JP2002098981A - 液晶装置およびその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶パネルを構成する一対の基板間に額縁状に
形成されたシール材の、液晶注入用の開口部を光硬化型
樹脂からなる封止材で封止する際に、紫外線照射による
液晶の劣化を防止できるようにする。 【解決手段】少なくとも一方の基板は、この基板を平面
視したときに、封止材３２と封止材３２に隣接するシー
ル材３０の一部とを含む第１の領域６１と、第１の領域
６１に隣接しており、第１の領域６１よりも紫外線透過
率が低い第２の領域５０を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置およびそ
の製造方法、並びに本発明の液晶装置を搭載した電子機
器に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータ、携帯電
話機、腕時計等の電子機器や投射型表示装置、各種モニ
タ装置等の分野で情報を表示する手段として液晶装置が
広く使用されている。液晶装置は液晶パネルと駆動用電
気回路とからなるが、この内、液晶パネルは一般に、離
間して対向配置された一対の基板の内側面上に液晶駆動
用の電極と配向膜とを形成し、対向する配向膜の間隙に
液晶を充填した構成を有している。前記配向膜は液晶分
子を所定の方向に配向させるために設けられ、ポリイミ
ド樹脂等の分子配向性を有する材料をそれぞれの基板の
内側面の最上層に塗布し、配向処理を行って形成され
る。前記基板の周縁部には双方の基板に挟持されて額縁
状にシール材が設けられ、このシール材が液晶の漏出を
防止している。また液晶が充填される間隙には必要なら
間隙幅を維持するためにスペーサが散布される。

【０００３】液晶は、未硬化のシール材を額縁状にパタ
ーニングした後でこの額縁内に滴下し、その後に双方の
基板を重ね合わせることにより充填する方法もあるが、
従来多く用いられている方法によれば、シール材のパタ
ーニングの際にシールパターンの一部位に開口部を設け
ておき、双方の基板を重ね合わせてシール材を硬化させ
た後、開口部から液晶を真空法等により間隙内に吸入充
填し、その後に開口部を封止することにより充填され
る。開口部の封止は、一般に、紫外線硬化型樹脂からな
る封止材を開口部に塗布した後、紫外線を照射して封止
材を硬化させることによって行われる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、紫外線
を照射して封止材を硬化させる際に、紫外線が基板間に
充填されている液晶層にまで達して液晶の分解が発生
し、その結果、特に開口部の周辺部など、紫外線照射を
受けた部分で液晶パネルの特性が劣化するという問題が
あった。

【０００５】本発明は前記の課題を解決するためになさ
れたものであって、開口部封止時の紫外線照射による液
晶の劣化を防止できるようにした液晶装置およびその製
造方法、並びにこの液晶装置を組み込んだ電子機器を提
供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
めに本発明は、離間して対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板を貼り合わせるとともに該基板間で額縁
状に形成されその一部位に開口部を有するシール材と、
前記一対の基板間でシール材によって囲まれた間隙（以
下「セル」という）に注入された液晶とを有する液晶装
置であって、前記開口部を封止する光硬化型樹脂からな
る封止材を有し、前記一対の基板の少なくとも一方の基
板は、この基板を平面視したときに、前記封止材と該封
止材に隣接する前記シール材の一部とを含む第１の領域
と、該第１の領域に隣接しており、該第１の領域よりも
紫外線透過率が低い第２の領域を有することを特徴とす
る液晶装置である。本発明によれば、基板の第１の領域
よりも第２の領域の方が紫外線透過率が低いので、封止
材に対して紫外線を照射した際に、第１の領域内の封止
材へは紫外線が透過しても、第２の領域内の液晶への紫
外線の透過は抑えられる。したがって、封止材およびそ
の周辺にのみ選択的に紫外線を照射して、紫外線による
液晶の劣化を防止しつつ封止材を硬化させることが可能
である。したがって、紫外線による液晶の劣化を防止し
つつ封止材を硬化させることができるので、液晶の劣化
に起因する表示ムラ、焼き付き、クロストークの発生や
コントラストの低下が防止され、高コントラストで、視
認性に優れた液晶装置が得られる。

【０００７】前記第２の領域は、３３０nm以下の波長域
における紫外線透過率が１０％以下であることが好まし
い。あるいは３５０nm以下の波長域における紫外線透過
率が１０％以下とされていれば更に好ましい。ここでの
所定の波長域における紫外線透過率とは該波長域におけ
る平均透過率をいう。前記に関して、照射光の波長が液
晶の劣化に及ぼす影響を調査した結果、例えばモニタ用
ＴＦＴなどで一般的に使用される液晶に関しては、３３
０nm以下の波長域において分解が生じることがわかっ
た。また、３３０nm以下の紫外線透過率が１０％以下で
あると、紫外線照射時の液晶パネルの特性低下を防止す
るうえで好ましいことがわかった。一方、携帯電話など
低消費電力を要求される用途に使用される低電圧液晶に
関しては、３５０nm以下の波長域において分解が生じる
ことがわかった。また３５０nm以下の紫外線透過率が１
０％以下であると、紫外線照射時の液晶パネルの特性低
下を防止するうえで好ましいことがわかった。従って前
記第２の領域において３３０nm以下の波長域での紫外線
透過率が１０％以下であれば、モニタ用ＴＦＴなどで一
般的に使用される液晶を用いる場合に、紫外線による液
晶の劣化を効果的に防止することができる。また３５０
nm以下の波長域での紫外線透過率が１０％以下であれ
ば、一般的に使用される液晶を用いる場合および低電圧
液晶を用いる場合に、紫外線による液晶の劣化を効果的
に防止することができる。具体的に前記第２の領域は、
基板の内側面上または外側面上に紫外線透過率が低い膜
を設けることによって形成することができる。ここで、
本発明における紫外線透過率が低い膜とは、膜を形成す
ることによって３３０nm以下の紫外線透過率を１０％以
下、もしくは３５０nm以下の紫外線透過率を１０％以下
とし得る膜であり、以下この膜を紫外線遮断膜という。
本発明における紫外線遮断膜には、紫外線吸収膜や紫外
線反射膜が含まれる。紫外線遮断膜を基板の内側面上に
設けるか、または外側面上に設けるか、あるいは一方の
基板にのみ設けるか両方の基板に設けるかは、紫外線の
照射方向に応じて設定する必要がある。すなわち、封止
材に対する紫外線照射を一方の基板側から行う場合に
は、紫外線遮断膜は、少なくとも照射側の基板の内側面
上または外側面上に設ければよい。両方の基板の内側面
上または外側面上に設ければ、両方の基板側からそれぞ
れ紫外線を照射することが可能であり、封止材を均一に
硬化させるうえで好ましい。また基板の端面のうち、開
口部が設けられている側の端面側から封止材に紫外線を
照射してもよく、この場合には両方の基板の内側面上に
紫外線遮断膜を設ける。

【０００８】前記の紫外線遮断膜は、無機膜より形成さ
れていてもよい。前記紫外線遮断膜の例としては、例え
ば、酸化インジウム、酸化バナジウム、酸化チタン、酸
化亜鉛等を挙げることができる。前記紫外線遮断膜は、
例えば、スパッタ、ＣＤＶ法等により形成することがで
きる。また、前記紫外線遮断膜は、屈折率が異なる複数
の無機膜を積層して形成されていてもよい。前記紫外線
遮断膜の例としては、例えば酸化チタン、酸化ジルコニ
ア等の高屈折率膜と酸化珪素、フッ化マグネシウム等の
低屈折率膜を複数層積層したもの、を挙げることができ
る。前記紫外線遮断膜は、例えばスパッタ法により、酸
化チタンと酸化珪素を３〜１０層程度積層する事により
形成することができる。また前記の紫外線遮断膜は、有
機樹脂膜により形成されていてもよい。 前記紫外線遮
断膜の例としては、例えばベンゾトリアゾール系の紫外
線を吸収する有機化合物を挙げることができる。前記紫
外線遮断膜は、例えば有機溶剤にベンゾトリアゾール系
の有機化合物を混合したものを塗布することにより形成
することができる。また前記紫外線遮断膜は、無機膜と
有機樹脂膜とを積層して形成されていてもよい。 前記
紫外線遮断膜の例としては、例えば酸化チタン、酸化ジ
ルコニア、酸化珪素、フッ化マグネシウム等の無機膜と
ベンゾトリアゾール系の有機化合物を積層したものを挙
げることができる。前記紫外線遮断膜は、例えば前記無
機膜はスパッタもしくはＣＶＤにより形成、有機化合物
膜は有機溶剤にベンゾトリアゾール系等の有機化合物を
混合したものを塗布することにより形成することができ
る。

【０００９】前記基板を平面視したとき、前記第１の領
域と第２の領域との境界線から第１の領域内のシール材
に至るまでの距離が２ｍｍ以下であることが好ましい。
第１の領域内にも液晶は存在するが、この第１の領域内
において液晶が存在している部分が幅２ｍｍ以下であれ
ば、この部分の液晶に紫外線が照射されても液晶パネル
特性に悪影響が生じる心配がない。前記基板を平面視し
たときに、前記第１の領域の周囲のうちの３方が前記第
２の領域によって囲まれるように構成すれば、紫外線が
透過する第１の領域を必要最小限に小さくすることがで
きる。前記第１の領域が、前記基板の一端部の帯状領域
であり、該基板の残り全部が前記第２の領域である構成
とすれば、第２の領域の形状が単純であるので形成が容
易であるとともに、広い範囲の液晶が第２の領域によっ
て紫外線から保護される。前記第１の領域が、前記基板
の一端部の帯状領域であり、該帯状の第１の領域に隣接
する帯状領域が前記第２の領域である構成とすれば、第
２の領域の形状が単純かつ小さいので形成が容易であ
り、遮光マスクを併用することにより広い範囲の液晶を
保護することができる。また液晶パネルの表示領域に第
２の領域が存在しない構成とすることが可能である。

【００１０】本発明はまた、離間して対向配置された一
対の基板と、前記一対の基板を貼り合わせるとともに該
基板間で額縁状に形成されその一部位に開口部を有する
シール材と、前記一対の基板間でシール材によって囲ま
れた間隙に前記開口部を通じて注入された液晶と、前記
開口部を封止する光硬化型樹脂からなる封止材を有して
おり、前記一対の基板の少なくとも一方の基板は、この
基板を平面視したときに、前記封止材と該封止材に隣接
する前記シール材の一部とを含む第１の領域と、該第１
の領域に隣接しており、該第１の領域よりも紫外線透過
率が低い第２の領域を有する液晶装置の製造方法であっ
て、少なくとも一方の基板の内側面上または外側面上
に、紫外線遮断膜を設けて前記第２の領域を形成する工
程と、前記紫外線遮断膜を設けた後に前記一対の基板を
未硬化のシール材を介して貼り合わせる工程と、前記一
対の基板を貼り合わせた後に前記未硬化のシール材を硬
化する工程と、前記シール材を硬化した後に前記開口部
を通じて前記基板とシール材とに囲まれた間隙に液晶を
注入する工程と、前記液晶を注入後、前記開口部に未硬
化の封止材を塗布する工程と、前記封止材に光を照射し
て該封止材を硬化する工程を含むことを特徴とする液晶
装置の製造方法を提供する。前記本発明の液晶装置の製
造方法において、各工程の実施順序は、順序が前記によ
り特定されたものを除き限定されるものではなく、液晶
パネルの構成および目的に応じて適宜選択されるべきで
ある。また可能なら２以上の工程を同時に実施してもよ
い。前記液晶装置の製造方法によれば、封止材に光を照
射する工程に先立って、第２の領域に紫外線遮断膜を形
成する工程が含まれているので、前記封止材硬化工程に
おいて、紫外線による液晶の劣化が生じるのが防止され
る。前記紫外線遮断膜を少なくとも一方の基板の内側面
または外側面に設け、この紫外線遮断膜が形成されてい
る基板側から前記封止材に光を照射してもよく、あるい
は、前記紫外線遮断膜を両方の基板の内側面に設け、前
記開口部が開口している端面側から前記封止材に光を照
射してもよい。

【００１１】本発明は更に、前記のいずれかの液晶装置
を備えた電子機器を提供する。本発明の電子機器は、開
口部の封止材およびその周辺部を含む第１の領域に隣接
して紫外線透過率が低い第２の領域が設けられているの
で、封止材を硬化させるために紫外線が照射されても、
液晶が紫外線によって劣化するのが防止され、良好な液
晶パネル特性が維持される。

【００１２】

【発明の実施の形態】［実施形態１］以下、本発明の実
施形態１を図１および図２を参照して説明する。図１お
よび図２は実施形態１の液晶装置における液晶パネル
（以下「本液晶パネル」という）の概略構成を示したも
ので、図１は平面図、図２は図１中Ａ−Ａ線に沿う断面
図である。ただし、例えば電極、配向膜、偏光板、位相
差板など本発明の説明に不要な要素は省略してある。ま
た各構成要素の寸法は実体を反映するものではない。本
実施形態の液晶パネルにおける液晶の駆動方式はパッシ
ブマトリクス方式が採用されるが、他の方式、例えばア
クティブマトリクス方式その他であっても差し支えな
い。

【００１３】図１および図２に示すように、本液晶パネ
ルは、基本的には、離間して対向配置された一対のガラ
ス基板、すなわち第１基板１０および第２基板２０と、
前記一対の基板１０，２０に挟持されて額縁状に形成さ
れその一部位に開口部３１を有するシール材３０とに囲
まれたセル４０内に液晶４１が充填されている。本実施
形態においてシール材３０は熱硬化性樹脂で形成されて
おり、開口部３０は光硬化型樹脂からなる封止材３２に
よって封止されている。また第１基板１０と第２基板２
０とは、本液晶パネルを平面視したとき、開口部３１に
対向する一辺、およびこの辺に隣り合う一辺において、
一方の基板の端部が他方の基板から突出するように対向
配置されている。本液晶パネルにおいて、第１基板の内
側面上には、開口部３１が形成されている側の一端部の
帯状領域（第１の領域）６１を除く全面に、紫外線遮断
膜５０が設けられている。この紫外線遮断膜５０が形成
されている領域が第２の領域５１である。また図示して
いないが、第１基板１０の内側面の紫外線遮断膜５０上
には、基板側から順にＩＴＯなどの透明導電材からなる
多数のストライプ状の第１の電極および配向膜が形成さ
れている。一方、第２基板２０の内側面には、基板側か
ら順に画素領域に対応してＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ
（青）の順に配列されたカラーフィルタ、セルギャップ
を隔てて第１電極と交差する位置に形成されたＩＴＯな
どの透明導電材からなる多数のストライプ状の第２電
極、および配向膜が形成されている。またセル４０内に
は外圧に抗してセルギャップを一定に保つスペーサ４２
が散布されている。本液晶パネルを平面視したとき、第
１の領域６１と第２の領域５１との境界線は、開口部３
１に隣接しているシール材３０と平行であり、この境界
線からシール材３０までの距離Ｘ（直線距離）は１ｍｍ
に形成されている。

【００１４】液晶４１は特に限定されず、用途に応じて
各種の液晶を用いることができる。本実施形態において
紫外線遮断膜５０は、高屈折率の酸化チタンと低屈折率
の酸化珪素を６層積層して形成されたものが用いられて
いる。紫外線遮断膜５０は、液晶４１の紫外線による分
解特性に応じて、液晶４１を分解する波長の紫外線を遮
断できるように構成することが好ましい。例えば、後述
の実験例に示されるように、液晶４１がモニター用等に
一般的に用いられる液晶であるとき、紫外線遮断膜５０
として３３０nm以下の波長の透過率が１０％以下である
膜を設けることにより、光照射による液晶４１の分解を
抑え、電圧保持率が低下するのを効果的に防止できる。
また液晶４１が低電圧液晶であるとき、紫外線遮断膜５
０として３５０nm以下の波長の透過率が１０％以下であ
る膜を設けることにより、光照射による液晶４１の分解
を抑え、液晶比抵抗が低下するのを効果的に防止でき
る。本実施形態では、封止材３２として紫外線硬化型樹
脂が用いられている。紫外線硬化型樹脂としては、例え
ばアクリル系紫外線硬化型樹脂が使用可能であり、これ
を硬化させるためには高圧水銀灯を用い波長３６５nmに
おいて３０００mJ/cm²を照射するのが好ましい。

【００１５】本液晶パネルを製造するには、予め第１基
板１０上の所定の領域に紫外線遮断膜５０を形成する以
外は、液晶を注入する工程までを周知の方法にて行うこ
とができる。すなわち、先ず第１基板１０の一方の面の
うち第２の領域５１となる部分にスパッタリングを繰り
返して無機膜を積層し、紫外線遮断膜５０を形成する。
次に第１基板１０の紫外線遮断膜５０が形成された面に
フォトリソグラフィにより第１電極を形成し、更にその
上に配向膜を印刷し、所定の方向に配向させる。次に熱
硬化性樹脂を用い、第１基板１０と第２基板２０とが重
なり合う領域を囲むように未硬化のシール材３０を額縁
状に形成する。このときシール材３０の１部位に開口部
３１を設ける。これと並行して第２基板２０の一方の面
には、詳細を省略するがカラーフィルタおよび第２電極
を順次形成し、その上に配向膜を印刷し、所定の方向に
配向させ、更にその上にスペーサ４２を散布しておく。
次に第１基板１０と第２基板２０とを、それぞれ配向膜
が内側を向くように重ね合わせ、両基板の外側面から内
側面に向かう方向に加圧すると同時に加熱を行って未硬
化のシール材３０を硬化させる。次いで硬化したシール
材３０に形成された開口部３１を通じて真空吸引法によ
りセル４０内に液晶を注入する。このようにしてセル４
０内に液晶を充填した後、開口部３１に未硬化の光硬化
型樹脂からなる封止材３２を塗布し、第１基板１０側か
ら紫外線を照射して封止材３２を硬化させることによっ
て開口部３１を封止して、本液晶パネルを完成する。

【００１６】なお、本実施形態ではシール材３０として
熱硬化型樹脂を用い、これを加熱することによって硬化
したが、光硬化型樹脂を用い、光照射によりこれを硬化
させてもよい。光硬化型樹脂を用いる場合には、本液晶
パネルを平面視したときに、第２の領域５１が、シール
材３０が形成される部分を覆わないように構成すること
が好ましい。

【００１７】本液晶パネルは、第１基板１０の第２の領
域５１、すなわち開口部３１を含む第１の領域６１を除
いた全面が紫外線遮断膜５０によって覆われているの
で、第１基板１０側から照射された紫外線は紫外線遮断
膜５０に遮断されて第２の領域５１内の液晶には達しな
い。一方、第１の領域６１では紫外線が第１基板１０を
透過して開口部３１に塗布された封止材３２に達し、こ
れにより封止材３２が硬化する。したがって、紫外線に
よる液晶の分解を防止しつつ、封止材３２を硬化するこ
とができる。

【００１８】また、本実施形態では、封止材３２として
紫外線硬化型樹脂を用いたが、これに代えて可視光硬化
型樹脂を用いることができる。可視光硬化型樹脂は可視
光領域に最大感度があるが、３００nm程度までの紫外線
領域にも感度を有しており、より効率よく樹脂を硬化さ
せるには、可能な範囲で紫外線を照射するのが好まし
い。したがって、封止材３２として、可視光硬化型樹脂
を用いた場合にも、紫外線硬化型樹脂を用いた場合と同
様の光照射条件とすることができ、同様の効果を得るこ
とができる。

【００１９】ここで、図３のスペクトルグラフを用い
て、紫外線遮断膜５０を透過する光の波長と、液晶４１
に及ぼす影響を説明する。図３は、一般的な液晶の光透
過率を示している。この図において横軸は光波長を示
し、縦軸は液晶の最高透過率を１としたときの透過率比
を示している。また図中実線は、モニター用等に一般的
に使用される液晶、破線は低消費電力を要求されるパネ
ルに使用される低電圧液晶の特性をそれぞれ示してい
る。この図からわかるように、モニター用等に使用され
る液晶（実線）は３３０nm以下で光の吸収が大きくな
る。また低電力液晶（破線）は３５０nm以下で光の吸収
が大きくなる。そして、液晶の分解は前記の光吸収率に
対応しており、モニター用等に使用される液晶（実線）
は３３０nm以下、また低電力液晶（破線）は３５０nm以
下の光が照射されると、液晶が分解することがわかっ
た。一方、封止材３２として用いる光硬化性樹脂の波長
感度は、一般に紫外線硬化性樹脂の場合は波長３１０nm
付近に感度のピークがあり、ピーク波長からずれるに伴
って波長感度は低下する。可視光硬化性樹脂の場合は波
長４００nmないし４５０nm付近に最大感度があるが、こ
の波長感度はなだらかに短波長側に伸び、３００nm付近
まで感度を有している。これらの観点から、モニター用
等に使用される液晶を使用する場合には、第１基板１０
の第２の領域５１に形成する紫外線遮断膜５０として波
長３３０nm以下の光を遮断するものを用いれば、封止材
３２として紫外線硬化性樹脂または可視光硬化性樹脂の
いずれを用いても光照射により封止材３２を硬化させる
ことができると共に、セル４０内の液晶４１の分解を抑
制することができる。また、紫外線遮断膜５０として波
長３５０nm以下の光を遮断するものを用いれば、液晶が
モニター用等に使用される液晶であっても又低電力液晶
であっても、光照射により封止材３２を硬化させること
ができると共に、セル４０内の液晶４１の分解を抑制す
ることができる。

【００２０】（実験例１）前記実施形態１の液晶パネル
において、紫外線遮断膜５０として光遮断特性が異なる
ものをそれぞれ用いたときの電圧保持率を調べた。すな
わち、照度が３６５nmで１３０ｍＷ／cm²の紫外線を７
０秒間照射したときに、紫外線遮断膜５０の透過率が９
％となる波長（以下、カット波長ということもある）が
３１０nm、３２０nm、３３０nm、３４０nmであるときの
本液晶パネルの電圧保持率を測定した。なおいずれの紫
外線遮断膜５０も波長３８０nm以上での領域での透過率
は８０％以上であり、紫外線の照射によって封止材３２
は良好に硬化した。液晶４１としては、液晶の中でも比
較的安定性が高いＴＦＴモニター用の液晶を用いた。そ
の結果を表１に示す。

【００２１】

【表１】

【００２２】表１の結果より、液晶がＴＦＴモニター用
の液晶であるとき、紫外線遮断膜５０として３３０nm以
下の波長の透過率が低い膜を設けることにより、光照射
によって液晶が分解し電圧保持率が低下するのを防止し
つつ、封止材３２を硬化できることがわかった。

【００２３】（実験例２）実験例１において、紫外線遮
断膜５０における波長３３０nm以下の平均透過率を変化
させたときの電圧保持率を調べた。すなわち、照度が３
６５nmで１３０ｍＷ／cm²の紫外線を７０秒間照射した
ときに、紫外線遮断膜５０の波長３３０nm以下での平均
透過率が５％、１０％、１５％、２０％であるときの本
液晶パネルの電圧保持率を測定した。その結果を表２に
示す。

【００２４】

【表２】

【００２５】表２の結果より、液晶がＴＦＴモニター用
の液晶であるとき、紫外線遮断膜５０として３３０nm以
下の波長の透過率が１０％以下である膜を設けることに
より、光照射によって液晶が分解し電圧保持率が低下す
るのを効果的に防止しつつ、封止材３２を硬化できるこ
とがわかった。

【００２６】（実験例３）実験例１において、液晶４１
を、液晶の中でも最も不安定な部類に属する低電圧液晶
に変えた他は同様にして液晶パネルを作製し、紫外線遮
断膜５０のカット波長を変化させながら液晶パネルの液
晶比抵抗を測定した。その結果を表３に示す。

【００２７】

【表３】

【００２８】表３の結果より、液晶が形態電話用等の低
電圧液晶であるとき、紫外線遮断膜５０として３５０nm
以下の波長の透過率が低い膜を設けることにより、光照
射によって液晶が分解し比抵抗が低下するのを防止しつ
つ、封止材３２を硬化できることがわかった。

【００２９】（実験例４）実験例３において、紫外線遮
断膜５０における波長３５０nm以下の平均透過率を変化
させたときの液晶比抵抗を調べた。すなわち、照度が３
６５nmで１３０ｍＷ／cm²の紫外線を７０秒間照射した
ときに、紫外線遮断膜の波長３５０nm以下での平均透過
率が５％、１０％、１５％、２０％であるときの液晶比
抵抗を測定した。その結果を表４に示す。

【００３０】

【表４】

【００３１】表４の結果より、液晶が低電圧液晶である
とき、紫外線遮断膜５０として３５０nm以下の波長の透
過率が１０％以下である膜を設けることにより、光照射
によって液晶が分解し液晶比抵抗が低下するのを効果的
に防止しつつ、封止材３２を硬化できることがわかっ
た。

【００３２】なお前記実施形態１では、第１基板１０の
内側面上に紫外線遮断膜５０を設けたが、これを第１基
板１０の外側面上に設けてもよく、その場合も前記実験
例１〜４においては同様な結果が得られる。さらに、図
４に示すように第１基板１０および第２基板の２０の両
方の内側面上に紫外線遮断膜５０を設けてもよく、この
場合には、両方の基板側から光照射を行って封止材３２
の硬化を効率良く行うことが可能である。またこの場合
には、開口部３１が設けられている側の基板端面１０
ａ、２０ａ側から紫外線を照射して封止材３２を硬化さ
せることも可能である。第１基板１０および第２基板の
２０の両方の内側面のほぼ全域に紫外線遮断膜５０を設
けることにより、両基板１０，２０内にその端面１０
ａ，２０ａから入射された光が液晶４１に達するのを防
止することができる。また、図示していないが第１基板
１０および第２基板の２０の両方の外側面上に紫外線遮
断膜５０を設けてもよく、この場合には、両方の基板側
から光照射を行って封止材３２の硬化を効率良く行うこ
とが可能である。

【００３３】［実施形態２］図５および図６は実施形態
２の液晶装置における液晶パネルの概略構成を示したも
ので、図５は平面図、図６は図１中Ｂ−Ｂ線に沿う断面
図である。本実施形態の液晶パネルが前記実施形態１の
液晶パネルと大きく異なる点は、第２の領域５２が帯状
に設けられている点である。図５および図６において図
１および図２と同じ構成要素には同一の符号を付してそ
の説明を省略する。すなわち、本実施形態においては、
第１基板１０の内側面上には、開口部３１が形成されて
いる側の一端部の帯状領域を第１の領域６１とし、この
第１の領域６１に隣接しかつ第１の領域６１と平行な帯
状領域（第２の領域）５２に、紫外線遮断膜５０が設け
られている。帯状の第２の領域５２の幅は任意に設定可
能であるが、第２の領域５２の外縁が液晶パネルの表示
領域外に位置するように構成した方が、液晶パネルの表
示特性上好ましい。本実施形態において、液晶パネルを
平面視したとき、第１の領域６１と第２の領域５２との
境界線から第１の領域６１内のシール材３０までの距離
Ｘ（直線距離）は２ｍｍ以下とすることが好ましく、１
ｍｍ程度がより好ましい。封止材３２としては紫外線硬
化型樹脂を用いてもよく、可視光硬化型樹脂を用いても
よい。

【００３４】本実施形態の液晶パネルは、前記実施形態
１において紫外線遮断膜５０の形状を変更する他は同様
にして製造することができる。ただし、封止材３２を硬
化させる工程では、図６に示すように、少なくとも、液
晶４１が存在する領域であって第１および第２の領域に
含まれていない領域を覆うように、第１基板１０の上方
に遮光マスク７０を配した状態で、第１基板１０側から
紫外線を照射する。また第１基板１０上に遮光マスク７
０を配した状態で、遮光マスク７０の一端部７０ａと第
２の領域５２との重なり幅Ｙが２ｍｍ以上であることが
好ましい。この重なり幅Ｙが２ｍｍより小さいと、照射
された紫外線の回り込みにより第２の領域５２の外側の
液晶に紫外線が達することがあり、液晶の分解が発生し
て表示ムラ等の特性劣化を引き起こすおそれがある。

【００３５】本実施形態の液晶パネルは、第１基板１の
第２の領域５２、すなわち開口部３１を含む第１の領域
６１に隣接する帯状の領域が紫外線遮断膜５０によって
覆われているので、遮光マスク７０を併用して第１基板
１０側から紫外線を照射することにより、セル４０内の
液晶４１の分解を防止しつつ、封止材３２を硬化するこ
とができる。なお前記実施形態２では、第１基板１０の
内側面上に紫外線遮断膜５０を設けたが、これを第１基
板１０の外側面上に設けてもよく、その場合も同様な効
果が得られる。また、図示していないが第１基板１０お
よび第２基板の２０の両方の内側面上または外側面上に
帯状の紫外線遮断膜５０を設けて第２の領域５２を形成
してもよく、この場合には、両方の基板側から光照射を
行って封止材３２の硬化を効率良く行うことが可能であ
る。

【００３６】［実施形態３］図７は実施形態３の液晶装
置における液晶パネルの概略構成を示す平面図である。
本実施形態の液晶パネルが前記実施形態１の液晶パネル
と大きく異なる点は、第１の領域６２の周囲の３方を囲
むように第２の領域５３が設けられている点である。図
７において図１と同じ構成要素には同一の符号を付して
その説明を省略する。すなわち、第１基板１０の内側面
上には、開口部３１およびその周囲を含む基板端部の矩
形領域（第１の領域６２）を除く全面に、紫外線遮断膜
５０が設けられている。この紫外線遮断膜５０が形成さ
れている領域が第２の領域５３である。 本実施形態に
おいても、本液晶パネルを平面視したとき、第１の領域
６２と第２の領域５３との境界線からシール材３０まで
の距離Ｘ（直線距離）が２ｍｍ以下であることが好まし
く、１ｍｍ程度がより好ましい。なお第１の領域６２の
平面形状は矩形に限らず、開口部３１およびこれに隣接
するシール材３０の一部を含む形状であればよく、適宜
変更可能であるが、液晶パネルを平面視したときに、第
１の領域６２と第２の領域５３との境界線からシール材
３０までの直線距離が２ｍｍより大きくならないように
設計することが好ましい。封止材３２としては紫外線硬
化型樹脂を用いてもよく、可視光硬化型樹脂を用いても
よい。本実施形態の液晶パネルは、前記実施形態１にお
いて紫外線遮断膜５０の形状を変更する他は同様にして
製造することができる。

【００３７】本実施形態の液晶パネルは、第１基板１０
の第２の領域５３、すなわち開口部３１およびその周囲
を除く全面が紫外線遮断膜５０によって覆われているの
で、第１の基板１０側から紫外線を照射することによっ
て、セル内の液晶の劣化を防止しつつ、封止材３２を硬
化することができる。なお前記実施形態３では、第１基
板１０の内側面上に紫外線遮断膜５０を設けたが、これ
を第１基板１０の外側面上に設けてもよく、その場合も
同様な効果が得られる。また、図示していないが、第１
基板１０および第２基板の２０の両方の内側面上に紫外
線遮断膜５０を設けて第２の領域５３を形成してもよ
く、この場合には、両方の基板側から光照射を行って封
止材３２の硬化を効率良く行うことが可能である。また
この場合には、開口部３１が設けられてる側の基板端面
側から紫外線を照射して封止材３２を硬化させることも
可能である。さらに、第１基板１０および第２基板の２
０の両方の外側面上に紫外線遮断膜５０を設けてもよ
く、この場合には、両方の基板側から光照射を行って封
止材３２の硬化を効率良く行うことが可能である。

【００３８】尚、前記の各実施形態では、紫外線遮断膜
５０を無機膜を積層して形成したが、単層の無機膜でも
よく、有機樹脂膜形成されていてもよく、あるいは無機
膜と有機樹脂膜とを積層して形成してもよい。

【００３９】以下、本発明の液晶装置を備えた電子機器
の具体例について説明する。図８は、携帯電話の一例を
示した斜視図である。この図において、符号１０００は
携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の電気光学装
置を用いた液晶表示部を示している。図９は、腕時計型
電子機器の一例を示した斜視図である。この図におい
て、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上
記の電気光学装置を用いた液晶表示部を示している。図
１０は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置
の一例を示した斜視図である。この図において、符号１
２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなど
の入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２
０６は上記の電気光学装置を用いた液晶表示部を示して
いる。図８ないし図１０に示す電子機器は、上記の液晶
装置を用いた液晶表示部を備えたものであるので、封止
材を硬化させる工程で液晶の分解が生じておらず、この
ような液晶の劣化に起因する表示ムラ、焼き付き、クロ
ストークの発生やコントラストの低下が防止されてい
る。したがって高コントラストで、視認性に優れた電子
機器を実現することができる。

【００４０】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、液晶パネルのシール材の開口部を封止する封止
材とその周辺部を含む第１の領域に隣接して紫外線透過
率が低い第２の領域が設けられているので、紫外線によ
って劣化し易い液晶を第２の領域で保護し、封止材およ
びその周辺にのみ選択的に紫外線を照射することが可能
である。したがって、紫外線による液晶の劣化を防止し
つつ封止材を硬化させることができるので、液晶の劣化
に起因する表示ムラ、焼き付き、クロストークの発生や
コントラストの低下が防止され、高コントラストで、視
認性に優れた液晶装置および電子機器が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施形態１の液晶表示装置における
液晶パネルの概略構成を示した平面図である。

【図２】 図１中Ａ−Ａ線に沿う断面図である。

【図３】 液晶の光透過率の波長依存性を示すグラフで
ある。

【図４】 本発明の実施形態１の変形例を示した断面図
である。

【図５】 本発明の実施形態２の液晶表示装置における
液晶パネルの概略構成を示した平面図である。

【図６】 図５中Ｂ−Ｂ線に沿う断面図である。

【図７】 本発明の実施形態３の液晶表示装置における
液晶パネルの概略構成を示した平面図である。

【図８】 本発明の電子機器の例を示す斜視図である。

【図９】 本発明の電子機器の例を示す斜視図である。

【図１０】 本発明の電子機器の例を示す斜視図であ
る。

【符号の説明】

１０…第１基板 ２０…第２基板 ３０…シール材 ３１…開口部 ３２…封止材 ４０…セル ４１…液晶 ５０…紫外線遮断膜 ５１，５２，５３…第２の領域 ６１，６２…第１の領域 ７０…遮光マスク

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 離間して対向配置された一対の基板と、 前記一対の基板を貼り合わせるとともに該基板間で額縁
   状に形成されその一部位に開口部を有するシール材と、 前記一対の基板間でシール材によって囲まれた間隙に注
   入された液晶とを有する液晶装置であって、 前記開口部を封止する光硬化型樹脂からなる封止材を有
   し、 前記一対の基板の少なくとも一方の基板は、この基板を
   平面視したときに、前記封止材と該封止材に隣接する前
   記シール材の一部とを含む第１の領域と、該第１の領域
   に隣接しており、該第１の領域よりも紫外線透過率が低
   い第２の領域を有することを特徴とする液晶装置。
2. 【請求項２】 前記第２の領域は、３３０nm以下の波長
   域における紫外線透過率が１０％以下であることを特徴
   とする請求項１に記載の液晶装置。
3. 【請求項３】 前記第２の領域は、３５０nm以下の波長
   域における紫外線透過率が１０％以下であることを特徴
   とする請求項１に記載の液晶装置。
4. 【請求項４】 前記第２の領域は、基板の内側面上また
   は外側面上に紫外線透過率が低い膜が設けられているこ
   とを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記
   載の液晶装置。
5. 【請求項５】 前記紫外線透過率が低い膜は、無機膜に
   より形成されたことを特徴とする請求項４に記載の液晶
   装置。
6. 【請求項６】 前記紫外線透過率が低い膜は、屈折率が
   異なる複数の無機膜を積層して形成されたことを特徴と
   する請求項４に記載の液晶装置。
7. 【請求項７】 前記紫外線透過率が低い膜は、有機樹脂
   膜により形成されたことを特徴とする請求項４に記載の
   液晶装置。
8. 【請求項８】 前記紫外線透過率が低い膜は、無機膜と
   有機樹脂膜とを積層して形成されたことを特徴とする請
   求項４に記載の液晶装置。
9. 【請求項９】 前記基板を平面視したとき、前記第１の
   領域と前記第２の領域との境界線から前記第１の領域内
   のシール材に至るまでの距離が２ｍｍ以下であることを
   特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の
   液晶装置。
10. 【請求項１０】 前記基板を平面視したとき、前記第１
    の領域の周囲のうちの３方が前記第２の領域によって囲
    まれていることを特徴とする請求項１ないし請求項９の
    いずれかに記載の液晶装置。
11. 【請求項１１】 前記第１の領域が、前記基板の一端部
    の帯状領域であり、該基板の残り全部が前記第２の領域
    であることを特徴とする請求項１ないし請求項９のいず
    れかに記載の液晶装置。
12. 【請求項１２】 前記第１の領域が、前記基板の一端部
    の帯状領域であり、該帯状の第１の領域に隣接する帯状
    領域が前記第２の領域であることを特徴とすることを特
    徴とする請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の液
    晶装置。
13. 【請求項１３】 離間して対向配置された一対の基板
    と、前記一対の基板を貼り合わせるとともに該基板間で
    額縁状に形成されその一部位に開口部を有するシール材
    と、前記一対の基板間でシール材によって囲まれた間隙
    に前記開口部を通じて注入された液晶と、前記開口部を
    封止する光硬化型樹脂からなる封止材を有しており、前
    記一対の基板の少なくとも一方の基板は、この基板を平
    面視したときに、前記封止材と該封止材に隣接する前記
    シール材の一部とを含む第１の領域と、該第１の領域に
    隣接しており、該第１の領域よりも紫外線透過率が低い
    第２の領域を有する液晶装置の製造方法であって、 少なくとも一方の基板の内側面上または外側面上に紫外
    線透過率が低い膜を設けて前記第２の領域を形成する工
    程と、 前記紫外線透過率が低い膜を設けた後に前記一対の基板
    を未硬化のシール材を介して貼り合わせる工程と前記一
    対の基板を貼り合わせた後に前記未硬化のシール材を硬
    化する工程と、前記シール材を硬化した後に前記開口部
    を通じて前記基板とシール材とに囲まれた間隙に液晶を
    注入する工程と前記液晶を注入した後に前記開口部に未
    硬化の封止材を塗布する工程と、 前記封止材に光を照射して該封止材を硬化する工程を含
    むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
14. 【請求項１４】 前記紫外線透過率が低い膜が、少なく
    とも一方の基板の内側面または外側面に設けられてお
    り、この紫外線透過率が低い膜が形成されている基板側
    から前記封止材に光を照射することを特徴とする請求項
    １３記載の液晶装置の製造方法。
15. 【請求項１５】 前記紫外線透過率が低い膜が、両方の
    基板の内側面に設けられており、前記開口部が開口して
    いる側の前記基板端面側から前記封止材に光を照射する
    ことを特徴とする請求項１３記載の液晶装置の製造方
    法。
16. 【請求項１６】 請求項１ないし請求項１５のいずれか
    に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。