JP2003113123A - スチレンモノマーの製造方法 - Google Patents
スチレンモノマーの製造方法Info
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Abstract
接触させてスチレンを製造する方法において、触媒能に
優れた触媒を用いて工業的に有利なスチレンモノマーの
製造方法を提供する。 【解決手段】エチルベンゼンを二酸化炭素含有ガスの存
在下、(1)酸化バナジウム、(2)酸化ケイ素、所望
により(3)無機担体、(4)アルカリ金属成分を含む
触媒に接触させる。
Description
らスチレンモノマーを製造する方法に関するものであ
る。
じめ各種の高分子化合物の原料となる重要な物質であ
る。現在、スチレンモノマーの工業的な製造法として
は、エチルベンゼンと水蒸気の混合気体(水蒸気/エチル
ベンゼン=7〜12)を、酸化鉄及び酸化カリウムからな
る触媒に600〜650℃の温度で接触させる方法が採
用されている(触媒、Vol.38 No.7 (1996)
572-579)。しかし、この方法は、水蒸気の製造
に多大なエネルギーが必要であり、また触媒成分のカリ
ウムが揮散しやすいなどの問題を有している。近年、水
蒸気に代えて二酸化炭素を用いることにより大幅な省エ
ネルギーにつながるという試算結果が報告されている。
従来の工業触媒はこのような二酸化炭素共存下では大幅
に触媒活性が低下するので新たな触媒開発が必要とされ
る。最近、バナジウム/酸化マグネシウム触媒(Sakura
i他;Chemistry Letters,2000,526)及びバナジウム/
活性炭触媒(Sakurai他;Applied Catalysis:A,192,(2
000)281)などの有効触媒が提案されているが、その触媒
活性、触媒寿命に更なる改善の余地があった。
な、エチルベンゼンを二酸化炭素の存在下、触媒と接触
させてスチレンを製造する方法において、更なる触媒能
に優れた触媒を用いて工業的に有利なスチレンモノマー
の製造方法を提供することを目的とする。
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明によれば、第一に、エチル
ベンゼンを二酸化炭素含有ガスの存在下、下記触媒に接
触させることを特徴とするスチレンモノマーの製造方法
が提供される。 (1)バナジウム酸化物 (2)酸化ケイ素 第二に、上記触媒に更に下記成分の少なくと一種を添加
することを特徴とするスチレンモノマーの製造方法が提
供される。 (3)無機担体 (4)アルカリ金属成分
する。本発明に係る触媒の第1成分は、バナジウム酸化
物である。バナジウム酸化物は2〜5価の酸化状態をと
ることが出来るが、酸化状態は特に限定されない。また
その結晶構造も特に限定されず、非晶質であってもかま
わない。このようなバナジウム酸化物としては、V2O5、
V2O3などが挙げられる。酸化バナジウム成分の原料はバ
ナジン酸アンモニウムなど容易に入手できる試薬類を用
いることができる。
有率)は特に限定されるものではないが、好ましい範囲
は触媒重量に対してV2O5換算で0.1重量%〜30重量%で
ある。特に好ましい範囲は1〜10重量%である。少なす
ぎれば目的の活性を得られず、多すぎれば目的以外の副
反応の進行および原料コストの上昇をまねく。
である。酸化ケイ素成分の原料は、珪酸ナトリウム、コ
ロイダルシリカ、シリカゲルなど容易に入手できる試
薬、前駆体類を用いることができる。第2成分の酸化ケ
イ素の含有量(含有率)は特に限定されるものではない
が、好ましい範囲は触媒重量に対して10〜99.9重量%で
ある。特に好ましい範囲は50〜90重量%である。また、
この酸化ケイ素と後記する無機担体成分の比率は特に限
定されない。好ましい範囲は重量比において酸化ケイ素
1に対して0〜20である。特に好ましくは2〜10である。
成分は、無機担体である。このような無機担体として
は、たとえば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、
ゼオライト、酸化ジルコニウム、活性炭など触媒の担体
として広く一般的に用いられている物質が挙げられる。
前記の例示に限定されない。また、形状、結晶構造、表
面積などの物性は特に限定されない。このような無機担
体は市販品およびアルミナゾルから調製したものなどの
容易に入手、製造できるものを用いることができる。
成分はアルカリ金属化合物である。アルカリ金属成分は
酸化物が望ましいが限定されない、硝酸塩、酢酸塩など
容易に入手可能な試薬が原料として用いられる。調製方
法、原料などは前記の例示に限定されない。アルカリ金
属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ムなどが挙げられる。
塩、硫酸塩、有機酸塩、水酸化物等を用い、共沈法、含
浸法、混合法、逐次沈殿法、アルコキシド法等の公知の
方法により、あるいはこれらの方法を組み合わせること
によって製造できる。得られる触媒の結晶構造は特に限
定されない。複合酸化物などとしての特定の結晶構造を
示しても良いし、非晶質でもよい。
後、空気中で焼成することにより触媒成分を安定な酸化
物の状態にすることが望ましい。この場合、焼成温度は
特に限定しないが、300〜1000℃の範囲が好まし
く、600〜800℃の範囲が特に好ましい。また、こ
の触媒は、活性が低下した後、空気中または酸素中で加
熱することにより再生が可能である。再生時の加熱温度
は300℃以上が好ましく、さらに好ましくは500〜
800℃で、加熱時間は特に限定しないが好ましくは1
0分〜10時間である。
記の4成分のみに限定されず、たとえば触媒の機械的強
度を高める目的などで適宜他の成分、例えば粘土鉱物等
を加えてもよい。
ルベンゼンは、特に高純度である必要はなく、触媒毒に
ならない成分であれば少量の不純物を含んでいてもよ
い。また、本発明の反応において使用される二酸化炭素
含有ガスは二酸化炭素ガス単独でもよいし他の共存ガス
と混合されていても良い。
素、ヘリウム・アルゴンなどの不活性ガス、酸素、一酸
化炭素、水蒸気、火力発電所などから出る燃焼排ガスの
なかから少なくともひとつ選ばれたガス等が挙げられ
る。特に好ましいのは不活性ガスおよび窒素であるがこ
れに限定されるものではなく、前記の例示にも限定され
ない。また、本発明において用いられる二酸化炭素含有
ガスは、NOx、SOx等の環境汚染物質を含まないほうがよ
り望ましいが、これらの汚染物質の除去処理は必ずしも
必要とされない。二酸化炭素含有ガスの使用量は、エチ
ルベンゼン1モル当り、0.1〜100モル、好ましく
は1〜20モルの割合である。
ないが、300〜800℃の範囲、好ましくは450〜
650℃である。反応温度が高すぎると目的生成物への
選択率の低下、触媒上への炭素析出が顕著になり、低す
ぎると十分な転化率が得られない。
ずれの方式でも行なうことができる。触媒の粒子径、形
状は反応器の形式に応じて任意に選択できる。また、反
応圧力は、加圧、常圧、減圧いずれでも実施できるが、
0.2〜1.5気圧(絶対圧力)の範囲が特に好まし
い。反応圧が0.2気圧未満では減圧状態を維持するた
めにエネルギー消費量が大きくなり、1.5気圧を超え
ると熱力学的制約からスチレンモノマーの収率が低下す
る。なお、前記したように、本発明の触媒は、一定時間
使用後に活性が低下した場合、空気中で再度焼成するこ
とにより活性を回復させることができる。
する。
となるように計算された量のバナジン酸アンモニウム、
およびバナジン酸アンモニウムと等モル量の蓚酸を溶解
した水溶液に酸化アルミニウム(触媒学会参照触媒JRC-A
LO4同等品)、および酸化アルミニウム1gに対して2.5ml
のコロイダルシリカ(コロイド状酸化ケイ素・日産化学
製スノーテックス)を分散し、充分撹拌した後、真空乾
燥し、触媒前駆体を得た。これを空気中750℃で5時間焼
成し触媒を得た。1.4gの触媒を用い常圧流通系反応装置
でエチルベンゼンに対して11倍(モル比)のCO2を同伴ガ
スとして反応温度550度で反応を行った。エチルベンゼ
ン供給速度は0.5mmol/minであった。生成物の分析定量
はFID-ガスクロマトグラフを用いた。結果を表1に示
す。スチレン選択率は92〜97%の間で推移した。活性維
持率は((6時間後の収率)/(25分後の収率))×100の計算
式で求めた。
製し、反応、分析定量を行った。結果を表1に示す。ス
チレン選択率は実施例1とほぼ同様に92〜97%の間で推
移した。実施例1と比較例1の比較により、酸化ケイ素
を添加した触媒は初期活性においてわずかに劣るが、2
時間10分後にわずかに上回り、6時間後は大きく上回っ
た。この比較より実施例1で示した触媒が優れた触媒で
あることが明確に示された。活性維持率を比較しても実
施例1に示した触媒が極めて優れた特性をもっているこ
とがわかる。
れた触媒として報告されているV/MgO触媒を調製し反応
に用いた。調製法は酸化マグネシウム1g に対してバナ
ジウム原子1ミリモルとなるように計算された量のバナ
ジン酸アンモニウム、およびバナジン酸アンモニウムと
等モル量の蓚酸水溶液に溶解した液に酸化マグネシウム
(硝酸マグネシウムを焼成して調製)を分散し、充分撹拌
した後、真空乾燥し、触媒前駆体を得た。これを空気中
750℃で5時間焼成し触媒を得た。反応条件は実施例1と
同様に行った。結果を表1に示す。スチレン選択率は92
〜97%の間で推移した。実施例1との比較で実施例1の
触媒がスチレン収率および活性維持率において大きく優
れていることが明確に示された。
化炭素の存在下触媒と接触させてスチレンモノマーを製
造するに当り、前記した初期活性が高く、また安定な触
媒活性保持率を示す触媒を用いたことにより、スチレン
モノマーを工業的有利に製造することができる。しか
も、従来行なわれているような水蒸気を使用する方法で
はないので、水蒸気製造のための多大なエネルギー消費
を必要としない。
Claims (2)
- 【請求項1】エチルベンゼンを二酸化炭素含有ガスの存
在下、下記触媒に接触させることを特徴とするスチレン
モノマーの製造方法。 (1)バナジウム酸化物 (2)酸化ケイ素 - 【請求項2】上記触媒に更に下記成分の少なくと一種を
添加することを特徴とする請求項1記載のスチレンモノ
マーの製造方法。 (3)無機担体 (4)アルカリ金属成分
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JP2001305983A JP3882071B2 (ja) | 2001-10-02 | 2001-10-02 | スチレンモノマーの製造方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103121918A (zh) * | 2011-11-18 | 2013-05-29 | 中国石油化工股份有限公司 | Co2气氛下的乙苯脱氢反应方法 |
-
2001
- 2001-10-02 JP JP2001305983A patent/JP3882071B2/ja not_active Expired - Lifetime
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