JP2003145911A - 画像記録体、偽変造防止用カード及び画像記録体の製造方法、偽変造防止用カードの製造方法 - Google Patents
画像記録体、偽変造防止用カード及び画像記録体の製造方法、偽変造防止用カードの製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 35
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 540
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 230
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 230
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 152
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 106
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 181
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 105
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 66
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 62
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 55
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 33
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 26
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 38
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 71
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 70
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 62
- 239000010408 film Substances 0.000 description 56
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 51
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 48
- 230000008859 change Effects 0.000 description 44
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 41
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 37
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 24
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 23
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 20
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 18
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 18
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 17
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 17
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 16
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 15
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 15
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 15
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 14
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 13
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 13
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 12
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 12
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 12
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 12
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 11
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 11
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 11
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical class C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 10
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 238000013461 design Methods 0.000 description 10
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 10
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 10
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 9
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 9
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 8
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 7
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 7
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 6
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 6
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 6
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 5
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 5
- CGPRUXZTHGTMKW-UHFFFAOYSA-N ethene;ethyl prop-2-enoate Chemical class C=C.CCOC(=O)C=C CGPRUXZTHGTMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 5
- 229920006244 ethylene-ethyl acrylate Polymers 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 5
- 230000003578 releasing effect Effects 0.000 description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 5
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 5
- RUVINXPYWBROJD-ONEGZZNKSA-N trans-anethole Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C)C=C1 RUVINXPYWBROJD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 5
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 5
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 4
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 4
- 229920005996 polystyrene-poly(ethylene-butylene)-polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 3
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920002742 polystyrene-block-poly(ethylene/propylene) -block-polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- PDEDQSAFHNADLV-UHFFFAOYSA-M potassium;disodium;dinitrate;nitrite Chemical compound [Na+].[Na+].[K+].[O-]N=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PDEDQSAFHNADLV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 238000012552 review Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIVGSHFYXPRRSZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=CC(C=O)=C1OC JIVGSHFYXPRRSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNKZMNRKLCTJAY-UHFFFAOYSA-N 4'-Methylacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C)C=C1 GNKZMNRKLCTJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 2
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 2
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHZOMAXECYYXGP-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-2-enoic acid Chemical compound C=C.OC(=O)C=C QHZOMAXECYYXGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N (+)-Neomenthol Chemical compound CC(C)[C@@H]1CC[C@@H](C)C[C@@H]1O NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N 0.000 description 1
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N (R)-camphor Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N 0.000 description 1
- UUGXDEDGRPYWHG-UHFFFAOYSA-N (dimethylamino)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)COC(=O)C(C)=C UUGXDEDGRPYWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFHJVPPSSIRMSG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)C(Cl)OC=C RFHJVPPSSIRMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWWWGBSUPNNTMJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1OC=C TWWWGBSUPNNTMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEBJBOQKIXHSOE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(OC=C)C=C1 PEBJBOQKIXHSOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXHRYLHTQVXZIK-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(OC=C)C=C1 YXHRYLHTQVXZIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFTANRQHHUQOIH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-10h-phenothiazine Chemical compound S1C2=CC=CC=C2NC2=C1C=CC=C2C=C WFTANRQHHUQOIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOCDJQSAMZARGX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrolidine-2,5-dione Chemical compound C=CN1C(=O)CCC1=O VOCDJQSAMZARGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSMSSYSRCUNIFX-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-prop-1-enylbenzene Chemical compound CC=CC1=CC=C(C)C=C1 LSMSSYSRCUNIFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical group C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOCCOC(=O)C=C FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLPJVCMIKUWSDR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-formylphenoxy)acetamide Chemical compound NC(=O)COC1=CC=C(C=O)C=C1 FLPJVCMIKUWSDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C=C PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTHQFVMSQQIXHI-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-3-methylbutane Chemical compound CC(C)C(C)OC=C FTHQFVMSQQIXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSSICPJTIPBTDD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1h-indole Chemical compound C1=CC=C2NC(C=C)=CC2=C1 LSSICPJTIPBTDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZNSQRLUUXWLSB-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1h-pyrrole Chemical compound C=CC1=CC=CN1 MZNSQRLUUXWLSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGDLZDCWMRPMGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(C=C)C(=O)C2=C1 IGDLZDCWMRPMGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIMMUPPBPVKWKM-UHFFFAOYSA-N 2-methylnaphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC(C)=CC=C21 QIMMUPPBPVKWKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- MCGROFKAAXXTBN-VIZOYTHASA-N 3,5-dihydroxy-N-[(E)-(4-hydroxy-3-nitrophenyl)methylideneamino]benzamide Chemical compound C1=CC(=C(C=C1/C=N/NC(=O)C2=CC(=CC(=C2)O)O)[N+](=O)[O-])O MCGROFKAAXXTBN-VIZOYTHASA-N 0.000 description 1
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical class C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYCBPQPFMHUATH-UHFFFAOYSA-N 4-(oxiran-2-ylmethoxy)butan-1-ol Chemical compound OCCCCOCC1CO1 CYCBPQPFMHUATH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical class NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWECIALIVCBERQ-UHFFFAOYSA-N C#C.CCOC(=O)C=C Chemical compound C#C.CCOC(=O)C=C GWECIALIVCBERQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004380 Cholic acid Substances 0.000 description 1
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 1
- NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N DL-menthol Natural products CC(C)C1CCC(C)CC1O NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- 101000999373 Homo sapiens Interferon-related developmental regulator 2 Proteins 0.000 description 1
- 101000607626 Homo sapiens Ubiquilin-1 Proteins 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- 102100036480 Interferon-related developmental regulator 2 Human genes 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N TEPP Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OP(=O)(OCC)OCC IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 102100039934 Ubiquilin-1 Human genes 0.000 description 1
- 229920002978 Vinylon Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- QROGIFZRVHSFLM-QHHAFSJGSA-N [(e)-prop-1-enyl]benzene Chemical compound C\C=C\C1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-QHHAFSJGSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001361 allenes Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- BTFJIXJJCSYFAL-UHFFFAOYSA-N arachidyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO BTFJIXJJCSYFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 1
- 150000008107 benzenesulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000001518 benzyl (E)-3-phenylprop-2-enoate Substances 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGHOLYJTSCBCGC-QXMHVHEDSA-N benzyl cinnamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C/C(=O)OCC1=CC=CC=C1 NGHOLYJTSCBCGC-QXMHVHEDSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N bis[(3-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl] hexanedioate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1C LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 1
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940074979 cetyl palmitate Drugs 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 229910001914 chlorine tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- NGHOLYJTSCBCGC-UHFFFAOYSA-N cis-cinnamic acid benzyl ester Natural products C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 NGHOLYJTSCBCGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LFSBSHDDAGNCTM-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+);oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Co+2] LFSBSHDDAGNCTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- VPNOHCYAOXWMAR-UHFFFAOYSA-N docosan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCN VPNOHCYAOXWMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N ethene;styrene Chemical group C=C.C=CC1=CC=CC=C1 BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006226 ethylene-acrylic acid Polymers 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- BQZUWRFWNUWCTC-UHFFFAOYSA-M fluoroantimony Chemical compound [Sb]F BQZUWRFWNUWCTC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000011086 glassine Substances 0.000 description 1
- BEBCJVAWIBVWNZ-UHFFFAOYSA-N glycinamide Chemical compound NCC(N)=O BEBCJVAWIBVWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- PXDJXZJSCPSGGI-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid hexadecyl ester Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC PXDJXZJSCPSGGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229940041616 menthol Drugs 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012170 montan wax Substances 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSGQWDHZUIZVCR-UHFFFAOYSA-N n-but-3-enylacetamide Chemical compound CC(=O)NCCC=C DSGQWDHZUIZVCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUIIRPAMGBRKCV-UHFFFAOYSA-N n-ethenyl-n-phenylacetamide Chemical compound CC(=O)N(C=C)C1=CC=CC=C1 WUIIRPAMGBRKCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 235000019809 paraffin wax Nutrition 0.000 description 1
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IBBMAWULFFBRKK-UHFFFAOYSA-N picolinamide Chemical class NC(=O)C1=CC=CC=N1 IBBMAWULFFBRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005651 polypropylene glycol dimethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920005553 polystyrene-acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052959 stibnite Inorganic materials 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical compound S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- 229920006346 thermoplastic polyester elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1 GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012141 vanillin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
性、表面保護層との密着性などを両立する。 【解決手段】基材上に、フォーマット印刷からなる情報
坦持体、鱗片顔料を含む印刷パターン層を有する画像記
録体において、前記鱗片顔料を含む印刷パターン層は、
複数層を有し、かつ隣接する層の面積が異なるように形
成されている。また、基材上に、フォーマット印刷から
なる情報坦持体、鱗片顔料を含む印刷パターン層を有す
る画像記録体において、少なくとも1層の透明樹脂層を
有し、この透明樹脂層が、鱗片顔料を含む印刷パターン
層の全面或いは一部に重なるように形成されている。ま
た、基材上に、フォーマット印刷からなる情報坦持体、
鱗片顔料を含む印刷パターン層を有する画像記録体にお
いて、前記画像記録体上の前記鱗片顔料を含む印刷パタ
ーン層の総面積率が20%以上である。
Description
等の安全性(セキュリティ)が要求される個人情報等を
記憶する接触式又は非接触式の電子または磁気等のカー
ド、あるいはシートに適用して好適な画像記録体、偽変
造防止用カード及び画像記録体の製造方法、偽変造防止
用カードの製造方法に関する。
等のサービス産業分野では、接触式又は非接触式の電子
または磁気等のカードを発行する場合が多くなってき
た。これらの分野で使用されるキャッシュカード、従業
者証、社員証、会員証、学生証、外国人登録証及び各種
免許証等には個人情報が記録されるために、容易に偽
造、変造できないようにセキュリティ処理が施されてい
る。
度によって色が変化する色変化印刷層を設ける偽造防止
技術が普及してきている。このような色変化印刷層は、
例えば、パールインキなどのように、見る角度によって
色が変化する色変化インキで印刷して形成されている。
このような色が変化するインキは、光を多重反射する顔
料を含んでおり、その顔料で反射した光の干渉によっ
て、角度により色が変化して見える。
刷パターン層として形成されるが、偽変造を防止するた
めには、この色変化印刷層に隣接して、顔画像や氏名、
住所、発行日などの文字情報を記録されることが必要で
ある。というのは、記録情報を改変しようとした場合に
は、この印刷パターン層も改変せざるを得ないようにし
なければならないからである。
を携帯する場合に、湾曲して長時間所持されたり、極端
に屈曲されたりすると、印刷パターン層に亀裂が生じた
り、基材からはがれてしまうという曲げ耐性の問題があ
り、見かけ上改変しているように見え実技上問題であっ
た。
化を鮮明にするために、鱗片顔料を含んだ印刷パターン
層をある程度厚く形成した場合には、この曲げ耐性の問
題が大きく、前記問題以外に保護層との密着性が劣化し
てしまう問題も生じる。このような問題を解決するため
に、印刷パターン層を薄くすると、亀裂の発生や、はが
れ、保護層密着性は良くなるが、発色性は悪くなり、色
変化も鮮明に見えず、真偽判別性が劣化するという問題
があった。
あって、曲げ耐性、偽変造防止性、真偽判別性、印字
性、表面保護層との密着性などを両立する画像記録体、
偽変造防止用カード及び画像記録体の製造方法、偽変造
防止用カードの製造方法を提供することを目的としてい
る。
目的を達成するために、この発明は、以下のように構成
した。
ォーマット印刷からなる情報坦持体、鱗片顔料を含む印
刷パターン層を有する画像記録体において、前記鱗片顔
料を含む印刷パターン層は、複数層を有し、かつ隣接す
る層の面積が異なるように形成されていることを特徴と
する画像記録体。』である。
顔料を含む印刷パターン層が複数層を有し、かつ隣接す
る層の面積が異なるように形成されていることで、曲げ
耐性、偽変造防止性を向上することができる。
ーン層は、基材側から最外層が、印刷パターン層の中で
最も大きい面積であり、下層が外部にはみ出さないよう
に覆うように構成されていることを特徴とする請求項1
に記載の画像記録体。』である。
パターン層は、下層が外部にはみ出さないように覆うよ
うに構成されていることで、はがれが防止でき、かつ曲
げ耐性が向上する。
ォーマット印刷からなる情報坦持体、鱗片顔料を含む印
刷パターン層を有する画像記録体において、少なくとも
1層の透明樹脂層を有し、この透明樹脂層が、鱗片顔料
を含む印刷パターン層の全面或いは一部に重なるように
形成されていることを特徴とする請求項1または請求項
2に記載の画像記録体。』である。
樹脂層が、鱗片顔料を含む印刷パターン層の全面或いは
一部に重なるように形成されていることで、曲げ耐性、
偽変造防止性が向上する。
ニットを具備する多色オフセット印刷機によって、請求
項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の画像記録体の
印刷パターン層と、透明樹脂層を形成することを特徴と
する画像記録体の製造方法。』である。
オフセット印刷機で印刷パターン層と透明樹脂層を印刷
によって形成することができる。
層の印刷パターン層を設けた後に、印刷パターン層を印
刷しない印刷ユニットを通して透明樹脂層を形成し、か
つ前記印刷ユニットのブランケット胴と圧胴間の印圧が
通常の1.5倍以上の印圧であることを特徴とする請求
項4に記載の画像記録体の製造方法。』である。
ユニットのブランケット胴と圧胴間の印圧が通常の1.
5倍以上の印圧であることで、曲げ耐性を向上でき、か
つ平滑面となり印字性が向上する。
5倍以上の印刷ユニットで透明樹脂層を形成することを
特徴とする請求項5に記載の画像記録体の製造方法。』
である。
1.5倍以上の印刷ユニットで透明樹脂層を平滑面とす
ることができ、曲げ耐性及び印字性が向上する。
ォーマット印刷からなる情報坦持体、鱗片顔料を含む印
刷パターン層を有する画像記録体において、前記画像記
録体上の前記鱗片顔料を含む印刷パターン層の総面積率
が20%以上であることを特徴とする画像記録体。』で
ある。
記録体上の鱗片顔料を含む印刷パターン層の総面積率が
20%以上であり、偽変造防止性、真偽判別性を向上す
ることができる。
請求項3のいずれか1項に記載の画像記録体上の鱗片顔
料を含む印刷パターン層の総面積率が20%以上である
ことを特徴とする画像記録体。』である。
項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の画像記録体上
の鱗片顔料を含む印刷パターン層の総面積率が20%以
上であることで、より一層、偽変造防止性、真偽判別性
を向上することができる。
請求項8のいずれか1項に記載の画像記録体上に、光ま
たは熱硬化可能な透明樹脂層を塗布し、次いで露光され
表面保護されていることを特徴とする偽変造防止用カー
ドの製造方法。』である。
たは熱硬化可能な透明樹脂層を塗布し、次いで露光され
表面保護されることで、印刷パターン層に亀裂が生じた
り、はがれることが防止でき、保護層密着性が向上す
る。
至請求項8のいずれか1項に記載の画像記録体上に、少
なくとも離型層、透明樹脂層を有する支持体上からなる
転写箔を少なくとも1回以上熱転写し表面保護されてい
ることを特徴とする偽変造防止用カードの製造方法。』
である。
写箔を少なくとも1回以上熱転写して表面保護されるこ
とで、印刷パターン層に亀裂が生じたり、はがれること
が防止でき、保護層密着性が向上する。
たは請求項10に記載の偽変造防止用カードの製造方法
で製造され、画像記録体に個人情報として顔画像、住
所、名前、生年月日等の個人情報が記載してあることを
特徴とする偽変造防止用カード。』である。
像記録体に個人情報として顔画像、住所、名前、生年月
日等の個人情報が記載してあり、従業者証、社員証、会
員証、学生証、外国人登録証及び各種免許証等とするこ
とができる。
受像層を有し、フォーマット印刷からなる情報坦持体、
鱗片顔料を含む印刷パターン層を有する画像記録体にお
いて、前記鱗片顔料を含む印刷パターン層が、鱗片顔
料、活性光線硬化樹脂、活性光線非硬化性でかつ熱移行
性化合物を含む印刷パターン層であることを特徴とする
画像記録体。』である。
片顔料を含む印刷パターン層が、鱗片顔料、活性光線硬
化樹脂、活性光線非硬化性でかつ熱移行性化合物を含む
印刷パターン層であり、亀裂の発生や、はがれを防止で
き、偽変造防止性、真偽判別性を向上することができ
る。
録体に、支持体上に、離型層、硬化層、接着層を有する
転写箔を重ね、加熱加圧して接着させるとともに、熱移
行性化合物を受像層及び接着層側に移行させた後、前記
支持体を剥がして転写層を転写することを特徴とする偽
変造防止用カードの製造方法。』である。
写箔を用いることで、亀裂の発生や、はがれを防止で
き、偽変造防止性、真偽判別性を向上する偽変造防止用
カードを製造することができる。
に記載の画像記録体に、耐熱性ベースを介して少なくと
も印刷パターン層の部分を加熱加圧処理することを特徴
とする画像記録体の製造方法。』である。
熱性ベースを介して印刷パターン層の部分を加熱加圧処
理することで、はがれを防止でき、偽変造防止性、真偽
判別性を向上する偽変造防止用カードを製造することが
できる。
ベースの片面には熱移行性化合物受容層が設けられてい
ることを特徴とする請求項14に記載の画像記録体の製
造方法。』である。
熱性ベースの片面には熱移行性化合物受容層が設けられ
ていることで、はがれを防止でき、偽変造防止性、真偽
判別性を向上する偽変造防止用カードを製造することが
できる。
または請求項15に記載の画像記録体上に、光または熱
硬化可能な樹脂層を塗布し、次いで露光され表面保護さ
れていることを特徴とする偽変造防止用カードの製造方
法。』である。
または熱硬化可能な樹脂層を塗布し、次いで露光され表
面保護されることで、印刷パターン層に亀裂が生じた
り、はがれることが防止でき、保護層密着性が向上す
る。
至請求項8のいずれか1項に記載の画像記録体上に、少
なくとも離型層、透明樹脂層を有する支持体上からなる
転写箔を少なくとも1回以上熱転写したことを特徴とす
る偽変造防止用カードの製造方法。』である。
写箔を少なくとも1回以上熱転写して、良好な偽変造防
止用カードを製造することができる。
2、請求項14または請求項15のいずれか1項に記載
の画像記録体に個人情報として顔画像、住所、名前、生
年月日等の個人情報が記載してあることを特徴とする偽
変造防止用カード。』である。
像記録体に個人情報として顔画像、住所、名前、生年月
日等の個人情報が記載してあり、従業者証、社員証、会
員証、学生証、外国人登録証及び各種免許証等とするこ
とができる。
変造防止用カード及び画像記録体の製造方法、偽変造防
止用カードの製造方法の実施の形態について説明する
が、この発明は、この実施の形態に限定されない。
(a)は偽変造防止用カードの平面図、図1(b)は偽
変造防止用カードの層構成図である。
に、受像層2を有し、この受像層2上に、フォーマット
印刷からなる情報坦持体3及び画像4を有し、さらに情
報坦持体3上に鱗片顔料を含む印刷パターン層5を有す
る。
層を有し、かつ隣接する層の面積が異なるように形成さ
れている。この印刷パターン層5は、基材側から最外層
が、印刷パターン層の中で最も大きい面積であり、下層
が外部にはみ出さないように覆うように構成されてい
る。
この透明樹脂層6が、鱗片顔料を含む印刷パターン層5
の全面或いは一部に重なるように形成されている。
具備する多色オフセット印刷機によって、鱗片顔料を含
む印刷パターン層5と、透明樹脂層6を形成する。印刷
パターン層5を設けた後に、印刷パターン層5を印刷し
ない印刷ユニットを通して透明樹脂層6を形成する。
硬化可能な透明樹脂層6を塗布し、次いで露光され表面
保護されている。
に、少なくとも離型層、透明樹脂層を有する支持体から
なる転写箔7を用いて、透明樹脂層を少なくとも1回以
上熱転写して表面保護するようにしてもよい。
像、住所、名前、生年月日等の個人情報を記載すること
で、偽変造防止用カードが製造される。
3に示すように、鱗片顔料を含む印刷パターン層5が、
鱗片顔料、活性光線硬化樹脂、活性光線非硬化性でかつ
熱移行性化合物を含む印刷パターン層である。
型層、硬化層、接着層を有する転写箔8を重ね、加熱加
圧して接着させるとともに、熱移行性化合物を受像層及
び接着層側に移行させた後、支持体を剥がして転写層を
転写する。また、画像記録体に、耐熱性ベースを介して
少なくとも印刷パターン層5の部分を加熱加圧処理す
る。この耐熱性ベースの片面には熱移行性化合物受容層
が設けられている。
硬化可能な透明樹脂層6を塗布し、次いで露光され表面
保護されている。
層、透明樹脂層を有する支持体からなる転写箔7を用
い、透明樹脂層を少なくとも1回以上熱転写して表面保
護するようにしてもよい。この画像記録体に、個人情報
として顔画像、住所、名前、生年月日等の個人情報を記
載することで、偽変造防止用カードが製造される。 <画像記録体基材>画像記録体とは、フォーマット印刷
されている画像記録体形成材料基材を表す。 <支持体>支持体としては、例えば紙、コート紙、およ
び合成紙(ポリプロピレン、ポリスチレンもしくは、そ
れらを紙とはり合せた複合材料)等の各種紙類、白色ま
たは透明の塩化ビニル系樹脂シート、白色のポリエチレ
ンテレフタレートベースフィルム、透明のポリエチレン
テレフタレートベースフィルム、ポリエチレンナフタレ
ートベースフィルム等の各種プラスチックフィルムない
しシート、各種の金属で形成されたフィルムないしシー
ト、各種のセラミックス類で形成されたフィルムないし
シート等を挙げることができる。
多層構造を有していてもよい。この発明では、支持体中
に蛍光物質を含有させることができる。また、支持体中
には後の工程で形成される画像の鮮明性を高めるため
に、予め白色顔料例えばチタンホワイト、炭酸マグネシ
ウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレ
ー、炭酸カルシウム等が添加されているのが好ましい。
のIDカードとするのであれば、支持体を、前記白色顔
料と後述する塩化ビニル系樹脂との組成物からなるシー
トもしくはフィルムで構成するのが一般的である。
層との積層体として構成するときには、その支持体の厚
みは通常100〜1,000μm、好ましくは100〜
800μmである。
イン、ICメモリ、光メモリ、磁気記録層、他の印刷等
を設けることができる。
受像層、クッション層を設けてもよい。個人認証カード
基体表面には画像要素が設けられ、顔画像等の認証識別
画像、属性情報画像、フォーマット印刷から選ばれる少
なくとも一つが設けられたものであってもよく、また全
く印刷部分のないホワイトカードであってもよい。
たものが使用できる。 <受像層>前記支持体の表面に形成する受像層は、バイ
ンダーと各種の添加剤で形成することができる。
方式により階調情報含有画像を形成すると共に、昇華型
熱転写方式または溶融型熱転写方式により文字情報含有
画像を形成するので、昇華性色素の染着性、または昇華
性色素の染着性とともに熱溶融性インクの接着性も良好
でなければならない。かかる特別な性質を受像層に付与
するには、後述するように、バインダー、および各種の
添加剤の種類およびそれらの配合量を適宜に調整するこ
とが必要である。
する。
は、通常に知られている昇華型感熱転写記録受像層用の
バインダーを適宜に用いることができる。主なバインダ
ーとしては、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブ
チラール系樹脂などさまざまのバインダーを使用するこ
とができる。
につき、実際的要求(例えば発行されるIDカードに所
定の耐熱性が要求されるなど)が存在するのであれば、
そのような要求項目を満たすようにバインダーの種類あ
るいは組み合わせを考慮することが必要になる。画像の
耐熱性を例にすると、60℃以上の耐熱性が要求される
のであれば、昇華性色素のにじみを考慮して、Tgが6
0℃以上であるバインダーを使用するのが好ましい。
応じて、例えば金属イオン含有化合物を含有させるのが
好ましい場合がある。特に熱移行性化合物がこの金属イ
オン含有化合物と反応してキレートを形成する場合であ
る。
イオンとしては、例えば周期律表の第I・第VIII族
に属する2価および多価の金属が挙げられるが、中でも
Al、Co、Cr、Cu、Fe、Mg、Mn、Mo、N
i、Sn、Ti、Zn等が好ましく、特にNi、Cu、
Co、Cr、Zn等が好ましい。これらの金属イオンを
含有する化合物としては、該金属の無機または有機の塩
および該金属の錯体が好ましい。具体例を挙げると、N
i2+、Cu2+、Co2+、Cr2+およびZn2+を含
有した下記一般式で表される錯体が好ましく用いられ
る。 [M(Q1)k(Q2)m(Q3)n]p +p(L−) ただし、式中Mは金属イオンを表し、Q1、Q2、Q3
は各々Mで表される金属イオンと配位結合可能な配位化
合物を表し、これらの配位化合物としては例えば「キレ
ート化学(5)(南江堂)」に記載されている配位化合
物から選択することができる。特に好ましくは、金属と
配位結合する少なくとも一個のアミノ基を有する配位化
合物を挙げることができ、更に具体的には、エチレンジ
アミンおよびその誘導体、グリシンアミドおよびその誘
導体、ピコリンアミドおよびその誘導体が挙げられる。
Cr、SO4、ClO4等の無機化合物アニオンやベン
ゼンスルホン酸誘導体、アルキルスルホン酸誘導体等の
有機化合物アニオンが挙げられるが、特に好ましくはテ
トラフェニルホウ素アニオンおよびその誘導体、ならび
にアルキルベンゼンスルホン酸アニオンおよびその誘導
体である。kは1、2または3の整数を表し、mは1、
2または0を表し、nは1または0を表すが、これらは
前記一般式で表される錯体が4座配位か、6座配位かに
よって決定されるか、あるいはQ1、Q2、Q3の配位
子の数によって決定される。pは1、2または3を表
す。
米国特許第4,987,049号明細書に例示されたも
のを挙げることができる。前記金属イオン含有化合物を
添加する場合、その添加量は受像層に対して、0.5〜
20g/m2が好ましく、1〜15g/m2がより好まし
い。
が好ましい。有効な離型剤としては、用いるバインダー
と相溶性のあるものが好ましく、具体的には変性シリコ
ーンオイル、変性シリコーンポリマーが代表的であり、
例えばアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリ
コーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、ア
クリル変性シリコーン樹脂、ウレタン変性シリコーン樹
脂などが挙げられる。このなかでもポリエステル変性シ
リコーンオイルはインクシートとの融着を防止するが、
受像層の2次加工性を妨げないという点で特に優れてい
る。受像層の2次加工性とは、マジックインキでの筆記
性、できた画像を保護する際に問題となるラミネート性
などを指す。この他離型剤としてはシリカ等の微粒子も
有効である。2次加工性を問題としない場合は融着防止
策として硬化型シリコーン化合物の使用も有効である。
紫外線硬化型シリコーン、反応硬化型シリコーンなどが
入手可能であり、大きな離型効果が期待できる。
を溶媒に分散あるいは溶解してなる受像層用塗工液を調
製し、その受像層用塗工液を前記支持体の表面に塗布
し、乾燥する塗工法によって製造することができる。
は、一般に1〜50μm、好ましくは2〜10μm程度
である。この発明においては、支持体と受像層との間に
クッション層あるいはバリヤー層を設けることもでき
る。クッション層を設けると、ノイズが少なくて、画像
情報に対応した画像を再現性良く転写記録することがで
きる。クッション層を構成する材質としては、例えばウ
レタン樹脂、アクリル樹脂、エチレン系樹脂、ポリプロ
ピレン系樹脂、ブタジエンラバー、エポキシ樹脂等が挙
げられる。クッション層の厚さは通常、1〜50μm、
好ましくは3〜30μmである。
チレン若しくはそれらを紙と貼合した合成紙等の紙類、
透明又は白色のポリエチレンテレフタレートベースフィ
ルム、ポリエチレンテレナフタレートベースフィルム、
塩化ビニルベースフィルム等のプラスチックフィルム、
各種の金属やセラミックのフィルム等が挙られ、基材中
にはICメモリー、光メモリー、磁気メモリー等を内蔵
してもよく、単層でも上記フィルムの複合フィルムでも
よい。基体の厚みは100〜1000μm程度、好まし
くは200〜700μmである。裏面側には筆記層を設
けてもよい。
載した物が使用できる。 <フォーマット印刷からなる情報坦持体>フォーマット
印刷からなる情報坦持体とは、識別情報及び書籍情報を
記録した複数の選ばれる少なくとも一つが設けられた情
報坦持体を表し、具体的には、罫線、社名、カード名
称、注意事項、発行元電話番号等を表す。
成には、日本印刷技術協会出版の「平版印刷技術」、
「新・印刷技術概論」、「オフセット印刷技術」、「製
版・印刷はやわかり図鑑」等に記載されている一般的な
インキを用いて形成することができ、光硬化型インキ、
油溶性インキ、溶剤型インキなどにカーボンなどのイン
キにより形成される。
型感熱記録方式に用いられる受像層、c)画像記録体最
外層、d)鱗片顔料を有する画像記録体層上に樹脂凸版
印刷、平版印刷、シルク印刷、フレキソ印刷等の印刷方
法により施す。 [鱗片顔料]鱗片顔料としては、雲母に反射性(高虹彩
反射)を与える薄膜被膜として、可視域に透明で屈折性
が2.0以上ある金属酸化物あるいは金属硫化物などを
被覆したもので、例えば、Sb2S3、Fe2O3、P
bO、ZnSe、CdS、Bi2O3、TiO2、Pb
Cl2、CeO2、Ta2O5、ZnS、ZnO、Cd
O、Nd2O3、Sb2O3、SiOおよびInO3の
単層の被覆、もしくは2層に被覆することにより形成さ
れる。
の屈折率の差が0.4より大きいことから、入射した白
色光の反射量が多く、また、同時に雲母と金属酸化膜の
界面で副屈折を起こすことから、高虹彩反射性となり、
変色効果をより効果的に助長する働きをする。
を制御することで任意の色調の高虹反射性を持った鱗片
顔料とすることができる膜厚は10〜10000オング
ストローム、望ましくは200〜5000オングストロ
ームの範囲の膜厚が可視域に対して高虹彩反射性となる
ので望ましい。具体的には、特開平6−145553、
特開平8−209024、特開平8−269358、特
開平10−101957、特開平11−273932、
特開平11−315219、特開2000−1628、
特開2000−44834、特開平1−158077号
等に記載されている顔料を用いることができる。このよ
うな鱗片顔料の市販のものとしては「Iriodin」
(商品名、MERCK社製)等がある。
酸化チタンおよび酸化鉄等の高屈折率の金属酸化物で被
覆した安定した無機鱗片顔料であり、屈折率の高い酸化
チタンの層と屈折率の低いマイカおよび周りの媒体との
境界で反射した光が真珠光沢をもたらすものである。こ
の「Iriodin」には、被覆された酸化チタンの膜
厚を変えることによって虹彩色の特定な色を強調させる
ことができ、このような鱗片顔料は有色色料との混合物
にビヒクル、添加剤を加えインキ化して用いる。
層に用いる鱗片顔料と干渉性が異なる鱗片顔料であれば
前記したもので良い。その他にゴールドタイプやシルバ
ータイプがある。 [鱗片顔料を含む印刷パターン層]鱗片顔料を含む印刷
パターン層は、鱗片顔料を含むインキを使用して、樹脂
凸版印刷、オフセット印刷、シルク印刷、フレキソ印
刷、スクリーン印刷等の印刷方法で設けることができ
る。
を向上するために、積層することが好ましい。また、積
層がますと表面の平滑性が劣化するため鱗片顔料を含む
印刷パターン層上への印字性が劣化する。この発明では
積層は、1〜8層の積層が好ましく。より好ましくは1
〜6層、更に好ましくは、2〜6層である。
有ることが好ましく、より好ましくは0.5〜10μ
m、更に好ましくは0.5〜8μmであり、10μより
も厚い場合には、前記同様に印字性が劣化する。
法としては、オフセット印刷が好ましい。中でもインキ
の膜厚をコントロールしやすい樹脂凸版を使用したドラ
イオフセット方式で印刷される事が好ましい。
ユニットを備えた多色オフセット印刷機よる印刷によっ
て形成される事が好ましい。一般に2つ以上印刷ユニッ
トを備えた印刷機を多色オフセット印刷機という。例え
ば、カラー印刷の多くは、イエロー、マゼンタ、シア
ン、ブラックの4色を4つの印刷ユニットを備えた4色
機によって印刷されている事が知られている。近年で
は、前記4色以外の色を刷るため更にユニット増やした
5色以上印刷機が知られている。本発明の場合には、こ
のような複数の印刷ユニットを備えた印刷機を使用して
鱗片顔料を含む印刷パターン層を複数層設けることが好
ましい。また、何回か通す事によって、更に積層数を増
やす方法でも複数層設けることができる。 [鱗片顔料を含む印刷パターン層の面積]前記述べたよ
うに、鱗片顔料を含む印刷パターン層を積層する場合に
は、隣接する層同士は異なる面積で構成されており、よ
り好ましくは、基材側から最外層の層は、その下のパタ
ーンすべてを覆いかぶせるように設けられていること
が、湾曲や屈曲された場合に亀裂発生防止や基材からの
脱落を防止する点で好ましい。
刷パターン層の縁部に対して、0〜10.0mm大きい
ことが好ましく、より好ましくは0〜5.0mm、更に
好ましくは0〜3mmの範囲が前記した曲げ耐性や密着
性の点で好ましい。10.0mmよりも大きい場合デザ
イン上見栄えが悪く、また、他のパターンと重なってし
まうなどの問題が生じ、密着性、印字性の問題が生じ
る。 [画像記録体上の鱗片顔料を含む印刷パターン層の面
積]この発明の画像記録体上に有する鱗片顔料を含む印
刷パターン層の面積率は、偽変造防止、真偽判別性、点
で20%以上有することが好ましい。好ましくは20〜
90%、より好ましくは、20〜60%である。 [印圧]前記した、複数の印刷ユニットを装備するオフ
セット印刷機には、鱗片顔料を含む印刷パターンを印刷
しないユニットを少なくとも1ユニット有することが好
ましい。
対して1.5倍以上であることが好ましい。
は、少なくとも鱗片顔料を含む印刷パターン層を所望の
積層数設けた後に通すことが好ましく、鱗片顔料を含む
印刷パターン層を積層する場合に、その層間において、
一端この印圧が1.5倍の印刷ユニットを通すことがよ
り好ましい。
ブランケット胴と圧胴とが接した場合には、ブランケッ
トは、圧縮・変形される。この圧縮量を印圧いう。通常
この値は0.10mm程度であるが、印刷機メーカーに
よって異なる。好ましい印圧の範囲は、通常の印圧に対
して、1.5〜4.0倍の範囲である。
とで、曲げ耐性、及び印字性、密着性が向上する。 [透明樹脂層]この発明の画像記録体上には、鱗片顔料
を含む印刷パターン層を保護層し、湾曲や屈曲された場
合に亀裂発生防止や基材からの脱落防止効果を向上させ
るために、透明樹脂層を、鱗片顔料を含む印刷パターン
層の全面或いは一部に重なるように設けることができ
る。
パターン層の一部に重なるようにする場合は、鱗片顔料
の縁部と透明樹脂層が重なるように設けられていること
が好ましく、この重なる領域は0.1mm以上であるこ
とが好ましく、より好ましくは0.5mm以上である。
有ることが好ましく、より好ましくは0.5〜10μ
m、更に好ましくは0.5〜8μmである。透明樹脂層
を設ける方法として、樹脂凸版印刷、オフセット印刷、
シルク印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の印刷方
法により施すことができる。前記したように、オフセッ
ト印刷で設けることが好ましい。
ット部が透明樹脂層を印刷するユニットであることが更
に好ましい。
る。 <c−1.透明樹脂層>透明樹脂層のバインダー樹脂代
表例としては、例えば活性光線硬化樹脂、ポリメタクリ
ル酸メチル系のアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチ
レン系樹脂、ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル系樹脂、ポ
リ塩化ビニリデン等の塩化ビニリデン系樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、酢酸セル
ロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルブチラール等
のポリビニルアセタール系樹脂、エポキシ系樹脂、アミ
ド系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキッ
ド系樹脂、フェノール系樹脂、弗素系樹脂、シリコーン
系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、カ
ゼイン、ゼラチン等を挙げることができる。本発明にお
いては活性光線硬化樹脂を用いることが好ましい。
線硬化樹脂であることが好ましい。活性光線硬化樹脂を
用いる場合、水銀灯、UVランプ、キセノン等の光源に
より、100mj〜500mjの露光で硬化し用いるこ
とができる。透明性樹脂とは、400nm〜600nm
の吸光度がabs.0.0001〜0.2の範囲である
樹脂のことを表す。吸光度測定は、(株)日立製作所の
分光光度計 U−3210形を用い400nm〜600
nmの吸光度を測定した。測定時は実際に使用する特定
膜厚の樹脂を用い測定を行った。膜厚は0.1〜10μ
mであることが好ましく、より好ましくは0.5〜10
μm、更に好ましくは0.5〜8μmである。前記樹脂
層を設ける方法として、樹脂凸版印刷、オフセット印
刷、シルク印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の印
刷方法により施すことができる。 <c−2.活性光線硬化樹脂>活性光線硬化性樹脂は、
付加重合性または開環重合性を有するものであり、付加
重合性化合物とは、ラジカル重合性化合物、例えば特開
平7−159983号、特公平7−31399号、特開
平08−224982、特開平10−863、特願平7
−231444号等の各号公報及び特願平7−2314
44号明細書に記載されている光重合性組成物を用いた
光硬化型材料などである。付加重合性化合物とは、カチ
オン重合系の光硬化性樹脂が知られており、最近では可
視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光
硬化性樹脂も例えば、特開平6−43633号、特開平
08−324137公報等に公開されている。
化合物及び熱重合性化合物が包含される。ラジカル重合
性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエ
チレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であ
ればどの様なものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポ
リマー等の化学形態をもつものが含まれる。ラジカル重
合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特
性を向上するために任意の比率で2種以上を併用しても
よい。
を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、
ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレ
ン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエー
テル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル
重合性化合物が挙げられる。具体的には、2・エチルヘ
キシルアクリレート、2・ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリ
レート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス
(4・アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6・ヘキ
サンジオールジアクリレート、エチレングリコールジア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレ
ート、オリゴエステルアクリレート、N・メチロールア
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシア
クリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレー
ト、n・ブチルメタクリレート、2・エチルヘキシルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタク
リレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,
6・ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、2,2・ビス(4・メタ
クリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタク
リル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジア
リルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル
化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋
三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成
社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原
料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研
究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79
頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、
「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日
刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知の
ラジカル重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及
びポリマーを用いることができる。上記ラジカル重合性
化合物のラジカル重合性組成物中の添加量は好ましくは
1〜97重量%であり、より好ましくは30〜95重量
%である。
物の場合には、ラジカル重合開始剤を併用する必要があ
る。
−1281号、特公昭61−9621号、及び特開昭6
0−60104号等の各公報記載のトリアジン誘導体、
特開昭59−1504号及び特開昭61−243807
号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭43−23
684号、特公昭44−6413号、特公昭44−64
13号及び特公昭47−1604号等の各公報並びに米
国特許第3,567,453号明細書に記載のジアゾニ
ウム化合物、米国特許第2,848,328号、同第
2,852,379号及び同2,940,853号各明
細書に記載の有機アジド化合物、特公昭36−2206
2号、特公昭37−13109号、特公昭38−180
15号、特公昭45−9610号等の各公報に記載のオ
ルト・キノンジアジド類、特公昭55−39162号、
特開昭59−14023号等の各公報及び「マクロモレ
キュルス(Macromolecules)、第10
巻、第1307頁(1977年)に記載の各種オニウム
化合物、特開昭59−142205号公報に記載のアゾ
化合物、特開平1−54440号公報、ヨーロッパ特許
第109,851号、ヨーロッパ特許第126,712
号等の各明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・
サイエンス」(J.Imag.Sci.)」、第30
巻、第174頁(1986年)に記載の金属アレン錯
体、特願平4−56831号明細書及び特願平4−89
535号明細書に記載の(オキソ)スルホニウム有機ホ
ウ素錯体、特開昭61−151197号公報に記載のチ
タノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レ
ビュー(CoordinantionChemistr
y Review)」、第84巻、第85・第277
頁)(1988年)及び特開平2−182701号公報
に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯
体、特開平3−209477号公報に記載の2,4,5
・トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開
昭59−107344号公報記載の有機ハロゲン化合物
等が挙げられる。これらの重合開始剤はラジカル重合可
能なエチレン不飽和結合を有する化合物100重量部に
対して0.01から10重量部の範囲で含有されるのが
好ましい。
の安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分解時
に無色となる化合物であり、このようなものとしては、
過酸化ベンゾイル、2,2′・アゾビスイソブチロニト
リル等を挙げることができる。また、本発明では、これ
らの熱重合開始剤を1種又は2種以上混合して用いるこ
とができる。更に、熱重合開始剤は、熱重合性の組成物
中通常0.1〜30重量%が好ましく、0.5〜20重
量%の範囲がより好ましい。
オン重合により高分子化の起こるタイプ(主にエポキシ
タイプ)のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマ
ー、モノマーは、1分子内にエポキシ基を2個以上含有
するプレポリマーを挙げることができる。このようなプ
レポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド
類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコ
ールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレ
ングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリ
オールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオール
のポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレ
タンポリエポキシ化合物類およびエポキシ化ポリブタジ
エン類等を挙げることができる。これらのプレポリマー
は、その一種を単独で使用することもできるし、また、
その二種以上を混合して使用することもできる。
の、エポキシ基を1分子内に2個以上有するプレポリマ
ーの含有量は70重量%以上であるのが好ましい。カチ
オン重合性組成物中に含有されるカチオン重合性化合物
としては、他に例えば下記の(1)スチレン誘導体、
(2)ビニルナフタレン誘導体、(3)ビニルエーテル
類及び(4)N・ビニル化合物類を挙げることができ
る。 (1)スチレン誘導体 例えば、スチレン、p・メチルスチレン、p・メトキシス
チレン、β・メチルスチレン、p・メチル・β・メチルス
チレン、α・メチルスチレン、p・メトキシ・β・メチル
スチレン等 (2)ビニルナフタレン誘導体 例えば、1・ビニルナフタレン、α・メチル・1・ビニルナ
フタレン、β・メチル・1・ビニルナフタレン、4・メチ
ル・1・ビニルナフタレン、4・メトキシ・1・ビニルナ
フタレン等 (3)ビニルエーテル類 例えば、イソブチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、p・メチルフェニルビ
ニルエーテル、p・メトキシフェニルビニルエーテル、
α・メチルフェニルビニルエーテル、β・メチルイソブ
チルビニルエーテル、β・クロロイソブチルビニルエー
テル等 (4)N・ビニル化合物類 例えばN・ビニルカルバゾール、N・ビニルピロリド
ン、N・ビニルインドール、N・ビニルピロール、N・
ビニルフェノチアジン、N・ビニルアセトアニリド、N
・ビニルエチルアセトアミド、N・ビニルスクシンイミ
ド、N・ビニルフタルイミド、N・ビニルカプロラクタ
ム、N・ビニルイミダゾール等。 上記カチオン重合性
化合物のカチオン重合性組成物中の含有量は1〜97重
量%が好ましくは、より好ましくは30〜95重量%で
ある。
は、芳香族オニウム塩を挙げることができる。この芳香
族オニウム塩として、周期表第Va族元素の塩例えばホ
スホニウム塩(例えばヘキサフルオロリン酸トリフェニ
ルフェナシルホスホニウムなど)、第VIa族元素の塩
例えばスルホニウム塩(例えばテトラフルオロホウ酸ト
リフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリフ
ェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリス(4
・チオメトキシフェニル)、スルホニウムおよびヘキシ
サフルオロアンチモン酸トリフェニルスルホニウムな
ど)、および第VIIa族元素の塩たとえばヨードニウ
ム塩(たとえば塩化ジフェニルヨードニウムなど)を挙
げることができる。
合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用する
ことは、米国特許第4,058,401号、同第4,0
69,055号、同第4,101,513号および同第
4,161,478号公報に詳述されている。
VIa族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中で
も、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性
の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリア
リールスホニウムが好ましい。またフォトポリマーハン
ドブック(フォトポリマー懇話会編 工業調査会発行1
989年)の39〜56頁に記載の公知の光重合開始
剤、特開昭64−13142号、特開平2−4804号
に記載されている化合物を任意に用いることが可能であ
る。
増感剤、重合促進剤、連鎖移動剤、重合禁止剤等を添加
できる。
により、柔軟性が高い材料、低弾性率を有する材料、ゴ
ム弾性を有する材料を添加することも可能である。 <c−3.他の添加剤>活性光線硬化樹脂からなる印刷
インキへの他への添加剤として、反応希釈剤、体質顔
料、顔料、染料、硬化剤及びその前駆体、充填剤、流動
助剤、チキソトロピー剤、湿潤剤、消泡剤、可塑剤、特
願平2001−021571号記載の熱可塑性樹脂、熱
可塑性エラストマー、ホットメルト接着剤のような他の
添加剤を含有することができる。また、耐光剤、紫外線
吸収剤、酸化防止剤、重合禁止剤、腐食防止剤のような
安定化剤、または、被膜表面の改質のためにSi系化合
物、ワックス等を添加しても良い。
−3記載の樹脂組成物等中と混合、分散し印刷インキを
形成することが更に好ましい。混合、分散する方法とし
ては、特に限定されるわけでなく、万能攪拌機、ロール
ミル、ホモジナイザー、ニーダ等の種々の装置を用いて
行うことができ組成物に適した混合、分散の方法を選択
すればよい。
の樹脂組成物中に該熱易接接着樹脂を0.1〜80%添
加することが好ましく、より好ましくは0.1〜60%
添加することが好ましい。また、混合する樹脂として
は、1−2活性光線硬化性樹脂、1−2−1その他添加
剤と混合することが好ましい。 <鱗片顔料層組成>鱗片顔料パターンは、鱗片状粉末を
用いインキ化して印刷したり、公知のバインダー樹脂を
適宜選択して鱗片顔料と混合したものからなる塗膜を転
写することにより形成される。バインダー樹脂の代表例
としては、例えば活性光線硬化性樹脂、ポリメタクリル
酸メチル系のアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレ
ン系樹脂、ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル系樹脂、ポリ
塩化ビニリデン等の塩化ビニリデン系樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、酢酸セルロ
ース等のセルロース系樹脂、ポリビニルブチラール等の
ポリビニルアセタール系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド
系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキッド
系樹脂、フェノール系樹脂、弗素系樹脂、シリコーン系
樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、カゼ
イン、ゼラチン等を挙げることができる。この発明にお
いてはバインダーはC−2記載の活性光線硬化樹脂であ
ることが好ましい。
UVランプ、キセノン等の光源により、100mj〜5
00mjの露光で硬化し用いることができる。
塗膜を作成する場合、前記バインダー樹脂中に顔料を加
え、ボールミル、アトライター、サンドミル、混練機等
の分散機で混合されていることが好ましい。場合により
C−3記載の添加剤を加えても良く、具体的には透明な
ビヒクル、白色顔料、WAX、硬化剤等の添加剤を使用
することができる。
記録体層は、偽造防止効果を発現するためには全固形分
中10〜70%添加することができ、好ましくは、10
〜60%、更に好ましくは30〜60%である。
布0.01〜60μmの鱗片状粉末であることが好まし
く、これ以上の鱗片顔料と発色性が乏しく偽変造効果が
劣化してしまう。
以上の鱗片顔料インキを用いることができ、場合により
2色の鱗片顔料の混合体からなる鱗片顔料インキを用い
ることもできる。また、画像記録体上に2層以上の構成
層からなる鱗片顔料インキ層を有してもよく、この鱗片
顔料インキの鱗片顔料がそれぞれ異なる色にて構成され
ていても良い。この発明の鱗片顔料層を用いる場合、発
色性、スクラッチ強度等の観点から厚膜化することが好
ましく、オフセット印刷等の薄膜化印刷では積層などを
することにより、より発色性、スクラッチ強度が向上す
るために積層することが好ましい。また、積層がますと
表面の平滑性が劣化するために好ましくない。この発明
では積層は、1〜8層の積層が好ましく、より好ましく
は1〜6層、更に好ましくは、2〜6層である。
片顔料層でも良く場合により、透明樹脂層を設けても良
い。
活性光線硬化樹脂をバインダーとして形成されているこ
とが好ましく、より好ましくは活性光線硬化樹脂を用い
ることが好ましい。活性光線硬化樹脂を用いる場合、水
銀灯、UVランプ、キセノン等の光源により、100m
j〜500mjの露光で硬化し用いることができる。膜
厚は0.1〜10μmであることが好ましく、より好ま
しくは0.5〜10μm、更に好ましくは0.5〜8μ
m。上記樹脂層を設ける方法として、樹脂凸版印刷、オ
フセット印刷、シルク印刷、フレキソ印刷、スクリーン
印刷等の印刷方法により施すことができる。
層、または画像層は、ベタ画像、特殊模様画像(彩紋、
紋様等)、10〜90%からなる網点画像からなる画像
形態で作成することができる。この発明においては、鱗
片状粉末C−1、C−2記載のバインダー、C−3記載
の添加剤を混合して目的の鱗片状の粉末からなる顔料層
又は画像記録体層を形成するための印刷インキを得るこ
とができる。混合は、ロールミル、ホモジナイザー、ニ
ーダ等の種々の装置を用いて行うことができ組成物に適
した混合、分散の方法を選択すればよい。
カレンダー処理、印圧UP等の方法を用い表面を平滑化
することができる。
物]この発明の鱗片顔料含むインキには、活性光線非硬
化性でかつ熱移行性化合物を含むことができる。
ては、開始剤共存下で、活性光線を照射しても重合しな
い成分であって、加熱により移行性のある化合物であ
り、無色のものが好ましい。具体的には、テルピネオー
ル、メントール、1,4−シクロヘキサンジオール、フ
ェノール等のアルコール類、アセトアミド、ベンズアミ
ド等のアミド類、クマリン、ケイ皮酸ベンジル等のエス
テル類、ジフェニルエーテル、クラウンエーテル等のエ
ーテル類、カンファー、p−メチルアセトフェノン等の
ケトン類、バニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等の
アルデヒド類、ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素
類、マルガリン酸等の高級脂肪酸、エイコサノール等の
高級アルコール、パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エ
ステル、ステアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド、ベ
ヘニルアミン等の高級アミンなどに代表される単分子化
合物、カルナバロウ、蜜ロウ、パラフィンワックス、エ
ステルワックス、モンタンロウ、アミドワックスなどの
ワックス類、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコールなどのポリオレフィンオキサイドなどを挙げ
ることができる。
は融点あるいは軟化点が10〜150℃のものが好まし
い。
は、基材上の受像層あるいは、後記する転写箔の接着
層、あるいは耐熱性ベース上の受像層へ加熱、加圧処理
を施すことによって移行される。特に転写箔の場合は、
熱移行性化合物を受像層および接着層側に移行させたの
ち、支持体を剥がして硬化層をカード表面に転写するこ
とができるので、箔との密着性も向上する。
曲げ耐性、および発色、印字性、密着性に優れる。 <H、光又は熱硬化型樹脂層>この発明において、光硬
化型樹脂層としては、該記載の1−2,1−2−1から
なる活性光線硬化性樹脂を表す。
しては、例えばエポキシ系、ポリエステル系、アクリル
系等の樹脂に硬化剤や硬化触媒、流展剤、その他添加剤
等を配合てもよい。
ボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸等の芳香
族ジカルボン酸を主体とし、ジオール成分としてエチレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオ
ールを主体とするものがよく、これらにアジピン酸やア
ゼライン酸等の脂肪族ジカルボン酸、トリメリット酸や
ピロメリット酸等の三価以上のカルボン酸、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
ト−ル等の三価以上のアルコール等を少量含んでいるも
のは溶融流動性、架橋反応性が向上するのでより好まし
い。
〜50の範囲のものが好ましい。これより低いものはフ
ィルムにしたとき十分な強度が得られず、これより高い
ものは粉砕が困難になる。次に硬化剤としては、ポリエ
ステルの末端基が−OH型のものはイソシアナート化合
物やメラミン樹脂、例えばε−カプロラクタムブロック
イソシアナートやメチル化メラミン等がある。末端基が
−COOH型のものはエポキシ樹脂やトリグリシジルイ
ソシアヌレート等がある。 <H−1、熱または光硬化型樹脂層作成方法>熱または
光硬化型樹脂層を画像記録体上に作成する場合、光また
は熱硬化可能な樹脂を塗布方式で作成するか若しくは転
写箔で形成することが好ましい。
選択する場合、従来公知の方法、例えば回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、フェルト塗布、エアーナ
イフ塗布、スプレイ塗布、エアースプレイ塗布、静電エ
アースプレイ塗布、ロール塗布ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途によ
り異なるが、例えば固形分として0.05〜50.0g
/m2の塗布量が好ましい。なお、塗布量が少なくなる
につれて見掛の感度が大になるが画像形成層の皮膜特
性、耐薬品性が低下する。
を発生させるものは全て用いることができる。例えば、
レーザー、発光ダイオード、キセノンフラッシュラン
プ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライ
ドランプ、タングステンランプ、水銀灯、無電極光源等
をあげることができる。好ましくは、キセノンランプ、
ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドラ
ンプ、タングステンランプ、水銀灯等の光源が挙げら
れ、この際加えられるエネルギーは、重合開始剤の種類
のより、露光距離、時間、強度を調整することにより適
時選択して用いることができる。 <I、画像記録体上への画像形成方法の一般記載>基材
上に識別情報及び書籍情報を記録した複数の情報坦持
体、フォーマット印刷から形成された画像記録体上印刷
面側に別方法により識別情報及び書籍情報を記録した複
数の情報坦持体等の画像要素が設けられ、個人認証用カ
ードを作成することができる。
ラー画像で、例えば昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン
化銀カラー写真方式等により作製される。また、文字情
報画像は二値画像よりなり、例えば溶融型感熱転写記録
方式、昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン化銀カラー写
真方式、電子写真方式、インクジェット方式等により作
製されている。この発明においては、昇華型感熱転写記
録方式により顔画像等の認証識別画像、属性情報画像を
記録することが好ましい。
であり、属性情報は通常文字情報として記録され溶融型
感熱転写記録方法が一般的である。フォーマット印刷、
または、情報記録を行ってもよく、オフセット印刷、グ
ラビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、
凸版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写
真方式、熱溶融方式等のいずれの方式によって形成する
ことができる。 <I−1、昇華画像形成方法>昇華型感熱転写記録用イ
ンクシートは、支持体とその上に形成された昇華性色素
含有インク層とで構成することができる。 <I−1−1、支持体>支持体としては、寸法安定性が
よく、感熱ヘッドでの記録の際の熱に耐える限り特に制
限がなく、従来から公知のものを使用することができ
る。 <I−1−2、昇華性色素含有インク層>上記昇華性色
素含有インク層は、基本的に昇華性色素とバインダーと
を含有する。
ンタ色素およびイエロー色素を挙げることができる。
8896号公報、同59−227948号公報、同60
−24966号公報、同60−53563号公報、同6
0−130735号公報、同60−131292号公
報、同60−239289号公報、同61−19396
号公報、同61−22993号公報、同61−3129
2号公報、同61−31467号公報、同61−359
94号公報、同61−49893号公報、同61−14
8269号公報、同62−191191号公報、同63
−91288号公報、同63−91287号公報、同6
3−290793号公報などに記載されているナフトキ
ノン系色素、アントラキノン系色素、アゾメチン系色素
等が挙げられる。
78896号公報、同60−30392号公報、同60
−30394号公報、同60−253595号公報、同
61−262190号公報、同63−5992号公報、
同63−205288号公報、同64−159号、同6
4−63194号公報等の各公報に記載されているアン
トラキノン系色素、アゾ色素、アゾメチン系色素等が挙
げられる。
896号公報、同60−27594号公報、同60−3
1560号公報、同60−53565号公報、同61−
12394号公報、同63−122594号公報等の各
公報に記載されているメチン系色素、アゾ系色素、キノ
フタロン系色素およびアントライソチアゾール系色素が
挙げられる。
は、開鎖型または閉鎖型の活性メチレン基を有する化合
物をp−フェニレンジアミン誘導体の酸化体またはp−
アミノフェノール誘導体の酸化体とのカップリング反応
により得られるアゾメチン色素およびフェノールまたは
ナフトール誘導体またはp−フェニレンジアミン誘導体
の酸化体またはp−アミノフェノール誘導体の酸化体の
とのカップリング反応により得られるインドアニリン色
素である。
配合されているときには、この金属イオン含有化合物と
反応してキレートを形成する昇華性色素を、昇華性色素
含有インク層中に含めておくのが良い。このようなキレ
ート形成可能な昇華性色素としては、例えば特開昭59
−78893号、同59−109349号、同特願平2
−213303号、同2−214719号、同2−20
3742号に記載されている、少なくとも2座のキレー
トを形成することができるシアン色素、マゼンタ色素お
よびイエロー色素を挙げることができる。キレートの形
成可能な好ましい昇華性色素は、下記一般式で表わすこ
とができる。
原子から構成される芳香族の炭素環、または複素環を完
成するのに必要な原子の集まりを表わし、アゾ結合に結
合する炭素原子の隣接位の少なくとも一つが、窒素原子
またはキレート化基で置換された炭素原子である。X2
は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から構成され
る芳香族複素環または、芳香族炭素環を表わす。Gはキ
レート化基を表わす。
色素含有インク層に含有される昇華性色素は、形成しよ
うとする画像が単色であるならば、イエロー色素、マゼ
ンタ色素、およびシアン色素の何れであっても良く、形
成しようとする画像の色調によっては、前記三種の色素
のいずれか二種以上もしくは他の昇華性色素を含んでい
ても良い。前記昇華性色素の使用量は、通常、支持体1
m2当たり0.1〜20g、好ましくは0.2〜5gで
ある。
なく従来から公知のものを使用することができる。さら
に前記インク層には、従来から公知の各種添加剤を適宜
に添加することができる。
ンク層を形成する前記各種の成分を溶媒に分散ないし溶
解してなるインク層形成用塗工液を調製し、これを支持
体の表面に塗工し、乾燥することにより製造することが
できる。かくして形成されたインク層の膜厚は、通常、
0.2〜10μmであり、好ましくは、0.3〜3μm
である。 <J、転写箔を用いての個人認証用カード製造方法>以
下、この発明の転写箔及び画像記録体作成方法の実施の
形態を図面に基づいて説明するが、この発明はこの実施
の形態の説明及び図面に限定されるものではない。ま
ず、第1の実施の形態を図4及び図5に示し、図4は画
像記録体作成装置の概略構成図、図5は画像記録体の層
構成を示す図である。
は、上方位置にカード基材供給部10及び情報記録部2
0が配置され、下方位置に、保護付与部及び/又は光学
変化素子付与部40、活性光線硬化層付与部及び/又は
活性光線照射部90が配置され、画像記録体としてカー
ドを作成するが、シートも作成することもできる。
の個人情報を書き込むために予め枚葉状にカットされた
複数枚のカード基材50が、顔写真を記録する面を上に
向けてストックされている。この例では、カード基材5
0が支持体51と受像層52からなり、このカード基材
50は1枚づつカード基材供給部10から所定のタイミ
ングで自動供給される。
ット21、マゼンタリボンカセット22、シアンリボン
カセット23、ブラックリボンカセット24が配置さ
れ、それぞれに対応して記録ヘッド25〜28が配置さ
れている。イエローリボン、マゼンタリボン、シアンリ
ボン等の熱転写シートによる熱転写で、カード基材50
が移動されている間に、その受像層52の所定領域にカ
ード使用者の顔写真等の諧調を有する画像領域53が記
録される。また、文字リボンカセット31及び記録ヘッ
ド32が配置され、文字リボン等の熱転写シートによる
熱転写で、その氏名やカード発行日等の認証識別情報5
4が記録され、画像記録層が形成される。
40では、転写箔カセット41が配置され、この転写箔
カセット41に対応して熱転写ヘッド42が配置されて
いる。透明保護転写箔64及び/又は光学変化素子転写
箔43を熱転写して、透明保護転写層640及び/又は
光学変化素子転写層430が設けられる。
性光線照射部90により活性光線硬化液が塗布され、活
性光線により露光が行なわれ、画像記録体の層構成が得
られ、透明保護転写層640及び/又は光学変化素子転
写層430上に活性光線硬化層650が設けられる。
示し、図6は画像記録体作成装置の概略構成図、図7は
画像記録体の層構成を示す図である。
は、カード基材供給部10及び情報記録部20は同様に
構成されるが、情報記録部20の次に樹脂付与部60が
配置されている。
が配置され、この転写箔カセット61に対応して熱転写
ヘッド62が配置位置されている。転写箔カセット61
に硬化型転写箔66がセットされ、この硬化型転写箔6
6を転写し硬化型保護層含有転写層660が設けられ
る。
示し、図8は画像記録体作成装置の概略構成図、図9は
画像記録体の層構成を示す図である。
は、カード基材供給部10及び情報記録部20は同様に
構成されるが、情報記録部20の次に保護付与部及び/
又は光学変化素子付与部40、樹脂付与部60が配置さ
れる。
40では、透明保護転写層640及び/又は光学変化素
子転写層430が設けられる。樹脂付与部60では、受
像層52上に透明保護転写層640及び/又は光学変化
素子転写層430で形成された画像記録体上に硬化型転
写箔66を熱転写し硬化型保護層含有転写層660が設
けられる。
示し、図10は画像記録体作成装置の概略図、図11は
画像記録体の層構成を示す図である。
ド基材供給部10及び情報記録部20は同様に構成され
るが、透明保護層及び/又は光学変化素子転写付与部/
又は樹脂層付与部70が配置される。
与部/又は樹脂層付与部70には、転写箔カセット71
が配置され、この転写箔カセット71に対応して熱転写
ヘッド72が配置されている。硬化型樹脂層含有光学変
化素子転写箔44を転写し、硬化型樹脂層含有光学変化
素子転写層440が設けられる。
を保護する透明保護箔であり、透明保護層とは、画像を
保護する透明保護層である。また樹脂層とは、この発明
にあたる破断伸度、摩擦係数を規定した樹脂を有する層
である。また活性硬化線樹脂層とは、樹脂層の種類の一
部であり、この発明では好ましい実施形態であるが、製
造上樹脂層に限定される場合がある。また硬化型保護層
含有光学変化素子層とは、硬化層と光学変化素子層が一
体になっている層のことを表す。また保護性付与転写箔
とは、樹脂層(好ましくは活性光線硬化性樹脂)を少な
くとも一層含む転写箔のことを表す。
図12に示す。図12(a)の透明保護転写箔64は透
明保護転写層640と支持体64bから構成され、透明
保護転写層640は離型層64a1、透明保護層64a
2、接着層64a3から構成され、透明保護層64a2
の両側に離型層64a1、接着層64a3が設けられ、
離型層64a1が支持体64bに接着されている。図1
2(b)の透明保護転写箔64は図12(a)の転写箔
と同様に構成されるが、透明保護層64a2と接着層6
4a3との間に中間層64a4が設けられている。図1
2(c)の透明保護転写箔64は図12(b)の転写箔
と同様に構成されるが、透明保護層64a2を2層設け
ている。図12(d)の透明保護転写箔64は図12
(b)の転写箔と同様に構成されるが、透明保護層64
a2と中間層64a4との間にバリヤー層64a5が設
けられている。
転写層640が支持体43bから剥離して転写される。
13に示す。図13(a)の光学変化素子転写箔43は
光学変化素子転写層430と支持体43bから構成さ
れ、光学変化素子転写層430は離型層43a1、光学
変化素子層43a2、接着層43a3から構成され、光
学変化素子層43a2の両側に離型層43a1、接着層
43a3が設けられ、離型層43a1が支持体43bに
接着されている。図13(b)の光学変化素子転写箔4
3は図13(a)の転写箔と同様に構成されるが、接着
層43a3と光学変化素子層43a2との間に中間層4
3a4が設けられている。図13(c)の光学変化素子
転写箔43は図13(b)の転写箔と同様に構成される
が、光学変化素子層43a2と中間層43a4との間に
バリヤー層43a5が設けられている。図13(d)の
転写箔は図13(c)の転写箔と同様に構成されるが、
離型層43a1と光学変化素子層43a2との間に透明
保護層43a6が設けられている。
変化素子転写層430が支持体43bから剥離して転写
される。
14に示す。図14(a)の硬化型転写箔66は硬化型
保護層含有転写層660と支持体66bから構成され、
硬化型保護層含有転写層660は離型層66a1、硬化
層66a2、中間層66a4、接着層66a3から構成
され、硬化層66a2の両側に離型層66a1と中間層
66a4が設けられ、離型層66a1が支持体66bに
接着されている。図14(b)の硬化型転写箔66は図
14(a)の転写箔と同様に構成されるが、硬化層66
a2を2層設けている。図14(c)の硬化型転写箔6
6は図14(a)の転写箔と同様に構成されるが、接着
層66a3と中間層63a4との間にバリヤー層66a
5が設けられている。
層含有転写層660が支持体43bから剥離して転写さ
れる。
箔44の実施の形態を図15に示す。図15(a)の硬
化型樹脂層含有光学変化素子転写箔44は硬化型樹脂層
含有光学変化素子転写層440と支持体44bから構成
され、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層440は離
型層44a1、硬化層44a9、光学変化素子層44a
2、中間層44a4、バリヤー層44a5、接着層44
a3から構成され、離型層44a1が支持体44bに接
着されている。図15(b)の硬化型樹脂層含有光学変
化素子転写箔44は図15(a)の転写箔と同様に構成
されるが、中間層44a4がない構成であり、また図1
5(c)の硬化型樹脂層含有光学変化素子転写箔44は
図15(a)の転写箔と同様に構成されるが、バリヤー
層44a5がない構成である。
写箔44は、硬化型樹脂層含有光学変化素子転写層44
0が支持体44bから剥離して転写される。
化素子転写箔44は、硬化型樹脂層含有光学変化素子転
写層440が支持体44bから剥離して転写され、硬化
型樹脂層含有光学変化素子転写層440が、少なくと
も、離型層、硬化層、光学変化素子層、中間層、接着層
を有する構成であり、表面保護性、表面摩耗耐久性に優
れている。
像記録体表面側に位置する透明保護層が、紫外線硬化層
または電子線硬化層であることが表面保護性、表面摩耗
耐久性に優れ好ましい。
ハードコート層、蒸着層であることが、より偽変造防止
の硬化があり好ましい。
ード全面に熱転写されていることが表面保護性、表面摩
耗耐久性に優れ好ましい。
子転写箔のいずれかの層に、帯電防止剤が含有されてい
ることが好ましく、ゴミが付着しないカード、あるいは
シートを作成できる。
転写される転写箔の易接着加工されていることが、接着
性がよく好ましい。
層、離型層、透明保護層、光学変化素子層、バリヤー
層、中間層、接着層に少なくとも一層が設けられること
が好ましい。転写箔の帯電防止層は、帯電防止性に優れ
たアニオン性高分子物質及び/又は導電性粒子を含有す
る。 <J−1、この発明に使用する転写箔材料の詳細な説明
>この発明の転写箔は、離型層、透明樹脂層を有する支
持体からなることが好ましく、より好ましくは離型層、
透明樹脂層、中間層、バリヤー層、プライマー層、接着
層を少なくとも1つから成る層で構成されていることが
好ましい。場合により、ICチップ、又は光学変化素子
からなる転写箔等による偽変造防止も同時に実施をする
ことも可能である。 <J−1−1、転写箔用支持体>支持体としては例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレー
ト共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹
脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4
フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合
体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイ
ロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合
体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニル
アルコール、ビニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロ
ース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアク
リル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリ
ル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹
脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉
紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或い
はこれら2層以上の積層体が挙げられる。本発明の支持
体の厚みは10〜200μm望ましくは15〜80μm
である。10μm以下であると支持体が転写時に破壊し
てしまい問題である。この発明の特定離型層において
は、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
することができる。凹凸作成手段としては、マット剤練
り込み、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マット
コーティング、もしくはケミカルエッチング等が挙げら
れる。マットコーティングの場合有機物及び無機物のい
ずれでもよい。例えば、無機物としては、スイス特許第
330,158号等に記載のシリカ、仏国特許第1,2
96,995号等に記載のガラス粉、英国特許第1,1
73,181号等に記載のアルカリ土類金属又はカドミ
ウム、亜鉛等の炭酸塩、等をマット剤として用いること
ができる。有機物としては、米国特許第2,322,0
37号等に記載の澱粉、ベルギー特許第625,451
号や英国特許第981,198号等に記載された澱粉誘
導体、特公昭44−3643号等に記載のポリビニルア
ルコール、スイス特許第330,158号等に記載のポ
リスチレン或いはポリメタアクリレート、米国特許第
3,079,257号等に記載のポリアクリロニトリ
ル、米国特許第3,022,169号等に記載されたポ
リカーボネートの様な有機マット剤を用いることができ
る。マット剤の付着方法は、予め塗布液中に分散させて
塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、
乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いて
もよい。また、複数の種類のマット剤を添加する場合
は、両方の方法を併用してもよい。この発明で凹凸加工
する場合、転写面、背面のいずれか片面以上に施すこと
が可能である。 <J−1−2、転写箔層>剥離層としては、高ガラス転
移温度を有するアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ボリビニルブチラール樹脂などの樹脂、ワックス
類、シリコンオイル類、フッ素化合物、水溶性を有する
ポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニルアルコール樹
脂、Si変性ポリビニルアルコール、メチルセルロース
樹脂、ヒドロキシセルロース樹脂、シリコン樹脂、パラ
フィンワックス、アクリル変性シリコーン、ポリエチレ
ンワックス、エチレン酢酸ビニルなどの樹脂が挙げら
れ、他にポリジメチルシロキサンやその変性物、例えば
ポリエステル変性シリコーン、アクリル変性シリコー
ン、ウレタン変性シリコーン、アルキッド変性シリコー
ン、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、
ポリエーテル変性シリコーン等のオイルや樹脂、または
この硬化物、等が挙げられる。他のフッ素系化合物とし
ては、フッ素化オレフィン、パーフルオロ燐酸エステル
系化合物が挙げられる。好ましいオレフィン系化合物と
しては、ポリエチレン、ポリプロピレン等の分散物、ポ
リエチレンイミンオクタデシル等の長鎖アルキル系化合
物等が挙げられる。これらの離型剤で溶解性の乏しいも
のは分散するなどして用いることができる。転写箔を2
枚転写する場合は熱可塑性エラストマーを添加してもよ
い。熱可塑性エラストマーは具体的にスチレン系(スチ
レン・ブロック・コポリマー(SBC))、オレフィン
系(TP)、ウレタン系(TPU)、ポリエステル系
(TPEE)、ポリアミド系(TPAE)、1,2−ポ
リブタジエン系、塩ビ系(TPVC)、フッ素系、アイ
オノマー樹脂、塩素化ポリエチレン、シリコーン系等が
上げられ具体的には1996年度版「12996の化学
商品」(化学工業日報社)等に記載されている。
ンとポリオレフィンのブロックポリマーからなる引っ張
り伸びが100%以上熱可塑性エラストマーとは、スチ
レンおよび炭素数10以下の直鎖または分岐の飽和アル
キルのブロックからなる熱可塑性樹脂(以下熱可塑性樹
脂S1ともいう)を言う。特に、ポリスチレン相とポリ
オレフィンを水素添加した相をもつブロックポリマーで
あるスチレン−ブタジエン−スチレン(SBS)、スチ
レン−イソプレン−スチレン(SIS)、スチレン−エ
チレン/ブチレン−スチレン(SEBS)、スチレン−
エチレン/プロピレン−スチレン(SEPS)、スチレ
ン−エチレン/プロピレン(SEP)のブロックポリマ
ー等があげられる。
樹脂層或いは活性光線硬化層との間に熱硬化型樹脂層を
用いてもよい。具体的には、ポリエステル樹脂、アクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹
脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、ポリイ
ミド樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、
ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。
ール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、スチレ
ン、パラメチルスチレン、メタクリル酸エステル、アク
リル酸エステル等のビニル単量体やセルロース系、熱可
塑性ポリエステル、天然樹脂等、他の任意の高分子重合
体を併用してもよい。また、その他、赤松清監修、「新
・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987
年)や「10188の化学商品」657〜767頁(化
学工業日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分
子重合体を併用してもよい。 本発明においては、画像
記録体上に保護をする目的で光又は/熱硬化性層を転写
箔で設けることが好ましく、場合によりUV硬化液を画
像記録体上に塗工するために光または/熱硬化性層の他
に該一般的透明樹脂層を有することも可能である。
からなる材料であれば特に制限はない。具体的にはC−
1記載化合物等を使用することができる。該光又は/熱
硬化性層を使用する場合は、光硬化又は熱硬化があらか
じめしてあることが好ましいが場合により、半硬化済み
の光又は/熱硬化性層であっても良い。
ましく、より好ましくは0.3〜30μm、特に好まし
くは0.3〜25μmである。
の層から構成されることが好ましく場合によりプライマ
ー層、バリヤ層として介在しても層間の接着性をさらに
向上させてもよい。
樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、
ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹
脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポ
キシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、
ポリアクリロニトリル樹脂、SEBS樹脂、SEPS樹
脂、およびそれらの変性物などを用いることができる。
ましいのは、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、
アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレ
ン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンア
クリレート樹脂、SEBS樹脂、SEPS樹脂である。
これらの樹脂は一種を単独に用いることもできるし、二
種以上を組み合わせて用いることもできる。
ポリオレフィンのブロックポリマーからなる熱可塑性樹
脂、ポリビニルブチラール等が好ましい。本発明の中間
層において、重合度が1000以上のポリビニルブチラ
ール樹脂としては積水化学工業(株)製のエスレックB
H−3、BX−1、BX−2、BX−5、BX−55、
BH−S、電気化学工業(株)製のデンカブチラール#
4000−2、#5000−A、#6000−EP等が
市販されている。中間層のポリブチラールの熱硬化樹脂
としては熱硬化前の重合度に限定はなく低重合度の樹脂
でもよく、熱硬化にはイソシアネート硬化剤やエポキシ
硬化剤等を用いることができ、熱硬化条件は50〜90
℃で1〜24時間が好ましい。中間層の厚みは0.1〜
1.0μmが好ましい。また、その他の添加剤とを使用
しても良く特に制限はない。
してエチレン酢酸ビニル樹脂、エチンエチルアクリレー
ト樹脂、エチレンアクリル酸樹脂、アイオノマー樹脂、
ポリブタジエン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、ウレタン樹
脂、粘着付与剤(例えばフェノール樹脂、ロジン樹脂、
テルペン樹脂、石油樹脂など)などが挙げられそれらの
共重合体や混合物でもよい。具体的には、ウレタン変性
エチレンエチルアクリレート共重合体としては東邦化学
工業(株)製のハイテックS−6254、S−6254
B、S−3129等が市販され、ポリアクリル酸エステ
ル共重合体としては日本純薬(株)製のジュリマーAT
−210、AT−510、AT−613、互応化学工業
(株)製のプラスサイズL−201、SR−102、S
R−103、J−4等が市販されている。ウレタン変性
エチレンエチルアクリレート共重合体とポリアクリル酸
エステル共重合体の重量比は9:1から2:8が好まし
く、接着層の厚みは0.1〜1.0μmが好ましい。 <保護層と偽変造防止用画像記録体の密着性>この発明
においては、光又は熱硬化性樹脂層で保護するために該
転写箔を用いることができるが、転写箔と偽変造防止用
画像記録体との密着性が70〜100%の範囲であるこ
とが好ましく、より好ましくは75〜100%である。
製デジタルHFマイクロスコープVH−604を用い高
倍率レンズで2000倍にて表面を撮影し、密着部の面
積を求め下記の式から密着度を算出した。
いる様子が観察できた。
記録体を用い、保護層を用いることにより達成すること
ができた。また、偽造防止用画像記録体の表面を平滑化
する方法、例えばカレンダー処理、印圧UP等の方法を
用い表面を平滑化することができる。
が、通常サーマルヘッド、ヒートローラー、ホットスタ
ンプマシンなどの加熱しながら加圧を行える。好ましく
は加熱温度が170〜210℃であり、より好ましくは
180〜210℃である。加熱温度が170以下である
と密着性が劣化する。加熱時間にして、0.01sec
〜30sec好ましくは、0.01〜20secであ
る。圧力としては、3〜100kg/cm2が好まし
く、より好ましくは3〜50kgが好ましい。この圧力
がこれ以下の場合は密着性が劣化する。
子層転写層設けることが可能である。光学変化素子(O
ptical Variable Device:OV
D)とは、1)キネグラムのような回析格子の2次元の
CG画像であり、線画像構成の画像が移動、回転、膨
張、縮小等自由に動き変化する点に特徴があるもの、
2)Pixelgramのような画像がポジとネガに変
化する特徴があるようなもの、3)OSD(Optic
al Security Device)のような色が
金色から緑色に変化するもの、4)LEAD(Long
LastingEconomical Antico
py Device)のような像画が変化して見えるも
の、5)ストライブ型OVD、6)金属箔等を表し、日
本印刷学会誌(1998年)第35巻第6号P482〜
P496記載に有るような用紙の素材、特殊な印刷技
法、特殊インキ等でセキュリティを維持してもよい。こ
の発明においては、ホログラムがとくに好ましい。
ホログラム、フレネルホログラム、フラウンホーファー
ホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメ
ージホログラム等のレーザー再生ホログラム、リップマ
ンホログラム、レインボーホログラム等の白色再生ホロ
グラム、カラーホログラム、コンピュータホログラム、
ホログラムディスプレイ、マルチフレックスホログラ
ム、ホログラムフレックステレオグラム、ホログラフィ
ック回折格子等任意に採用できる。
トを受像層上に接着することによって形成することがで
きる。ホログラムシートとしては、レリーフ型ホログラ
ムシートを使用することができる。レリーフ型ホログラ
ムシートは、支持体フィルム上にホログラム形成層とホ
ログラム効果層とをこの順に積層してなる。具体的に言
うと、ホログラムシートは、例えばポリエチレンテフタ
レートフィルム等の支持体フィルムの表面に、常温で固
体であり、しかも熱形成性を有する樹脂層、例えば常温
で固体の熱可塑成性の電子線硬化性樹脂層(ホログラム
形成層)を形成し、この面にホログラムの干渉模様が凹
凸状に形成されているホログラム原版を加圧圧縮させ
て、凹凸形状を樹脂表面に転写し、硬化し、さらに凹凸
形状の表面に十分な透明性とある角度での大きな反射性
を兼ね備え、かつホログラム形成層と屈折率が異なる材
料(たとえばTiO2 、SiO2、ZnSの蒸着膜)
からなる薄膜のホログラム効果層を形成することによっ
て得ることができる。昼光、照明光等の白色光で像が再
生されるホログラムは、通常の状態でもホログラム像が
観察されるので、装飾性にも優れている。一方、レーザ
ー光によって像が再生されるタイプのものは、改ざんの
発見性に優れている。
ることができ、本発明にかかるビーズを有するビーズ保
有層は、人射光の一部に位相差を付与して再合成し、特
定波長領域の光成分を干渉により強調し入射光とは異な
る色調の着色光を入射光進入方向へ帰還させ、反射基板
と、基板上に整列配置された透明なビーズとを有する。
ビーズを有するビーズ保有層は、反射基板上に樹脂層を
設け、更にその表層側にガラス等よりなるビーズ径が1
0〜60μm、好ましくは15〜40μmのビーズを多
数整列配置して構成され、ビーズの光屈折率は1.6〜
2.1が好ましく、1.7〜2.0が更に好ましい。外
方より入射した入射光は、ビーズ内に進行し、少なくと
もその一部は透明なビーズより樹脂層を介して反射基板
に反射され、再度ビーズに帰還し、外方へ進行する。ビ
ーズの外方へ突出している面は球面であるので、人射角
の多少の変動があっても同様な作用を生じ、入射方向へ
反射光を帰還させることができる。
とができ、この発明の反射性層は、反射性層としては、
少なくとも金属薄膜、金属酸化物薄膜、光干渉性物質及
び光回折層から選ばれる。反射性層は干渉性物質、金属
酸化物、雲母等干渉色を発現できる粉末を含有する塗料
を任意の紋様に印刷することで設けることが好ましい。
鉄、低次酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸
化アルミニウム、酸化コバルト、酸化ニッケル、チタン
酸コバルトなど、及びLi2CoTi3O8あるいはK
NiTiOxなどの複合酸化物、あるいはこれらの金属
酸化物の混合物などが挙げられるが、干渉色を発現でき
る金属酸化物であれば、特にこれらに限定されるもので
はない。干渉物質層としては、金属膜の表面を酸化する
ことによって得られる干渉色を持った金属膜を用いるこ
とができる。これらの金属膜は、金属アルミニウム、金
属チタン、ステンレス膜などを陽極酸化する方法や、干
渉色を発現できる金属酸化物をゾルーゲル法によって調
製し、これをコートする方法あるいは干渉色を発現でき
る金属のアルコキシドを金属膜に塗布してこれを加熱分
解する方法、及びCVDやPVDのような蒸着操作法な
どが拳げられる。 「画像記録体上への転写箔付与方法」転写箔の被転写材
への転写は通常サーマルヘッド、ヒートローラー、ホッ
トスタンプマシンなどの加熱しながら加圧を行える手段
を用い転写を行う。 [実施例]以下、実施例を挙げてこの発明を詳細に説明
するが、この発明の態様はこれに限定されない。尚、以
下において「部」は「重量部」を示す。 −顔画像と属性情報とフォーマット印刷を設けた画像記
録体製造方法− (支持体の作成)厚さ350μmのポリエチレンテレフ
タレート〔帝人(株)製:テトロンHS350〕の両面
に白色ポリプロピレン樹脂〔三菱油化(株)製:ノーブ
レンFL25HA〕をエクストルージョンラミネート法
で厚み50μmになるように設けた。得られた複合樹脂
シートの一方の面に25W/m2・分でコロナ放電処理
を施し、このシートを支持体とした。
コロナ放電処理した面に下記組成の第1受像層形成用塗
工液、第2受像層形成用塗工液及び第3受像層形成用塗
工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが0.2
μm、2.5μm、0.5μmになるように積層するこ
とにより受像層を形成した。 〈第1受像層形成用塗工液〉 ポリビニルブチラール樹脂 9部 〔積水化学工業(株)製:エスレックBL−1〕 イソシアネート 1部 〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第2受像層形成用塗工液〉 ポリビニルブチラール樹脂 6部 〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕 金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第3受像層形成用塗工液〉 ポリエチレンワックス 2部 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕 ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕 メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部 水 90部 (筆記層の作成)支持体上の受像層とは反対面に王子油
化(株)製:ユポDFG−65シートを貼合し下記組成
の第1筆記層形成用塗工液、第2筆記層形成用塗工液及
び第3筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、そ
れぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになるよ
うに積層することにより受像層を形成した。 〈第1筆記層形成用塗工液〉 ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部 イソシアネート 1部 〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕 カーボンブラック 微量 二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第2筆記層形成用塗工液〉 ポリエステル樹脂 4部 〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕 シリカ 5部 二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部 水 90部 〈第3筆記層形成用塗工液〉 ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部 メタノール 95部 得られた筆記層の中心線平均粗さは1.34μmであっ
た。 (フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)受像層
上、筆記層上にオフセット印刷法により、フォーマット
印刷(従業員証、氏名)を行った。印刷インキはUV墨
インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯
で200mj相当であった。 [鱗片顔料を含む印刷パターン層用のインキ及び透明樹
脂層用のインキ作成]表1記載の組成物からなる印刷イ
ンキを用いロールミルにより混合し、印刷インキを作成
した。
した。
し、ドライオフセット印刷方式により、印刷パターン層
と透明樹脂層をフォーマット印刷を設けた画像記録体上
へ印刷を施した。尚、印刷時のUV照射条件は、高圧水
銀灯で200mj相当であった。印刷機に通した回数、
印刷インキ、版の位置、印圧の条件を表2に記載した。
録体1乃至6を得た。得られた画像記録体の構成図を図
24乃至図27に示す。図28は画像記録体1または画
像記録体3の表面図、図29は技変造防止カードの平面
図である。
刷パターン層の総面積率を表3に示す。 [熱移行化合物の処理1]耐熱性ベースとして、300
ミクロンのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィ
ルムのを使用し、画像記録体5〜6を表面温度200℃
に加熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラー
を用いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけ
て熱移行性化合物を受像層へ移行させた。
像記録体4も同様の処理を施した。 [熱移行化合物の処理2] 耐熱ベース上の受像層の形成 耐熱性ベースとして、188ミクロンのPET(ポリエ
チレンテレフタレート)フィルムにコロナ放電処理した
面に前記した第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成
用塗工液及び第3受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾
燥して、それぞれの厚みが0.2μm、2.5μm、
0.5μmになるように積層することにより耐熱性ベー
ス上に受像層を形成した。
熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用
いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて熱
移行性化合物を受像層へ移行させた。
像記録体4も同様の処理を施した。 −個人認証用カード作成方法− (昇華型感熱転写記録用のインクシートの作成)裏面に
融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレ
ートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工
液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形
成用塗工液を各々の厚みが1μmになるように設け、イ
エロー、マゼンタ、シアンの3色のインクシートを得
た。 〈イエローインク層形成用塗工液〉 イエロー染料(化合物Y−1) 3部 (三井東圧染料(株)社製 MS Yellow) ポリビニルアセタール 5.5部 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 ウレタン変性シリコンオイル 0.5部 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 〈マゼンタインク層形成用塗工液〉 マゼンタ染料(化合物M−1) 2部 (三井東圧染料(株)社製 MS Magenta) ポリビニルアセタール 5.5部 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 2部 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 ウレタン変性シリコンオイル 0.5部 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 〈シアンインク層形成用塗工液〉 シアン染料(化合物C−1) 3部 (日本化薬(株)社製 カヤセットブルー136) ポリビニルアセタール 5.6部 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 ウレタン変性シリコンオイル 0.5部 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 (溶融型感熱転写記録用のインクシートの作成)裏面に
融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレ
ートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが
2μmになる様に塗布乾燥してインクシートを得た。 〈インク層形成用塗工液〉 カルナバワックス 1部 エチレン酢酸ビニル共重合体 1部 〔三井デュポンケミカル社製:EV40Y〕 カーボンブラック 3部 フェノール樹脂〔荒川化学工業(株)製:タマノル521〕 5部 メチルエチルケトン 90部 (顔画像の形成)受像層又は透明樹脂部、鱗片顔料含有
層と昇華型感熱転写記録用のインクシートのインク側を
重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて
出力0.23W/ドット、パルス幅0.3〜4.5m
秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱すること
により画像に階調性のある人物画像を受像層に形成し
た。この画像においては上記色素と受像層のニッケルが
錯体を形成している。 (文字情報の形成)受像層又は透明樹脂部、鱗片顔料含
有層と溶融型感熱転写記録用のインクシートのインク側
を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用い
て出力0.5W/ドット、パルス幅1.0m秒、ドット
密度16ドット/mmの条件で加熱することにより文字
情報を透明樹脂部又は鱗片顔料含有層に形成した。
坦持体層を設けた。 実施例 [合成例1] 活性光線硬化層使用樹脂1 窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸メチル
73部、スチレン15部、メタアクリル酸12部とエタ
ノール500部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリ
ル3部を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間
反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライ
ド3部、グリシジルメタクリレート1.0部を加え、3
時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダ
ー1を得た。Mw.17000、酸価32 [実施例1] (透明樹脂転写箔1の作成)ダイアホイルヘキスト
(株)製ポリエチレンテレフタレート(S−25)の片
面に下記処方をワイヤーバーコーティングにて塗工乾燥
して、実施例1〜3の保護層を形成した。 (離型層) 膜厚 0.5μm アクリル系樹脂(三菱レイヨン(株)製、 ダイアナールBR−87) 5部 ポリビニルアセトアセタール(SP値:9.4) (積水化学(株)、KS−1) 5部 メチルエチルケトン 40部 トルエン 50部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行った。 〈中間層形成塗工液〉 膜厚0.3μm ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 5部 タフテックスM−1913(旭化成) 3.5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製]1.5部 メチルエチルケトン 20部 トルエン 70部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行い、硬化剤の硬
化は、50℃、24時間で行った。 〈バリヤー層形成塗工液〉 膜厚0.5μm BX−1(ポリビニルブチラール樹脂) 4部 〔積水化学(株)製:エスレックBシリーズ〕 タフテックスM−1913(旭化成) 4部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 2部 トルエン 50部 メチルエチルケトン 40部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。 〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.3μm ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
成される透明樹脂転写箔1を作成した。
上に前記構成からなる透明保護層を有する各実施例、比
較例記載の転写箔を用いて表面温度200℃に加熱し
た、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用いて
圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転写を
行なった。
前記紫外線硬化樹脂含有塗布液を20g/m2の塗布量
になるように特定の地模様を持つグラビアロールコータ
ーにより塗布し、下記の硬化条件にて紫外線硬化樹脂含
有塗布液1を硬化させて紫外線硬化保護層を形成した。
行った。 (活性光線硬化性化合物) 膜厚7.0μm 新中村化学社製 A−9300/新中村化学社製 EA−1020=35/11.75部 反応開始剤 イルガキュア184日本チバガイギー社製 5部 活性光線硬化層使用樹脂1 48部 大日本インキ界面活性剤F−179 0.25部 トルエン 500部 塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30sec
で乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で
光硬化を行った。 〈中間層形成塗工液〉 膜厚1.0μm ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 3.5部 タフテックスM−1913(旭化成) 5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製]1.5部 メチルエチルケトン 90部 塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。 〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.5μm ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
又は透明樹脂層、鱗片顔料含有層上に前記構成からなる
活性光線硬化型転写箔1を用いて表面温度200℃に加
熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用
いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転
写を行なった。詳細な内容は表3に示す。 [実施例3] (光学変化素子転写箔1の作成) (離型層形成塗工液) 膜厚0.2μm ポリビニルアルコール(GL−05)(日本合成化学(株)製) 10部 水 90部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行った。 (光学変換素子層) 膜厚2μm 〈中間層形成塗工液〉 膜厚1.0μm ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕3.5部 タフテックスM−1913(旭化成) 5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製]1.5部 メチルエチルケトン 90部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行い、塗布後硬化
剤の硬化は、50℃、24時間で行った。 〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.5μm ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
上に前記構成からなる光学変化素子転写箔1を用いて表
面温度200℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85の
ヒートローラーを用いて圧力150kg/cm2で1.
2秒間熱をかけて転写をおこなった。詳細な内容は表3
に示す。 [曲げ適性の評価]このように作成された個人認証カー
ドを、図30に示すようにして、カードの長辺方向:た
わみ35mm、カードの短辺方向:たわみ15mmとな
るように、125回毎に長辺方向、短辺方向を周期30
/minの条件で合計1000回のテストを行った。得
られた結果を表3に示す。 ○:印刷パターン層のはがれ、ひび割れがない。 △:印刷パターン層にひじ割れが発生している。 ×:印刷パターン層のひじ割れた部分の表面保護層が脱
落し、はがれてしまっている。 <曲げ適性後のテープ剥離>硬化した保護層の表面にセ
ロハン粘着テープ(ニチバン製)を強く貼り付け、急速
に表面からセロハン粘着テープを剥離した後、剥離状態
をJIS K−5400碁盤目テープ法規定の方法で、
評価した。結果は表3に示す。
0°の角度で切り込み、素地に達する1mmまたは1.
5mmの碁盤目100個(10×10)を作り、この時
はがれないで残った塗膜の碁盤目数を測定した。全体的
に接着性が良好な塗膜である場合には、碁盤目を作った
後、その表面にセロテープ(登録商標)を貼り、テープ
をはがして碁盤目のはがれた厚み方向の部位とはがれた
数を測定して評価した。
た。
では、鱗片顔料を含む印刷パターン層が複数層を有し、
かつ隣接する層の面積が異なるように形成されているこ
とで、曲げ耐性、偽変造防止性を向上することができ
る。
層は、下層が外部にはみ出さないように覆うように構成
されていることで、はがれが防止でき、かつ曲げ耐性が
向上する。
が、鱗片顔料を含む印刷パターン層の全面或いは一部に
重なるように形成されていることで、曲げ耐性、偽変造
防止性が向上する。
ト印刷機で印刷パターン層と透明樹脂層を印刷によって
形成することができる。
のブランケット胴と圧胴間の印圧が通常の1.5倍以上
の印圧であることで、曲げ耐性を向上でき、かつ平滑面
となり印字性が向上する。
以上の印刷ユニットで透明樹脂層を平滑面とすることが
でき、曲げ耐性及び印字性が向上する。
の鱗片顔料を含む印刷パターン層の総面積率が20%以
上であり、偽変造防止性、真偽判別性を向上することが
できる。
請求項3のいずれか1項に記載の画像記録体上の鱗片顔
料を含む印刷パターン層の総面積率が20%以上である
ことで、より一層、偽変造防止性、真偽判別性を向上す
ることができる。
化可能な透明樹脂層を塗布し、次いで露光され表面保護
されることで、印刷パターン層に亀裂が生じたり、はが
れることが防止でき、保護層密着性が向上する。
なくとも1回以上熱転写して表面保護されることで、印
刷パターン層に亀裂が生じたり、はがれることが防止で
き、保護層密着性が向上する。
に個人情報として顔画像、住所、名前、生年月日等の個
人情報が記載してあり、従業者証、社員証、会員証、学
生証、外国人登録証及び各種免許証等とすることができ
る。
含む印刷パターン層が、鱗片顔料、活性光線硬化樹脂、
活性光線非硬化性でかつ熱移行性化合物を含む印刷パタ
ーン層であり、亀裂の発生や、はがれを防止でき、偽変
造防止性、真偽判別性を向上することができる。
いることで、亀裂の発生や、はがれを防止でき、偽変造
防止性、真偽判別性を向上する偽変造防止用カードを製
造することができる。
スを介して印刷パターン層の部分を加熱加圧処理するこ
とで、はがれを防止でき、偽変造防止性、真偽判別性を
向上する偽変造防止用カードを製造することができる。
スの片面には熱移行性化合物受容層が設けられているこ
とで、はがれを防止でき、偽変造防止性、真偽判別性を
向上する偽変造防止用カードを製造することができる。
硬化可能な樹脂層を塗布し、次いで露光され表面保護さ
れることで、印刷パターン層に亀裂が生じたり、はがれ
ることが防止でき、保護層密着性が向上する。
なくとも1回以上熱転写して、良好な偽変造防止用カー
ドを製造することができる。
に個人情報として顔画像、住所、名前、生年月日等の個
人情報が記載してあり、従業者証、社員証、会員証、学
生証、外国人登録証及び各種免許証等とすることができ
る。
カードを示す図である。
カードを示す図である。
カードを示す図である。
る。
ある。
の形態を示す図である。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
る。
ある。
Claims (18)
- 【請求項1】基材上に、フォーマット印刷からなる情報
坦持体、鱗片顔料を含む印刷パターン層を有する画像記
録体において、 前記鱗片顔料を含む印刷パターン層は、複数層を有し、
かつ隣接する層の面積が異なるように形成されているこ
とを特徴とする画像記録体。 - 【請求項2】前記印刷パターン層は、基材側から最外層
が、印刷パターン層の中で最も大きい面積であり、下層
が外部にはみ出さないように覆うように構成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の画像記録体。 - 【請求項3】基材上に、フォーマット印刷からなる情報
坦持体、鱗片顔料を含む印刷パターン層を有する画像記
録体において、 少なくとも1層の透明樹脂層を有し、この透明樹脂層
が、鱗片顔料を含む印刷パターン層の全面或いは一部に
重なるように形成されていることを特徴とする請求項1
または請求項2に記載の画像記録体。 - 【請求項4】複数の印刷ユニットを具備する多色オフセ
ット印刷機によって、請求項1乃至請求項3のいずれか
1項に記載の画像記録体の印刷パターン層と、透明樹脂
層を形成することを特徴とする画像記録体の製造方法。 - 【請求項5】少なくとも1層の印刷パターン層を設けた
後に、印刷パターン層を印刷しない印刷ユニットを通し
て透明樹脂層を形成し、かつ前記印刷ユニットのブラン
ケット胴と圧胴間の印圧が通常の1.5倍以上の印圧で
あることを特徴とする請求項4に記載の画像記録体の製
造方法。 - 【請求項6】前記印圧1.5倍以上の印刷ユニットで透
明樹脂層を形成することを特徴とする請求項5に記載の
画像記録体の製造方法。 - 【請求項7】基材上に、フォーマット印刷からなる情報
坦持体、鱗片顔料を含む印刷パターン層を有する画像記
録体において、 前記画像記録体上の前記鱗片顔料を含む印刷パターン層
の総面積率が20%以上であることを特徴とする画像記
録体。 - 【請求項8】請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記
載の画像記録体上の鱗片顔料を含む印刷パターン層の総
面積率が20%以上であることを特徴とする画像記録
体。 - 【請求項9】請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記
載の画像記録体上に、光または熱硬化可能な透明樹脂層
を塗布し、次いで露光され表面保護されていることを特
徴とする偽変造防止用カードの製造方法。 - 【請求項10】請求項1乃至請求項8のいずれか1項に
記載の画像記録体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層
を有する支持体上からなる転写箔を少なくとも1回以上
熱転写し表面保護されていることを特徴とする偽変造防
止用カードの製造方法。 - 【請求項11】請求項9または請求項10に記載の偽変
造防止用カードの製造方法で製造され、画像記録体に個
人情報として顔画像、住所、名前、生年月日等の個人情
報が記載してあることを特徴とする偽変造防止用カー
ド。 - 【請求項12】基材上に、受像層を有し、フォーマット
印刷からなる情報坦持体、鱗片顔料を含む印刷パターン
層を有する画像記録体において、 前記鱗片顔料を含む印刷パターン層が、鱗片顔料、活性
光線硬化樹脂、活性光線非硬化性でかつ熱移行性化合物
を含む印刷パターン層であることを特徴とする画像記録
体。 - 【請求項13】前記画像記録体に、支持体上に、離型
層、硬化層、接着層を有する転写箔を重ね、加熱加圧し
て接着させるとともに、熱移行性化合物を受像層及び接
着層側に移行させた後、前記支持体を剥がして転写層を
転写することを特徴とする偽変造防止用カードの製造方
法。 - 【請求項14】請求項12に記載の画像記録体に、耐熱
性ベースを介して少なくとも印刷パターン層の部分を加
熱加圧処理することを特徴とする画像記録体の製造方
法。 - 【請求項15】前記耐熱性ベースの片面には熱移行性化
合物受容層が設けられていることを特徴とする請求項1
4に記載の画像記録体の製造方法。 - 【請求項16】請求項14または請求項15に記載の画
像記録体上に、光または熱硬化可能な樹脂層を塗布し、
次いで露光され表面保護されていることを特徴とする偽
変造防止用カードの製造方法。 - 【請求項17】請求項1乃至請求項8のいずれか1項に
記載の画像記録体上に、少なくとも離型層、透明樹脂層
を有する支持体上からなる転写箔を少なくとも1回以上
熱転写したことを特徴とする偽変造防止用カードの製造
方法。 - 【請求項18】請求項12、請求項14または請求項1
5のいずれか1項に記載の画像記録体に個人情報として
顔画像、住所、名前、生年月日等の個人情報が記載して
あることを特徴とする偽変造防止用カード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001342674A JP4066639B2 (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 画像記録体、偽変造防止用カード及び画像記録体の製造方法、偽変造防止用カードの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001342674A JP4066639B2 (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 画像記録体、偽変造防止用カード及び画像記録体の製造方法、偽変造防止用カードの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003145911A true JP2003145911A (ja) | 2003-05-21 |
JP2003145911A5 JP2003145911A5 (ja) | 2005-06-16 |
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Family
ID=19156490
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008139628A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム転写箔 |
JP2009269309A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | National Printing Bureau | 真偽判別可能な情報担持体 |
CN101990675B (zh) * | 2008-03-14 | 2014-10-08 | 联邦印刷有限公司 | 带发射型显示设备的文件 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008139628A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム転写箔 |
CN101990675B (zh) * | 2008-03-14 | 2014-10-08 | 联邦印刷有限公司 | 带发射型显示设备的文件 |
JP2009269309A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | National Printing Bureau | 真偽判別可能な情報担持体 |
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---|---|
JP4066639B2 (ja) | 2008-03-26 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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