JP2003121635A - カラーフィルタ基板およびその製造方法ならびに液晶装置および電子機器 - Google Patents

カラーフィルタ基板およびその製造方法ならびに液晶装置および電子機器

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JP2003121635A
JP2003121635A JP2001320001A JP2001320001A JP2003121635A JP 2003121635 A JP2003121635 A JP 2003121635A JP 2001320001 A JP2001320001 A JP 2001320001A JP 2001320001 A JP2001320001 A JP 2001320001A JP 2003121635 A JP2003121635 A JP 2003121635A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板上に、光透過用の開口部を有する半透過
反射層と、着色層とを備えたカラーフィルタ基板を製造
する方法において、煩雑な作業や大掛かりな装置を必要
とする工程を削減して、短時間、低コストで半透過反射
型のカラーフィルタ基板を製造できるようにする。 【解決手段】基板１１上に、画素を仕切るバンク１３を
形成し、開口部２１ａが形成される部位に撥液処理を施
した後、画素内に半透過反射層２１を形成する液体材料
をインクジェット法により吐出して半透過反射層２１を
形成する。この後、画素内に液体の着色層形成材料を導
入して着色層１５を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ基
板およびその製造方法、ならびに液晶装置及び電子機器
に関するものであり、特に半透過反射層を備えたカラー
フィルタ基板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、反射型液晶装置は消費電力が小さ
いために携帯用の機器や装置の表示部等に多用されてい
るが、外光を利用して表示を視認可能にするものである
ので、暗い場所では表示が読みとれないという問題があ
った。このため、明るい場所では通常の反射型液晶装置
と同様に外光を利用して表示を視認し、暗い場所では内
部の光源により表示を視認できるようにしたタイプの液
晶装置が提案されている。
【０００３】例えば、特開昭５７−０４９２７１号など
に記載されているように、液晶セルの観察者側とは反対
側の外面上に、偏光板、半透過反射板、およびバックラ
イトを順に配置した構成の半透過型液晶装置が知られて
いる。このような構成の液晶装置は、周囲が明るい場合
には外光を取り入れて半透過反射板にて反射された反射
光を利用して反射型の表示を行い、周囲が暗い場合には
バックライトを点灯させて、半透過反射板を透過した光
により表示を視認可能とする透過型の表示を行うもので
ある。また、近年ではカラー表示可能な液晶装置の需要
が高く、基板上に半透過反射膜と、着色層からなるカラ
ーフィルタを有するカラーフィルタ基板を備えた半透過
反射型のカラー液晶装置も知られている。半透過反射層
としては、Ａｌ、Ｃｒ、Ａｇ等の金属材料からなる反射
層に光透過用の開口部を設けた構成のものが好適に用い
られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半透過反射型のカラーフィルタ基板にあっては、半透過
反射層を形成するのに、予め、基板表面に微細な凹凸を
形成するためのフロスト加工を行っておき、スパッタ法
や真空蒸着法で金属材料からなる反射膜を形成した後、
該反射膜の一部をエッチング処理によって除去して開口
部を形成する方法を採っていたため、工程数も多く、大
掛かりな装置が必要であり、製造コストも高くなるとい
う問題があった。
【０００５】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、基板のフロスト加工工程、スパッタ法や真空蒸着法
による成膜工程、エッチング工程などの煩雑で大掛かり
な装置を必要とする工程を削減して、短時間、低コスト
で半透過反射型のカラーフィルタ基板を製造できるよう
にすることを目的する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、基板上
に、光透過用の開口部を有する半透過反射層と、複数の
色要素からなる着色層とを備えたカラーフィルタ基板を
製造するカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記
基板上に、各着色層ごとに仕切るためのバンクを形成す
る工程と、前記バンクにより仕切られた領域内であっ
て、前記開口部が形成される部位に撥液処理を施す撥液
処理工程と、該撥液処理工程後、前記バンクにより仕切
られた領域内に、液体材料をインクジェット法により吐
出して前記半透過反射層を形成する半透過反射層形成工
程と、該半透過反射層形成工程後、前記バンクにより仕
切られた領域内に着色層を形成する着色層形成工程とを
有することを特徴とする。
【０００７】この方法によれば、基板上にバンクを形成
した後、このバンクにより仕切られた領域内に半透過反
射層を形成する液体材料をインクジェット法により吐出
するので、バンクが、基板上に吐出された液体材料の広
がりを規制する土手の役割を果たし、半透過反射層をバ
ンクで囲まれた領域にのみ形成することができ、形状精
度も良い。また、従来は、スパッタ法や真空蒸着法によ
る成膜工程、エッチング工程など、煩雑な作業と大掛か
りな装置を必要としていた半透過反射層の形成を、イン
クジェット法により行うので、生産性の向上および低コ
スト化を図ることができる。また、バンクで囲まれた領
域内に半透過反射層を形成する液体材料を吐出する工程
に先立って、バンクで囲まれた領域内の基板の一部に撥
液処理を施すので、吐出された液体材料は、撥液処理が
施された部分を除く領域に塗膜を形成する。したがっ
て、撥液処理された領域上には塗膜が形成されないの
で、この部分に半透過反射層の開口部を容易に形成する
ことができる。またバンク内に半透過反射層を形成した
後、該バンク内に着色層を形成するので、バンクが、隣
り合う着色層どうしが混ざり合うのを防止する土手の役
割を果たす。これにより、バンクで囲まれた領域内にお
いて半透過反射層上に着色層が積層され、かつ半透過反
射層の開口部では基板上に着色層が積層された構成のカ
ラーフィルタ基板が得られる。
【０００８】本発明の方法において、前記半透過反射層
形成工程後であって、前記着色層形成工程の前に、前記
撥液処理した部位に親液処理を施す親液処理工程を有す
ることが好ましい。かかる方法によれば、バンクで囲ま
れた領域内に着色層を形成したときに、開口部となる部
位における基板表面と着色層形成材料との親和性が向上
するので、基板との密着性が良好な着色層が得られる。
【０００９】本発明において、前記着色層形成工程が、
前記バンクにより仕切られた領域内に紫外線硬化性樹脂
組成物からなる着色層形成材料を導入する工程と、前記
領域内に紫外線を照射することにより、前記着色層形成
材料を硬化させると同時に該領域内の前記撥液処理した
部位を親液処理する工程を有する構成としてもよい。か
かる構成によれば、着色層を硬化させる工程において親
液処理を行うことができるので、工程数を増加させずに
親液処理を行うことができる。
【００１０】本発明において、前記着色層形成工程を、
前記バンクにより仕切られた領域内に液体の着色層形成
材料をインクジェット法により吐出する方法で行うこと
が好ましい。かかる方法を用いれば、半透過反射層形成
工程だけでなく、その後の着色層形成工程を、ともにイ
ンクジェット法により行うので、大掛かりな装置や煩雑
な作業を必要とせず、さらなる生産性の向上および低コ
スト化を図ることができる。
【００１１】本発明において、前記半透過反射層を形成
する液体材料に光散乱材を含有させてもよい。かかる構
成によれば、光散乱材を含有する半透過反射層を形成す
ることができ、基板のフロスト処理を行わなくても半透
過反射層での反射光が散乱される効果が得られる。した
がって、簡単な製造工程で、反射型の表示特性が良好な
カラーフィルタ基板が得られる。
【００１２】本発明のカラーフィルタ基板は、複数の色
要素からなる着色層がマトリクス状に形成されてなるカ
ラーフィルタが基板上に形成されてなるカラーフィルタ
基板であって、前記基板上に設けられた、各着色層ごと
に仕切るためのバンクと、前記バンクによって囲まれた
領域に形成された、開口部を有する半透過反射層と、前
記半透過反射層を覆うように形成された着色層を有する
ことを特徴とする。かかる構成のカラーフィルタ基板に
あっては、各着色層ごとに仕切るためのバンクによって
囲まれた領域内にのみ半透過反射層が設けられているの
で、着色層が形成されていない領域での光の反射がな
く、反射光のコントラストが良好である。
【００１３】あるいは、本発明のカラーフィルタ基板
は、複数の色要素からなる着色層がマトリクス状に形成
されてなるカラーフィルタが基板上に形成されてなるカ
ラーフィルタ基板であって、前記基板上に設けられた、
各着色層ごとに仕切るためのバンクと、前記バンクによ
って囲まれた領域に形成された、開口部を有する半透過
反射層と、前記半透過反射層を覆うように形成された着
色層を有し、前記半透過反射層内に光散乱材が含有され
ていることを特徴とする。かかる構成のカラーフィルタ
基板にあっては、各着色層ごとに仕切るためのバンクに
よって囲まれた領域内にのみ半透過反射層が設けられて
いるので、着色層が形成されていない領域での光の反射
がなく、反射光のコントラストが良好であるうえ、半透
過反射層における散乱特性が優れているので、反射面で
の映り込みが防止され、良好な表示が得られる。
【００１４】本発明の液晶装置は、複数の色要素からな
る着色層がマトリクス状に形成されてなるカラーフィル
タが基板上に形成されてなるカラーフィルタ基板と、対
向基板との間に液晶が挟持されてなる液晶装置であっ
て、前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るた
めのバンクと、前記バンクによって囲まれた領域に形成
された、開口部を有する半透過反射層と、前記半透過反
射層を覆うように形成された前記着色層を有することを
特徴とする。かかる構成の液晶装置によれば、カラーフ
ィルタ基板において、各着色層ごとに仕切るためのバン
クによって囲まれた領域内にのみ半透過反射層が設けら
れているので、着色層が形成されていない領域での光の
反射がなく、反射光のコントラストが良好となる。した
がって、表示特性に優れた液晶装置が得られる。
【００１５】あるいは、本発明の液晶装置は、複数の色
要素からなる着色層がマトリクス状に形成されてなるカ
ラーフィルタが基板上に形成されてなるカラーフィルタ
基板と、対向基板との間に液晶が挟持されてなる液晶装
置であって、前記基板上に設けられた、各着色層ごとに
仕切るためのバンクと、前記バンクによって囲まれた領
域に形成された、開口部を有する半透過反射層と、前記
半透過反射層を覆うように形成された前記着色層を有
し、前記半透過反射層内に光散乱材が含有されているこ
とを特徴とする。かかる構成の液晶装置によれば、カラ
ーフィルタ基板において、各着色層ごとに仕切るための
バンクによって囲まれた領域内にのみ半透過反射層が設
けられているので、着色層が形成されていない領域での
光の反射がなく、反射光のコントラストが良好となるう
え、半透過反射層における散乱特性に優れているので、
反射面での映り込みが防止される。したがって、表示特
性に優れた液晶装置が得られる。
【００１６】本発明の液晶装置は、前記対向基板に、前
記各着色層に対応する画素電極、および該画素電極に接
続してなるアクティブ素子が形成された構成とすること
ができる。また本発明の液晶装置において、前記着色層
上に、透明電極が形成された構成とすることができる。
本発明の電子機器は、本発明の液晶表示装置を具備して
なることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】（第１の実施形態）以下、本発明
に係る第１実施形態を、図１から図５を参照しながら説
明する。図１は本実施形態のカラーフィルタ基板を示し
たもので、（ａ）は平面図、（ｂ）は１つの画素の模式
断面図である。このカラーフィルタ基板１０は、基板１
１上に、マトリクス状に配された着色層１５と、各着色
層の境目に形成された仕切り１４とからなるカラーフィ
ルタを備えている。着色層１５は、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）のいずれかの色要素からなっており、
仕切り１４は、遮光層からなるブラックマトリクス１２
と、その上に形成されたバンク１３とからなっている。
仕切り１４によって囲まれた領域は個々の画素をなして
おり、それぞれの画素において、基板１１上に半透過反
射層２１が形成されている。また、図示していないが、
仕切り１４および着色層１５の上面には、必要に応じて
これらを一括的に覆う保護膜等が設けられる。図１の例
では、カラーフィルタにおけるＲ、Ｇ、Ｂの配列はスト
ライプ配列となっているが、その他の配列でも構わな
い。例えば図２（ａ）に示すようなモザイク配列でもよ
く、図２（ｂ）に示すようなデルタ配列でもよい。
【００１８】半透過反射層２１には、光透過用の開口部
２１ａが設けられている。開口部２１ａの平面形状は特
に限定されず、例えば図３（ａ）に示すように、１つの
画素の中央に長い帯状の開口部２１ａを設けてもよく、
図３（ｂ）に示すように、２つの短い帯状の開口部２１
ａを、１つの画素の対角部に設けてもよく、図３（ｃ）
に示すように、１つの画素の中央に円形の開口部２１ａ
を設けてもよい。開口部２１ａの大きさは、これによっ
て半透過反射層２１における反射率および透過率が変わ
るが、反射型および透過型の表示をいずれも良好に行う
ためには、１つの画素の面積に対して開口部２１ａの面
積が１０〜２５％程度であることが好ましい。
【００１９】図４は、本実施形態のカラーフィルタ基板
１０を製造するのに好適に用いられるインクジェット装
置の例を示した概略斜視図である。この例の装置１００
は、インクジェットヘッド群１、Ｘ方向駆動軸４、Ｙ方
向ガイド軸５、制御装置６、載置台７、クリーニング機
構部８、基台９を備えている。載置台７は、Ｙ方向ガイ
ド軸５上を移動可能に構成されており、液体材料が付与
される対象である基板１１を基準位置に固定する機構を
備えている。インクジェットヘッド群１には、液体材料
を載置台７上の基板１１に向かって吐出するノズル（吐
出口）を備えたインクジェットヘッドが複数設けられて
いる。
【００２０】Ｘ方向駆動軸４には、Ｘ方向駆動モータ２
が接続されている。Ｘ方向駆動モータ２は、ステッピン
グモータ等であり、制御装置６からＸ軸方向の駆動信号
が供給されるとＸ方向駆動軸４を回転させる。Ｘ方向駆
動軸４が回転するとインクジェットヘッド群１がＸ軸方
向に移動する。Ｙ方向ガイド軸５は、基台９に対して動
かないように固定されており、Ｙ方向ガイド軸５上の載
置台７はＹ方向駆動モータ３に接続されている。Ｙ方向
駆動モータ３は、ステッピングモータ等であり、制御装
置６からＹ軸方向の駆動信号が供給されると、載置台７
をＹ軸方向に移動させる。制御回路６は、インクジェッ
トヘッド群１に設けられている各インクジェットヘッド
に対してインク滴の吐出制御用の電圧を供給する。ま
た、Ｘ方向駆動モータ２に対して、インクジェットヘッ
ド群１のＸ軸方向の移動を制御するための駆動パルス信
号（Ｘ軸方向の駆動信号）を供給するとともに、Ｙ方向
駆動モータ３に対して、載置台７のＹ軸方向の移動を制
御するための駆動パルス信号（Ｙ軸方向の駆動信号）を
供給する。
【００２１】クリーニング機構部８は、インクジェット
ヘッド群１をクリーニングする機構を備えている。クリ
ーニング機構部８は、図示しない駆動モータに接続され
ており、この駆動モータの駆動により、Ｙ方向ガイド軸
５に沿って移動できるように構成されている。クリーニ
ング機構部８の移動も制御装置６によって制御される。
【００２２】図５（ａ）〜（ｆ）は、本実施形態のカラ
ーフィルタ基板１０を製造する方法を工程順に示した模
式断面図である。これらの図では１つの画素を示してい
る。まず、図５（ａ）に示すように、基板１１上にブラ
ックマトリクス１２を形成する。基板１１としては、一
般にガラス基板が用いられるが、カラーフィルタ基板と
しての用途において必要とされる透明性、機械的強度等
の特性を有するものであれば、ガラス以外の材料を用い
ることもできる。
【００２３】ブラックマトリクス１２は、金属クロム、
金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック
等で形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス
１２を形成するには、スパッタ法や蒸着法を用いること
ができる。また樹脂薄膜からなるブラックマトリクス１
２を形成するには、グラビア印刷法、フォトレジスト
法、熱転写法等を用いることができる。金属薄膜からな
るブラックマトリクス１２の膜厚は０．１〜０．２μｍ
程度である。
【００２４】続いて、ブラックマトリクス１２上にバン
ク１３を形成する。すなわち、図５（ｂ）に示すよう
に、基板母材１１およびブラックマトリクス１２を覆う
ように、ネガ型の透明な感光性樹脂組成物からなるレジ
スト層１７を形成し、その上面に、マトリクスパターン
形状に形成されたマスクフィルム１８を密着させた状態
で露光処理を行う。そして、図５（ｃ）に示すように、
レジスト層１７の未露光部分をエッチング処理すること
によりレジスト層１７をパターニングして、バンク１３
を形成する。バンク１３の高さは２．５〜２．８μｍ程
度であるこのバンク１３とその下のブラックマトリクス
１２は、この後の工程において、画素内に液体材料が導
入された際に液体材料の広がりを規制する土手の役割を
果たす仕切り１４となる。
【００２５】バンク１３を形成する材料として、塗膜表
面が撥液性となる樹脂材料を用いると、この後の工程
で、インクジェット法を用いてバンク１３で囲まれた画
素内に液体材料を吐出する際の、液滴の着弾位置精度が
向上するので好ましい。なおバンク１３が撥液性の材料
からなる場合には、着色層１５を形成した後、バンク１
３上面上に保護膜等を形成する前にバンク１３の表面を
親液化することが好ましい。例えば、フッ素系の樹脂材
料を用いて撥液性のバンク１３を形成し、画素内に着色
層１５を形成する液体材料を導入した後、バンク１３に
紫外線を照射することにより、バンク１３の表面を親液
化することができる。
【００２６】次に、図５（ｄ）に示すように、仕切り１
４で囲まれた領域内、すなわち画素内であって、開口部
２１が形成される部位に撥液処理を施して撥液部１９を
形成する。撥液処理は、例えば以下のようなプラズマ重
合による方法を用いて行うことができる。このプラズマ
重合による撥液処理では、まず撥液処理のための原料液
を用意する。撥液処理用原料液としては、Ｃ4Ｆ10やＣ8
Ｆ16などの直鎖状ＰＦＣからなる液体有機物が好適に用
いられる。そして、撥液処理用原料液の蒸気をプラズマ
処理装置においてプラズマ化する。このようにして直鎖
状ＰＦＣの蒸気がプラズマ化されると、直鎖状ＰＦＣの
結合が一部切断されて活性化する。活性化されたＰＦＣ
が基板１１の表面に到達すると、基板１１上でＰＦＣが
互いに重合し、撥液性を有するフッ素樹脂重合膜を形成
する。ここで、分子量の大きなＰＦＣでは放電維持が困
難であるため、Ａｒのような希ガスを添加することによ
って放電維持を容易にすることができる。また、撥液処
理の原料液がフルオロカーボンである場合、原料液より
も分子量の小さいＰＦＣ、例えばＣＦ4等を添加するこ
とも可能である。活性化したＣＦ4を添加すると、原料
をプラズマ化した際に原料液であるフルオロカーボンの
フッ素の一部が離脱したとしても、活性なフッ素が重合
膜に取り込まれるため、重合膜の撥液性を向上すること
ができる。好適には、これらを複数組み合わせることに
より、フッ化重合膜を形成する。例えば、放電ガスの流
量を、Ｃ8Ｆ18が２０ｃｃｍ、ＣＦ4が１２０〜１３０ｃ
ｃｍ、Ａｒが１５０ｃｃｍとすることが好ましい。
【００２７】本実施形態において、撥液部１９は、画素
内の開口部２１が形成される部位にのみ形成する。その
ためには、開口部２１が形成される部位に対応する透過
部を有するマスクを用いて、上記の撥液処理を行うこと
が好ましい。あるいは、上記の撥液処理で得られるフッ
素樹脂重合膜は、紫外線を照射して分解除去することに
より親液性になるので、画素内の基板１１全面に対して
上記の撥液処理を施した後、開口部２１が形成される部
位に対応する遮蔽部を有するマスクを介して紫外線照射
を行うことにより、開口部２１が形成される部位にのみ
撥液部１９を形成することができる。
【００２８】次に、図５（ｅ）に示すように、仕切り１
４で囲まれた領域内、すなわち画素内にインクジェット
法を用いて半透過反射層２１を形成する。半透過反射層
２１は、銀、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合
金、ＡＰＣ（銀−パラジウム−銅の合金）などから構成
される。具体的には、半透過反射層２１を形成する液体
材料として、半透過反射層２１を構成する金属の超微粒
子を溶媒に分散させた分散液を用い、この分散液を図４
に示す構成のインクジェット装置を用いて画素内に吐出
する。インクジェットヘッドとしては、ピエゾ圧電効果
を応用した精密ヘッドを用いることが好ましい。画素内
に吐出された液体材料は撥液部１９以外の領域に広が
り、撥液部１９上に開口を有する塗膜が形成される。こ
の塗膜を乾燥させた後、焼成することにより、開口部２
１ａを有する半透過反射層２１が形成される。
【００２９】次いで、図５（ｆ）に示すように、仕切り
１４で囲まれた領域内、すなわち半透過反射層２１が形
成された画素内に着色層１５を形成する。具体的には、
図４に示す構成のインクジェット装置を用いて、液体の
着色層形成材料（インク）を画素内に吐出し、これを乾
燥および／または硬化させて着色層１５をする。Ｒ、
Ｇ、Ｂの３色の着色層１５は、各色要素毎に順に形成し
てもよく、３色のインクを予め設定されたプログラムに
従って、所定の配色パターンとなるように同時に吐出し
てもよい。半透過反射層２１上における着色層１５の厚
さは０．８〜１．２μｍ程度とされる。
【００３０】着色層形成材料（インク）は、粘度が２〜
２０ｍＰａ・ｓで、ノズル孔の周囲をなすノズルプレー
トに対する接触角が５０゜より大きく、表面張力が２０
〜４０ｍＮ／ｍであるものが好ましい。インクの粘度が
高すぎると、インクが吐出した後の次のインクの供給が
間に合わなくて吐出不良を起こすおそれがあり、粘度が
低すぎると流動性がよすぎてインクの過供給となるおそ
れがある。またインクのノズルプレートに対する接触角
が低すぎるとノズルプレートがインクで濡れてしまい、
インク滴が吐出される際に、ノズルプレートに付着した
インクに、インク滴が引き寄せられて、正確な位置へ吐
出されないおそれがある。またインクの表面張力が大き
すぎても、小さすぎても、圧電素子の振動による安定し
たメニスカスコントロールができなくなる。着色層形成
材料（インク）としては、例えばアクリル樹脂カラーペ
ースト、水性メラミンカラーペースト、アクリレート系
組成物等が使用できる。
【００３１】本実施形態によれば、バンク１３により仕
切られた画素内に半透過反射層を形成するので、画素間
に反射膜が無いカラーフィルタ基板が得られる。また、
開口部２１ａを形成する部位に撥液処理を行うので、画
素内に半透過反射層を形成する液体材料を吐出するだけ
で、開口を有する塗膜が形成される。したがって、この
塗膜を硬化させることにより、開口部２１ａを有する半
透過反射層２１を容易に形成することができる。またバ
ンク１３により仕切られた画素内に着色層を形成するの
で、隣り合う着色層どうしの混ざり合いが無い着色層を
容易に形成することができる。また、半透過反射層２１
の形成と、着色層１５の形成を、ともにインクジェット
法により行うので、大掛かりな装置や煩雑な作業を必要
とせず、低コスト化を図ることができる。なお、着色層
１５を形成するための液体材料は、画素内の半透過反射
層２１の上面が完全に埋まるように、比較的多量に吐出
されるので、撥液部１９上にも塗膜が形成される。
【００３２】（第２の実施形態）図６は、本発明のカラ
ーフィルタ基板の第２の実施形態を示したもので、１つ
の画素の模式断面図である。本実施形態のカラーフィル
タ基板２０が、前記第１の実施形態のものと異なる点
は、半透過反射層２１に光散乱材２２が含有されている
点である。図６において、図１と同じ構成要素には同一
符号を付して、その説明を簡略化する。
【００３３】本実施形態のカラーフィルタ基板２０は、
基板１１上に、マトリクス状に配された画素を備えてお
り、画素と画素の境目は、遮光層からなるブラックマト
リクス１２と、その上に形成されたバンク１３とからな
る仕切り１４によって区切られている。１つ１つの画素
には開口部２１ａを有する半透過反射層２１が形成され
ており、その上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のいず
れかのインクからなる着色層１５が形成されている。
Ｒ、Ｇ、Ｂの配列は、いわゆるモザイク配列でもよく、
ストライプ配列、デルタ配列など、その他の配列でも構
わない。また、図示していないが、仕切り１４および着
色層１５の上面には、必要に応じてこれらを一括的に覆
う保護膜等が設けられる。
【００３４】半透過反射層２１中に含有されている光散
乱材２２は、半透過反射層２１の表面形状に凹凸を与え
て、光散乱特性を向上させるものである。具体的には、
球形のアルミナ、シリカまたはチタニアなどからなるビ
ーズ２２が好適に用いられる。
【００３５】本実施形態のカラーフィルタ基板２０は、
前記第１の実施形態のカラーフィルタ基板１０の製造方
法において、半透過反射層２１を形成する液体材料中
に、予め光分散材２２を分散させておき、この分散液を
インクジェットヘッドから吐出する他は同様にして製造
することができる。インクジェットヘッドのノズル径に
対して、ビーズ２２の粒径が大きすぎたり、ビーズ２２
の含有量が多すぎたりすると吐出異常が生じるおそれが
あるので、ビーズ２２は、粒径が０．１〜１．０μｍ程
度のものを用い、インクジェットヘッドとして、ノズル
孔の内径が２５〜１００μｍ程度のものを用いることが
好ましい。また半透過反射層２１を形成する液体材料中
におけるビーズ２２の含有量は、少なすぎると十分な散
乱効果が得られないので、５〜２０体積％程度とするこ
とが好ましい。
【００３６】本実施形態によれば、前記第１の実施形態
と同様の作用効果が得られる他、半透過反射層２１に光
散乱材２２が含有されているので、半透過反射層２１に
おける光散乱特性が向上している。したがって、従来の
ような基板のフロスト処理を行わなくても半透過反射層
での正反射像の映り込みを防止することができ、液晶装
置に用いたときに反射型の表示特性が良好となるカラー
フィルタ基板が得られる。
【００３７】（第３の実施形態）本実施形態が前記第１
および第２の実施形態と異なる点は、半透過反射層２１
を形成する工程と着色層１５を形成する工程との間に、
親液処理を行う点である。すなわち本実施形態では、前
記第１の実施形態または第２の実施形態と同様にして、
基板１１上にブラックマトリクス１２、バンク１３、撥
液部１９を形成し、半透過反射層２１を形成した後、親
液処理を施して撥液部１９を親液化する。この親液処理
は、少なくとも前工程において撥液処理を施した部位、
すなわち撥液部１９に対して行うが、この処理によっ
て、半透過反射層２１の上面が親液化されても構わな
い。ただしバンク１３の上面は、着色層１５の形成前に
親液化させることは好ましくない。
【００３８】例えば、撥液部１９がフッ素樹脂重合膜か
らなる場合には、これに紫外線を照射すれば該重合膜に
分解が生じるので、これにより親液化することができ
る。また、紫外線はフッ素樹脂重合膜を分解するだけで
なく、照射面に付着している有機物を分解する作用を有
しているので、この洗浄作用によっても親液性が向上す
る。したがって、撥液部１９と同時に半透過反射層２１
の上面にも紫外線を照射することが好ましい。なお、バ
ンク１３がフッ素化合物からなる場合には、マスク等を
用いてバンク１３には紫外線が照射されないようにする
のが好ましい。
【００３９】また親液処理は、紫外線照射による処理だ
けでなく、活性化した酸素ガスまたはオゾンガスで処理
する方法でも行うことができる。あるいは、アルカリ溶
剤で処置する方法も可能である。いずれの方法でも、少
なくとも撥液部１９が親液化されるように、好ましくは
撥液部１９と半透過反射層２１の上面が撥液化されるよ
うに、かつバンク１３の上面は親液化されないように、
適宜マスク等を用いて処理を行うことが好ましい。そし
て、親液処理を施した後、仕切り１４で囲まれた領域
内、すなわち画素内に、上記第１の実施形態または第２
の実施形態と同様にして着色層１５を形成することによ
り、カラーフィルタ基板１０（２０）が得られる。
【００４０】本実施形態によれば、特に、画素内に液体
の着色層形成材料を吐出したときに、画素内の撥液部１
９が親液化されているので、半透過反射層２１上および
開口部２１ａ内に速やかに塗膜が形成され、下層との密
着性が良好な着色層１５が得られる。
【００４１】（第４の実施形態）また、前記第３の実施
形態のように新たに親液処理工程を設けなくても、前記
第１および第２の実施形態の製造方法において、着色層
形成材料（インク）として紫外線硬化性樹脂組成物から
なるインクを用いれば、紫外線を照射して着色層を硬化
させると同時に撥液部１９を親液化することも可能であ
る。すなわち本実施形態では、前記第１の実施形態また
は第２の実施形態と同様にして、基板１１上にブラック
マトリクス１２、バンク１３を形成し、撥液部１９を形
成した後、半透過反射層２１を形成する。次いで、半透
過反射層２１が形成された画素内に、紫外線硬化性樹脂
組成物からなる着色層形成材料をインクジェット法によ
り吐出した後、紫外線を照射する。この紫外線照射によ
って撥液部１９が親液化されると同時に、画素内に吐出
された着色層形成材料が硬化して着色層１５が形成され
る。紫外線の照射は、基板１１の両面側から行うとより
効果的である。
【００４２】本実施形態において、着色層１５を形成す
るための紫外線硬化性樹脂組成物としてはアクリレート
系組成物等を用いることができる。なお、本実施形態に
おいては、着色層１５の形成材料を吐出した後に紫外線
照射を行うので、着色層１５の硬化と同時に、バンク１
３の上面にも紫外線を照射して親液化することが好まし
い。このようにすれば、着色層１５およびバンク１３を
覆う保護膜等を形成する際に、該保護膜等とバンク１５
上面との間の親和性が良好になる。
【００４３】本実施形態によれば、特に、撥液部１９上
に吐出された着色層形成材料の硬化進行中に撥液部１９
が親液化されるので、これにより、下層との密着性が良
好な着色層１５が得られる。
【００４４】図７は、上記第１の実施形態のカラーフィ
ルタ基板１０を用いて液晶装置を構成した第１の例を示
したもので、パッシブマトリックス型液晶装置（液晶装
置）の概略構成を示す要部断面図である。この例の液晶
装置２００に、液晶駆動用ＩＣ、支持体などの付帯要素
を装着することによって、最終製品としての半透過反射
型液晶装置が得られる。
【００４５】この液晶装置２００は、第１の実施形態で
説明したカラーフィルタ基板１０を備えており、カラー
フィルタ基板１０は液晶組成物層２０３の下側（バック
ライト２１２側）に配置されている。尚、本実施形態に
おいてはカラーフィルタ基板１０について簡略に説明す
ることとする。この例の液晶装置２００は、カラーフィ
ルタ基板１０とガラス基板等からなる対向基板２０１と
の間にＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物等
からなる液晶組成物層２０３が挟持されて概略構成され
ている。カラーフィルタ基板１０は、基板１１、ブラッ
クマトリクス１２とバンク１３とからなる仕切り１４、
開口部２１ａを備えた半透過反射層２１、および着色層
１５ｒ、１５ｇ、１５ｂを備えており、これらの上面を
覆うように保護膜１６が形成されている。
【００４６】カラーフィルタ基板１０の保護膜１６上
（液晶組成物層２０３側）には、複数の第１の電極２０
６が所定の間隔でストライプ状に形成されており、その
上面（液晶組成物層２０３側）を覆うように配向膜２０
９が形成されている。一方、対向基板２０１におけるカ
ラーフィルタ基板１０と対向する面上には、カラーフィ
ルタ基板１０側の第１の電極２０６と直交する方向に延
在する複数の第２の電極２０５がストライプ状に所定の
間隔で形成され、その上面（液晶組成物層２０３側）を
覆うように配向膜２０７が形成されている。第１の電極
２０６と第２の電極２０５とが交差する部位が画素であ
り、この画素となる部位に、カラーフィルタ基板１０の
着色層１５ｒ、１５ｇ、１５ｂが位置するように構成さ
れている。また、対向基板２０１の外面側（視認側）に
は偏光板２１１ａが設けられている。カラーフィルタ基
板１０の外面側にも偏光板２１１ｂが設けられ、さらに
その外側にバックライト２１２が設けられている。ま
た、符号２０４は基板間の間隔（セルギャップという）
を基板面内で一定に保持するためのスペーサであり、符
号２１０は液晶組成物を基板間に保持するためのシール
材である。尚、第１の電極２０６および第２の電極２０
５はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料を
平面視ストライプ状に形成したものである。
【００４７】かかる構成の液晶装置２００にあっては、
明るい場所では、カラーフィルタ基板１０の半透過反射
層２１からの反射光を利用して反射型の液晶表示を行
い、暗い場所ではバックライト２１２を点灯させ、半透
過反射層２１の透過光を利用して透過型の液晶表示を行
うことができる。本実施形態の液晶装置２００は、カラ
ーフィルタ基板１０の半透過反射層を形成する工程と、
着色層を形成する工程を、インクジェット法により行う
ことができるので、カラーフィルタ基板の製造に大掛か
りな装置や煩雑な作業を必要とせず、低コスト化を図る
ことができる。また、本実施形態の液晶装置２００によ
れば、カラーフィルタ基板１０において半透過反射層２
１が画素内にのみに設けられており、隣り合う画素の間
にはバンクが形成されているので、画素以外の領域での
光の反射がなく、反射型の液晶表示を行う際のコントラ
ストが良好である。
【００４８】図８は、上記第１の実施形態のカラーフィ
ルタ基板１０を用いて液晶装置を構成した第２の例を示
したもので、ＴＦＴ型（Thin Film Transistor 型）液
晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。この例の液
晶装置３００に、液晶駆動用ＩＣ、支持体、バックライ
ト．などの付帯要素を装着することによって、最終製品
としての半透過反射型液晶装置が得られる。この液晶装
置３００は、第１の実施形態で説明したカラーフィルタ
基板１０を備えており、カラーフィルタ基板１０は液晶
組成物層の下側（バックライト側）に配置されている。
尚、本実施形態においてはカラーフィルタ基板１０につ
いては説明を簡略化する。
【００４９】この実施形態の液晶装置３００は、カラー
フィルタ基板１０と、これに対向するように配置された
対向基板３１４と、これらの間に挟持された図示しない
液晶組成物層とを主体として構成されている。なお図示
していないが、カラーフィルタ基板１０の下面側（液晶
層組成物側と反対側）には偏光板３１６が敷設されてお
り、その下側にバックライトが設けられている。また、
対向基板３１４の上面側（観察者側）には図示しない偏
光板が設けられている。
【００５０】カラーフィルタ基板１０は、基板１１、ブ
ラックマトリクス１２とバンク１３とからなる仕切り１
４、および着色層１５ｒ、１５ｇ、１５ｂを備えてお
り、これらの上面を覆うように保護膜１６が形成されて
いる。カラーフィルタ基板１０の保護膜１６上（液晶組
成物層側）には、液晶駆動用の電極３１８が形成されて
いる。この電極３１８は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）
などの透明導電材料からなり、後述の画素電極３３２が
形成される領域全体をカバーする全面電極とされてい
る。また、電極３１８を覆って液晶組成物層側に配向膜
３１９が設けられている。
【００５１】一方、対向基板３１４上には絶縁層３２５
が形成されており、絶縁膜３２５の上には、ＴＦＴ型の
スイッチング素子と画素電極３３２が形成されている。
なお、実際の液晶装置では、画素電極３３２上に配向膜
が設けられるが、この図では省略している。スイッチン
グ素子としての薄膜トランジスタＴ（ＴＦＴ）は、対向
基板３１４上に形成された絶縁層３２５上に、マトリク
ス状に走査線３５１…と信号線３５２…とが形成され、
これら走査線３５１…と信号線３５２…とに囲まれた領
域毎に画素電極３３２が設けられ、各画素電極３３２の
コーナ部分と走査線３５１と信号線３５２との間の部分
に、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート
電極とを具備する薄膜トランジスタＴが組み込まれて構
成されている。そして、走査線３５１と信号線３５２に
対する信号の印加によって薄膜トランジスタＴをオン・
オフして画素電極３３２への通電制御を行うことができ
るように構成されている。
【００５２】かかる構成の液晶装置３００によれば、明
るい場所では、カラーフィルタ基板１０の半透過反射層
２１からの反射光を利用して反射型の液晶表示を行い、
暗い場所ではバックライトを点灯させ、半透過反射層２
１の透過光を利用して透過型の液晶表示を行うことがで
きる。本実施形態の液晶装置３００は、カラーフィルタ
基板１０の半透過反射層を形成する工程と、着色層を形
成する工程を、インクジェット法により行うことができ
るので、カラーフィルタ基板の製造に大掛かりな装置や
煩雑な作業を必要とせず、低コスト化を図ることができ
る。また、本実施形態の液晶装置３００によれば、カラ
ーフィルタ基板１０において半透過反射層２１が画素内
にのみに設けられており、隣り合う画素の間にはバンク
が形成されているので、画素以外の領域での光の反射が
なく、反射型の液晶表示を行う際のコントラストが良好
である。
【００５３】図９は、上記第１の実施形態のカラーフィ
ルタ基板１０を用いて液晶装置を構成した第３の例を示
したもので、ＴＦＤ型（Thin Film Diode 型）液晶装置
の概略構成を示す分解斜視図である。この例の液晶装置
４００に、液晶駆動用ＩＣ、支持体、バックライトなど
の付帯要素を装着することによって、最終製品としての
半透過反射型液晶装置が得られる。この液晶装置４００
は、第１の実施形態で説明したカラーフィルタ基板１０
を備えており、カラーフィルタ基板１０は液晶組成物層
の下側（バックライト側）に配置されている。尚、本実
施形態においてはカラーフィルタ基板１０については説
明を簡略化する。
【００５４】この実施形態の液晶装置４００は、カラー
フィルタ基板１０と、これに対向するように配置された
対向基板４３０と、これらの間に挟持された図示しない
液晶組成物層とを主体として構成されている。カラーフ
ィルタ基板１０の下面側（液晶層組成物側と反対側）に
は偏光板４１６が敷設されており、その下側にバックラ
イト（図示略）が設けられている。また、対向基板４３
０の上面側（観察者側）には図示しない偏光板が設けら
れている。カラーフィルタ基板１０は、図１（ｂ）に示
す構成を有し、基板１１、ブラックマトリクスとバンク
とからなる仕切り（図示略）、開口部２１ａを備えた半
透過反射層（図示略）、および着色層１５ｒ、１５ｇ、
１５ｂを備えており、これらの上面を覆うように保護膜
１６が形成されている。カラーフィルタ基板１０の保護
膜１６上（液晶組成物層側）には、ストライプ状の電極
４１８が形成されている。この電極４１８は、ＩＴＯ
（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料からなってい
る。また、電極４１８を覆って液晶組成物層側に配向膜
４１９が設けられている。
【００５５】一方、対向基板４３０の液晶組成物層側に
は絶縁層（図示略）が形成されており、この絶縁膜の上
には、以下に説明するＴＦＤ型のスイッチング素子と画
素電極が形成されている。すなわち、絶縁膜上には、カ
ラーフィルタ基板１０上のストライプ状の電極４１８と
直交する方向に、データ線４３４…が所定間隔離間して
整列形成されており、各データ線４３４…間に、先のス
トライプ状の電極４１８と位置合わせするように、２端
子型非線形素子４３６を介して、ＩＴＯなど透明導電材
料からなる画素電極４３２が複数形成されている。そし
てカラーフィルタ基板１０の着色層１５ｒ，１５ｇ，１
５ｂは、各画素電極４３２に対応する位置に配置されて
いる。
【００５６】かかる構成の液晶装置４００によれば、明
るい場所では、カラーフィルタ基板１０の半透過反射層
からの反射光を利用して反射型の液晶表示を行い、暗い
場所ではバックライトを点灯させ、半透過反射層の開口
部２１ａを透過する透過光を利用して透過型の液晶表示
を行うことができる。本実施形態の液晶装置４００は、
カラーフィルタ基板１０の半透過反射層を形成する工程
と、着色層を形成する工程を、インクジェット法により
行うことができるので、カラーフィルタ基板の製造に大
掛かりな装置や煩雑な作業を必要とせず、低コスト化を
図ることができる。また、本実施形態の液晶装置４００
によれば、カラーフィルタ基板１０において半透過反射
層が画素内にのみに設けられており、隣り合う画素の間
にはバンクが形成されているので、画素以外の領域での
光の反射がなく、反射型の液晶表示を行う際のコントラ
ストが良好である。
【００５７】なお、上記各例の液晶装置２００，３０
０，４００において、カラーフィルタ基板１０に代えて
上記第２の実施形態のカラーフィルタ基板２０、あるい
は上記第３または第４の実施形態のカラーフィルタ基板
を用いても、同様にして液晶装置を構成することができ
る。そして、特に上記第２の実施形態のカラーフィルタ
基板２０を用いた場合には、半透過反射層２１に光散乱
材２２が分散されていて光散乱特性に優れているため、
半透過反射層２１での正反射が防止され、映り込み等が
ない良好な表示が得られる。
【００５８】次に、本発明の電子機器の実施形態につい
て説明する。図１０（ａ）は、携帯電話の一例を示した
斜視図である。符号６００は携帯電話本体を示し、符号
６０１は液晶表示部を示している。図１０（ｂ）は、ワ
ープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示
した斜視図である。符号７００は情報処理装置、符号７
０１はキーボードなどの入力部、符号７０３は情報処理
装置本体を示し、符号７０２は液晶表示部を示してい
る。図１０（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した
斜視図である。符号８００は時計本体を示し、符号８０
１は液晶表示部を示している。これらの電子機器におい
て、液晶表示部６０１、７０２、８０１は、前記第１な
いし第４の実施形態のカラーフィルタ基板のいずれかを
備えた液晶装置を用いて構成されている。
【００５９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来は、スパッタ法や真空蒸着法による成膜工程および
エッチング工程など、煩雑な作業と大掛かりな装置を必
要とする工程を経て形成されていた半透過反射層を、イ
ンクジェット法を用いて簡単な工程で形成することがで
きる。したがって、半透過反射型のカラーフィルタ基板
を、短時間、低コストで製造することができる。また、
カラーフィルタ基板の半透過反射層だけでなく、着色層
もインクジェット法を用いて行うことが好ましく、これ
により半透過反射型のカラーフィルタ基板の生産性をよ
り向上させ、製造コストをより削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第１の実
施形態を示したもので、（ａ）は平面図、（ｂ）は
（ａ）中のｂ−ｂ線に沿う断面図である。
【図２】 本発明に係るカラーフィルタ基板における着
色層の配列の例を示した平面図である。
【図３】 本発明に係るカラーフィルタ基板における半
透過反射層の例を示す平面図である。
【図４】 本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法
に好適に用いられるインクジェット装置の例の概略構成
を示す斜視図である。
【図５】 （ａ）〜（ｆ）は、第１の実施形態のカラー
フィルタ基板を製造する方法を工程順に示した模式断面
図である。
【図６】 本発明に係るカラーフィルタ基板の第２の実
施形態を示す要部断面図である。
【図７】 本発明に係る液晶装置の一例を示した要部断
面図である。
【図８】 本発明に係る液晶装置の他の例を示した分解
斜視図である。
【図９】 本発明に係る液晶装置の他の例を示した分解
斜視図である。
【図１０】 本発明に係る電子機器の例を示したもので
（ａ）は携帯電話の斜視図であり、（ｂ）は携帯型情報
処理装置の斜視図であり、（ｃ）は腕時計型電子機器の
斜視図である。
【符号の説明】
１０，２０…カラーフィルタ基板 １１…基板 １３…バンク １５，１５ｒ，１５ｇ，１５ｂ…着色層 １９…撥液部 ２１…半透過反射層 ２１ａ…開口部 ２２…光散乱材 ２００，３００，４００…液晶装置 ２０１，３１４，４３０…対向基板 ２０３…液晶組成物層
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C056 EA24 FB01 2H048 BA02 BA11 BA55 BA60 BA64 BB02 BB07 BB10 BB42 2H091 FA02Y FA14Y FA14Z FA35Y FB02 FB08 FC01 GA13 LA12 LA15

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に、光透過用の開口部を有する半
    透過反射層と、複数の色要素からなる着色層とを備えた
    カラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製
    造方法であって、 前記基板上に、各着色層ごとに仕切るためのバンクを形
    成する工程と、 前記バンクにより仕切られた領域内であって、前記開口
    部が形成される部位に撥液処理を施す撥液処理工程と、 該撥液処理工程後、前記バンクにより仕切られた領域内
    に、液体材料をインクジェット法により吐出して前記半
    透過反射層を形成する半透過反射層形成工程と、 該半透過反射層形成工程後、前記バンクにより仕切られ
    た領域内に着色層を形成する着色層形成工程とを有する
    ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
  2. 【請求項２】 前記半透過反射層形成工程後であって、
    前記着色層形成工程の前に、前記撥液処理した部位に親
    液処理を施す親液処理工程を有することを特徴とする請
    求項１記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
  3. 【請求項３】 前記着色層形成工程が、前記バンクによ
    り仕切られた領域内に紫外線硬化性樹脂組成物からなる
    着色層形成材料を導入する工程と、前記領域内に紫外線
    を照射することにより、前記着色層形成材料を硬化させ
    ると同時に該領域内の前記撥液処理した部位を親液処理
    する工程を有することを特徴とする請求項１または２の
    いずれかに記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
  4. 【請求項４】 前記着色層形成工程が、前記バンクによ
    り仕切られた領域内に液体の着色層形成材料をインクジ
    ェット法により吐出する工程を有することを特徴とする
    請求項１ないし３のいずれかに記載のカラーフィルタ基
    板の製造方法。
  5. 【請求項５】 前記半透過反射層を形成する液体材料が
    光散乱材を含有してなることを特徴とする請求項１ない
    し４のいずれかに記載のカラーフィルタ基板の製造方
    法。
  6. 【請求項６】 複数の色要素からなる着色層がマトリク
    ス状に形成されてなるカラーフィルタが基板上に形成さ
    れてなるカラーフィルタ基板であって、 前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るための
    バンクと、 前記バンクによって囲まれた領域に形成された、開口部
    を有する半透過反射層と、 前記半透過反射層を覆うように形成された着色層を有す
    ることを特徴とするカラーフィルタ基板。
  7. 【請求項７】 複数の色要素からなる着色層がマトリク
    ス状に形成されてなるカラーフィルタが基板上に形成さ
    れてなるカラーフィルタ基板であって、 前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るための
    バンクと、 前記バンクによって囲まれた領域に形成された、開口部
    を有する半透過反射層と、 前記半透過反射層を覆うように形成された着色層を有
    し、 前記半透過反射層内に光散乱材が含有されていることを
    特徴とするカラーフィルタ基板。
  8. 【請求項８】 複数の色要素からなる着色層がマトリク
    ス状に形成されてなるカラーフィルタが基板上に形成さ
    れてなるカラーフィルタ基板と、対向基板との間に液晶
    が挟持されてなる液晶装置であって、 前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るための
    バンクと、 前記バンクによって囲まれた領域に形成された、開口部
    を有する半透過反射層と、 前記半透過反射層を覆うように形成された前記着色層を
    有することを特徴とする液晶装置。
  9. 【請求項９】 前記対向基板には、前記各着色層に対応
    する画素電極、および該画素電極に接続してなるアクテ
    ィブ素子が形成されてなることを特徴とする請求項８記
    載の液晶装置。
  10. 【請求項１０】 前記着色層上には、透明電極が形成さ
    れてなることを特徴とする請求項８または９のいずれか
    に記載の液晶装置。
  11. 【請求項１１】 複数の色要素からなる着色層がマトリ
    クス状に形成されてなるカラーフィルタが基板上に形成
    されてなるカラーフィルタ基板と、対向基板との間に液
    晶が挟持されてなる液晶装置であって、 前記基板上に設けられた、各着色層ごとに仕切るための
    バンクと、 前記バンクによって囲まれた領域に形成された、開口部
    を有する半透過反射層と、 前記半透過反射層を覆うように形成された前記着色層を
    有し、 前記半透過反射層内に光散乱材が含有されていることを
    特徴とする液晶装置。
  12. 【請求項１２】 前記対向基板には、前記各着色層に対
    応する画素電極、および該画素電極に接続してなるアク
    ティブ素子が形成されてなることを特徴とする請求項１
    １記載の液晶装置。
  13. 【請求項１３】 前記着色層上には、透明電極が形成さ
    れてなることを特徴とする請求項１１または１２のいず
    れかに記載の液晶装置。
  14. 【請求項１４】 請求項８〜１３のいずれかに記載の液
    晶表示装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
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