JP2003156600A - 電子線均一照射方法及び装置 - Google Patents
電子線均一照射方法及び装置Info
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- JP2003156600A JP2003156600A JP2001354482A JP2001354482A JP2003156600A JP 2003156600 A JP2003156600 A JP 2003156600A JP 2001354482 A JP2001354482 A JP 2001354482A JP 2001354482 A JP2001354482 A JP 2001354482A JP 2003156600 A JP2003156600 A JP 2003156600A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被照射物に照射される電子線線量を安定化
し、表面線量の変動を最小限に抑えることの出来る電子
線照射方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 電子銃１０で生成され電流制御装置２０
で測定される電流値に基づきグリッド電圧により一定値
に制御された電子線を、加速管１１、偏向磁石１４等を
通過させた後、電子線照射部１６より被照射物１８に照
射する電子線均一照射装置であって、前記電子線照射部
１６の直前に電流計２４を設けるとともに、前記被照射
物１８に照射される電子線線量が一定となるように、前
記電流計２４により測定される電流値の変動に応じて前
記被照射物１８を搬送する照射コンベア１７の速度を制
御する照射コンベア速度制御手段２１を設けたことを特
徴とする。
し、表面線量の変動を最小限に抑えることの出来る電子
線照射方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 電子銃１０で生成され電流制御装置２０
で測定される電流値に基づきグリッド電圧により一定値
に制御された電子線を、加速管１１、偏向磁石１４等を
通過させた後、電子線照射部１６より被照射物１８に照
射する電子線均一照射装置であって、前記電子線照射部
１６の直前に電流計２４を設けるとともに、前記被照射
物１８に照射される電子線線量が一定となるように、前
記電流計２４により測定される電流値の変動に応じて前
記被照射物１８を搬送する照射コンベア１７の速度を制
御する照射コンベア速度制御手段２１を設けたことを特
徴とする。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば飲料水容器
や医療機器等の殺菌、滅菌等の処理を必要とする製品
に、電子線を照射しながら殺菌等の所期の目的を達成す
る電子線照射装置における電子線均一照射方法及びその
装置に関する。
や医療機器等の殺菌、滅菌等の処理を必要とする製品
に、電子線を照射しながら殺菌等の所期の目的を達成す
る電子線照射装置における電子線均一照射方法及びその
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、一般に十分な殺菌等の処理が
必要とされている飲料水容器や医療機器等の滅菌処理に
は、高圧蒸気滅菌、エチレンオキシドガス滅菌、γ線滅
菌等の処理が施されている。その中でも電子線照射滅菌
法は、電子線の加速電圧を大きくすることで医療機器等
の滅菌をも可能としており、また被照射物の耐熱性や残
留毒性の心配がなく、更に滅菌処理時間が極めて短時間
であるとともに、電源を切れば瞬時に照射を停止でき、
環境面での安全性が高く、コスト面においても安価であ
る等の有利性があるため近年普及しつつある。更に、γ
線照射との違いとして、材料劣化が小さく、該γ線照射
に比べて材料選択の範囲が広がる可能性もある。
必要とされている飲料水容器や医療機器等の滅菌処理に
は、高圧蒸気滅菌、エチレンオキシドガス滅菌、γ線滅
菌等の処理が施されている。その中でも電子線照射滅菌
法は、電子線の加速電圧を大きくすることで医療機器等
の滅菌をも可能としており、また被照射物の耐熱性や残
留毒性の心配がなく、更に滅菌処理時間が極めて短時間
であるとともに、電源を切れば瞬時に照射を停止でき、
環境面での安全性が高く、コスト面においても安価であ
る等の有利性があるため近年普及しつつある。更に、γ
線照射との違いとして、材料劣化が小さく、該γ線照射
に比べて材料選択の範囲が広がる可能性もある。
【０００３】前記電子線照射滅菌法における電子線照射
装置の構成は、図３に示すように、電子銃１０、プリバ
ンチャ３４、加速管１１、ビーム偏向部１４、スキャン
ホーン１６からなり、電子銃１０では熱電子を放出する
カソード３１と正の電位に印加されているアノード３３
とから電子ビームが生成され、その出力はカソード３１
とアノード３３との間に位置するグリッド３２とにより
制御されている。かかる電子線照射装置には、電流計２
２、２３、２４が配設されており、電子銃１０の直後に
位置する電流計２２で測定された電流値を前記電子銃１
０にフィードバックさせて電流値を制御している。そし
て、電子銃１０で生成された電子ビームはプリバンチャ
３４に入射される。プリバンチャ３４では、高周波増幅
用クライストロン３５より移相器２６を介して供給され
る高周波電界により電子が加速され、後段に備えられた
加速管１１に入射される。
装置の構成は、図３に示すように、電子銃１０、プリバ
ンチャ３４、加速管１１、ビーム偏向部１４、スキャン
ホーン１６からなり、電子銃１０では熱電子を放出する
カソード３１と正の電位に印加されているアノード３３
とから電子ビームが生成され、その出力はカソード３１
とアノード３３との間に位置するグリッド３２とにより
制御されている。かかる電子線照射装置には、電流計２
２、２３、２４が配設されており、電子銃１０の直後に
位置する電流計２２で測定された電流値を前記電子銃１
０にフィードバックさせて電流値を制御している。そし
て、電子銃１０で生成された電子ビームはプリバンチャ
３４に入射される。プリバンチャ３４では、高周波増幅
用クライストロン３５より移相器２６を介して供給され
る高周波電界により電子が加速され、後段に備えられた
加速管１１に入射される。
【０００４】加速管１１内は、前記クライストロン３５
により電磁場が励起されており、該電磁場により電子ビ
ームは加速されて例えば１０ＭｅＶの高エネルギの電子
線となって出射側に位置するビーム偏向部１４内の偏向
磁石を利用して２７０°回転させた後ビーム走査装置１
６に入射される。スキャンホーン１６は、入口側に具備
される走査磁石により電子線を左右に走査しながら被照
射物に照射する。走査幅及び周期は、三角波電流の振幅
及び繰り返し周期を変えることで任意に設定できる。
により電磁場が励起されており、該電磁場により電子ビ
ームは加速されて例えば１０ＭｅＶの高エネルギの電子
線となって出射側に位置するビーム偏向部１４内の偏向
磁石を利用して２７０°回転させた後ビーム走査装置１
６に入射される。スキャンホーン１６は、入口側に具備
される走査磁石により電子線を左右に走査しながら被照
射物に照射する。走査幅及び周期は、三角波電流の振幅
及び繰り返し周期を変えることで任意に設定できる。
【０００５】このような電子線照射装置において滅菌等
の所期の目的を達成する為に最も重要な条件として、被
照射物への必要線量の保障が挙げられる。これは、被照
射物への照射線量が足りないと滅菌等の処理が不十分と
なり、線量過多だと被照射物の劣化や着色が生じてしま
う為である。そこで、被照射物へ照射される電子線線量
を所定の基準幅以下に抑制するために、電流値を略一定
に保持するようにしている。
の所期の目的を達成する為に最も重要な条件として、被
照射物への必要線量の保障が挙げられる。これは、被照
射物への照射線量が足りないと滅菌等の処理が不十分と
なり、線量過多だと被照射物の劣化や着色が生じてしま
う為である。そこで、被照射物へ照射される電子線線量
を所定の基準幅以下に抑制するために、電流値を略一定
に保持するようにしている。
【０００６】また、特開平１１−１６９４３８号公報で
は、被照射物０１の種類に適した電子線で処理を行うこ
とのできる電子線照射装置を提案している。かかる装置
は、図２に示されるように、電子銃０３で出射されて加
速管０６に入射される電子の量をヒータ電源０２０と信
号発生器０１９とからなる電流量制御手段０１８により
被滅菌物の種類に応じて制御し、また、速度制御手段０
１７を設け被滅菌物の大きさや重さが前記電流量制御手
段０１８を超える場合にはコンベア０２の搬送速度を調
整することにより適した線量での照射処理が可能となる
ように構成されている。
は、被照射物０１の種類に適した電子線で処理を行うこ
とのできる電子線照射装置を提案している。かかる装置
は、図２に示されるように、電子銃０３で出射されて加
速管０６に入射される電子の量をヒータ電源０２０と信
号発生器０１９とからなる電流量制御手段０１８により
被滅菌物の種類に応じて制御し、また、速度制御手段０
１７を設け被滅菌物の大きさや重さが前記電流量制御手
段０１８を超える場合にはコンベア０２の搬送速度を調
整することにより適した線量での照射処理が可能となる
ように構成されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術のように電子線照射装置の上流側で電流値を制御
しても、電子線照射部に至るまでの間に存在する種々の
装置による電流値の変動は避けられない。これは、グリ
ット電圧、クライストロン等の加速用電圧による電流値
の変動、また、冷却水ジャケットに供給される冷水の安
定度が低いための変動、さらに、該電子線照射装置に多
数備えつけられているステアリング磁石、収束磁石、走
査磁石等の磁石類による電流値の変動、等の一旦電流値
を設定した後に影響を与える様々な要因のために、電流
値の安定した制御は非常に困難である。また、上記従来
技術では、ヒータ電圧の制御により電子線線量を調整し
ているためエネルギ切換に時間がかかり、実用性に欠け
るという問題がある。本発明はかかる従来技術の問題に
鑑み、被照射物に照射される電子線線量を安定化し、表
面線量の変動を最小限に抑えることの出来る電子線均一
照射方法及びその装置の提供を目的とする。
来技術のように電子線照射装置の上流側で電流値を制御
しても、電子線照射部に至るまでの間に存在する種々の
装置による電流値の変動は避けられない。これは、グリ
ット電圧、クライストロン等の加速用電圧による電流値
の変動、また、冷却水ジャケットに供給される冷水の安
定度が低いための変動、さらに、該電子線照射装置に多
数備えつけられているステアリング磁石、収束磁石、走
査磁石等の磁石類による電流値の変動、等の一旦電流値
を設定した後に影響を与える様々な要因のために、電流
値の安定した制御は非常に困難である。また、上記従来
技術では、ヒータ電圧の制御により電子線線量を調整し
ているためエネルギ切換に時間がかかり、実用性に欠け
るという問題がある。本発明はかかる従来技術の問題に
鑑み、被照射物に照射される電子線線量を安定化し、表
面線量の変動を最小限に抑えることの出来る電子線均一
照射方法及びその装置の提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明はかかる
課題を解決するために、請求項１記載の発明は、電子銃
で生成されグリッド電圧により一定値に制御された電子
線を加速管、偏向磁石等を通過させた後、電子線照射部
より被照射物に照射する電子線均一照射方法において、
前記電子線照射部の直前の電流値を測定し、該測定され
た電流値の変動に応じて前記被照射物に照射される電子
線線量が一定となるように、前記被照射物を搬送する照
射コンベアの速度を制御することを特徴とする。
課題を解決するために、請求項１記載の発明は、電子銃
で生成されグリッド電圧により一定値に制御された電子
線を加速管、偏向磁石等を通過させた後、電子線照射部
より被照射物に照射する電子線均一照射方法において、
前記電子線照射部の直前の電流値を測定し、該測定され
た電流値の変動に応じて前記被照射物に照射される電子
線線量が一定となるように、前記被照射物を搬送する照
射コンベアの速度を制御することを特徴とする。
【０００９】かかる発明は、偏向磁石を通過した後、即
ち電子線照射部の直前にて測定した電流値に基づき、照
射コンベアの搬送速度を制御する方法で、最も被照射物
に近く電流測定可能な箇所にて電流値を測定することで
実際に被照射物に照射される表面線量が略確実に保障で
き、かつ予め定められた設定値に基づき照射コンベア速
度を制御することで、被照射物に適した電子線線量を無
駄なく照射することが出来る。従って、被照射物の安全
性が保証できるとともに、照射過多による劣化、着色等
の問題を防止できる。尚、照射コンベアは、電子線照射
領域下にて被照射物の搬送を行うコンベアで、電子線照
射部は、電子線を左右に走査する走査磁石とスキャンホ
ーンを指す。
ち電子線照射部の直前にて測定した電流値に基づき、照
射コンベアの搬送速度を制御する方法で、最も被照射物
に近く電流測定可能な箇所にて電流値を測定することで
実際に被照射物に照射される表面線量が略確実に保障で
き、かつ予め定められた設定値に基づき照射コンベア速
度を制御することで、被照射物に適した電子線線量を無
駄なく照射することが出来る。従って、被照射物の安全
性が保証できるとともに、照射過多による劣化、着色等
の問題を防止できる。尚、照射コンベアは、電子線照射
領域下にて被照射物の搬送を行うコンベアで、電子線照
射部は、電子線を左右に走査する走査磁石とスキャンホ
ーンを指す。
【００１０】また、前記請求項１の測定された電流値が
予め決められた基準値より大に変動した場合には前記照
射コンベア速度を増速させ、前記電流値が該基準値より
小に変動した場合には前記照射コンベア速度を減速させ
ることを特徴とする。夫々の被照射物に適した電子線線
量は、該被照射物の種類毎に決定されており、夫々の被
照射物に固有の必要線量の照射を実現させる為に、電流
値が諸々の要因により大に変動した場合には被照射物が
線量過多になってしまう為照射コンベア速度を増速させ
て単位面積当りの照射時間を短くし、逆に電流値が小に
変動した場合には照射コンベア速度を減速させ単位面積
当りの照射時間を長くして、被照射物への表面線量を一
定に保持する。これにより、電流値が変動した場合にお
いても、被照射物の表面線量を容易に安定させることが
出来る。
予め決められた基準値より大に変動した場合には前記照
射コンベア速度を増速させ、前記電流値が該基準値より
小に変動した場合には前記照射コンベア速度を減速させ
ることを特徴とする。夫々の被照射物に適した電子線線
量は、該被照射物の種類毎に決定されており、夫々の被
照射物に固有の必要線量の照射を実現させる為に、電流
値が諸々の要因により大に変動した場合には被照射物が
線量過多になってしまう為照射コンベア速度を増速させ
て単位面積当りの照射時間を短くし、逆に電流値が小に
変動した場合には照射コンベア速度を減速させ単位面積
当りの照射時間を長くして、被照射物への表面線量を一
定に保持する。これにより、電流値が変動した場合にお
いても、被照射物の表面線量を容易に安定させることが
出来る。
【００１１】また、請求項３記載の発明は、電子銃で生
成されグリッド電圧により一定値に制御された電子線を
加速管、偏向磁石等を通過させた後、電子線照射部より
被照射物に照射する電子線均一照射方法において、前記
電子線照射部の直前の電流値を測定し、前記被照射物に
照射される電子線線量が一定の基準値となるように、前
記測定された電流値の変動に応じてパルス繰返し周波数
を制御することを特徴とする。かかる発明は、請求項１
記載の発明と同様に、電子線照射部直前の電流値を測定
して安定性の非常に高い繰り返し周波数を制御すること
により、安定した線量を保障することが可能となる。
成されグリッド電圧により一定値に制御された電子線を
加速管、偏向磁石等を通過させた後、電子線照射部より
被照射物に照射する電子線均一照射方法において、前記
電子線照射部の直前の電流値を測定し、前記被照射物に
照射される電子線線量が一定の基準値となるように、前
記測定された電流値の変動に応じてパルス繰返し周波数
を制御することを特徴とする。かかる発明は、請求項１
記載の発明と同様に、電子線照射部直前の電流値を測定
して安定性の非常に高い繰り返し周波数を制御すること
により、安定した線量を保障することが可能となる。
【００１２】尚、請求項１、２若しくは３記載の電子線
照射方法において、前記被照射物の種類を予め記憶して
おき、前記電子線照射部の上流側で前記種類を判別して
該種類に応じて前記基準値を設定することを特徴とす
る。これは、かかる電子線照射装置にて処理される被照
射物の種類が複数であるとき、夫々の被照射物の種類毎
に予め決められた密度、照射方向長さ及び照射幅等の吸
収線量を決定する要因を予め測定して記憶しておき、前
記電子線照射部の上流側に位置センサ若しくは種別セン
サを設けることにより電子線照射部を通過する被照射物
の種類を判別して該種類に応じた基準値を設定すること
によって、複数の種類を有する被照射物にも対応できる
電子線均一照射装置が提供できる。
照射方法において、前記被照射物の種類を予め記憶して
おき、前記電子線照射部の上流側で前記種類を判別して
該種類に応じて前記基準値を設定することを特徴とす
る。これは、かかる電子線照射装置にて処理される被照
射物の種類が複数であるとき、夫々の被照射物の種類毎
に予め決められた密度、照射方向長さ及び照射幅等の吸
収線量を決定する要因を予め測定して記憶しておき、前
記電子線照射部の上流側に位置センサ若しくは種別セン
サを設けることにより電子線照射部を通過する被照射物
の種類を判別して該種類に応じた基準値を設定すること
によって、複数の種類を有する被照射物にも対応できる
電子線均一照射装置が提供できる。
【００１３】また、請求項５記載の発明は、前記電子線
照射部の上流側で、前記被照射物の種類を判別して、該
被照射物の幅に応じて前記基準値を満たす照射幅および
コンベア速度を設定して制御することを特徴とする。こ
れは、被照射物の種類によって照射幅を予め記憶させ
て、前記請求項４記載の発明と同様に位置センサ若しく
は種別センサにより検知する方法、若しくは前記電子線
照射部の上流側に前記被照射物の幅を測定する手段を設
け、これらにより被照射物の種類を判別し、照射幅を決
定するものである。決定された照射幅に基づき、前記基
準値を満たすようにコンベア速度を制御する。照射幅が
小に変動した場合には前記コンベア速度は増速され、前
記照射幅が大に変動した場合には前記コンベア速度は減
速される。これにより、電子線を無駄なく照射すること
が出来る。
照射部の上流側で、前記被照射物の種類を判別して、該
被照射物の幅に応じて前記基準値を満たす照射幅および
コンベア速度を設定して制御することを特徴とする。こ
れは、被照射物の種類によって照射幅を予め記憶させ
て、前記請求項４記載の発明と同様に位置センサ若しく
は種別センサにより検知する方法、若しくは前記電子線
照射部の上流側に前記被照射物の幅を測定する手段を設
け、これらにより被照射物の種類を判別し、照射幅を決
定するものである。決定された照射幅に基づき、前記基
準値を満たすようにコンベア速度を制御する。照射幅が
小に変動した場合には前記コンベア速度は増速され、前
記照射幅が大に変動した場合には前記コンベア速度は減
速される。これにより、電子線を無駄なく照射すること
が出来る。
【００１４】さらに、上記発明の好適な装置として、請
求項６記載の発明は、電子銃で生成されグリッド電圧に
より一定値に制御された電子線を加速管、偏向磁石等を
通過させた後、電子線照射部より被照射物に照射する電
子線均一照射装置において、前記電子線照射部の直前の
電流計測手段を設けるとともに、前記被照射物に照射さ
れる電子線線量が一定となるように、前記電流計測手段
により測定される電流値の変動に応じて前記被照射物を
搬送する照射コンベアの速度を制御する照射コンベア速
度制御手段を設けたことを特徴とする。
求項６記載の発明は、電子銃で生成されグリッド電圧に
より一定値に制御された電子線を加速管、偏向磁石等を
通過させた後、電子線照射部より被照射物に照射する電
子線均一照射装置において、前記電子線照射部の直前の
電流計測手段を設けるとともに、前記被照射物に照射さ
れる電子線線量が一定となるように、前記電流計測手段
により測定される電流値の変動に応じて前記被照射物を
搬送する照射コンベアの速度を制御する照射コンベア速
度制御手段を設けたことを特徴とする。
【００１５】また、請求項７記載の発明は、請求項６記
載の電子線均一照射装置であって、前記照射コンベアの
上流側に前記被照射物検知手段を設け、該検知手段によ
り判別された被照射物の種類と、前記電流計測手段によ
り測定された電流値とに基づき、前記照射コンベア速度
を制御することを特徴とする。かかる請求項６、７記載
の発明によれば、前記請求項１乃至５記載の発明と同様
の効果を得ることが出来る。
載の電子線均一照射装置であって、前記照射コンベアの
上流側に前記被照射物検知手段を設け、該検知手段によ
り判別された被照射物の種類と、前記電流計測手段によ
り測定された電流値とに基づき、前記照射コンベア速度
を制御することを特徴とする。かかる請求項６、７記載
の発明によれば、前記請求項１乃至５記載の発明と同様
の効果を得ることが出来る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施例を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例
に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相
対的配置等は特に特定的な記載がない限りは、この発明
の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例に
過ぎない。図１は本発明の実施形態にかかる電子線照射
装置の概略構成図で、１０は電子銃、１１は電子線加速
管、１２はステアリング磁石、１３は収束磁石、１４は
ビーム偏向部、１５は走査磁石、１６はスキャンホー
ン、２０は電流制御装置、２１はコンベア速度制御装
置、２２、２３、２４は電流計である。
適な実施例を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例
に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相
対的配置等は特に特定的な記載がない限りは、この発明
の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例に
過ぎない。図１は本発明の実施形態にかかる電子線照射
装置の概略構成図で、１０は電子銃、１１は電子線加速
管、１２はステアリング磁石、１３は収束磁石、１４は
ビーム偏向部、１５は走査磁石、１６はスキャンホー
ン、２０は電流制御装置、２１はコンベア速度制御装
置、２２、２３、２４は電流計である。
【００１７】本実施形態においては、電子線は１０Ｍｅ
Ｖの加速エネルギを用い、略２５ｋＷの高出力で被照射
物１８を滅菌処理する場合について記載するが、加速エ
ネルギ、出力等の数値は特に限定されない。かかる電子
線照射装置の基本構成は従来技術と略同様であり、カソ
ード、アノード及びグリッドからなる電子銃１０で生成
された電子線は、該電子銃１０と加速管１１との間に配
設された電流計２２により電流を測定し、該測定値を、
電流制御装置２０を介してフィードバックして前記グリ
ッドのグリッドパルス電圧を制御し、該電子銃１０から
は所定の電流値を保持した電子線が供給されるようにな
っている。
Ｖの加速エネルギを用い、略２５ｋＷの高出力で被照射
物１８を滅菌処理する場合について記載するが、加速エ
ネルギ、出力等の数値は特に限定されない。かかる電子
線照射装置の基本構成は従来技術と略同様であり、カソ
ード、アノード及びグリッドからなる電子銃１０で生成
された電子線は、該電子銃１０と加速管１１との間に配
設された電流計２２により電流を測定し、該測定値を、
電流制御装置２０を介してフィードバックして前記グリ
ッドのグリッドパルス電圧を制御し、該電子銃１０から
は所定の電流値を保持した電子線が供給されるようにな
っている。
【００１８】そして、前記電子銃１０より出射された電
子線は加速管１１に導入される。該加速管１１は、複数
の空洞（バンチャ）が直列状に連接されるとともに、電
子線を任意長さに掃引及び収束するためのステアリング
磁石、集束磁石がその周囲に配列されている。前記加速
管１１には不図示のクライストロンから高周波電界が導
入され、電磁場を励起し、加速管１１内に導入された電
子線は前記電磁場により加速する。尚、加速管１１外壁
には冷却ジャケットが設けられ冷却水を流す構造とし、
発熱による加速管ひずみを最小に抑えている。加速した
電子線はビーム偏向部１４に入射し、該ビーム偏向部１
４内に配設された複数の偏向磁石により所定方向に偏向
された後、扁平扇形の真空容器からなるスキャンホーン
１６により被照射物へ照射される。
子線は加速管１１に導入される。該加速管１１は、複数
の空洞（バンチャ）が直列状に連接されるとともに、電
子線を任意長さに掃引及び収束するためのステアリング
磁石、集束磁石がその周囲に配列されている。前記加速
管１１には不図示のクライストロンから高周波電界が導
入され、電磁場を励起し、加速管１１内に導入された電
子線は前記電磁場により加速する。尚、加速管１１外壁
には冷却ジャケットが設けられ冷却水を流す構造とし、
発熱による加速管ひずみを最小に抑えている。加速した
電子線はビーム偏向部１４に入射し、該ビーム偏向部１
４内に配設された複数の偏向磁石により所定方向に偏向
された後、扁平扇形の真空容器からなるスキャンホーン
１６により被照射物へ照射される。
【００１９】かかる実施形態では、電子線照射装置に配
設される複数の電流計２２、２３、２４のうち、最も照
射部に近い電流計２４の電流測定値をコンベア速度制御
装置２１へ導き、照射コンベアの速度制御を行う手段を
設けており、前記測定値に略比例するようにコンベア速
度を制御している。例えば、前記電流計２４の測定値
が、予め定められた夫々の被照射物の必要線量を確保す
るための基準の電流値に満たない場合には、コンベア速
度制御装置２１によりコンベア速度を減速させ、一方、
電流計２４の測定値が設定された基準値より大に変動し
た場合にはコンベア速度を増速させて、被照射物に照射
される電子線線量を一定に保つ。
設される複数の電流計２２、２３、２４のうち、最も照
射部に近い電流計２４の電流測定値をコンベア速度制御
装置２１へ導き、照射コンベアの速度制御を行う手段を
設けており、前記測定値に略比例するようにコンベア速
度を制御している。例えば、前記電流計２４の測定値
が、予め定められた夫々の被照射物の必要線量を確保す
るための基準の電流値に満たない場合には、コンベア速
度制御装置２１によりコンベア速度を減速させ、一方、
電流計２４の測定値が設定された基準値より大に変動し
た場合にはコンベア速度を増速させて、被照射物に照射
される電子線線量を一定に保つ。
【００２０】このように構成することで、電子線が生成
されてから出射されるまでに電流値の変動があった場合
にも、コンベア速度を制御することによって一定の線量
を保障することが出来、無駄のない電子線照射処理が可
能となる。また、電子線照射部に最も近い部分で電流計
測を行い、照射コンベア速度の制御により線量を一定に
保持する構造であるため、安定性が非常に高い。
されてから出射されるまでに電流値の変動があった場合
にも、コンベア速度を制御することによって一定の線量
を保障することが出来、無駄のない電子線照射処理が可
能となる。また、電子線照射部に最も近い部分で電流計
測を行い、照射コンベア速度の制御により線量を一定に
保持する構造であるため、安定性が非常に高い。
【００２１】尚、前記電流計２４で測定された電流値に
基づきパルス繰り返し周波数を制御することも可能であ
る。電子線の出射されるパルス繰り返し周波数は非常に
安定性が高いため、該周波数を制御することによって、
上記したコンベア速度制御と同様な効果を得ることが出
来る。
基づきパルス繰り返し周波数を制御することも可能であ
る。電子線の出射されるパルス繰り返し周波数は非常に
安定性が高いため、該周波数を制御することによって、
上記したコンベア速度制御と同様な効果を得ることが出
来る。
【００２２】また、夫々の被照射物の種類（密度、照射
方向長さ等）を予め記憶させ、若しくは測定し、照射領
域下に搬送されてきた被照射物に応じて線量を変動させ
ることも可能である。これは、照射コンベアの上流側
に、被照射物の形状、大きさ及び密度等を計測する手段
を設けるか、これらの特性を予め記憶させておき、セン
サにより判別する手段を設けるなどして、電子線照射領
域下に搬送されてくる被照射物の形状、大きさ及び密度
から被照射物の種類を判別し、被照射物の種類毎に必要
線量を決定し、前記電流計２４にて計測される電流値を
基にコンベア速度若しくはパルス繰り返し周波数を調整
することによって、必要線量を安定して照射することが
できるように構成したものである。コンベア速度及びパ
ルス繰り返し周波数の制御は切換が速く安定している
為、被照射物の変化に応じて迅速に必要線量を照射する
ことができる。
方向長さ等）を予め記憶させ、若しくは測定し、照射領
域下に搬送されてきた被照射物に応じて線量を変動させ
ることも可能である。これは、照射コンベアの上流側
に、被照射物の形状、大きさ及び密度等を計測する手段
を設けるか、これらの特性を予め記憶させておき、セン
サにより判別する手段を設けるなどして、電子線照射領
域下に搬送されてくる被照射物の形状、大きさ及び密度
から被照射物の種類を判別し、被照射物の種類毎に必要
線量を決定し、前記電流計２４にて計測される電流値を
基にコンベア速度若しくはパルス繰り返し周波数を調整
することによって、必要線量を安定して照射することが
できるように構成したものである。コンベア速度及びパ
ルス繰り返し周波数の制御は切換が速く安定している
為、被照射物の変化に応じて迅速に必要線量を照射する
ことができる。
【００２３】
【発明の効果】以上記載のごとく本発明によれば、電子
線照射部に最も近い位置に電流計を配設し、該電流計の
測定値に基づき照射コンベア速度若しくはパルス繰り返
し周波数を制御するため、被照射物に照射される電子線
線量を安定化し、表面線量の変動を最小限に抑えること
ができる。また、夫々の被照射物に適した線量を無駄な
く照射することができ、また、制御が容易であるため被
照射物が変化しても随時対応することが可能である。
線照射部に最も近い位置に電流計を配設し、該電流計の
測定値に基づき照射コンベア速度若しくはパルス繰り返
し周波数を制御するため、被照射物に照射される電子線
線量を安定化し、表面線量の変動を最小限に抑えること
ができる。また、夫々の被照射物に適した線量を無駄な
く照射することができ、また、制御が容易であるため被
照射物が変化しても随時対応することが可能である。
【図１】 本発明の実施形態にかかる電子線照射装置の
概略構成図である。
概略構成図である。
【図２】 従来の電子線照射装置の実施形態を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図３】 電子線照射装置の全体の概略を示す構成図で
ある。
ある。
１０ 電子銃
１１ 加速管
１２ ステアリング磁石
１３ 収束磁石
１４ ビーム偏向部
１５ 走査磁石
１６ スキャンホーン
１７ 照射コンベア
１８ 被照射物
２０ 電流制御装置
２１ コンベア速度制御装置
２２、２３、２４ 電流計
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ２１Ｋ 5/04 Ｇ２１Ｋ 5/04 Ｃ
Ｅ
Claims (7)
- 【請求項１】 電子銃で生成されグリッド電圧により一
定値に制御された電子線を加速管、偏向磁石等を通過さ
せた後、電子線照射部より被照射物に照射する電子線均
一照射方法において、 前記電子線照射部の直前の電流値を測定し、該測定され
た電流値の変動に応じて前記被照射物に照射される電子
線線量が一定の基準値となるように、前記被照射物を搬
送する照射コンベアの速度を制御することを特徴とする
電子線均一照射方法。 - 【請求項２】 前記測定された電流値が予め決められた
基準値より大に変動した場合には前記照射コンベア速度
を増速させ、前記電流値が該基準値より小に変動した場
合には前記照射コンベア速度を減速させることを特徴と
する請求項１記載の電子線均一照射方法。 - 【請求項３】 電子銃で生成されグリッド電圧により一
定値に制御された電子線を加速管、偏向磁石等を通過さ
せた後、電子線照射部より被照射物に照射する電子線均
一照射方法において、 前記電子線照射部の直前の電流値を測定し、前記被照射
物に照射される電子線線量が一定の基準値となるよう
に、前記測定された電流値の変動に応じてパルス繰返し
周波数を制御することを特徴とする電子線均一照射方
法。 - 【請求項４】 前記被照射物の種類を予め記憶してお
き、前記電子線照射部の上流側で前記種類を判別して該
種類に応じて前記基準値を設定することを特徴とする請
求項１、２若しくは３の何れかに記載の電子線均一照射
方法。 - 【請求項５】 前記電子線照射部の上流側で、前記被照
射物の種類を判別して、該被照射物の幅に応じて前記基
準値を満たす照射幅およびコンベア速度を設定して制御
することを特徴とする請求項１、２若しくは３の何れか
に記載の電子線均一照射方法。 - 【請求項６】 電子銃で生成されグリッド電圧により一
定値に制御された電子線を加速管、偏向磁石等を通過さ
せた後、電子線照射部より被照射物に照射する電子線均
一照射装置において、 前記電子線照射部の直前の電流計測手段を設けるととも
に、前記被照射物に照射される電子線線量が一定となる
ように、前記電流計測手段により測定される電流値の変
動に応じて前記被照射物を搬送する照射コンベアの速度
を制御する照射コンベア速度制御手段を設けたことを特
徴とする電子線均一照射装置。 - 【請求項７】 前記照射コンベアの上流側に前記被照射
物検知手段を設け、該検知手段により判別された被照射
物の種類と、前記電流計測手段により測定された電流値
とに基づき、前記照射コンベア速度を制御することを特
徴とする請求項６記載の電子線均一照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001354482A JP2003156600A (ja) | 2001-11-20 | 2001-11-20 | 電子線均一照射方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001354482A JP2003156600A (ja) | 2001-11-20 | 2001-11-20 | 電子線均一照射方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003156600A true JP2003156600A (ja) | 2003-05-30 |
Family
ID=19166335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001354482A Pending JP2003156600A (ja) | 2001-11-20 | 2001-11-20 | 電子線均一照射方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003156600A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007126168A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電子線殺菌システム |
| JP2012017148A (ja) * | 2011-08-26 | 2012-01-26 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電子線殺菌システム |
| EP2492202A1 (de) | 2008-08-30 | 2012-08-29 | Krones AG | Elektronenstrahlsterilisation für Behältnisse |
| WO2017199413A1 (ja) * | 2016-05-20 | 2017-11-23 | 澁谷工業株式会社 | 果菜の殺菌方法およびその装置 |
| CN113470848A (zh) * | 2021-07-12 | 2021-10-01 | 中国原子能科学研究院 | 辐照系统及利用辐照系统杀菌的方法 |
| CN113470854A (zh) * | 2021-07-12 | 2021-10-01 | 中国原子能科学研究院 | 辐照装置及利用其进行杀菌处理的方法 |
| CN113692101A (zh) * | 2020-05-19 | 2021-11-23 | 四川智研科技有限公司 | 一种紧凑型电子加速器 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS55133800A (en) * | 1979-04-04 | 1980-10-17 | Mitsubishi Electric Corp | Radiation generator |
| JPH0572398A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-26 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線照射装置 |
| JPH095498A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-10 | Toshiba Corp | 電子線照射装置 |
| JPH11169438A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 電子線照射装置 |
-
2001
- 2001-11-20 JP JP2001354482A patent/JP2003156600A/ja active Pending
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| CN113692101B (zh) * | 2020-05-19 | 2023-06-16 | 四川智研科技有限公司 | 一种紧凑型电子加速器 |
| CN113470848A (zh) * | 2021-07-12 | 2021-10-01 | 中国原子能科学研究院 | 辐照系统及利用辐照系统杀菌的方法 |
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Legal Events
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| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040527 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051227 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060113 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060512 |