JP2003142450A - 表面処理装置および表面処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】被処理板の洗浄と乾燥とを簡易な構成の一つの
装置で行うことができる表面処理装置および表面処理方
法を提供すること。 【解決手段】本発明の表面処理装置１Ａは、被処理板１
００を装置本体１１により支持し、被処理板１００の処
理面１０１に移動体３の対向面３１を近接させた状態
で、処理面１０１と対向面３１との隙間１０に移動体３
に形成された洗浄液流出口７２より洗浄液Ｒを供給して
洗浄処理し、次いで、被処理板１００が非水平の状態
で、被処理板１００の高位側に形成された洗浄液Ｒのメ
ニスカスＭ付近に移動体３に形成されたガス流出口（処
理液流出口６２ａ）より界面活性ガスを供給しつつ、移
動体３を被処理板１００の低位側の縁部１０２付近を回
動中心３０として回動させることにより、メニスカスＭ
を処理面１０１に沿って回動中心３０側に移動させ、こ
れにより、処理面１０１を乾燥処理する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表面処理装置およ
び表面処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板に付着した水を乾燥して除去する方
法として、水の表面張力によるメニスカスと溶剤ガス＋
不活性ガスによるマランゴニ効果を利用して基板表面に
水滴痕を生じさせることなく乾燥させる基板の乾燥方法
が知られている（特開平１０−３２１５８７号公報）。

【０００３】この公報には、当該乾燥方法とともに、そ
れを実施するための乾燥装置（以下、従来の「乾燥装
置」と言う）が開示されているが、この従来の乾燥装置
には、次のような種々の欠点がある。

【０００４】１． 従来の乾燥装置は、基板（被処理
板）に付着した水を乾燥するだけの機能を有し、その前
工程である例えば洗浄処理については、別途用意された
洗浄槽などの洗浄装置を用いて行わねばならない。

【０００５】従って、例えば基板の洗浄と乾燥を連続的
に行うようなラインでは、洗浄装置と乾燥装置とを並設
し、基板をそれぞれの装置間で移動させて処理を行う必
要があり、そのため、設備コストがかかるとともに広い
設置スペースを要する。

【０００６】特に、洗浄装置で洗浄した後の基板を乾燥
装置へ移行する際に、ゴミ（異物）が侵入して基板に付
着することを防止しなければならないため、洗浄装置か
ら乾燥装置への移送経路に防塵等の機能を持つ機構や手
段を設置しなければならない場合もある。

【０００７】２． 基板の表面には、何らかの方法で水
が付着したものであるが、水の付着量は、人為的にコン
トロールされているものではないため、変動することが
想定される。

【０００８】この場合、前述したように、水切りブロッ
ク間の間隙距離が固定されているため、基板の搬送速度
が速くなったり、基板の厚さが設計値のものよりも薄い
もの（基板表面と水切りブロックの内面との間に形成さ
れる水膜（以下単に「水膜」と言う）の厚さが厚くな
る）であったりした場合には、乾燥室（カバーで囲まれ
る混合ガス充填空間）内に流入する水の量が過剰となる
ことがある。この場合には、乾燥に長時間を要すること
となり、あるいはメニスカスが適正サイズを超えて増大
し、乾燥効率の低下や乾燥不良（水滴痕、その他パーテ
ィクルの残存等）を生じるおそれがある。

【０００９】逆に、基板に付着する水の付着量が過小と
なった場合には、基板表面と水切りブロックの内面との
間に、毛細管現象により水が十分に拡散し充填されない
こととなり、やはり乾燥不良の原因となる。

【００１０】３． 従来の乾燥装置においては、基板の
搬送速度が変化するとメニスカスのサイズ（メニスカス
を構成する部分の水の量）も変動するが、メニスカスの
サイズの変動は、それ以外の要因でも生じる。

【００１１】例えば、固定状態にある一対の水切りブロ
ックに対し、搬送中の基板がその厚さ方向に揺動した場
合、水切りブロック間の間隙において、基板の両面にそ
れぞれ形成された前記水膜の厚さは経時的に変動する。
その結果、メニスカスに補充される水の量が変動し、メ
ニスカスのサイズが変動する。特に、その変動速度が速
い場合には、メニスカス表面（湾曲面）が振動する。こ
の場合、前記基板の揺動が僅かであっても、水膜は、毛
細管現象が生じる程度の非常に薄いものであるから、メ
ニスカスのサイズの変動は避けられない。また、このよ
うな変動は、クリーンルームの環境下でも容易に生じる
現象である。特に、水膜が薄い場合にはメニスカスのサ
イズの経時的な変動はかなり速いものであり、その影響
は大きく、ウォーターマークやシミなどの乾燥不良の原
因となる。

【００１２】このように、種々の原因でメニスカスのサ
イズが変動すると、乾燥速度との間にアンバランスが生
じ、乾燥を一定の条件で安定的に良好に行うことができ
ない。特に、基板表面全体にわたり均一で良好な乾燥を
行うことができない。

【００１３】４． 従来の乾燥装置では、水切りブロッ
ク間の間隙に進入する水に汚れ（異物等）が混入した
り、水切りブロック間の間隙に存在する水（すなわち前
記水膜）において汚れが発生した場合でも、その水を除
去または交換することができずに乾燥室に持ち込まれる
ので、このような水の汚れが原因で乾燥不良を生じるお
それがある。

【００１４】５． 従来の乾燥装置は、基板が一対の水
切りブロック間の間隙を通過する構成となっているが、
水切りブロック間の間隙距離が固定されているため、基
板の厚さの変化に対応することができず、一定の厚さの
基板に対してしか乾燥を行うことができない。また、基
板にパターンがある場合には、ブロックと基板間の間隙
が変動するためメニスカスが変動し、毛細管現象が生じ
ない個所が発生し水滴残りを生じるおそれがある。

【００１５】６． 従来の乾燥装置においては、基板の
両面が水で濡れており、基板の両面を同時に乾燥する構
成となっている。従って、基板の片面のみを乾燥したい
場合には、対応が困難である。特に、基板の水で塗れた
片面は乾燥し、もう一方の面は水で濡らしたくない場合
には、対応できない。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、被処
理板の洗浄と乾燥とを簡易な構成の一つの装置で行うこ
とができる表面処理装置および表面処理方法を提供する
ことにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１４）の本発明により達成される。

【００１８】（１） 被処理板を支持する装置本体と、
前記被処理板の表面に対向して位置し得る対向面を有す
る移動体と、前記移動体を前記装置本体に対し移動させ
る駆動手段と、前記移動体に形成された洗浄液流出口よ
り前記表面と前記対向面との隙間に洗浄液を供給する洗
浄液供給手段と、前記移動体に形成されたガス流出口よ
り前記表面と前記対向面との隙間に界面活性剤を含む界
面活性ガスを供給する界面活性ガス供給手段とを備え、
前記被処理板の表面に前記対向面を近接させた状態で、
前記表面と前記対向面との隙間に前記洗浄液流出口より
洗浄液を供給して前記表面を洗浄処理し、前記被処理板
が非水平の状態で、前記被処理板の高位側に形成された
前記洗浄液のメニスカス付近に前記ガス流出口より前記
界面活性ガスを供給しつつ、前記駆動手段によって前記
移動体を前記被処理板の低位側の縁部付近を回動中心と
して回動させることにより、前記メニスカスを前記表面
に沿って前記回動中心側に移動させ、これにより、前記
表面を乾燥処理するよう作動することを特徴とする表面
処理装置。

【００１９】（２） 前記被処理板を傾斜させて非水平
状態とする被処理板傾斜手段を有する上記（１）に記載
の表面処理装置。

【００２０】（３） 前記被処理板を搬送する搬送手段
を有する上記（１）または（２）に記載の表面処理装
置。

【００２１】（４） 前記被処理板の搬送停止位置を位
置決めする位置決め手段を有する上記（３）に記載の表
面処理装置。

【００２２】（５） 前記被処理板の表面と前記対向面
との隙間に供給された洗浄液を除去する除去手段を有す
る上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の表面処理
装置。

【００２３】（６） 前記除去手段は、前記被処理板の
表面と前記対向面との隙間に送気する送気手段で構成さ
れており、この送気により前記洗浄液を前記隙間から押
し出して除去する上記（５）に記載の表面処理装置。

【００２４】（７） 前記除去手段により洗浄液を除去
した後、前記洗浄液供給手段により洗浄液を供給するこ
とにより、前記被処理板の表面と前記対向面との隙間の
洗浄液を交換可能とする上記（５）または（６）に記載
の表面処理装置。

【００２５】（８） 前記移動体は、ほぼ板状をなして
いる上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の表面処
理装置。

【００２６】（９） 前記被処理板の大きさと前記対向
面の大きさとがほぼ同じである上記（１）ないし（８）
のいずれかに記載の表面処理装置。

【００２７】（１０） 被処理板の表面に対向して位置
し得る対向面を有する移動体の対向面と、前記表面とを
近接させた状態で、前記移動体に形成された洗浄液流出
口より前記表面と前記対向面との隙間に洗浄液を供給し
て前記表面を洗浄処理し、前記被処理板が非水平の状態
で、前記被処理板の高位側に形成された前記洗浄液のメ
ニスカス付近に、前記移動体に形成されたガス流出口よ
り界面活性剤を含む界面活性ガスを供給しつつ、前記移
動体を前記被処理板の低位側の縁部付近を回動中心とし
て回動させることにより、前記メニスカスを前記表面に
沿って前記回動中心側に移動させ、これにより、前記表
面を乾燥処理することを特徴とする表面処理方法。

【００２８】（１１） 前記被処理板の表面と前記対向
面との隙間に供給された洗浄液を除去した後、前記洗浄
液流出口より洗浄液を供給することにより、洗浄液を交
換して前記洗浄処理を行う上記（１０）に記載の表面処
理方法。

【００２９】（１２） 前記移動体は、ほぼ板状をなし
ている上記（１０）または（１１）に記載の表面処理方
法。

【００３０】（１３） 前記被処理板の大きさと前記対
向面の大きさとがほぼ同じである上記（１０）ないし
（１２）のいずれかに記載の表面処理方法。

【００３１】（１４） 前記洗浄液は、純水またはオゾ
ン水である上記（１０）ないし（１３）のいずれかに記
載の表面処理方法。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の表面処理装置およ
び表面処理方法を添付図面に示す好適な実施形態に基づ
いて詳細に説明する。

【００３３】図１は、本発明の表面処理装置の実施形態
を模式的に示す図（ブロック図）、図２は、図１に示す
表面処理装置における移動体の底面図、図３は、図１に
示す表面処理装置において、移動体を回動させる様子を
示す部分断面側面図、図４は、図３中の洗浄液のメニス
カス付近を拡大して示す部分断面側面図である。

【００３４】図１および図２に示す表面処理装置１Ａ
は、被処理板１００の表面（処理面１０１）に対し、処
理液Ｔによる処理と、洗浄液Ｒによる洗浄処理と、乾燥
処理とを行う（施す）装置である。

【００３５】この表面処理装置１Ａは、被処理板１００
を支持する装置本体１１と、被処理板１００の処理面１
０１に対向して位置し得る対向面３１を有する移動体３
と、移動体３を装置本体１１に対し移動する（変位させ
る）駆動手段５と、処理面１０１と対向面３１との隙間
１０に処理液Ｔを供給する処理液供給手段６と、隙間１
０に洗浄液Ｒを供給する洗浄液供給手段７と、隙間１０
に界面活性ガスを供給する界面活性ガス供給手段８と、
被処理板１００を搬送する搬送手段１２と、被処理板１
００の搬送停止位置を位置決めする位置決め手段１３
と、被処理板１００を傾斜させて非水平状態とする被処
理板傾斜手段１４と、隙間１０に送気する送気手段１５
とを備えている。

【００３６】本実施形態では、長方形の平板状をなす被
処理板１００を対象とする場合について説明する。

【００３７】本発明における被処理板１００の種類、材
質等は、特に限定されず、例えば、半導体基板、ＬＣＤ
（液晶表示画面）基板等の基板、水晶板、ガラス板、ス
テンレス鋼板等の金属板等が挙げられる。また、被処理
板１００の形状も、長方形に限らず、例えば円形、楕円
形等であってもよく、大きさについても、いかなる大き
さのものにも適用することができる。すなわち、本発明
は、いかなる板物（板状部材）に対する処理にも適用す
ることができる。

【００３８】装置本体１１は、被処理板１００をほぼ水
平な状態、または、後述する被処理板傾斜手段１４によ
り傾斜させた状態で支持することができる。表面処理装
置１Ａは、装置本体１１に支持された被処理板１００の
上側の表面である処理面１０１に対し、後述するような
処理を行う。

【００３９】装置本体１１には、被処理板１００を搬送
する搬送手段１２が設置されている。搬送手段１２は、
複数のローラ１２１を有しており、これらのローラ１２
１の上に載置された被処理板１００をほぼ水平状態で図
中の右側から左側に向かって搬送する。

【００４０】被処理板１００は、この搬送手段１２によ
り、１枚ずつ、図中の右側に位置する図示しない前工程
から表面処理装置１Ａに搬入され、表面処理装置１Ａで
の処理を終えた後、図中の左側に位置する図示しない後
工程へと搬出される。

【００４１】装置本体１１には、搬送手段１２により搬
入された被処理板１００の搬送停止位置を位置決めする
位置決め手段１３が設けられている。この位置決め手段
１３は、ストッパ１３１を有しており、このストッパ１
３１は、被処理板１００の搬送経路上に突出した状態
（図１に示す状態）と、搬送経路から退避した状態（図
示せず）とに変位可能になっている。

【００４２】ストッパ１３１を昇降（変位）させる機構
としては、例えば、ラックギアとピニオンギアとこのピ
ニオンギアを回転するモータとを有する機構で構成する
ことにより実現できる。なお、本実施形態においては、
前記機構を複数配置することにより実現している。

【００４３】搬送手段１２より表面処理装置１Ａに搬入
された被処理板１００は、図中の左側の縁部１０２が突
出状態にあるストッパ１３１に当接することにより、装
置本体１１に対し停止する。この搬送停止状態で、表面
処理装置１Ａによる処理が行われる。

【００４４】被処理板１００に対する処理が終了する
と、位置決め手段１３は、ストッパ１３１を退避状態と
し、被処理板１００に対する位置決め状態（停止状態）
を解除する。これにより、処理の終了した被処理板１０
０は、搬送手段１２により、後工程へ搬出される。次い
で、位置決め手段１３は、ストッパ１３１を突出状態と
し、搬送手段１２は、次の被処理板１００を前記搬送停
止位置に搬入する。そして、表面処理装置１Ａは、この
被処理板１００に対し、処理を行う。

【００４５】このように、表面処理装置１Ａは、枚葉処
理型の装置であり、被処理板１００を一枚ずつ処理す
る。

【００４６】装置本体１１には、さらに、被処理板傾斜
手段１４が設置されている。被処理板傾斜手段１４は、
被処理板１００の搬送経路上に突出した状態（図３に示
す状態）と、搬送経路から退避した状態（図１に示す状
態）とに変位可能なピン１４１を有している。このピン
１４１の上端は、搬送停止位置にある被処理板１００に
おける図中の右端部下面に当接し得るようになってい
る。

【００４７】ピン１４１を昇降（変位）させる機構とし
ては、例えば、ラックギアとピニオンギアとこのピニオ
ンギアを回転するモータとを有する機構で構成すること
により実現できる。なお、本実施形態においては、前記
機構を複数配置することにより実現している。

【００４８】図３に示すように、被処理板傾斜手段１４
がピン１４１を突出させると、被処理板１００は、図中
の右端側が持ち上げられて傾斜し、非水平の状態にな
る。

【００４９】このように、装置本体１１は、被処理板１
００を水平状態と非水平状態との両方の状態で支持する
ことができる。

【００５０】なお、ピン１４１の突出量を調整すること
により、水平面に対する被処理板１００の傾斜角度α
（図３参照）を調整（変更）することもできる。

【００５１】後述するように、本発明では、被処理板１
００が非水平の状態で処理面１０１の乾燥処理を行う
が、本実施形態では、被処理板傾斜手段１４が設けられ
ていることにより、前記のように被処理板１００を水平
状態で搬入、搬出することができる。よって、被処理板
１００を非水平状態（傾斜した状態）のまま搬送するよ
うな場合と比べて、被処理板１００の搬送の効率を向上
することができる。また、被処理板１００が水平の状態
で、後述する処理液Ｔよる処理や洗浄液Ｒによる洗浄処
理を行うことにより、処理面１０１の全体を均一かつ確
実に処理することができる。

【００５２】なお、搬送手段１２および位置決め手段１
３は、それぞれ、図示のような構成に限らず、同様の機
能を発揮し得るものであればいかなる構成のものでもよ
い。また、被処理板傾斜手段１４は、被処理板１００に
そり等の変形を生じさせることなく被処理板１００を傾
斜させることができるものであれば、図示のような構成
に限らず、いかなる構成のものでもよい。

【００５３】図２に示すように、移動体３は、ほぼ長方
形の板状（平板状）をなしている。図１に示すように、
移動体３の下側の面である対向面３１は、被処理板１０
０の処理面１０１に（ほぼ平行に）対向し、かつ近接し
て位置し得るようになっている。

【００５４】表面処理装置１Ａは、対向面３１を処理面
１０１にほぼ平行に近接させた状態で、対向面３１と処
理面１０１との間に形成された隙間１０に処理液Ｔや洗
浄液Ｒを供給し、処理液Ｔによる処理や洗浄処理を行
う。この処理を行う際の処理面１０１と対向面３１との
間隔（隙間１０の間隙距離）は、処理液Ｔや洗浄液Ｒが
隙間１０に十分に行き渡るとともに、処理液Ｔや洗浄液
Ｒが表面張力により隙間１０に滞留し得るような大きさ
とされ、１〜５ｍｍ程度であるのが好ましい。

【００５５】本発明では、このように隙間１０に処理液
Ｔや洗浄液Ｒを供給して処理を行うことにより、処理液
Ｔや洗浄液Ｒを貯留した槽に被処理板１００を浸漬して
処理するような場合と比べ、処理液Ｔや洗浄液Ｒの使用
量を大幅に低減することができる。

【００５６】本実施形態では、対向面３１の大きさは、
被処理板１００の大きさとほぼ同じかまたはやや大きく
なっている。

【００５７】このような移動体３は、装置本体１１に対
し移動（変位）可能に設けられており、駆動手段５によ
って駆動（移動）される。駆動手段５は、少なくとも移
動体３を回動中心３０を中心として回動させることがで
きるようになっている（図３参照）。駆動手段５は、こ
れ以外にも、移動体３を後述するような方向に移動可能
になっている。この駆動手段５としては、例えばサーボ
モータ、流体圧シリンダ、送りネジ、カム機構、歯車機
構、リンク機構等を適宜組み合わせて用いた公知の各種
の駆動機構を利用することができる。

【００５８】隙間１０に処理液Ｔを供給する処理液供給
手段６は、処理液Ｔを貯留する処理液タンク６１と、移
動体３に形成された処理液流出口６２ａ〜６２ｈと、処
理液タンク６１から延びる供給ライン（流路）６３と、
供給ライン６３の途中に設置されたポンプ６４と、供給
ライン６３から８本に分岐し、処理液流出口６２ａ〜６
２ｈにそれぞれ接続される分岐ライン（流路）６６ａ〜
６６ｈとで構成されている。

【００５９】処理液Ｔは、処理面１０１に対し、各種の
処理を行うものであり、ポンプ６４の作動により、処理
液タンク６１から供給ライン６３および分岐ライン６６
ａ〜６６ｈを通って処理液流出口６２ａ〜６２ｈから流
出し、隙間１０に供給される。

【００６０】処理液Ｔによる処理としては、いかなる処
理でもよく、例えば、レジスト等を塗布する（レジス
ト）塗布処理、レジスト等を剥離する剥離処理、エッチ
ング処理、洗浄処理、マスキング被膜等の除去処理、メ
ッキ処理等が挙げられる。

【００６１】レジストの剥離処理を行う場合の処理液Ｔ
としては、オゾン水（オゾン水溶液）または希弗酸であ
るのが好ましい。これにより、レジスト残渣、ポリマー
等を除去する効果をより高めることができる。

【００６２】図２に示すように、処理液流出口６２ａ〜
６２ｈは、対向面３１に開口する複数の小孔（オリフィ
ス）で構成されており、これらの小孔は、複数列（図示
の構成では８列）に配置されている。換言すれば、処理
液流出口６２ａ〜６２ｈは、行列状（マトリックス状）
に配置されている。これにより、処理面１０１の全体に
処理液Ｔをまんべんなく行き渡らせることができる。

【００６３】ここでは、説明の便宜上、処理液流出口６
２ａ〜６２ｈのうち、図２中の上下方向（図１の紙面に
垂直な方向）に並ぶものを「列」と呼び、符号中のａ〜
ｈの文字により各列を区別する。すなわち、図中一番右
側の列を構成するものを処理液流出口６２ａとし、図中
その左側の７列を構成するものを順にそれぞれ処理液流
出口６２ｂ〜６２ｈとする。

【００６４】なお、処理液流出口６２ａ〜６２ｈの数
（行の数、列の数）は、図示の構成に限らず、被処理板
１００の大きさや処理液Ｔの粘度等に合わせて適宜設定
される。

【００６５】処理液流出口６２ａ〜６２ｈを形成する小
孔は、それぞれ、移動体３の上面３２まで貫通して形成
されている。そして、移動体３の上面３２には、処理液
流出口６２ａ〜６２ｈの各列ごとに、流路を形成する細
長いケーシング６５ａ〜６５ｈがそれぞれ固着されてい
る。これにより、処理液流出口６２ａ〜６２ｈへの流路
は、各列ごとに、それぞれ、ケーシング６５ａ〜６５ｈ
内において互いに連通している。

【００６６】供給ライン６３から分岐した分岐ライン６
６ａ〜６６ｈは、それぞれ、ケーシング６５ａ〜６５ｈ
に接続されている。このような構成により、処理液タン
ク６１と処理液流出口６２ａ〜６２ｈとが接続されてい
る。

【００６７】なお、本実施形態では、処理液流出口６２
ａ〜６２ｈは、行列状に複数設けられているが、本発明
では、少なくとも１つの処理液流出口があればよい。

【００６８】また、処理液供給手段６は、複数種の処理
液Ｔ（例えば、オゾン水とＳＣ１（アンモニア水＋過
水）、または、オゾン水と希弗酸）をそれぞれ供給可能
なものであってもよい。すなわち、処理液供給手段６
は、処理面１０１に対し複数種の処理を行うものであっ
てもよい。

【００６９】隙間１０に洗浄液（すすぎ液）Ｒを供給す
る洗浄液供給手段７は、洗浄液Ｒを貯留する洗浄液タン
ク７１と、移動体３に形成された洗浄液流出口７２と、
洗浄液タンク７１と切替えバルブ７０とを接続する供給
ライン（流路）７３と、供給ライン７３の途中に設置さ
れたポンプ７４と、切替えバルブ７０と洗浄液流出口７
２とを接続する供給ライン（流路）７５とで構成されて
いる。

【００７０】洗浄液Ｒは、処理面１０１の洗浄処理（す
すぎ処理）を行うものであり、切替えバルブ７０が後述
する第１の状態のとき、ポンプ７４の作動により、洗浄
液タンク７１から供給ライン７３および７５を通って洗
浄液流出口７２から流出し、隙間１０に供給される。

【００７１】洗浄液Ｒとしては、洗浄処理を行うもので
あれば特に限定されないが、純水またはオゾン水である
のが好ましい。これにより、洗浄効果をさらに向上する
ことができる。

【００７２】洗浄液Ｒとして純水を用いる場合には、例
えば、蒸留水、イオン交換水、超純水、ＲＯ水等を用い
ることができる。また、洗浄液Ｒとしてオゾン水を用い
る場合には、前記処理液Ｔとして用いるオゾン水よりも
濃度の低いものであるのが好ましい。

【００７３】図２に示すように、洗浄液流出口７２は、
対向面３１のほぼ中央部に開口する１つの小孔で構成さ
れている。この小孔は、移動体３の上面３２まで貫通し
て形成されており、その上面３２への開口部には、ケー
シング７６が固着されている。そして、このケーシング
７６に供給ライン７５が接続されている。

【００７４】本実施形態では、処理液流出口６２ａ〜６
２ｈと洗浄液流出口７２とが別個に設けられているが、
処理液Ｔと洗浄液Ｒとが同じ流出口から流出するような
構成であってもよい。すなわち、処理液Ｔの供給ライン
と、洗浄液Ｒの供給ラインとを共有（共用）するような
ものであってもよい。

【００７５】また、図示の構成では、処理液流出口６２
ａ〜６２ｈおよび洗浄液流出口７２の形状は、円形にな
っているが、これに限らず、例えば楕円形、長方形等で
あってもよい。

【００７６】隙間１０に界面活性ガスを供給する界面活
性ガス供給手段８は、界面活性ガスを貯留する界面活性
ガスタンク８１と、界面活性ガスタンク８１から延びる
供給ライン（流路）８２と、供給ライン８２の途中に設
けられたポンプ８３とを有している。

【００７７】界面活性ガスは、界面活性剤を含むガスで
あり、洗浄液Ｒに溶解する（吸収される）と、洗浄液Ｒ
の表面張力を小さくする性質を有するものである。

【００７８】この界面活性ガスに含まれる界面活性剤と
しては、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、
メチルアルコール、エチルアルコール等の各種アルコー
ル類等を用いることができる。

【００７９】界面活性ガスは、このような界面活性剤の
ガスそのものであってもよいが、例えば窒素（Ｎ_２）ガ
ス等の不活性ガス（反応性に乏しいガス）に、界面活性
剤のガスを０．１〜１０％程度混合したものであるのが
好ましい。このように希釈されたものであっても、本発
明における界面活性ガスとしての機能を十分に発揮する
ことができるため、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の放出
量（使用量）をより低減する観点で好ましいからであ
る。

【００８０】前記処理液供給手段６の分岐ライン６６ａ
の途中には、切替えバルブ８０が設けられており、供給
ライン８２は、この切替えバルブ８０に接続されてい
る。

【００８１】切替えバルブ８０は、分岐ライン６６ａに
おける切替えバルブ８０より上流側６６１ａと下流側６
６２ａとを連通し、供給ライン８２を閉塞（遮断）する
第１の状態と、供給ライン８２と下流側６６２ａとを連
通し、上流側６６１ａを閉塞（遮断）する第２の状態と
に切り換えることができるようになっている。

【００８２】界面活性ガスは、切替えバルブ８０が前記
第２の状態のとき、ポンプ８３の作動により、界面活性
ガスタンク８１から供給ライン８２と分岐ライン６６ａ
の下流側６６２ａとを通って、処理液流出口６２ａから
流出し、隙間１０に供給される。

【００８３】このように、本実施形態では、処理液流出
口６２ａと分岐ライン６６ａの下流側６６２ａとを、処
理液供給手段６と界面活性ガス供給手段８とが共有（共
用）するものとなっている。すなわち、処理液流出口６
２ａは、界面活性ガスが流出するガス流出口ともなるも
のである。

【００８４】本実施形態では、このように処理液Ｔの供
給ラインと界面活性ガスの供給ラインにおいて流路の一
部を共有（共用）することにより、装置の構成のさらな
る簡素化、小型化を図ることができる。

【００８５】隙間１０に送気する送気手段１５は、例え
ば窒素（Ｎ_２）ガス等の不活性ガス（反応性に乏しいガ
ス）を貯留する不活性ガスタンク１５１と、不活性ガス
タンク１５１から延びる供給ライン１５２と、供給ライ
ン１５２の途中に設けられたポンプ１５３とを有してい
る。

【００８６】供給ライン１５２は、前記切替えバルブ７
０に接続されている。切替えバルブ７０は、洗浄液供給
手段７の供給ライン７３と供給ライン７５とを連通し、
供給ライン１５２を閉塞（遮断）する第１の状態と、供
給ライン１５２と供給ライン７５とを連通し、供給ライ
ン７３を閉塞（遮断）する第２の状態とに切り換えるこ
とができるようになっている。

【００８７】切替えバルブ７０が前記第２の状態のと
き、送気手段１５のポンプ１５３が作動すると、不活性
ガスタンク１５１から不活性ガスが供給ライン１５２と
供給ライン７５とを通って、洗浄液流出口７２から流出
する。このようにして隙間１０に送気することにより、
隙間１０に供給された処理液Ｔまたは洗浄液Ｒを押し出
して（吹き飛ばして）、除去することができる。すなわ
ち、送気手段１５は、隙間１０に供給された処理液Ｔや
洗浄液Ｒを除去する除去手段となるものである。

【００８８】このような除去手段としての送気手段１５
によって隙間１０の処理液Ｔまたは洗浄液Ｒを除去した
後、処理液供給手段６または洗浄液供給手段７によって
再度処理液Ｔまたは洗浄液Ｒを供給することにより、隙
間１０の処理液Ｔまたは洗浄液Ｒを迅速に、かつ、液残
りなく交換することができる。また、処理液Ｔの種類を
切り替えて次の処理を行うときや、処理液Ｔの処理を終
えて洗浄液Ｒを供給する際にも、同様に、迅速かつ液残
りなく液を入れ換えることができる。

【００８９】このように、本実施形態では、処理液流出
口６２ａと分岐ライン６６ａの下流側６６２ａとを、処
理液供給手段６と界面活性ガス供給手段８とが共有（共
用）するものとなっている。すなわち、処理液流出口６
２ａは、界面活性ガスが流出するガス流出口ともなるも
のである。

【００９０】本実施形態では、このように処理液Ｔの供
給ラインと界面活性ガスの供給ラインにおいて流路の一
部を共有（共用）することにより、装置の構成のさらな
る簡素化、小型化を図ることができる。

【００９１】駆動手段５、処理液供給手段６のポンプ６
４、洗浄液供給手段７のポンプ７４、界面活性ガス供給
手段８のポンプ８４、搬送手段１２、位置決め手段１
３、被処理板傾斜手段１４、送気手段１５、切替えバル
ブ７０および切替えバルブ８０は、それぞれ、制御手段
５０に対し電気的に接続されており、この制御手段５０
からの信号（制御信号）に基づいて作動する。

【００９２】このような表面処理装置１Ａには、隙間１
０から流出した（こぼれた）処理液Ｔや洗浄液Ｒを除去
または回収する回収手段が設けられていてもよい。この
回収手段としては、例えば、処理液Ｔや洗浄液Ｒを受け
る受け皿（液溜め）や、処理液Ｔや洗浄液Ｒを吸収する
吸収材のようなものが挙げられる。

【００９３】また、表面処理装置１Ａでは、搬送手段１
２、位置決め手段１３および被処理板傾斜手段１４は、
それぞれ、なくてもよい。

【００９４】次に、表面処理装置１Ａを用いた本発明の
表面処理方法の実施形態（表面処理装置１Ａの作用）に
ついて説明する。

【００９５】［１］ 駆動手段５により移動体３を上側
に退避させた状態で、搬送手段１２により被処理板１０
０を搬入する。被処理板１００は、ストッパ１３１によ
り所定位置に位置決めされて停止する。

【００９６】［２］ 次いで、駆動手段５により移動体
３を下降させ、対向面３１を処理面１０１に近接させ
る。このとき、対向面３１が処理面１０１にほぼ平行に
なるようにし、対向面３１と処理面１０１との間隙距離
は、前述したような大きさになるようにする。

【００９７】本発明では、このときの移動体３の下降停
止位置を調整することにより、対向面３１と処理面１０
１との間隙距離を調整することができる。この隙間１０
の間隙距離の調整により、処理面１０１に対する処理液
Ｔや洗浄液Ｒの付着量をコントロールすることができ
る。また、被処理板１００の板厚が異なるものにも対応
することができる。

【００９８】なお、表面処理装置１Ａは、搬入された被
処理板１００の処理面１０１の位置をセンサにより検出
し、対向面３１と処理面１０１との間隙距離を設定した
値に自動的に調整するような構成になっていてもよい。
これにより、複数の被処理板１００に対し連続して処理
を行う際、板厚が途中から変わるような場合にも対応す
ることができる。

【００９９】また、前記［１］と異なり、移動体３が所
定の下降停止位置にある状態で、被処理板１００を搬入
することとしてもよい。

【０１００】［３］ 次いで、切替えバルブ８０を分岐
ライン６６ａの上流側６６１ａと下流側６６２ａとを連
通する状態として、ポンプ６４を作動する。これによ
り、処理面１０１と対向面３１との隙間１０に処理液流
出口６２ａ〜６２ｈより処理液Ｔが供給される。隙間１
０が処理液Ｔで充填されたら、ポンプ６４を停止する。
このようにして、処理面１０１に対し、処理液Ｔによる
所定の処理を行う。

【０１０１】処理液Ｔによる処理を行う間、駆動手段５
により移動体３（対向面３１）を処理面１０１に沿って
（処理面１０１にほぼ平行な方向に）揺動（振動）させ
てもよい。これにより、隙間１０の処理液Ｔに微小な流
れが生じて攪拌され、よって、より確実な処理がなさ
れ、処理効率の向上が図れる。

【０１０２】この場合の移動体３の揺動の方向は、被処
理板１００に対し、図２中の左右方向でも上下方向でも
よく、また、回動する方向でもよい。

【０１０３】また、隙間１０が処理液Ｔで充填された後
もポンプ６４を作動したまま処理を行ってもよい。これ
により、新しい処理液Ｔが供給され続けた状態で処理を
行うことができるので、隙間１０の処理液Ｔを変質、劣
化、汚れ等のない新鮮な状態に保つことができ、よっ
て、処理効率のさらなる向上が図れる。

【０１０４】また、送気手段１５を作動して隙間１０に
送気し、隙間１０の処理液Ｔを全部除去した後、処理液
供給手段６によって再度処理液Ｔを隙間１０に充填する
ことにより、隙間１０の処理液Ｔを全部交換して処理を
続行してもよい。これにより、処理効率のさらなる向上
が図れる。この処理液Ｔの交換は、必要に応じ複数回行
ってもよい。

【０１０５】［４］ 複数種の処理液Ｔによる処理を行
う場合（処理液供給手段６が複数種の処理液Ｔを供給可
能なものである場合）には、処理液Ｔを異種のものに切
り替えて前記［３］と同様の工程を行う。これにより、
複数種の処理を行うことができる。

【０１０６】［５］ 次いで、送気手段１５を作動して
隙間１０に送気し、隙間１０の処理液Ｔを除去する。な
お、この工程は、省略してもよい。

【０１０７】［６］ 次いで、切替えバルブ７０を供給
ライン７３と供給ライン７５とを連通する状態として、
ポンプ７４を作動する。これにより、隙間１０に洗浄液
流出口７２より洗浄液Ｒが供給される。隙間１０が洗浄
液Ｒで充填されたら、ポンプ６４を停止する。このよう
にして、処理面１０１に対し洗浄処理（すすぎ処理）を
行う。

【０１０８】隙間１０が洗浄液Ｒで充填された後もポン
プ６４の作動を続け、隙間１０に洗浄液Ｒを流しながら
（供給し続けながら）洗浄処理を行ってもよい。これに
より、洗浄効率（洗浄効果）の向上が図れる。

【０１０９】また、一旦ポンプ６４の作動を停止し、送
気手段１５を作動して隙間１０に送気して隙間１０の処
理液Ｔを全部除去した後、再度洗浄液流出口７２より洗
浄液Ｒを隙間１０に充填することにより、隙間１０の洗
浄液Ｒを全部交換して洗浄処理を続行してもよい。これ
により、洗浄効率のさらなる向上が図れ、処理面１０１
をより清浄に洗浄することができ、よって、乾燥後の処
理面１０１の清浄度合いをより向上することができる。
この洗浄液Ｒの交換は、必要に応じ複数回行ってもよ
い。

【０１１０】また、さらに洗浄効果を高める方法とし
て、移動体３に超音波付与手段（図示せず）を設置し、
超音波洗浄を併用してもよい。

【０１１１】［７］ 次いで、図３に示すように、被処
理板傾斜手段１４のピン１４１を突出させることによ
り、被処理板１００を傾斜させ、非水平状態とする。

【０１１２】このとき、被処理板１００を傾斜させるの
と同時に、駆動手段５によって移動体３を同方向に傾斜
させ、処理面１０１と対向面３１との間隙距離をほぼ一
定に保ち、隙間１０に洗浄液Ｒが滞留した（充填され
た）状態のままで行う。

【０１１３】このときの被処理板１００の水平面に対す
る傾斜角度αは、特に限定されず、洗浄液Ｒの粘性等を
考慮して適宜決定されるが、本実施形態では、１〜３０
°程度であるのが好ましく、１〜１５°程度であるのが
より好ましい。

【０１１４】このような状態とすると、被処理板１００
の高位側（図中の右側）における隙間１０には、洗浄液
ＲのメニスカスＭが形成される。このメニスカスＭは、
ほぼＵ字状（円弧状）の曲面をなしている。

【０１１５】なお、本発明では、乾燥処理における被処
理板１００の水平面に対する傾斜角度は、前記範囲に限
らず、１〜９０°とすることができる。すなわち、被処
理板１００が水平面に対し垂直な状態でも乾燥処理を行
うことができる。

【０１１６】［８］ 次いで、切替えバルブ８０を供給
ライン８２と分岐ライン６６ａの下流側６６２ａとを連
通する状態として、ポンプ８３を作動する。これによ
り、処理液流出口６２ａより界面活性ガスが流出し、こ
の界面活性ガスが被処理板１００の高位側に形成された
洗浄液ＲのメニスカスＭ付近に供給される。

【０１１７】この界面活性ガスが洗浄液Ｒに溶解するこ
とにより、メニスカスＭの付近では、洗浄液Ｒの表面張
力が小さくなる。これにより、処理面１０１にパーティ
クル（ほこり等の異物）Ｐが付着していたような場合、
パーティクルＰと処理面１０１との間に洗浄液Ｒが入り
込み、パーティクルＰが洗浄液Ｒに浮遊した状態になる
（図４参照）。

【０１１８】また、メニスカスＭにおいては、端部Ｍ１
（処理面１０１側の端部）の付近から中央部Ｍ２に向か
って界面活性剤濃度が小さくなる（漸減する）濃度勾配
を生じ、よって、表面張力は、端部Ｍ１付近から中央部
Ｍ２に向かって大きくなる（漸増する）。これは、端部
Ｍ１の付近では、中央部Ｍ２付近よりも洗浄液Ｒの膜厚
（処理面１０１とメニスカスＭとの距離）が小さい（薄
い）ので、溶解（吸収）した界面活性ガス（界面活性
剤）が希釈される度合いが小さいからである。

【０１１９】前記のような表面張力の差（勾配）によ
り、メニスカスＭ付近の洗浄液Ｒには、図４中の矢印で
示すように、端部Ｍ１から中央部Ｍ２に向かう流れが生
じる。このように表面張力（の差）によって生じる効果
をマランゴニ効果と言い、この流れをマランゴニ流と言
う。

【０１２０】このようなマランゴニ流が生じることによ
り、メニスカスＭの端部Ｍ１付近では、洗浄液Ｒの膜厚
がさらに薄くなりつつ、洗浄液Ｒが蒸発し、処理面１０
１が乾燥する。このように、洗浄液Ｒが薄膜の状態で蒸
発・乾燥することにより、水滴痕（ウォーターマーク）
を残すことなく処理面１０１を乾燥することができる。

【０１２１】また、パーティクルＰは、このマランゴニ
流により、メニスカスＭの端部Ｍ１付近から中央部Ｍ２
に向かって流される。よって、処理面１０１上にパーテ
ィクルＰを残すことなく乾燥することができる。

【０１２２】メニスカスＭにおいては、前記と同様のメ
カニズムで、端部Ｍ１と反対側の端部Ｍ３（対向面３１
側の端部）から中央部Ｍ２に向かうマランゴニ流も生じ
る。これにより、処理面１０１の乾燥処理においては、
対向面３１にもパーティクルＰが残存するのを防止する
ことができ、よって、次の被処理板１００に対する処理
を行う際に、対向面３１上のパーティクルＰが処理面１
０１に移って付着するようなことを防止することができ
る。

【０１２３】なお、移動体３および被処理板１００の周
囲には、供給された界面活性ガスが隙間１０から逃げな
いようにするためのフード（風防）が設けられていても
よい。これにより、界面活性ガスの使用量をさらに低減
することができる。

【０１２４】［９］ 次いで、処理液流出口６２ａより
界面活性ガスをメニスカスＭの付近に供給しつつ、駆動
手段５により、被処理板１００の低位側（図中の左側）
の縁部１０２付近を回動中心３０として、移動体３を被
処理板１００に対し開くようにゆっくりと回動させる。
これにより、メニスカスＭは、回動中心３０側（縁部１
０２側）に向かって徐々に移動する。これに伴なって、
隙間１０の洗浄液Ｒは、縁部１０２付近から徐々に流出
する。この流出した洗浄液Ｒは、前記回収手段により除
去または回収される。

【０１２５】このようにしてメニスカスＭを縁部１０２
まで移動させることにより、処理面１０１のほぼ全域に
対し、前記［８］のような乾燥処理を行うことができ
る。

【０１２６】本発明では、メニスカスＭが移動する際、
メニスカスＭ付近の表面張力が小さくなっていること
や、端部Ｍ１から中央部Ｍ２に向かうマランゴニ流が生
じることにより、端部Ｍ１付近の液膜がちぎれて洗浄液
Ｒの液滴が処理面１０１上に残るようなことがなく、よ
って、水滴痕（ウォーターマーク）やパーティクルＰ等
の残存のない良好な乾燥が可能となる。

【０１２７】また、表面処理装置１Ａでは、被処理板１
００が非水平の状態でこのような乾燥処理を行うことに
より、メニスカスＭをよりスムーズに移動させることが
でき、洗浄液Ｒの液滴が処理面１０１上に残存するのを
より確実に防止することができる。

【０１２８】なお、メニスカスＭの移動速度は、移動体
３の回動速度を調整することにより、良好な乾燥が行わ
れるような速度に適宜調整することができる。本発明で
は、このメニスカスＭの移動速度の調整と、隙間１０の
間隙距離の調整との組み合わせにより、種類の異なる被
処理板１００や洗浄液Ｒ等にも対応することができる。

【０１２９】なお、本実施形態の表面処理装置および表
面処理方法は、処理面１０１の洗浄処理および乾燥処理
に先だって、処理液Ｔによる処理を行うものであるが、
本発明では、処理液Ｔによる処理を行わないもの（処理
液供給手段６を有さないもの）であってもよい。

【０１３０】以上説明したように、本発明では、マラン
ゴニ効果を利用することにより、処理面１０１に対し、
確実かつ均一な乾燥処理を行うことができるとともに、
乾燥後の処理面１０１の清浄度合いも高い。

【０１３１】また、被処理板１００の洗浄と乾燥とを一
つの装置で行うこと、特に、洗浄と乾燥とを連続して行
うことができ、またこれらを簡易な構成の装置で達成す
ることができる。そのため、洗浄装置と乾燥装置とを別
個に用意し、被処理板１００をそれらの間で移動させて
順次処理を行う必要がなく、よって、設備コストを低減
することができるとともに、装置の設置スペースも小さ
くてよいという利点を有する。

【０１３２】特に、本発明の表面処理装置１Ａは、被処
理板１００をその処理面１０１方向に搬送しつつ洗浄お
よび乾燥を行うものではないため、従来の乾燥装置のよ
うに、被処理板１００の乾燥のために搬送経路を確保す
る必要がなく、よって、装置の小型化、省スペース化が
図れる。本実施形態では、被処理板１００と対向面３１
との大きさがほぼ同じであり、移動体３の大きさに無駄
がないことから、このような効果がさらに顕著となる。

【０１３３】また、洗浄と乾燥とを一つの装置で連続し
て行うことができることから、被処理板１００から除去
されたパーティクルＰ等の異物が再付着するのを確実に
防止することができ、よって、乾燥後の処理面１０１の
清浄度合いが高い。

【０１３４】また、前述したように、本発明では、乾燥
に際し、隙間１０の間隙距離を調節することにより処理
面１０１の洗浄液Ｒの付着量をコントロールすることが
可能で、また、被処理板１００を固定した状態で行うこ
とから被処理板１００の厚さ方向の揺動もないため、メ
ニスカスＭを適正なサイズに維持して乾燥することがで
きる。これにより、さらなる乾燥効率の向上が図れ、処
理面１０１の全体にわたって均一な乾燥ができ、乾燥後
の処理面１０１の清浄度合いも向上する。

【０１３５】また、本発明では、従来のエアナイフノズ
ルから噴出させた乾燥用エアを吹き付けて乾燥処理を行
うような場合と異なり、洗浄液Ｒの液滴の飛散がなく、
よって、乾燥後の処理面１０１の清浄度合いが格段に高
い。

【０１３６】また、従来のＩＰＡ（イソプロピルアルコ
ール）蒸気乾燥処理を行うような場合と比べ、揮発性有
機化合物の使用量（放出量）が格段に少ない。よって、
装置の防爆仕様が不要となるなど、設備をより簡略化す
ることができ、さらなる設備コスト低減が図れるととも
に、環境への負担も小さい。

【０１３７】なお、本実施形態では、被処理板１００が
水平の状態で処理液Ｔによる処理や洗浄液Ｒによる洗浄
処理を行うものであるが、本発明では、被処理板１００
が非水平の状態（水平面に対し傾斜した状態または垂直
な状態）でこれらを行うものでもよい。さらに、本発明
では、前述したように被処理板１００が水平面に対し垂
直な状態でも乾燥処理を行うことができ、よって、被処
理板１００が水平面に垂直な状態で処理液Ｔによる処
理、洗浄液Ｒによる洗浄処理および乾燥処理を行うもの
でもよい。この場合には、被処理板１００が比較的大き
いものの場合であっても、場所をとらず、よって、装置
の設置スペースをより小さくすることができる。

【０１３８】また、本実施形態では、界面活性ガスが処
理液流出口６２ａから流出する構成となっているが、メ
ニスカスＭの移動に合わせて、界面活性ガス流出口を処
理液流出口６２ａから処理液流出口６２ｈに向かって順
次切り替えていくようなものとしてもよい。このような
機構を実現するには、例えば、分岐ライン６６ｂ〜６６
ｈにも界面活性ガスタンク８１と接続される切り替えバ
ルブをそれぞれ設置し、移動体３の回動速度（回動位
置）等からメニスカスＭの位置を検出してこれらのバル
ブを開閉し、界面活性ガス流出口を流出口６２ａから処
理液流出口６２ｈに向かって順次切り替えるような構成
とすることができる。

【０１３９】以上、本発明の表面処理装置および表面処
理方法を図示の実施形態について説明したが、本発明
は、これに限定されるものではない。また、本発明の表
面処理装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る
任意の構成のものと置換することができる。

【０１４０】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、被
処理板の洗浄と乾燥とを一つの装置で行うこと、特に、
洗浄と乾燥とを連続して行うことができ、またこれらを
簡易な構成の装置で達成することができる。そのため、
洗浄装置と乾燥装置とを別個に用意し、被処理板をそれ
らの間で移動させて順次処理を行う必要がなく、よっ
て、設備コストを低減することができるとともに、装置
の設置スペースも小さくてよいという利点を有する。

【０１４１】特に、本発明の装置は、被処理板をその処
理面方向に搬送しつつ洗浄および乾燥を行うものではな
いため、従来の乾燥装置のように、被処理板の乾燥のた
めに搬送経路を確保する必要がなく、よって、装置の小
型化、省スペース化が図れる。この場合、被処理板と対
向面の大きさがほぼ同じ場合には、このような効果がさ
らに顕著となる。

【０１４２】そして、本発明では、洗浄に際し、洗浄液
を除去または交換することが可能なので、汚れた洗浄液
のままで洗浄されることがなく、また、そのような洗浄
の直後に乾燥を行うことができるので、乾燥がなされた
表面の清浄度合いが高い。

【０１４３】特に、洗浄液として、純水またはオゾン水
を用いた場合には、洗浄効果をさらに向上することがで
きる。

【０１４４】また、本発明によれば、被処理板の板厚が
異なるものに対しても、対応することができる。

【０１４５】また、本発明では、乾燥効率が高く、水滴
痕やパーティクル等の残存のない良好な乾燥が可能とな
る。特に、乾燥に際し、被処理板表面の洗浄液の付着量
をコントロールすることが可能で、また、被処理板の厚
さ方向の揺動もないため、メニスカスを適正サイズに維
持して乾燥することができ、これにより、さらなる乾燥
効率の向上が図れ、被処理板の乾燥すべき表面の全体に
わたって均一な乾燥ができ、乾燥がなされた表面の清浄
度合いも向上する。

【０１４６】また、本発明では、被処理板の片面のみを
洗浄、乾燥することもでき、片面洗浄・乾燥、両面洗浄
・乾燥など、種々のパターンに対応することができる。

【０１４７】また、被処理板傾斜手段を有する場合に
は、被処理板を水平状態と非水平状態とにすることがで
き、例えば、被処理板を水平状態で搬入・搬出したり洗
浄したりしてその効率を向上することができるなど、乾
燥以外の工程を水平状態で行うことの利点を享受するこ
とができる。

【０１４８】また、被処理板が非水平の状態で洗浄処理
も行う場合には、特に、被処理板が大型であるなどの理
由によって水平状態で処理すると装置の設置スペースが
比較的大きく必要となるような場合であっても、装置の
設置スペースがより小さくてよいという、非水平状態で
行うことの利点を享受することができる。

【０１４９】また、被処理板の搬送手段を有する場合や
さらに位置決め手段を有する場合には、複数の被処理板
を処理する場合、特にこれらを連続的に処理する場合な
ど、処理の自動化に有利であり、量産性の向上に寄与す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の表面処理装置の実施形態を模式的に
示す図（ブロック図）である。

【図２】 図１に示す表面処理装置における移動体の底
面図である。

【図３】 図１に示す表面処理装置において、移動体を
回動させる様子を示す部分断面側面図である。

【図４】 図３中の洗浄液のメニスカス付近を拡大して
示す部分断面側面図である。

【符号の説明】

１Ａ……表面処理装置 ３……移動体 ３１……対向面
３２……上面 ５……駆動手段 ６……処理液供給手
段 ６１……処理液タンク ６２ａ〜６２ｈ……処理液
流出口 ６３……供給ライン ６４……ポンプ ６５ａ
〜６５ｈ……ケーシング ６６ａ〜６６ｈ……分岐ライ
ン ６６１ａ……上流側 ６６２ａ……下流側 ７……
洗浄液供給手段 ７１……洗浄液タンク ７２……洗浄
液流出口 ７３……供給ライン ７４……ポンプ ７５……供給ラ
イン ７６……ケーシング ８……界面活性ガス供給手
段 ８１……界面活性ガスタンク ８２……供給ライン
８３……ポンプ １１……装置本体 １２……搬送手
段 １２１……ローラ １３……位置決め手段 １３１
……ストッパ １４……被処理板傾斜手段 １４１……
ピン １５……送気手段 １５１……不活性ガスタンク
１５２……供給ライン １５３……ポンプ １０……
隙間 ３０……回動中心 ５０……制御手段 ７０……
切替えバルブ ８０……切替えバルブ １００……被処
理板 １０１……処理面 １０２……縁部 Ｔ……処理
液 Ｒ……洗浄液 Ｍ……メニスカス Ｍ１……端部
Ｍ２……中央部 Ｍ３……端部 Ｐ……パーティクル

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理板を支持する装置本体と、 前記被処理板の表面に対向して位置し得る対向面を有す
   る移動体と、 前記移動体を前記装置本体に対し移動させる駆動手段
   と、 前記移動体に形成された洗浄液流出口より前記表面と前
   記対向面との隙間に洗浄液を供給する洗浄液供給手段
   と、 前記移動体に形成されたガス流出口より前記表面と前記
   対向面との隙間に界面活性剤を含む界面活性ガスを供給
   する界面活性ガス供給手段とを備え、 前記被処理板の表面に前記対向面を近接させた状態で、
   前記表面と前記対向面との隙間に前記洗浄液流出口より
   洗浄液を供給して前記表面を洗浄処理し、 前記被処理板が非水平の状態で、前記被処理板の高位側
   に形成された前記洗浄液のメニスカス付近に前記ガス流
   出口より前記界面活性ガスを供給しつつ、前記駆動手段
   によって前記移動体を前記被処理板の低位側の縁部付近
   を回動中心として回動させることにより、前記メニスカ
   スを前記表面に沿って前記回動中心側に移動させ、これ
   により、前記表面を乾燥処理するよう作動することを特
   徴とする表面処理装置。
2. 【請求項２】 前記被処理板を傾斜させて非水平状態と
   する被処理板傾斜手段を有する請求項１に記載の表面処
   理装置。
3. 【請求項３】 前記被処理板を搬送する搬送手段を有す
   る請求項１または２に記載の表面処理装置。
4. 【請求項４】 前記被処理板の搬送停止位置を位置決め
   する位置決め手段を有する請求項３に記載の表面処理装
   置。
5. 【請求項５】 前記被処理板の表面と前記対向面との隙
   間に供給された洗浄液を除去する除去手段を有する請求
   項１ないし４のいずれかに記載の表面処理装置。
6. 【請求項６】 前記除去手段は、前記被処理板の表面と
   前記対向面との隙間に送気する送気手段で構成されてお
   り、この送気により前記洗浄液を前記隙間から押し出し
   て除去する請求項５に記載の表面処理装置。
7. 【請求項７】 前記除去手段により洗浄液を除去した
   後、前記洗浄液供給手段により洗浄液を供給することに
   より、前記被処理板の表面と前記対向面との隙間の洗浄
   液を交換可能とする請求項５または６に記載の表面処理
   装置。
8. 【請求項８】 前記移動体は、ほぼ板状をなしている請
   求項１ないし７のいずれかに記載の表面処理装置。
9. 【請求項９】 前記被処理板の大きさと前記対向面の大
   きさとがほぼ同じである請求項１ないし８のいずれかに
   記載の表面処理装置。
10. 【請求項１０】 被処理板の表面に対向して位置し得る
    対向面を有する移動体の対向面と、前記表面とを近接さ
    せた状態で、前記移動体に形成された洗浄液流出口より
    前記表面と前記対向面との隙間に洗浄液を供給して前記
    表面を洗浄処理し、 前記被処理板が非水平の状態で、前記被処理板の高位側
    に形成された前記洗浄液のメニスカス付近に、前記移動
    体に形成されたガス流出口より界面活性剤を含む界面活
    性ガスを供給しつつ、前記移動体を前記被処理板の低位
    側の縁部付近を回動中心として回動させることにより、
    前記メニスカスを前記表面に沿って前記回動中心側に移
    動させ、これにより、前記表面を乾燥処理することを特
    徴とする表面処理方法。
11. 【請求項１１】 前記被処理板の表面と前記対向面との
    隙間に供給された洗浄液を除去した後、前記洗浄液流出
    口より洗浄液を供給することにより、洗浄液を交換して
    前記洗浄処理を行う請求項１０に記載の表面処理方法。
12. 【請求項１２】 前記移動体は、ほぼ板状をなしている
    請求項１０または１１に記載の表面処理方法。
13. 【請求項１３】 前記被処理板の大きさと前記対向面の
    大きさとがほぼ同じである請求項１０ないし１２のいず
    れかに記載の表面処理方法。
14. 【請求項１４】 前記洗浄液は、純水またはオゾン水で
    ある請求項１０ないし１３のいずれかに記載の表面処理
    方法。