JP2003130614A5 - - Google Patents

Description

【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１記載の膜厚測定方法は、被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定するに際し、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求める第１の工程と、既知の被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する第２の工程と、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出する第３の工程とを有することを特徴とする。

【００１０】
本発明の請求項２記載の膜厚測定方法は、請求項１において、基本周波数レンジの閾値は、被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの上限閾値と下限閾値であることを特徴とする。

【００１１】
本発明の請求項３記載の膜厚測定方法は、請求項１において、第１の工程での周波数強度レベルに閾値を設け、一定値以上のレベルに達しない周波数は、被測定物における測定位置を変更して測定を自動的に繰り返すことを特徴とする。

【００１２】
本発明の請求項４記載の膜厚検査方法は、請求項１において、第３の工程は、抽出された基本周波数の干渉波長λ１、λ２（但し、λ１＞λ２）、屈折率ｎから λ１・λ２／（２ｎ・（λ１−λ２））により膜厚を算出することを特徴とする。

【００１３】
本発明の請求項５記載の膜厚測定装置は、被測定物に光を照射し、前記被測定物の膜上面および膜下面にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段を設け、前記演算手段によって抽出された前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成したことを特徴とする。

【００１４】
本発明の請求項６記載の膜厚測定装置は、被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、被測定物における測定位置を変更するアクチュエータと、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段と、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して所望の基本周波数が得られるだけの干渉波形が得られなかったと判定した場合に、被測定物における測定位置の変更を前記アクチュエータに指示する制御装置とを設け、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成したことを特徴とする。

Claims (7)

1. 被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定するに際し、
   分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求める第１の工程と、
   既知の被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する第２の工程と、
   前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出する第３の工程と
   を有する膜厚測定方法。
2. 基本周波数レンジの閾値は、被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの上限閾値と下限閾値である
   請求項１記載の膜厚測定方法。
3. 第１の工程での周波数強度レベルに閾値を設け、一定値以上のレベルに達しない周波数は、被測定物における測定位置を変更して測定を自動的に繰り返す
   請求項１記載の膜厚測定方法。
4. 第３の工程は、抽出された基本周波数の干渉波長λ１、λ２（但し、λ１＞λ２）、屈折率ｎから λ１・λ２／（２ｎ・（λ１−λ２））により膜厚を算出する
   請求項１記載の膜厚測定方法。
5. 被測定物に光を照射し、前記被測定物の膜上面および膜下面にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、
   分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段を設け、前記演算手段によって抽出された前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成した
   膜厚測定装置。
6. 被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、
   被測定物における測定位置を変更するアクチュエータと、
   分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段と、
   前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して所望の基本周波数が得られるだけの干渉波形が得られなかったと判定した場合に、被測定物における測定位置の変更を前記アクチュエータに指示する制御装置とを設け、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成した
   膜厚測定装置。
7. プラズマディスプレイパネルの塗布膜厚を生産工程中で定量評価するに際し、請求項１の膜厚測定方法を実行して自動測定する膜厚検査方法。