JP2003107500A - 電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 封止材が基板間の奥に入り込んでも画像の表
示品位が劣化しない電気光学装置、電子機器、および電
気光学装置の製造方法を提供すること。 【解決手段】 液晶装置１において、光反射性電極４１
を備える第１の電極パターン４０を、注入口３２および
その周辺領域３２０を避けるように形成する。従って、
第１の透光性基板１０の側から封止材３１に紫外光を照
射して封止材３１を硬化させる際、封止材３１の一部が
封止材３１′として基板間の奥まで入り込んいても、こ
のような封止材３１′にも、紫外光は、光反射性電極４
１で遮られることなく十分に届くため、封止材３１′を
確実に硬化させることができる。従って、封止材３１′
から溶出した未硬化成分が液晶５に混入して液晶５のし
きい値電圧を変動させるという不具合を回避することが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の基板間に液
晶などの電気光学物質を保持した電気光学装置、この電
気光学装置を用いた電子機器、および電気光学装置の製
造方法に関するものである。さらに詳しくは、一対の基
板間に電気光学物質を注入するための注入口に対する封
止技術に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、携帯電話機、モバイルコンピュー
タなどといった電子機器の表示部として、液晶装置など
の電気光学装置が広く用いられており、液晶装置は、例
えば、図１３ないし図１５に示すように構成される。

【０００３】図１３は、従来の液晶装置の分解斜視図で
ある。図１４（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１３に示す
液晶装置を、図１３のＩＩ−ＩＩ′線で示す縦方向のう
ち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩ
Ｉ′側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で
切断したときのＩＩ′側端部の断面図である。図１５
は、図１３に示す液晶装置に用いた第１の透光性基板の
平面図である。

【０００４】図１３に示すように、液晶装置１Ａは、矩
形のガラスなどからなる第１の透光性基板１０と、同じ
く矩形のガラスなどからなる第２の透光性基板２０と、
第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０とを貼り
合せるシール材３０と、このシール材３０で区画された
液晶封入領域３５内に保持された液晶５と、シール材３
０の途切れ部分からなる注入口３２を封止する光硬化性
の封止材３１とを有している。液晶装置１Ａでは、シー
ル材３０で区画された液晶封入領域３５の内側のうち、
電子機器において枠体の開口（図示せず）などで規定さ
れる部分が、利用者に画像を表示する画像表示領域２と
して利用される。

【０００５】ここに示す液晶装置１Ａは、パッシブマト
リクス型であり、第１の透光性基板１０には、画像表示
領域２で縦方向にストライプ状に延びた第１の電極パタ
ーン４０が形成されている一方、第２の透光性基板２０
には、画像表示領域２で横方向にストライプ状に延びた
第２の電極パターン５０が形成されている。

【０００６】液晶装置１Ａを反射型に構成する場合に
は、第１の透光性基板１０に形成する第１の電極パター
ン４０については、例えば、図１４（Ａ）に示すよう
に、光反射性を備えた金属膜からなる光反射性電極４１
と、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜な
どといった導電性金属酸化膜からなる透光性電極４２と
の２層構造にする。但し、本形態では、液晶装置１を半
透過・半反射型に構成することを目的に、第１の電極パ
ターン４０については光反射性電極４１と透光性電極４
２との２層構造にするとともに、第１の電極パターン４
０において第２の電極パターン５０と交差する部分の光
反射性電極４１に対してはスリット状の開口などを形成
することにより、光反射性電極４１に光反射性および透
光性を付与してある。また、液晶装置１Ａを半透過・半
反射型に構成する場合には、光反射性電極４１を薄くす
ることにより、光反射性および透光性を付与することも
ある。なお、第１の透光性基板１０には、第１の電極パ
ターン４０の上層側に配向膜１２が形成されている。

【０００７】これに対して、液晶装置１Ａを透過型、反
射型、および半透過・半反射型のいずれのタイプに構成
する場合も、第２の透光性基板２０に形成する第２の電
極パターン５０については、第１の電極パターン４０の
透光性電極４２と同様、ＩＴＯ膜からなる透光性電極で
形成する。

【０００８】ここで、第２の透光性基板２０には、第１
の電極パターン４０と第２の電極パターン５０とが対向
する領域を囲むように、ブラックマトリクスなどと称せ
られる遮光膜２３が形成されている。また、第２の透光
性基板２０には、第１の電極パターン４０と第２の電極
パターン５０とが対向する領域に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）のカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが形成さ
れ、これらのカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの表面側
に、絶縁性の平坦化膜１１、第２の電極パターン５０、
および配向膜２２がこの順に形成されている。

【０００９】なお、本形態の液晶装置１Ａは、半透過・
半反射型であるので、図１３に示すように、第１の透明
基板１０の外側表面には偏光板６１が貼られ、第２の透
明基板２０の外側表面には偏光板６２が貼られている。
また、第１の透明基板１０の外側にはバックライト装置
９が配置されている。

【００１０】このように構成した液晶装置１Ａを製造す
る際には、第１の透光性基板１０および第２の透光性基
板２０の各々に、第１の電極パターン４０および第２の
電極パターン５０などを形成した後、第１の透光性基板
１０および第２の透光性基板２０の一方にシール材３０
を環状に塗布し、このシール材３０を介して第１の透光
性基板１０と第２の透光性基板２０とを貼り合わせる。
この状態において、第１の透光性基板１０の基板辺１０
２が位置する側では、シール材３０の途切れ部分によっ
て、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０との
間で開口する注入口３２が形成されている。従って、図
１４（Ｂ）に矢印Ａで示すように、注入口３２から液晶
封入領域３５内に液晶５を注入した後、注入口３２に対
して光硬化性の封止材３１を塗布し、しかる後に、矢印
ＵＶで示すように、第１の透光性基板１０の側から封止
材３１に紫外光を照射して封止材３１を硬化させれば、
注入口３２を封止することができる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】図１４（Ｂ）に示すよ
うに、液晶装置１Ａの製造工程において、注入口３２に
対して光硬化性の封止材３１を塗布したとき、その一部
が封止材３１′（点線で示す）として基板間の奥まで入
り込んでしまうことがある。このような封止材３１′も
硬化すれば、以下に説明するような不具合を発生させる
ことはないが、従来の液晶装置１Ａでは、紫外光が光反
射性電極４１に遮られて、基板間の奥まで入り込んだ封
止材３１′にまで十分に届かず、封止材３１′が硬化し
ない。このため、従来の液晶装置１Ａでは、封止材３
１′から溶出した未硬化成分が液晶５に混入して液晶５
のしきい値電圧を変動させ、表示の品位を低下させると
いう問題点がある。

【００１２】すなわち、液晶装置１Ａでは、画像表示領
域２の縁部分でも品位の高い表示を行えるように、画像
表示領域２の外側領域６にも所定の幅にわたって第１の
電極パターン４０および第２の電極パターン５０を形成
し、画像表示領域２の外側領域６でも液晶５を駆動する
ようになっているが、この部分の液晶５にしきい値電圧
の変動が発生していると、それに起因する配向の乱れが
画像表示領域２の内側に位置する液晶５の配向状態にも
影響を及ぼす。その結果、画像表示領域２で表示された
画像の品位が低下してしまうのである。

【００１３】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
封止材が基板間の奥に入り込んでも画像の表示品位が劣
化しない電気光学装置、電子機器、および電気光学装置
の製造方法に関するものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、光反射性電極が形成された第１の透光
性基板と、カラーフィルタおよび透光性電極が形成され
た第２の透光性基板と、前記第１の透光性基板と前記第
２の透光性基板とを貼り合せ、注入口としての途切れ部
分を備えるシール材と、該シール材で区画された領域内
に保持された電気光学物質と、前記注入口を封止する光
硬化性の封止材とを有する電気光学装置において、前記
カラーフィルタおよび前記光反射性電極のうちの少なく
も一方は、前記注入口およびその周辺領域を避けるよう
に構成されていることを特徴とする。

【００１５】また、本発明では、光反射性電極が形成さ
れた第１の透光性基板と、カラーフィルタおよび透光性
電極が形成された第２の透光性基板とをシール材によっ
て貼り合せる貼り合わせ工程と、当該シール材の途切れ
部分からなる注入口から前記シール材で区画された領域
内に電気光学物質を注入する注入工程と、前記注入口に
対して光硬化性の封止材を塗布した後、前記封止材に光
照射して当該封止材を硬化させる封止工程とを有する電
気光学装置の製造方法において、前記カラーフィルタお
よび前記光反射性電極のうちの少なくも一方について
は、前記注入口およびその周辺領域を避けるように構成
しておくことを特徴とする。

【００１６】本発明では、光反射性電極、あるいはカラ
ーフィルタが注入口およびその周辺領域を避けるように
形成されているので、注入口に塗布した封止材に光照射
して封止材を硬化させる際、注入口付近で基板間の奥に
入り込んだ封止材についても光が十分、届く。このた
め、基板間の奥に入り込んだ封止材についても確実に硬
化させることができる。従って、封止材から溶出した未
硬化成分が電気光学物質に混ざり込んでそのしきい値電
圧を変動させるなどといった不具合を回避できる。それ
故、封止材の未硬化に起因する画像の品位の低下を確実
に防止することができる。

【００１７】本発明においては、前記カラーフィルタお
よび前記光反射性電極のうち、例えば、前記光反射性電
極の方を前記注入口およびその周辺領域を避けるように
形成しておく。この場合、前記封止工程では、前記第１
の透光性基板および前記第２の透光性基板のうち、前記
第１の透光性基板の側から前記封止材に向けて光を照射
する。

【００１８】本発明に係る電気光学装置の製造方法にお
いて、前記封止工程では、前記第１の透光性基板および
前記第２の透光性基板の側端面に対向する側から前記封
止材に向けて光を照射してもよい。このような方向から
光を照射した場合、基板の側端面から基板内に入射した
光は、基板内を伝搬しながら基板間に出射される。ここ
に、本発明では、注入口およびその周辺領域を避けるよ
うに光反射性電極あるいはカラーフィルタが形成されて
いるので、基板内を伝搬した光は、注入口およびその周
辺領域においても基板間に出射される。従って、光が基
板間の奥に入り込んだ封止材にも十分、届くので、この
ような封止材についても確実に硬化させることができ
る。

【００１９】本発明において、前記第１の透光性基板で
は、画像表示領域から前記注入口が形成されている基板
辺に向かって前記光反射性電極がストライプ状に延びて
いる場合があり、この場合には、前記画像表示領域から
前記基板辺側に位置する外側領域への前記光反射性電極
のはみ出し寸法を、前記注入口およびその周辺領域では
それに隣接する領域に比較して短くすれば、前記光反射
性電極を前記注入口およびその周辺領域を避けるように
形成することができる。

【００２０】本発明において、前記反射性電極は、例え
ば、金属膜からなる。例えば、前記反射性電極は、少な
くとも銀、白金および銅を含む合金からなる。

【００２１】本発明において、前記反射性電極の上層側
には、前記第２の透光性基板側に形成されている透光性
電極と同一材料からなる透光性電極が積層されているこ
とが好ましい。このように構成すると、第１の透光性基
板と第２の透光性基板において、同一の材料からなる電
極間に電気光学物質が挟まれた構成になるので、電気光
学物質に分極配向などが発生しない。

【００２２】本発明は、前記電気光学物質として液晶を
用いた電気光学装置に適用すると、特に効果的である。
各種の電気光学物質のうち、液晶の場合には、印加した
電場によってその配向状態を制御することにより、光変
調を行って画像を表示するため、画像表示領域の外側領
域において液晶の配向状態が乱れると、その影響が画像
表示領域内の液晶の配向状態にまで及びやすい傾向にあ
る。しかるに本発明では、基板間の奥に入り込んだ封止
材から溶出した未硬化成分が液晶に混ざり込むことがな
いので、このような未硬化成分の混入に起因する液晶の
配向不良が画像表示領域の外側領域で発生しない。それ
故、液晶装置において、封止材の未硬化に起因する画像
の品位の低下を防止することができる。

【００２３】本発明を適用した電気光学装置は、例え
ば、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった各
種電子機器の表示部として用いられる。

【００２４】

【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明の実施の
形態を説明する。なお、以下に実施形態を説明するにあ
たっては、各種の液晶装置のうち、パッシブマトリクス
方式の液晶装置を例に説明する。

【００２５】［実施の形態１］図１および図２はそれぞ
れ、本発明の実施の形態１に係る液晶装置の斜視図、お
よび分解斜視図である。図３（Ａ）、（Ｂ）はそれぞ
れ、図１に示す液晶装置を、図１のＩ−Ｉ′線で示す縦
方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断した
ときのＩ′側端部の断面図、および液晶の注入口を通る
位置で切断したときのＩ′側端部の断面図である。図４
は、図１に示す液晶装置に用いた第１の透光性基板の平
面図である。なお、図１および図２などには、電極パタ
ーンおよび端子などを模式的に示してあるだけであり、
実際の液晶装置では、より多数の電極パターンや端子が
形成されている。

【００２６】図１および図２に示すように、液晶装置１
は、矩形のガラスなどからなる第１の透光性基板１０
と、同じく矩形のガラスなどからなる第２の透光性基板
２０と、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０
とを貼り合せるシール材３０と、このシール材３０で区
画された液晶封入領域３５内に保持された電気光学物質
としての液晶５と、シール材３０の途切れ部分からなる
注入口３２を封止する光硬化性の封止材３１とを有して
いる。液晶装置１では、シール材３０で区画された液晶
封入領域３５の内側のうち、電子機器において枠体３の
開口４などで規定される部分が、利用者に画像を表示す
る画像表示領域２として利用される。

【００２７】ここに示す液晶装置１Ａは、パッシブマト
リクス型であり、第１の透光性基板１０および第２の透
光性基板２０のうち、第１の透光性基板１０には、画像
表示領域２で縦方向にストライプ状に延びた第１の電極
パターン４０が形成されている。一方、第２の透光性基
板２０には、画像表示領域２で横方向にストライプ状に
延びた第２の電極パターン５０が形成されている。

【００２８】液晶装置１を反射型に構成する場合には、
第１の透光性基板１０に形成する第１の電極パターン４
０については、図３（Ａ）に示すように、光反射性を備
えた金属膜からなる光反射性電極４１と、ＩＴＯ膜など
といった導電性金属酸化膜からなる透光性電極４２との
２層構造にする。但し、本形態では、液晶装置１を半透
過・半反射型に構成することを目的に、第１の電極パタ
ーン４０については、光反射性電極４１と透光性電極４
２との２層構造にするとともに、第１の電極パターン４
０において第２の電極パターン５０と交差する部分の光
反射性電極４１に対してはスリット状の開口などを形成
することにより、光反射性電極４１に光反射性および透
光性を付与してある。また、液晶装置１Ａを半透過・半
反射型に構成する場合には、光反射性電極４１を薄くし
て、光反射性および透光性を付与することもある。な
お、第１の透光性基板１０には、第１の電極パターン４
０の上層側に配向膜１２が形成されている。

【００２９】ここで、光反射性電極４２は、アルミニウ
ム膜、あるいは銀−白金−銅合金（ＡＰＣ）膜などとい
った金属膜から構成することができる。

【００３０】これに対して、液晶装置１を透過型、反射
型、および半透過・半反射型のいずれのタイプに構成す
る場合も、第２の透光性基板２０に形成する第２の電極
パターン５０については、第１の電極パターン４０の透
光性電極４２と同様、ＩＴＯ膜からなる透光性電極で構
成してある。

【００３１】従って、本形態の液晶装置１において、第
１の電極パターン４０および第２の電極パターン５０で
互いに対向する電極は、同一の材料から構成されている
ので、液晶５が分極配向するなどの問題を解消すること
ができる。

【００３２】ここで、第２の透光性基板２０には、第１
の電極パターン４０と第２の電極パターン５０とが対向
する領域を囲むように、ブラックマトリクスなどと称せ
られる遮光膜２３が形成されている。また、第２の透光
性基板２０には、第１の電極パターン４０と第２の電極
パターン５０とが対向する領域に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）のカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが形成さ
れ、これらのカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの表面側
に、絶縁性の平坦化膜１１、第２の電極パターン５０お
よび配向膜２２がこの順に形成されている。

【００３３】なお、本形態の液晶装置１Ａは、半透過・
半反射型であるので、図１および図２に示すように、第
１の透明基板１０の外側表面には偏光板６１が貼られ、
第２の透明基板２０の外側表面には偏光板６２が貼られ
ている。また、第１の透明基板１０の外側にはバックラ
イト装置９が配置されている。

【００３４】（電極パターンおよび端子の構成）再び図
１および図２において、本形態の液晶装置１では、第１
の透光性基板１０としては、第２の透光性基板２０より
も大きな基板が用いられ、第１の透光性基板１０と第２
の透光性基板２０とを貼り合わせたときに第２の透光性
基板１０の基板辺２０１から第１の透光性基板１０が張
り出す部分１５を利用して、駆動用ＩＣ７が実装されて
いるとともに、フレキシブル基板９０が接続されてい
る。また、第２の透光性基板の基板辺２０１、および第
１の透光性基板１０において第２の透光性基板２０の基
板辺２０１と重なる部分には、基板間導通用端子６０、
７０が形成されており、第１の透光性基板１０と第２の
透光性基板２０とを貼り合せた状態で、基板間導通用端
子６０、７０同士は、後述する導電材によって電気的に
接続し、基板間の導通が行われる。

【００３５】従って、フレキシブル基板９０から第１の
透光性基板１０に実装されている駆動用ＩＣ７に信号入
力すると、駆動用IＣ７から第１の電極パターン４０に
画像信号が入力されるとともに、駆動用ＩＣ７から出力
された走査信号は、基板間導通用端子６０、７０を介し
て第２の透光性基板２０に形成されている第２の電極パ
ターン５０に供給される。従って、画像信号および走査
信号によって、第１の電極パターン４０と第２の電極パ
ターン５０との間に位置する液晶５の配向状態を制御す
ることができるので、画像表示領域２において所定の画
像をカラー表示することができる。

【００３６】このような液晶装置１では、画像表示領域
２の縁部分でも品位の高い表示を行えるように、図３
（Ａ）、（Ｂ）および図４に示すように、画像表示領域
２の外側領域６にも所定の幅にわたって第１の電極パタ
ーン４０および第２の電極パターン５０が形成され、画
像表示領域２の外側領域６でも液晶５が駆動される。

【００３７】但し、本形態では、図３（Ｂ）および図４
に示すように、第１の電極パターン４０は、光反射性電
極４１および透光性電極４２のいずれもが、注入口３２
およびその周辺領域３２０を避けるように構成されてい
る。すなわち、第１の透光性基板１０では、画像表示領
域２から注入口３２が形成されている基板辺１０２に向
かって画像表示領域２の外側領域６にはみ出すように第
１の電極パターン４０がストライプ状に延びているが、
第１の電極パターン４０のうち、画像表示領域２から注
入口３２およびその周辺領域３２０に向かう第１の電極
パターン４０Ａの外側領域６へのはみ出し寸法は、それ
に隣接する領域に向かう第１の電極パターン４０Ｂの外
側領域６へのはみ出し寸法と比較して短い。それ故、第
１の透光性基板１０において、注入口３２および周辺領
域３２０には、第１の電極パターン４０（光反射性電極
４１および透光性電極４２）が形成されていない。

【００３８】（液晶装置１の製造方法）図５および図６
は、それぞれ液晶装置１の製造方法を示す工程図、およ
び説明図である。図７（Ａ）は、液晶装置１の製造方法
において行う液晶注入工程の説明図、図７（Ｂ）は、こ
の液晶注入工程に続いて行う封止工程の説明図である。

【００３９】本形態の液晶装置１を製造するにあたっ
て、第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０
はいずれも、図５および図６に示す工程（Ａ）におい
て、これらの基板１０、２０を各々、多数枚取りできる
大型基板の状態で、図３（Ａ）、（Ｂ）を参照して説明
した遮光膜２３、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ、平
坦化膜２１（いずれも図示せず）、電極パターン４０、
５０などの形成工程が行われる。なお、液晶装置１を製
造するにあたっては、単品の液晶装置１に対応したサイ
ズに第１および第２の透光性基板１０、２０を切り出し
た後、これらの基板１０、２０の各々に電極パターン４
０、５０などを形成する方法を採用することもあるが、
いずれの方法も基本的な内容が同様であるため、以下の
説明では、そのサイズに関わらず、一対の基板を第１の
透光性基板１０および第２の透光性基板２０として説明
する。

【００４０】次に、図５および図６に示す工程（Ｂ）に
おいて、各大型の基板１０、２０の各々に対して、配向
膜１２、２２の形成およびラビング工程を行った後、図
５および図６に示す工程（Ｃ）において、例えば、第１
の透光性基板１０にシール材３０を塗布する一方、第２
の透光性基板２００にギャップ材を散布する。ここで、
シール材３０は、図２に示すように、液晶封入領域３５
を区画し、かつ、途切れ部分によって注入口３２を形成
するように塗布する。

【００４１】次に、図５および図６に示す工程（Ｄ）に
おいて、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０
とを所定の位置関係をもって貼り合わせて大型のパネル
３００を形成する（貼り合わせ工程）。

【００４２】このように構成した大型のパネル３００か
ら図１および図２を参照して説明した単品の液晶装置１
を得るには、まず、図５および図６に示す工程（Ｅ）に
おいて、大型のパネル３０に対する切断工程（１次ブレ
イク工程）として、第１および第２の透光性基板１０、
２０に対して、スクライブ溝３０２をそれぞれ切断予定
線３０１の全体、あるいはその両端部に形成した後、各
透光性基板１０、２０に対して切断予定線３０１に沿っ
て、所定の押圧治具を裏面側から押し当てて機械的応力
を加える、あるいはレーザ光を照射することにより、大
型のパネル３００を短冊状のパネル４００に切断する。

【００４３】この状態において、短冊状のパネル４００
の切断部分（側端面）には、図７（Ａ）に示すように、
単品の液晶装置用のパネル１′として切り出される領域
毎に、注入口３２が開口しているので、図５および図６
に示す工程（Ｆ）において、注入口３２からパネル１′
内に液晶３６を注入する（液晶注入工程）。

【００４４】次に、図７（Ｂ）に示すように、注入口３
２に対して、アクリル系樹脂などとった光硬化性の封止
材３１を塗布した後、第１の透光性基板１０の面外方向
から封止材３１に対してＵＶ光（矢印Ｌで示す）を所定
のパワー密度で照射して、封止材３１を硬化させる（封
止工程）。

【００４５】次に、図５および図６に示す工程（Ｇ）に
おいて、短冊状のパネル４００に対する切断工程（２次
ブレイク工程）として、第１および第２の透光性基板１
０、２０に対して、スクライブ溝４０２をそれぞれ切断
予定線４０１の全体、あるいはその両端部に形成した
後、各透光性基板１０、２０に対して切断予定線４０１
に沿って、所定の押圧治具を裏面側から押し当てて機械
的応力を加える、あるいはレーザ光を照射することによ
り、短冊状のパネル４００を単品のパネル１′に切断す
る。

【００４６】なお、単品のパネル１′については、図１
および図２に示すように、第２の透光性基板２０を第１
の透光性基板１０よりも小さ目に仕上げて、各端子領域
を露出させる必要があるので、第２の透光性基板２０の
切断予定線４０３の全体、あるいはその両端部にスクラ
イブ溝４０４を形成した後、切断予定線４０３に沿っ
て、所定の押圧治具を裏面側から押し当てて機械的応力
を加える、あるいはレーザ光を照射することにより、第
２の透光性基板２０から不要な部分を除去して、第１の
透光性基板１０から端子領域を露出させる（短冊からの
除材工程）。

【００４７】しかる後には、図５および図６に示す工程
（Ｈ）において、駆動用ＩＣ７やフレキシブル基板９０
などの実装を行って液晶装置１を完成させる。

【００４８】このように、本形態の液晶装置１およびそ
の製造方法では、第１の電極パターン４０は、図３
（Ｂ）および図４に示すように、注入口３２およびその
周辺領域３２０を避けるように形成されているので、図
３（Ｂ）および図７（Ｂ）に示すように、第１の透光性
基板１０の側から封止材３１に紫外光を照射して封止材
３１を硬化させる際、図３（Ｂ）に示すように、封止材
３１の一部が封止材３１′（点線で示す）として基板間
の奥まで入り込んでいても、このような封止材３１′に
対して、紫外光は、光反射性電極４１で遮られることな
く十分に届く。このため、基板間の奥まで入り込んだ封
止材３１′を確実に硬化させることができる。従って、
封止材３１′から溶出した未硬化成分が液晶５に混入し
て液晶５のしきい値電圧を変動させるという不具合を回
避することができる。よって、封止材３１の未硬化に起
因する画像の品位の低下を確実に防止することができ
る。

【００４９】しかも、注入口３２およびその周辺領域３
２０を避けるように第１の電極パターン４０を形成して
も、第１の透光性基板１０において、第１の電極パター
ン４０が形成されていない領域は、あくまで画像表示領
域２の外側領域６の極めて狭い領域であるため、第１の
電極パターン４０がなくても表示品位が低下することは
ない。

【００５０】［実施の形態２］図８（Ａ）、（Ｂ）はそ
れぞれ、本発明の実施の形態２に係る液晶装置を、図１
のＩ−Ｉ′線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を
避けた位置で切断したときのＩ′側端部の断面図、およ
び液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩ′側端部
の断面図である。

【００５１】上記実施形態では、図７（Ｂ）に示すよう
に、封止工程において、注入口３２に対して光硬化性の
封止材３１を塗布した後、第１の透光性基板１０の側か
ら封止材３１に紫外光を照射して封止材３１を硬化させ
たが、図８（Ａ）、（Ｂ）に示すように、注入口３２に
対して光硬化性の封止材３１を塗布した後、矢印ＵＶで
示すように、第２の透光性基板２０の側から封止材３１
に紫外光を照射して封止材３１を硬化させてもよい。

【００５２】このような封止工程を採用するにあたっ
て、本形態では、遮光膜２３、カラーフィルタ７Ｒ、７
Ｇ、７Ｂ、および第２の電極パターン５０については、
注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように形
成しておく。その他の構成は、実施の形態１と同様であ
るため、共通する機能を有する部分には、同一の符号を
付して図８（Ａ）、（Ｂ）に示すことにして、それらの
説明を省略する。

【００５３】このように構成すると、封止工程におい
て、第２の透光性基板２０の側から光照射して封止材３
１を硬化させる際、注入口３２付近で基板間の奥に入り
込んだ封止材３１′に対しても、紫外光は、遮光膜２３
やカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂで吸収、減衰するこ
となく、十分に照射されるので、基板間の奥に入り込ん
だ封止材３１′についても確実に硬化させることができ
る。それ故、封止材３１′から未硬化成分などが液晶に
混ざり込んでそのしきい値電圧を変動させるという不具
合を回避できる。それ故、封止材３１の未硬化に起因す
る画像の品位の低下を確実に防止することができる。

【００５４】また、注入口３２およびその周辺領域３２
０を避けるように遮光膜２３、カラーフィルタ７Ｒ、７
Ｇ、７Ｂ、および第２の電極パターン５０を形成して
も、これらの要素が形成されていない領域は、あくまで
画像表示領域２の外側領域６の極めて狭い領域であるた
め、表示品位が低下することはない。

【００５５】［実施の形態３］図９（Ａ）、（Ｂ）はそ
れぞれ、本発明の実施の形態３に係る液晶装置を、図１
のＩ−Ｉ′線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を
避けた位置で切断したときのＩ′側端部の断面図、およ
び液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩ′側端部
の断面図である。

【００５６】上記実施形態１、２では、第１の透光性基
板１０の側、あるいは第２の透光性基板２０の側から紫
外光を照射し、かつ、第１の電極パターン４０、あるい
はカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂや遮光膜２３につい
ては、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるよ
うに形成した構成であったが、本形態では、図９
（Ａ）、（Ｂ）に示すように、注入口３２に封止材３１
を塗布した後、矢印ＵＶで示すように、第１の透光性基
板１０および第２の透光性基板２０の面内方向（短冊状
パネル４００の側端面４１０に対向する方向）から光照
射して封止材３１を硬化させる封止工程を採用し、か
つ、実施の形態１、２で説明したように、第１の電極パ
ターン４０、あるいはカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ
や遮光膜２３については、注入口３２およびその周辺領
域３２０を避けるように形成した構成を採用している。
その他の構成は、実施の形態１、２と同様であるため、
共通する機能を有する部分には、同一の符号を付して図
９（Ａ）、（Ｂ）に示すことにして、それらの説明を省
略する。

【００５７】本形態のように、第１の透光性基板１０お
よび第２の透光性基板２０の面内方向（短冊状パネル４
００の側端面４１０に対向する方向）から紫外光を照射
した場合、第１の透光性基板１０および第２の透光性基
板２０の側端面から基板内に入射した紫外光は、基板内
を伝搬しながら、基板間に出射される。この際に、注入
口３２およびその周辺領域３２０を避けるように、第１
の電極パターン４０、あるいはカラーフィルタ７Ｒ、７
Ｇ、７Ｂや遮光膜２３を形成しておくと、基板内を伝搬
した光は、注入口３２およびその周辺領域３２０におい
ても基板間に出射され、基板間の奥に入り込んだ封止材
３１′に紫外光が十分に照射される。従って、注入口３
２付近で基板間の奥に入り込んだ封止材３１′について
も確実に硬化させることができるので、封止材３１′か
ら溶出した未硬化成分が液晶に混ざり込んでそのしきい
値電圧を変動させるという不具合を回避できる。

【００５８】［その他の実施の形態］上記の形態では、
パッシブマトリクス型の液晶装置１に本発明を適用した
例を説明したが、能動素子としてＴＦＤ素子を用いたア
クティブマトリクス方式の液晶装置、あるいは能動素子
として薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス
方式の液晶装置等々、各種の液晶装置の製造に本発明を
適用してもよい。

【００５９】［電子機器の実施形態］図１０は、本発明
に係る液晶装置（液晶装置１）を各種の電子機器の表示
装置として用いる場合の一実施形態を示している。ここ
に示す電子機器は、表示情報出力源７０、表示情報処理
回路７１、電源回路７２、タイミングジェネレータ７
３、そして液晶装置７４を有する。また、液晶装置７４
は、液晶表示パネル７５および駆動回路７６を有する。
液晶装置７４および液晶パネル７５としては、前述した
液晶装置１、および単品のパネル１′を用いることがで
きる。

【００６０】表示情報出力源７０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ
Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ
Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリ、各種
ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像
信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェ
ネレータ７３によって生成された各種のクロック信号に
基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示
情報を表示情報処理回路７１に供給する。

【００６１】表示情報処理回路７１は、シリアル−パラ
レル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各
種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、そ
の画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路７６へ
供給する。電源回路７２は、各構成要素に所定の電圧を
供給する。

【００６２】図１１は、本発明に係る電子機器の一実施
形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示し
ている。ここに示すパーソナルコンピュータ８０は、キ
ーボード８６を備えた本体部８７と、液晶表示ユニット
８８とを有する。液晶表示ユニット８８は、前述した液
晶装置１を含んで構成される。

【００６３】図１２は、本発明に係る電子機器の他の実
施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯
電話機９０は、複数の操作ボタン９１と、液晶装置から
なる液晶装置１を有している。

【００６４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、光反
射性電極、あるいはカラーフィルタが注入口およびその
周辺領域を避けるように形成されているので、注入口に
塗布した封止材に光照射して封止材を硬化させる際、注
入口付近で基板間の奥に入り込んだ封止材についても確
実に硬化させることができる。従って、封止材から未硬
化成分などが電気光学物質に混ざり込んでそのしきい値
電圧を変動させるという不具合を回避できる。それ故、
封止材の未硬化に起因する画像の品位の低下を確実に防
止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１に係る液晶装置の斜視図
である。

【図２】図１に示す液晶装置の分解斜視図である。

【図３】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１に示す液晶装
置を、図１のＩ−Ｉ′線で示す縦方向のうち、液晶の注
入口周辺を避けた位置で切断したときのＩ′側端部の断
面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときの
Ｉ′側端部の断面図である。

【図４】図１に示す液晶装置に用いた第１の透光性基板
の平面図である。

【図５】図１に示す液晶装置の製造方法を示す工程図で
ある。

【図６】図１に示す液晶装置の製造方法を示す説明図で
ある。

【図７】（Ａ）は、図１に示す液晶装置の製造方法にお
いて行う液晶注入工程の説明図、（Ｂ）は、この液晶注
入工程に続いて行う塗布工程および硬化工程の説明図で
ある。

【図８】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態２に係る液晶装置を、図１のＩ−Ｉ′線で示す縦方向
のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したとき
のＩ′側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置
で切断したときのＩ′側端部の断面図である。

【図９】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態３に係る液晶装置を、図１のＩ−Ｉ′線で示す縦方向
のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したとき
のＩ′側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置
で切断したときのＩ′側端部の断面図である。

【図１０】本発明に係る液晶装置を用いた各種電子機器
の構成を示すブロック図である。

【図１１】本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一
実施形態としてのモバイル型のパーソナルコンピュータ
を示す説明図である。

【図１２】本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一
実施形態としての携帯電話機の説明図である。

【図１３】従来の液晶装置の分解斜視図である。

【図１４】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１３に示す液
晶装置を図１３のＩＩ−ＩＩ′線で示す方向のうち、液
晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩＩ′側
端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断し
たときのＩＩ′側端部の断面図である。

【図１５】図１３に示す液晶装置に用いた第１の透光性
基板の平面図である。

【符号の説明】

１ 液晶装置（電気光学装置） ２ 画像表示領域 ６ 画像表示領域の外側領域 ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ カラーフィルタ １０ 第１の透光性基板 ２０ 第２の透光性基板 ２３ 遮光膜 ３０ シール材 ３１ 封止材（光硬化性材料） ３１′ 奥まで入り込んだ封止材 ３２ 注入口 ３５ 液晶封入領域 ３６ 液晶（電気光学物質） ４０ 第１の電極パターン ４１ 光反射性電極 ４２ 透光性電極 ５０ 第２の電極パターン ３２０ 注入口の周辺領域 ４００ 短冊状のパネル ４１０ パネルの側端面

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光反射性電極が形成された第１の透光性
   基板と、カラーフィルタおよび透光性電極が形成された
   第２の透光性基板と、前記第１の透光性基板と前記第２
   の透光性基板とを貼り合せるとともに、注入口としての
   途切れ部分を備えるシール材と、該シール材で区画され
   た領域内に保持された電気光学物質と、前記注入口を封
   止する光硬化性の封止材とを有する電気光学装置におい
   て、 前記カラーフィルタおよび前記光反射性電極のうちの少
   なくも一方は、前記注入口およびその周辺領域を避ける
   ように形成されていることを特徴とする電気光学装置。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記カラーフィルタ
   および前記光反射性電極のうち、前記光反射性電極が前
   記注入口およびその周辺領域を避けるように形成されて
   いることを特徴とする電気光学装置。
3. 【請求項３】 請求項２において、前記第１の透光性基
   板では、画像表示領域から前記注入口が形成されている
   基板辺に向かって前記光反射性電極がストライプ状に延
   びており、 前記画像表示領域から前記基板辺側に位置する外側領域
   への前記光反射性電極のはみ出し寸法が、前記注入口お
   よびその周辺領域ではそれに隣接する領域に比較して短
   いことにより、前記光反射性電極が前記注入口およびそ
   の周辺領域を避けるように形成されていることを特徴と
   する電気光学装置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかにおいて、
   前記反射性電極は、金属膜からなることを特徴とする電
   気光学装置。
5. 【請求項５】 請求項４において、前記反射性電極は、
   少なくとも銀、白金および銅を含む合金からなることを
   特徴とする電気光学装置。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかにおいて、
   前記反射性電極の上層側には、前記第２の透光性基板側
   に形成されている前記透光性電極と同一材料からなる透
   光性電極が積層されていることを特徴とする電気光学装
   置。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかにおいて、
   前記電気光学物質は、液晶であることを特徴とする電気
   光学装置。
8. 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれかに規定する
   電気光学装置を表示部として備えていることを特徴とす
   る電子機器。
9. 【請求項９】 光反射性電極が形成された第１の透光性
   基板と、カラーフィルタおよび透光性電極が形成された
   第１の透光性基板とをシール材によって貼り合せる貼り
   合わせ工程と、 前記シール材の途切れ部分からなる注入口から前記シー
   ル材で区画された領域内に電気光学物質を注入する注入
   工程と、 前記注入口に対して光硬化性の封止材を塗布した後、前
   記封止材に光照射して当該封止材を硬化させる封止工程
   とを有する電気光学装置の製造方法において、 前記カラーフィルタおよび前記光反射性電極のうちの少
   なくも一方については、前記注入口およびその周辺領域
   を避けるように形成しておくことを特徴とする電気光学
   装置の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項９において、前記カラーフィル
    タおよび前記光反射性電極のうち、前記光反射性電極を
    前記注入口およびその周辺領域を避けるように形成して
    おくことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
11. 【請求項１１】 請求項１０において、前記封止工程で
    は、前記第１の透光性基板および前記第２の透光性基板
    のうち、前記第１の透光性基板の側から前記封止材に向
    けて光を照射することを特徴とする電気光学装置の製造
    方法。
12. 【請求項１２】 請求項９または１０において、前記封
    止工程では、前記第１の透光性基板および前記第２の透
    光性基板の側端面に対向する側から前記封止材に向けて
    光を照射することを特徴とする電気光学装置の製造方
    法。
13. 【請求項１３】 請求項９ないし１２のいずれかにおい
    て、前記電気光学物質は、液晶であることを特徴とする
    電気光学装置の製造方法。