JP2003131394A - Resist collecting device - Google Patents

Resist collecting device

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JP2003131394A
JP2003131394A JP2001330220A JP2001330220A JP2003131394A JP 2003131394 A JP2003131394 A JP 2003131394A JP 2001330220 A JP2001330220 A JP 2001330220A JP 2001330220 A JP2001330220 A JP 2001330220A JP 2003131394 A JP2003131394 A JP 2003131394A
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JP
Japan
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resist
liquid
stripping
belt conveyor
stripping solution
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Pending
Application number
JP2001330220A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kisaburo Niiyama
喜三郎 新山
Seiji Sugawara
清司 菅原
Masahiro Midorikawa
昌広 緑川
Ryoji Abe
良治 阿部
Hiroaki Ito
浩明 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Kakoki Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Kakoki Co Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist collecting device which can securely separate and collect peeling liquid and photosensitive resist and reuse the peeling liquid without any problem firstly, reuse the peeling liquid with specified concentration as it is without any decrease in concentration nor performance deterioration secondly, maintain the consistency of a processing speed between a peeling device and other devices thirdly, perform supplementation with peeling liquid nearly as much as vaporized liquid fourthly, and eliminate the need for removing and cleaning operation by emulsification fifthly. SOLUTION: This resist collecting device 1 conveys a mixture F of the peeling device D supplied from the peeling device and the photosensitive resist E by a belt conveyor 6 which has fine air vents formed. The peeling liquid D is separated and sucked first by a slit suction hole 20 from the downside of the belt conveyor 6 and then the photosensitive resist E is sucked and collected by a slit suction hole 25 of a resist sucking unit 8 from the upperside of the belt conveyor 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レジスト回収装置
に関する。すなわち、プリント配線基板の製造工程にお
いて付帯装置として用いられ、剥離装置にて使用された
剥離液と感光性レジストを分離,回収する、レジスト回
収装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resist recovery device. That is, the present invention relates to a resist recovery device which is used as an auxiliary device in the manufacturing process of a printed wiring board and separates and recovers the stripping liquid and the photosensitive resist used in the stripping device.

【0002】[0002]

【従来の技術】《技術的背景》プリント配線基板の製造
工程では、搬送される銅張り積層板たるプリント配線基
板材に対し、→感光性レジストの塗布又は張り付け、→
回路用ネガフィルムを当てての露光、→回路部分以外の
感光性レジストを溶融,除去する現象、→回路部分以外
の銅箔を溶融,除去するエッチング、→回路部分の感光
性レジストを剥離,除去する剥離、→等々の工程を順次
実施して行くことにより、外表面に回路が形成されたプ
リント配線基板が製造される。そして、上述した剥離工
程では、剥離装置が用いられ、もって硬化して残ってい
た回路形成部分の感光性レジストが、アルカリ性の剥離
液をスプレーすることにより、プリント配線基板の外表
面から剥離,除去される。このように、剥離装置にて使
用された剥離液と、剥離,除去された感光性レジストと
は、混じり合った混合物となっている。そこで、このよ
うな混合物を、剥離装置から付帯装置たるレジスト回収
装置に供給して、剥離液と感光性レジストとに分離し、
剥離液は、剥離装置に供給されて再使用され、感光性レ
ジストは廃棄されている。
2. Description of the Related Art << Technical Background >> In the process of manufacturing a printed wiring board, a printed wiring board material, which is a copper-clad laminate, is transported by coating or sticking a photosensitive resist,
Exposure by applying negative film for circuit, → Phenomenon of melting and removing photosensitive resist other than circuit part, → Etching to melt and remove copper foil other than circuit part → Peeling and removing photosensitive resist of circuit part The printed wiring board having the circuit formed on the outer surface is manufactured by sequentially performing the steps of peeling, →, and so on. Then, in the above-mentioned peeling step, a peeling device is used, and the photosensitive resist of the circuit forming portion that has been cured and left is peeled and removed from the outer surface of the printed wiring board by spraying an alkaline peeling liquid. To be done. In this way, the stripping liquid used in the stripping device and the photosensitive resist stripped and removed are a mixed mixture. Therefore, such a mixture is supplied from the stripping device to a resist collecting device as an auxiliary device to separate the stripping liquid and the photosensitive resist,
The stripping solution is supplied to the stripping device and reused, and the photosensitive resist is discarded.

【0003】《従来技術について》さて、この種のレジ
スト回収装置としては、従来、ドラム式のもの,ベルト
式のもの,フィルター式のもの、等が代表的に使用され
ていた。ドラム式のレジスト回収装置は、外周面が網目
ネット製の回転する中空ドラムを用いてなり、剥離装置
から供給された混合物を内部に供給して通過させ、もっ
て、剥離液を外周の網目ネットを介し、分離,流下,回
収して再使用に供し、ドラム内から捕集,回収された感
光性レジストは廃棄していた。ベルト式のレジスト回収
装置は、このようなドラム式のものに準じ、網目ネット
製のベルトコンベヤを用いてなり、混合物をベルトコン
ベヤ上に供給して、剥離液を分離,流下,回収して再使
用に供し、ベルトコンベヤにて搬送されて残った感光性
レジストを、捕集,回収,廃棄していた。又、このよう
なドラム式とベルト式をミックスしたレジスト回収装置
も、使用されていた。フィルター式のレジスト回収装置
は、混合物をフィルターに通し、もって、フィルターを
通過して分離,回収された剥離液を再使用し、フィルタ
ーを通過しなかった感光性レジストを、捕集,回収,破
棄していた。
<< Regarding the Prior Art >> As the resist collecting apparatus of this type, conventionally, a drum type, a belt type, a filter type and the like have been typically used. The drum type resist recovery device uses a rotating hollow drum whose outer peripheral surface is made of a mesh net, supplies the mixture supplied from the stripping device to the inside, and passes the stripping liquid to the outer mesh net. The photosensitive resist collected and collected from the drum was discarded. The belt type resist recovery device is based on such a drum type and uses a mesh net belt conveyor. The mixture is supplied onto the belt conveyor to separate, flow down, recover and remove the stripping solution. The photosensitive resist left for use after being conveyed by the belt conveyor was collected, collected, and discarded. In addition, such a resist collecting device in which the drum type and the belt type are mixed is also used. The filter-type resist recovery device allows the mixture to pass through the filter, reuses the stripping solution separated and recovered through the filter, and collects, recovers and discards the photosensitive resist that has not passed through the filter. Was.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】《第1の問題点につい
て》ところで、このような従来例のレジスト回収装置に
あっては、次の問題が指摘されていた。第1に、剥離液
と感光性レジストとの分離,回収が不確実となり、剥離
液を再使用できないことがある、という問題が指摘され
ていた。すなわち、プリント配線基板は高精度化,ファ
イン化,極薄化が進み、その外表面に形成される回路の
高密度化,微細化の進展が著しい。回路の肉厚は35μ
mから10μm程度、回路の幅や間隔も70μm〜20
μm程度まで、微細化されている。これに伴い、回路形
成に用いられる感光性レジストも、このような微細回路
形成に対応すべく、極薄化傾向を辿っており、その肉厚
・膜厚は、従来の35μm程度から、25μm〜10μ
m程度に達している。
<Regarding the First Problem> By the way, the following problems have been pointed out in such a conventional resist collecting apparatus. First, it has been pointed out that separation and recovery of the stripping solution and the photosensitive resist become uncertain, and the stripping solution may not be reused. In other words, printed wiring boards are becoming more precise, finer, and extremely thin, and the densification and miniaturization of circuits formed on the outer surface of them are remarkable. The thickness of the circuit is 35μ
m to 10 μm, and circuit width and spacing are 70 μm to 20 μm
It is miniaturized to about μm. Along with this, the photosensitive resist used for circuit formation is also becoming extremely thin in order to cope with such fine circuit formation, and the thickness / thickness thereof is from 25 μm to 25 μm in comparison with the conventional thickness of about 35 μm. 10μ
It has reached about m.

【0005】そこで最近は、剥離装置から回収された混
合物中の感光性レジストも、微細化が著しく、この種従
来例のドラム式やベルト式のレジスト回収装置では、剥
離液との分離が容易ではなかった。ドラムやベルトの網
目ネットでは網目が大き過ぎ、微細化した感光性レジス
トを、剥離液と完全に分離して捕集,回収することに、
困難が生じていた。もって、回収された剥離液中に多量
の感光性レジストが混入しやすい状況にあり、もしも多
量の感光性レジストが混入された剥離液を、剥離装置に
供給して再使用すると、本来機能たるプリント配線基板
材外表面からの感光性レジストの剥離,除去が困難化,
不能化してしまう、という欠陥が生じる。そこで、剥離
液の再使用ができなくなることが多々ある、という問題
が指摘されていた。
Therefore, recently, the photosensitive resist in the mixture recovered from the stripping device has been remarkably miniaturized, and the conventional drum type or belt type resist recovering device of this kind cannot easily separate it from the stripping solution. There wasn't. The mesh net of the drum and belt is too large, and the photosensitive resist that has been made finer is completely separated from the stripping solution and collected and collected.
There were difficulties. As a result, a large amount of photosensitive resist is likely to be mixed in the collected stripping solution, and if the stripping solution containing a large amount of photosensitive resist is supplied to the stripping device and reused, printing that would originally function is performed. Peeling and removal of photosensitive resist from the outer surface of wiring board material becomes difficult,
There is a defect that it will be disabled. Therefore, it has been pointed out that the peeling solution cannot be reused in many cases.

【0006】これに対し、フィルター式のレジスト回収
装置にあっては、このように微細化した感光性レジスト
の捕集,回収、つまり剥離液との分離は可能である。し
かしながら、微細化した感光性レジストにて、フィルタ
ーが目詰まりしてしまう、という難点が指摘されてい
た。つまり、この種従来例のフィルター式のレジスト回
収装置は、使用すると、すぐに目詰まりを起こして使用
不能となり、自動連続運転ができない、という欠陥が指
摘され、最近は使用されなくなっている。
On the other hand, in the filter type resist collecting device, it is possible to collect and collect the finely divided photosensitive resist, that is, to separate it from the stripping solution. However, it has been pointed out that the filter is clogged with the miniaturized photosensitive resist. In other words, it has been pointed out that the conventional filter-type resist recovery device of this kind becomes clogged immediately after being used and cannot be used automatically, and cannot be continuously operated automatically.

【0007】《第2の問題点について》第2に、剥離液
と感光性レジストとの分離,回収が不確実となり、剥離
液の濃度低下,性能劣化が顕著化する、という問題も生
じていた。すなわち前述したように、この種従来例のド
ラム式やベルト式のレジスト回収装置では、剥離液を感
光性レジストから分離,回収することが容易でなく、不
確実化するので、回収された剥離液中には例え多量でな
くでも、かなりの量の感光性レジストが混入している。
そして、再使用を繰り返すことにより、感光性レジスト
の混入量は次第に増加して行く。そこで、再使用のため
回収,貯留された剥離液中に、微細化した感光性レジス
トが混入,浮遊,沈澱して、溶解変質化,エマルジョン
化し、結局、その分だけ剥離液の濃度が低下し性能が劣
化してしまう、剥離液のいわゆるヘタリ現象が発生し、
もって、剥離装置における感光性レジストの剥離,除去
にも支障が生じ、問題となっていた。
<Regarding the Second Problem> Secondly, there was a problem that the separation and recovery of the stripping solution and the photosensitive resist became uncertain, and the concentration of the stripping solution decreased and the performance deteriorated. . That is, as described above, in the conventional drum type or belt type resist collecting device of this type, it is not easy to separate and collect the stripping solution from the photosensitive resist, and it is uncertain that the stripping solution collected is recovered. Even if not a large amount, a considerable amount of the photosensitive resist is mixed therein.
Then, by repeating the reuse, the mixing amount of the photosensitive resist gradually increases. Therefore, in the stripping solution collected and stored for reuse, the finely divided photosensitive resist is mixed, floated, and precipitated to be dissolved, altered, and emulsified, so that the concentration of the stripping solution is reduced accordingly. The so-called settling phenomenon of the peeling liquid that deteriorates the performance occurs,
Therefore, peeling and removal of the photosensitive resist in the peeling device also become a problem, which is a problem.

【0008】《第3の問題点について》第3に、このよ
うに剥離液の濃度低下,性能劣化が発生すると、このよ
うな剥離液を再使用する剥離装置について、処理スピー
ド等にも問題が生じる。すなわち、再使用が繰り返され
て次第に所定値以下に濃度低下,性能劣化した剥離液
を、レジスト回収装置側から剥離装置側に供給し、この
濃度低下,性能劣化した剥離液を使用して、プリント配
線基板外表面からの感光性レジストの剥離,除去を行う
ためには、剥離装置内でプリント配線基板材を搬送する
コンベヤのスピードを遅く低下させたり、剥離装置自体
をより長大化することが必要となる。そして、剥離装置
のコンベヤスピードの低下は、自動ライン化されたその
前工程たる現像装置やエッチング装置のコンベヤスピー
ドと、同調マッチングしなくなり、整合性に問題が生じ
生産性が低下し、又、剥離装置の長大化は、コスト面や
スペース面に問題が生じる。
<Regarding Third Problem> Thirdly, when the concentration of the stripping solution is lowered and the performance is deteriorated, there is a problem in the processing speed of the stripping apparatus which reuses the stripping solution. Occurs. That is, the stripping liquid whose concentration is gradually lowered to a predetermined value or less due to repeated reuse is supplied from the resist collecting device side to the stripping device side, and the stripping liquid whose concentration is lowered and performance deteriorates is used to print. In order to remove and remove the photosensitive resist from the outer surface of the wiring board, it is necessary to slow down the speed of the conveyor that conveys the printed wiring board material inside the peeling device, or to enlarge the peeling device itself. Becomes And, the decrease in the conveyor speed of the peeling device does not match the conveyor speed of the developing device or etching device, which is the pre-process that is automatically lined up, and the matching problem occurs and the productivity decreases. Increasing the size of the device causes problems in cost and space.

【0009】《第4の問題点について》第4に、そこで
再使用のため回収,貯留された剥離液について、新鮮な
剥離液を、タンクから随時補給することも行われていた
が、適切量の補給が容易でなく、どうしても濃度や量が
過剰となり易い、という問題が指摘されていた。すなわ
ち、この種従来例では、レジスト回収装置における前述
した剥離液の濃度低下,性能劣化対策として、剥離装置
に供給されるプリント配線基板材の枚数をカウントし、
もって所定枚数毎に定期的・定時的に、レジスト回収装
置側において、新鮮な剥離液を再使用のため貯留中の剥
離液に補給することも行われていた。しかしながら、濃
度低下,性能劣化の程度は様々であり、しかも、プリン
ト配線基板材に形成される回路も各種各様で、剥離,除
去される感光性レジストの肉厚・膜厚や面積・量が多様
であり、もって、見合った量の剥離液を補給すべくコン
トロールすることは、非常に複雑で面倒であり困難を極
めていた。そこで、どうしても補給量が過剰となり、剥
離装置に供給されるべく貯留される剥離液の濃度や量が
過剰となり、この面からも、剥離液のコスト面や性能面
に問題が指摘されていた。
<Regarding Fourth Problem> Fourthly, with respect to the stripping solution recovered and stored there for reuse, fresh stripping solution was sometimes replenished from the tank, but an appropriate amount. It has been pointed out that it is not easy to replenish the product, and the concentration and amount tend to be excessive. That is, in this type of conventional example, the number of printed wiring board materials supplied to the stripping device is counted as a measure against the above-described concentration drop of the stripping solution in the resist recovery device and performance deterioration.
For this reason, it has also been practiced to replenish fresh stripping solution to the stripping solution in storage for reuse, periodically and regularly for each predetermined number of sheets. However, the degree of density decrease and performance deterioration are various, and the circuits formed on the printed wiring board material are various, and the thickness and thickness of the photosensitive resist to be peeled and removed, the area and the amount thereof are different. Since it is diverse, it has been very complicated, troublesome and difficult to control so as to supply a suitable amount of the stripping solution. Therefore, the replenishment amount is inevitably excessive, and the concentration and amount of the stripping solution stored to be supplied to the stripping apparatus are excessive, and from this aspect, problems have been pointed out in terms of cost and performance of the stripping solution.

【0010】《第5の問題点について》第5に、前述し
たようにレジスト回収装置側において、再使用のため回
収,貯留された剥離液中に、微細化した感光性レジスト
が混入,浮遊,沈澱していると、溶解変質化,エマルジ
ョン化しやすく、もって貯留用の液槽の清掃作業等が大
変である、という問題が指摘されていた。すなわち、感
光性レジストが剥離液とエマルジョン化し、クリーム
状,のり状となって液槽内壁に付着するので、この種従
来例のレジスト回収装置では、適宜、ラインを止め液槽
内に入って、その除去作業を実施することを要し、非常
に手間取り面倒であると共に、ラインを止めるので生産
性も低下する、という問題が指摘されていた。又、エマ
ルジョン化を放置すると、レジスト回収装置から剥離装
置にかけて、各所で目詰まり発生の危険が生じ、この面
からも問題が指摘されていた。
<Fifth Problem> Fifth, as described above, on the resist recovery device side, finely divided photosensitive resist is mixed in or floated in the stripping solution recovered and stored for reuse. It has been pointed out that if it is precipitated, it is likely to be dissolved and denatured and emulsified, which makes cleaning the storage tank difficult. That is, since the photosensitive resist is emulsified with the stripping solution and becomes a creamy or paste-like substance and adheres to the inner wall of the liquid tank, in the conventional resist collecting apparatus of this kind, the line is appropriately stopped to enter the liquid tank, It has been pointed out that the removal work is required, which is very troublesome and time-consuming, and the productivity is lowered because the line is stopped. Further, if the emulsification is left as it is, there is a risk that clogging will occur in various places from the resist recovery device to the stripping device, and this has also pointed out a problem.

【0011】《本発明について》本発明は、このような
実情に鑑み、上記従来例の課題を解決すべく、発明者の
鋭意研究努力の結果なされたものである。そして、剥離
装置から供給された剥離液と感光性レジストの混合物
を、微細な通気孔が形成されたベルトコンベヤで搬送し
つつ、まず、ベルトコンベヤ下から液吸引器のスリット
状吸引口にて、剥離液を分離,吸引し、次に、ベルトコ
ンベヤ上からレジスト吸引器のスリット状吸引口にて、
感光性レジストを吸引,捕集すること、を特徴とする。
分離,吸引された剥離液は、液槽に流下,回収,貯留し
た後、剥離装置へ再使用のため供給され、吸引,捕集さ
れた感光性レジストは、回収槽に投入,回収される。
又、剥離液の濃度が所定値を下回った場合は、濃度セン
サー,コントロールバルブを介し、新鮮な剥離液が液槽
に補給される。
<Regarding the Present Invention> The present invention has been made as a result of earnest research efforts by the inventor in order to solve the problems of the above-mentioned conventional examples in view of such circumstances. Then, the mixture of the stripping liquid and the photosensitive resist supplied from the stripping device, while being conveyed by the belt conveyor in which fine ventilation holes are formed, first, at the slit-shaped suction port of the liquid suction device from below the belt conveyor, The stripping solution is separated and sucked, and then from the belt conveyor at the slit suction port of the resist suction device.
It is characterized in that the photosensitive resist is sucked and collected.
The separated and sucked stripping solution flows down into the liquid tank, is collected and stored, and is then supplied to the stripping device for reuse. The sucked and collected photosensitive resist is put into the collecting tank and collected.
Further, when the concentration of the stripping solution falls below a predetermined value, fresh stripping solution is replenished to the liquid tank via the concentration sensor and the control valve.

【0012】もって本発明は、第1に、剥離液と感光性
レジストとが確実に分離,回収され、もって剥離液を問
題なく再使用でき、第2に、しかも剥離液を濃度低下,
性能劣化なく、所定濃度のまま再使用でき、第3に、も
って剥離装置と現像装置やエッチング装置等との間で、
処理スピードの整合性が維持され、第4に、剥離液の補
給は、ほぼ蒸発相当分で済みコントロールが容易であ
り、第5に、エマルジョン化による除去・清掃作業も不
要化される、レジスト回収装置を提案することを目的と
する。
Therefore, according to the present invention, firstly, the stripping solution and the photosensitive resist are reliably separated and recovered, and thus the stripping solution can be reused without any problems. Secondly, the concentration of the stripping solution is lowered,
It can be reused at a predetermined concentration without performance deterioration. Thirdly, between the peeling device and the developing device, etching device, etc.,
Consistency of processing speed is maintained, 4th, stripper solution replenishment is almost equivalent to evaporation, control is easy, and 5th, removal / cleaning work by emulsification is no longer necessary. The purpose is to propose a device.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】《各請求項について》こ
のような課題を解決する本発明の技術的手段は、次のと
おりである。まず、請求項1については次のとおり。請
求項1のレジスト回収装置は、プリント配線基板の製造
工程で用いられ、供給部,ベルトコンベヤ,液吸引器,
レジスト吸引器、等を有してなること、を特徴とする。
すなわち、使用後の剥離液と感光性レジストとの混合物
を、剥離装置から供給する供給部と、供給後に搬送する
通気性を備えたベルトコンベヤと、該ベルトコンベヤ下
に配設され、まず該剥離液を吸引する液吸引器と、該ベ
ルトコンベヤ上に配設され、次に該感光性レジストを吸
引するレジスト吸引器と、を有してなる。
<< About Each Claim >> The technical means of the present invention for solving such a problem are as follows. First, claim 1 is as follows. The resist collecting apparatus according to claim 1 is used in a manufacturing process of a printed wiring board, and includes a supply unit, a belt conveyor, a liquid suction device,
It has a resist suction device and the like.
That is, a supply unit for supplying a mixture of a stripping solution after use and a photosensitive resist from a stripping device, a belt conveyor having air permeability for transporting after feeding, and arranged under the belt conveyor. A liquid suction device for sucking the liquid, and a resist suction device disposed on the belt conveyor and then sucking the photosensitive resist are provided.

【0014】請求項2については次のとおり。請求項2
のレジスト回収装置では、請求項1において、該剥離装
置は、アルカリ性の該剥離液をスプレーして、プリント
配線基板材の外表面から該感光性レジストを剥離,除去
する。該供給部は、スプレー後の該剥離液と剥離,除去
された該感光性レジストとの該混合物を、該剥離装置側
から該レジスト回収装置側へと流す管体よりなる。該ベ
ルトコンベヤは、無端状をなし微細な通気孔が密に形成
されており、上流側が該供給部の端部下に位置して、そ
の上に該混合物が流下せしめられる。該液吸引器は、搬
送方向上流側で吸引力を作用させて、該ベルトコンベヤ
を介し、該混合物から該剥離液を分離,吸引する。該レ
ジスト吸引器は、搬送方向下流側で吸引力を作用させ
て、該ベルトコンベヤ上に残った該感光性レジストを吸
引,捕集すること、を特徴とする。請求項3については
次のとおり。請求項3のレジスト回収装置では、請求項
2において、該液吸引器および該レジスト吸引器は、そ
れぞれ、複数併設され、該ベルトコンベヤの横幅方向に
沿ってスリット状吸引口が形成されると共に、吸引力発
生用のブロワ−に接続されていること、を特徴とする。
Claim 2 is as follows. Claim 2
In the resist recovering device of claim 1, in claim 1, the stripping device sprays the alkaline stripping solution to strip and remove the photosensitive resist from the outer surface of the printed wiring board material. The supply unit is composed of a tubular body for flowing the mixture of the stripping solution after spraying and the photosensitive resist stripped and removed from the stripping device side to the resist collecting device side. The belt conveyor is endless and has fine air holes densely formed. The upstream side is located below the end of the supply unit, and the mixture is allowed to flow down on the upstream side. The liquid suction device exerts a suction force on the upstream side in the conveying direction to separate and suck the stripping liquid from the mixture via the belt conveyor. The resist suction device is characterized in that a suction force is exerted on the downstream side in the transport direction to suck and collect the photosensitive resist remaining on the belt conveyor. Claim 3 is as follows. According to a third aspect of the present invention, in the resist recovery apparatus according to the second aspect, a plurality of the liquid suction devices and the resist suction devices are provided side by side, and slit-shaped suction ports are formed along the lateral width direction of the belt conveyor. It is connected to a blower for generating a suction force.

【0015】請求項4については次のとおり。請求項4
のレジスト回収装置では、請求項3において、更に、該
液吸引器や該ベルトコンベヤ等の下側に、上下間隔を存
して液槽が配設されている。そして該液槽は、該液吸引
器のスリット状吸引口にて吸引された該剥離液が、該ブ
ロワ−を介し流下,回収,貯留されると共に、貯留され
た該剥離液を、ポンプ付きの配管を介し該剥離装置へと
再使用のため供給すること、を特徴とする。請求項5に
ついては次のとおり。請求項5のレジスト回収装置で
は、請求項4において、更に、該ベルトコンベヤの搬送
方向下流側の端の下側に、上下間隔を存して回収槽が配
設されている。そして該回収槽は、該レジスト吸引器の
スリット状吸引口にて吸引された該感光性レジストが、
ブロワーを介し投入,回収されること、を特徴とする。
請求項6については次のとおり。請求項6のレジスト回
収装置では、請求項5において、更に、該供給部又は該
液槽に配された、該剥離液の濃度センサーと、該液槽に
コントロールバルブおよびポンプを介して接続された、
新鮮な該剥離液のタンクと、を有してなる。そして、該
濃度センサーの検出に基づき、該剥離液の濃度が所定値
を下回った場合は、該コントロールバルブが開に切り換
わり、もって該タンクから新鮮な該剥離液を、該液槽に
補給可能となっていること、を特徴とする。
Claim 4 is as follows. Claim 4
In the resist collecting apparatus, the liquid tank according to claim 3 is further provided below the liquid suction device, the belt conveyor, and the like with a vertical interval. In the liquid tank, the stripping liquid sucked through the slit-shaped suction port of the liquid suction device flows down through the blower, is collected and stored, and the stored stripping liquid is provided with a pump. Supplying to the peeling device for reuse via a pipe. Claim 5 is as follows. According to a fifth aspect of the present invention, in the resist collecting apparatus according to the fourth aspect, the collecting tanks are arranged below the end of the belt conveyor on the downstream side in the transport direction with a vertical interval. Then, in the recovery tank, the photosensitive resist sucked by the slit-shaped suction port of the resist suction device is
It is characterized by being input and recovered through a blower.
Claim 6 is as follows. According to a sixth aspect of the present invention, in the resist recovery apparatus according to the fifth aspect, the concentration sensor for the stripping solution arranged in the supply unit or the liquid tank is further connected to the liquid tank via a control valve and a pump. ,
A tank of fresh stripper. Then, based on the detection of the concentration sensor, when the concentration of the stripping solution falls below a predetermined value, the control valve switches to open, and thus the stripping solution fresh from the tank can be supplied to the liquid tank. It is characterized by.

【0016】《作用について》本発明は、このようにな
っているので、次のようになる。このレジスト回収装置
は、供給部,ベルトコンベヤ,液吸引器,液槽,レジス
ト吸引器,回収槽、等を有してなり、プリント配線基板
の製造工程で用いられ、剥離工程で使用された剥離液と
感光性レジストを、次のステップにて個別に分離,回収
する。 剥離工程では、剥離装置にて剥離液がスプレーされ、
プリント配線基板材の外表面から、感光性レジストを剥
離,除去する。 剥離装置にてスプレーされた後の剥離液と、剥離,除
去された感光性レジストとは、混じリ合った混合物とな
る。 供給部は管体よりなり、この混合物を、剥離装置側か
らレジスト回収装置側へと、流して供給する。 ベルトコンベヤは、無端状をなし微細な通気孔が密に
形成され、上流側が供給部の端部下に位置しており、投
入,流下,供給された混合物を、上流側から下流側へ搬
送する。
<Regarding Operation> Since the present invention has such a configuration, it is as follows. This resist recovery device has a supply unit, a belt conveyor, a liquid suction device, a liquid tank, a resist suction device, a recovery tank, and the like, and is used in the manufacturing process of a printed wiring board and used in the peeling process. The liquid and the photosensitive resist are individually separated and collected in the next step. In the peeling process, the peeling liquid is sprayed by the peeling device,
The photosensitive resist is peeled and removed from the outer surface of the printed wiring board material. The stripping solution that has been sprayed by the stripping device and the photosensitive resist that has been stripped and removed form a mixed mixture. The supply unit is composed of a tubular body, and supplies this mixture by flowing it from the peeling device side to the resist collecting device side. The belt conveyor is endless and has fine ventilation holes densely formed, and the upstream side is located below the end of the supply section, and conveys the mixture that has been introduced, flowed down, and supplied from the upstream side to the downstream side.

【0017】液吸引器は、ベルトコンベヤの上流側の
下に複数配設されており、横幅方向にスリット状吸引口
が形成されると共に、吸引力発生用のブロワ−に接続さ
れており、もって、ベルトコンベヤの下面に密着しつつ
吸引力を作用させて、ベルトコンベヤの微細な通気孔を
介し、混合物中から剥離液のみを、確実に分離,吸引す
る。 吸引された剥離液は、ブロワ−を介し液槽に流下,回
収,貯留されるが、感光性レジストは混入,浮遊,沈殿
しておらず、濃度低下,性能劣化もなく所定濃度のまま
維持されており、溶解変質,エマルジョン化も発生しな
い。そして、このように貯留された剥離液は、配管やポ
ンプを介し剥離装置へと供給されて再使用されるが、所
定濃度に維持されているので、剥離装置も、所定処理ス
ピードのままで良い。
A plurality of liquid suction devices are arranged below the upstream side of the belt conveyor, slit-shaped suction ports are formed in the lateral width direction, and are connected to a blower for generating suction force. By applying suction force while closely contacting the lower surface of the belt conveyor, only the peeling liquid is surely separated and sucked from the mixture through the fine ventilation holes of the belt conveyor. The sucked stripping solution flows down to the liquid tank via the blower and is collected and stored, but the photosensitive resist is not mixed, suspended, or settled, and is maintained at a predetermined concentration without concentration decrease or performance deterioration. In addition, neither dissolution alteration nor emulsification occurs. Then, the stripping solution thus stored is supplied to the stripping apparatus through the pipe or the pump and reused, but since the stripping apparatus is maintained at a predetermined concentration, the stripping apparatus may be kept at the predetermined processing speed. .

【0018】レジスト吸引器は、ベルトコンベヤの下
流側の上に複数配設され、横幅方向にスリット状吸引口
が形成されると共に、吸引力発生用のブロワ−に接続さ
れており、もって、ベルトコンベヤの下流側上で吸引力
を作用させ、残っていた感光性レジストを吸引,捕集す
る。そこで、ベルトコンベヤの微細な通気孔の目詰まり
が、回避されるようになる。 吸引された感光性レジストは、ブロワーを介し回収槽
に投入,回収される。 なお、循環再使用される剥離液は、濃度低下,性能劣
化なく所定濃度に維持されるので、ほぼ蒸発相当分を補
給すれば良い。そこで濃度センサーが、剥離液の濃度が
所定値を下回ったことを検出した場合は、コントロール
バルブが開に切り換わり、新鮮な剥離液が、タンクから
ポンプにて液槽に補給され、もって剥離液が所定濃度,
所定量に維持される。
A plurality of resist suction devices are arranged on the downstream side of the belt conveyor, slit-shaped suction ports are formed in the lateral width direction, and the resist suction devices are connected to a blower for generating a suction force. A suction force is applied on the downstream side of the conveyor to suck and collect the remaining photosensitive resist. Therefore, the clogging of the fine ventilation holes of the belt conveyor can be avoided. The sucked photosensitive resist is put into a collecting tank through a blower and collected. Since the stripping solution that is circulated and reused is maintained at a predetermined concentration without a decrease in concentration and performance deterioration, it is sufficient to replenish the amount equivalent to evaporation. Therefore, when the concentration sensor detects that the concentration of the stripper is below the specified value, the control valve is switched to open, and fresh stripper is supplied from the tank to the liquid tank by the pump. Is the predetermined concentration,
It is maintained at a predetermined amount.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】《図面について》以下本発明を、
図面に示す発明の実施の形態に基づいて、詳細に説明す
る。図1,図2,図3は、本発明に係るレジスト回収装
置について、発明の実施の形態の説明に供する。そして
図1は、剥離装置と共に示した正面説明図である。図2
は、側面説明図である。図3の(1)図は、液吸引器の
スリット状吸引口等の平面説明図であり、図3の(2)
図は、プリント配線基板(材)の平面説明図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
A detailed description will be given based on an embodiment of the invention shown in the drawings. 1, FIG. 2 and FIG. 3 are provided for explaining the embodiments of the invention regarding the resist collecting apparatus according to the present invention. FIG. 1 is a front explanatory view shown together with the peeling device. Figure 2
FIG. (1) of FIG. 3 is a plan explanatory view of a slit-shaped suction port of the liquid suction device, and (2) of FIG.
The figure is an explanatory plan view of a printed wiring board (material).

【0020】《プリント配線基板Aについて》まず、前
提となるプリント配線基板Aについて、図3を参照しつ
つ、その概略を説明しておく。電子回路板とも称される
プリント配線基板Aは、広く各種のOA機器用の基板、
その他の電子機器用の基板として用いられており、片面
基板,両面基板,多層基板(含、最近のビルドアップ工
法のもの)等、各種のものがあり、その一環として、半
導体チップ・パッケージ絡みのCSP,PBGAも出現
している。そしてプリント配線基板Aは、電子機器の高
性能化,高機能化,小型軽量化に伴い、近年ますます高
精度化,ファイン化,極薄化,フレキシブル化,多層化
等が進み、外表面(表面,裏面の一方又は双方)に形成
される回路Bの高密度化,微細化が著しい。プリント配
線基板Aは、例えば縦横が、500mm×500mm程
度から、330mm×250mm程度の寸法よりなり、
その肉厚は、樹脂やガラスクロスよりなる絶縁基材・絶
縁層の部分が1.0mm〜60μm程度、回路Bの部分
(銅箔部分)が75μm〜35μm、昨今では25μm
〜10μm前後程度まで極薄化されており、多層基板の
場合でも、全体の肉厚が1.0mm〜0.4mm程度ま
で極薄化されつつある。回路Bの幅や間隔も、0.1m
m以下から、70μm〜20μm程度と微細化傾向にあ
る。
<< Regarding Printed Wiring Board A >> First, an outline of the presumed printed wiring board A will be described with reference to FIG. The printed wiring board A, which is also called an electronic circuit board, is a board for a wide variety of OA equipment,
It is used as a substrate for other electronic devices, and there are various types such as single-sided substrates, double-sided substrates, and multi-layered substrates (including those of recent build-up construction method). CSP and PBGA have also appeared. The printed wiring board A has become more and more precise, finer, ultrathin, flexible, multi-layered, etc. in recent years as the performance and functionality of electronic devices have become smaller and lighter. The density and miniaturization of the circuit B formed on one or both of the front surface and the back surface are remarkable. The printed wiring board A has dimensions of, for example, about 500 mm × 500 mm in length and width to about 330 mm × 250 mm,
The thickness of the insulating base material / insulating layer portion made of resin or glass cloth is about 1.0 mm to 60 μm, the portion of the circuit B (copper foil portion) is 75 μm to 35 μm, and recently 25 μm.
It is extremely thinned to about 10 μm or so, and even in the case of a multilayer substrate, the overall thickness is being extremely thinned to about 1.0 mm to 0.4 mm. The width and spacing of circuit B is also 0.1m
From m or less, there is a tendency for miniaturization to be about 70 μm to 20 μm.

【0021】《プリント配線基板Aの製造工程につい
て》そしてプリント配線基板Aは、公知のごとく、次の
ステップを辿って製造される。まず、樹脂やガラスクロ
ス製の絶縁基材たる絶縁層の外表面に、銅箔が熱プレス
等により張り付けられた後、銅箔表面を粗化するソフト
エッチングが行われ、ワークサイズに切断される。それ
から、このように準備された銅張り積層板たるプリント
配線基板材Cについて、多くの場合、スルホール用の多
数の穴あけ加工が施された後、パネルメッキが施されス
ルホール内壁がメッキされる。しかる後、プリント配線
基板材Cの外表面について、保護皮膜たる感光性レジス
トが、膜状に塗布又は張付けられる。この感光性レジス
トの肉厚・膜厚は、従来の35μm程度から、最近は2
5μm〜10μm程度と極薄化されつつある。なお、最
近のプリント配線基板材Cは、両外表面(表裏両面)に
回路Bが形成された両面基板よりなり、両面銅張り積層
板が用いられることが多いが、片方の外表面のみに回路
Bが形成された片面基板よりなり、片面銅張り積層板が
用いられることもある。スルホールは、ビアホールとも
称され、1枚のプリント配線基板材C(プリント配線基
板A)について、極小径のものが数百,数千個にも及ぶ
程度、多数形成されており、その径は、0.5mm〜
0.2mm程度以下のものが多くなっている。そしてス
ルホールは、両外表面の回路B間の接続用や、回路Bに
実装される(薄形)部品の基部挿着・取り付け用、とし
て使用される。
<< Regarding Manufacturing Process of Printed Wiring Board A >> The printed wiring board A is manufactured by following the following steps as is well known. First, after the copper foil is attached to the outer surface of the insulating layer, which is an insulating base material made of resin or glass cloth, by hot pressing or the like, soft etching for roughening the copper foil surface is performed and cut into a work size. . Then, in many cases, the printed wiring board material C, which is a copper-clad laminate, prepared in this manner is subjected to a large number of holes for through-holes, and then subjected to panel plating to plate the inner walls of the through-holes. After that, a photosensitive resist, which is a protective film, is applied or attached in a film form on the outer surface of the printed wiring board material C. The thickness / thickness of this photosensitive resist has been changed from the conventional 35 μm to 2
It is becoming extremely thin, about 5 μm to 10 μm. The recent printed wiring board material C is a double-sided board having circuits B formed on both outer surfaces (both front and back surfaces), and a double-sided copper-clad laminate is often used, but the circuit is formed only on one outer surface. A single-sided board having B formed thereon may be used, and a single-sided copper-clad laminate may be used. The through hole is also called a via hole, and one printed wiring board material C (printed wiring board A) is formed with a large number of extremely small diameters of hundreds or thousands, and the diameter thereof is 0.5 mm ~
Many of them are about 0.2 mm or less. The through holes are used for connecting between the circuits B on both outer surfaces and for mounting / attaching the base of a (thin type) component mounted on the circuits B.

【0022】それから、このようなプリント配線基板材
Cに、回路Bのネガフィルムである回路写真をあてて、
露光する。もって、プリント配線基板材Cの外表面を被
覆していた感光性レジストは、露光されて硬化した回路
B形成部分を残し、他の不要部分が、薬液たる現像液の
噴射により溶解除去される。しかる後、このようなプリ
ント配線基板材Cの外表面の銅箔は、感光性レジストが
硬化して被覆,保護された回路B形成部分を残し、上述
により感光性レジストが溶解除去された不要部分が、薬
液たるエッチング液(腐食液)の噴射により、溶解除去
・エッチングされる。それから、残っていた硬化した回
路B形成部分の感光性レジストが、薬液たる剥離液の噴
射により剥離,溶解除去されるので、残った回路B形成
部分の銅箔にて、プリント配線基板材Cの外表面に所定
の回路Bが形成され、もってプリント配線基板Aが製造
される。なお、このような工程を辿って製造されたプリ
ント配線基板Aの外表面については、後処理工程とし
て、上述した工程に準じ、形成された回路Bの保護被膜
が、感光性レジストにて形成される。プリント配線基板
Aの製造工程は、このようになっている。
Then, a circuit photograph, which is a negative film of the circuit B, is applied to such a printed wiring board material C,
Expose. As a result, the photosensitive resist coating the outer surface of the printed wiring board material C leaves the portion where the circuit B is exposed and cured, and the other unnecessary portions are dissolved and removed by spraying a developing solution which is a chemical solution. Thereafter, in the copper foil on the outer surface of the printed wiring board material C, the photosensitive resist is hardened to leave the circuit B formation portion covered and protected, and the photosensitive resist is removed by dissolution as described above. However, it is dissolved and removed / etched by spraying an etching solution (corrosion solution) which is a chemical solution. Then, the remaining photosensitive resist of the cured circuit B forming portion is peeled and dissolved by spraying a peeling liquid which is a chemical liquid, so that the remaining copper foil of the circuit B forming portion of the printed wiring board material C is removed. A predetermined circuit B is formed on the outer surface, so that the printed wiring board A is manufactured. Incidentally, on the outer surface of the printed wiring board A manufactured by following these steps, the protective film of the formed circuit B is formed by a photosensitive resist as a post-treatment step according to the above-mentioned step. It The manufacturing process of the printed wiring board A is as described above.

【0023】《レジスト回収装置1の概要について》以
下、本発明のレジスト回収装置1について、図1,図2
を参照して、詳細に説明する。前述したように、プリン
ト配線基板Aの製造工程中、剥離工程では、剥離装置2
が用いられ、プリント配線基板材Cに対し剥離液Dがス
プレーされて、その外表面から感光性レジストEが剥
離,除去される(図1の右部分参照)。すなわち剥離装
置2では、ローラーコンベヤ3等のコンベヤにて水平に
搬送されるプリント配線基板材Cに対し、対向配設され
た各スプレーノズル4からアルカリ性の剥離液Dが噴射
され、もって、プリント配線基板材Cの外表面(含、両
外表面間に開口したスルホール内壁や、一方の外表面の
みに開口したブラインドビアホール内壁)から、感光性
レジストが膨潤,剥離,除去される。
<< Outline of the resist collecting apparatus 1 >> Hereinafter, the resist collecting apparatus 1 of the present invention will be described with reference to FIGS.
Will be described in detail with reference to. As described above, the peeling device 2 is used in the peeling step during the manufacturing process of the printed wiring board A.
Is used to spray the stripping solution D onto the printed wiring board material C to strip and remove the photosensitive resist E from the outer surface thereof (see the right part of FIG. 1). That is, in the peeling device 2, the alkaline peeling liquid D is jetted from the spray nozzles 4 arranged opposite to the printed wiring board material C which is horizontally conveyed by a conveyor such as the roller conveyor 3, so that the printed wiring is The photosensitive resist is swelled, peeled off, and removed from the outer surface of the substrate material C (including the inner wall of the through hole opened between both outer surfaces and the inner wall of the blind via hole opened only on one outer surface).

【0024】レジスト回収装置1は、プリント配線基板
Aの製造工程において、このような剥離装置2の付帯装
置として、設けられる。そして、剥離装置2にて使用さ
れた剥離液Dと感光性レジストEとを、個別に分離,回
収する。そして、このレジスト回収装置1は、次の供給
部5,ベルトコンベヤ6,液吸引器7,レジスト吸引器
8,液槽9,回収槽10、等を有してなる。レジスト回
収装置1の概要は、このようになっている。以下、その
詳細について述べる。
The resist collecting device 1 is provided as an auxiliary device of the peeling device 2 in the manufacturing process of the printed wiring board A. Then, the stripping solution D and the photosensitive resist E used in the stripping device 2 are individually separated and collected. The resist collecting apparatus 1 includes the following supply unit 5, belt conveyor 6, liquid suction device 7, resist suction device 8, liquid tank 9, and collecting tank 10. The outline of the resist recovery device 1 is as described above. The details will be described below.

【0025】《供給部5について》まず、レジスト回収
装置1の供給部5は、使用後の剥離液Dと感光性レジス
トEとの混合物F、つまりスプレー後の剥離液Dと剥
離,除去された感光性レジストEとの混合物Fを、剥離
装置2側からレジスト回収装置1側へと流す。すなわ
ち、図示例の供給部5は、若干傾斜して横設された管体
・流し管よりなり、一端部11が、剥離装置2の仕切
り床板12上に開口し、他端部11が、縦の投入管1
3を介し、レジスト回収装置1のベルトコンベヤ6上に
開口している。このように、この供給部5は、剥離装置
2側とレジスト回収装置1側との間をつなぐ管体よりな
り、混合物Fを、剥離装置2側からレジスト回収装置1
側へと流し込んで供給する。供給部5は、このようにな
っている。
<Regarding Supply Unit 5> First, the supply unit 5 of the resist recovery apparatus 1 was stripped and removed from the mixture F of the stripping solution D after use and the photosensitive resist E, that is, the stripping solution D after spraying. The mixture F with the photosensitive resist E is flowed from the peeling device 2 side to the resist collecting device 1 side. That is, the supply unit 5 in the illustrated example is composed of a pipe body / sink pipe that is horizontally installed with a slight inclination, and one end portion 11 1 opens onto the partition floor plate 12 of the peeling device 2 and the other end portion 11 2 , Vertical input pipe 1
It is opened on the belt conveyor 6 of the resist collecting device 1 via As described above, the supply unit 5 is made of a tube that connects the stripping device 2 side and the resist collecting device 1 side, and the mixture F is fed from the stripping device 2 side to the resist collecting device 1 side.
Pour into the side and supply. The supply unit 5 has such a configuration.

【0026】次に、レジスト回収装置1のベルトコンベ
ヤ6は通気性を備えており、上部において、供給された
混合物Fを水平に搬送する。このベルトコンベヤ6は、
微細な通気孔が密に形成されると共に、上部の上流側G
が、供給部5の他端部11下に位置して、その上に混
合物Fが流下せしめられる。又、このベルトコンベヤ6
は、無端状をなし、水平方向に軸を向けた駆動ローラー
14(モーターに連結),ガイドローラー15,テンシ
ョンローラー16間に、テンションを持って張架されて
いる。
Next, the belt conveyor 6 of the resist collecting apparatus 1 is air permeable, and conveys the supplied mixture F horizontally at the upper part. This belt conveyor 6
Fine ventilation holes are densely formed, and the upper upstream side G
But located in the other end portion 11 2 below the supply unit 5, mixture F is made to flow down thereon. Also, this belt conveyor 6
Is endless and is stretched with tension between the drive roller 14 (connected to the motor), the guide roller 15, and the tension roller 16 whose axes are oriented in the horizontal direction.

【0027】このようなベルトコンベヤ6について、更
に詳述する。このベルトコンベヤ6は、このように走行
する上部で、混合物Fを載せて、上流側Gから下流側H
へと搬送方向Jに沿って搬送する。つまり、供給部5の
他端部11の投入管13下に、ベルトコンベヤ6の上
流側Gが位置して、その上に混合物Fが流下せしめら
れ、もって、混合物Fを載んで下流側Hへと走行,搬送
する。このベルトコンベヤ6には、微細な通気孔が多
数,密に形成されている。この通気孔の径は、微細化し
た感光性レジストEでも通過不能な寸法に設定されてお
り、例えば数10μm〜数μm程度に設定される。17
はテーブルであり、このように走行する上部のベルトコ
ンベヤ6下に配設されており、載せられた混合物Fの重
量にて、ベルトコンベヤ6が下方に撓むのを防止する。
又、このテーブル17には、次に述べる液吸引器7やレ
ジスト吸引器8の吸引力の支障とならないように、対応
してそれぞれ開口18が形成されている。19は、下部
で走行するベルトコンベヤ6のガイドテーブルである。
ベルトコンベヤ6は、このようになっている。
The belt conveyor 6 will be described in more detail. The belt conveyor 6 carries the mixture F on the upper side of the traveling as described above, and moves from the upstream side G to the downstream side H.
And is conveyed along the conveyance direction J. In other words, the lower feeding pipe 13 of the other end portion 11 2 of the supply unit 5, located upstream side G of the belt conveyor 6, the mixture F is made to flow down on, have been, downstream H in I placing the mixture F Travel to and transport to. The belt conveyor 6 is densely formed with many fine ventilation holes. The diameter of the vent hole is set to a dimension that does not allow even the miniaturized photosensitive resist E to pass, and is set to, for example, several tens of μm to several μm. 17
Is a table, which is disposed below the upper belt conveyor 6 which travels in this way, and prevents the belt conveyor 6 from bending downward due to the weight of the loaded mixture F.
In addition, openings 18 are formed in the table 17 so as not to interfere with the suction force of the liquid suction device 7 and the resist suction device 8 described below. Reference numeral 19 is a guide table of the belt conveyor 6 which runs at the bottom.
The belt conveyor 6 has such a structure.

【0028】《液吸引器7について》次に、レジスト回
収装置1の液吸引器7は、ベルトコンベヤ6下に配設さ
れると共に、まず剥離液Dを吸引する。つまり液吸引器
7は、搬送方向Jの上流側Gで吸引力を作用させて、ベ
ルトコンベヤ6を介し、混合物Fから剥離液Dを分離,
吸引する。そして、複数併設されており、ベルトコンベ
ヤ6の横幅方向K(図1を参照)に、スリット状吸引口
20が形成されると共に(図3の(1)図も参照)、吸
引力発生用のブロワ−21に接続されている。
<< Regarding Liquid Suction Device 7 >> Next, the liquid suction device 7 of the resist collecting apparatus 1 is disposed below the belt conveyor 6 and sucks the stripping liquid D first. That is, the liquid suction device 7 applies a suction force on the upstream side G in the transport direction J to separate the stripping liquid D from the mixture F via the belt conveyor 6.
Suction. A plurality of slit-like suction ports 20 are formed in the lateral direction K (see FIG. 1) of the belt conveyor 6 (see also FIG. 3 (1)) and a suction force is generated. It is connected to Blower-21.

【0029】このような液吸引器7について、更に詳述
する。上部のベルトコンベヤ6の上流側G下面には、図
示例では3個の液吸引器7が、直角方向から対峙しつ
つ、搬送方向Jに列設されている。この液吸引器7は、
角筒その他の筒状をなし、水平面において搬送方向Jと
直交する横幅方向Kに沿い、ベルトコンベヤ6の全幅を
カバーすべく配設されている。そして、付設形成された
スリット状吸引口20から、微細な通気孔が多数形成さ
れたベルトコンベヤ6を介し、混合物Fに吸引力を作用
させ、もって混合物F中から剥離液Dのみを選択的に分
離,吸引する。スリット状吸引口20は、前述したテー
ブル17に形成された開口18を介し、走行するベルト
コンベヤ6下に上下間隔を存することなく、摺接・当接
している。図示例では、1個の液吸引器7に1本のスリ
ット状吸引口20が形成されているが、2本以上形成す
ることも考えられる。
The liquid suction device 7 will be described in more detail. On the lower surface of the upstream belt conveyor 6 on the upstream side, in the illustrated example, three liquid suction devices 7 are arranged in a line in the transport direction J while facing each other from the right angle direction. This liquid suction device 7
It is in the form of a rectangular tube or other tube, and is arranged to cover the entire width of the belt conveyor 6 along a lateral width direction K that is orthogonal to the transport direction J in the horizontal plane. Then, a suction force is applied to the mixture F from the slit-shaped suction port 20 formed additionally through the belt conveyor 6 in which a large number of fine ventilation holes are formed, so that only the stripping liquid D is selectively selected from the mixture F. Separate and aspirate. The slit-shaped suction port 20 is slidably contacted and abuts below the traveling belt conveyor 6 through the opening 18 formed in the table 17 without any vertical gap. In the illustrated example, one slit-shaped suction port 20 is formed in one liquid suction device 7, but it is also possible to form two or more slit-shaped suction ports 20.

【0030】又、図示したスリット状吸引口20は、液
吸引器7から縦に突設された突出部22の先端・上端に
形成されており、突出部22は、偏平状をなし内部に偏
平な連通導通孔を備えている。そして各液吸引器7は、
配管23を介しブロワ−21に接続されており、ブロワ
−21は、付設されたモーター24の駆動により吸引力
を発生し、配管23を介し、液吸引器7そしてスリット
状吸引口20に、吸引力を供給する。配管23の他端・
下端は、ブロワ−21を介し、液槽9上に開口してい
る。なお、ブロワ−21に代え、真空ポンプ,その他の
ポンプ,エジェクター等を使用することも可能である。
液吸引器7は、このようになっている。
The slit-shaped suction port 20 shown in the drawing is formed at the tip and the upper end of a projection 22 vertically projecting from the liquid suction device 7, and the projection 22 has a flat shape and is flat inside. It has a communication hole. And each liquid suction device 7
The blower -21 is connected to the blower -21 via the pipe 23. The blower -21 generates a suction force by driving the attached motor 24, and sucks the liquid suction device 7 and the slit-shaped suction port 20 via the pipe 23. Supply power. The other end of the pipe 23
The lower end is opened on the liquid tank 9 through the blower 21. A vacuum pump, another pump, an ejector, or the like can be used instead of the blower-21.
The liquid suction device 7 has such a configuration.

【0031】《レジスト吸引器8について》次に、レジ
スト回収装置1のレジスト吸引器8は、ベルトコンベヤ
6上に配設されると共に、次に、感光性レジストEを吸
引する。つまり、レジスト吸引器8は、搬送方向Jの下
流側Hで吸引力を作用させて、ベルトコンベヤ6上に残
った感光性レジストEを吸引,捕集する。そして複数併
設されており、ベルトコンベヤ6の横幅方向Kにスリッ
ト状吸引口25が形成されると共に、吸引力発生用のブ
ロワー26に接続されている。
<< Regarding the Resist Suction Device 8 >> Next, the resist suction device 8 of the resist recovery device 1 is disposed on the belt conveyor 6 and then sucks the photosensitive resist E. That is, the resist suction device 8 exerts a suction force on the downstream side H in the transport direction J to suck and collect the photosensitive resist E remaining on the belt conveyor 6. A plurality of slit-shaped suction ports 25 are formed in the lateral width direction K of the belt conveyor 6 and are connected to a blower 26 for generating suction force.

【0032】このようなレジスト吸引器8について、更
に詳述する。上部のベルトコンベヤ6の下流側H上に
は、図示例では3個のレジスト吸引器8が、直角方向か
ら対峙しつつ、搬送方向Jに列設されている。このレジ
スト吸引器8は、角筒その他の筒状をなし、水平面にお
いて搬送方向Jと直交する横幅方向Kに沿い、ベルトコ
ンベヤ6の全幅をカバーすべく配設されている。そし
て、付設形成されたスリット状吸引口25から、ベルト
コンベヤ6上を搬送される感光性レジストE、つまり混
合物Fから剥離液Dが分離,吸引,除去された残りの感
光性レジストEに、吸引力を作用させ、もって感光性レ
ジストEを吸引,捕集する。なお、このスリット状吸引
口25は、前述したテーブル17に形成された開口18
に、ベルトコンベヤ6を介し上側から対峙している。図
示例では、1個のレジスト吸引器8に1本のスリット状
吸引口25が形成されているが、2本以上形成すること
も考えられる。
The resist suction device 8 will be described in more detail. On the downstream side H of the upper belt conveyor 6, in the illustrated example, three resist suction devices 8 are arranged in a line in the transport direction J while facing each other from the right angle direction. The resist suction device 8 is in the shape of a rectangular tube or the like, and is arranged so as to cover the entire width of the belt conveyor 6 along the lateral width direction K orthogonal to the transport direction J on the horizontal plane. Then, from the slit-shaped suction port 25 formed additionally, the photosensitive resist E conveyed on the belt conveyor 6, that is, the residual photosensitive resist E from which the stripping solution D has been separated, sucked, and removed from the mixture F is sucked. A force is applied to suck and collect the photosensitive resist E. The slit-shaped suction port 25 is the opening 18 formed in the table 17 described above.
And face each other from above via the belt conveyor 6. In the illustrated example, one slit suction port 25 is formed in one resist suction device 8, but it is also possible to form two or more slit suction ports 25.

【0033】又、図示したスリット状吸引口25は、レ
ジスト吸引器8から縦に突設された突出部27の先端・
下端に形成されており、突出部27は、偏平状をなし内
部に偏平な連通導通孔を備えている。そして各レジスト
吸引器8は、配管28を介しブロワ−26に接続されて
おり、ブロワ−26は、付設されたモーター29の駆動
により吸引力を発生し、配管28を介し、レジスト吸引
器8そしてスリット状吸引口25に、吸引力を供給す
る。配管28の他端・下端は、ブロワ−26を介し、回
収槽10上に開口している。なお、ブロワ−26に代
え、真空ポンプ,その他のポンプ,エジェクター等を使
用することも可能である。レジスト吸引器8は、このよ
うになっている。
The slit-shaped suction port 25 shown in the figure is a tip end of a protruding portion 27 vertically protruding from the resist suction device 8.
The protruding portion 27 is formed at the lower end and has a flat shape and has a flat communication hole inside. Each resist suction device 8 is connected to a blower 26 via a pipe 28. The blower 26 generates a suction force by driving an attached motor 29, and the resist suction device 8 passes through the pipe 28. A suction force is supplied to the slit-shaped suction port 25. The other end / lower end of the pipe 28 is opened above the recovery tank 10 via the blower 26. A vacuum pump, another pump, an ejector or the like may be used instead of the blower 26. The resist suction device 8 has such a structure.

【0034】《液槽9について》次に、レジスト回収装
置1の液槽9は、液吸引器7やベルトコンベヤ6等の下
側に、上下間隔を存して配設されている。この液槽9
は、液吸引器7のスリット状吸引口20にて吸引された
剥離液Dが、ブロワ−21や配管23を介し、流下,回
収,貯留されると共に、貯留された剥離液Dを、ポンプ
30付きの配管31を介し、剥離装置2へと再使用のた
め供給する。すなわち、図示例の液槽9は、レジスト回
収装置1の下部に形成されており、上部の液吸引器7に
て吸引された剥離液Dが、配管31等を経由して、流
下,回収,貯留される。勿論、その他ベルトコンベヤ6
等を伝い,付着して,流下した剥離液Dも、下部のこの
液槽9に流下,回収,貯留される。32は液槽9に設け
られた加温ヒーターであり、この加温ヒーター32は、
液槽9に貯留された剥離液Dを、例えば55℃程度に加
温して、再使用に備えせしめる。そして、配管31の一
端が、調整弁33を介し液槽9に接続されており、この
配管31は、ポンプ30を経由した後、他端が、剥離装
置2の各スプレーノズル4に接続されている。液槽9
は、このようになっている。
<< Regarding Liquid Tank 9 >> Next, the liquid tank 9 of the resist collecting apparatus 1 is disposed below the liquid suction device 7, the belt conveyor 6 and the like at a vertical interval. This liquid tank 9
The peeling liquid D sucked through the slit-shaped suction port 20 of the liquid suction device 7 flows down, is collected and stored through the blower 21 and the pipe 23, and the stored peeling liquid D is pumped by the pump 30. It is supplied to the peeling device 2 for reuse via the attached pipe 31. That is, the liquid tank 9 in the illustrated example is formed in the lower part of the resist recovery device 1, and the stripping solution D sucked by the liquid suction device 7 in the upper part flows down, recovers, and flows through the pipe 31 and the like. Be stored. Of course, other belt conveyors 6
The peeling liquid D that has passed through the above, adhered, and flowed down is also flowed down, collected, and stored in the liquid tank 9 below. 32 is a heating heater provided in the liquid tank 9, and this heating heater 32 is
The stripping solution D stored in the solution tank 9 is heated to, for example, about 55 ° C. to be prepared for reuse. Then, one end of the pipe 31 is connected to the liquid tank 9 via the adjustment valve 33, and the pipe 31 is connected to each spray nozzle 4 of the peeling device 2 after passing through the pump 30. There is. Liquid tank 9
Is like this.

【0035】《回収槽10について》次に、レジスト回
収装置1の回収槽10は、ベルトコンベヤ6の搬送方向
Jの下流側Hの端の下側に、上下間隔を存して配設され
ており、レジスト吸引器8のスリット状吸引口25にて
吸引された感光性レジストEが、ブロワー26を介し投
入,回収される。すなわち、図示例の回収槽10は、レ
ジスト回収装置1の下部の端部に、縦の仕切壁34にて
液槽9と区画されて、形成されている。そして、レジス
ト吸引器8にて吸引された感光性レジストEが、配管2
8等を経由して、投入,回収された後、廃棄処分され
る。勿論、上部のベルトコンベヤ6の下流側Hの端から
落下した感光性レジストE(つまりレジスト吸引器8に
て吸引,捕集モレとなった感光性レジストE)も、下部
のこの回収槽10に投入,回収,廃棄される。回収槽1
0は、このようになっている。
<< Recovery Tank 10 >> Next, the recovery tank 10 of the resist collecting apparatus 1 is disposed below the end of the belt conveyor 6 on the downstream side H in the transport direction J with a vertical interval. Then, the photosensitive resist E sucked through the slit-shaped suction port 25 of the resist suction device 8 is introduced and collected through the blower 26. That is, the recovery tank 10 in the illustrated example is formed at the lower end of the resist recovery apparatus 1 by being partitioned from the liquid tank 9 by the vertical partition wall 34. Then, the photosensitive resist E sucked by the resist suction device 8 is transferred to the pipe 2
After being input and collected via 8 etc., it is disposed of. Of course, the photosensitive resist E dropped from the downstream end H of the belt conveyor 6 on the upper side (that is, the photosensitive resist E sucked and collected by the resist suction device 8) is also collected on the lower collecting tank 10. Input, collection and disposal. Collection tank 1
0 is like this.

【0036】《濃度センサー35やコントロールバルブ
36等について》更に、このレジスト回収装置1は、図
1中に示したように、供給部5又は液槽9に配された、
剥離液Dの濃度センサー35と、液槽9にコントロール
バルブ36およびポンプ37を介して接続された、新鮮
な剥離液Dのタンク38と、を有してなる。すなわち濃
度センサー35は、供給部5にて供給される剥離液Dと
感光性レジストEの混合物F中の剥離液Dの濃度、又は
液槽9に貯留された剥離液Dの濃度を、検出するペーハ
ー計よりなる。そして、供給部5と液槽9の一方又は両
方に配設されている。そして、濃度センサー35で検出
されたアルカリ性の剥離液Dの濃度、つまり剥離液Dの
ペーハー値は、制御部39に送出される。制御部39
は、この濃度センサー35の検出に基づき、剥離液Dの
濃度が所定値を下回ったと判断した場合、つまり剥離液
Dのペーパー値・アルカリ度が所定値を下回った場合
は、開信号をコントロールバルブ36に送出すると共
に、駆動信号をポンプ37に送出する。そこで、常閉の
コントロールバルブ36が開に切り換わり、もってタン
ク38から新鮮な剥離液Dが配管40を介し、液槽9に
補給されるようになっている。タンク38には、原液が
希釈された新鮮な剥離液Dが、貯留され供給可能となっ
ている。なお図中41は、剥離装置2の剥離室、42
は、レジスト回収装置1の回収室、43は、その上蓋で
ある。濃度センサー35やコントロールバルブ36等
は、このようになっている。
<< Regarding the Concentration Sensor 35, Control Valve 36, etc. >> Further, the resist collecting apparatus 1 is arranged in the supply unit 5 or the liquid tank 9 as shown in FIG.
It comprises a concentration sensor 35 for the stripping solution D, and a tank 38 for the fresh stripping solution D, which is connected to the liquid tank 9 via a control valve 36 and a pump 37. That is, the concentration sensor 35 detects the concentration of the stripping liquid D in the mixture F of the stripping liquid D and the photosensitive resist E supplied by the supply unit 5, or the concentration of the stripping liquid D stored in the liquid tank 9. It consists of pH meter. Then, it is arranged in one or both of the supply unit 5 and the liquid tank 9. Then, the concentration of the alkaline stripping solution D detected by the concentration sensor 35, that is, the pH value of the stripping solution D is sent to the control unit 39. Control unit 39
When it is determined that the concentration of the peeling liquid D is below a predetermined value based on the detection of the concentration sensor 35, that is, when the paper value / alkalinity of the peeling liquid D is below a predetermined value, an open signal is output to the control valve. The drive signal is sent to the pump 37 and the drive signal is sent to the pump 37. Therefore, the normally closed control valve 36 is switched to open so that the fresh stripping solution D is supplied from the tank 38 to the liquid tank 9 through the pipe 40. The tank 38 can store and supply the fresh stripping solution D obtained by diluting the stock solution. In the figure, 41 is a peeling chamber of the peeling device 2, 42
Is a recovery chamber of the resist recovery apparatus 1, and 43 is an upper lid thereof. The density sensor 35, the control valve 36, etc. are configured in this way.

【0037】《作用等について》本発明のレジスト回収
装置1は、以上説明したように構成されている。そこ
で、以下のようになる。このレジスト回収装置1は、プ
リント配線基板Aの製造工程で用いられ、使用後の剥離
液Dと感光性レジストEとの混合物Fを、次のステップ
を辿って、剥離液Dと感光性レジストEとに個別に分
離,回収する。 プリント配線基板Aの製造工程の剥離工程では、剥離
装置2により、アルカリ性の剥離液Dをスプレーして、
プリント配線基板材Cの外表面から、感光性レジストE
を剥離,除去する(図1の右部分を参照)。
<< Regarding Operation and the Like >> The resist collecting apparatus 1 of the present invention is constructed as described above. Therefore, it becomes as follows. This resist collecting apparatus 1 is used in a manufacturing process of a printed wiring board A, and a mixture F of a used stripping solution D and a photosensitive resist E is used to trace the stripping solution D and the photosensitive resist E through the following steps. Separately and collect. In the peeling process of the manufacturing process of the printed wiring board A, the peeling device 2 sprays the alkaline peeling liquid D,
From the outer surface of the printed wiring board material C to the photosensitive resist E
Is removed and removed (see the right part of FIG. 1).

【0038】剥離装置2において、使用後の剥離液D
と感光性レジストE、つまりスプレーされた後の剥離液
Dと剥離,除去された感光性レジストEとは、混じリ合
った混合物Fとなっている。剥離液D中に感光性レジス
トEが、混入,浮遊,沈殿している。 レジスト回収装置1の供給部5は、管体よりなり、こ
のような剥離液Dと感光性レジストEの混合物Fを、剥
離装置2側からレジスト回収装置1側へと、流して供給
する(図1を参照)。 レジスト回収装置1のベルトコンベヤ6は、供給され
た混合物Fを、搬送する。すなわちベルトコンベヤ6
は、無端状をなし微細な通気孔が密に形成され、上流側
Gが供給部5の他端部11下に位置しており、ベルト
コンベヤ6上に投入,流下された混合物Fを、搬送方向
J上流側Gから下流側Hへと搬送する(図2を参照)。
In the peeling device 2, the peeling liquid D after use
The photosensitive resist E, that is, the stripping solution D after being sprayed and the photosensitive resist E stripped and removed is a mixed mixture F. The photosensitive resist E is mixed, floated or precipitated in the stripping solution D. The supply part 5 of the resist recovery device 1 is made of a tubular body, and the mixture F of the stripping solution D and the photosensitive resist E is supplied by flowing from the stripping device 2 side to the resist recovery device 1 side (see FIG. See 1). The belt conveyor 6 of the resist recovery device 1 conveys the supplied mixture F. Ie belt conveyor 6
Is fine vent without endless are densely formed, upstream G is positioned below the other end portion 11 2 of the supply unit 5, the input on the belt conveyor 6, a falling by mixture F, Transporting direction J Transporting from upstream side G to downstream side H (see FIG. 2).

【0039】レジスト回収装置1の液吸引器7は、ベ
ルトコンベヤ6の上流側Gの下に配設されており、ベル
トコンベヤ6にて搬送される混合物Fから、まず、剥離
液Dを吸引する(図2を参照)。すなわち液吸引器7
は、ベルトコンベヤ6下に複数併設されており、ベルト
コンベヤ6の横幅方向Jにスリット状吸引口20が形成
されると共に(図3の(1)図も参照)、吸引力発生用
のブロワ−21に接続されている。もってスリット状吸
引口20が、ベルトコンベヤ6の上流側Gの下面に密着
しつつ、吸引力を作用させて、ベルトコンベヤ6上の混
合物F中から、ベルトコンベヤ6の微細な通気孔を介
し、剥離液Dを分離,吸引する。 液吸引器7のスリット状吸引口20にて吸引された剥
離液Dは、ブロワ−21を介し、上下間隔を存し下側に
配設された液槽9に、流下,回収,貯留される(図2を
参照)。なお、このようにレジスト回収装置1の液槽9
に貯留された剥離液Dは、配管31やポンプ30を介し
剥離装置2へと供給されて、再使用される(図1を参
照)。
The liquid suction device 7 of the resist collecting apparatus 1 is arranged below the upstream side G of the belt conveyor 6, and first sucks the stripping liquid D from the mixture F conveyed by the belt conveyor 6. (See Figure 2). That is, the liquid suction device 7
Are provided under the belt conveyor 6, a slit-shaped suction port 20 is formed in the lateral width direction J of the belt conveyor 6 (see also FIG. 3A), and a blower for generating suction force. 21 is connected. Therefore, the slit-shaped suction port 20 is brought into close contact with the lower surface of the upstream side G of the belt conveyor 6, while applying a suction force, from the mixture F on the belt conveyor 6 through the fine ventilation holes of the belt conveyor 6, The stripping solution D is separated and sucked. The stripping liquid D sucked through the slit-shaped suction port 20 of the liquid suction device 7 flows down, collects, and is stored in the liquid tank 9 that is vertically arranged with a space between the blower 21. (See Figure 2). In addition, the liquid tank 9 of the resist collecting apparatus 1 is as described above.
The stripping solution D stored in (1) is supplied to the stripping device 2 via the pipe 31 and the pump 30 and is reused (see FIG. 1).

【0040】他方、レジスト回収装置1のレジスト吸
引器8は、ベルトコンベヤ6の下流側Hの上に配設され
ており、ベルトコンベヤ6上から次に、感光性レジスト
Eを吸引する(図2を参照)。すなわちレジスト吸引器
8は、ベルトコンベヤ6上に複数併設されており、それ
ぞれベルトコンベヤ6の横幅方向Jにスリット状吸引口
25が形成されると共に、吸引力発生用のブロワ−26
に接続されている。もってスリット状吸引口25が、ベ
ルトコンベヤ6の下流側H上で吸引力を作用させて、ベ
ルトコンベヤ6上に残っていた感光性レジストEを、吸
引,捕集する。 レジスト吸引器8のスリット状吸引口25にて吸引さ
れた感光性レジストEは、ブロワー26を介し、上下間
隔を存し下側に配設された回収槽10に、投入,回収さ
れる(図2を参照)。なお、このようにレジスト回収装
置1の回収槽10に回収された感光性レジストEは、事
後、廃棄される。
On the other hand, the resist suction device 8 of the resist recovery device 1 is arranged on the downstream side H of the belt conveyor 6 and sucks the photosensitive resist E next from the belt conveyor 6 (FIG. 2). See). That is, a plurality of resist suction units 8 are provided on the belt conveyor 6, slit-shaped suction ports 25 are formed in the lateral width direction J of the belt conveyor 6, and a blower 26 for generating suction force is formed.
It is connected to the. Thus, the slit-shaped suction port 25 exerts a suction force on the downstream side H of the belt conveyor 6 to suck and collect the photosensitive resist E remaining on the belt conveyor 6. The photosensitive resist E sucked through the slit-shaped suction port 25 of the resist suction device 8 is put into and collected by the blower 26 into the collecting tank 10 arranged at the lower side with a vertical interval (see FIG. 2). The photosensitive resist E collected in the collecting tank 10 of the resist collecting apparatus 1 in this manner is subsequently discarded.

【0041】ところで、このレジスト回収装置1にあ
っては、剥離液Dの濃度センサー35が、供給部5又は
液槽9に配されている(図1を参照)。もって、濃度セ
ンサー35の検出に基づき、剥離液Dの濃度が所定値を
下回った場合は、コントロールバルブ36が開に切り換
わる。そこでタンク38から、新鮮な剥離液Dが、開の
コントロールバルブ36およびポンプ37を介し、液槽
9に補給される。
By the way, in the resist collecting apparatus 1, the concentration sensor 35 for the stripping solution D is arranged in the supply section 5 or the liquid tank 9 (see FIG. 1). Therefore, based on the detection of the concentration sensor 35, when the concentration of the peeling liquid D is below a predetermined value, the control valve 36 is switched to open. Then, fresh stripping solution D is replenished from the tank 38 to the liquid tank 9 through the open control valve 36 and the pump 37.

【0042】《各作用について》このレジスト回収装置
1は、このようなステップ〜を辿ることにより、次
の第1,第2,第3,第4,第5のようになる。第1
に、このレジスト回収装置1にあっては、前記ステップ
に示したように、混合物F中から剥離液Dを、ベルト
コンベヤ6の多数の微細な通気孔を介し、液吸引器7の
スリット状吸引口20に吸引する方式により、例え微細
化した感光性レジストEであっても、確実にベルトコン
ベヤ6上に残しつつ、剥離液Dのみが、確実に分離され
吸引,回収される。すなわち、a.微細化した感光性レ
ジストEも通過させない微細径の通気孔が形成されたベ
ルトコンベヤ6が採用されており、この通気孔は、この
種従来例の網目ネットより、はるかに微細な径よりな
る。b.そして更に、単なる重力による通過・流下では
なく下方への吸引力を作用させて、剥離液Dを、この微
細な通気孔を介して吸引する。c.しかも、この吸引力
は、スリット状吸引口20によって作用すると共に、複
数回にわたって作用する。これらa,b,cにより、ベ
ルトコンベヤ6上に感光性レジストEを残し、剥離液D
のみが確実に分離されると共に、強力な吸引力に基づき
残留することなく、すべての剥離液Dが吸引,回収され
る。
<< Regarding Each Operation >> The resist collecting apparatus 1 becomes the following first, second, third, fourth and fifth by following the above steps. First
In the resist collecting apparatus 1, as shown in the above step, the stripping solution D is sucked from the mixture F through the slits of the liquid suction device 7 through a large number of fine ventilation holes of the belt conveyor 6. By the method of sucking into the mouth 20, even if the photosensitive resist E is made finer, the peeling liquid D alone is reliably separated, sucked and collected while being surely left on the belt conveyor 6. That is, a. A belt conveyor 6 is used in which a ventilation hole having a fine diameter is formed so that the miniaturized photosensitive resist E does not pass through, and the ventilation hole has a diameter much smaller than that of the mesh net of the conventional example of this kind. b. Further, the peeling liquid D is sucked through the fine vent holes by exerting a downward suction force instead of merely passing or flowing by gravity. c. Moreover, this suction force acts by the slit-shaped suction port 20 and also acts a plurality of times. By these a, b, and c, the photosensitive resist E is left on the belt conveyor 6 and the stripping solution D
All of the peeling liquid D is sucked and collected without remaining due to the strong suction force while being reliably separated.

【0043】第2に、そこで前記ステップに示したよ
うに液槽9に貯留される剥離液D中には、例え微細化し
た感光性レジストEであっても、混入,浮遊,沈殿して
はいない。もって、貯留された剥離液Dは、感光性レジ
ストEの混入による溶解変質化,エマルジョン化もな
く、つまり濃度低下,性能劣化なく、所定濃度のまま維
持される。
Secondly, in the stripping solution D stored in the solution tank 9 as shown in the above step, even if the photosensitive resist E which has been made fine is mixed, floated or precipitated. Not in. Therefore, the stored stripping solution D is maintained at a predetermined concentration without any change in solubility or emulsification due to the mixing of the photosensitive resist E, that is, no decrease in concentration or performance deterioration.

【0044】第3に、このようにして液槽9を経由して
循環再使用される剥離液Dが、所定濃度に維持されてい
るので、前記ステップの剥離装置2も、所定処理スピ
ードのまま維持される。すなわち、剥離液Dが所期の所
定濃度に確実に保持されているので、剥離装置2にあっ
ても、所期の所定搬送スピードにローラーコンベヤ3を
設定したまま、つまり前工程の現像装置やエッチング装
置と同調マッチングした搬送スピード制御のまま、プリ
ント配線基板材Cからの感光性レジストEの剥離処理を
続行することができる。剥離液Dの濃度低下に起因した
搬送スピードの低下制御は、行う必要がない。
Thirdly, since the stripping solution D circulated and reused via the liquid tank 9 is maintained at a predetermined concentration in this way, the stripping apparatus 2 in the step also keeps the predetermined processing speed. Maintained. That is, since the peeling liquid D is reliably held at the desired predetermined concentration, even in the peeling device 2, the roller conveyor 3 remains set at the desired predetermined transport speed, that is, the developing device in the previous process or The peeling process of the photosensitive resist E from the printed wiring board material C can be continued while the conveyance speed control matched with the etching apparatus is being controlled. It is not necessary to control the decrease of the transport speed due to the decrease of the concentration of the stripping solution D.

【0045】第4に、循環再使用されるアルカリ性の剥
離液Dは、上述したように濃度低下,性能劣化なく所定
濃度に維持されるので、剥離液Dの補給に関しては、前
記ステップにおいて、ほぼ蒸発相当分を補給すれば良
い。すなわち、濃度センサー35の検出に基づき、コン
トロールバルブ36やポンプ37を制御して、適宜、蒸
発相当分の新鮮な剥離液Dをタンク38から補給するこ
とにより、剥離液Dは、容易に所定濃度,所定量に維持
される。
Fourthly, since the alkaline stripping solution D which is circulated and reused is maintained at a predetermined concentration without a decrease in concentration and performance deterioration as described above, the replenishment of the stripping solution D is almost the same in the above steps. It is sufficient to replenish the amount corresponding to evaporation. That is, based on the detection of the concentration sensor 35, the control valve 36 and the pump 37 are controlled to appropriately supply the fresh stripping solution D corresponding to evaporation from the tank 38, so that the stripping solution D can easily have a predetermined concentration. , Maintained to a specified amount.

【0046】第5に、前記ステップで液槽9に貯留さ
れる剥離液Dについて、感光性レジストEの混入がない
ので、その溶解変質,エマルジョン化も発生しない。従
って、液槽9についてエマルジョン化しクリーム状,の
り状となって付着したものを、除去・清掃する必要もな
くない。
Fifth, since the photosensitive resist E is not mixed in the stripping liquid D stored in the liquid tank 9 in the above step, neither dissolution alteration nor emulsification occurs. Therefore, it is not necessary to remove and clean the liquid tank 9 that has been emulsified to form a cream or paste.

【0047】《その他》なお第1に、このレジスト回収
装置1によると、上述した第1のように、ベルトコンベ
ヤ6に形成された微細な通気孔を介して吸引することに
より、ベルトコンベヤ6上の混合物F中から、剥離液D
のみが確実に分離,回収されるが、この点は、更に次に
より確実に担保されている。すなわち、剥離液Dが分
離,吸引,除去されたベルトコンベヤ6上には感光性レ
ジストEのみが残留するが、このように残った感光性レ
ジストEは、次に、レジスト吸引器8により、確実にす
べてが吸引,捕集,除去される。そこで、ベルトコンベ
ヤ6に形成された通気孔は、特に微細であるにもかかわ
らず、感光性レジストEにてその開口が閉鎖され、目詰
まりを起こすことがない。そして、このように微細であ
るにもかかわらず目詰まりのない状態の通気孔により、
事後再び、液吸引器7を使用した剥離液Dの分離,回収
が行われることになる。もって、この面からも、ベルト
コンベヤ6の通気孔の機能が、常時正常に確保されてお
り、ベルトコンベヤ6は問題なく自動連続運転され、液
吸引器7による剥離液Dの分離,回収が、確実に担保さ
れ実施可能となっている。
<< Others >> First, according to the resist collecting apparatus 1, as described above, the suction is performed through the fine ventilation holes formed in the belt conveyor 6, so that the belt conveyor 6 can be sucked. Stripping solution D from mixture F
Only this is reliably separated and recovered, but this point is further ensured by the following. That is, only the photosensitive resist E remains on the belt conveyor 6 from which the stripping solution D has been separated, sucked, and removed, but the photosensitive resist E remaining in this way is surely removed by the resist suction device 8. Everything is sucked, collected and removed. Therefore, although the vent hole formed in the belt conveyor 6 is particularly fine, the opening is closed by the photosensitive resist E and the clogging does not occur. And with such fine air vents that are not clogged,
After that, the separation liquid D is separated and collected again using the liquid suction device 7. Therefore, from this aspect as well, the function of the vent holes of the belt conveyor 6 is always normally ensured, the belt conveyor 6 is automatically operated continuously without any problem, and the separation liquid D is separated and collected by the liquid suction device 7. It is guaranteed and can be implemented.

【0048】なお第2に、剥離液Dへの感光性レジスト
Eの混入による溶解変質,エマルジョン化は、ある程度
の時間経過により発生する。すなわち、前記ステップ
のように、剥離装置2にて、両者が混合物Fとして混じ
り合った直後の段階においては、問題の溶解変質,エマ
ルジョン化は、まだ発生しない。感光性レジストEは、
剥離液D中に単に浮遊,沈澱しているに過ぎない。これ
に対し、前記ステップの液槽9での貯留段階におい
て、もしも、剥離液D中に感光性レジストEが混入して
いると、時間経過により、溶解変質,エマルジョン化が
発生する。
Secondly, dissolution alteration and emulsification due to the mixing of the photosensitive resist E into the stripping solution D occur over a certain period of time. That is, as in the above step, at the stage immediately after the two are mixed as the mixture F in the peeling device 2, the problem of dissolution alteration and emulsification does not occur yet. The photosensitive resist E is
It merely floats or precipitates in the stripping solution D. On the other hand, in the storage step in the liquid tank 9 in the above step, if the photosensitive resist E is mixed in the stripping solution D, dissolution deterioration and emulsification occur over time.

【0049】なお第3に、このレジスト回収装置1は、
プリント配線基板Aの製造工程中、メッキ工程の剥離工
程・剥離装置2にも適用・使用可能である。すなわち、
前述した図示例では、回路B形成部分の感光性レジスト
Eを、剥離液Dのスプレーにより剥離,除去していた
が、逆に、回路B部分以外を感光性レジストEで被覆し
ておいてから回路B部分にメッキを施した後、このよう
な感光性レジストEを剥離液Dのスプレーにより剥離,
除去する、メッキ工程の剥離装置2にも適用・使用可能
である。
Thirdly, the resist collecting apparatus 1 is
It can be applied and used in the peeling process / peeling device 2 in the plating process during the manufacturing process of the printed wiring board A. That is,
In the illustrated example described above, the photosensitive resist E on the circuit B forming portion is peeled and removed by spraying the peeling liquid D, but conversely, after the portion other than the circuit B portion is covered with the photosensitive resist E. After plating the circuit B portion, the photosensitive resist E is peeled off by spraying the peeling liquid D,
It can also be applied and used for the stripping device 2 in the plating step for removing.

【0050】[0050]

【発明の効果】《本発明の特徴》本発明に係るレジスト
回収装置は、以上説明したように、剥離装置から供給さ
れた剥離液と感光性レジストの混合物を、微細な通気孔
が形成されたベルトコンベヤで搬送しつつ、まず、ベル
トコンベヤ下から液吸引器のスリット状吸引口にて、剥
離液を分離,吸引し、次に、ベルトコンベヤ上からレジ
スト吸引器のスリット状吸引口にて、感光性レジストを
吸引,捕集すること、を特徴とする。分離,吸引された
剥離液は、液槽に流下,回収,貯留した後、剥離装置へ
再使用のため供給され、吸引,捕集された感光性レジス
トは、回収槽に投入,回収される。又、剥離液の濃度が
所定値を下回った場合は、濃度センサー,コントロール
バルブを介し、新鮮な剥離液が液槽に補給される。そこ
で本発明は、次の効果を発揮する。
<Characteristics of the Invention> As described above, in the resist recovery apparatus according to the present invention, a fine vent hole is formed in the mixture of the stripping solution and the photosensitive resist supplied from the stripping apparatus. While transporting on the belt conveyor, first, the peeling liquid is separated and sucked from below the belt conveyor with the slit suction port of the liquid suction device, and then from above the belt conveyor with the slit suction port of the resist suction device. It is characterized in that the photosensitive resist is sucked and collected. The separated and sucked stripping solution flows down into the liquid tank, is collected and stored, and is then supplied to the stripping device for reuse. The sucked and collected photosensitive resist is put into the collecting tank and collected. Further, when the concentration of the stripping solution falls below a predetermined value, fresh stripping solution is replenished to the liquid tank via the concentration sensor and the control valve. Therefore, the present invention exhibits the following effects.

【0051】《第1の効果について》第1に、剥離液と
感光性レジストとが、確実に分離,回収され、もって剥
離液を問題なく再使用することができる。すなわち、こ
のレジスト回収装置では、微細な通気孔を備えたベルト
コンベヤにて搬送しつつ、まず、下から液吸引器にて剥
離液を吸引した後、次に、上からレジスト吸引器にて感
光性レジストを吸引,捕集する。もって、微細化された
感光性レジストであっても、剥離液のみを確実に分離,
回収できる。ベルトコンベヤの通気孔の目詰まりも、防
止される。そこで、前述したこの種従来例のように、液
槽に回収された剥離液中に、多量の感光性レジストが混
入する事態発生は、確実に防止される。もって、回収,
貯留された剥離液は、剥離装置に供給して、問題なく再
使用・リサイクル循環使用することができ、例えば、一
般的な製造ラインにおいて、1日当たり数トン程度の剥
離液が節減される。
<Regarding the First Effect> Firstly, the stripping solution and the photosensitive resist are reliably separated and collected, so that the stripping solution can be reused without any problem. That is, in this resist collecting device, first, while being conveyed by a belt conveyor having fine ventilation holes, the stripping liquid is first sucked by a liquid suction device from below, and then the resist suction device is exposed from above. Aspirable resist is collected. Therefore, even if the photosensitive resist is miniaturized, it is possible to reliably separate only the stripping liquid,
Can be collected. The clogging of the ventilation holes of the belt conveyor is also prevented. Therefore, it is possible to reliably prevent the situation where a large amount of the photosensitive resist is mixed in the stripping solution collected in the liquid tank as in the above-described conventional example. Therefore, collection,
The stored stripping solution can be supplied to the stripping apparatus and reused / recycled and recycled without any problem. For example, in a general production line, the stripping solution can be saved by several tons per day.

【0052】《第2の効果について》第2に、しかも剥
離液を濃度低下,性能劣化なく、所定濃度のまま再使用
することができる。すなわち、このレジスト回収装置で
は、上述したように、感光性レジストが微細化しても、
剥離液のみが、確実に分離,回収される。そこで、前述
したこの種従来例のように、液槽に回収された剥離液中
に、微細化した感光性レジストが、若干でも混入,浮
遊,沈澱して、溶解変質化,エマルジョン化すること
は、回避される。もって剥離液は、溶解変質化,エマル
ジョン化により、濃度が低下し性能が劣化することがな
く、いわゆるヘタリ現象が発生することなく、所定濃度
で剥離装置に供給され、この面からも、問題なく再使用
することができる。
<Second Effect> Secondly, the peeling liquid can be reused at a predetermined concentration without lowering the concentration or deteriorating the performance. That is, in this resist collecting apparatus, as described above, even if the photosensitive resist is miniaturized,
Only the stripper is reliably separated and collected. Therefore, as in the conventional example of this kind described above, even if a small amount of the finely divided photosensitive resist is mixed, floated, or precipitated in the stripping solution collected in the liquid tank, it is not possible to dissolve, modify, or emulsify. Be avoided. Therefore, the stripping liquid is supplied to the stripping device at a predetermined concentration without deterioration in performance due to dissolution alteration or emulsion and deterioration in performance, and so-called fatigue phenomenon does not occur. Can be reused.

【0053】《第3の効果について》第3に、もって剥
離装置と現象装置やエッチング装置との間で、処理スピ
ードの整合性が容易に維持される。剥離液の所定濃度
と、剥離装置の所定処理スピードとが、共に常に一定に
保たれる。すなわち、このレジスト回収装置では、上述
したように剥離液は、濃度低下,性能劣化なく、所定濃
度で剥離装置に再使用のため供給される。そこで、前述
したこの種従来例のように、濃度低下,性能劣化した剥
離液を使用するので、剥離装置において、プリント配線
基板材を搬送するコンベヤのスピードを低下させたり、
剥離装置を長大化することは要しなくなる。剥離装置の
コンベヤスピードは、自動ライン化された前工程の現像
装置やエッチング装置のコンベヤスピードと、同調マッ
チングした初期設定のままでよく、整合性が維持され、
生産性に優れている。又、剥離装置を長大化する必要も
なく、コスト面やスペース面にも優れている。
<Third Effect> Thirdly, it is possible to easily maintain the matching of the processing speed between the peeling device and the phenomenon device or the etching device. Both the predetermined concentration of the stripping solution and the predetermined processing speed of the stripping device are always kept constant. That is, in this resist collecting apparatus, the stripping solution is supplied to the stripping apparatus at a predetermined concentration for reuse without a decrease in concentration and performance deterioration as described above. Therefore, as in the above-described conventional example of this kind, since the stripping solution whose concentration is lowered and performance is deteriorated is used, in the stripping device, the speed of the conveyor for conveying the printed wiring board material is reduced,
It is not necessary to enlarge the peeling device. The conveyor speed of the peeling device may be the same as the conveyor speed of the developing device and the etching device of the previous process that are automatically lined, and it may be the same as the initial setting, and the consistency is maintained.
It has excellent productivity. Further, it is not necessary to enlarge the peeling device, and it is excellent in terms of cost and space.

【0054】《第4の効果について》第4に、剥離液の
補給は、ほぼ蒸気相当分で済みコントロールが容易であ
る。すなわち、このレジスト回収装置では、上述したよ
うに剥離液は、濃度低下,性能劣化なく、所定濃度で剥
離装置に再使用のため供給される。そこで、前述したこ
の種従来例のように、剥離装置に供給されるプリント配
線基板材の枚数をカウントして、所定枚数毎に定期的・
定時的に、レジスト回収装置側において新鮮な剥離液
を、複雑なコントロールのもとで補給する必要はなくな
る。つまり、最初に所定量,所定濃度のアルカリ性の剥
離液を、設定使用するだけで、事後は、ほぼ蒸発相当分
を補給するだけでよく、コントロールが容易である。し
かも、濃度センサーやコントロールバルブ等を配設する
と、このようなコントロールは自動化される。又、前述
したこの種従来例のように、過剰な濃度や量の剥離液を
補給することもなく、この面からも、コスト面や性能面
に優れている。
<Regarding Fourth Effect> Fourthly, the replenishment of the stripping solution is almost equivalent to vapor, and the control is easy. That is, in this resist collecting apparatus, the stripping solution is supplied to the stripping apparatus at a predetermined concentration for reuse without a decrease in concentration and performance deterioration as described above. Therefore, as in the conventional example of this kind described above, the number of printed wiring board materials supplied to the peeling apparatus is counted, and the number of printed wiring board materials is periodically set every predetermined number.
It is not necessary to supply fresh stripping solution on the side of the resist recovery device on a regular basis under complicated control. That is, the alkaline stripping solution having a predetermined amount and a predetermined concentration is first set and used, and after that, it is sufficient to replenish the amount corresponding to the evaporation, and the control is easy. Moreover, by providing a concentration sensor, a control valve, etc., such control is automated. Further, unlike the conventional example of this kind described above, there is no need to replenish an excessive concentration or amount of the stripping solution, and this aspect is also excellent in cost and performance.

【0055】《第5の効果について》第5に、エマルジ
ョン化による除去・清掃作業を行う必要もなくなる。す
なわち、このレジスト回収装置では、上述したように、
感光性レジストが微細化しても、剥離液は、確実に分
離,回収される。そこで、前述したこの種従来例のよう
に、液槽に回収された剥離液中に、微細化した感光性レ
ジストが混入,浮遊,沈澱して、溶解変質化,エマルジ
ョン化することは回避される。もって、エマルジョン化
しクリーム状,のり状となって、液槽内壁に付着するこ
とはなく、前述したこの種従来例のように、頻繁にライ
ンを止め液槽内に入って、除去・清掃作業を行う必要が
なくなり、効率的である。又、ラインを止めないので、
生産性にも優れている。更に、エマルジョン化が回避さ
れるので、レジスト回収装置から剥離装置にかけて、各
所で目詰まりが発生する危険も、解消される。このよう
に、この種従来例に存した課題がすべて解決される等、
本発明の発揮する効果は、顕著にして大なるものがあ
る。
<Regarding the Fifth Effect> Fifth, it is not necessary to carry out the removal / cleaning work by emulsification. That is, in this resist collecting apparatus, as described above,
Even if the photosensitive resist is miniaturized, the stripping solution is reliably separated and collected. Therefore, unlike the conventional example of this kind, it is avoided that the finely divided photosensitive resist is mixed, floated, or precipitated in the stripping solution collected in the liquid tank to be dissolved, altered, or emulsified. . Therefore, it does not become an emulsified cream or paste and does not adhere to the inner wall of the liquid tank. As in the conventional example of this kind, the line is frequently stopped to enter the liquid tank for removal / cleaning work. Efficient, with no need to do it. Also, because the line is not stopped,
It has excellent productivity. Furthermore, since the emulsification is avoided, the risk of clogging at various places from the resist recovery device to the stripping device is eliminated. In this way, all the problems existing in this type of conventional example are solved,
The effects of the present invention are remarkably large.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るレジスト回収装置について、発明
の実施の形態の説明に供し、剥離装置と共に示した正面
説明図である。
FIG. 1 is a front explanatory view showing a resist recovery device according to the present invention together with a stripping device, which is used for explaining an embodiment of the invention.

【図2】同発明の実施の形態の説明に供する、側面説明
図である。
FIG. 2 is a side view for explaining the embodiment of the present invention.

【図3】同発明の実施の形態の説明に供し、(1)図
は、液吸引器のスリット状吸引口等の平面説明図、
(2)図は、プリント配線基板(材)の平面説明図であ
る。
FIG. 3 is used to explain the embodiment of the present invention, and (1) is an explanatory plan view of a slit-shaped suction port of a liquid suction device,
(2) FIG. 2 is a plan view of a printed wiring board (material).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レジスト回収装置 2 剥離装置 3 ローラーコンベヤ 4 スプレーノズル 5 供給部 6 ベルトコンベヤ 7 液吸引器 8 レジスト吸引器 9 液槽 10 回収槽 11一端部 11他端部 12 仕切り床板 13 投入管 14 駆動ローラー 15 ガイドローラー 16 テンションローラー 17 テーブル 18 開口 19 ガイドテーブル 20 スリット状吸引口 21 ブロワ− 22 突出部 23 配管 24 モーター 25 スリット状吸引口 26 ブロワ− 27 突出部 28 配管 29 モーター 30 ポンプ 31 配管 32 加温ヒーター 33 調整弁 34 仕切壁 35 濃度センサー 36 コントロールバルブ 37 ポンプ 38 タンク 39 制御部 40 配管 41 剥離室 42 回収室 43 上蓋 A プリント配線基板 B 回路 C プリント配線基板材 D 剥離液 E 感光性レジスト F 混合物 G 上流側 H 下流側 J 搬送方向 K 横幅方向1 Resist Collection Device 2 Stripping Device 3 Roller Conveyor 4 Spray Nozzle 5 Supply Unit 6 Belt Conveyor 7 Liquid Suction Device 8 Resist Suction Device 9 Liquid Tank 10 Recovery Tank 11 1 One End 11 2 The Other End 12 Partition Floor Plate 13 Input Pipe 14 Drive Roller 15 Guide roller 16 Tension roller 17 Table 18 Opening 19 Guide table 20 Slit suction port 21 Blower 22 Projection 23 Piping 24 Piping 24 Motor 25 Slit suction port 26 Blower 27 Projection 28 Piping 29 Motor 30 Pump 31 Piping 32 Addition Heater 33 Adjustment valve 34 Partition wall 35 Concentration sensor 36 Control valve 37 Pump 38 Tank 39 Control unit 40 Piping 41 Stripping chamber 42 Collection chamber 43 Top lid A Printed wiring board B Circuit C Printed wiring board material D Stripping solution E Photosensitive resist F Mixture G Flow side H downstream J conveying direction K the width direction

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 緑川 昌広 東京都江戸川区東小松川4丁目1番19号 東京化工機株式会社内 (72)発明者 阿部 良治 東京都江戸川区東小松川4丁目1番19号 東京化工機株式会社内 (72)発明者 伊藤 浩明 東京都江戸川区東小松川4丁目1番19号 東京化工機株式会社内 Fターム(参考) 2H096 AA26 BA05 EA02 HA30 LA03 LA30 4D026 BA01 BB03 BC11 BD02 BE05 5E339 BE13 CG01    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Masahiro Midorikawa             4-1-1 Higashi-Komatsugawa, Edogawa-ku, Tokyo             Within Tokyo Kakoki Co., Ltd. (72) Inventor Ryoji Abe             4-1-1 Higashi-Komatsugawa, Edogawa-ku, Tokyo             Within Tokyo Kakoki Co., Ltd. (72) Inventor Hiroaki Ito             4-1-1 Higashi-Komatsugawa, Edogawa-ku, Tokyo             Within Tokyo Kakoki Co., Ltd. F term (reference) 2H096 AA26 BA05 EA02 HA30 LA03                       LA30                 4D026 BA01 BB03 BC11 BD02 BE05                 5E339 BE13 CG01

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プリント配線基板の製造工程で用いられ
るレジスト回収装置であって、使用後の剥離液と感光性
レジストとの混合物を、剥離装置から供給する供給部
と、供給後に搬送する通気性を備えたベルトコンベヤ
と、 該ベルトコンベヤ下に配設され、まず該剥離液を吸引す
る液吸引器と、該ベルトコンベヤ上に配設され、次に該
感光性レジストを吸引するレジスト吸引器と、を有して
なること、を特徴とするレジスト回収装置。
1. A resist recovery apparatus used in a process for manufacturing a printed wiring board, comprising: a supply section for supplying a mixture of a stripping solution after use and a photosensitive resist from the stripping apparatus; And a liquid suction device that is arranged below the belt conveyor to suck the stripping liquid, and a resist suction device that is disposed on the belt conveyor and then sucks the photosensitive resist. A resist recovery apparatus comprising:
【請求項2】 請求項1に記載したレジスト回収装置に
おいて、該剥離装置は、アルカリ性の該剥離液をスプレ
ーして、プリント配線基板材の外表面から該感光性レジ
ストを剥離,除去し、 該供給部は、スプレー後の該剥離液と剥離,除去された
該感光性レジストとの該混合物を、該剥離装置側から該
レジスト回収装置側へと流す管体よりなり、 該ベルトコンベヤは、無端状をなし微細な通気孔が密に
形成されており、上流側が該供給部の端部下に位置し
て、その上に該混合物が流下せしめられ、 該液吸引器は、搬送方向上流側で吸引力を作用させて、
該ベルトコンベヤを介し、該混合物から該剥離液を分
離,吸引し、 該レジスト吸引器は、搬送方向下流側で吸引力を作用さ
せて、該ベルトコンベヤ上に残った該感光性レジストを
吸引,捕集すること、を特徴とするレジスト回収装置。
2. The resist recovery device according to claim 1, wherein the stripping device sprays the alkaline stripping solution to strip and remove the photosensitive resist from the outer surface of the printed wiring board material. The supply unit is a tube body that flows the mixture of the stripping solution after spraying and the photosensitive resist stripped and removed from the stripping device side to the resist collecting device side, and the belt conveyor is endless. A fine air hole is formed densely, the upstream side is located below the end of the supply unit, and the mixture is allowed to flow down on the upstream side, and the liquid suction device sucks the upstream side in the transport direction. Applying force,
The stripping solution is separated and sucked from the mixture via the belt conveyor, and the resist suction device exerts suction force on the downstream side in the transport direction to suck the photosensitive resist remaining on the belt conveyor, A resist recovery device characterized by collecting.
【請求項3】 請求項2に記載したレジスト回収装置に
おいて、該液吸引器および該レジスト吸引器は、それぞ
れ、 複数併設され、該ベルトコンベヤの横幅方向に沿ってス
リット状吸引口が形成されると共に、吸引力発生用のブ
ロワ−に接続されていること、を特徴とするレジスト回
収装置。
3. The resist recovery device according to claim 2, wherein a plurality of the liquid suction devices and the resist suction devices are provided side by side, and slit suction ports are formed along the lateral width direction of the belt conveyor. At the same time, the resist recovery device is connected to a blower for generating a suction force.
【請求項4】 請求項3に記載したレジスト回収装置に
おいて、更に、該液吸引器や該ベルトコンベヤ等の下側
に、上下間隔を存して液槽が配設されており、 該液槽
は、該液吸引器のスリット状吸引口にて吸引された該剥
離液が、該ブロワ−を介し流下,回収,貯留されると共
に、貯留された該剥離液を、ポンプ付きの配管を介し該
剥離装置へと再使用のため供給すること、を特徴とする
レジスト回収装置。
4. The resist recovery apparatus according to claim 3, further comprising a liquid tank disposed below the liquid suction device, the belt conveyor, etc. at a vertical interval. The stripping liquid sucked by the slit-shaped suction port of the liquid suction device flows down, is collected and stored through the blower, and the stored stripping liquid is supplied through a pipe with a pump. A resist recovery device characterized by being supplied to a stripping device for reuse.
【請求項5】 請求項4に記載したレジスト回収装置に
おいて、更に、該ベルトコンベヤの搬送方向下流側の端
の下側に、上下間隔を存して回収槽が配設されており、 該回収槽は、該レジスト吸引器のスリット状吸引口にて
吸引された該感光性レジストが、該ブロワーを介し投
入,回収されること、を特徴とするレジスト回収装置。
5. The resist recovery apparatus according to claim 4, further comprising a recovery tank disposed below the end of the belt conveyor on the downstream side in the transport direction with a vertical interval. A resist collecting apparatus, wherein the tank is charged with and collects the photosensitive resist sucked through a slit-shaped suction port of the resist suction device through the blower.
【請求項6】 請求項5に記載したレジスト回収装置に
おいて、更に、該供給部又は該液槽に配された、該剥離
液の濃度センサーと、該液槽にコントロールバルブおよ
びポンプを介して接続された、新鮮な該剥離液のタンク
と、を有してなり、 該濃度センサーの検出に基づき、該剥離液の濃度が所定
値を下回った場合は、該コントロールバルブが開に切り
換わり、もって該タンクから新鮮な該剥離液を、該液槽
に補給可能となっていること、を特徴とするレジスト回
収装置。
6. The resist recovery apparatus according to claim 5, further comprising a concentration sensor for the stripping solution, which is arranged in the supply unit or the liquid tank, and is connected to the liquid tank via a control valve and a pump. And a fresh tank of the stripping solution, and based on the detection of the concentration sensor, when the concentration of the stripping solution falls below a predetermined value, the control valve is switched to open, A resist recovery apparatus, wherein the stripping solution fresh from the tank can be supplied to the liquid tank.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007253034A (en) * 2006-03-22 2007-10-04 Shimizu Corp Fine sand recovery apparatus and muddy water treatment facility
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