JP2003130614A5 - - Google Patents
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Description
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項1記載の膜厚測定方法は、被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定するに際し、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求める第1の工程と、既知の被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する第2の工程と、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出する第3の工程とを有することを特徴とする。
【発明の実施の形態】
本発明の請求項1記載の膜厚測定方法は、被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定するに際し、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求める第1の工程と、既知の被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する第2の工程と、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出する第3の工程とを有することを特徴とする。
【0010】
本発明の請求項2記載の膜厚測定方法は、請求項1において、基本周波数レンジの閾値は、被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの上限閾値と下限閾値であることを特徴とする。
本発明の請求項2記載の膜厚測定方法は、請求項1において、基本周波数レンジの閾値は、被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの上限閾値と下限閾値であることを特徴とする。
【0011】
本発明の請求項3記載の膜厚測定方法は、請求項1において、第1の工程での周波数強度レベルに閾値を設け、一定値以上のレベルに達しない周波数は、被測定物における測定位置を変更して測定を自動的に繰り返すことを特徴とする。
本発明の請求項3記載の膜厚測定方法は、請求項1において、第1の工程での周波数強度レベルに閾値を設け、一定値以上のレベルに達しない周波数は、被測定物における測定位置を変更して測定を自動的に繰り返すことを特徴とする。
【0012】
本発明の請求項4記載の膜厚検査方法は、請求項1において、第3の工程は、抽出された基本周波数の干渉波長λ1、λ2(但し、λ1>λ2)、屈折率nから λ1・λ2/(2n・(λ1−λ2))により膜厚を算出することを特徴とする。
本発明の請求項4記載の膜厚検査方法は、請求項1において、第3の工程は、抽出された基本周波数の干渉波長λ1、λ2(但し、λ1>λ2)、屈折率nから λ1・λ2/(2n・(λ1−λ2))により膜厚を算出することを特徴とする。
【0013】
本発明の請求項5記載の膜厚測定装置は、被測定物に光を照射し、前記被測定物の膜上面および膜下面にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段を設け、前記演算手段によって抽出された前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成したことを特徴とする。
本発明の請求項5記載の膜厚測定装置は、被測定物に光を照射し、前記被測定物の膜上面および膜下面にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段を設け、前記演算手段によって抽出された前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成したことを特徴とする。
【0014】
本発明の請求項6記載の膜厚測定装置は、被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、被測定物における測定位置を変更するアクチュエータと、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段と、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して所望の基本周波数が得られるだけの干渉波形が得られなかったと判定した場合に、被測定物における測定位置の変更を前記アクチュエータに指示する制御装置とを設け、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成したことを特徴とする。
本発明の請求項6記載の膜厚測定装置は、被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、被測定物における測定位置を変更するアクチュエータと、分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段と、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して所望の基本周波数が得られるだけの干渉波形が得られなかったと判定した場合に、被測定物における測定位置の変更を前記アクチュエータに指示する制御装置とを設け、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成したことを特徴とする。
Claims (7)
- 被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定するに際し、
分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求める第1の工程と、
既知の被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する第2の工程と、
前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出する第3の工程と
を有する膜厚測定方法。 - 基本周波数レンジの閾値は、被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの上限閾値と下限閾値である
請求項1記載の膜厚測定方法。 - 第1の工程での周波数強度レベルに閾値を設け、一定値以上のレベルに達しない周波数は、被測定物における測定位置を変更して測定を自動的に繰り返す
請求項1記載の膜厚測定方法。 - 第3の工程は、抽出された基本周波数の干渉波長λ1、λ2(但し、λ1>λ2)、屈折率nから λ1・λ2/(2n・(λ1−λ2))により膜厚を算出する
請求項1記載の膜厚測定方法。 - 被測定物に光を照射し、前記被測定物の膜上面および膜下面にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、
分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段を設け、前記演算手段によって抽出された前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成した
膜厚測定装置。 - 被測定物に光を照射し、前記被測定物に形成された膜にて反射された干渉光の干渉波長から膜厚を推定する膜厚測定装置であって、
被測定物における測定位置を変更するアクチュエータと、
分光干渉によって求められた干渉波形にフーリエ変換を施すことで基本周波数と周波数強度レベルを求め、前記被測定物上の膜の膜厚範囲から逆算した基本周波数レンジの閾値と周波数強度レベルの閾値の少なくとも一方の閾値で前記周波数強度レベルの閾値から基本周波数候補を抽出する演算手段と、
前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して所望の基本周波数が得られるだけの干渉波形が得られなかったと判定した場合に、被測定物における測定位置の変更を前記アクチュエータに指示する制御装置とを設け、前記基本周波数候補から干渉波形を評価・判定して膜厚を算出するよう構成した
膜厚測定装置。 - プラズマディスプレイパネルの塗布膜厚を生産工程中で定量評価するに際し、請求項1の膜厚測定方法を実行して自動測定する膜厚検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001330060A JP3880369B2 (ja) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001330060A JP3880369B2 (ja) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003130614A JP2003130614A (ja) | 2003-05-08 |
JP2003130614A5 true JP2003130614A5 (ja) | 2004-12-24 |
JP3880369B2 JP3880369B2 (ja) | 2007-02-14 |
Family
ID=19145851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001330060A Expired - Fee Related JP3880369B2 (ja) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3880369B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5490462B2 (ja) * | 2009-08-17 | 2014-05-14 | 横河電機株式会社 | 膜厚測定装置 |
JP5694743B2 (ja) * | 2010-11-25 | 2015-04-01 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
JP5756733B2 (ja) * | 2011-10-20 | 2015-07-29 | 倉敷紡績株式会社 | 干渉式膜厚計 |
-
2001
- 2001-10-29 JP JP2001330060A patent/JP3880369B2/ja not_active Expired - Fee Related
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