JP2003128831A - ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜およびその製造方法、並びにそれを用いたフィルタ - Google Patents
ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜およびその製造方法、並びにそれを用いたフィルタInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外力によるダメージに強く、耐放射線性およ
び寸法安定性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜を提供し、さら
にその製造方法とそれを備えたフィルタも提供すること
を目的とする。 【解決手段】 まず、ＰＴＦＥファインパウダーに液状
潤滑剤を加えたペースト状の混和物を予備成形し、さら
にペースト押出しや圧延によってシート状に成形する。
液状潤滑剤を除去した後、シート状のＰＴＦＥ成形体を
少なくとも一軸方向に延伸して、ＰＴＦＥ多孔質膜を作
製する。次に、このＰＴＦＥ多孔質膜に対し、実質的に
酸素不在下、かつ、温度３４０±２０℃範囲の雰囲気、
好ましくは３４０±１０℃範囲の雰囲気で、放射線を照
射する。
び寸法安定性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜を提供し、さら
にその製造方法とそれを備えたフィルタも提供すること
を目的とする。 【解決手段】 まず、ＰＴＦＥファインパウダーに液状
潤滑剤を加えたペースト状の混和物を予備成形し、さら
にペースト押出しや圧延によってシート状に成形する。
液状潤滑剤を除去した後、シート状のＰＴＦＥ成形体を
少なくとも一軸方向に延伸して、ＰＴＦＥ多孔質膜を作
製する。次に、このＰＴＦＥ多孔質膜に対し、実質的に
酸素不在下、かつ、温度３４０±２０℃範囲の雰囲気、
好ましくは３４０±１０℃範囲の雰囲気で、放射線を照
射する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリテトラフルオ
ロエチレン（以下、ＰＴＦＥという。）多孔質膜および
その製造方法、並びにそれを用いたフィルタに関するも
のである。
ロエチレン（以下、ＰＴＦＥという。）多孔質膜および
その製造方法、並びにそれを用いたフィルタに関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】ＰＴＦＥは耐熱性や耐薬品性等の化学的
安定性に優れたプラスチックであるため、ＰＴＦＥ多孔
質膜は液体中や気体中に含まれる微細粒子の除去のため
のフィルタとして広く用いられている。例えば、特開２
０００−６１２８０公報には、半導体工業のクリーンル
ームに用いられる高性能エアフィルタの濾材として使用
されるＰＴＦＥ多孔質膜が開示されている。また、ＰＴ
ＦＥ多孔質膜は、自動車のヘッドランプや携帯電話等の
各種機器の通気孔に配設されて、機器内部への水の浸入
を防止すると共に、機器内外の差圧が生じないようにす
るためにも用いられている。
安定性に優れたプラスチックであるため、ＰＴＦＥ多孔
質膜は液体中や気体中に含まれる微細粒子の除去のため
のフィルタとして広く用いられている。例えば、特開２
０００−６１２８０公報には、半導体工業のクリーンル
ームに用いられる高性能エアフィルタの濾材として使用
されるＰＴＦＥ多孔質膜が開示されている。また、ＰＴ
ＦＥ多孔質膜は、自動車のヘッドランプや携帯電話等の
各種機器の通気孔に配設されて、機器内部への水の浸入
を防止すると共に、機器内外の差圧が生じないようにす
るためにも用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＰＴＦ
Ｅ多孔質膜はコシがないためフィルタとして用いる際に
他の通気性材料とラミネートされて用いられることが多
く、この場合にＰＴＦＥ多孔質膜の寸法安定性の不足が
問題となる。また、ＰＴＦＥは一般的に放射線に対して
崩壊型の樹脂であるため、低線量でのγ線や電子線の暴
露でも主鎖の切断により機械的強度が劣化してしまうと
いう問題もある。
Ｅ多孔質膜はコシがないためフィルタとして用いる際に
他の通気性材料とラミネートされて用いられることが多
く、この場合にＰＴＦＥ多孔質膜の寸法安定性の不足が
問題となる。また、ＰＴＦＥは一般的に放射線に対して
崩壊型の樹脂であるため、低線量でのγ線や電子線の暴
露でも主鎖の切断により機械的強度が劣化してしまうと
いう問題もある。
【０００４】これらの問題に対し、ＰＴＦＥ多孔質膜の
性能向上策が種々検討されているが、未だ有効な手段は
得られていないのが実情である。
性能向上策が種々検討されているが、未だ有効な手段は
得られていないのが実情である。
【０００５】そこで、本発明はこれらの問題を解決する
ために、放射線により機械的強度が低下しない耐放射線
性および寸法安定性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜を提供
し、さらにその製造方法とそれを備えたフィルタも提供
することを目的とする。
ために、放射線により機械的強度が低下しない耐放射線
性および寸法安定性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜を提供
し、さらにその製造方法とそれを備えたフィルタも提供
することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく、
本発明者が鋭意検討したところ、従来、放射線崩壊型樹
脂であるため放射線照射により特性が劣化すると認識さ
れていたＰＴＦＥが、特定の条件下で放射線照射を行う
と、再度の放射線照射に対する機械的強度の低下が抑え
られて耐放射線性が向上し、さらに寸法安定性等の特性
も向上することが明らかとなった。
本発明者が鋭意検討したところ、従来、放射線崩壊型樹
脂であるため放射線照射により特性が劣化すると認識さ
れていたＰＴＦＥが、特定の条件下で放射線照射を行う
と、再度の放射線照射に対する機械的強度の低下が抑え
られて耐放射線性が向上し、さらに寸法安定性等の特性
も向上することが明らかとなった。
【０００７】そこで、耐放射線性や寸法安定性等の特性
を向上させるべく、本発明のＰＴＦＥ多孔質膜の製造方
法は、実質的に酸素不在、かつ、３４０±２０℃の雰囲
気で、ＰＴＦＥ多孔質膜に放射線照射を行う工程を含む
ことを特徴とする。本発明において放射線とは、電離放
射線である。
を向上させるべく、本発明のＰＴＦＥ多孔質膜の製造方
法は、実質的に酸素不在、かつ、３４０±２０℃の雰囲
気で、ＰＴＦＥ多孔質膜に放射線照射を行う工程を含む
ことを特徴とする。本発明において放射線とは、電離放
射線である。
【０００８】この方法のように、実質的に酸素不在、か
つ、３４０±２０℃という、特定の条件下で放射線照射
を行うと、ＰＴＦＥに架橋結合が生じて強度が向上す
る。このため、再度の放射線照射による機械的強度の低
下が抑えられ、さらに高温時の寸法安定性も向上した、
ＰＴＦＥ多孔質膜を提供することができる。さらに、温
度範囲を３４０±１０℃とすれば、より耐放射線性およ
び高温寸法安定性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜を提供する
ことができる。なお、実質的に酸素不在とは酸素分圧が
１Ｐａ以下をいうが、酸素分圧を０．１Ｐａ以下に抑え
ることが好ましい。実質的に酸素不在であることを条件
とするのは、酸素分圧が高い雰囲気中で放射線を照射す
ると、ＰＴＦＥの分解速度が再結合速度よりも速くな
り、結果的にＰＴＦＥが分解してしまうためである。
つ、３４０±２０℃という、特定の条件下で放射線照射
を行うと、ＰＴＦＥに架橋結合が生じて強度が向上す
る。このため、再度の放射線照射による機械的強度の低
下が抑えられ、さらに高温時の寸法安定性も向上した、
ＰＴＦＥ多孔質膜を提供することができる。さらに、温
度範囲を３４０±１０℃とすれば、より耐放射線性およ
び高温寸法安定性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜を提供する
ことができる。なお、実質的に酸素不在とは酸素分圧が
１Ｐａ以下をいうが、酸素分圧を０．１Ｐａ以下に抑え
ることが好ましい。実質的に酸素不在であることを条件
とするのは、酸素分圧が高い雰囲気中で放射線を照射す
ると、ＰＴＦＥの分解速度が再結合速度よりも速くな
り、結果的にＰＴＦＥが分解してしまうためである。
【０００９】また、本発明のＰＴＦＥ多孔質膜は、１０
０ｋＧｙの放射線を照射した際の破断強度の低下率が５
０％以下であることを特徴とする。ただし、破断強度と
は、サンプルを２００ｍｍ／ｍｉｎで一軸方向に引張っ
た際に、サンプルが破断したときの最大負荷荷重を、サ
ンプルの引張前の断面積で除した値で表される。
０ｋＧｙの放射線を照射した際の破断強度の低下率が５
０％以下であることを特徴とする。ただし、破断強度と
は、サンプルを２００ｍｍ／ｍｉｎで一軸方向に引張っ
た際に、サンプルが破断したときの最大負荷荷重を、サ
ンプルの引張前の断面積で除した値で表される。
【００１０】このＰＴＦＥ多孔質膜は、放射線が照射さ
れても機械的強度をある程度保持することが可能な、耐
放射線性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜となる。
れても機械的強度をある程度保持することが可能な、耐
放射線性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜となる。
【００１１】また、本発明のＰＴＦＥ多孔質膜は、２５
０℃で１時間放置した際の面積収縮率が１０％以下であ
ることを特徴とする。ただし、面積収縮率とは、収縮に
よるサンプル面積変化量の、収縮前のサンプル面積に対
する百分率で表される。
０℃で１時間放置した際の面積収縮率が１０％以下であ
ることを特徴とする。ただし、面積収縮率とは、収縮に
よるサンプル面積変化量の、収縮前のサンプル面積に対
する百分率で表される。
【００１２】このＰＴＦＥ多孔質膜は、高温にさらされ
ても寸法をほぼ保持することが可能な、高温寸法安定性
に優れたＰＴＦＥ多孔質膜となる。
ても寸法をほぼ保持することが可能な、高温寸法安定性
に優れたＰＴＦＥ多孔質膜となる。
【００１３】また、本発明のＰＴＦＥ多孔質膜、または
本発明のＰＴＦＥ多孔質膜の製造方法により製造される
ＰＴＦＥ多孔質膜を用いることにより、耐放射線性や高
温寸法安定性に優れた液体濾過や気体濾過等のフィルタ
の提供が可能となる。
本発明のＰＴＦＥ多孔質膜の製造方法により製造される
ＰＴＦＥ多孔質膜を用いることにより、耐放射線性や高
温寸法安定性に優れた液体濾過や気体濾過等のフィルタ
の提供が可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態とし
て、本発明のＰＴＦＥ多孔質膜を製造する方法の一例を
説明する。
て、本発明のＰＴＦＥ多孔質膜を製造する方法の一例を
説明する。
【００１５】まず、ＰＴＦＥファインパウダーに液状潤
滑剤を加えたペースト状の混和物を予備成形する。液状
潤滑剤は、ＰＴＦＥファインパウダーの表面を濡らすこ
とができて、後で抽出や加熱により除去できるものであ
れば特に制限されず、例えば、流動パラフィン、ナフ
サ、ホワイトオイル等の炭化水素の使用が可能である。
また、液状潤滑剤の添加量は、ＰＴＦＥファインパウダ
ー１００重量部に対して５〜５０重量部程度が適当であ
る。また、予備成形は、液状潤滑剤が絞り出されない程
度の圧力で行う。
滑剤を加えたペースト状の混和物を予備成形する。液状
潤滑剤は、ＰＴＦＥファインパウダーの表面を濡らすこ
とができて、後で抽出や加熱により除去できるものであ
れば特に制限されず、例えば、流動パラフィン、ナフ
サ、ホワイトオイル等の炭化水素の使用が可能である。
また、液状潤滑剤の添加量は、ＰＴＦＥファインパウダ
ー１００重量部に対して５〜５０重量部程度が適当であ
る。また、予備成形は、液状潤滑剤が絞り出されない程
度の圧力で行う。
【００１６】次に、予備成形体をペースト押出しや圧延
によってシート状に成形する。このシート状に成形され
たＰＴＦＥ成形体を少なくとも一軸方向に延伸して、Ｐ
ＴＦＥ多孔質膜を作製する。なお、ＰＴＦＥ成形体の延
伸は、液状潤滑剤を除去した後で行うことが望ましい。
によってシート状に成形する。このシート状に成形され
たＰＴＦＥ成形体を少なくとも一軸方向に延伸して、Ｐ
ＴＦＥ多孔質膜を作製する。なお、ＰＴＦＥ成形体の延
伸は、液状潤滑剤を除去した後で行うことが望ましい。
【００１７】また、ＰＴＦＥ多孔質膜の厚さ、気孔率、
平均孔径は特に限定されるものではないが、厚さ５〜２
０００μｍ、気孔率２０〜９８％、平均孔径０．０３〜
５μｍであることが好ましい。
平均孔径は特に限定されるものではないが、厚さ５〜２
０００μｍ、気孔率２０〜９８％、平均孔径０．０３〜
５μｍであることが好ましい。
【００１８】次に、上記のような方法で作製されたＰＴ
ＦＥ多孔質膜に対し、実質的に酸素不在下、かつ、３４
０±２０℃範囲の雰囲気、好ましくは３４０±１０℃範
囲の雰囲気で、放射線を照射する。実質的な酸素不在の
雰囲気は、空気を窒素（Ｎ2）やアルゴン（Ａｒ）で置
換することや、真空状態にすることにより得ることがで
きる。なお、酸素を実質的に不在の状態にするには、酸
素分圧を１Ｐａ以下に抑えることが好ましい。また、３
４０±２０℃にＰＴＦＥ多孔質膜を加熱する方法として
は、加熱されたロールにＰＴＦＥ多孔質膜を接触させる
方法や、ＰＴＦＥ多孔質膜を加熱雰囲気下に配置する方
法等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものでは
ない。また、放射線源としては、γ線や電子線などが挙
げられるが、特にこれらに限定されるものではない。さ
らに、放射線照射量は５０〜５０００ｋＧｙの範囲内と
するが、放射線照射量の好ましい範囲は２００〜３００
０ｋＧｙであり、より好ましい範囲は５００〜２０００
ｋＧｙである。
ＦＥ多孔質膜に対し、実質的に酸素不在下、かつ、３４
０±２０℃範囲の雰囲気、好ましくは３４０±１０℃範
囲の雰囲気で、放射線を照射する。実質的な酸素不在の
雰囲気は、空気を窒素（Ｎ2）やアルゴン（Ａｒ）で置
換することや、真空状態にすることにより得ることがで
きる。なお、酸素を実質的に不在の状態にするには、酸
素分圧を１Ｐａ以下に抑えることが好ましい。また、３
４０±２０℃にＰＴＦＥ多孔質膜を加熱する方法として
は、加熱されたロールにＰＴＦＥ多孔質膜を接触させる
方法や、ＰＴＦＥ多孔質膜を加熱雰囲気下に配置する方
法等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものでは
ない。また、放射線源としては、γ線や電子線などが挙
げられるが、特にこれらに限定されるものではない。さ
らに、放射線照射量は５０〜５０００ｋＧｙの範囲内と
するが、放射線照射量の好ましい範囲は２００〜３００
０ｋＧｙであり、より好ましい範囲は５００〜２０００
ｋＧｙである。
【００１９】このように作製されたＰＴＦＥ多孔質膜
は、フィルタ等として用いるために通気性支持材を補強
材として積層してもよく、また、ＰＴＦＥ多孔質膜を複
数枚積層してもよい。なお、予めＰＴＦＥ多孔質膜を含
む積層品を準備しておき、この積層品に対し実質的に酸
素不在下、かつ、３４０±２０℃の雰囲気、好ましくは
３４０±１０℃の雰囲気下で放射線照射を行うことも可
能である。
は、フィルタ等として用いるために通気性支持材を補強
材として積層してもよく、また、ＰＴＦＥ多孔質膜を複
数枚積層してもよい。なお、予めＰＴＦＥ多孔質膜を含
む積層品を準備しておき、この積層品に対し実質的に酸
素不在下、かつ、３４０±２０℃の雰囲気、好ましくは
３４０±１０℃の雰囲気下で放射線照射を行うことも可
能である。
【００２０】補強材として用いる通気性支持体について
は、材質、構造、形態は特に限定されないが、ＰＴＦＥ
多孔質膜より通気性に優れたもの、例えばフェルト、不
織布、織布、メッシュ（網目状シート）、その他の多孔
質材料を用いることができる。ただし、強度、捕集性、
柔軟性、作業性の点から、不織布を用いることが好まし
い。なお、通気性支持体に用いられる繊維材料として
は、特に限定するものではないが、ポリオレフィン（ポ
リエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等）、ポ
リアミド、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）等）、芳香族ポリアミド、あるいはこれらの
複合材などからなるものが考えられる。
は、材質、構造、形態は特に限定されないが、ＰＴＦＥ
多孔質膜より通気性に優れたもの、例えばフェルト、不
織布、織布、メッシュ（網目状シート）、その他の多孔
質材料を用いることができる。ただし、強度、捕集性、
柔軟性、作業性の点から、不織布を用いることが好まし
い。なお、通気性支持体に用いられる繊維材料として
は、特に限定するものではないが、ポリオレフィン（ポ
リエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等）、ポ
リアミド、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）等）、芳香族ポリアミド、あるいはこれらの
複合材などからなるものが考えられる。
【００２１】通気性支持体とＰＴＦＥ多孔質膜との積層
体を製造する方法は、特に限定されるものではなく、単
に重ね合わせるたけでもよいし、例えば接着剤ラミネー
ト、熱ラミネート等の方法を適用することもできる。熱
ラミネートにより積層する場合は、加熱により不織布な
どの通気性支持材の一部を溶融させて接着積層すればよ
い。また、ホットメルトパウダーのような融着剤を介在
させて接着積層してもよい。
体を製造する方法は、特に限定されるものではなく、単
に重ね合わせるたけでもよいし、例えば接着剤ラミネー
ト、熱ラミネート等の方法を適用することもできる。熱
ラミネートにより積層する場合は、加熱により不織布な
どの通気性支持材の一部を溶融させて接着積層すればよ
い。また、ホットメルトパウダーのような融着剤を介在
させて接着積層してもよい。
【００２２】一方、複数のＰＴＦＥ多孔質膜を相互に積
層した積層体を製造する方法も、特に限定されるもので
はなく、単に重ね合わせるだけでもよいし、成膜時に圧
着積層する方法や熱融着する方法を用いてもよい。
層した積層体を製造する方法も、特に限定されるもので
はなく、単に重ね合わせるだけでもよいし、成膜時に圧
着積層する方法や熱融着する方法を用いてもよい。
【００２３】以上のように、実質的に酸素不在下、か
つ、３４０±２０℃、好ましくは３４０±１０℃の雰囲
気で放射線を照射することにより作製されたＰＴＦＥ多
孔質膜は、架橋構造となるため、再度の放射線照射を行
っても機械的強度の低下が小さく、さらに、寸法安定性
も向上する。
つ、３４０±２０℃、好ましくは３４０±１０℃の雰囲
気で放射線を照射することにより作製されたＰＴＦＥ多
孔質膜は、架橋構造となるため、再度の放射線照射を行
っても機械的強度の低下が小さく、さらに、寸法安定性
も向上する。
【００２４】また、以上のようなＰＴＦＥ多孔質膜を用
いてフィルタを作製すれば、耐放射線性や高温寸法安定
性に優れた液体濾過や気体濾過等のフィルタの提供が可
能となる。例えば、ＰＴＦＥ多孔質膜が洗浄して再利用
されるフィルタに用いられる場合、ＰＴＦＥの撥液性を
利用するためにＰＴＦＥ多孔質膜はフィルタの表面に配
置されることが多いが、外力によるダメージを抑えるこ
とができる。
いてフィルタを作製すれば、耐放射線性や高温寸法安定
性に優れた液体濾過や気体濾過等のフィルタの提供が可
能となる。例えば、ＰＴＦＥ多孔質膜が洗浄して再利用
されるフィルタに用いられる場合、ＰＴＦＥの撥液性を
利用するためにＰＴＦＥ多孔質膜はフィルタの表面に配
置されることが多いが、外力によるダメージを抑えるこ
とができる。
【００２５】
【実施例】本発明の実施例について、比較例と併せて説
明する。
明する。
【００２６】（実施例１）ＰＴＦＥファインパウダー８
０重量部に液状潤滑剤（ここでは流動パラフィンを用い
た。）２０重量部を加えたペースト状の混和物を予備成
形し、ペースト押出しにより丸棒状に成形した。このＰ
ＴＦＥ成形物を厚み０．１６ｍｍに圧延して長尺のシー
トとし、トリクレンを用いて液状潤滑剤を抽出除去した
後、温度３８０℃で長尺方向（ＭＤ方向）に延伸倍率３
倍に延伸し、次いで、温度１３０℃で幅方向（ＴＤ方
向）に延伸倍率２倍に延伸して、ＰＴＦＥ多孔質膜（厚
さ：７５μｍ、気孔率：７５％、平均孔径：０．２μ
ｍ）を得た。次に、ＰＴＦＥ多孔質膜を、酸素分圧が
０．１Ｐａ以下となるようにＮ2置換された実質的酸素
不在下の電子線照射容器に入れ、３２５℃の雰囲気で１
００ｋＧｙの電子線を照射した。
０重量部に液状潤滑剤（ここでは流動パラフィンを用い
た。）２０重量部を加えたペースト状の混和物を予備成
形し、ペースト押出しにより丸棒状に成形した。このＰ
ＴＦＥ成形物を厚み０．１６ｍｍに圧延して長尺のシー
トとし、トリクレンを用いて液状潤滑剤を抽出除去した
後、温度３８０℃で長尺方向（ＭＤ方向）に延伸倍率３
倍に延伸し、次いで、温度１３０℃で幅方向（ＴＤ方
向）に延伸倍率２倍に延伸して、ＰＴＦＥ多孔質膜（厚
さ：７５μｍ、気孔率：７５％、平均孔径：０．２μ
ｍ）を得た。次に、ＰＴＦＥ多孔質膜を、酸素分圧が
０．１Ｐａ以下となるようにＮ2置換された実質的酸素
不在下の電子線照射容器に入れ、３２５℃の雰囲気で１
００ｋＧｙの電子線を照射した。
【００２７】以上のような方法により、実施例１のＰＴ
ＦＥ多孔質膜を得た。
ＦＥ多孔質膜を得た。
【００２８】（実施例２）電子線照射時の温度を３４０
℃とすること以外は実施例１と同様にして、ＰＴＦＥ多
孔質膜を得た。
℃とすること以外は実施例１と同様にして、ＰＴＦＥ多
孔質膜を得た。
【００２９】（実施例３）電子線照射時の温度を３５５
℃とすること以外は実施例１と同様にして、ＰＴＦＥ多
孔質膜を得た。
℃とすること以外は実施例１と同様にして、ＰＴＦＥ多
孔質膜を得た。
【００３０】（比較例１）実施例１と同様にして二軸延
伸多孔質膜を得、この膜には電子線照射を行わなかっ
た。
伸多孔質膜を得、この膜には電子線照射を行わなかっ
た。
【００３１】（比較例２）電子線照射時の温度を３００
℃とすること以外は実施例１と同様にして、ＰＴＦＥ多
孔質膜を得た。
℃とすること以外は実施例１と同様にして、ＰＴＦＥ多
孔質膜を得た。
【００３２】（比較例３）電子線照射時の温度を３８０
℃とすること以外は実施例１と同様にして、ＰＴＦＥ多
孔質膜を得た。
℃とすること以外は実施例１と同様にして、ＰＴＦＥ多
孔質膜を得た。
【００３３】以上の実施例１〜３、比較例１〜３のＰＴ
ＦＥ多孔質膜を電子線照射容器に入れ、空気中、２５℃
で１００ｋＧｙの電子線を照射した。電子線照射前後の
破断強度を測定し、測定結果を用いて電子線照射による
破断強度の低下率を算出した。さらに、各ＰＴＦＥ多孔
質膜の高温時の面積収縮率も求めた。以下に、ＰＴＦＥ
多孔質膜の各特性の測定方法を示す。
ＦＥ多孔質膜を電子線照射容器に入れ、空気中、２５℃
で１００ｋＧｙの電子線を照射した。電子線照射前後の
破断強度を測定し、測定結果を用いて電子線照射による
破断強度の低下率を算出した。さらに、各ＰＴＦＥ多孔
質膜の高温時の面積収縮率も求めた。以下に、ＰＴＦＥ
多孔質膜の各特性の測定方法を示す。
【００３４】（１）破断強度
ＪＩＳ１号ダンベルで打ち抜いたサンプルを、テンシロ
ン（オリエンテック社製，ＵＴＭ−III−１００）で、
下記条件にて測定した。 チャック間距離：５０ｍｍ 引張速度 ：２００ｍｍ／ｍｉｎ 測定温度 ：２５℃ また、破断強度の低下率は、次式により求めた。 破断強度の低下率（％）＝｛（照射前破断強度）−（照
射後破断強度）｝×１００／（照射前破断強度）
ン（オリエンテック社製，ＵＴＭ−III−１００）で、
下記条件にて測定した。 チャック間距離：５０ｍｍ 引張速度 ：２００ｍｍ／ｍｉｎ 測定温度 ：２５℃ また、破断強度の低下率は、次式により求めた。 破断強度の低下率（％）＝｛（照射前破断強度）−（照
射後破断強度）｝×１００／（照射前破断強度）
【００３５】（２）面積収縮率
１００ｍｍ角のサンプルを２５０℃雰囲気（大気中）に
１時間放置する。その後サンプルを取り出して縦横の寸
法（ＬM，ＬT）を測定し、次式により面積収縮率を求め
る。 面積収縮率（％）＝（１００×１００−ＬM×ＬT）×１
００／（１００×１００） 以上のような方法で求められた各ＰＴＦＥ多孔質膜の特
性結果を、表１、表２に示す。なお、表１中の「Ｍ
Ｄ」、「ＴＤ」は、ＰＴＦＥ多孔質膜の前記方向を示
す。
１時間放置する。その後サンプルを取り出して縦横の寸
法（ＬM，ＬT）を測定し、次式により面積収縮率を求め
る。 面積収縮率（％）＝（１００×１００−ＬM×ＬT）×１
００／（１００×１００） 以上のような方法で求められた各ＰＴＦＥ多孔質膜の特
性結果を、表１、表２に示す。なお、表１中の「Ｍ
Ｄ」、「ＴＤ」は、ＰＴＦＥ多孔質膜の前記方向を示
す。
【００３６】
（表１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
破断強度（Ｎ／ｍｍ2） 破断強度の低下率（％）
照射前 照射後
ＭＤ ＴＤ ＭＤ ＴＤ ＭＤ ＴＤ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
実施例１ 25.5 14.6 15.1 9.1 40.8 37.7
実施例２ 32.8 18.0 23.0 13.1 29.9 27.2
実施例３ 21.3 13.7 13.5 9.5 36.6 30.7
比較例１ 25.2 14.4 劣化により測定不可 ― ―
比較例２ 2.5 1.7 劣化により測定不可 ― ―
比較例３ 無孔化した膜となったため測定せず ― ―
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００３７】
【００３８】表１、２に示した結果によれば、実施例１
〜３で得られたＰＴＦＥ多孔質膜は、比較例１〜３のＰ
ＴＦＥ多孔質膜に比べて、耐放射線性や高温寸法安定性
に優れていることが確認された。
〜３で得られたＰＴＦＥ多孔質膜は、比較例１〜３のＰ
ＴＦＥ多孔質膜に比べて、耐放射線性や高温寸法安定性
に優れていることが確認された。
【００３９】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のＰＴＦ
Ｅ多孔質膜およびその製造方法によれば、耐放射線性や
高温寸法安定性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜を提供するこ
とができる。さらに、このような本発明のＰＴＦＥ多孔
質膜を用いることにより、耐放射線性や高温寸法安定性
に優れたフィルタを提供することも可能となる。
Ｅ多孔質膜およびその製造方法によれば、耐放射線性や
高温寸法安定性に優れたＰＴＦＥ多孔質膜を提供するこ
とができる。さらに、このような本発明のＰＴＦＥ多孔
質膜を用いることにより、耐放射線性や高温寸法安定性
に優れたフィルタを提供することも可能となる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ０１Ｊ 19/12 Ｂ０１Ｊ 19/12 Ｇ
// Ｃ０８Ｌ 27:18 Ｃ０８Ｌ 27:18
Ｆターム(参考） 4D006 GA44 MA03 MA06 MB20 MC30X
NA32 NA45 NA66 PB17 PB70
PC05
4D019 AA01 BA13 BB08 BB10 BC20
CB06
4F074 AA39 BA35 CB03 CB17 CB37
CC02Z CD11 DA03 DA24
DA43
4G075 AA24 CA02 CA38 CA39 CA63
CA65 EB31
Claims (6)
- 【請求項１】 １００ｋＧｙの放射線を照射した際の破
断強度の低下率が５０％以下であることを特徴とするポ
リテトラフルオロエチレン多孔質膜。 - 【請求項２】 ２５０℃で１時間放置した際の面積収縮
率が１０％以下であることを特徴とするポリテトラフル
オロエチレン多孔質膜。 - 【請求項３】 実質的に酸素不在、かつ、３４０±２０
℃の雰囲気で、ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜に
放射線照射を行う工程を含むことを特徴とするポリテト
ラフルオロエチレン多孔質膜の製造方法。 - 【請求項４】 前記放射線照射を３４０±１０℃の雰囲
気で行うことを特徴とする請求項３に記載のポリテトラ
フルオロエチレン多孔質膜の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１または２に記載のポリテトラフ
ルオロエチレン多孔質膜を用いたことを特徴とするフィ
ルタ。 - 【請求項６】 請求項３に記載のポリテトラフルオロエ
チレン多孔質膜の製造方法により製造されるポリテトラ
フルオロエチレン多孔質膜を用いたことを特徴とするフ
ィルタ。
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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| JP2003128831A true JP2003128831A (ja) | 2003-05-08 |
| JP3974372B2 JP3974372B2 (ja) | 2007-09-12 |
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| JP (1) | JP3974372B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015505725A (ja) * | 2011-12-13 | 2015-02-26 | ザルトリウス ステディム ビオテック ゲーエムベーハー | 構造的に誘導されるビーディング効果を有する疎水性又は疎油性の微孔性高分子膜 |
| CN111716754A (zh) * | 2019-03-20 | 2020-09-29 | 常州福升新材料科技有限公司 | 一种ptfe绕包膜及其生产方法 |
| KR20220005487A (ko) | 2019-04-18 | 2022-01-13 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 방수 커버 |
-
2001
- 2001-10-24 JP JP2001326671A patent/JP3974372B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| KR20220005487A (ko) | 2019-04-18 | 2022-01-13 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 방수 커버 |
| DE112020001957T5 (de) | 2019-04-18 | 2022-01-13 | Nitto Denko Corporation | Wasserdichte Abdeckung |
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