JP2003142671A - 固体撮像素子 - Google Patents
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Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 F値が小さい場合のシェーディングの発生を
防止する。 【解決手段】 平坦化膜140中に埋設された反射体4
は、平面視において各光センサー106ごとに光センサ
ーを囲む略矩形の枠状に形成され、各辺部はそれぞれ板
状を呈し、反射面としての側面6は平坦であり、光セン
サー106の正面方向Cに対してほぼ平行に延在してい
る。反射体4は、絶縁材料により形成され、絶縁材料は
平坦化膜140とは異なる屈折率を有している。したが
って、光センサー106に対して斜めに入射して反射体
4の表面に到達した光10は、反射体4と平坦化膜14
0との屈折率が異なっていることから、反射体4の表面
で反射して光センサーに入射する。その結果、斜めに入
射する光に対しても高い感度が得られ、F値が小さい場
合に撮影画像周辺部が暗くなる現象を防止できる。
防止する。 【解決手段】 平坦化膜140中に埋設された反射体4
は、平面視において各光センサー106ごとに光センサ
ーを囲む略矩形の枠状に形成され、各辺部はそれぞれ板
状を呈し、反射面としての側面6は平坦であり、光セン
サー106の正面方向Cに対してほぼ平行に延在してい
る。反射体4は、絶縁材料により形成され、絶縁材料は
平坦化膜140とは異なる屈折率を有している。したが
って、光センサー106に対して斜めに入射して反射体
4の表面に到達した光10は、反射体4と平坦化膜14
0との屈折率が異なっていることから、反射体4の表面
で反射して光センサーに入射する。その結果、斜めに入
射する光に対しても高い感度が得られ、F値が小さい場
合に撮影画像周辺部が暗くなる現象を防止できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は固体撮像素子に関
し、特に固体撮像素子において光を効率よく光センサー
に入射させる技術に関するものである。
し、特に固体撮像素子において光を効率よく光センサー
に入射させる技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】固体撮像素子は、ビデオカメラやデジタ
ルスチルカメラの撮像手段として、さらにはパーソナル
コンピュータや通信端末装置の画像入力手段として広く
用いられている。固体撮像素子には種々のタイプのもの
が存在するが、インターライン方式の固体撮像素子が最
も一般的となっている。図2は従来のインターライン方
式の固体撮像素子の一例を示す概略平面図、図3は図2
におけるAA’線に沿った部分断面側面図である。図2
に示したように、従来の固体撮像素子102は、半導体
基板104の上に設けた多数の光センサー106(フォ
トダイオード)、垂直電荷転送レジスター108、水平
電荷転送レジスター110などにより構成されている。
光センサー106はマトリクス状に配列され、垂直電荷
転送レジスター108は、光センサー106の各列ごと
に光センサー106の列に沿って延設されている。水平
電荷転送レジスター110は垂直電荷転送レジスター1
08の一方の端部側に垂直電荷転送レジスター108に
直交して、すなわち光センサー106の行の方向に延設
され、その出力端には電荷電圧変換を行うフローティン
グディフュージョン部112(FD部112)が設けら
れている。FD部112が生成した映像信号は出力回路
114を通じて低インピーダンスで固体撮像素子102
の外部に出力される。
ルスチルカメラの撮像手段として、さらにはパーソナル
コンピュータや通信端末装置の画像入力手段として広く
用いられている。固体撮像素子には種々のタイプのもの
が存在するが、インターライン方式の固体撮像素子が最
も一般的となっている。図2は従来のインターライン方
式の固体撮像素子の一例を示す概略平面図、図3は図2
におけるAA’線に沿った部分断面側面図である。図2
に示したように、従来の固体撮像素子102は、半導体
基板104の上に設けた多数の光センサー106(フォ
トダイオード)、垂直電荷転送レジスター108、水平
電荷転送レジスター110などにより構成されている。
光センサー106はマトリクス状に配列され、垂直電荷
転送レジスター108は、光センサー106の各列ごと
に光センサー106の列に沿って延設されている。水平
電荷転送レジスター110は垂直電荷転送レジスター1
08の一方の端部側に垂直電荷転送レジスター108に
直交して、すなわち光センサー106の行の方向に延設
され、その出力端には電荷電圧変換を行うフローティン
グディフュージョン部112(FD部112)が設けら
れている。FD部112が生成した映像信号は出力回路
114を通じて低インピーダンスで固体撮像素子102
の外部に出力される。
【0003】垂直電荷転送レジスター108および水平
電荷転送レジスター110の電荷転送路上には、トラン
スファー電極およびストレッジ電極の対から成る転送電
極(図2では省略されている)が、各転送レジスターに
おける電荷転送方向に配列され、これらの電極に転送パ
ルスを印加することで信号電荷が転送レジスター上を転
送される。
電荷転送レジスター110の電荷転送路上には、トラン
スファー電極およびストレッジ電極の対から成る転送電
極(図2では省略されている)が、各転送レジスターに
おける電荷転送方向に配列され、これらの電極に転送パ
ルスを印加することで信号電荷が転送レジスター上を転
送される。
【0004】各光センサー106が受光して生成した信
号電荷は、垂直電荷転送レジスター108の転送電極に
読み出し電圧を印加することによって、光センサー10
6の各列ごとに、垂直電荷転送レジスター108に一斉
に読み出される。その後、垂直電荷転送レジスター10
8を、その転送電極に転送パルスを印加して駆動するこ
とで、光センサー106から読み出された信号電荷は垂
直電荷転送レジスター108上を水平電荷転送レジスタ
ー110に向けて順次転送され、光センサー106の1
行分の信号電荷ごとに水平電荷転送レジスター110に
供給される。
号電荷は、垂直電荷転送レジスター108の転送電極に
読み出し電圧を印加することによって、光センサー10
6の各列ごとに、垂直電荷転送レジスター108に一斉
に読み出される。その後、垂直電荷転送レジスター10
8を、その転送電極に転送パルスを印加して駆動するこ
とで、光センサー106から読み出された信号電荷は垂
直電荷転送レジスター108上を水平電荷転送レジスタ
ー110に向けて順次転送され、光センサー106の1
行分の信号電荷ごとに水平電荷転送レジスター110に
供給される。
【0005】水平電荷転送レジスター110に供給され
た光センサー1行分の信号電荷は、水平電荷転送レジス
ター110を転送パルスにより駆動することで、水平電
荷転送レジスター110上をFD部112に向けて順次
転送され、水平電荷転送レジスター110の端部よりF
D部112に出力される。信号電荷はFD部112にお
いて電圧に変換され、出力回路114より映像信号とし
て低インピーダンスで外部に出力される。
た光センサー1行分の信号電荷は、水平電荷転送レジス
ター110を転送パルスにより駆動することで、水平電
荷転送レジスター110上をFD部112に向けて順次
転送され、水平電荷転送レジスター110の端部よりF
D部112に出力される。信号電荷はFD部112にお
いて電圧に変換され、出力回路114より映像信号とし
て低インピーダンスで外部に出力される。
【0006】次に、光センサー106周辺の断面構造に
ついて詳しく説明する。固体撮像素子102はたとえば
n型の半導体基板104により形成され、図3に示した
ように、半導体基板104の表面側にはp型ウェル領域
116が形成されている。このp型ウェル領域116の
上層部に、光センサー106や、垂直電荷転送レジスタ
ー108の垂直電荷転送路118が形成されている。光
センサー106はn型領域120を含み、このn型領域
120と、その下に接するp型ウェル領域116とによ
りフォトダイオードとしてのpn接合が形成されてい
る。光センサー106はまた、その表面部にノイズの低
減を図るための、高濃度のp型不純物を含むp+領域1
22を有している。
ついて詳しく説明する。固体撮像素子102はたとえば
n型の半導体基板104により形成され、図3に示した
ように、半導体基板104の表面側にはp型ウェル領域
116が形成されている。このp型ウェル領域116の
上層部に、光センサー106や、垂直電荷転送レジスタ
ー108の垂直電荷転送路118が形成されている。光
センサー106はn型領域120を含み、このn型領域
120と、その下に接するp型ウェル領域116とによ
りフォトダイオードとしてのpn接合が形成されてい
る。光センサー106はまた、その表面部にノイズの低
減を図るための、高濃度のp型不純物を含むp+領域1
22を有している。
【0007】垂直電荷転送レジスター108は、光セン
サー106に隣接して設けられ、その垂直電荷転送路1
18は半導体基板104の表面部に形成されたn型領域
124およびp型領域126を含み、これらは垂直電荷
転送レジスター108における信号電荷の転送方向、す
なわち図3の紙面に直交する方向に延在している。n型
領域124の上には、半導体基板104の表面全体に形
成された絶縁膜128を介して、たとえばポリシリコン
による転送電極130が形成され、転送電極130は絶
縁膜132を介して遮光膜134により覆われている。
サー106に隣接して設けられ、その垂直電荷転送路1
18は半導体基板104の表面部に形成されたn型領域
124およびp型領域126を含み、これらは垂直電荷
転送レジスター108における信号電荷の転送方向、す
なわち図3の紙面に直交する方向に延在している。n型
領域124の上には、半導体基板104の表面全体に形
成された絶縁膜128を介して、たとえばポリシリコン
による転送電極130が形成され、転送電極130は絶
縁膜132を介して遮光膜134により覆われている。
【0008】光センサー106とn型領域124との間
の領域は信号電荷の読み出しゲート部136であり、図
3に示したように、転送電極130は読み出しゲート部
136の上部にまで延出しており、光センサー106か
ら信号電荷を読み出す際に、転送電極130に印加した
読み出し電圧が読み出しゲート部136に印加され、光
センサー106に蓄積している信号電荷が垂直電荷転送
路118に移動する構造となっている。垂直電荷転送路
118を成すn型領域124の、読み出しゲート部13
6と反対側の側部には、高濃度のp型不純物を含むチャ
ネルストップ領域138が形成されている。
の領域は信号電荷の読み出しゲート部136であり、図
3に示したように、転送電極130は読み出しゲート部
136の上部にまで延出しており、光センサー106か
ら信号電荷を読み出す際に、転送電極130に印加した
読み出し電圧が読み出しゲート部136に印加され、光
センサー106に蓄積している信号電荷が垂直電荷転送
路118に移動する構造となっている。垂直電荷転送路
118を成すn型領域124の、読み出しゲート部13
6と反対側の側部には、高濃度のp型不純物を含むチャ
ネルストップ領域138が形成されている。
【0009】そして、半導体基板104の表面は透明な
絶縁材料、たとえばシリコンの酸化物からなる平坦化膜
140により覆われ、その上にカラーフィルター142
が各光センサーごとに配置されており、さらに、カラー
フィルター142の上に各光センサーごとにオンチップ
レンズ144が形成されている。このオンチップレンズ
144によって、各光センサーに向かう光は収束して効
果的に光センサーに入射し、その結果、固体撮像素子1
02の感度が向上する。なお、図2では遮光膜134、
平坦化膜140、カラーフィルター142、ならびにオ
ンチップレンズ144などは示されていない。
絶縁材料、たとえばシリコンの酸化物からなる平坦化膜
140により覆われ、その上にカラーフィルター142
が各光センサーごとに配置されており、さらに、カラー
フィルター142の上に各光センサーごとにオンチップ
レンズ144が形成されている。このオンチップレンズ
144によって、各光センサーに向かう光は収束して効
果的に光センサーに入射し、その結果、固体撮像素子1
02の感度が向上する。なお、図2では遮光膜134、
平坦化膜140、カラーフィルター142、ならびにオ
ンチップレンズ144などは示されていない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
固体撮像素子102を用いたカメラでは、通常の銀塩フ
ィルムを用いたカメラと同様に、固体撮像素子102の
前方に光学レンズが配置されるとともに、絞り機構が設
けられ、被写体の明るさに応じて絞りが調整される。そ
して、光学レンズの口径は大きいほど、被写体が暗い場
合でも絞りを開いて鮮明に撮影することが可能となる。
固体撮像素子102を用いたカメラでは、通常の銀塩フ
ィルムを用いたカメラと同様に、固体撮像素子102の
前方に光学レンズが配置されるとともに、絞り機構が設
けられ、被写体の明るさに応じて絞りが調整される。そ
して、光学レンズの口径は大きいほど、被写体が暗い場
合でも絞りを開いて鮮明に撮影することが可能となる。
【0011】しかし、従来の固体撮像素子102では、
口径の大きなレンズを用い、そして絞りを開くと(つま
りF値を小さくすると)、撮影画像の周辺部ほど暗くな
るシェーディングが生じ易くなる。すなわち、撮影視野
範囲における周辺部の撮影対象からの光は、固体撮像素
子102における周辺部の光センサーに対して斜めに入
射することになるが、オンチップレンズ144に対して
実線146(図3)により示したように、光りが斜めに
入射すると、光の収束位置は光センサーの中央からズレ
るため、光センサーへの入射光量が減少して感度が低下
する。この現象はF値が小さいほど顕著となり、シェー
ディングが現れ易くなる。
口径の大きなレンズを用い、そして絞りを開くと(つま
りF値を小さくすると)、撮影画像の周辺部ほど暗くな
るシェーディングが生じ易くなる。すなわち、撮影視野
範囲における周辺部の撮影対象からの光は、固体撮像素
子102における周辺部の光センサーに対して斜めに入
射することになるが、オンチップレンズ144に対して
実線146(図3)により示したように、光りが斜めに
入射すると、光の収束位置は光センサーの中央からズレ
るため、光センサーへの入射光量が減少して感度が低下
する。この現象はF値が小さいほど顕著となり、シェー
ディングが現れ易くなる。
【0012】本発明はこのような問題を解決するために
なされたもので、その目的は、F値が小さい場合でもシ
ェーディングが生じることのない固体撮像素子を提供す
ることにある。
なされたもので、その目的は、F値が小さい場合でもシ
ェーディングが生じることのない固体撮像素子を提供す
ることにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、半導体基板上に複数の光センサーを配列して
構成した固体撮像素子であって、前記光センサーの正面
方向に対し斜めに入射する光を反射して前記光センサー
に入射させる反射体を各光センサーごとに前記光センサ
ーに近接して前記半導体基板上に設けたことを特徴とす
る。本発明の固体撮像素子では、光センサーの正面方向
に対して斜めに入射した光は反射体により反射して光セ
ンサーに入射する。よって、被写体からの光は、オンチ
ップレンズが設けられていないにもかかわらず光センサ
ーに効果的に集められ、高い感度が得られる。そして、
オンチップレンズを用いた場合のように収束点のズレの
問題がないため、入射光の入射角度による感度の変化は
小さい。したがって、周辺部に配置された光センサーに
光が斜めに入射しても感度の低下は少なく、F値が小さ
い場合でもシェーディング現象は発生し難い。さらに、
本発明ではオンチップレンズを設ける必要がないため、
固体撮像素子の薄型化に有利である。
するため、半導体基板上に複数の光センサーを配列して
構成した固体撮像素子であって、前記光センサーの正面
方向に対し斜めに入射する光を反射して前記光センサー
に入射させる反射体を各光センサーごとに前記光センサ
ーに近接して前記半導体基板上に設けたことを特徴とす
る。本発明の固体撮像素子では、光センサーの正面方向
に対して斜めに入射した光は反射体により反射して光セ
ンサーに入射する。よって、被写体からの光は、オンチ
ップレンズが設けられていないにもかかわらず光センサ
ーに効果的に集められ、高い感度が得られる。そして、
オンチップレンズを用いた場合のように収束点のズレの
問題がないため、入射光の入射角度による感度の変化は
小さい。したがって、周辺部に配置された光センサーに
光が斜めに入射しても感度の低下は少なく、F値が小さ
い場合でもシェーディング現象は発生し難い。さらに、
本発明ではオンチップレンズを設ける必要がないため、
固体撮像素子の薄型化に有利である。
【0014】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態例につい
て図面を参照して説明する。図1の(A)は本発明によ
る固体撮像素子の一例を示す部分概略平面図、(B)は
(A)におけるBB’線に沿った部分断面図である。図
中、図2、図3と同一の要素には同一の符号が付されて
おり、それらに関する詳しい説明はここでは省略する。
実施の形態例の固体撮像素子は一例としてインターライ
ン方式の固体撮像素子であり、垂直電荷転送レジスタ
ー、水平電荷転送レジスター、光センサーなどの平面的
な構造、および遮光膜以下の断面構造は図2、図3に示
した従来の固体撮像素子と基本的に同一である。
て図面を参照して説明する。図1の(A)は本発明によ
る固体撮像素子の一例を示す部分概略平面図、(B)は
(A)におけるBB’線に沿った部分断面図である。図
中、図2、図3と同一の要素には同一の符号が付されて
おり、それらに関する詳しい説明はここでは省略する。
実施の形態例の固体撮像素子は一例としてインターライ
ン方式の固体撮像素子であり、垂直電荷転送レジスタ
ー、水平電荷転送レジスター、光センサーなどの平面的
な構造、および遮光膜以下の断面構造は図2、図3に示
した従来の固体撮像素子と基本的に同一である。
【0015】図1に示した本実施の形態例の固体撮像素
子2が、従来の固体撮像素子と異なるのは、オンチップ
レンズを除去するとともに、平坦化膜140(図1の
(B))中に反射体4を設けた点である。反射体4は、
光センサー106ごとに光センサー106に近接して設
けられ、光センサー106の正面方向Cに対して斜めに
入射する光を反射して光センサー106に入射させるよ
う形成されており、より詳しくは、反射体4は、平坦化
膜140中に埋設され、平坦化膜140とは異なる屈折
率を有する、たとえば石英などの材料により形成されて
いる。そして、平面視において各光センサー106ごと
に光センサー106を囲む略矩形の枠状に形成され、各
辺部は、それぞれ板状を呈して、深さ方向では平坦化膜
140の底部から上面までの全体に延在し、反射面とし
ての側面6は、光センサー106の正面方向Cに対して
ほぼ平行となっている。平坦化膜140の上には、従来
と同様にカラーフィルター142が形成されているが、
カラーフィルター142の上には、従来とは異なり、オ
ンチップレンズは設けられていない。なお、図1の
(A)ではカラーフィルターは示されていない。
子2が、従来の固体撮像素子と異なるのは、オンチップ
レンズを除去するとともに、平坦化膜140(図1の
(B))中に反射体4を設けた点である。反射体4は、
光センサー106ごとに光センサー106に近接して設
けられ、光センサー106の正面方向Cに対して斜めに
入射する光を反射して光センサー106に入射させるよ
う形成されており、より詳しくは、反射体4は、平坦化
膜140中に埋設され、平坦化膜140とは異なる屈折
率を有する、たとえば石英などの材料により形成されて
いる。そして、平面視において各光センサー106ごと
に光センサー106を囲む略矩形の枠状に形成され、各
辺部は、それぞれ板状を呈して、深さ方向では平坦化膜
140の底部から上面までの全体に延在し、反射面とし
ての側面6は、光センサー106の正面方向Cに対して
ほぼ平行となっている。平坦化膜140の上には、従来
と同様にカラーフィルター142が形成されているが、
カラーフィルター142の上には、従来とは異なり、オ
ンチップレンズは設けられていない。なお、図1の
(A)ではカラーフィルターは示されていない。
【0016】このような構成において、光センサー10
6に対し真正面から入射した光8はそのまま光センサー
106に入射する一方、光センサー106に対して斜め
に入射して反射体4の表面に到達した光10は、反射体
4と平坦化膜140との屈折率が異なっていることか
ら、反射体4の表面で反射して光センサー106に入射
する。よって、本実施の形態例の固体撮像素子2では、
被写体からの光は、オンチップレンズが形成されていな
いにもかかわらず光センサー106に効果的に集められ
ることから、高い感度が得られる。そして、オンチップ
レンズを用いた場合のように収束点のズレの問題がない
ため、入射光の入射角度による感度の変化は小さい。し
たがって、周辺部に配置された光センサー106に光が
斜めに入射しても感度の低下は少なく、F値が小さい場
合でもシェーディング現象は発生し難い。さらに、オン
チップレンズを設ける必要がないため、固体撮像素子2
の薄型化に有利である。
6に対し真正面から入射した光8はそのまま光センサー
106に入射する一方、光センサー106に対して斜め
に入射して反射体4の表面に到達した光10は、反射体
4と平坦化膜140との屈折率が異なっていることか
ら、反射体4の表面で反射して光センサー106に入射
する。よって、本実施の形態例の固体撮像素子2では、
被写体からの光は、オンチップレンズが形成されていな
いにもかかわらず光センサー106に効果的に集められ
ることから、高い感度が得られる。そして、オンチップ
レンズを用いた場合のように収束点のズレの問題がない
ため、入射光の入射角度による感度の変化は小さい。し
たがって、周辺部に配置された光センサー106に光が
斜めに入射しても感度の低下は少なく、F値が小さい場
合でもシェーディング現象は発生し難い。さらに、オン
チップレンズを設ける必要がないため、固体撮像素子2
の薄型化に有利である。
【0017】なお、本実施の形態例では、反射体4は平
坦化膜140と屈折率が異なる絶縁体によって形成する
としたが、反射体4をたとえば金属材料により形成し
て、その側面で光を鏡面反射させ光センサー106に入
射させる構成とすることも可能であり、その場合にも同
様の効果を得ることができる。
坦化膜140と屈折率が異なる絶縁体によって形成する
としたが、反射体4をたとえば金属材料により形成し
て、その側面で光を鏡面反射させ光センサー106に入
射させる構成とすることも可能であり、その場合にも同
様の効果を得ることができる。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半導体基
板上に複数の光センサーを配列して構成した固体撮像素
子であって、前記光センサーの正面方向に対し斜めに入
射する光を反射して前記光センサーに入射させる反射体
を各光センサーごとに前記光センサーに近接して前記半
導体基板上に設けたことを特徴とする。本発明の固体撮
像素子では、光センサーの正面方向に対して斜めに入射
した光は反射体により反射して光センサーに入射する。
よって、被写体からの光は、オンチップレンズが設けら
れていないにもかかわらず光センサーに効果的に集めら
れ、高い感度が得られる。そして、オンチップレンズを
用いた場合のように収束点のズレの問題がないため、入
射光の入射角度による感度の変化は小さい。したがっ
て、周辺部に配置された光センサーに光が斜めに入射し
ても感度の低下は少なく、F値が小さい場合でもシェー
ディング現象は発生し難い。さらに、本発明ではオンチ
ップレンズを設ける必要がないため、固体撮像素子の薄
型化に有利である。
板上に複数の光センサーを配列して構成した固体撮像素
子であって、前記光センサーの正面方向に対し斜めに入
射する光を反射して前記光センサーに入射させる反射体
を各光センサーごとに前記光センサーに近接して前記半
導体基板上に設けたことを特徴とする。本発明の固体撮
像素子では、光センサーの正面方向に対して斜めに入射
した光は反射体により反射して光センサーに入射する。
よって、被写体からの光は、オンチップレンズが設けら
れていないにもかかわらず光センサーに効果的に集めら
れ、高い感度が得られる。そして、オンチップレンズを
用いた場合のように収束点のズレの問題がないため、入
射光の入射角度による感度の変化は小さい。したがっ
て、周辺部に配置された光センサーに光が斜めに入射し
ても感度の低下は少なく、F値が小さい場合でもシェー
ディング現象は発生し難い。さらに、本発明ではオンチ
ップレンズを設ける必要がないため、固体撮像素子の薄
型化に有利である。
【図1】(A)は本発明による固体撮像素子の一例を示
す部分概略平面図、(B)は(A)におけるBB’線に
沿った部分断面図である。
す部分概略平面図、(B)は(A)におけるBB’線に
沿った部分断面図である。
【図2】従来のインターライン方式の固体撮像素子の一
例を示す概略平面図である。
例を示す概略平面図である。
【図3】図2におけるAA’線に沿った部分断面側面図
である。
である。
2、102……固体撮像素子、4……反射体、6……側
面、8、10……光、104……半導体基板、106…
…光センサー、108……垂直電荷転送レジスター、1
10……水平電荷転送レジスター、112……フローテ
ィングディフュージョン部(FD部)、114……出力
回路、116……p型ウェル領域、118……垂直電荷
転送路、140……平坦化膜、142……カラーフィル
ター、144……オンチップレンズ。
面、8、10……光、104……半導体基板、106…
…光センサー、108……垂直電荷転送レジスター、1
10……水平電荷転送レジスター、112……フローテ
ィングディフュージョン部(FD部)、114……出力
回路、116……p型ウェル領域、118……垂直電荷
転送路、140……平坦化膜、142……カラーフィル
ター、144……オンチップレンズ。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 4M118 AA01 AA05 AB01 BA13 CA04
CA40 FA06 FA35 GA09 GC07
GD04 GD15
5C024 CX35 GY04
5F049 MA01 NA01 NA19 NB05 RA08
SZ06 SZ20
Claims (6)
- 【請求項1】 半導体基板上に複数の光センサーを配列
して構成した固体撮像素子であって、 前記光センサーの正面方向に対し斜めに入射する光を反
射して前記光センサーに入射させる反射体を各光センサ
ーごとに前記光センサーに近接して前記半導体基板上に
設けたことを特徴とする固体撮像素子。 - 【請求項2】 前記光センサーは前記半導体基板の表面
部に形成され、前記半導体基板の表面は透明な材料によ
り覆われており、前記反射体は前記透明材料に埋設され
た、前記透明材料とは異なる屈折率を有する材料により
形成されていることを特徴とする請求項1記載の固体撮
像素子。 - 【請求項3】 前記透明材料および前記反射体は絶縁材
料により形成されていることを特徴とする請求項2記載
の固体撮像素子。 - 【請求項4】 前記反射体は前記光センサーを囲んで形
成されていることを特徴とする請求項1記載の固体撮像
素子。 - 【請求項5】 前記反射体の反射面は、前記光センサー
の正面方向に対してほぼ平行に延在していることを特徴
とする請求項1記載の固体撮像素子。 - 【請求項6】 前記光センサーはマトリクス状に配列さ
れ、前記反射体は各光センサーごとに平面略視矩形の枠
状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の固
体撮像素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001343258A JP2003142671A (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 固体撮像素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001343258A JP2003142671A (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 固体撮像素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003142671A true JP2003142671A (ja) | 2003-05-16 |
Family
ID=19156980
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001343258A Pending JP2003142671A (ja) | 2001-11-08 | 2001-11-08 | 固体撮像素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003142671A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7675099B2 (en) | 2006-12-04 | 2010-03-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Image sensor and method of forming the same |
-
2001
- 2001-11-08 JP JP2001343258A patent/JP2003142671A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7675099B2 (en) | 2006-12-04 | 2010-03-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Image sensor and method of forming the same |
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