 株式会社 日立ディスプレイズ | レーザアニール方法およびレーザアニール装置 |
KR100624427B1 (ko) * | 2004-07-08 | 2006-09-19 | 삼성전자주식회사 | 다결정 실리콘 제조방법 및 이를 이용하는 반도체 소자의제조방법 |
JP2006134986A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Sony Corp | レーザ処理装置 |
JP5019739B2 (ja) * | 2004-11-29 | 2012-09-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | レーザ処理装置 |
US7393764B2 (en) | 2004-11-29 | 2008-07-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser treatment apparatus, laser treatment method, and manufacturing method of semiconductor device |
JP5210574B2 (ja) * | 2006-09-14 | 2013-06-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | レーザ照射装置 |
KR101777289B1 (ko) | 2010-11-05 | 2017-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 연속측면고상화(Sequential Lateral Solidification:SLS)를 이용한 결정화 장치 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0220681A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-24 | Fujitsu Ltd | レーザビームの集束方法 |
JPH04256382A (ja) * | 1991-02-08 | 1992-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置 |
JP3027654B2 (ja) * | 1992-08-10 | 2000-04-04 | 新日本製鐵株式会社 | 鋼板へのレーザマーキング方法 |
JPH0667119A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-11 | Tokin Corp | 光アイソレータの作製方法 |
JP3429129B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2003-07-22 | 三菱電機株式会社 | 低温ポリシリコン薄膜トランジスタのレーザアニーリング方法 |
JP2000243969A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜トランジスタとその製造方法及びそれを用いた液晶表示装置とその製造方法 |
JP2000243970A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜トランジスタとその製造方法及びそれを用いた液晶表示装置とその製造方法 |
JP2000243968A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜トランジスタとその製造方法及びそれを用いた液晶表示装置とその製造方法 |
JP4731655B2 (ja) * | 1999-02-12 | 2011-07-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
JP4954359B2 (ja) * | 1999-02-12 | 2012-06-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
JP3627096B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2005-03-09 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工機 |
-
2002
- 2002-09-10 JP JP2002264226A patent/JP4439794B2/ja not_active Expired - Fee Related