JP2003126854A - 一次純水製造装置 - Google Patents
一次純水製造装置Info
- Publication number
- JP2003126854A JP2003126854A JP2001323702A JP2001323702A JP2003126854A JP 2003126854 A JP2003126854 A JP 2003126854A JP 2001323702 A JP2001323702 A JP 2001323702A JP 2001323702 A JP2001323702 A JP 2001323702A JP 2003126854 A JP2003126854 A JP 2003126854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- membrane separation
- membrane
- pressure
- water
- primary pure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 逆浸透膜分離装置を備える一次純水製造装置
において、逆浸透膜分離装置周辺を取り巻く配管、ベッ
セル、弁、ポンプ等の耐圧性能等のランクを下げると共
に、ポンプ等の動力コストを低減して、大幅なコスト低
減を達成する。 【解決手段】 操作圧力が０．５ＭＰａ以下の逆浸透膜
分離装置１を備える一次純水製造装置。
において、逆浸透膜分離装置周辺を取り巻く配管、ベッ
セル、弁、ポンプ等の耐圧性能等のランクを下げると共
に、ポンプ等の動力コストを低減して、大幅なコスト低
減を達成する。 【解決手段】 操作圧力が０．５ＭＰａ以下の逆浸透膜
分離装置１を備える一次純水製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工場、
医薬用水、原子力発電所等で広く使用されている超純水
を製造するための一次純水の製造装置に係り、特に、脱
塩処理のための逆浸透（ＲＯ）膜分離装置の操作圧力を
低くすることにより、設備コストの削減を図った一次純
水製造装置に関する。
医薬用水、原子力発電所等で広く使用されている超純水
を製造するための一次純水の製造装置に係り、特に、脱
塩処理のための逆浸透（ＲＯ）膜分離装置の操作圧力を
低くすることにより、設備コストの削減を図った一次純
水製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩや超ＬＳＩの製造においては、理
論純水の１８．２４ＭΩ・ｃｍに極めて近い比抵抗を有
する超純水が大量に用いられている。
論純水の１８．２４ＭΩ・ｃｍに極めて近い比抵抗を有
する超純水が大量に用いられている。
【０００３】従来の超純水製造システムは、前処理シス
テム、一次純水システム及びサブシステムから構成さ
れ、市水、工業用水又は井水等の原水は、濾過、凝集沈
殿等の前処理システムで処理された後、一次純水システ
ムに送給される。一次純水システムは、脱ガス装置、Ｒ
Ｏ膜分離装置、イオン交換装置、紫外線照射装置等を備
え、原水の水質、要求される処理水（一次純水）の水質
にあわせて各装置が適宜組み合わせて用いられている。
一次純水システムで処理された水は、さらにイオン交換
装置、紫外線照射装置、限外濾過膜分離装置等からなる
サブシステムにおいて最終的に処理され、超純水が得ら
れる。製造された超純水は、ウエハー洗浄工程等のユー
スポイントに送られて使用される。
テム、一次純水システム及びサブシステムから構成さ
れ、市水、工業用水又は井水等の原水は、濾過、凝集沈
殿等の前処理システムで処理された後、一次純水システ
ムに送給される。一次純水システムは、脱ガス装置、Ｒ
Ｏ膜分離装置、イオン交換装置、紫外線照射装置等を備
え、原水の水質、要求される処理水（一次純水）の水質
にあわせて各装置が適宜組み合わせて用いられている。
一次純水システムで処理された水は、さらにイオン交換
装置、紫外線照射装置、限外濾過膜分離装置等からなる
サブシステムにおいて最終的に処理され、超純水が得ら
れる。製造された超純水は、ウエハー洗浄工程等のユー
スポイントに送られて使用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような超純水製造
システムでは、ＴＯＣ、塩類、菌、溶存ガスは極力除去
され、得られる超純水の水質面ではほぼ満足するところ
に達しているが、システムを構築する上での各装置や付
帯設備のより一層の改良、改善やコスト低減が望まれて
いる。
システムでは、ＴＯＣ、塩類、菌、溶存ガスは極力除去
され、得られる超純水の水質面ではほぼ満足するところ
に達しているが、システムを構築する上での各装置や付
帯設備のより一層の改良、改善やコスト低減が望まれて
いる。
【０００５】本発明は、一次純水システムに多用される
ＲＯ膜分離装置を特定の操作条件で使用することによ
り、ＲＯ膜分離装置周辺の設備や動力の大幅なコスト低
減を可能とし、ひいては超純水製造システム全体のコス
ト低減を図ることができる一次純水製造装置を提供する
ことを目的とする。
ＲＯ膜分離装置を特定の操作条件で使用することによ
り、ＲＯ膜分離装置周辺の設備や動力の大幅なコスト低
減を可能とし、ひいては超純水製造システム全体のコス
ト低減を図ることができる一次純水製造装置を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の一次純水製造装
置は、超純水製造用の一次純水を製造する一次純水製造
装置であって、逆浸透膜分離装置を備える一次純水製造
装置において、操作圧力が０．５ＭＰａ以下である逆浸
透膜分離装置を備えたことを特徴とする。
置は、超純水製造用の一次純水を製造する一次純水製造
装置であって、逆浸透膜分離装置を備える一次純水製造
装置において、操作圧力が０．５ＭＰａ以下である逆浸
透膜分離装置を備えたことを特徴とする。
【０００７】ＲＯ膜分離装置の操作圧力とは、ＲＯ膜面
に負荷される平均圧力であり、ＲＯ膜を収容するベッセ
ル内の平均圧力に相当する。このＲＯ膜分離装置の操作
圧力を０．５ＭＰａ以下とすることにより、ＲＯ膜の容
器（ベッセル）、ＲＯ膜分離装置周辺の配管（給水配
管、透過水配管及び濃縮水配管）、配管に設けられた弁
類等の要求耐圧レベルを低下させることができる。この
ため、耐圧性の低い材料ないし仕様の、安価なものを用
いることができるようになり、例えば、安価な塩化ビニ
ル製の配管の適用も可能となる。また、ＲＯ膜分離装置
への給水ポンプも低圧ポンプで良く、ポンプコスト、動
力コストも低減され、全体として大幅なコスト低減を図
ることができる。
に負荷される平均圧力であり、ＲＯ膜を収容するベッセ
ル内の平均圧力に相当する。このＲＯ膜分離装置の操作
圧力を０．５ＭＰａ以下とすることにより、ＲＯ膜の容
器（ベッセル）、ＲＯ膜分離装置周辺の配管（給水配
管、透過水配管及び濃縮水配管）、配管に設けられた弁
類等の要求耐圧レベルを低下させることができる。この
ため、耐圧性の低い材料ないし仕様の、安価なものを用
いることができるようになり、例えば、安価な塩化ビニ
ル製の配管の適用も可能となる。また、ＲＯ膜分離装置
への給水ポンプも低圧ポンプで良く、ポンプコスト、動
力コストも低減され、全体として大幅なコスト低減を図
ることができる。
【０００８】即ち、水処理装置の配管として一般的に用
いられる配管グレードとしては次のようなものがある。 ＳＵＳ ＪＩＳ 耐圧２０ｋｇｆ／ｃｍ２（約２Ｍ
Ｐａ） ＳＵＳ ＪＩＳ 耐圧１０ｋｇｆ／ｃｍ２（約１Ｍ
Ｐａ） 塩ビ 耐圧 ７〜８ｋｇｆ／ｃｍ２（約０．
７〜０．８ＭＰａ）
いられる配管グレードとしては次のようなものがある。 ＳＵＳ ＪＩＳ 耐圧２０ｋｇｆ／ｃｍ２（約２Ｍ
Ｐａ） ＳＵＳ ＪＩＳ 耐圧１０ｋｇｆ／ｃｍ２（約１Ｍ
Ｐａ） 塩ビ 耐圧 ７〜８ｋｇｆ／ｃｍ２（約０．
７〜０．８ＭＰａ）
【０００９】ＲＯ膜ベッセルや周辺配管にかかる圧力
（耐圧力）は、ＲＯ膜操作圧力とＲＯ膜ベッセル通過圧
力損失と背圧（イオン交換装置等のＲＯ膜分離装置の後
段に直結された設備へ通水するために必要な給水圧）と
の合計であり、このうち、ＲＯ膜ベッセル通過圧力損失
は通常０．１２〜０．２ＭＰａ程度である。また、イオ
ン交換装置等による背圧は装置の種類や配管の長さ等に
よっても異なるが、０．２ＭＰａ程度である。
（耐圧力）は、ＲＯ膜操作圧力とＲＯ膜ベッセル通過圧
力損失と背圧（イオン交換装置等のＲＯ膜分離装置の後
段に直結された設備へ通水するために必要な給水圧）と
の合計であり、このうち、ＲＯ膜ベッセル通過圧力損失
は通常０．１２〜０．２ＭＰａ程度である。また、イオ
ン交換装置等による背圧は装置の種類や配管の長さ等に
よっても異なるが、０．２ＭＰａ程度である。
【００１０】ＲＯ膜操作圧力が０．７５ＭＰａの場合、
ＲＯ膜ベッセルや周辺配管にかかる圧力は、０．７５＋
（０．１２〜０．２）＋０．２＝１．０７〜１．１５で
１ＭＰａを超え、ＪＩＳ耐圧２０ｋｇｆ／ｃｍ２の配管
を用いる必要があるが、操作圧力が０．５ＭＰａであれ
ば、０．５＋（０．１２〜０．２）＋０．２＝０．８２
〜０．９ＭＰａとなるため、ＪＩＳ耐圧１０ｋｇｆ／ｃ
ｍ２の配管に変えることができる。更に、この場合にお
いて、背圧をなくすことにより、或いは、操作圧力を
０．３ＭＰａ程度にすることにより、耐圧７〜８ｋｇｆ
／ｃｍ２の塩ビ配管も使用可能となる。
ＲＯ膜ベッセルや周辺配管にかかる圧力は、０．７５＋
（０．１２〜０．２）＋０．２＝１．０７〜１．１５で
１ＭＰａを超え、ＪＩＳ耐圧２０ｋｇｆ／ｃｍ２の配管
を用いる必要があるが、操作圧力が０．５ＭＰａであれ
ば、０．５＋（０．１２〜０．２）＋０．２＝０．８２
〜０．９ＭＰａとなるため、ＪＩＳ耐圧１０ｋｇｆ／ｃ
ｍ２の配管に変えることができる。更に、この場合にお
いて、背圧をなくすことにより、或いは、操作圧力を
０．３ＭＰａ程度にすることにより、耐圧７〜８ｋｇｆ
／ｃｍ２の塩ビ配管も使用可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に本発明の一次純水製造装置
の実施の形態を詳細に説明する。
の実施の形態を詳細に説明する。
【００１２】図１は本発明の一次純水製造装置の基本構
成を示す系統図である。
成を示す系統図である。
【００１３】本発明の一次純水製造装置はＲＯ膜分離装
置を備え、このＲＯ膜分離装置の操作圧力を０．５ＭＰ
ａ以下とするものである。ＲＯ膜分離装置の操作圧力が
０．５ＭＰａを超えると、本発明の目的を達成し得な
い。ＲＯ膜分離装置の操作圧力は、過度に小さいと、透
過水量が低下し、所定量の透過水量を得るための装置が
大きくなり、また、脱塩率も低下して所望の水質の処理
水を得にくくなるため、０．２ＭＰａ以上とするのが好
ましい。このような低い操作圧力で運転することができ
るＲＯ膜としては日東電工（株）製「ＥＳ−４０」等を
用いることができる。なお、以下において、０．５ＭＰ
ａ以下の操作圧力で運転するＲＯ膜分離装置を「超低圧
ＲＯ膜分離装置」と称す場合がある。
置を備え、このＲＯ膜分離装置の操作圧力を０．５ＭＰ
ａ以下とするものである。ＲＯ膜分離装置の操作圧力が
０．５ＭＰａを超えると、本発明の目的を達成し得な
い。ＲＯ膜分離装置の操作圧力は、過度に小さいと、透
過水量が低下し、所定量の透過水量を得るための装置が
大きくなり、また、脱塩率も低下して所望の水質の処理
水を得にくくなるため、０．２ＭＰａ以上とするのが好
ましい。このような低い操作圧力で運転することができ
るＲＯ膜としては日東電工（株）製「ＥＳ−４０」等を
用いることができる。なお、以下において、０．５ＭＰ
ａ以下の操作圧力で運転するＲＯ膜分離装置を「超低圧
ＲＯ膜分離装置」と称す場合がある。
【００１４】この超低圧ＲＯ膜分離装置は、その後段
に、イオン交換装置等の脱イオン装置が設けられている
ことが好ましく、この場合において、図１（ａ）に示す
如く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の透過水が直接脱イオン
装置２に導入されても良く、また、図１（ｂ）に示す如
く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の透過水を透過水貯槽３に
一旦貯留し、この透過水貯槽３内の透過水をポンプを介
して脱イオン装置２に導入するようにしても良い。更
に、図１（ｃ）に示す如く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の
透過水をブースターポンプ４で昇圧した後脱イオン装置
２に導入しても良い。
に、イオン交換装置等の脱イオン装置が設けられている
ことが好ましく、この場合において、図１（ａ）に示す
如く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の透過水が直接脱イオン
装置２に導入されても良く、また、図１（ｂ）に示す如
く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の透過水を透過水貯槽３に
一旦貯留し、この透過水貯槽３内の透過水をポンプを介
して脱イオン装置２に導入するようにしても良い。更
に、図１（ｃ）に示す如く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の
透過水をブースターポンプ４で昇圧した後脱イオン装置
２に導入しても良い。
【００１５】即ち、前述の如く、ＲＯ膜分離装置周辺の
配管等に要求される耐圧力は、ＲＯ膜操作圧力とＲＯ膜
ベッセルでの圧力損失と背圧との合計であるため、図１
（ａ）に示す如く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の透過水を
直接脱イオン装置２に導入する場合には、この脱イオン
装置２への給水圧が背圧としてＲＯ膜分離装置周辺の配
管等の要求耐圧力に加算されるが、図１（ｂ）に示す如
く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の透過水を透過水貯槽３に
受けた後脱イオン装置２に導入することにより、ＲＯ膜
分離装置１に背圧がかからなくなる。この透過水貯槽３
は通常大気圧が若干大気圧よりも高い（シーリングガス
により大気の侵入を防止する場合）が、このような透過
水貯槽３を設けることにより背圧をゼロにすることがで
き、ＲＯ膜分離装置周辺の配管等の要求耐圧力をより一
層低くすることができる。また、図１（ｃ）に示す如
く、ブースターポンプ４を設け、超低圧ＲＯ膜分離装置
１の透過水をブースターポンプ４で昇圧した後、後段の
脱イオン装置１に導入するようにすることによっても、
後段の脱イオン装置２への給水圧を不要とし、背圧がか
からないようにしてＲＯ膜分離装置周辺の配管等の要求
耐圧力を低下させることができる。即ち、このブースタ
ーポンプ４のサクション側は大気圧でよく、超低圧ＲＯ
膜分離装置１への背圧はゼロとなる。
配管等に要求される耐圧力は、ＲＯ膜操作圧力とＲＯ膜
ベッセルでの圧力損失と背圧との合計であるため、図１
（ａ）に示す如く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の透過水を
直接脱イオン装置２に導入する場合には、この脱イオン
装置２への給水圧が背圧としてＲＯ膜分離装置周辺の配
管等の要求耐圧力に加算されるが、図１（ｂ）に示す如
く、超低圧ＲＯ膜分離装置１の透過水を透過水貯槽３に
受けた後脱イオン装置２に導入することにより、ＲＯ膜
分離装置１に背圧がかからなくなる。この透過水貯槽３
は通常大気圧が若干大気圧よりも高い（シーリングガス
により大気の侵入を防止する場合）が、このような透過
水貯槽３を設けることにより背圧をゼロにすることがで
き、ＲＯ膜分離装置周辺の配管等の要求耐圧力をより一
層低くすることができる。また、図１（ｃ）に示す如
く、ブースターポンプ４を設け、超低圧ＲＯ膜分離装置
１の透過水をブースターポンプ４で昇圧した後、後段の
脱イオン装置１に導入するようにすることによっても、
後段の脱イオン装置２への給水圧を不要とし、背圧がか
からないようにしてＲＯ膜分離装置周辺の配管等の要求
耐圧力を低下させることができる。即ち、このブースタ
ーポンプ４のサクション側は大気圧でよく、超低圧ＲＯ
膜分離装置１への背圧はゼロとなる。
【００１６】なお、図１（ａ）に示す如く、超低圧ＲＯ
膜分離装置１の透過水を、ポンプを用いずに直接後段の
脱イオン装置２に導入する場合には、装置構成が簡易と
なり、設備コスト、動力コストが低減される。
膜分離装置１の透過水を、ポンプを用いずに直接後段の
脱イオン装置２に導入する場合には、装置構成が簡易と
なり、設備コスト、動力コストが低減される。
【００１７】本発明において、ＲＯ膜分離装置は、複数
のＲＯ膜分離装置を多段に直列に接続して設けても良
く、この場合、０．５ＭＰａ以下の操作圧力で運転する
超低圧ＲＯ膜分離装置は、どの位置に設けても良く、す
べてのＲＯ膜分離装置を超低圧ＲＯ膜分離装置としても
良い。しかし、超低圧ＲＯ膜分離装置よりも、操作圧力
１ＭＰａ以上の通常の操作圧力のＲＯ膜分離装置の方が
ＴＯＣ除去率において優れているため、複数のＲＯ膜分
離装置を多段に設ける場合には、任意の段階のＲＯ膜分
離装置に通常のＲＯ膜分離装置を設置する方が、処理水
水質向上のために、また、後続の水処理装置の負荷を低
減するために好ましい。
のＲＯ膜分離装置を多段に直列に接続して設けても良
く、この場合、０．５ＭＰａ以下の操作圧力で運転する
超低圧ＲＯ膜分離装置は、どの位置に設けても良く、す
べてのＲＯ膜分離装置を超低圧ＲＯ膜分離装置としても
良い。しかし、超低圧ＲＯ膜分離装置よりも、操作圧力
１ＭＰａ以上の通常の操作圧力のＲＯ膜分離装置の方が
ＴＯＣ除去率において優れているため、複数のＲＯ膜分
離装置を多段に設ける場合には、任意の段階のＲＯ膜分
離装置に通常のＲＯ膜分離装置を設置する方が、処理水
水質向上のために、また、後続の水処理装置の負荷を低
減するために好ましい。
【００１８】通常、ＲＯ膜分離装置を多段に設ける場合
には、第１段目のＲＯ膜分離装置の入口側に給水ポンプ
を設置し、全てのＲＯ膜分離装置に通水するため、超低
圧ＲＯ膜分離装置を一つ設ける場合には、最終段に設け
る方が、後段の背圧が少なく、配管等の耐圧性を低くす
ることができ、有利である。
には、第１段目のＲＯ膜分離装置の入口側に給水ポンプ
を設置し、全てのＲＯ膜分離装置に通水するため、超低
圧ＲＯ膜分離装置を一つ設ける場合には、最終段に設け
る方が、後段の背圧が少なく、配管等の耐圧性を低くす
ることができ、有利である。
【００１９】以下に、図２，３を参照して本発明の一次
純水製造装置の実施の形態をより具体的に説明する。
純水製造装置の実施の形態をより具体的に説明する。
【００２０】図２（ａ）〜（ｄ）及び図３（ａ）〜
（ｄ）は、本発明の一次純水製造装置の実施の形態を示
す系統図である。
（ｄ）は、本発明の一次純水製造装置の実施の形態を示
す系統図である。
【００２１】図２（ａ）は、ＲＯ膜分離装置１４の後段
に、電気再生式脱イオン装置１５及び非再生式イオン交
換装置１６からなる非再生のイオン交換設備を設けて連
続運転を可能にしたものである。まず、工水等の原水
は、凝集沈殿、膜分離、凝集濾過等の一つ又は複数を組
み合わせた前処理システム１１で適宜前処理され、除濁
した水が得られる。除濁された水は、脱炭酸装置等の脱
ガス手段１２でスケール析出防止のために炭酸が除去さ
れ、次いで活性炭塔１３で処理される。なお、脱ガス手
段１２としては、脱炭酸装置ではなく、膜脱気装置を設
けて炭酸と共に溶存酸素を同時に除去しても良い。次い
で、ＲＯ膜分離装置（操作圧力０．５ＭＰａ以下の超低
圧ＲＯ膜分離装置）１４で塩類、ＴＯＣ等が除去され、
その透過水が更に電気再生式脱イオン装置１５及び非再
生式イオン交換装置１６で塩類が除去されて一次純水と
なる。得られた一次純水は、図示しない次工程のサブシ
ステムにて更に処理されて超純水となりユースポイント
に送られ使用される。
に、電気再生式脱イオン装置１５及び非再生式イオン交
換装置１６からなる非再生のイオン交換設備を設けて連
続運転を可能にしたものである。まず、工水等の原水
は、凝集沈殿、膜分離、凝集濾過等の一つ又は複数を組
み合わせた前処理システム１１で適宜前処理され、除濁
した水が得られる。除濁された水は、脱炭酸装置等の脱
ガス手段１２でスケール析出防止のために炭酸が除去さ
れ、次いで活性炭塔１３で処理される。なお、脱ガス手
段１２としては、脱炭酸装置ではなく、膜脱気装置を設
けて炭酸と共に溶存酸素を同時に除去しても良い。次い
で、ＲＯ膜分離装置（操作圧力０．５ＭＰａ以下の超低
圧ＲＯ膜分離装置）１４で塩類、ＴＯＣ等が除去され、
その透過水が更に電気再生式脱イオン装置１５及び非再
生式イオン交換装置１６で塩類が除去されて一次純水と
なる。得られた一次純水は、図示しない次工程のサブシ
ステムにて更に処理されて超純水となりユースポイント
に送られ使用される。
【００２２】図２（ｂ）は図１（ａ）よりもシステムの
低コスト化を図ったものであり、ＲＯ膜分離装置１４の
透過水を混床式イオン交換装置１７で処理するものであ
る。
低コスト化を図ったものであり、ＲＯ膜分離装置１４の
透過水を混床式イオン交換装置１７で処理するものであ
る。
【００２３】図２（ｃ）は、連続運転が可能で、かつ高
純度の一次純水を得ることができるものであり、ＲＯ膜
分離装置はＲＯ膜分離装置１４Ａ，１４Ｂの２段ＲＯ膜
分離装置からなり、その透過水を電気再生式脱イオン装
置１５により処理するものである。なお、電気再生式脱
イオン装置１５の代りに非再生式イオン交換装置１６を
設けても良い。この２段ＲＯ処理の場合は、前段及び後
段のＲＯ膜分離装置１４Ａ，１４Ｂを０．５ＭＰａ以下
の操作圧力の超低圧ＲＯ膜分離装置としても良いし、前
段のＲＯ膜分離装置１４Ａを操作圧力が０．５ＭＰａを
超える通常のＲＯ膜分離装置とし、後段のＲＯ膜分離装
置１４Ｂを操作圧力０．５ＭＰａ以下の超低圧ＲＯ膜分
離装置としても良い。
純度の一次純水を得ることができるものであり、ＲＯ膜
分離装置はＲＯ膜分離装置１４Ａ，１４Ｂの２段ＲＯ膜
分離装置からなり、その透過水を電気再生式脱イオン装
置１５により処理するものである。なお、電気再生式脱
イオン装置１５の代りに非再生式イオン交換装置１６を
設けても良い。この２段ＲＯ処理の場合は、前段及び後
段のＲＯ膜分離装置１４Ａ，１４Ｂを０．５ＭＰａ以下
の操作圧力の超低圧ＲＯ膜分離装置としても良いし、前
段のＲＯ膜分離装置１４Ａを操作圧力が０．５ＭＰａを
超える通常のＲＯ膜分離装置とし、後段のＲＯ膜分離装
置１４Ｂを操作圧力０．５ＭＰａ以下の超低圧ＲＯ膜分
離装置としても良い。
【００２４】図２（ｄ）は、連続運転を可能とすると共
に低コスト化を図ったものであり、ＲＯ膜分離装置はＲ
Ｏ膜分離装置１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃの３段ＲＯ膜分離
装置からなり、その透過水を非再生式イオン交換装置１
６により処理するものである。３段ＲＯ処理の場合も、
２段ＲＯ処理の場合と同様に、１段目、２段目のＲＯ膜
分離装置１４Ａ，１４Ｂを操作圧力が０．５ＭＰａを超
える通常のＲＯ膜分離装置とし、最後段のＲＯ膜分離装
置１４Ｃを操作圧力０．５ＭＰａ以下の超低圧ＲＯ膜分
離装置としても良く、また、１段目のＲＯ膜分離装置１
４Ａを操作圧力が０．５ＭＰａを超える通常のＲＯ膜分
離装置とし、２段目、３段目のＲＯ膜分離装置１４Ａ，
１４Ｂを操作圧力０．５ＭＰａ以下の超低圧ＲＯ膜分離
装置としても良い。また、すべてのＲＯ膜分離装置１４
Ａ，１４Ｂ，１４Ｃを超低圧ＲＯ膜分離装置としても良
い。
に低コスト化を図ったものであり、ＲＯ膜分離装置はＲ
Ｏ膜分離装置１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃの３段ＲＯ膜分離
装置からなり、その透過水を非再生式イオン交換装置１
６により処理するものである。３段ＲＯ処理の場合も、
２段ＲＯ処理の場合と同様に、１段目、２段目のＲＯ膜
分離装置１４Ａ，１４Ｂを操作圧力が０．５ＭＰａを超
える通常のＲＯ膜分離装置とし、最後段のＲＯ膜分離装
置１４Ｃを操作圧力０．５ＭＰａ以下の超低圧ＲＯ膜分
離装置としても良く、また、１段目のＲＯ膜分離装置１
４Ａを操作圧力が０．５ＭＰａを超える通常のＲＯ膜分
離装置とし、２段目、３段目のＲＯ膜分離装置１４Ａ，
１４Ｂを操作圧力０．５ＭＰａ以下の超低圧ＲＯ膜分離
装置としても良い。また、すべてのＲＯ膜分離装置１４
Ａ，１４Ｂ，１４Ｃを超低圧ＲＯ膜分離装置としても良
い。
【００２５】このように、ＲＯ膜分離装置として超低圧
ＲＯ膜分離装置を用いた一次純水製造装置であれば、Ｒ
Ｏ膜分離装置周辺の配管類等に要求される耐圧性を軽減
して、設備コストを低減すると共に、動力費を削減する
ことができる。
ＲＯ膜分離装置を用いた一次純水製造装置であれば、Ｒ
Ｏ膜分離装置周辺の配管類等に要求される耐圧性を軽減
して、設備コストを低減すると共に、動力費を削減する
ことができる。
【００２６】図３（ａ）〜（ｄ）は、図２（ａ）〜
（ｄ）において、それぞれＲＯ膜分離装置１４又は最後
段のＲＯ膜分離装置１４Ｂ又は１４Ｃと、後段の脱イオ
ン装置との間に透過水貯槽１８を設けた点が異なり、そ
の他は同様の構成とされている。
（ｄ）において、それぞれＲＯ膜分離装置１４又は最後
段のＲＯ膜分離装置１４Ｂ又は１４Ｃと、後段の脱イオ
ン装置との間に透過水貯槽１８を設けた点が異なり、そ
の他は同様の構成とされている。
【００２７】このように、最後段のＲＯ膜分離装置とそ
の後段の脱イオン装置との間に透過水貯槽を設けること
により、ＲＯ膜分離装置の背圧をなくして、より一層の
コスト低減を図ることができる。
の後段の脱イオン装置との間に透過水貯槽を設けること
により、ＲＯ膜分離装置の背圧をなくして、より一層の
コスト低減を図ることができる。
【００２８】なお、前述の如く、この透過水貯槽の代り
にブースターポンプを設けても同様の効果が奏される。
にブースターポンプを設けても同様の効果が奏される。
【００２９】図２，３は本発明の一次純水製造装置の実
施の形態の一例を示すものであって、本発明はその要旨
を超えない限り、何ら図示のものに限定されるものでは
ない。例えば、ＲＯ膜分離装置の後段に更に膜脱気装置
を配置しても良く、また、多段ＲＯ処理において、前段
のＲＯ膜分離装置と後段のＲＯ膜分離装置との間に膜脱
気装置を設けても良い。また、図２（ａ）、図３（ａ）
において、電気再生式脱イオン装置１５と非再生式イオ
ン交換装置１６との間に紫外線照射装置を設けても良
い。
施の形態の一例を示すものであって、本発明はその要旨
を超えない限り、何ら図示のものに限定されるものでは
ない。例えば、ＲＯ膜分離装置の後段に更に膜脱気装置
を配置しても良く、また、多段ＲＯ処理において、前段
のＲＯ膜分離装置と後段のＲＯ膜分離装置との間に膜脱
気装置を設けても良い。また、図２（ａ）、図３（ａ）
において、電気再生式脱イオン装置１５と非再生式イオ
ン交換装置１６との間に紫外線照射装置を設けても良
い。
【００３０】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の一次純水製
造装置によれば、ＲＯ膜分離装置の操作圧力を０．５Ｍ
Ｐａ以下としたことにより、ＲＯ膜分離装置周辺を取り
巻く配管、ベッセル、弁、ポンプ等の耐圧性能等のラン
クを下げることができ、また、ポンプ等の動力コストを
低減して大幅なコスト低減を達成することができ、ひい
ては超純水システム全体のコスト低減が可能となる。
造装置によれば、ＲＯ膜分離装置の操作圧力を０．５Ｍ
Ｐａ以下としたことにより、ＲＯ膜分離装置周辺を取り
巻く配管、ベッセル、弁、ポンプ等の耐圧性能等のラン
クを下げることができ、また、ポンプ等の動力コストを
低減して大幅なコスト低減を達成することができ、ひい
ては超純水システム全体のコスト低減が可能となる。
【図１】本発明の一次純水製造装置の基本構成を示す系
統図である。
統図である。
【図２】本発明の一次純水製造装置の実施の形態を示す
系統図である。
系統図である。
【図３】本発明の一次純水製造装置の実施の形態を示す
系統図である。
系統図である。
１ 超低圧ＲＯ膜分離装置
２ 脱イオン装置
３ 透過水貯槽
４ ブースターポンプ
１１ 前処理システム
１２ 脱ガス手段
１３ 活性炭塔
１４，１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ ＲＯ膜分離装置
１５ 電気再生式脱イオン装置
１６ 非再生式イオン交換装置
１７ 混床式イオン交換装置
１８ 透過水貯槽
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 松本 章
東京都新宿区西新宿三丁目４番７号 栗田
工業株式会社内
Ｆターム(参考） 4D006 GA05 KA12 KA52 KA53 KA55
KA56 KB01 KB04 KB11 KB12
KB13 KB17 KE07R PA01
PB02 PC03
4D025 AA04 AB02 BB04 DA01 DA03
DA04 DA05 DA06 DA10
Claims (5)
- 【請求項１】 超純水製造用の一次純水を製造する一次
純水製造装置であって、逆浸透膜分離装置を備える一次
純水製造装置において、 操作圧力が０．５ＭＰａ以下である逆浸透膜分離装置を
備えたことを特徴とする一次純水製造装置。 - 【請求項２】 請求項１において、複数の逆浸透膜分離
装置が多段に設けられており、少なくとも一つの逆浸透
膜分離装置の操作圧力が０．５ＭＰａ以下であることを
特徴とする一次純水製造装置。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、操作圧力が
０．５ＭＰａ以下の逆浸透膜分離装置の下流側に脱イオ
ン装置が設けられていることを特徴とする一次純水製造
装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項におい
て、操作圧力が０．５ＭＰａ以下の逆浸透膜分離装置の
直後に透過水貯槽が配置されていることを特徴とする一
次純水製造装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし３のいずれか１項におい
て、操作圧力が０．５ＭＰａ以下の逆浸透膜分離装置の
直後にブースターポンプが配置されていることを特徴と
する一次純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001323702A JP3912067B2 (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 一次純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001323702A JP3912067B2 (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 一次純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003126854A true JP2003126854A (ja) | 2003-05-07 |
| JP3912067B2 JP3912067B2 (ja) | 2007-05-09 |
Family
ID=19140557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001323702A Expired - Fee Related JP3912067B2 (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 一次純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3912067B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007289887A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP4440989B1 (ja) * | 2009-06-03 | 2010-03-24 | ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社 | 精製水の製造方法 |
| JP2010082610A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-15 | Miura Co Ltd | 純水の製造方法、及び純水製造システム |
| JP2010274031A (ja) * | 2009-06-01 | 2010-12-09 | Daicen Membrane Systems Ltd | 医療用精製水の製造方法 |
| JP2012187471A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Miura Co Ltd | 水処理方法及び水処理システム |
| JP2012187472A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Miura Co Ltd | 水処理方法及び水処理システム |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8968210B2 (en) | 2008-10-01 | 2015-03-03 | Covidien LLP | Device for needle biopsy with integrated needle protection |
-
2001
- 2001-10-22 JP JP2001323702A patent/JP3912067B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007289887A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2010082610A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-15 | Miura Co Ltd | 純水の製造方法、及び純水製造システム |
| JP2010274031A (ja) * | 2009-06-01 | 2010-12-09 | Daicen Membrane Systems Ltd | 医療用精製水の製造方法 |
| JP4440989B1 (ja) * | 2009-06-03 | 2010-03-24 | ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社 | 精製水の製造方法 |
| JP2010279870A (ja) * | 2009-06-03 | 2010-12-16 | Daicen Membrane Systems Ltd | 精製水の製造方法 |
| JP2012187471A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Miura Co Ltd | 水処理方法及び水処理システム |
| JP2012187472A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Miura Co Ltd | 水処理方法及び水処理システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3912067B2 (ja) | 2007-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4595498A (en) | Water-polishing loop | |
| Singh et al. | Introduction to membrane processes for water treatment | |
| AU2011291837B2 (en) | Fresh water producing apparatus and method for operating same | |
| JP4903113B2 (ja) | 水処理システム及びその運転方法 | |
| US4354939A (en) | Reverse osmosis desalinization utilizing plural flow work exchange vessels | |
| US8491795B2 (en) | Conversion of seawater to drinking water at room temperature | |
| US20180071675A1 (en) | Method for Efficient CO2 Degasification | |
| JP2008149285A (ja) | 飲料水製造用水処理システム及びその運転方法 | |
| JP2008100220A (ja) | 造水方法 | |
| JP3957080B1 (ja) | 飲料水製造用水処理システム及びその運転方法 | |
| JP2003126854A (ja) | 一次純水製造装置 | |
| JP2008173539A (ja) | 飲料水製造用水処理システム及びその運転方法 | |
| JPH05317605A (ja) | 膜式真空脱気方法および膜式真空脱気装置 | |
| JP6505504B2 (ja) | 逆浸透膜を用いた脱塩システムおよびその運転方法 | |
| JP4439674B2 (ja) | 脱イオン水製造装置 | |
| JP4304573B2 (ja) | 逆浸透膜による高濃度溶液の処理方法 | |
| JPH05269463A (ja) | 膜分離装置 | |
| JP2009119435A (ja) | 飲料水製造用水処理システム及びその運転方法 | |
| JP2000051663A (ja) | 逆浸透膜分離装置および逆浸透膜分離方法 | |
| CN212832953U (zh) | 浓缩系统 | |
| JP3534155B2 (ja) | 純水製造装置 | |
| JP2016203065A (ja) | 逆浸透を用いる脱塩システムおよびその運転方法 | |
| JPH09234349A (ja) | 膜分離装置 | |
| JP2006218341A (ja) | 水処理方法および装置 | |
| JP2002001069A (ja) | 純水製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040922 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060118 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060329 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060912 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061106 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070109 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070122 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140209 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |