JP2003135576A - 光分解による汚染空気の浄化装置及びその方法 - Google Patents
光分解による汚染空気の浄化装置及びその方法Info
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Abstract
射することができ、空気中の汚染物質が極く低い濃度で
あっても、汚染物質が未処理のまま装置の系外に放出さ
れることを防止することが可能で、汚染物質の分解効率
に優れた汚染空気の浄化装置を提供する。 【解決手段】 本発明の汚染空気の浄化装置は、装置本
体(1)の下方及び上方にそれぞれ空気流入口(4)及び空
気排出口(20)が設けられ、装置本体(1)内の下部に複数
段の光酸化反応室(6)が形成され、その上部に活性炭充
填層(17)が形成されている。粒状の光触媒(13)が部分的
に充填される各光酸化反応室(6)、及び粒状の活性炭(1
6)が充填される活性炭充填層(17)は、多数の通気孔を有
する仕切板(5;15)で仕切られている。各光酸化反応室
(6)の内部には、光透過性の垂直透明板(8)と傾斜透明
板(9)とから構成される三角形状の紫外線照射室(10)が
設置され、その内部に紫外線照射源(12)が配設されてい
る。
Description
染物質を光分解する空気の浄化装置及びその方法に関す
る。より詳細には、本発明は、空気中に含まれるアンモ
ニア、アミン、メルカプタン、有機塩素化合物等の汚染
物質を光触媒と紫外線照射との作用により、酸化分解す
る汚染空気の浄化装置及びその方法に関する。
生するアンモニア、アミン、メルカプタン等の悪臭成分
は、処理場周囲の住民に不快感を懐かさせ、長年にわた
って公害問題となっている。また、従来からトリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレン等の有機塩素化合物が
ドライクリーニング工場、金属の脱脂処理、基板の洗浄
工程等に大量に使用されてきたが、その一部が地下に染
み込み、更に地下水に混入している事実が報告され、健
康上不安視されている。地下水に含まれる揮発性有機塩
素化合物の除去方法として、本出願人は、適宜の手段に
より有機塩素化合物を気化させた後、これを分解処理す
る方法を提案している(特願2001−238785
号)。空気中に含まれる有機塩素化合物の一般的な除去
方法としては、例えば活性炭等の吸着剤に吸着させる方
法、加熱下に触媒と接触させて分解する方法、プラズマ
放電による方法等が知られている。しかしながら、吸着
方法では吸着剤の後処理が必要であり、接触分解方法で
は触媒を加熱するためにかなりのエネルギーが必要であ
り、また、プラズマ放電法では多大の電力を必要とする
という問題があった。
て有機物質を酸化分解する光分解技術が開発され、これ
を有機塩素化合物の除去方法に利用した提案が数多くな
されている。そのうちの2,3の例を挙げてみると、次
のようなものがある。例えば、排ガスとの接触面となる
管壁等に光触媒膜を固定し、この光触媒膜に紫外線を照
射して有機塩素化合物を分解する方法が提案されてい
る。しかし、この方法は、光触媒膜の表面積が小さく、
分解効率がよくないという問題がある。排ガスとの接触
面積を増大させるために、光触媒をハニカム構造とする
ことも考えられるが、その場合には光触媒膜の奥部まで
紫外線を照射させることが困難であり、やはり分解効率
の向上が望めないと考えられる。
有機塩素化合物を吸着させて、集塵部においてバグフィ
ルターにより仕切られた空間に設置された紫外線ランプ
により、光触媒に紫外線を照射して有機塩素化合物を分
解する方法が提案されている(特開平10−32853
号公報)。しかし、この方法は、光分解装置内部に紫外
線ランプ(紫外線照射源)を設置する必要があるため
に、照射源の汚れ等によって紫外線の照射強度が低下し
て、分解効率の悪化が避けられないという問題がある。
更に、粒状の光触媒担体を用い、被処理排ガスの送風及
び被処理水の送水による攪拌で、光触媒担体を流動させ
ながら有機塩素化合物を分解する方法が提案されている
(特開2001−79351号公報、特開2001−1
91067号公報)。しかし、この方法は、光触媒担体
の流動性がさほど良好でないので、極く微量の薄膜濃度
の有機塩素化合物が光触媒担体に吸着されず、ショート
パスして未処理のまま反応装置の系外に放出される可能
性がある。
紫外線照射との組み合わせによる有機物質の分解除去方
法においては、紫外線照射源からの照射強度が次第に低
下して汚染物質の分解効率が悪化し、また、極く低濃度
の汚染物質(有機塩素化合物)を分解除去する場合には
汚染物質が光触媒に充分に吸着されないという問題があ
った。そこで、本発明の目的は、上述の従来技術の問題
点を解消することにあり、紫外線照射源から紫外線を光
触媒に充分に照射することができ、空気中の汚染物質の
濃度がたとえ数百ppb程度の極く低濃度であっても、
汚染物質が未処理のまま装置の系外に放出されることを
防止することが可能で、汚染物質の分解効率に優れた光
分解による汚染空気の浄化装置及びその方法を提供する
ことにある。
来技術の問題点を解決すべく、鋭意検討を重ねてきたと
ころ、複数段の光酸化反応室及び活性炭充填層を形成し
た空気浄化装置において、光透過性の垂直透明板と傾斜
透明板とから構成される三角形状の紫外線照射室を各光
酸化反応室内に形成することにより、光酸化反応室に充
填された光触媒が良好な循環状態に保たれ、この流動状
態にある光触媒に紫外線を充分に照射できる結果、汚染
物質を効率よく分解することを見い出して、本発明をな
すに至った。
化装置は、装置本体の下方及び上方にそれぞれ空気流入
口及び空気排出口が設けられ、装置本体内の下部に複数
段の光酸化反応室が形成され、その上部に活性炭充填層
が形成され、各光酸化反応室及び活性炭充填層が多数の
通気孔を有する仕切板で仕切られた光分解による汚染空
気の浄化装置において、各光酸化反応室の内部には、光
透過性の垂直透明板と傾斜透明板とから構成される縦断
面形状が実質的に三角形の紫外線照射室を形成すると共
に、紫外線照射室の内部には紫外線照射源が配置され、
紫外線照射室を除く光酸化反応室の内部には部分的に粒
状の光触媒が充填され、また、上記活性炭充填層内には
粒状の活性炭が充填されていることを特徴とする。
化方法は、多数の通気孔を有する装置本体底部の仕切板
を介して汚染物質を含む空気を最下段の光酸化反応室に
導入し、複数段の光酸化反応室内で光触媒と紫外線照射
との作用により汚染物質を酸化分解しつつ、最上段の光
酸化反応室を経た空気に含まれる未分解の汚染物質を活
性炭充填層内に充填された粒状の活性炭に吸着させた
後、浄化された空気を装置本体から放出する光分解によ
る汚染空気の浄化方法において、各光酸化反応室の内部
には、光透過性の垂直透明板と傾斜透明板とから構成さ
れる縦断面形状が実質的に三角形の紫外線照射室が形成
され、紫外線照射室を除く光酸化反応室の空間に部分的
に充填された粒状の光触媒を下方から上昇する空気流に
より流動化させながら、紫外線照射室に配置された紫外
線照射源から汚染物質が吸着された光触媒に紫外線を照
射して、空気中の汚染物質を酸化分解することを特徴と
する。
上記した通り、多数の通気孔を有する仕切板でそれぞれ
仕切られた複数の光酸化反応室及び活性炭充填層からな
り、光透過性の垂直透明板と傾斜透明板とから構成され
る三角形状の紫外線照射室を各光酸化反応室内に形成し
たものである。また、本発明の汚染空気の浄化方法は、
複数の光酸化反応室内で光触媒と紫外線照射との作用に
より汚染物質を酸化分解しながら、未分解の汚染物質を
活性炭に吸着させる方法からなり、上昇空気流により流
動化される光触媒に上記紫外線照射室から紫外線を照射
するものである。
染物質がまず粒状の光触媒に確実に吸着される。しか
も、垂直透明板及び傾斜透明板に沿って上昇する空気流
によって、光触媒が吹き上げられかつ上方で拡散され、
飛散状態の光触媒部分に紫外線が効率よく照射されるの
で、光触媒に吸着された汚染物質を効率よく酸化分解す
ることができる。更に、傾斜透明板に沿って光触媒が落
下して底部仕切板に光触媒が堆積するように、底部仕切
板と傾斜透明板とから流動床が構成されるので、光触媒
は光酸化反応室内で良好な循環状態が保たれる。また、
本発明の汚染空気の浄化装置及び方法は、上述の構造か
らなる複数段の光酸化反応室とその上方に活性炭充填層
が配置されている。そのため、光酸化反応室において汚
染物質のショートパスが回避され、最上段の光酸化反応
室を経た空気に含まれる分解されなかった汚染物質は活
性炭充填層内に充填された粒状の活性炭に吸着されるの
で、汚染物質が未処理のまま浄化装置の系外に放出され
るのを防止することができる。
本発明により処理される汚染物質としては、極く低濃度
でも健康上有害なあるいは悪臭を放つ揮発性の物質であ
れば特に限定されるものではないが、例えば、トリクロ
ロエチレン、テトラクロロエチレン、トリクロロエタン
等の有機塩素系溶剤の他に、アンモニア、トリメチルア
ミン等のアミン、硫化水素、硫化メチル等のメルカプタ
ン、ホルムアルデヒドなどの臭気物質が挙げられる。本
発明の光分解による汚染空気の浄化装置及びその方法
は、前述の通り、装置本体内の下部に複数段の光酸化反
応室が形成され、その上部に活性炭充填層が形成されて
いる。各光酸化反応室及び活性炭充填層は、装置本体下
方から導入される汚染物質を含む空気が通気でき、浄化
された空気が装置本体上方から放出されるよう、多数の
通気孔を有する底部及び上部仕切板で仕切られている。
仕切板としては、金網や、円形、楕円形、角形、星形等
の細孔が穿設されたパンチングメタルが好ましく用いら
れる。網目または細孔の大きさは、粒状の光触媒または
活性炭が仕切板から抜け落ちない程度のものであればよ
い。
質の濃度、単位時間当たりの風量、光触媒の充填量、汚
染物質の分解効率等を予め考慮に入れて、汚染物質がシ
ョートパスしないように適宜段数を増加することができ
る。各光酸化反応室内には、上記底部仕切板と共に光透
過性の垂直透明板と傾斜透明板とから構成される紫外線
照射室が形成されている。紫外線照射室を形成する仕切
板部分は、稼働中に発生する微粉状の光触媒が紫外線照
射室に混入しないよう、網目または細孔を塞ぐか予め細
孔を穿設していない板状部材とすることが好ましい。ま
た、光酸化反応室の装置本体側壁と傾斜透明板とを組み
合わせて、紫外線照射室を更に形成してもよい。このよ
うにして、1つの光酸化反応室内には通常複数の紫外線
照射室が形成され、各紫外線照射室の内部には1つまた
は複数の紫外線照射源が配設される。
三角形をなしており、底部仕切板に対する紫外線照射室
側に傾斜する傾斜透明板の傾斜角度が50〜70°の範
囲にあることが好ましい。上記傾斜角度は、55〜65
°の範囲がより好ましく、57〜63°の範囲にあるこ
とが特に好ましい。傾斜角度が50°未満であると、下
方から空気を流入する仕切板の全開口面積が小さく、光
触媒の流動性が低下する。一方、上記角度が70°より
大きくなると、流入する空気が光酸化反応室の上部でさ
ほど拡散されず、光触媒の流動化による汚染物質の酸化
分解効率が低下する。のみならず、紫外線照射室のスペ
ースが小さく、その内部に配置される紫外線照射源の保
守点検作業が困難となる。
透明板及び傾斜透明板を配置して、両透明板が当接する
紫外線照射室の上端部と上部仕切板との間に間隙を設け
ないことが好ましい。これにより、光酸化反応室の1つ
の空間に充填された光触媒が他方の空間に移動すること
がないので、長期間にわたって汚染物質を安定して酸化
分解することができる。垂直透明板及び傾斜透明板は、
ガラスやポリメタクリル酸メチル等の光透過性、即ち紫
外線透過性に優れた材質のものが用いられる。紫外線照
射源としては、波長390nm以下の紫外線を照射する
紫外線ランプが通常使用される。また、光酸化反応室特
に紫外線照射室を構成する装置本体内壁の表面、更には
底部仕切板表面に、反射性薄膜を蒸着するかあるいは反
射板を張設して、これらの表面を反射面(以下、反射板
で代表する)とすることもできる。その場合、紫外線照
射源から照射される紫外線は、例えば粗面加工された反
射板等で乱反射されることが好ましく、光酸化分解作用
が更に増強される。
は、粒状形態の光触媒が部分的に充填される。光触媒と
しては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン等が
挙げられる。これらの光触媒は、ゼオライト、シリカゲ
ル、アルミナ、多孔質ガラス等の粒状多孔質担体の表面
及び内部に担持されるている。光触媒担体の粒径は、
1.5〜10mmの範囲にあり、2〜4mmの範囲にあるこ
とが好ましい。また、紫外線照射室を除く光酸化反応室
に対する光触媒の見掛け充填率は、20〜70容量%の
範囲にあることが好ましい。光触媒の粒径が1.5mm未
満であると、底部及び上部仕切板の網目または細孔を光
触媒担体の粒径より小さくする必要があり、仕切板の単
位面積当たりの開口面積が小さいため、例えば送風機に
より下方から送気される空気に対する仕切板の抵抗が大
きくなる。一方、粒径が10mmより大きいと、光触媒の
流動性が低下する。上記充填率が20容量%未満である
と、紫外線照射室を除く光酸化反応室の単位体積当たり
の汚染物質の酸化分解効率を充分に確保することができ
ない。一方、充填率が70容量%より大きいと、光触媒
の流動性が低下し、光触媒が光酸化反応室内で充分に循
環しない。
て成形された粒状の活性炭が充填される。活性炭充填層
は複数層に適宜分割することもできる。また、活性炭を
必ずしも充填層内全体に充填する必要はない。活性炭充
填層内には、汚染空気に含まれる汚染物質の性状に応じ
て、塩基性ガス用、中性ガス用及び酸性ガス用の活性炭
を単独または混合して充填することが好ましい。例え
ば、処理対象汚染物質が有機塩素化合物である場合、空
気が光触媒を通過する際に、HClとCO2とH2Oに分
解され、処理空気が酸性ガスを含有する傾向にある。そ
の場合には、酸性ガス吸着用に塩基性に改質された粒状
活性炭を充填することが好ましい。活性炭の粒径は2〜
6mmの範囲にある。活性炭の粒径が2mm未満であると、
活性炭充填層を通過する空気の抵抗が大きくなる。一
方、粒径が6mmより大きいと、単位体積当たりの活性炭
の表面積が小さくなり、汚染物質の吸着効率が低下する
ので好ましくない。
溜りを形成して、光触媒が充填された光酸化反応室に流
入する空気の流速を均一化することが好ましい。同様
に、下方に位置する光酸化反応室の上部仕切板とその上
方に位置する光酸化反応室の底部仕切板との間、及び最
上段の光酸化反応室の上部仕切板と活性炭充填層の底部
仕切板との間に、それぞれ空気溜りを形成することが好
ましい。これらの空気溜りの少なくとも1つを形成して
おくと、光触媒及び/又は活性炭への汚染物質の吸着ム
ラが少なくなる。例えば、異なる光酸化反応室の仕切板
間に空気溜りを形成した場合、光触媒がほぼ均一に流動
・循環するようになり、汚染物質の酸化分解効率が向上
する。
的に説明する。図1において、1は外形が概略正四角形
の塔から形成された空気浄化装置本体であり、装置本体
1の底部にはこれを支持する4本の脚2が取り付けられ
ている。また、装置本体1の下部は上方に拡径する下部
空気溜り3が形成され、その下方中央に下部空気溜り3
に連通する空気流入口4が形成されると共に、その後方
に送風機(図示せず)が配置されている。装置本体1内
には、10メッシュの金網からなる第一底部仕切板5a
と、これと所定の間隔を介して、仕切板5aと同様の金
網からなる第一上部仕切板5bとで仕切られた光酸化反
応室6及びその上方の中間空気溜り7が、複数段形成さ
れている。図1では、光酸化反応室6及び中間空気溜り
7が2段形成された例を示している。
には、光透過性のガラスからなる複数枚の垂直透明板8
及び傾斜透明板9が配置され、透明板8,9及び底部仕
切板5aで区画された空間を紫外線照射室10としてい
る。なお、紫外線照射室10を構成する仕切板5a部分
は反射板11で閉塞されている。透明板8,9は上端部
が傾斜角30°で当接している(従って、底部仕切板5
aに対する傾斜透明板9の傾斜角度は60°となる)。
また、紫外線照射室10の内部には、近紫外線を照射す
る紫外線ランプ12が配設されている。図1では、3枚
の傾斜透明板9と反射板11と2枚の垂直透明板8及び
装置本体1内壁面の反射板とによって3つの紫外線照射
室10が形成され、各紫外線照射室10の内部には2本
の紫外線ランプ12が配設されている。また、異なる段
に位置する各垂直透明板8は、互いに同一の垂直面上に
配置されている。
は、粒径3mmの粒状担体に担持された酸化チタンからな
る光触媒13が充填された光触媒充填室14となってい
る。粒状の光触媒13は、その充填部が充填室14の4
0容量%を占め、下方から吹き上げてくる空気流によっ
て流動化される。従って、底部仕切板5aだけでなく、
傾斜透明板8も流動床として機能する。最上段の中間空
気溜り7の上方には、所定の間隔を介して、10メッシ
ュの金網からなる第二仕切板15a,15bが装置本体
1に固定されており、第二仕切板15間の空間内は粒径
3mmの粒状の活性炭16が充填された活性炭充填層17
となっている。また、充填層17の装置本体1側壁に
は、汚染物質の吸着能が低下した活性炭16を取り出す
活性炭取出口18が設けられている。第二上部仕切板1
5bの上方には、上方に向かって縮径する上部空気溜り
19が形成され、その上方中央に空気溜り19に連通す
る空気排出口20が形成されている。
説明する。まず、送風機を回転駆動すると、汚染物質を
含む空気が空気浄化装置本体1底部の流入口4から流入
し、装置内部をほぼ一定の流速で上昇するように形成さ
れた下部空気溜り3で汚染空気は整流される。空気溜り
3を通過した汚染空気は、第一仕切板5aの網目から最
下段の光触媒充填室14に流入する。充填室14には光
触媒13が密に堆積しており、空気中の汚染物質が光触
媒13と接触することにより吸着される。また、粒状の
光触媒13は、下方から吹き上げられる空気によって上
向きに舞い上がり、透明板8,9の水平方向間隔が上方
に向かって広がっている充填室14の上部でバラバラに
拡散される。光触媒13の流動化は、その自重と送風機
による空気の上昇流によりバランスする。
板8,9及び反射板11で3方向から囲繞されており、
その内部に配設された紫外線ランプ12から紫外線が光
触媒充填室14に照射される。そのため、光触媒13粒
子に吸着された汚染物質は、紫外線と光触媒の強力な酸
化作用により分解される。例えば、臭気物質のアンモニ
アは水と窒素ガスに分解され、ホルムアルデヒドは水と
炭酸ガスに分解されて無臭物質に変化する。1段目の光
触媒充填室14で分解されなかった汚染物質を含む空気
は、その上方の中間空気溜り7で整流され、2段目の光
触媒充填室14において同様に光酸化分解作用を受け
る。このようにして、汚染物質は上段の光触媒充填室1
4に上昇するに従って次第に分解される。
7を経由して、第二底部仕切板15aの網目から活性炭
充填層17に流入し、分解されなかった汚染物質が粒状
の活性炭16にほぼ完全に吸着される。以上のようにし
て浄化された空気は、上部空気溜り19を経由して、装
置本体1頂部の空気排出口20から大気中へ放出され
る。
の飛散状態と循環状態が良好であり、しかも光触媒に紫
外線が充分に照射されるので、光触媒に吸着された汚染
物質が効率よく分解される。また、本発明によれば、光
酸化反応室において汚染物質のショートパスが回避さ
れ、汚染物質が未処理のまま浄化装置の系外に放出され
ることが防止される。
断面図である。
b・・・ 第一仕切板、6・・・ 光酸化反応室、8・・・ 垂直透
明板、9・・・ 傾斜透明板、10・・・ 紫外線照射室、12
・・・ 紫外線ランプ、13・・・ 光触媒、15a,15b・・
・ 第二仕切板、16・・・ 活性炭、17・・・ 活性炭充填
層、20・・・ 空気排出口。
Claims (5)
- 【請求項1】 装置本体の下方及び上方にそれぞれ空気
流入口及び空気排出口が設けられ、装置本体内の下部に
複数段の光酸化反応室が形成され、その上部に活性炭充
填層が形成され、各光酸化反応室及び活性炭充填層が多
数の通気孔を有する仕切板で仕切られた光分解による汚
染空気の浄化装置において、各光酸化反応室の内部に
は、光透過性の垂直透明板と傾斜透明板とから構成され
る縦断面形状が実質的に三角形の紫外線照射室を形成す
ると共に、紫外線照射室の内部には紫外線照射源が配置
され、紫外線照射室を除く光酸化反応室の内部には部分
的に粒状の光触媒が充填され、また、上記活性炭充填層
内には粒状の活性炭が充填されていることを特徴とする
光分解による汚染空気の浄化装置。 - 【請求項2】 前記光酸化反応室の底部仕切板に対する
紫外線照射室側に傾斜する傾斜透明板の傾斜角度が50
〜70°の範囲にあることを特徴とする請求項1記載の
汚染空気の浄化装置。 - 【請求項3】 前記紫外線照射室が、傾斜透明板、装置
本体内壁及び仕切板から更に形成されることを特徴とす
る請求項1または2に記載の汚染空気の浄化装置。 - 【請求項4】 前記装置本体内壁の表面が、反射面とし
て構成されることを特徴とする請求項3記載の汚染空気
の浄化装置。 - 【請求項5】 多数の通気孔を有する装置本体底部の仕
切板を介して汚染物質を含む空気を最下段の光酸化反応
室に導入し、複数段の光酸化反応室内で光触媒と紫外線
照射との作用により汚染物質を酸化分解しつつ、最上段
の光酸化反応室を経た空気に含まれる未分解の汚染物質
を活性炭充填層内に充填された粒状の活性炭に吸着させ
た後、浄化された空気を装置本体から放出する光分解に
よる汚染空気の浄化方法において、各光酸化反応室の内
部には、光透過性の垂直透明板と傾斜透明板とから構成
される縦断面形状が実質的に三角形の紫外線照射室が形
成され、紫外線照射室を除く光酸化反応室の空間に部分
的に充填された粒状の光触媒を下方から上昇する空気流
により流動化させながら、紫外線照射室に配置された紫
外線照射源から汚染物質が吸着された光触媒に紫外線を
照射して、空気中の汚染物質を酸化分解することを特徴
とする光分解による汚染空気の浄化方法。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2004045660A1 (ja) * | 2002-11-15 | 2006-03-16 | 富士通株式会社 | 空気浄化装置 |
JP2008183217A (ja) * | 2007-01-30 | 2008-08-14 | Utsunomiya Univ | 殺菌装置 |
KR101454544B1 (ko) | 2013-05-30 | 2014-10-27 | 주식회사 지티사이언 | 활성탄 필터 모듈 및 이를 갖는 유해가스 정화 및 중화 장치 |
JP2015051268A (ja) * | 2013-09-05 | 2015-03-19 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドSeoul Viosys Co.,Ltd. | 空気浄化装置 |
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CN105080305A (zh) * | 2014-04-25 | 2015-11-25 | 新大陆科技集团有限公司 | 一种气体除臭净化装置 |
JP2017023163A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-02-02 | 株式会社フジコー | 脱臭フィルター |
CN107469620A (zh) * | 2017-09-18 | 2017-12-15 | 北京龙电宏泰环保科技有限公司 | 一种工业锅炉痕量污染物的高效净化方法 |
CN108394998A (zh) * | 2018-03-23 | 2018-08-14 | 苏州鑫金茂金属科技有限公司 | 一种自净化蓄水水箱 |
CN108686503A (zh) * | 2018-07-23 | 2018-10-23 | 蔡林祥 | 一种等离子废气净化装置 |
JPWO2017221998A1 (ja) * | 2016-06-23 | 2019-06-13 | 株式会社Nano Wave | 空気浄化装置 |
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---|---|---|---|---|
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02207824A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 空気清浄装置 |
JPH06218234A (ja) * | 1992-10-06 | 1994-08-09 | Fuji Electric Co Ltd | 有害ガスの除去方法及び装置 |
JPH10118647A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-05-12 | Suzuki Sogyo Co Ltd | 有機物を含有した液体の処理方法及び処理装置 |
JP2001191067A (ja) * | 2000-01-07 | 2001-07-17 | Japan Organo Co Ltd | 光触媒反応装置 |
-
2001
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02207824A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 空気清浄装置 |
JPH06218234A (ja) * | 1992-10-06 | 1994-08-09 | Fuji Electric Co Ltd | 有害ガスの除去方法及び装置 |
JPH10118647A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-05-12 | Suzuki Sogyo Co Ltd | 有機物を含有した液体の処理方法及び処理装置 |
JP2001191067A (ja) * | 2000-01-07 | 2001-07-17 | Japan Organo Co Ltd | 光触媒反応装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2004045660A1 (ja) * | 2002-11-15 | 2006-03-16 | 富士通株式会社 | 空気浄化装置 |
JP2008183217A (ja) * | 2007-01-30 | 2008-08-14 | Utsunomiya Univ | 殺菌装置 |
KR101549649B1 (ko) | 2013-05-14 | 2015-09-03 | 주식회사 지티사이언 | 활성탄 필터 모듈 및 이를 갖는 유해가스 정화 및 중화 장치 |
KR101454544B1 (ko) | 2013-05-30 | 2014-10-27 | 주식회사 지티사이언 | 활성탄 필터 모듈 및 이를 갖는 유해가스 정화 및 중화 장치 |
KR101553665B1 (ko) | 2013-05-30 | 2015-09-17 | 주식회사 지티사이언 | 활성탄 필터 모듈 및 이를 갖는 유해가스 정화 및 중화 장치 |
JP2015051268A (ja) * | 2013-09-05 | 2015-03-19 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドSeoul Viosys Co.,Ltd. | 空気浄化装置 |
CN105080305A (zh) * | 2014-04-25 | 2015-11-25 | 新大陆科技集团有限公司 | 一种气体除臭净化装置 |
JP2017023163A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-02-02 | 株式会社フジコー | 脱臭フィルター |
JPWO2017221998A1 (ja) * | 2016-06-23 | 2019-06-13 | 株式会社Nano Wave | 空気浄化装置 |
JP7149845B2 (ja) | 2016-06-23 | 2022-10-07 | 株式会社Nano Wave | 空気浄化装置 |
CN107469620A (zh) * | 2017-09-18 | 2017-12-15 | 北京龙电宏泰环保科技有限公司 | 一种工业锅炉痕量污染物的高效净化方法 |
CN108394998A (zh) * | 2018-03-23 | 2018-08-14 | 苏州鑫金茂金属科技有限公司 | 一种自净化蓄水水箱 |
CN108686503A (zh) * | 2018-07-23 | 2018-10-23 | 蔡林祥 | 一种等离子废气净化装置 |
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