JP2003115706A - 高周波回路基板 - Google Patents
高周波回路基板Info
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- JP2003115706A JP2003115706A JP2001308003A JP2001308003A JP2003115706A JP 2003115706 A JP2003115706 A JP 2003115706A JP 2001308003 A JP2001308003 A JP 2001308003A JP 2001308003 A JP2001308003 A JP 2001308003A JP 2003115706 A JP2003115706 A JP 2003115706A
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Waveguides (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ストリップ線路を含む高周波回路基板におい
て、ストリップ線路形成後のインピーダンスの制御は容
易でなく、整合回路を設ける必要がある。 【解決手段】 多層基板の内層に配置されるストリップ
導体6と接地導体10との間に分離導体30,32を配
置する。内層と回路基板表面との間を連通するビア2
0,24を設ける。ビア24は分離導体30,32に接
続され、ビア20は接地導体10に接続される。分離導
体30,32は回路基板表面に配置されるビア20,2
4の端部間を短絡することにより、接地される。これに
より、ストリップ導体6と接地導体10との距離が実質
的に縮まり、インピーダンスが低下する。
て、ストリップ線路形成後のインピーダンスの制御は容
易でなく、整合回路を設ける必要がある。 【解決手段】 多層基板の内層に配置されるストリップ
導体6と接地導体10との間に分離導体30,32を配
置する。内層と回路基板表面との間を連通するビア2
0,24を設ける。ビア24は分離導体30,32に接
続され、ビア20は接地導体10に接続される。分離導
体30,32は回路基板表面に配置されるビア20,2
4の端部間を短絡することにより、接地される。これに
より、ストリップ導体6と接地導体10との距離が実質
的に縮まり、インピーダンスが低下する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高周波信号を伝達
するストリップ線路を有した高周波回路基板に関する。
するストリップ線路を有した高周波回路基板に関する。
【0002】
【従来の技術】高周波信号を平面基板上で伝達する技術
としてストリップ線路構造、マイクロストリップ線路構
造などがある。これらの構造はストリップ状の導体(ス
トリップ導体)を高周波信号線として用いるものであ
り、図5はストリップ導体の伸びる方向に垂直な断面で
のマイクロストリップ線路構造の模式的な断面図であ
る。マイクロストリップ線路は、誘電体基板2の上にス
トリップ導体4が形成され、背面に平面導体板6が配置
される。
としてストリップ線路構造、マイクロストリップ線路構
造などがある。これらの構造はストリップ状の導体(ス
トリップ導体)を高周波信号線として用いるものであ
り、図5はストリップ導体の伸びる方向に垂直な断面で
のマイクロストリップ線路構造の模式的な断面図であ
る。マイクロストリップ線路は、誘電体基板2の上にス
トリップ導体4が形成され、背面に平面導体板6が配置
される。
【0003】このマイクロストリップ線路構造では、平
面導体板6は一定電位、例えば接地電位に保たれるこ
と、また誘電体基板の誘電率が空気より大きいことによ
り、ストリップ導体4を伝送される高周波により生じる
電磁波が誘電体基板に閉じ込められ、伝送損失が軽減さ
れ、高周波信号の伝送が可能となる。しかし、ストリッ
プ導体4の上方が開放されている分、次に述べるストリ
ップ線路構造に比較して、電磁波が外部へ放射しやす
く、伝送損失が大きい。その一方で、回路が露出してい
るので、調整や修理が容易であるという利点がある。
面導体板6は一定電位、例えば接地電位に保たれるこ
と、また誘電体基板の誘電率が空気より大きいことによ
り、ストリップ導体4を伝送される高周波により生じる
電磁波が誘電体基板に閉じ込められ、伝送損失が軽減さ
れ、高周波信号の伝送が可能となる。しかし、ストリッ
プ導体4の上方が開放されている分、次に述べるストリ
ップ線路構造に比較して、電磁波が外部へ放射しやす
く、伝送損失が大きい。その一方で、回路が露出してい
るので、調整や修理が容易であるという利点がある。
【0004】一方、図6が、ストリップ導体の伸びる方
向に垂直な断面でのストリップ線路構造の模式的な断面
図である。ストリップ線路は、誘電体基板12の内部に
ストリップ導体14が通され、その誘電体基板12の両
表面にはストリップ導体に沿って平面導体板16が配置
される。平面導体板16は基本的に一定電位に保たれ、
多くの場合は接地電位とされる。ちなみに、2つの平面
導体板16の一方のみが接地され、他方は電源に接続さ
れる場合もある。ストリップ線路は、マイクロストリッ
プ線路に比べ、より強力に誘電体基板12内に電磁波を
閉じ込めることができるため、伝送損失を小さくするこ
とが可能である。さて、電子機器の小型化を図るため
に、多層基板技術を用いて回路基板のサイズを縮小する
ことができる。例えば、この多層基板の内層に高周波の
伝送線路を通す必要がある場合に、ストリップ線路が採
用される。また、低損失であり、また外部からのノイズ
に対するシールド効果の大きいストリップ線路構造が必
要とされる場合に、それを容易に形成する技術として多
層基板技術が採用されるという側面もある。
向に垂直な断面でのストリップ線路構造の模式的な断面
図である。ストリップ線路は、誘電体基板12の内部に
ストリップ導体14が通され、その誘電体基板12の両
表面にはストリップ導体に沿って平面導体板16が配置
される。平面導体板16は基本的に一定電位に保たれ、
多くの場合は接地電位とされる。ちなみに、2つの平面
導体板16の一方のみが接地され、他方は電源に接続さ
れる場合もある。ストリップ線路は、マイクロストリッ
プ線路に比べ、より強力に誘電体基板12内に電磁波を
閉じ込めることができるため、伝送損失を小さくするこ
とが可能である。さて、電子機器の小型化を図るため
に、多層基板技術を用いて回路基板のサイズを縮小する
ことができる。例えば、この多層基板の内層に高周波の
伝送線路を通す必要がある場合に、ストリップ線路が採
用される。また、低損失であり、また外部からのノイズ
に対するシールド効果の大きいストリップ線路構造が必
要とされる場合に、それを容易に形成する技術として多
層基板技術が採用されるという側面もある。
【0005】図7は、ストリップ線路構造の他の形態の
縦断面図である。この形態は、2つの誘電体層12-1,
12-2と3つの配線層とが交互に積層された多層基板で
構成された例を示している。またこの形態では、ストリ
ップ導体14の水平方向の両側にも接地導体18が配置
され、より好適に電磁波が閉じ込められ、一層の低損失
化が可能となる。
縦断面図である。この形態は、2つの誘電体層12-1,
12-2と3つの配線層とが交互に積層された多層基板で
構成された例を示している。またこの形態では、ストリ
ップ導体14の水平方向の両側にも接地導体18が配置
され、より好適に電磁波が閉じ込められ、一層の低損失
化が可能となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ストリップ線路構造
は、上述のように伝送損失が低減される長所がある反
面、ストリップ導体が誘電体基板内に入ってしまうた
め、加工寸法のずれに伴うインピーダンスの誤差を調整
することが難しいという問題があった。
は、上述のように伝送損失が低減される長所がある反
面、ストリップ導体が誘電体基板内に入ってしまうた
め、加工寸法のずれに伴うインピーダンスの誤差を調整
することが難しいという問題があった。
【0007】ストリップ線路構造、マイクロストリップ
線路構造のいずれにおいても、高周波になるほど加工寸
法に対する要求精度が高くなるが、現状の加工技術で
は、目標とする特性を初めから再現性よく実現すること
は困難であるので、線路構造ができあがった後の特性測
定結果に基づく調整が必要となる。調整の仕方として
は、一つには加工寸法のずれを修正するという手法があ
るが、この手法はストリップ導体が露出しているマイク
ロストリップ線路構造においては比較的容易であるのに
対し、ストリップ導体が誘電体基板内部に配置されるス
トリップ線路構造では難しい。そのため、従来、ストリ
ップ線路構造においては、インピーダンス制御のため
に、インダクタンスやキャパシタンスなどの部品を用い
て構成される整合回路を付設することが行われていた。
しかし、かかるインピーダンス整合回路は回路レイアウ
トに本来不要な冗長性を生じる。特に、整合回路は、部
品間を接続するストリップ線路ごとに設ける必要がある
ため、回路の簡素化、及び回路基板の小型・軽量化の障
害となるという問題があった。
線路構造のいずれにおいても、高周波になるほど加工寸
法に対する要求精度が高くなるが、現状の加工技術で
は、目標とする特性を初めから再現性よく実現すること
は困難であるので、線路構造ができあがった後の特性測
定結果に基づく調整が必要となる。調整の仕方として
は、一つには加工寸法のずれを修正するという手法があ
るが、この手法はストリップ導体が露出しているマイク
ロストリップ線路構造においては比較的容易であるのに
対し、ストリップ導体が誘電体基板内部に配置されるス
トリップ線路構造では難しい。そのため、従来、ストリ
ップ線路構造においては、インピーダンス制御のため
に、インダクタンスやキャパシタンスなどの部品を用い
て構成される整合回路を付設することが行われていた。
しかし、かかるインピーダンス整合回路は回路レイアウ
トに本来不要な冗長性を生じる。特に、整合回路は、部
品間を接続するストリップ線路ごとに設ける必要がある
ため、回路の簡素化、及び回路基板の小型・軽量化の障
害となるという問題があった。
【0008】本発明は上記問題点を解消するためになさ
れたもので、ストリップ線路構造におけるインピーダン
スの調整を簡単な構造で、容易に実現できる高周波回路
基板を提供することを目的とする。
れたもので、ストリップ線路構造におけるインピーダン
スの調整を簡単な構造で、容易に実現できる高周波回路
基板を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明に係る高周波回路
基板は、ストリップ導体と接地導体との間の領域に配置
され、前記ストリップ導体及び前記接地導体とは分離し
て形成された分離導体と、前記分離導体と電気的に導通
し、少なくとも一部が誘電体の表面に現れる分離導体端
子と、前記接地導体と電気的に導通し、少なくとも一部
が前記誘電体の表面に現れる接地導体端子とを有し、前
記分離導体をフローティング状態とするか接地状態とす
るかを、前記誘電体表面での前記分離導体端子及び前記
接地導体端子の間の断続によって切り替え可能としたも
のである。
基板は、ストリップ導体と接地導体との間の領域に配置
され、前記ストリップ導体及び前記接地導体とは分離し
て形成された分離導体と、前記分離導体と電気的に導通
し、少なくとも一部が誘電体の表面に現れる分離導体端
子と、前記接地導体と電気的に導通し、少なくとも一部
が前記誘電体の表面に現れる接地導体端子とを有し、前
記分離導体をフローティング状態とするか接地状態とす
るかを、前記誘電体表面での前記分離導体端子及び前記
接地導体端子の間の断続によって切り替え可能としたも
のである。
【0010】接地導体は一定電位の接地状態に保たれ、
ストリップ導体から発せられる電磁波、また外部からの
電磁波に対してシールド効果を発揮するものである。こ
こで接地状態の一定電位は、一般には接地電位である
が、従来のストリップ線路構造と同様、接地電位以外の
一定電位とすることもできる。接地導体の位置は、誘電
体基板の内部及び表面のいずれであってもよい。ストリ
ップ導体が誘電体の内部にあるので、接地導体が誘電体
基板のどの位置にあっても、ストリップ導体と接地導体
との間に位置する分離導体は、基本的に誘電体の内部に
配置される。誘電体の外において分離導体端子がどこに
も電気的に接続されていない状態では、分離導体の電位
はフローティング状態となり、その分離導体はストリッ
プ線路のインピーダンスに影響を与えない。この場合に
は、インピーダンスは、ストリップ導体と、その周囲の
接地導体との位置関係に応じた値となる。一方、分離導
体端子と接地導体端子とを接続すると、分離導体の電位
は接地導体が有する一定電位となり、その分離導体は実
質的に接地導体と同等となる。すなわち、この場合に
は、ストリップ導体に対し接地導体が近づいたこととな
り、その位置関係の変化に応じてインピーダンスが変化
する。このように、本発明によれば、誘電体表面に取り
出された分離導体端子とやはり誘電体表面に配置される
接地導体端子との間を短絡するか開放するかという回路
基板の外側での操作により、インピーダンスを制御する
ことができる。すなわち、誘電体内部に作り込まれたス
トリップ導体や分離導体などの加工寸法を変えるといっ
た作業をすることなく容易にインピーダンスを可変する
ことが可能となる。
ストリップ導体から発せられる電磁波、また外部からの
電磁波に対してシールド効果を発揮するものである。こ
こで接地状態の一定電位は、一般には接地電位である
が、従来のストリップ線路構造と同様、接地電位以外の
一定電位とすることもできる。接地導体の位置は、誘電
体基板の内部及び表面のいずれであってもよい。ストリ
ップ導体が誘電体の内部にあるので、接地導体が誘電体
基板のどの位置にあっても、ストリップ導体と接地導体
との間に位置する分離導体は、基本的に誘電体の内部に
配置される。誘電体の外において分離導体端子がどこに
も電気的に接続されていない状態では、分離導体の電位
はフローティング状態となり、その分離導体はストリッ
プ線路のインピーダンスに影響を与えない。この場合に
は、インピーダンスは、ストリップ導体と、その周囲の
接地導体との位置関係に応じた値となる。一方、分離導
体端子と接地導体端子とを接続すると、分離導体の電位
は接地導体が有する一定電位となり、その分離導体は実
質的に接地導体と同等となる。すなわち、この場合に
は、ストリップ導体に対し接地導体が近づいたこととな
り、その位置関係の変化に応じてインピーダンスが変化
する。このように、本発明によれば、誘電体表面に取り
出された分離導体端子とやはり誘電体表面に配置される
接地導体端子との間を短絡するか開放するかという回路
基板の外側での操作により、インピーダンスを制御する
ことができる。すなわち、誘電体内部に作り込まれたス
トリップ導体や分離導体などの加工寸法を変えるといっ
た作業をすることなく容易にインピーダンスを可変する
ことが可能となる。
【0011】別の本発明に係る高周波回路基板において
は、前記分離導体が複数設けられる。
は、前記分離導体が複数設けられる。
【0012】本発明によれば、複数の分離導体のうち接
地導体に電気的に接続されるものの組み合わせが複数通
り得られ、それに対応してインピーダンスも複数通りに
切り替えることができる。
地導体に電気的に接続されるものの組み合わせが複数通
り得られ、それに対応してインピーダンスも複数通りに
切り替えることができる。
【0013】他の本発明に係る高周波回路基板において
は、前記複数の分離導体は、前記ストリップ導体からの
距離が異なるものを含む。また他の本発明に係る高周波
回路基板においては、前記複数の分離導体は、前記スト
リップ導体に沿った長さが異なるものを含む。
は、前記複数の分離導体は、前記ストリップ導体からの
距離が異なるものを含む。また他の本発明に係る高周波
回路基板においては、前記複数の分離導体は、前記スト
リップ導体に沿った長さが異なるものを含む。
【0014】複数の分離導体のストリップ導体からの距
離が同一であり、かつストリップ導体に沿った長さも同
一である場合には、インピーダンスは基本的に、接地導
体に接続される分離導体の個数によってのみ変化する。
これに対して、ストリップ導体からの距離が異なる分離
導体や、ストリップ導体に沿った長さが異なる分離導体
を設けた場合には、一つの分離導体を接地導体に接続す
る場合でも、その分離導体の選択の仕方によってインピ
ーダンスが異なり、さらに、複数個の分離導体の組み合
わせ方によってもインピーダンスが異なる。すなわち、
少ない分離導体の個数で、より多くのインピーダンスの
値を実現することが可能となり、きめ細かなインピーダ
ンス制御が可能となる。
離が同一であり、かつストリップ導体に沿った長さも同
一である場合には、インピーダンスは基本的に、接地導
体に接続される分離導体の個数によってのみ変化する。
これに対して、ストリップ導体からの距離が異なる分離
導体や、ストリップ導体に沿った長さが異なる分離導体
を設けた場合には、一つの分離導体を接地導体に接続す
る場合でも、その分離導体の選択の仕方によってインピ
ーダンスが異なり、さらに、複数個の分離導体の組み合
わせ方によってもインピーダンスが異なる。すなわち、
少ない分離導体の個数で、より多くのインピーダンスの
値を実現することが可能となり、きめ細かなインピーダ
ンス制御が可能となる。
【0015】本発明の好適な態様は、当該高周波回路基
板が、複数の誘電体層が積層された多層基板であり、前
記分離導体と前記接地導体とが同一の内層に形成される
高周波回路基板である。
板が、複数の誘電体層が積層された多層基板であり、前
記分離導体と前記接地導体とが同一の内層に形成される
高周波回路基板である。
【0016】
【発明の実施の形態】[実施形態1]次に、本発明の実
施形態について図面を参照して説明する。
施形態について図面を参照して説明する。
【0017】図1は、本発明に係る高周波回路基板の一
例であって、ストリップ線路構造が形成された多層基板
の表層及び内層それぞれの模式的な平面図である。図1
(a)は、表層の平面図であり、同図(b)は、内層の
平面図である。多層基板は、複数の誘電体層を積層して
形成され、その上下の表面にそれぞれ設けられる配線層
(表層)と、誘電体層の層間に配置される配線層(内
層)とを備える。また表層には電子部品2,4が搭載さ
れ、これらの端子間を接続するストリップ線路を備え
る。ストリップ線路構造は、内層に配置され高周波信号
を伝達するストリップ導体6と、ストリップ導体6の上
下の配線層にストリップ導体6をカバーするように形成
される接地導体と、ストリップ導体6と同一の内層にス
トリップ導体6の両側に沿って配置される接地導体10
とから構成される。ここでは、ストリップ導体6の上の
接地導体8は、図1(a)に示す表層に形成される。一
方、ストリップ導体6の下の接地導体は、図示されてい
ないが、ストリップ導体6の下の内層又は基板裏面の表
層に形成することができる。これら接地導体は接地電位
とされる。
例であって、ストリップ線路構造が形成された多層基板
の表層及び内層それぞれの模式的な平面図である。図1
(a)は、表層の平面図であり、同図(b)は、内層の
平面図である。多層基板は、複数の誘電体層を積層して
形成され、その上下の表面にそれぞれ設けられる配線層
(表層)と、誘電体層の層間に配置される配線層(内
層)とを備える。また表層には電子部品2,4が搭載さ
れ、これらの端子間を接続するストリップ線路を備え
る。ストリップ線路構造は、内層に配置され高周波信号
を伝達するストリップ導体6と、ストリップ導体6の上
下の配線層にストリップ導体6をカバーするように形成
される接地導体と、ストリップ導体6と同一の内層にス
トリップ導体6の両側に沿って配置される接地導体10
とから構成される。ここでは、ストリップ導体6の上の
接地導体8は、図1(a)に示す表層に形成される。一
方、ストリップ導体6の下の接地導体は、図示されてい
ないが、ストリップ導体6の下の内層又は基板裏面の表
層に形成することができる。これら接地導体は接地電位
とされる。
【0018】ストリップ線路のインピーダンスは、スト
リップ導体6とその周囲の接地導体との位置関係に応じ
て定まる。本回路基板では、ストリップ導体6とその両
側の接地導体10との実質的な位置関係を変化させるこ
とにより、インピーダンスの調整を可能とする。
リップ導体6とその周囲の接地導体との位置関係に応じ
て定まる。本回路基板では、ストリップ導体6とその両
側の接地導体10との実質的な位置関係を変化させるこ
とにより、インピーダンスの調整を可能とする。
【0019】接地導体10のうちストリップ導体6に対
向する部分は凹凸の境界を有し、ストリップ導体6に対
して突き出た凸部分12と、反対に引き込んだ凹部分1
4とが形成される。凸部分12には、内層と表層との間
を連通するビア20が配置される。ビア20の表層側の
端部22は接地導体8の領域内に配置され、ビア20に
よって接地導体10と接地導体8とが電気的に接続さ
れ、同電位に保たれる。
向する部分は凹凸の境界を有し、ストリップ導体6に対
して突き出た凸部分12と、反対に引き込んだ凹部分1
4とが形成される。凸部分12には、内層と表層との間
を連通するビア20が配置される。ビア20の表層側の
端部22は接地導体8の領域内に配置され、ビア20に
よって接地導体10と接地導体8とが電気的に接続さ
れ、同電位に保たれる。
【0020】凹部分14、つまり隣接する凸部分12の
間の接地導体10が存在しない部分にも、内層と表層と
の間を連通するビア24が配置される。ビア24の表層
側の端部26は、接地導体8に接触しないように、接地
導体8に設けられた開口領域内に配置される。ビア24
がどこにも接続されず、フローティングの状態では、ス
トリップ導体6に対する接地導体10の配置は、凸部分
12にてストリップ導体6との距離が小さく、凹部分1
4にてストリップ導体6との距離が大きくなる。
間の接地導体10が存在しない部分にも、内層と表層と
の間を連通するビア24が配置される。ビア24の表層
側の端部26は、接地導体8に接触しないように、接地
導体8に設けられた開口領域内に配置される。ビア24
がどこにも接続されず、フローティングの状態では、ス
トリップ導体6に対する接地導体10の配置は、凸部分
12にてストリップ導体6との距離が小さく、凹部分1
4にてストリップ導体6との距離が大きくなる。
【0021】一方、本回路基板では表層の端部22と端
部26とを、導体部品等で短絡することにより、ビア2
4を接地導体10と同電位とすることができる。この状
態では、ビア24は実質的に接地導体10の一部とな
り、凹部分14におけるストリップ導体6と接地導体1
0との距離は、ビア24がフローティングの状態に比べ
て縮小する。これによりビア24を短絡した状態でのス
トリップ線路のインピーダンスは、ビア24がフローテ
ィング状態でのインピーダンスに比べて小さくなる。凹
部分14及びビア24を図1(b)に示すように複数箇
所に設け、接地導体に短絡されるビア24の個数を変え
ることにより、インピーダンスの変化量を制御すること
ができる。
部26とを、導体部品等で短絡することにより、ビア2
4を接地導体10と同電位とすることができる。この状
態では、ビア24は実質的に接地導体10の一部とな
り、凹部分14におけるストリップ導体6と接地導体1
0との距離は、ビア24がフローティングの状態に比べ
て縮小する。これによりビア24を短絡した状態でのス
トリップ線路のインピーダンスは、ビア24がフローテ
ィング状態でのインピーダンスに比べて小さくなる。凹
部分14及びビア24を図1(b)に示すように複数箇
所に設け、接地導体に短絡されるビア24の個数を変え
ることにより、インピーダンスの変化量を制御すること
ができる。
【0022】[実施形態2]図2は、本発明の第2の実
施形態のストリップ線路の構造を説明する模式図であ
り、ストリップ導体が形成される内層のパターンの平面
図である。本実施形態において、上記実施形態と同様の
構成要素には同一の符号を付し、説明の簡略化を図る。
ストリップ導体6の上の表層にはストリップ導体6をカ
バーする接地導体8が配置され、またストリップ導体6
の下の配線層にも同様の接地導体が配置される。ストリ
ップ導体6の両側には、それぞれ接地導体10との間
に、ストリップ導体6に平行に所定長さを有する導体領
域であって、接地導体10から分離して設けられた分離
導体A,Bが配置される。ここで分離導体A(分離導体
30)とストリップ導体6との距離dAと、分離導体B
(分離導体32)とストリップ導体6との距離dBとは
異なるように形成される。例えば、ここではdA>dBと
する。
施形態のストリップ線路の構造を説明する模式図であ
り、ストリップ導体が形成される内層のパターンの平面
図である。本実施形態において、上記実施形態と同様の
構成要素には同一の符号を付し、説明の簡略化を図る。
ストリップ導体6の上の表層にはストリップ導体6をカ
バーする接地導体8が配置され、またストリップ導体6
の下の配線層にも同様の接地導体が配置される。ストリ
ップ導体6の両側には、それぞれ接地導体10との間
に、ストリップ導体6に平行に所定長さを有する導体領
域であって、接地導体10から分離して設けられた分離
導体A,Bが配置される。ここで分離導体A(分離導体
30)とストリップ導体6との距離dAと、分離導体B
(分離導体32)とストリップ導体6との距離dBとは
異なるように形成される。例えば、ここではdA>dBと
する。
【0023】分離導体A,Bにはビア24が設けられ、
表層にビア24の端部26が配置される。また、接地導
体10にはビア20が設けられ、表層にビア20の端部
が配置される。表層上にて端部22と端部26とを短絡
することにより、ビア20及びビア24を介して、分離
導体A,Bをそれぞれ接地導体10に接続することがで
きる。接地導体10に接続された分離導体A,Bは接地
電位となり、実質的に接地導体10の一部となる。ここ
で、分離導体A,Bのいずれもフローティング状態での
ストリップ線路のインピーダンスをZ0、分離導体Aの
みを接地導体10に接続した状態でのストリップ線路の
インピーダンスをZA、分離導体Bのみを接地導体10
に接続した状態でのストリップ線路のインピーダンスを
ZB、分離導体A,B両方を接地導体10に接続した状
態でのストリップ線路のインピーダンスをZABとする
と、Z0>ZA>ZB>ZABとなる。すなわち、本回路基
板では、接地導体10に接続する分離導体A,Bの組み
合わせに応じて、インピーダンスを多段階に制御するこ
とが可能である。例えば、このインピーダンスの可変範
囲の中央近辺に目標インピーダンスが位置するように設
計することにより、ストリップ線路構造の製造誤差に伴
いインピーダンスが増加した場合も減少した場合も、そ
のインピーダンス誤差を縮小するように調整することが
可能である。各段階のインピーダンスの値は、接地導体
10とストリップ導体6との距離、dA,dB、及び分離
導体A,Bの長さ等を設計パラメータとして、所望の値
に設計される。
表層にビア24の端部26が配置される。また、接地導
体10にはビア20が設けられ、表層にビア20の端部
が配置される。表層上にて端部22と端部26とを短絡
することにより、ビア20及びビア24を介して、分離
導体A,Bをそれぞれ接地導体10に接続することがで
きる。接地導体10に接続された分離導体A,Bは接地
電位となり、実質的に接地導体10の一部となる。ここ
で、分離導体A,Bのいずれもフローティング状態での
ストリップ線路のインピーダンスをZ0、分離導体Aの
みを接地導体10に接続した状態でのストリップ線路の
インピーダンスをZA、分離導体Bのみを接地導体10
に接続した状態でのストリップ線路のインピーダンスを
ZB、分離導体A,B両方を接地導体10に接続した状
態でのストリップ線路のインピーダンスをZABとする
と、Z0>ZA>ZB>ZABとなる。すなわち、本回路基
板では、接地導体10に接続する分離導体A,Bの組み
合わせに応じて、インピーダンスを多段階に制御するこ
とが可能である。例えば、このインピーダンスの可変範
囲の中央近辺に目標インピーダンスが位置するように設
計することにより、ストリップ線路構造の製造誤差に伴
いインピーダンスが増加した場合も減少した場合も、そ
のインピーダンス誤差を縮小するように調整することが
可能である。各段階のインピーダンスの値は、接地導体
10とストリップ導体6との距離、dA,dB、及び分離
導体A,Bの長さ等を設計パラメータとして、所望の値
に設計される。
【0024】なお、ここではストリップ導体6の両側に
それぞれ1つずつ分離導体を配置したが、ストリップ導
体6と接地導体10との間に、ストリップ導体6からの
距離が異なる複数の分離導体を配置することもできる。
これにより、より多段階のインピーダンスの調整が可能
となる。
それぞれ1つずつ分離導体を配置したが、ストリップ導
体6と接地導体10との間に、ストリップ導体6からの
距離が異なる複数の分離導体を配置することもできる。
これにより、より多段階のインピーダンスの調整が可能
となる。
【0025】[実施形態3]図3は、本発明の第3の実
施形態のストリップ線路の構造を説明する模式図であ
り、ストリップ導体が形成される内層のパターンの平面
図である。本実施形態において、上記実施形態と同様の
構成要素には同一の符号を付し、説明の簡略化を図る。
ストリップ導体6の上の表層にはストリップ導体6をカ
バーする接地導体8が配置され、またストリップ導体6
の下の配線層にも同様の接地導体が配置される。ストリ
ップ導体6の両側には、ストリップ導体6から所定距離
の位置に、ストリップ導体6に沿った方向に、接地導体
10、分離導体A,Bが配列される。ここで分離導体A
(分離導体40)のストリップ導体6に対向する辺の長
さLAと、分離導体B(分離導体42)のストリップ導
体6に対向する辺の長さLBとは異なるように形成され
る。例えば、ここではLA<LBとする。
施形態のストリップ線路の構造を説明する模式図であ
り、ストリップ導体が形成される内層のパターンの平面
図である。本実施形態において、上記実施形態と同様の
構成要素には同一の符号を付し、説明の簡略化を図る。
ストリップ導体6の上の表層にはストリップ導体6をカ
バーする接地導体8が配置され、またストリップ導体6
の下の配線層にも同様の接地導体が配置される。ストリ
ップ導体6の両側には、ストリップ導体6から所定距離
の位置に、ストリップ導体6に沿った方向に、接地導体
10、分離導体A,Bが配列される。ここで分離導体A
(分離導体40)のストリップ導体6に対向する辺の長
さLAと、分離導体B(分離導体42)のストリップ導
体6に対向する辺の長さLBとは異なるように形成され
る。例えば、ここではLA<LBとする。
【0026】分離導体A,Bにはビア24が設けられ、
表層にビア24の端部26が配置される。また、接地導
体10にはビア20が設けられ、表層にビア20の端部
が配置される。表層上にて端部22と端部26とを短絡
することにより、ビア20及びビア24を介して、分離
導体A,Bをそれぞれ接地導体10に接続することがで
きる。接地導体10に接続された分離導体A,Bは接地
電位となり、実質的に接地導体10の一部となる。ここ
で、分離導体A,Bのいずれもフローティング状態での
ストリップ線路のインピーダンスをZ0、分離導体Aの
みを接地導体10に接続した状態でのストリップ線路の
インピーダンスをZA、分離導体Bのみを接地導体10
に接続した状態でのストリップ線路のインピーダンスを
ZB、分離導体A,B両方を接地導体10に接続した状
態でのストリップ線路のインピーダンスをZABとする
と、Z0>ZA>ZB>ZABとなる。すなわち、本回路基
板では、接地導体10に接続する分離導体A,Bの組み
合わせに応じて、インピーダンスを多段階に制御するこ
とが可能である。例えば、このインピーダンスの可変範
囲の中央近辺に目標インピーダンスが位置するように設
計することにより、ストリップ線路構造の製造誤差に伴
いインピーダンスが増加した場合も減少した場合も、そ
のインピーダンス誤差を縮小するように調整することが
可能である。各段階のインピーダンスの値は、接地導体
10の長さ、LA,LB、及び接地導体10及び分離導体
A,Bとストリップ導体6との距離等を設計パラメータ
として、所望の値に設計される。
表層にビア24の端部26が配置される。また、接地導
体10にはビア20が設けられ、表層にビア20の端部
が配置される。表層上にて端部22と端部26とを短絡
することにより、ビア20及びビア24を介して、分離
導体A,Bをそれぞれ接地導体10に接続することがで
きる。接地導体10に接続された分離導体A,Bは接地
電位となり、実質的に接地導体10の一部となる。ここ
で、分離導体A,Bのいずれもフローティング状態での
ストリップ線路のインピーダンスをZ0、分離導体Aの
みを接地導体10に接続した状態でのストリップ線路の
インピーダンスをZA、分離導体Bのみを接地導体10
に接続した状態でのストリップ線路のインピーダンスを
ZB、分離導体A,B両方を接地導体10に接続した状
態でのストリップ線路のインピーダンスをZABとする
と、Z0>ZA>ZB>ZABとなる。すなわち、本回路基
板では、接地導体10に接続する分離導体A,Bの組み
合わせに応じて、インピーダンスを多段階に制御するこ
とが可能である。例えば、このインピーダンスの可変範
囲の中央近辺に目標インピーダンスが位置するように設
計することにより、ストリップ線路構造の製造誤差に伴
いインピーダンスが増加した場合も減少した場合も、そ
のインピーダンス誤差を縮小するように調整することが
可能である。各段階のインピーダンスの値は、接地導体
10の長さ、LA,LB、及び接地導体10及び分離導体
A,Bとストリップ導体6との距離等を設計パラメータ
として、所望の値に設計される。
【0027】なお、ここではストリップ導体6の両側に
それぞれ2つの分離導体を配置したが、さらに多くの分
離導体を配置し、より多段階、広範囲のインピーダンス
の調整が可能となる。
それぞれ2つの分離導体を配置したが、さらに多くの分
離導体を配置し、より多段階、広範囲のインピーダンス
の調整が可能となる。
【0028】[実施形態4]図4は、本発明の第4の実
施形態のストリップ線路の構造を説明する模式図であ
り、ストリップ導体が形成される内層のパターンの平面
図である。本実施形態において、上記実施形態と同様の
構成要素には同一の符号を付し、説明の簡略化を図る。
上記第2の実施形態は、ストリップ導体6との距離が異
なる分離導体を設けて、インピーダンスを制御する構成
であり、第3の実施形態は、分離導体の長さが異なる分
離導体を設けてインピーダンスを制御する構成であっ
た。本実施形態は、これら第2、第3の実施形態を組み
合わせたものであり、ストリップ導体6に沿った長さ及
び距離の双方を変えた分離導体をストリップ導体6の両
側に複数配置する構成である。
施形態のストリップ線路の構造を説明する模式図であ
り、ストリップ導体が形成される内層のパターンの平面
図である。本実施形態において、上記実施形態と同様の
構成要素には同一の符号を付し、説明の簡略化を図る。
上記第2の実施形態は、ストリップ導体6との距離が異
なる分離導体を設けて、インピーダンスを制御する構成
であり、第3の実施形態は、分離導体の長さが異なる分
離導体を設けてインピーダンスを制御する構成であっ
た。本実施形態は、これら第2、第3の実施形態を組み
合わせたものであり、ストリップ導体6に沿った長さ及
び距離の双方を変えた分離導体をストリップ導体6の両
側に複数配置する構成である。
【0029】ストリップ導体6の一方の側には、接地導
体10との間に分離導体A1,A2,A3が配置され、他
方の側には、接地導体10との間に分離導体B1,B2,
B3が配置される。ここで、分離導体A1,A2,A3とス
トリップ導体6との距離はdA、それぞれのストリップ
導体6に対向する辺の長さはL1,L2,L3(L1>L2
>L3)に設定され、分離導体B1,B2,B3とストリッ
プ導体6との距離はdB(dA>dB)、それぞれのスト
リップ導体6に対向する辺の長さはL1,L2,L 3に設
定される。これら複数の分離導体のうち接地導体10に
接続するものの組み合わせを変えることによって、スト
リップ線路のインピーダンスを多段階、すなわちきめ細
かに調整することが可能となる。
体10との間に分離導体A1,A2,A3が配置され、他
方の側には、接地導体10との間に分離導体B1,B2,
B3が配置される。ここで、分離導体A1,A2,A3とス
トリップ導体6との距離はdA、それぞれのストリップ
導体6に対向する辺の長さはL1,L2,L3(L1>L2
>L3)に設定され、分離導体B1,B2,B3とストリッ
プ導体6との距離はdB(dA>dB)、それぞれのスト
リップ導体6に対向する辺の長さはL1,L2,L 3に設
定される。これら複数の分離導体のうち接地導体10に
接続するものの組み合わせを変えることによって、スト
リップ線路のインピーダンスを多段階、すなわちきめ細
かに調整することが可能となる。
【0030】
【発明の効果】本発明の高周波回路基板によれば、スト
リップ導体が誘電体内部に配置されるストリップ線路を
形成した後において、誘電体内部に配置した分離導体
を、回路基板表面に設けられた端子を短絡して接地する
という簡単な方法で、ストリップ線路のインピーダンス
を可変できる効果がある。これにより、回路基板上に整
合回路を設ける必要がなくなり、回路基板の小型・軽量
化が可能となる効果がある。
リップ導体が誘電体内部に配置されるストリップ線路を
形成した後において、誘電体内部に配置した分離導体
を、回路基板表面に設けられた端子を短絡して接地する
という簡単な方法で、ストリップ線路のインピーダンス
を可変できる効果がある。これにより、回路基板上に整
合回路を設ける必要がなくなり、回路基板の小型・軽量
化が可能となる効果がある。
【図1】 本発明の第1の実施形態に係る高周波回路基
板のレイアウトを示す模式図である。
板のレイアウトを示す模式図である。
【図2】 本発明の第2の実施形態のストリップ線路の
構造を説明する模式図であり、ストリップ導体が形成さ
れる内層のパターンの平面図である。
構造を説明する模式図であり、ストリップ導体が形成さ
れる内層のパターンの平面図である。
【図3】 本発明の第3の実施形態のストリップ線路の
構造を説明する模式図であり、ストリップ導体が形成さ
れる内層のパターンの平面図である。
構造を説明する模式図であり、ストリップ導体が形成さ
れる内層のパターンの平面図である。
【図4】 本発明の第4の実施形態のストリップ線路の
構造を説明する模式図であり、ストリップ導体が形成さ
れる内層のパターンの平面図である。
構造を説明する模式図であり、ストリップ導体が形成さ
れる内層のパターンの平面図である。
【図5】 ストリップ導体の伸びる方向に垂直な断面で
のマイクロストリップ線路の一般構造を示す模式的な断
面図である。
のマイクロストリップ線路の一般構造を示す模式的な断
面図である。
【図6】 ストリップ導体の伸びる方向に垂直な断面で
のストリップ線路の一般構造を示す模式的な断面図であ
る。
のストリップ線路の一般構造を示す模式的な断面図であ
る。
【図7】 ストリップ導体の伸びる方向に垂直な断面で
のストリップ線路の他の一般構造を示す模式的な断面図
である。
のストリップ線路の他の一般構造を示す模式的な断面図
である。
1 ストリップ導体、8,10 接地導体、20,24
ビア、22,26端部、30,32,40,42 分
離導体。
ビア、22,26端部、30,32,40,42 分
離導体。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 5E317 AA02 AA04 AA24 GG11
5E338 AA03 BB13 CC02 CC06 CC09
EE11
5E346 AA12 AA13 AA15 AA32 AA33
AA43 AA51 BB02 BB04 BB06
BB07 BB11 BB16 HH03
5J014 CA01 CA56 CA57
Claims (5)
- 【請求項1】 誘電体の内部に配置され高周波信号を伝
達するストリップ導体と、前記ストリップ導体に沿って
配置され一定電位を与えられる接地導体とを含んで構成
されるストリップ線路構造を有する高周波回路基板にお
いて、 前記ストリップ導体と前記接地導体との間の領域に配置
され、前記ストリップ導体及び前記接地導体とは分離し
て形成された分離導体と、 前記分離導体と電気的に導通し、少なくとも一部が前記
誘電体の表面に現れる分離導体端子と、 前記接地導体と電気的に導通し、少なくとも一部が前記
誘電体の表面に現れる接地導体端子と、 を有し、前記分離導体をフローティング状態とするか接
地状態とするかを、前記誘電体表面での前記分離導体端
子及び前記接地導体端子の間の断続によって切り替え可
能としたことを特徴とする高周波回路基板。 - 【請求項2】 請求項1記載の高周波回路基板におい
て、 前記分離導体は複数設けられることを特徴とする高周波
回路基板。 - 【請求項3】 請求項2記載の高周波回路基板におい
て、 前記複数の分離導体は、前記ストリップ導体からの距離
が異なるものを含むことを特徴とする高周波回路基板。 - 【請求項4】 請求項2又は請求項3に記載の高周波回
路基板において、 前記複数の分離導体は、前記ストリップ導体に沿った長
さが異なるものを含むことを特徴とする高周波回路基
板。 - 【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
の高周波回路基板において、 当該高周波回路基板は、複数の誘電体層が積層された多
層基板であり、 前記分離導体と前記接地導体とは同一の内層に形成され
ること、 を特徴とする高周波回路基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001308003A JP2003115706A (ja) | 2001-10-03 | 2001-10-03 | 高周波回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001308003A JP2003115706A (ja) | 2001-10-03 | 2001-10-03 | 高周波回路基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003115706A true JP2003115706A (ja) | 2003-04-18 |
Family
ID=19127372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001308003A Pending JP2003115706A (ja) | 2001-10-03 | 2001-10-03 | 高周波回路基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003115706A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007072066A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Sanyo Epson Imaging Devices Corp | 電気光学装置及び電子機器、インターフェース基板 |
| JP2008134620A (ja) * | 2007-10-19 | 2008-06-12 | Epson Imaging Devices Corp | インターフェース基板、電気光学装置及び電子機器 |
| CN102791074A (zh) * | 2011-05-19 | 2012-11-21 | 株式会社藤仓 | 柔性印刷电路及其制造方法 |
| JP2014175513A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-09-22 | Seiko Epson Corp | 実装基板、センサーユニット、電子機器および運動体 |
-
2001
- 2001-10-03 JP JP2001308003A patent/JP2003115706A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007072066A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Sanyo Epson Imaging Devices Corp | 電気光学装置及び電子機器、インターフェース基板 |
| US7554643B2 (en) | 2005-09-06 | 2009-06-30 | Epson Imaging Devices Corporation | Electro-optical device, electronic apparatus, and interface board |
| CN101329455B (zh) * | 2005-09-06 | 2012-03-14 | 索尼公司 | 电光装置和电子设备 |
| JP2008134620A (ja) * | 2007-10-19 | 2008-06-12 | Epson Imaging Devices Corp | インターフェース基板、電気光学装置及び電子機器 |
| CN102791074A (zh) * | 2011-05-19 | 2012-11-21 | 株式会社藤仓 | 柔性印刷电路及其制造方法 |
| JP2012243923A (ja) * | 2011-05-19 | 2012-12-10 | Fujikura Ltd | フレキシブルプリント回路及びその製造方法 |
| JP2014175513A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-09-22 | Seiko Epson Corp | 実装基板、センサーユニット、電子機器および運動体 |
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