JP2003098687A - Pre-burning counter-etching liquid and plate making method for planographic printing plate - Google Patents

Pre-burning counter-etching liquid and plate making method for planographic printing plate

Info

Publication number
JP2003098687A
JP2003098687A JP2001292970A JP2001292970A JP2003098687A JP 2003098687 A JP2003098687 A JP 2003098687A JP 2001292970 A JP2001292970 A JP 2001292970A JP 2001292970 A JP2001292970 A JP 2001292970A JP 2003098687 A JP2003098687 A JP 2003098687A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
acid
burning
printing plate
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001292970A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Takamiya
周一 高宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001292970A priority Critical patent/JP2003098687A/en
Publication of JP2003098687A publication Critical patent/JP2003098687A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pre-burning counter-etching liquid which eliminates surface staining after a burning treatment and can impart a good lipid sensitization property and an excellent printing resistance improving effect to image areas and does not give rise to unevenness to the surface state after the burning, to provide a pre-burning counter-etching liquid which is suitable for automation by use of a processing machine of a spray circulation system or the like and to provide a plate making method capable of making a planographic printing plate which is free of defects in the image areas and exhibits excellent plate wear without the occurrence of staining in non-image areas. SOLUTION: The pre-burning counter-etching liquid containing soybean polysaccharides and the plate making method of subjecting the photosensitive planographic printing plate to exposure and development processing, then processing the plate with an aqueous solution containing the soybean polysaccharides then to a burning processing.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷版
を露光・現像処理した後、バーニング処理を施す前に使
用するバーニング前整面液、及びそのようなバーニング
前整面液を使用する平版印刷版の製版方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses a pre-burning surface-adjusting solution which is used after exposing and developing a photosensitive lithographic printing plate and before performing a burning treatment, and such a pre-burning surface-adjusting solution. The present invention relates to a method of making a planographic printing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷は、水と油が本質的に混り合わ
ない性質を巧みに利用した印刷方式であり、印刷版面は
水を受容し油性インキを反撥する領域と水を反撥して油
性インキを受容する領域からなり、前者が非画像域であ
り、後者が画像域である。例えばポジ型感光性平版印刷
版では、o−キノンジアジド化合物を単独あるいはノボ
ラック型のフェノール樹脂、クレゾール樹脂などのアル
カリ可溶性樹脂と混合し金属又はプラスチック等の適当
な支持体上に塗布されたものであり、透明陽画を通して
活性光線で露光した場合、露光された部分のo−キノン
ジアジド化合物が分解し、アルカリ可溶性に変化するの
で、アルカリ水溶液により容易に除去されポジ画像を与
える。従って、親水性表面を有する支持体を用いるアル
カリ水溶液で除去された部分は支持体の親水性表面が露
出されるので、この部分は水を受付けインキを反撥す
る。一方、画像として残った部分は親油性であり、イン
キを受け付ける。
2. Description of the Related Art Lithographic printing is a printing method that skillfully utilizes the property that water and oil are essentially immiscible, and the printing plate surface repels water and areas that repel oil-based ink and water. The former is a non-image area and the latter is an image area. For example, in a positive-working photosensitive lithographic printing plate, an o-quinonediazide compound is used alone or mixed with an alkali-soluble resin such as a novolac-type phenol resin or cresol resin, and coated on a suitable support such as metal or plastic. When exposed to actinic rays through a transparent positive image, the o-quinonediazide compound in the exposed portion decomposes and becomes alkali-soluble, and is easily removed by an aqueous alkali solution to give a positive image. Therefore, since the hydrophilic surface of the support is exposed at the portion removed by the aqueous alkaline solution using the support having the hydrophilic surface, this portion receives water and repels the ink. On the other hand, the portion remaining as an image is lipophilic and accepts ink.

【0003】一枚の印刷版から、多数枚の印刷物を得た
いという場合、感光性平版印刷版を露光、現像した後、
高温で加熱(いわゆるバーニング処理)することにより
画像部を強化する方法が有効である。しかしながら、処
理前には親水性であった印刷版の非画像部(即ち、現像
により親水性の支持体表面が露呈した部分)において、
バーニング処理を行うことにより画像部分から飛び出る
成分が汚れとなって親水性が失われ、印刷インキを受容
するようになるため、印刷物のバックグランドに汚れ
(いわゆる地汚れ)が生ずる。従って、バーニング処理
により起こるこの非画像部の汚れを防ぐために整面処理
が必要である。
When it is desired to obtain a large number of printed matter from one printing plate, after exposing and developing the photosensitive lithographic printing plate,
A method of strengthening the image portion by heating at a high temperature (so-called burning treatment) is effective. However, in the non-image area of the printing plate that was hydrophilic before the treatment (that is, the area where the hydrophilic support surface was exposed by development),
By performing the burning process, the components that fly out from the image portion become stains and lose their hydrophilicity, and the printing ink is received, so that stains (so-called background stains) occur on the background of the printed matter. Therefore, surface treatment is required to prevent the non-image area from being smeared by the burning process.

【0004】赤外線吸収染料を含有する画像形成層を設
けた赤外線感光性平版印刷版を製版する場合、非画像部
の現像性を良くするために現像液のアルカリ濃度を上げ
ると画像部が膜減りしやすく、一方画像部が膜減りしな
い条件では非画像部に残膜が残り易くなるという問題が
ある。そのため、画像部が膜減りしない現像条件を採用
しながらバーニング処理を行うと、非画像部がより汚れ
やすくなり、よって特に赤外線感光性平版印刷版の製版
においては、バーニング処理液が重要になってくる。こ
のバーニング処理工程の前及び/又はその後で使用され
る整面処理液ととして、従来より種々の提案がなされて
いる。
In the case of making an infrared-sensitive lithographic printing plate having an image-forming layer containing an infrared-absorbing dye, when the alkali concentration of the developer is increased to improve the developability of the non-image area, the image area of the image area is reduced. On the other hand, under the condition that the image portion is not thinned, the residual film is likely to remain in the non-image portion. Therefore, when the burning process is performed while adopting the developing condition in which the image portion is not thinned, the non-image portion is more likely to be soiled, and thus the burning treatment liquid becomes important especially in the plate making of the infrared-sensitive lithographic printing plate. come. Various proposals have hitherto been made as a surface-treating treatment liquid used before and / or after the burning treatment step.

【0005】バーニング処理の前に、非画像部の親水性
を低下させないようにするための処理方法として、特開
昭51−34001号公報には、アルカリ現像した後、
スルホン酸塩含有水溶液で処理して、さらにバーニング
処理することが記載されている。スルホン酸塩の水溶液
を使用すると発泡性が高く、現在多く使用されているス
プレー循環式の処理機などに使用するには不適当であ
り、製版作業の自動化ができない欠点があった。また、
特公昭55−28062号公報には、バーニング処理前
に昇華性の硼酸およびその塩を含む水溶液で処理し、そ
の化合物の存在下でバーニング処理する方法が開示され
ているが、この方法も地汚れの防止が十分でなかった。
特に、バーニング処理後に行われる水洗、ガム引き等の
条件によって、すなわち、水洗が不十分であったり、不
感脂化ガム液が親水化力の弱いデキストリン系のガム液
を用いたりすると、地汚れが、起こり易いという欠点が
あった。
As a treatment method for preventing the hydrophilicity of the non-image area from being lowered before the burning treatment, Japanese Patent Laid-Open No. 34001/1975 discloses that after alkali development,
It is described that the material is treated with an aqueous solution containing a sulfonate and further subjected to a burning treatment. When an aqueous solution of a sulfonate is used, it has a high foaming property and is unsuitable for use in a spray circulation type processing machine which is widely used at present, and there is a drawback that the plate making operation cannot be automated. Also,
Japanese Patent Publication No. 55-28062 discloses a method of treating with an aqueous solution containing sublimable boric acid and a salt thereof before the burning treatment, and performing the burning treatment in the presence of the compound. Was not adequately prevented.
In particular, water washing performed after the burning treatment, depending on the conditions such as gumming, that is, if the water washing is insufficient or the desensitizing gum solution is a dextrin type gum solution having a weak hydrophilicity, scumming occurs. There was a drawback that it was easy to happen.

【0006】更に特開昭52−2205公報には、バー
ニング処理前にアラビアゴム、セルロースエーテル、ポ
リアクリル酸等の水溶性有機物質および/または硼酸
塩、燐酸塩、硫酸塩、アルカリ金属やアルカリ土類金属
等のハロゲン化物のような水溶性無機塩の水溶液で処理
することが示されているが、この方法においても地汚れ
を必ずしも完全に防止できないだけでなく、特にアラビ
アゴム、ポリアクリル酸などの水溶性ポリマーの水溶液
を用いると印刷時に画像部にインクを受けつけにくくな
る、いわゆる着肉不良を起こすという欠点があった。更
に、特開昭57−52057号公報には、バーニング処
理前にエチレンジアミンテトラ酢酸、ヒドロキシアルキ
ルエチレンジアミントリ酢酸等のカルボキシル基を含有
するアミン又はその塩を含有する水溶液で処理する方法
が示されている。しかしながら、この方法も地汚れの防
止効果は十分とは言えなかった。
Further, in JP-A-52-2205, a water-soluble organic substance such as gum arabic, cellulose ether, polyacrylic acid and / or borate, phosphate, sulfate, alkali metal or alkaline earth is used before the burning treatment. Although treatment with an aqueous solution of a water-soluble inorganic salt such as a halide of a group of metals has been shown, this method does not always completely prevent scumming, and especially gum arabic, polyacrylic acid, etc. When the aqueous solution of the water-soluble polymer is used, there is a drawback that it becomes difficult to receive the ink in the image portion at the time of printing, that is, a so-called inking defect occurs. Further, JP-A-57-52057 discloses a method of treating with an aqueous solution containing a carboxyl group-containing amine such as ethylenediaminetetraacetic acid or hydroxyalkylethylenediaminetriacetic acid or a salt thereof before the burning treatment. . However, this method also cannot be said to have a sufficient effect of preventing scumming.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、露光
・現像処理した平版印刷版にバーニング処理をするにあ
たって使用するバーニング前整面液であって、バーニン
グ処理後に地汚れがなく且つ画像部に良好な感脂性及び
優れた耐刷向上効果を与えることのできるバーニング前
整面液を提供することである。本発明の目的はまた、バ
ーニング後の面状にムラを発生することのないバーニン
グ前整面液を提供することである。本発明の別の目的
は、スプレー循環式の処理機などの使用による自動化に
適したバーニング前整面液を提供することである。本発
明の目的はさらに、画像部に欠陥がなく、非画像部に汚
れを生じさせずに、且つ優れた耐刷力を発揮する平版印
刷版を作製することができる製版方法を提供することで
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is a pre-burning surface-adjusting liquid used for performing a burning treatment on an exposed / developed lithographic printing plate, which has no background stain after the burning treatment and has no image area. An object of the present invention is to provide a pre-burning surface-adjusting liquid capable of imparting excellent oil sensitivity and an excellent effect of improving printing durability. Another object of the present invention is to provide a surface conditioning liquid before burning which does not cause unevenness in the surface condition after burning. Another object of the present invention is to provide a pre-burning leveling solution suitable for automation by use of a spray circulation type processor or the like. It is a further object of the present invention to provide a plate-making method capable of producing a lithographic printing plate that has no defects in the image area, does not stain the non-image area, and exhibits excellent printing durability. is there.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、バーニング
処理する前に平版印刷版に塗布する処理液(以下、バー
ニング前整面液と称す。)として、大豆多糖類を含む水
溶液を使用することにより、上記の諸目的が達成される
ことを見い出した。従って本発明は、大豆多糖類を含有
することを特徴とするバーニング前整面液である。本発
明は、上記大豆多糖類を含む水溶液にさらにスルホン酸
塩を含有させてなるバーニング前整面液にも向けられて
いる。本発明はまた、感光性平版印刷版を露光し、現像
処理した後、大豆多糖類を含有する水溶液で処理し、次
いでバーニング処理することを特徴とする平版印刷版の
製版方法である。本発明の製版方法の好ましい実施態様
として、赤外線吸収剤を含有する画像形成層を有する赤
外線感光性平版印刷版を赤外線露光し、現像処理した
後、大豆多糖類を含有する水溶液で処理し、次いでバー
ニング処理する製版方法が挙げられる。
The present inventor uses an aqueous solution containing soybean polysaccharide as a treatment liquid (hereinafter referred to as a pre-burning surface-adjusting liquid) applied to a lithographic printing plate before the burning treatment. By doing so, they have found that the above objectives are achieved. Therefore, the present invention is a pre-burning surface conditioning solution characterized by containing soybean polysaccharide. The present invention is also directed to a pre-burning surface conditioning solution obtained by further adding a sulfonate to the aqueous solution containing the soybean polysaccharide. The present invention also relates to a method of making a lithographic printing plate, which comprises exposing a photosensitive lithographic printing plate to light, developing it, treating it with an aqueous solution containing soybean polysaccharide, and then performing a burning treatment. As a preferred embodiment of the plate-making method of the present invention, an infrared-sensitive lithographic printing plate having an image-forming layer containing an infrared absorber is exposed to infrared rays, subjected to development processing, and then treated with an aqueous solution containing soybean polysaccharide, and then, A plate-making method of performing a burning treatment can be mentioned.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の製版方法で使用する大豆
多糖類は、原料大豆を水で抽出して得られた多糖類で一
種の高分子界面活性剤であり、主としてガラクトース、
アラビノース、ガラクツロン酸を構成成分として含有す
る。本発明者は、大豆多糖類を含むバーニング前整面液
により、発泡性の懸念なく、大豆多糖類が非画像部上に
均一に広がって被膜を形成することにより、非画像部の
汚れが良化することを見出した。大豆多糖類の市販品と
してはソヤファイブ−S−LN、ソヤファイブ−S−D
N(ともに不二製油(株)製)等が挙げられる。本発明
で使用できる大豆多糖類の平均分子量は5〜100万
で、10質量%水溶液の粘度(25℃)が5〜100cp
の範囲のものが好ましく使用される。本発明のバーニン
グ前整面液は、このような大豆多糖類を含有する水溶液
であって、当該水溶液中における大豆多糖類の含有量
は、0.01〜45.0質量%が適当であって、好まし
くは0.1〜30質量%、より好ましくは1.0〜20
質量%である。0.01質量%よりも少ないと非画像部
の残膜を除去する効果がなく、45.0質量%を超える
と画像部に欠陥を生じるようになる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The soybean polysaccharide used in the plate-making method of the present invention is a polysaccharide obtained by extracting raw soybean with water, which is a kind of polymer surfactant, mainly galactose,
It contains arabinose and galacturonic acid as constituents. The present inventor has found that the soaking polysaccharide-containing surface smoothing solution allows the soybean polysaccharide to spread evenly over the non-image area to form a film without fear of effervescence, resulting in good stains in the non-image area. I found that Commercially available soybean polysaccharides include Soyafive-S-LN and Soyafive-S-D.
N (both manufactured by Fuji Oil Co., Ltd.) and the like. The soybean polysaccharide that can be used in the present invention has an average molecular weight of 5 to 1,000,000 and a 10 mass% aqueous solution having a viscosity (25 ° C.) of 5 to 100 cp.
Those in the range of are preferably used. The pre-burning surface conditioning solution of the present invention is an aqueous solution containing such a soybean polysaccharide, and the content of the soybean polysaccharide in the aqueous solution is appropriately 0.01 to 45.0% by mass. , Preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1.0 to 20
It is% by mass. If it is less than 0.01% by mass, there is no effect of removing the residual film in the non-image part, and if it exceeds 45.0% by mass, defects occur in the image part.

【0010】本発明のバーニング前整面液には、更に種
々の添加剤を含有させておくことができる。かかる添加
剤の例としては、界面活性剤、種々の塩、酸などが含ま
れる。添加する界面活性剤は、本発明のバーニング前整
面液が平版印刷版の表面に均一に塗布されるのを助ける
と共に、非画像部に被膜を形成することによりバーニン
グ処理による非画像部の汚れ発生を抑える作用も一部有
している。好ましい界面活性剤はアニオン界面活性剤で
あり、中でもスルホン酸塩が好ましい。すなわちスルホ
ン酸塩を添加することにより、非画像部上の残膜を良化
する効果を一層向上することができる。該スルホン酸塩
として芳香族スルホン酸塩及び脂肪族スルホン酸塩があ
る。芳香族スルホン塩として下記式にて示されるものが
ある。
The surface-regulating liquid before burning of the present invention may further contain various additives. Examples of such additives include surfactants, various salts, acids and the like. The surfactant added helps the surface-regulating liquid before burning of the present invention to be uniformly applied to the surface of the lithographic printing plate, and also forms a coating on the non-image area to stain the non-image area due to the burning treatment. It also has a part of action to suppress the generation. Preferred surfactants are anionic surfactants, of which sulfonates are preferred. That is, the effect of improving the residual film on the non-image portion can be further improved by adding the sulfonate. The sulfonates include aromatic sulfonates and aliphatic sulfonates. As an aromatic sulfone salt, there is one represented by the following formula.

【0011】 [0011]

【0012】 [0012]

【0013】(上記式[I]〜[XIX]中、Rは炭素原子数
1〜24個の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、R1
水素あるいは炭素原子数1〜24個の直鎖又は分岐のア
ルキル基を表し、R2、R3、R4及びR5は各々独立して
水素原子又は炭素原子数1〜24個の直鎖又は分岐のア
ルキル基を表し、Mはアルカリ金属、アンモニウム又は
アミンを表す。nは0又は1、n′は0又は1、mは1
又は2、pは0、1又は2、qは0、1又は2を表し、
但し、p+qは1以上であり、Xは−O−、−S−、−
CO−、−NH−、−SO−、−SO2−、−CH2−、
−CH(OH)−、又は−(CH3)C(CH3)−を表
す。)上記アルカリ金属としては中でもナトリウム、カ
リウム、リチウムが挙げられる。上記化合物の具体例と
しては、ドデシルフェノキシベンゼンジスルホン酸ナト
リウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンジナフタレンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウムなどがある。
(In the above formulas [I] to [XIX], R represents a straight chain or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and R 1 is hydrogen or a straight chain having 1 to 24 carbon atoms. Or a branched alkyl group, R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, M is an alkali metal, Represents ammonium or amine, n is 0 or 1, n'is 0 or 1, and m is 1.
Or 2, p is 0, 1 or 2, q is 0, 1 or 2,
However, p + q is 1 or more, and X is -O-, -S-,-.
CO -, - NH -, - SO -, - SO 2 -, - CH 2 -,
-CH (OH) -, or - (CH 3) C (CH 3) - represents a. ) Among the above-mentioned alkali metals, sodium, potassium and lithium can be mentioned. Specific examples of the above compounds include sodium dodecylphenoxybenzenedisulfonate, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium methylenedinaphthalenesulfonate, sodium dodecylbenzenesulfonate and the like.

【0014】脂肪族スルホン酸塩は、一般にR−SO3
M(式中、Rは炭素原子数1〜24個の飽和炭化水素基
又は不飽和炭化水素基を表し、Mはアルカリ金属、アン
モニウム又はアミンを表す。)で示されるものである。
上記炭化水素基は直鎖又は分岐していてもよく、ハロゲ
ン原子又はエステル基で置換されていてもよく、また、
炭化水素基中のメチレン基が−C(O)N(R′)−
(式中、R′はアルキル基又は水素原子を表す。)で置
き換わっていてもよい。上記アルカリ金属としては中で
もナトリウム、カリウム、リチウムが挙げられる。具体
的な化合物としては、ジオクチルスルホコハク酸ナトリ
ウム、ジメチルアミルスルホコハク酸ナトリウム、ジア
ルキルスルホコハク酸ナトリウム、パーフルオロアルキ
ルスルホン酸アンモニウム又はカリウム、α−オレフィ
ンスルホン酸ナトリウムなどがある。
Aliphatic sulfonates are generally R--SO 3
M (wherein R represents a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and M represents an alkali metal, ammonium or amine).
The hydrocarbon group may be linear or branched, may be substituted with a halogen atom or an ester group, and
When the methylene group in the hydrocarbon group is -C (O) N (R ')-
(In the formula, R ′ represents an alkyl group or a hydrogen atom). Examples of the alkali metal include sodium, potassium and lithium. Specific compounds include sodium dioctylsulfosuccinate, sodium dimethylamylsulfosuccinate, sodium dialkylsulfosuccinate, ammonium or potassium perfluoroalkylsulfonate, sodium α-olefinsulfonate, and the like.

【0015】当該水溶液中における上記スルホン酸塩の
濃度は、0.01〜45.0質量%が適当であって、好
ましくは0.1〜30質量%、より好ましくは1.0〜
20質量%である。0.01質量%よりも少ないと非画
像部の残膜を除去する効果がなく、45.0質量%を超
えると画像部に欠陥を生じるようになる。本発明の方法
に使用する上記水溶液中には、更にクエン酸などの酸、
及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基をp
Hを調整するために添加してもよい。その濃度は、当該
水溶液全量において一般的に0.01〜10質量%であ
る。バーニング前整面液は、一般にpHが2〜12、好
ましくは2.5〜10の範囲で使用する。このような範
囲のpHにより、バーニング前整面液を安全に取扱うこ
とができるばかりでなく、アルミニウム支持体へのエッ
チング作用等を抑えることができ、更に支持体の酸化ア
ルミニウム表面の親水性の劣化を防ぐことができる。
The concentration of the sulfonate in the aqueous solution is suitably 0.01 to 45.0% by mass, preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1.0 to
It is 20% by mass. If it is less than 0.01% by mass, there is no effect of removing the residual film in the non-image part, and if it exceeds 45.0% by mass, defects occur in the image part. In the above aqueous solution used in the method of the present invention, an acid such as citric acid,
And a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide
It may be added to adjust H. The concentration is generally 0.01 to 10 mass% in the total amount of the aqueous solution. The surface conditioning solution before burning is generally used in a pH range of 2 to 12, preferably 2.5 to 10. With the pH in such a range, not only the surface conditioning solution before burning can be safely handled, but also the etching action on the aluminum support can be suppressed, and the hydrophilicity of the aluminum oxide surface of the support is deteriorated. Can be prevented.

【0016】本発明のバーニング前整面液は、種々の感
光性平版印刷版の製版に対して適用でき、ポジ型・ネガ
型感光性平版印刷版、光重合型感光性平版印刷版、及び
ネガ型・ポジ型赤外線感光性平版印刷版のいずれの処理
にも用いることができる。また、露光処理及び現像処理
は常法に従って実施することができる。近年、製版・印
刷業界において印刷用版材用の自動現像機が、製版作業
の合理化及び標準化のため広く用いられている。この自
動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用
版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とから
なり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプ
で汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて
現像処理するものである。また、最近は処理液が満たさ
れた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷用
版材を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。こ
のような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働
時間などに応じて補充液を補充しながら処理することが
できる。また、実質的に未使用の各処理液で処理する、
いわゆる使い捨て処理方式とすることも可能である。
The pre-burning surface-adjusting solution of the present invention can be applied to the plate making of various photosensitive lithographic printing plates, and includes positive / negative photosensitive lithographic printing plates, photopolymerizable photosensitive lithographic printing plates, and negative lithographic printing plates. It can be used for any processing of positive-working and positive working infrared-sensitive lithographic printing plates. Further, the exposure process and the development process can be carried out according to a conventional method. In recent years, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in the plate making / printing industry for streamlining and standardizing plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate material, each processing liquid tank, and a spray device. Each of the processing liquids pumped up is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate material is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a treatment liquid tank filled with the treatment liquid to perform treatment. In such automatic processing, it is possible to perform processing while replenishing each processing solution with a replenishing solution according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, treatment with each treatment liquid that is substantially unused,
A so-called disposable processing method can also be used.

【0017】本発明のバーニング前整面液の適用は、上
記のような一般的な自動現像機にて実施することができ
る。本発明のバーニング前整面液は、感光性平版印刷版
を画像露光、現像、必要あれば水洗した後、バーニング
処理の前に塗布される。バーニング前整面液は液温15
〜35℃で使用するのが適当である。その使用方法は、
ガム液と同じように、スプレーで吹き付けてロールで均
一にするのが適当である。バーニング前整面液が塗布さ
れた平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニン
グプロセサー(たとえば富士写真フィルム(株)より販
売されているバーニングプロセサー1300)などで高
温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像
を形成している成分の種類にもよるが、180〜300
℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。バーニング処
理された平版印刷版は、そのまま印刷工程に進めること
ができる。あるいは必要に応じて適宜、水洗、アラビア
ガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液によるガム引きな
ど、従来より行われている処理を施すこともできる。
The application of the surface conditioning solution before burning of the present invention can be carried out by the general automatic developing machine as described above. The pre-burning surface-adjusting solution of the present invention is applied to the photosensitive lithographic printing plate after imagewise exposure, development and, if necessary, washing with water, and before the burning treatment. The surface conditioning solution before burning has a liquid temperature of 15
Suitably used at ~ 35 ° C. How to use
As with the gum solution, it is suitable to spray and homogenize on a roll. The lithographic printing plate coated with the surface conditioning solution before burning is dried if necessary and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, Burning Processor 1300 sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). The heating temperature and time in this case are 180 to 300, depending on the type of components forming the image.
The temperature is preferably in the range of 1 to 20 minutes. The planographic printing plate that has been subjected to the burning treatment can be directly subjected to the printing process. Alternatively, if necessary, a conventional treatment such as washing with water or gumming with a desensitizing solution containing gum arabic or a starch derivative can be performed.

【0018】本発明のバーニング前整面液を使用する製
版方法は、特に、赤外線吸収剤を含有する画像形成層を
有する赤外線感光性平版印刷版を用いた製版に好ましく
適用される。以下に、本発明の製版方法を適用し得る一
般的な赤外線感光性平版印刷版、及び本発明の製版方法
に使用する一般的なアルカリ現像処理液について説明す
る。赤外線感光性平版印刷版は、支持体上に画像形成層
を有し、さらに必要に応じて他の層を有してなり、画像
形成層は(A)赤外線吸収剤、さらに(B)アルカリ可
溶性高分子化合物を含み、その他に(C)アルカリ可溶
性高分子化合物と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化
合物のアルカリ水溶液への溶解性を低下させるととも
に、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合物、
(D)環状酸無水物などを含有してもよい。また、ネガ
型の平版印刷版原版の場合には、露光部が硬化して画像
部となるため、画像形成層にさらに(E)熱により酸を
発生する化合物と、(F)酸により架橋する架橋剤とを
含有して構成される。以下に、各構成成分について簡単
に説明する。
The plate-making method using the pre-burning surface-adjusting solution of the present invention is particularly preferably applied to plate-making using an infrared-sensitive lithographic printing plate having an image forming layer containing an infrared absorber. Hereinafter, a general infrared-sensitive lithographic printing plate to which the plate making method of the present invention can be applied, and a general alkali developing solution used in the plate making method of the present invention will be described. The infrared-sensitive lithographic printing plate comprises an image-forming layer on a support and, if necessary, other layers. The image-forming layer comprises (A) an infrared absorber and (B) an alkali-soluble layer. A compound containing a polymer compound, which is further compatibilized with (C) an alkali-soluble polymer compound to reduce the solubility of the alkali-soluble polymer compound in an alkaline aqueous solution, and to reduce the solubility-reducing action by heating. ,
(D) Cyclic acid anhydride and the like may be contained. In the case of a negative type lithographic printing plate precursor, the exposed area is cured to form an image area. Therefore, the compound (A) which generates an acid by heat is crosslinked with the acid (F) in the image forming layer. And a cross-linking agent. Hereinafter, each component will be briefly described.

【0019】−(A)赤外線吸収剤− 赤外線吸収剤(以下、「(A)「成分」ということがあ
る。)は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有す
る。使用可能な赤外線吸収剤としては、波長700nm以
上の領域に、好ましくは波長750nm〜1200nmの波
長領域に赤外線を高効率に吸収しうる染料又は顔料が好
ましく、波長760nm〜1200nmの領域に吸収極大を
有する染料又は顔料がより好ましい。
-(A) Infrared absorbing agent-The infrared absorbing agent (hereinafter sometimes referred to as "(A)" component ") has a function of converting absorbed infrared rays into heat. As the usable infrared absorbing agent, a dye or pigment capable of absorbing infrared rays in a wavelength range of 700 nm or more, preferably in a wavelength range of 750 nm to 1200 nm with high efficiency is preferable, and an absorption maximum in a wavelength range of 760 nm to 1200 nm. More preferred are dyes or pigments having.

【0020】前記染料材としては、市販の染料又は文献
(例えば、「染料便覧」、有機合成化学協会編集、昭和
45年刊)に記載の公知のものが挙げられ、例えば、ア
ゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフ
トキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
Examples of the dye material include commercially available dyes and known dyes described in the literature (for example, "Handbook of Dyes", edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1945). For example, azo dyes and metal complex salts azo. Examples thereof include dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinonimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes.

【0021】中でも、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭59−202
829号、特開昭60−78787号等に記載のシアニ
ン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−1
81690号、特開昭58−194595号等に記載の
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載のナフトキノン染料、特
開昭58−112792号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許434,875号明細書に記載のシアニン
染料、米国特許5,380,635号明細書に記載のジ
ヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が好適に挙げら
れる。
Among them, for example, JP-A-58-12524
6, JP-A-59-84356, JP-A-59-202.
829, cyanine dyes described in JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, JP-A-58-1.
81690, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, and JP-A-58.
-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, and the like, naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, and the like. Preferable examples thereof include the squarylium dye described in JP-A No. 434,875, the cyanine dye described in British Patent 434,875, and the dihydroperimidine squarylium dye described in US Pat. No. 5,380,635.

【0022】また、米国特許第5,156,938号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、米国特許第
3,881,924号明細書に記載の置換されたアリー
ルベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1426
45(米国特許第4,327,169号明細書)に記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
のピリリウム系化合物、特開昭59−216146号に
記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号
明細書に記載のペンタメチンチオピリウム塩等、特公平
5−13514号、同5−19702号に記載のピリリ
ウム化合物、市販品としては、Epolight III-178、E
polight III-130、Epolight III-125、Epolight
IV−62A(エポリン社製)等も好ましい。
The near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferable, and the substituted arylbenzo (thio groups described in US Pat. No. 3,881,924 are also preferable. ) Pyrylium salt, JP-A-57-1426
45 (US Pat. No. 4,327,169), a trimethine thiapyrylium salt, JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363.
No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, cyanine dyes described in JP-A No. 59-216146, U.S. Pat. No. 283,475, pentamethine thiopyrium salt, etc., Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702, pyrilium compounds, and commercially available products, Epolight III-178, E
polight III-130, Epolight III-125, Epolight
IV-62A (manufactured by Eporin) and the like are also preferable.

【0023】さらに、米国特許第4,756,993 号明細書に
記載の式(I)、(II)で表される近赤外線吸収染料も
好適なものとして挙げることができる。上記のうち、シ
アニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッ
ケルチオレート錯体がより好ましい。
Further, near-infrared absorbing dyes represented by the formulas (I) and (II) described in US Pat. No. 4,756,993 can also be mentioned as preferable ones. Among the above, a cyanine dye, a squarylium dye, a pyrylium salt, and a nickel thiolate complex are more preferable.

【0024】前記顔料としては、市販の顔料又はカラー
インデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日
本顔料技術協会編)、1977年刊)、「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)に記載の顔料が挙げ
られ、たとえば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマー結合色素が
挙げられる。
As the above-mentioned pigments, commercially available pigments or color index (CI) handbook, "Latest pigment handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association), 1977), "Latest pigment application technology" (CMC Publishing, 1986) Annually), "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984), and examples thereof include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, Fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes are mentioned.

【0025】具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、ア
ゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタ
ロシナニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。中でも、
カーボンブラックが好ましい。
Specifically, for example, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocinanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, Isoindolinone pigment, quinophthalone pigment, dyed lake pigment, azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, fluorescent pigment,
Examples include inorganic pigments and carbon black. Above all,
Carbon black is preferred.

【0026】前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよ
いし、表面処理を施した後に用いてもよい。表面処理の
方法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シ
ランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネ
ート等)を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。
これらの表面処理の方法は、「金属石鹸の性質と応用」
(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、198
4年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、19
86年刊)に記載されている。
The pigment may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. As a method of surface treatment, a method of surface coating resin or wax,
Examples thereof include a method of attaching a surfactant and a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface.
The method of these surface treatments is "property and application of metallic soap".
(Koshobo), "Printing ink technology" (CMC Publishing, 198)
4 years) and "Latest pigment application technology" (CMC Publishing, 19
1986).

【0027】前記顔料の粒径としては、0.01μm〜1
0μmが好ましく、0.05μm〜1μmがより好まし
く、0.1μm〜1μmが最も好ましい。前記粒径が、0.
01μm未満であると、感光層塗布液等の分散液を調製
したときの分散物の安定性が劣化することがあり、10
μmを超えると、画像形成層の均一性が悪化することが
ある。
The particle size of the pigment is 0.01 μm to 1
0 μm is preferable, 0.05 μm to 1 μm is more preferable, and 0.1 μm to 1 μm is most preferable. The particle size is 0.
If it is less than 01 μm, the stability of the dispersion when the dispersion such as the photosensitive layer coating solution is prepared may deteriorate.
When it exceeds μm, the uniformity of the image forming layer may deteriorate.

【0028】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に汎用の分散機等、公知の分散技術から
適宜選択することができる。前記分散機としては、超音
波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、ス
ーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、
KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミ
ル、加圧ニーダー等が挙げられる。その詳細について
は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)に記載がある。
The method for dispersing the pigment can be appropriately selected from known dispersing techniques such as a general-purpose disperser for ink production and toner production. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a desperzer,
A KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three roll mill, a pressure kneader and the like can be mentioned. The details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0029】前記染料又は顔料の含有量としては、画像
形成層の全固形分質量に対して0.01〜50質量%が好
ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、さらに染料
の場合には、0.5〜10質量%が最も好ましく、顔料の
場合には、3.1〜10質量%が最も好ましい。前記含有
量が0.01質量%未満であると、感度が低くなることが
あり、50質量%を超えると、画像形成層の均一性が低
下し、その耐久性が劣化することがある。
The content of the dye or pigment is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass based on the total mass of the solid content of the image forming layer. Is most preferably 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, 3.1 to 10% by mass is most preferable. If the content is less than 0.01% by mass, the sensitivity may be lowered, and if it exceeds 50% by mass, the uniformity of the image forming layer may be deteriorated and the durability thereof may be deteriorated.

【0030】前記染料又は顔料は、他の成分と同一層に
添加してもよいし、別の層を設けてそこに添加してもよ
い。別の層とする場合は、後述の(C)成分を含有する
層に隣接する層に添加することが好ましい。また、染料
又は顔料と、アルカリ可溶性高分子化合物とは同一の層
に含有することが好ましいが、別の層にそれぞれ含有さ
せても構わない。
The dye or pigment may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided separately. When it is formed as another layer, it is preferably added to a layer adjacent to the layer containing the component (C) described later. Further, the dye or pigment and the alkali-soluble polymer compound are preferably contained in the same layer, but may be contained in different layers.

【0031】−(B)アルカリ可溶性高分子化合物− 使用可能なアルカリ可溶性高分子化合物(以下、
「(B)成分」ということがある。)としては、下記
(1)〜(3)の酸性基を主鎖及び/又は側鎖の構造中
に有するアルカリ水可溶性の高分子化合物を用いること
ができる。 (1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。) 〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CON
HSO2R〕 前記(1)〜(3)中、Arは置換基を有していてもよ
い2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有して
いてもよい炭化水素基を表す。以下に、その具体例を示
すが、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。
-(B) Alkali-soluble polymer compound-A usable alkali-soluble polymer compound (hereinafter,
Sometimes referred to as "(B) component". As the above), an alkaline water-soluble polymer compound having the following acidic groups (1) to (3) in the main chain and / or side chain structure can be used. (1) phenol group (-Ar-OH) (2) sulfonamide group (-SO 2 NH-R) ( 3) substituted sulfonamide-based acid group (hereinafter, referred to as "active imide group".) [-SO 2 NHCOR , -SO 2 NHSO 2 R, -CON
HSO 2 R] In the above (1) to (3), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. Represent Specific examples thereof are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0032】(1)フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、フェノールとホルム
アルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m
−、p−又はm−/p−混合のいずれでもよい。)とホ
ルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂又はピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有するモノマーを重
合させた高分子化合物を挙げることもできる。
(1) Examples of the alkali-soluble polymer compound having a phenol group include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, and a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde. , A condensation polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol and cresol (m
Any of-, p- or m- / p- mixture may be used. A novolak resin such as a condensation polymer of) and formaldehyde, or a condensation polymer of pyrogallol and acetone. Further, a polymer compound obtained by polymerizing a monomer having a phenol group in its side chain can also be mentioned.

【0033】側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽
和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる
重合性モノマーを単独重合、或いは、該重合性モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。フェノール基を側鎖に有するモノマ
ーとしては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer composed of a low molecular weight compound each having one or more unsaturated bonds capable of polymerizing with the phenolic hydroxyl group is homopolymerized, or the polymerizable compound Examples thereof include polymer compounds obtained by copolymerizing a monomer with another polymerizable monomer. Examples of the monomer having a phenol group in its side chain include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, hydroxystyrene and the like having a phenol group in its side chain.

【0034】具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニル
アクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリ
レート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタク
リレート等を好適に挙げることができる。
Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl)
Acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate , M-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2 -Hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydro) Shifeniru) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate can be preferably exemplified.

【0035】前記フェノール基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物の重量平均分子量としては、5.0×102
〜2.0×105のものが、数平均分子量としては、2.0
×10 2〜1.0×105のものが、画像形成性の点で好ま
しい。また、フェノール基を有するアルカリ可溶性高分
子化合物は、単独での使用のみならず、2種類以上を組
合わせて使用してもよい。組合わせる場合には、米国特
許第4123279号明細書に記載されているような、
t−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体
や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として
有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体を併
用してもよい。これらの縮重合体も、重量平均分子量が
5.0×102〜2.0×105のもの、数平均分子量が2.0
×102〜1.0×105のものが好ましい。
Alkali-soluble having the above-mentioned phenol group
The weight average molecular weight of the polymer compound is 5.0 × 10.2
~ 2.0 x 10FiveHas a number average molecular weight of 2.0.
× 10 2~ 1.0 x 10FiveAre preferable in terms of image forming property.
Good In addition, the alkali-soluble high content of phenol group
Sub-compounds can be used alone or in combination of two or more.
You may use together. If you want to combine,
As described in U.S. Pat. No. 4,123,279,
Condensation polymer of t-butylphenol and formaldehyde
And polycondensation of octylphenol and formaldehyde
Body-like alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent
The condensation polymer of phenol and formaldehyde
May be used. These polycondensates also have a weight average molecular weight of
5.0 x 102~ 2.0 x 10FiveHaving a number average molecular weight of 2.0
× 102~ 1.0 x 10FiveAre preferred.

【0036】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する化合物を主たるモノマー構成単位とする重合
体、即ち、単独重合体又は前記モノマー構成単位に他の
重合性モノマーを共重合させた共重合体を挙げることが
できる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとし
ては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基−SO2 −NH−と、
重合可能な不飽和結合とを、それぞれ1以上有する低分
子化合物からなるモノマーが挙げられる。中でも、アク
リロイル基、アリル基又はビニロキシ基と、置換或いは
モノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ
基と、を有する低分子化合物が好ましい。前記低分子化
合物としては、例えば、下記一般式(a)〜(e)で表
される化合物が挙げられるが、本発明においては、これ
らに限定されるものではない。
(2) Examples of the alkali-soluble polymer compound having a sulfonamide group include, for example, a polymer having a compound having a sulfonamide group as a main monomer constituent unit, that is, a homopolymer or another monomer constituent unit. Examples thereof include a copolymer obtained by copolymerizing a polymerizable monomer. Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group include a sulfonamide group —SO 2 —NH— having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom in one molecule,
Examples of the monomer include a low molecular weight compound having one or more polymerizable unsaturated bonds. Among them, a low molecular weight compound having an acryloyl group, an allyl group or a vinyloxy group and a substituted or mono-substituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of the low molecular weight compounds include compounds represented by the following general formulas (a) to (e), but the present invention is not limited thereto.

【0037】 [0037]

【0038】式中、X1、X2は、それぞれ独立に酸素原
子又はNR7 を表す。R1、R4は、それぞれ独立に水素
原子又はCH3を表す。R2、R5、R9、R12、R16は、
それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜1
2のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基
又はアラルキレン基を表す。R3、R7、R13は、それぞ
れ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1
〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又
はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、それぞれ
独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基
を表す。R8、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子
又はCH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結
合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラ
ルキレン基を表す。Y1、Y2はそれぞれ独立に単結合又
はCOを表す。
In the formula, X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or NR 7 . R 1 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 , and R 16 are
Each independently has 1 to 1 carbon atoms which may have a substituent.
2 represents an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. R 3 , R 7 , and R 13 each independently represent a hydrogen atom or a carbon atom which may have a substituent.
~ 12 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, which may have a substituent, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or CH 3 . R 11 and R 15 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO.

【0039】中でもm−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
Among them, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0040】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有す
る化合物を主たるモノマー構成単位とする重合体を挙げ
ることができる。活性イミド基を有する化合物を主たる
モノマー構成単位とする重合体としては、1分子中に、
下記式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ1以上有する低分子化合物からなるモノ
マーを単独重合、或いは、該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。
(3) Examples of the alkali-soluble polymer compound having an active imide group include polymers having a compound having an active imide group as a main monomer constituent unit. As a polymer having a compound having an active imide group as a main monomer constitutional unit,
Obtained by homopolymerizing a monomer composed of a low molecular weight compound having an active imide group represented by the following formula and at least one polymerizable unsaturated bond, or by copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. A high molecular compound can be mentioned.

【0041】 [0041]

【0042】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に挙げることができる。さらに、上記のほか、前記フェ
ノール基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を
有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合
性モノマーのうちのいずれか2種類以上を重合させた高
分子化合物、或いは、これら2種以上の重合性モノマー
にさらに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高
分子化合物も好適に挙げられる。
Specific examples of such a compound include:
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
Preferable examples thereof include-(p-toluenesulfonyl) acrylamide. Further, in addition to the above, a polymer compound obtained by polymerizing any two or more of the above-mentioned polymerizable monomer having a phenol group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, and a polymerizable monomer having an active imide group, or Further, a polymer compound obtained by copolymerizing these two or more kinds of polymerizable monomers with another polymerizable monomer is also preferable.

【0043】フェノール基を有する重合性モノマー(M
1)に、スルホンアミド基を有する重合性モノマー(M
2)及び/又は活性イミド基を有する重合性モノマー
(M3)を共重合させる場合の配合比(M1:M2及び
/又はM3;質量比)としては、50:50〜5:95
が好ましく、40:60〜10:90がより好ましい。
A polymerizable monomer having a phenol group (M
1), a polymerizable monomer having a sulfonamide group (M
The compounding ratio (M1: M2 and / or M3; mass ratio) when 2) and / or the polymerizable monomer (M3) having an active imide group is copolymerized is 50:50 to 5:95.
Is preferred, and 40:60 to 10:90 is more preferred.

【0044】アルカリ可溶性高分子化合物が、前記酸性
基(1)〜(3)より選ばれるいずれかを有するモノマ
ー構成単位と、他の重合性モノマーの構成単位とから構
成される共重合体である場合、該共重合体中に、前記酸
性基(1)〜(3)より選ばれるいずれかを有するモノ
マー構成単位を10モル%以上含むことが好ましく、2
0モル%以上含むことがより好ましい。前記モノマー構
成単位の含有量が、10モル%未満であると、十分なア
ルカリ可溶性が得られずに、現像ラチチュードが狭くな
ることがある。前記共重合体の合成方法としては、従来
より公知のグラフト共重合法、ブロック共重合法、ラン
ダム共重合法等を用いることができる。
The alkali-soluble polymer compound is a copolymer composed of a monomer constitutional unit having any one of the acidic groups (1) to (3) and a constitutional unit of another polymerizable monomer. In this case, it is preferable that the copolymer contains 10 mol% or more of a monomer structural unit having any one selected from the acidic groups (1) to (3).
It is more preferable to contain 0 mol% or more. If the content of the monomer structural unit is less than 10 mol%, sufficient alkali solubility may not be obtained and the development latitude may be narrowed. As a method for synthesizing the copolymer, a conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method, random copolymerization method or the like can be used.

【0045】前記酸性基(1)〜(3)より選ばれるい
ずれかを有するモノマーを構成単位とする重合性モノマ
ーと共重合させる。他の重合性モノマーとしては、例え
ば、下記(a)〜(1)に挙げるモノマーを挙げること
ができるが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。
A monomer having any one of the acidic groups (1) to (3) is copolymerized with a polymerizable monomer having a constituent unit. Examples of the other polymerizable monomer include the monomers listed in (a) to (1) below, but the present invention is not limited thereto.

【0046】(a)2−ヒドロキエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類。 (b)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (c)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。
(A) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (B) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylate such as acrylate. (C) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl. Alkyl methacrylate such as methacrylate.

【0047】(d)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリるアミド、N−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミド、又はメタクリルアミ
ド。 (e)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (f)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (g)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等とスチレン類。
(D) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide , Acrylamide such as N-ethyl-N-phenylacrylamide, or methacrylamide. (E) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (F) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (G) Styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene and the like and styrenes.

【0048】、(h)メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。 (i)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (j)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (k)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、
N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタ
クリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。 (l)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。
(H) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone. (I) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (J) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (K) maleimide, N-acryloyl acrylamide,
Unsaturated imides such as N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (L) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, and itaconic acid.

【0049】前記アルカリ水可溶性高分子化合物として
は、単独重合体、共重合体に関わらず、膜強度の点で、
重量平均分子量が2000以上、数平均分子量が500
以上のものが好ましく、重量平均分子量が5000〜3
00000、数平均分子量が800〜250000であ
り、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜
10のものがより好ましい。また、前記アルカリ可溶性
高分子化合物が、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−アルデヒド樹脂等である場合には、重量平
均分子量が500〜20000であって、数平均分子量
が200〜10000のものが好ましい。
The alkali water-soluble polymer compound, regardless of homopolymer or copolymer, is
Weight average molecular weight of 2000 or more, number average molecular weight of 500
The above is preferable, and the weight average molecular weight is 5,000 to 3
00000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to
10 is more preferable. Further, the alkali-soluble polymer compound, phenol-formaldehyde resin,
In the case of a cresol-aldehyde resin or the like, those having a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000 are preferable.

【0050】前記アルカリ水可溶性高分子化合物の含有
量としては、画像形成層の全固形分質量に対して30〜
99質量%が好ましく、40〜95質量%がより好まし
く、50〜90質量%が最も好ましい。前記含有量が、
30質量%未満であると、画像形成層の耐久性が低下す
ることがあり、99質量%を越えると、感度、耐久性が
低下することがある。また、前記高分子化合物は、1種
類のみを用いても、2種類以上を組合わせて用いてもよ
い。
The content of the alkaline water-soluble polymer compound is 30 to 30 with respect to the total solid content of the image forming layer.
99 mass% is preferable, 40-95 mass% is more preferable, 50-90 mass% is the most preferable. The content is
If it is less than 30% by mass, the durability of the image forming layer may decrease, and if it exceeds 99% by mass, the sensitivity and durability may decrease. Further, the polymer compound may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0051】−(C)前記アルカリ可溶性高分子化合物
と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ
水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該
溶解性低下作用が減少する化合物− この(C)成分は、分子内に存在する水素結合性の官能
基の働きにより、前記(B)アルカリ可溶性高分子化合
物との相溶性が良好であり、均一な画像形成層用塗布液
を形成しうるとともに、アルカリ可溶性高分子化合物と
の相互作用により、該アルカリ可溶性高分子化合物のア
ルカリ可溶性を抑制する機能(溶解性抑制作用)を有す
る化合物を指す。
-(C) A compound which is compatible with the alkali-soluble polymer compound to reduce the solubility of the alkali-soluble polymer compound in an aqueous alkali solution, and which reduces the solubility-reducing action by heating- The component (C) has good compatibility with the above-mentioned (B) alkali-soluble polymer compound due to the function of the hydrogen-bonding functional group present in the molecule, and can form a uniform coating liquid for the image-forming layer. At the same time, it refers to a compound having a function of suppressing the alkali solubility of the alkali-soluble polymer compound by the interaction with the alkali-soluble polymer compound (solubility suppressing action).

【0052】また、加熱によりアルカリ可溶性高分子化
合物に対する前記溶解性抑制作用は消滅するが、この赤
外線吸収剤自体が加熱により分解する化合物である場合
には、分解に十分なエネルギーが、レーザー出力や照射
時間等の諸条件により付与されないと、アルカリ可溶性
高分子化合物の溶解性抑制作用を十分に低下させること
ができず、感度が低下するおそれがある。このため、
(C)成分の熱分解温度としては、150℃以上が好ま
しい。
Although the above-described solubility-suppressing action on the alkali-soluble polymer compound disappears by heating, when the infrared absorbent itself is a compound that decomposes by heating, sufficient energy for decomposition is obtained by laser output or laser output. If it is not given under various conditions such as irradiation time, the solubility-suppressing action of the alkali-soluble polymer compound cannot be sufficiently lowered, and the sensitivity may be lowered. For this reason,
The thermal decomposition temperature of the component (C) is preferably 150 ° C or higher.

【0053】(C)成分としては、前記(B)アルカリ
可溶性高分子化合物との相互作用を考慮して、例えば、
スルホン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ア
ミド化合物等の前記アルカリ可溶性高分子化合物と相互
作用しうる化合物の中から適宜選択することができる。
特に、例えば、前記(B)成分として、ノボラック樹脂
を単独で用いる場合には、後述する「(A+C)成分」
が好ましく、以下に例示するシアニン染料A等がより好
ましい。(A+C)成分については後述する。(C)成
分と前記(B)アルカリ可溶性高分子化合物との配合比
(C/B)としては、一般に1/99〜25/75が好
ましい。前記混合比が、1/99未満、即ち、(C)成
分が少なすぎると、アルカリ可溶性高分子化合物との相
互作用が不十分となり、アルカリ可溶性を低下させるこ
とができず、良好に画像形成することができないことが
あり、25/75を超える、即ち、(C)成分が多すぎ
ると、相互作用が過大となり、感度が著しく低下するこ
とがある。
As the component (C), in consideration of the interaction with the alkali-soluble polymer compound (B), for example,
It can be appropriately selected from compounds capable of interacting with the alkali-soluble polymer compound, such as sulfone compounds, ammonium salts, phosphonium salts, and amide compounds.
In particular, for example, when a novolac resin is used alone as the component (B), the “(A + C) component” described below is used.
Is preferred, and the cyanine dye A exemplified below is more preferred. The component (A + C) will be described later. Generally, the compounding ratio (C / B) of the component (C) and the alkali-soluble polymer compound (B) is preferably 1/99 to 25/75. When the mixing ratio is less than 1/99, that is, when the amount of the component (C) is too small, the interaction with the alkali-soluble polymer compound becomes insufficient, the alkali solubility cannot be lowered, and good image formation is achieved. If it exceeds 25/75, that is, if the amount of component (C) is too large, the interaction may become excessive and the sensitivity may be significantly reduced.

【0054】−(A+C)成分− 前記(A)成分及び(C)成分に代えて、これら双方の
特性を有する化合物((A+C)成分)を用いることが
できる。前記(A+C)成分は、光を吸収して熱を発生
する性質(即ち、(A)成分の特性)を有し、しかも7
00〜1200nmの波長領域に吸収域を持つと共に、さ
らにアルカリ可溶性高分子化合物と良好に相溶しうる塩
基性染料である。(A+C)成分は、その分子内にアン
モニウム基、イミニウム基等のアルカリ可溶性高分子化
合物と相互作用する基を有する(即ち、(C)成分の特
性)ため、前記高分子化合物と相互作用して、そのアル
カリ可溶性を抑制することができる。前記(A+C)成
分としては、例えば、下記一般式(Z)で表される化合
物を挙げることができる。
-(A + C) component-In place of the (A) component and the (C) component, a compound ((A + C) component) having both properties can be used. The component (A + C) has a property of absorbing light to generate heat (that is, the property of the component (A)), and
It is a basic dye that has an absorption region in the wavelength region of 0 to 1200 nm and is also compatible with alkali-soluble polymer compounds. The component (A + C) has a group that interacts with the alkali-soluble polymer compound such as an ammonium group and an iminium group in its molecule (that is, the characteristic of the component (C)), and therefore it interacts with the polymer compound. , Its alkali solubility can be suppressed. Examples of the component (A + C) include compounds represented by the following general formula (Z).

【0055】 [0055]

【0056】前記一般式(Z)中、R21〜R24は、それ
ぞれ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭
素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、R21
22、R23とR24はそれぞれ結合して環構造を形成して
いてもよい。R21〜R24としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよ
い。ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。
In the general formula (Z), R 21 to R 24 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkoxy group, cyclo It represents an alkyl group or an aryl group, and R 21 and R 22 , and R 23 and R 24 may be bonded to each other to form a ring structure. Examples of R 21 to R 24 include a hydrogen atom,
Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group and a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. Here, as the substituent, for example, a halogen atom,
Carbonyl group, nitro group, nitrile group, sulfonyl group,
Examples thereof include a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.

【0057】式中、R25〜R30は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基を表
し、前記R25〜R30としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。
In the formula, R 25 to R 30 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, and examples of R 25 to R 30 include a methyl group, Examples thereof include an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group and a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. Here, as the substituent, for example, a halogen atom, a carbonyl group,
Examples thereof include nitro group, nitrile group, sulfonyl group, carboxyl group, carboxylic acid ester and sulfonic acid ester.

【0058】式中、R31〜R33は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R32は、前記R31又は
33と結合して環構造を形成していてもよく、m>2の
場合は、複数のR32同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。前記R31〜R33としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、R32同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。また、mは1〜8の整数を表し、中でも1〜3が好
ましい。
In the formula, R 31 to R 33 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and R 32 is the above R 31. Alternatively, it may combine with R 33 to form a ring structure, and when m> 2, a plurality of R 32 s may combine with each other to form a ring structure. Examples of R 31 to R 33 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring formed by combining R 32's , a cyclohexyl ring, and the like, and these groups may further have a substituent. .. Here, as the substituent, for example, a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group,
Examples thereof include carboxylic acid ester and sulfonic acid ester. Moreover, m represents the integer of 1-8, and 1-3 are preferable especially.

【0059】式中、R34〜R35は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R34は、R35と結合し
て環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複数
のR34同士が結合して環構造を形成していてもよい。前
記R34〜R35としては、例えば、塩素原子、シクロヘキ
シル基、R34同士が結合してなるシクロペンチル環、シ
クロヘキシル環等が挙げられ、これらの基は、さらに置
換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、例
えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリ
ル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エス
テル、スルホン酸エステル等が挙げられる。また、m
は、1〜8の整数を表し、中でも、1〜3が好ましい。
In the formula, R 34 to R 35 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and R 34 is the same as R 35 . They may be bonded to each other to form a ring structure, and when m> 2, a plurality of R 34 's may be bonded to each other to form a ring structure. Examples of R 34 to R 35 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring formed by combining R 34's , a cyclohexyl ring, and the like, and these groups may further have a substituent. .. Here, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, a sulfonic acid ester, and the like. Also, m
Represents an integer of 1 to 8, and among them, 1 to 3 are preferable.

【0060】式中、X-は、アニオンを表し、例えば、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−O−トル
エンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−
クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スル
ホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等
が挙げられる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
In the formula, X represents an anion, for example,
Perchloric acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-O-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4. 6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-
Chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid and para. Examples include toluene sulfonic acid. Of these, alkylaromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are preferable.

【0061】前記一般式(Z)で表される化合物は、一
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、本発明に
おいては、これらに限られるものではない。
The compound represented by the general formula (Z) is a compound generally called a cyanine dye, and specifically, the compounds shown below are preferably used, but in the present invention, the compounds are not limited thereto. Not a thing.

【0062】上述の(A)成分及び(C)成分に代え
て、これら双方の特性を有する前記(A+C)成分を用
いる場合、該(A+C)成分と前記(B)成分との使用
量比〔(A+C)/(B)〕としては、1/99〜30
/70が好ましく、1/99〜25/75がより好まし
い。
When the component (A + C) having both characteristics is used in place of the component (A) and the component (C), the ratio of the amount of the component (A + C) and the component (B) used []. As (A + C) / (B)], 1/99 to 30
/ 70 is preferable, and 1/99 to 25/75 is more preferable.

【0063】−(D)環状酸無水物− 平版印刷版原版には、さらに環状酸無水物を使用しても
よい。該環状酸無水物は、その構造内にカルボン酸無水
物のカルボニル基と共役する結合を有し、そのカルボニ
ル基の安定性を増すことで分解速度を制御し、保存経時
において適当な速度で分解して酸を発生する。そのた
め、保存経時での現像性劣化を抑え、現像性を長期間安
定に維持しうる。前記環状酸無水物としては、下記一般
式(I)又は(II)で表される化合物が挙げられる。
-(D) Cyclic acid anhydride-A cyclic acid anhydride may be further used in the lithographic printing plate precursor. The cyclic acid anhydride has a bond conjugated to the carbonyl group of the carboxylic acid anhydride in its structure, the decomposition rate is controlled by increasing the stability of the carbonyl group, and the cyclic acid anhydride decomposes at an appropriate rate during storage. And generate acid. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the developability over time and to maintain the developability stably for a long period of time. Examples of the cyclic acid anhydride include compounds represented by the following general formula (I) or (II).

【0064】 [0064]

【0065】一般式(I)中、R41、R42はそれぞれ独
立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子
数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基、カルボニル基、カ
ルボキシ基もしくはカルボン酸エステルを表す。なお、
41、R42は互いに連結して環構造を形成してもよい。
前記R41、R42としては、例えば水素原子、又は炭素原
子数1〜12の無置換のアルキル基、アリール基、アル
ケニル基、シクロアルキル基などが好適に挙げられ、具
体的には水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、
ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられ、これらの基は、さらに置換
基を有していてもよい。R41、R42が互いに連結して環
構造を形成する場合、その環状基としては、例えばフェ
ニレン基、ナフチレン基、シクロヘキセン基、シクロペ
ンテン基などが挙げられる。前記置換基としては、例え
ばハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボニル基、スルホ
ン酸エステル、ニトロ基、ニトリル基などが挙げられ
る。
In the general formula (I), R 41 and R 42 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkoxy group or a cycloalkyl group. Represents a group, an aryl group, a carbonyl group, a carboxy group or a carboxylic acid ester. In addition,
R 41 and R 42 may combine with each other to form a ring structure.
Preferable examples of R 41 and R 42 include a hydrogen atom, or an unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, and the like. Methyl group, ethyl group, phenyl group,
Examples thereof include a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. When R 41 and R 42 are linked to each other to form a ring structure, examples of the cyclic group include a phenylene group, a naphthylene group, a cyclohexene group and a cyclopentene group. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, a carbonyl group, a sulfonic acid ester, a nitro group and a nitrile group.

【0066】一般式(II)中、R43、R44、R45、R46
は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、塩素など
のハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、又は置換基を
有していてもよい炭素年始数1〜12のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリー
ル基、カルボニル基、カルボキシ基もしくはカルボン酸
エステル基などを表す。前記R43、R44、R45、R46
しては、例えば水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1
〜12の無置換のアルキル基、アルケニル基、炭素原子
数6〜12のアリール基などが好適に挙げられ、具体的
にはメチル基、ビニル基、フェニル基、アリル基などが
挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても
よい。前記置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、カルボニル基、スルホン酸エステル、ニトロ
基、ニトリル基、カルボキシ基などが挙げられる。
In the general formula (II), R 43 , R 44 , R 45 and R 46
Are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom such as chlorine, a nitro group, a nitrile group, or an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkoxy group, a cyclo group. It represents an alkyl group, an aryl group, a carbonyl group, a carboxy group, a carboxylic acid ester group, or the like. Examples of R 43 , R 44 , R 45 and R 46 include a hydrogen atom, a halogen atom and a carbon atom of 1
Preferable examples thereof include an unsubstituted alkyl group having ˜12, an alkenyl group and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, a vinyl group, a phenyl group and an allyl group. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, a carbonyl group, a sulfonic acid ester, a nitro group, a nitrile group and a carboxy group.

【0067】環状酸無水物として、例えば無水フタル
酸、3,4,5,6−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、3−ヒドロキシ無水フタル酸、
3−メチル無水フタル酸、3−フェニル無水フタル酸、
無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイ
ン酸、フェニル無水マレイン酸、ジメチル無水マレイン
酸、ジクロロ無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸な
どが好適に挙げられる。環状酸無水物の含有量として
は、画像形成層の全固形分含量に対して0.5〜20質量
%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、1〜1
0質量%が最も好ましい。前記含有量が0.5質量%未満
であると現像性の維持効果が不十分となることがあり、
20質量%を超えると画像を形成できないことがある。
As the cyclic acid anhydride, for example, phthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, 3-hydroxyphthalic anhydride,
3-methylphthalic anhydride, 3-phenylphthalic anhydride,
Preferable examples include trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, phenylmaleic anhydride, dimethylmaleic anhydride, dichloromaleic anhydride and chloromaleic anhydride. The content of the cyclic acid anhydride is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and 1 to 1 with respect to the total solid content of the image forming layer.
Most preferred is 0% by weight. When the content is less than 0.5% by mass, the effect of maintaining developability may be insufficient,
If it exceeds 20% by mass, an image may not be formed.

【0068】以下は、ネガ型平版印刷版の記録層を構成
する成分である。 −(E)熱により酸を発生する化合物− 画像形成材料がネガ型の場合、加熱時に酸を発生する化
合物(以下、「酸発生剤」という。)を併用する。この
酸発生剤は、100°C以上に加熱することにより分解
して酸を発生する化合物を増す。発生する酸としては、
スルホン酸、塩酸等の pKa が2以下の強酸であること
が好ましい。前記酸発生剤としては、ヨードニウム塩、
スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等の
オニウム塩を好適に挙げることができる。具体的には、
米国特許4,708,925号や特開平7−20629
号に記載の化合物を挙げることができ、中でも、スルホ
ン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニ
ウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。
The following are components constituting the recording layer of the negative type lithographic printing plate. — (E) Compound that Generates Acid by Heat— When the image forming material is a negative type, a compound that generates an acid when heated (hereinafter, referred to as “acid generator”) is used in combination. This acid generator decomposes when heated to 100 ° C. or higher to increase the compound that generates an acid. As the acid generated,
A strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid or hydrochloric acid, is preferable. The acid generator, iodonium salt,
Preferable examples are onium salts such as sulfonium salts, phosphonium salts and diazonium salts. In particular,
U.S. Pat. No. 4,708,925 and JP-A-7-20629
The compounds described in JP-A No. 2004-242242 can be mentioned, and among them, iodonium salts, sulfonium salts, and diazonium salts having a sulfonate ion as a counter ion are preferable.

【0069】前記ジアゾニウム塩としては、米国特許第
3,867,147号に記載のジアゾニウム塩化合物、
米国特許第2,632,703号明細書に記載のジアゾ
ニウム化合物、特開平1−102456号、特開平1−
102457号の各公報に記載のジアゾ樹脂も好適に挙
げることができる。また、米国特許第5,135,83
8号、米国特許第5,200,544号に記載のベンジ
ルスルホナート類、特開平2−100054号、特開平
2−100055号、特開平8−9444号に記載の活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。その他特開平7−271029号に記載の、ハロア
ルキル置換されたS−トリアジン類も好ましい。前記酸
発生剤の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に
対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜40質量%
がより好ましく、0.5〜30質量%が最も好ましい。
Examples of the diazonium salt include diazonium salt compounds described in US Pat. No. 3,867,147,
Diazonium compounds described in U.S. Pat. No. 2,632,703, JP-A-1-102456 and JP-A-1-
The diazo resin described in each publication of 102457 can also be mentioned suitably. Also, US Pat. No. 5,135,83
No. 8, benzyl sulfonates described in US Pat. No. 5,200,544, active sulfonic acid esters and disulfonyls described in JP-A Nos. 2-100054, 2-100055, and 8-9444. Compounds are also preferred. In addition, haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferable. The amount of the acid generator added is preferably 0.01 to 50% by mass, and 0.1 to 40% by mass based on the total solid content of the image forming layer.
Is more preferable, and 0.5 to 30 mass% is the most preferable.

【0070】−(F)酸により架橋する架橋剤− 平版印刷版原版がネガ型である場合、酸により架橋する
架橋剤(以下、単に「架橋剤」という場合がある。)を
併用する。前記架橋剤としては、以下のものを挙げるこ
とができる。 (i)アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置
換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基又はN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 さらに、特開平11−254850号公報に記載のもの
やフェノール誘導体等も挙げることができる。
-(F) Acid-crosslinking agent-When the lithographic printing plate precursor is a negative type, an acid-crosslinking agent (hereinafter sometimes simply referred to as "crosslinking agent") is used in combination. The following can be mentioned as said crosslinking agent. (I) Aromatic compound substituted with alkoxymethyl group or hydroxymethyl group (ii) Compound having N-hydroxymethyl group, N-alkoxymethyl group or N-acyloxymethyl group (iii) Epoxy compound Examples thereof include those described in JP-A-254850 and phenol derivatives.

【0071】前記架橋剤の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し5〜80質量%が好ましく、10
〜75質量%がより好ましく、20〜70質量%が最も
好ましい。前記フェノール誘導体を架橋剤として使用す
る場合、該フェノール誘導体の添加量としては、画像形
成材料の全固形分質量に対し5〜70質量%が好まし
く、10〜50質量%がより好ましい。上記の各種化合
物の詳細については、特開2000−267265号公
報に記載されている。
The amount of the cross-linking agent added is preferably 5 to 80 mass% with respect to the total solid mass of the image forming layer.
-75 mass% is more preferable, and 20-70 mass% is the most preferable. When the phenol derivative is used as a crosslinking agent, the amount of the phenol derivative added is preferably 5 to 70% by mass, and more preferably 10 to 50% by mass, based on the total solid mass of the image forming material. Details of the above various compounds are described in JP-A-2000-267265.

【0072】−その他の成分− 平版印刷版原版の画像形成層には、必要に応じて、さら
に種々の添加剤を添加することができる。例えば、感度
を向上させる目的で、フェノール類、有機酸類、スルホ
ニル化合物類等の公知の添加剤を併用することもでき
る。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニ
トロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,
4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニル
メタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−
3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタン
などが挙げられる。
-Other Components-Various additives may be further added to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor, if necessary. For example, known additives such as phenols, organic acids and sulfonyl compounds can be used in combination for the purpose of improving sensitivity. Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4.
4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,4', 3", 4 "-tetrahydroxy-
3,5,3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like can be mentioned.

【0073】前記有機酸類としては、、特開昭60−8
8942号公報、特開平2−96755号公報などに記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
フィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安
息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、
3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。スルホニル化合物類としては、例え
ばビスヒドロキシフェニルスルホン、メチルフェニルス
ルホン、ジフェニルジスルホンなどが挙げられる。前記
他の環状酸無水物、フェノール類、有機酸類又はスルホ
ニル化合物類の添加量としては、画像形成層の全固形分
質量に対し、0.05〜20質量%が好ましく、0.1〜1
5質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が最も好ま
しい。
Examples of the organic acids include those disclosed in JP-A-60-8.
There are sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids and the like described in Japanese Patent Publication No. 8942, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-96755 and the like, and specifically, p-toluene. Sulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethylsulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid,
Examples thereof include 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-2,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid. Examples of the sulfonyl compounds include bishydroxyphenyl sulfone, methylphenyl sulfone, diphenyldisulfone and the like. The addition amount of the other cyclic acid anhydride, phenols, organic acids or sulfonyl compounds is preferably 0.05 to 20 mass% with respect to the total solid mass of the image forming layer, and 0.1 to 1
5 mass% is more preferable, and 0.1-10 mass% is the most preferable.

【0074】また、現像条件に対する処理性の安定性を
拡げる目的で、EP950517号公報に記載されてい
るようなシロキサン系化合物、特開平11−28809
3号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー
共重合体を添加することができる。シロキサン系化合物
としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシ
ドのブロック共重合体が好ましく、具体例として(株)
チッソ社製、DBE−224、DBE−621、DBE
−712、DBP−732、DBP−534、独Teg
o社製、Tego Glide 100等のポリアルキレンオキシド変
性シリコーンを挙げることができる。前記界面活性剤の
使用量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、0.
05〜15質量%が好ましく、0.1〜5質量%がより好
ましい。
Further, for the purpose of expanding the stability of processability under developing conditions, a siloxane compound as described in EP 950517, JP-A-11-28809.
Fluorine-containing monomer copolymers such as those described in JP-A-3 can be added. As the siloxane-based compound, a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide is preferable.
Made by Chisso Corporation, DBE-224, DBE-621, DBE
-712, DBP-732, DBP-534, German Teg
Polyalkylene oxide-modified silicone such as Tego Glide 100 manufactured by O Co. may be mentioned. The amount of the surfactant used, based on the total solid content of the image forming layer, 0.
05 to 15 mass% is preferable, and 0.1 to 5 mass% is more preferable.

【0075】前記画像形成層には、露光による加熱後、
直ちに可視像を得るための焼き出し剤や画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。前記焼き出し剤
としては、例えば、露光による加熱によって酸を発生す
る化合物と塩を形成しうる有機染料との組合せが挙げら
れる。具体的には、特開昭50−36209号、特開昭
53−8128号の各公報に記載の、o−ナフトキノン
ジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料との組合せ、特開昭53−36223号、特開昭54
−74728号、特開昭60−3626号、特開昭61
−143748号、特開昭61−151644号及び特
開昭63−58440号の各公報に記載の、トリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せ、が挙げられ
る。前記トリハロメチル化合物として、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物があり、いずれも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。前記画像着色
剤としては、例えば、前記塩形成性有機染料以外に、他
の染料を用いることができ、例えば、油溶性染料、塩基
性染料が好適に挙げられる。
In the image forming layer, after heating by exposure,
A printout agent for obtaining a visible image or a dye or pigment as an image colorant can be added immediately. Examples of the printing-out agent include a combination of a compound that generates an acid when heated by exposure to light and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, and JP-A- 53-36223, JP-A-54
-74728, JP-A-60-3626, JP-A-61
The combination of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in JP-A-143748, JP-A-61-151644 and JP-A-63-58440. As the trihalomethyl compound, there are an oxazole compound and a triazine compound, both of which have excellent stability over time and give a clear printout image. As the image colorant, for example, other dyes can be used in addition to the salt-forming organic dye, and for example, oil-soluble dyes and basic dyes are suitable.

【0076】具体的には、オイルイエロー#101、オ
イルイエロー#103、オイルピンク#312、オイル
グリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#6
03、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイ
ルブラックT−505(以上、オリエント化学工業
(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイ
オレット(C.I.42555)、メチルバイオレット
(C.I.42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(C.I.145170B)、マラカイトグリー
ン(C.I.42000)、メチレンブルー(C.I.
52015)等を挙げることができる。また、特開昭6
2−293247号公報に記載の染料は、特に好まし
い。前記各種染料の添加量としては、画像形成層の全固
形分質量に対し、0.01〜10質量%が好ましく、0.1
〜3質量%がより好ましい。
Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 6.
03, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (above, manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI. 42555), methyl violet (CI. 42535). , Ethyl violet, rhodamine B (CI. 145170B), malachite green (CI. 42000), methylene blue (CI.
52015) and the like. In addition, JP-A-6
The dyes described in JP-A-2-293247 are particularly preferable. The amount of the various dyes added is preferably 0.01 to 10% by mass, based on the total mass of the solid content of the image forming layer.
-3 mass% is more preferable.

【0077】また、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することができる。可
塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマーな
どが挙げられる。
If desired, a plasticizer may be added for the purpose of imparting flexibility to the coating film. Examples of the plasticizer include butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and acrylic. Examples thereof include oligomers and polymers of acid or methacrylic acid.

【0078】さらに必要に応じて、以下の種々添加剤を
添加することができる。例えば、オニウム塩、o−キノ
ンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スル
ホン酸エステル化合物等の、熱分解性で、未分解状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる化合物を併用することができる。該化合物の添
加は、画像部の現像液への溶解阻止能の向上を図る点で
好ましい。前記オニウム塩としては、例えばジアゾニウ
ム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
などが挙げられる。中でも、例えばS.I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974), T.S.Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), 特開昭5−158230号
公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,
055号、同4,069,056号、特開平3−140
140号に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988)、米国特許第4,069,055号、同4,
069,056号に記載のホスホニウム塩、J. V. Criv
elloet et al. Macromolecules, 10(6), 1307 (1977)、
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p.31 (1988)、欧州特許
第104,143号、米国特許第339,049号、同
第410,201号、特開平2−150848号、特開
平2−296514号に記載のヨードニウム塩、
If necessary, the following various additives can be added. For example, onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, and other compounds that are thermally decomposable and substantially reduce the solubility of the alkaline water-soluble polymer compound in the undecomposed state can be used. Can be used together. Addition of the compound is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting ability of the image area in the developing solution. Examples of the onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like. Among them, for example SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TSBal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), the diazonium salt described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. No. 4,069,
055, 4,069,056, and JP-A-3-140.
Ammonium salt described in No. 140, DC Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), CS Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988), US Pat. Nos. 4,069,055 and 4,
069,056 phosphonium salt, JV Criv
elloet et al. Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977),
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p. 31 (1988), European Patent 104,143, US Patents 339,049, 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-150848. 2-296514, iodonium salts,

【0079】J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985)、J. V. Crivello et al, J.Org. Chem., 43,
3055 (1978)、W. R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984)、J. V. Crivello et
al, Polymer bull., 14, 279 (1985)、J. V. Crivello
et al, Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J.V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), 欧州特許第370,693号、同2
33,567号、同297,443号、同297,44
2号、米国特許第4,933,377号、同3,90
2,114号、同410,201号、同399,049
号、同4,760,013号、同4,734,444
号、同2,833,827号、独国特許第2,904,
626号、同3,604,580号、同3,604,5
81号に記載のスルホニウム塩、
JV Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985), JV Crivello et al, J.Org. Chem., 43,
3055 (1978), W. R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984), JV Crivello et
al, Polymer bull., 14, 279 (1985), JV Crivello
et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), JVCr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693 and 2
33,567, 297,443, 297,44
No. 2, US Pat. Nos. 4,933,377 and 3,90.
2,114, 410,201, 399,049
No. 4, ibid. 4,760,013, ibid. 4,734,444
No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,
No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,5
No. 81, a sulfonium salt,

【0080】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977), J.V. Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen et al, The Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988)に記載の
アルソニウム塩などが挙げられる。上記のうち、ジアゾ
ニウム塩が好ましく、中でも、特開平5−158230
号公報に記載のものがより好ましい。
JV Crivello et al, Macromolecules,
10 (6), 1307 (1977), JV Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), selenonium salt, CS Wen et al, The Proc. Conf. R
Examples include arsonium salts described in ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988). Of the above, diazonium salts are preferable, and among them, JP-A-5-158230.
The one described in the publication is more preferable.

【0081】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサチリル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸などを挙げることが
できる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸などのアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
As the counter ion of the onium salt, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Examples thereof include benzoyl-benzenesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid. Of these, alkylaromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are preferable.

【0082】前記o−キノンジアジド化合物としては、
少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物
で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものが挙げら
れ、種々の構造の化合物を用いることができる。前記o
−キノンジアジドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能
を喪失し、且つo−キノンジアジド自身がアルカリ可溶
性の物質に変化する、両効果により平版印刷版原版の溶
解性を助ける。
Examples of the o-quinonediazide compound include
Compounds having at least one o-quinonediazide group, which increase alkali solubility by thermal decomposition, can be mentioned, and compounds having various structures can be used. Said o
-Quinonediazide helps the solubility of the lithographic printing plate precursor by both effects of losing the ability to inhibit the dissolution of the binder by thermal decomposition and changing the o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance.

【0083】上記のようなo−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティ
ブ・システムズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第33
9〜352頁に記載の化合物が使用可能であるが、中で
も、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物又は芳香族アミ
ノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸
エステル又はスルホン酸アミドが好ましい。また、特開
昭43−28403号公報に記載の、ベンゾキノン
(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又は、米国
特許第3,046,120号、同第3,188,210
号に記載のベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホ
ン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−5−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルも好ましい。
Examples of the o-quinonediazide compound as described above include those described in J. 33, "Light-Sensitive Systems" by John Coley, John Wiley & Sons. Inc.
Although the compounds described on pages 9 to 352 can be used, sulfonic acid esters or sulfonic acid amides of o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds are preferable. Further, benzoquinone (1,2) -diazide sulfonic acid chloride described in JP-A-43-28403 or US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210.
Also preferred are the esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride described in US Pat.

【0084】さらに、ナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド
−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも好ましい。その他、例えば特開昭4
7−5303号、特開昭48−63802号、特開昭4
8−63803号、特開昭48−96575号、特開昭
49−38701号、特開昭48−13354号、特公
昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公
昭49−17481号、米国特許第2,797,213
号、同ぢ3,454,400号、同第3,544,32
3号、同第3,573,917号、同第3,674,4
95号、同第3,785,825号、英国特許第1,2
27,602号、同第1,251,345号、同第1,
267,005号、同第1,329,888号、同第
1,330,932号、ドイツ特許第854、890号
などに記載のものも有用である。これらの化合物は単独
でも、数種を組み合わせて混合物として使用してもよ
い。前記オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香
族スルホン酸エステル等の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し、0.1〜50質量%が好ましく、
0.5〜30質量%がより好ましく、0.5〜20質量%が
最も好ましい。
Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol. Esters with acetone resins are also preferred. Others, for example, JP-A-4
7-5303, JP-A-48-63802, JP-A-4.
8-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, JP-B-41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-17481, US Pat. No. 2,797,213
No. 3, No. 3,454, 400, No. 3, 544, 32
No. 3, No. 3,573,917, No. 3,674,4
95, 3,785,825, British Patents 1,2
No. 27,602, No. 1,251,345, No. 1,
Those described in 267,005, 1,329,888, 1,330,932, German Patent 854,890 and the like are also useful. These compounds may be used alone or in combination of several kinds. The addition amount of the onium salt, o-quinonediazide compound, aromatic sulfonic acid ester or the like is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid mass of the image forming layer,
0.5-30 mass% is more preferable, and 0.5-20 mass% is the most preferable.

【0085】その他、画像のディスクリミネーションの
強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特
開2000−187318号公報に記載されているよう
な、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基
を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合
成分とする重合体を併用することが好ましい。添加量と
しては画像形成層の全固形分質量に対し、0.1〜10質
量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%であ
る。また、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面
の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもでき
る。具体的には、米国特許第6117913号明細書に
開示されているような長鎖アルキルカルボン酸のエステ
ルなどを挙げることができる。その添加量として好まし
いのは、画像形成層の全固形分質量に対し0.1〜10質
量%であり、より好ましくは0.5〜5質量%である。ま
た、画像形成層の溶解性を調節する目的で種々の溶解抑
制剤を含んでもよい。溶解抑制剤としては、特開平11
−119418号公報に記載されるようなジスルホン化
合物又はスルホン化合物が好適に用いられ、具体例とし
て4,4'-ビスヒドロキシフェニルスルホンを用いること
が好ましい。その添加量として好ましいのは、画像形成
層の全固形分質量に対し0.05〜20質量%であり、よ
り好ましくは0.5〜10質量%である。
In addition, for the purpose of enhancing the discrimination of images and the resistance to scratches on the surface, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-187318, a polymer having a carbon number of 3 to 20 is used. It is preferable to use a polymer having a (meth) acrylate monomer having 2 or 3 fluoroalkyl groups as a polymerization component. The addition amount is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total mass of the solid content of the image forming layer. Further, for the purpose of imparting resistance to scratches, a compound that lowers the coefficient of static friction of the surface can be added. Specific examples thereof include esters of long-chain alkylcarboxylic acids as disclosed in US Pat. No. 6,117,913. The addition amount thereof is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total mass of the solid content of the image forming layer. Further, various dissolution inhibitors may be included for the purpose of adjusting the solubility of the image forming layer. As a dissolution inhibitor, JP-A-11
A disulfone compound or a sulfone compound described in JP-A-119418 is preferably used, and 4,4′-bishydroxyphenylsulfone is preferably used as a specific example. The addition amount thereof is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, based on the total solid content of the image forming layer.

【0086】本発明の製版方法を適用し得る感光性平版
印刷版の具体例として、特願2000−378507号
に開示されるような画像形成層を2層構造のポジ型感熱
層とした平版印刷版原版も挙げられる。即ちこのポジ型
感熱層は積層構造を有し、表面(露光面)に近い位置に
設けられている感熱層と、支持体に近い側に設けられい
るアルカリ可溶性高分子化合物を含有する下層とを有す
ることを特徴とする。該感熱層と下層の双方に或いは一
方に、上述してきた(A)赤外線吸収染料、(B)アルカリ可
溶性高分子化合物、(C)アルカリ可溶性高分子化合物と
相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ水
溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶
解性低下作用が減少する化合物、−その他の成分−を含
有させることができる。下層で用いられるアルカリ可溶
性高分子化合物としては、アクリル樹脂が、緩衝作用を
有する有機化合物と塩基とを主成分とするアルカリ現像
液に対して下層の溶解性を良好に保持し得るため、現像
時の画像形成の観点から好ましい。さらにこのアクリル
樹脂としてスルホアミド基を有するものが特に好まし
い。また、感熱層で用いられるアルカリ可溶性高分子化
合物としては、未露光部では強い水素結合性を生起し、
露光部においては、一部の水素結合が容易に解除される
点などからフェノール性水酸基を有する樹脂が望まし
い。更に好ましくはノボラック樹脂である。赤外線吸収
染料は、感熱層のみならず、下層にも添加することがで
きる。下層に赤外線吸収染料を添加することで下層も感
熱層として機能させることができる。下層に赤外線吸収
染料を添加する場合には、上部の感熱層におけるのと互
いに同じ物を用いてもよく、また異なる物を用いてもよ
い。その他の添加剤は下層のみに含有させてもよいし、
感熱層のみに含有させてもよく、更に両方の層に含有さ
せてもよい。
As a specific example of a photosensitive lithographic printing plate to which the plate-making method of the present invention can be applied, a lithographic printing method in which an image forming layer as disclosed in Japanese Patent Application No. 2000-378507 is used as a positive heat-sensitive layer having a two-layer structure. The original edition is also included. That is, this positive-type heat-sensitive layer has a laminated structure and comprises a heat-sensitive layer provided at a position close to the surface (exposed surface) and a lower layer containing an alkali-soluble polymer compound provided on the side closer to the support. It is characterized by having. The above-mentioned (A) infrared absorbing dye, (B) alkali-soluble polymer compound, (C) alkali-soluble polymer compound which is compatible with the above-mentioned (A) infrared-absorbing dye, in one or both of the heat-sensitive layer and the lower layer. It is possible to include a compound, which reduces the solubility of the compound in an alkaline aqueous solution and reduces the solubility-decreasing action by heating, and other components. As the alkali-soluble polymer compound used in the lower layer, an acrylic resin can maintain good solubility of the lower layer in an alkali developing solution containing a buffering organic compound and a base as main components, and therefore, during development. Is preferable from the viewpoint of image formation. Further, the acrylic resin having a sulfamide group is particularly preferable. Further, as the alkali-soluble polymer compound used in the heat-sensitive layer, a strong hydrogen bonding property is generated in the unexposed area,
In the exposed area, a resin having a phenolic hydroxyl group is desirable because some hydrogen bonds are easily released. More preferably, it is a novolac resin. The infrared absorbing dye can be added not only to the heat-sensitive layer but also to the lower layer. The lower layer can also function as a heat-sensitive layer by adding an infrared absorbing dye to the lower layer. When the infrared absorbing dye is added to the lower layer, the same materials as those in the upper heat-sensitive layer may be used, or different materials may be used. Other additives may be contained only in the lower layer,
It may be contained only in the heat sensitive layer, or may be contained in both layers.

【0087】平版印刷版原版の画像形成層(上記2層構
造も含む)は、上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支
持体上に塗布することができる。溶媒として、例えばエ
チレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2
−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチル
ウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、α−ブチロラクトン、トルエンなどが
挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記
溶媒は単独でも2種以上を混合してもよい。
The image forming layer (including the above-mentioned two-layer structure) of the lithographic printing plate precursor can be coated on a suitable support by dissolving each of the above components in a solvent. Examples of the solvent include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2.
-Propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-
Methoxy-2-propylacetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, α-butyrolactone, toluene, etc. However, the present invention is not limited to these. The above solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0088】画像形成層を2層構造とする場合、感熱層
に用いるアルカリ可溶性高分子化合物と下層に用いるア
ルカリ可溶性高分子化合物に対して溶解性の異なるもの
を選ぶことが好ましい。つまり、下層を塗布した後、そ
れに隣接して上層である感熱層を塗布する際、最上層の
塗布溶剤として下層のアルカリ可溶性高分子化合物を溶
解させうる溶剤を用いると、層界面での混合が無視でき
なくなり、極端な場合、重層にならず均一な単一層にな
ってしまう場合がある。このため、上部の感熱層を塗布
するのに用いる溶剤は、下層に含まれるアルカリ可溶性
高分子化合物に対する貧溶剤であることが好ましい。
When the image-forming layer has a two-layer structure, it is preferable to select those having different solubilities with respect to the alkali-soluble polymer compound used for the heat-sensitive layer and the alkali-soluble polymer compound used for the lower layer. That is, after applying the lower layer, when applying a heat-sensitive layer that is the upper layer adjacent to it, if a solvent capable of dissolving the alkali-soluble polymer compound of the lower layer is used as the coating solvent for the uppermost layer, the mixing at the layer interface will occur. It cannot be ignored, and in extreme cases, it may become a uniform single layer instead of multiple layers. Therefore, the solvent used for coating the upper heat-sensitive layer is preferably a poor solvent for the alkali-soluble polymer compound contained in the lower layer.

【0089】画像形成層を塗布する場合の溶媒中の上記
成分の全固形分濃度は、一般的に1〜10質量%が好ま
しい。また、支持体上に塗布、乾燥して設けられる画像
形成層の乾燥塗布量(固形分)としては、一般的に0.5
〜5.0g/m2が好ましい。2層構造とする場合には、
感熱層は0.05〜1.0g/m2であり、下層は0.
3〜3.0g/m2であることが好ましい。塗布量が少
なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像形
成層の皮膜特性は低下する。支持体上に塗布する方法と
しては、公知の種々の方法の中から適宜選択できるが、
例えばバーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カ
ーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、グレー
ド塗布、ロール塗布などを挙げることができる。画像形
成層用塗布液中には、塗布性を良化する目的で界面活性
剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載のフ
ッ素系界面活性剤などを添加することができる。その添
加量としては、画像形成層の全固形分質量に対して0.0
1〜1質量%が好ましく、0.05〜0.5質量%がより好
ましい。
When the image forming layer is applied, the total solid concentration of the above components in the solvent is generally preferably 1 to 10% by mass. The dry coating amount (solid content) of the image forming layer formed by coating and drying the support is generally 0.5.
It is preferably up to 5.0 g / m 2 . When using a two-layer structure,
The heat sensitive layer is 0.05 to 1.0 g / m 2 , and the lower layer is 0.
It is preferably 3 to 3.0 g / m 2 . As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image forming layer deteriorate. The method for coating on the support can be appropriately selected from various known methods,
Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, grade coating and roll coating. A surfactant such as the fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 may be added to the coating liquid for the image forming layer for the purpose of improving the coatability. The amount added is 0.0 with respect to the total solid content of the image forming layer.
1-1 mass% is preferable, and 0.05-0.5 mass% is more preferable.

【0090】−支持体− 平版印刷版原版の支持体としては、例えば純アルミニウ
ム板、アルミニウム合金板、アルミニウムがラミネート
もしくは蒸着されたプラスチックフィルムなどが挙げら
れる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、ケイ酸ソ
ーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩などの
水溶液への浸透処理、あるいは、陽極酸化処理などの表
面処理が施されていることが好ましい。また、米国特許
第2,714,066号明細書に記載の砂目立てした後
にケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理したアルミニウ
ム板、特公昭47−5125号公報に記載のアルミニウ
ム板を陽極酸化処理した後、アルカリ金属ケイ酸塩の水
溶液中で浸漬処理したアルミニウム板も好ましい。
—Support— Examples of the support for the lithographic printing plate precursor include a pure aluminum plate, an aluminum alloy plate, and a plastic film on which aluminum is laminated or vapor deposited. The surface of the aluminum plate is preferably subjected to surface treatment such as graining treatment, permeation treatment with an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, or anodization treatment. In addition, after graining the aluminum plate described in US Pat. No. 2,714,066 and then dipping it in an aqueous solution of sodium silicate, the aluminum plate described in Japanese Patent Publication No. 47-5125 is anodized. An aluminum plate that has been immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferable.

【0091】前記陽極酸化処理としては、例えば硫酸、
リン酸、クロム酸、硝酸、ホウ酸などの無機酸若しくは
蓚酸、スルファミン酸などの有機酸又はこれらの塩の水
溶液若しくは非水溶液の単独若しくは二種以上を組み合
わせた電解液中で、アルミニウム板を陽極として電極を
流すことにより施される。また、米国特許第3,65
8,662号明細書に記載のシリケート電着も有効であ
る。
As the anodizing treatment, for example, sulfuric acid,
Anodize an aluminum plate in an electrolytic solution of inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, nitric acid, boric acid, etc., or organic acid such as oxalic acid, sulfamic acid, etc. Is applied by flowing an electrode. Also, US Pat. No. 3,65
The silicate electrodeposition described in the specification of No. 8,662 is also effective.

【0092】また、米国特許第4,087,341号明
細書、特公昭46−27481号公報、特開昭52−3
0503号公報に記載の、電解グレインを施した支持体
に前記陽極酸化処理を施したものも有用である。米国特
許第3,834,998号明細書に記載の砂目立てした
後、化学的にエッチングし、さらに陽極酸化処理したア
ルミニウム板も有用である。これらの処理は支持体の表
面を親水性とする目的で施されるほか、支持体上に設け
られる画像形成層との有害な反応を防止する目的、画像
形成像との密着性を向上させる目的などの種々の目的で
施される。
Also, US Pat. No. 4,087,341, JP-B-46-27481, and JP-A-52-3.
It is also useful that the support described in Japanese Patent No. 0503, which has been subjected to electrolytic graining, is subjected to the anodizing treatment. Aluminum sheets which have been grained, chemically etched and further anodized as described in US Pat. No. 3,834,998 are also useful. These treatments are performed for the purpose of making the surface of the support hydrophilic, for the purpose of preventing harmful reaction with the image forming layer provided on the support, and for improving the adhesion to the image-formed image. It is given for various purposes such as.

【0093】平版印刷版原版は、支持体上に少なくとも
画像形成層を積層して設けたものであるが、必要に応じ
て支持体上に下塗り層を設けることができる。下塗り層
に用いる成分としては、種々の有機化合物が挙げられ、
例えばカルボキシメチルセルロース、デキストリン、ア
ラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ
基を有するホスホン酸類;置換基を有していてもよいフ
ェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホス
ホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及
びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸;置換基
を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸;
置換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロ
ホスフィン酸などの有機ホスフィン酸;グリシンやβ−
アラニンなどのアミノ酸類;トリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩など
が挙げられる。前記有機化合物は、1種単独で用いても
よく、2種以上を混合して用いてもよい。また、前述し
たジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様であ
る。
The lithographic printing plate precursor is one in which at least an image forming layer is laminated on a support, but an undercoat layer may be provided on the support if necessary. Examples of components used in the undercoat layer include various organic compounds,
For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethylphosphonic acid; phenylphosphonic acid which may have a substituent, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene Organic phosphonic acids such as diphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid; phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid,
Organic phosphoric acid such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid;
Organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid which may have a substituent, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid; glycine and β-
Amino acids such as alanine; and hydrochlorides of amines having a hydroxyl group such as triethanolamine hydrochloride. The organic compounds may be used alone or in combination of two or more. It is also a preferable embodiment to undercoat the above-mentioned diazonium salt.

【0094】また、下塗り層としては、下記一般式(II
I)で表される構成単位を有する有機高分子化合物の少
なくとも1種を含む有機下塗り層も好ましい。
As the undercoat layer, the following general formula (II
An organic undercoat layer containing at least one organic polymer compound having a structural unit represented by I) is also preferable.

【0095】 [0095]

【0096】式中、R51は水素原子、ハロゲン原子又は
アルキル基を表し、R52及びR53は、それぞれ独立に水
素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、−OR54、−C
OOR55、−CONHR56、−COR57又は−CNを表
し、前記R52及びR53は互いに結合して環構造を形成し
てもよい。ここで、R54〜R57はそれぞれ独立にアルキ
ル基又はアリール基を表す。Xは水素原子、金属原子、
−NR58596061を表す。ここでR58〜R 61はそれ
ぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基又は置換アリール基を表し、R58及びR59は互
いに結合して環構造を形成してもよい。mは1〜3の整
数を表す。下塗り層の乾燥塗布量としては2〜200m
g/m2が好ましく、5〜100mg/m2がより好まし
い。この乾燥塗布量が2mg/m2未満であると十分な
膜性が得られないことがある。一方200mg/m2
超えて塗布しても、それ以上の効果を得ることはできな
い。
In the formula, R51Is a hydrogen atom, a halogen atom or
Represents an alkyl group, R52And R53Each independently water
Elemental atom, hydroxyl group, halogen atom, alkyl group, substituted alkyl
Kill group, aryl group, substituted aryl group, -OR54, -C
OOR55, -CONHR56, -COR57Or-show CN
And the R52And R53Combine with each other to form a ring structure
May be. Where R54~ R57Each independently
Represents an aryl group or an aryl group. X is a hydrogen atom, a metal atom,
-NR58R59R60R61Represents Where R58~ R 61Is it
Each independently a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group,
Represents a reel group or a substituted aryl group, R58And R59Are mutual
They may be bonded to each other to form a ring structure. m is 1 to 3
Represents a number. The dry coating amount of the undercoat layer is 2 to 200 m
g / m2Is preferred, 5-100 mg / m2Is more preferred
Yes. This dry coating amount is 2 mg / m2Is less than enough
The film property may not be obtained. Meanwhile, 200 mg / m2To
Even if you apply more than that, you cannot get any further effect.
Yes.

【0097】下塗り層は下記方法により設けることがで
きる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエ
チルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に
前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアルミニ
ウム板などの支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、
水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンな
どの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合
物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板など
の支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、その後
水等で洗浄、乾燥して設ける方法である。
The undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol, an organic solvent such as an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof, a solution for the undercoat layer is applied on a support such as an aluminum plate, and a method for providing it by drying,
Water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof in a solution for the undercoat layer, a support such as an aluminum plate is immersed to adsorb the organic compound, and then water, etc. It is a method of washing and drying with.

【0098】前者の方法では、前記有機化合物の0.00
5〜10質量%濃度の下塗り層用溶液を用いることが好
ましい。一方、後者の方法では、下塗り層用溶液の前記
有機化合物の濃度としては、0.01〜20質量%が適当
であり、好ましくは0.05〜10質量%であり、より好
ましくは0.1〜5質量%である。また、浸漬温度とし
ては20〜90℃が好ましく、25〜50℃がより好ま
しい。浸漬時間としては0.1秒〜20分が好ましく、2
秒〜1分がより好ましい。下塗り層用溶液はアンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や塩酸、リン酸などの酸性物質を用いてpH1〜12
の範囲に調整することもできる。また、調子再現性改良
を目的として黄色染料を追加することもできる。
In the former method, 0.000 of the organic compound is used.
It is preferable to use an undercoat layer solution having a concentration of 5 to 10% by mass. On the other hand, in the latter method, the concentration of the organic compound in the undercoat layer solution is suitably 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 10% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass. Is about 5% by mass. The immersion temperature is preferably 20 to 90 ° C, more preferably 25 to 50 ° C. The immersion time is preferably 0.1 second to 20 minutes, and 2
Seconds to 1 minute are more preferable. For the undercoat layer solution, use a basic substance such as ammonia, triethylamine and potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid and phosphoric acid to adjust the pH to 1 to 12.
It can also be adjusted within the range. Further, a yellow dye may be added for the purpose of improving tone reproducibility.

【0099】赤外線感光性平版印刷版は赤外線レーザー
で記録することができる他、紫外線ランプによる記録や
サーマルヘッド等による熱的な記録も可能である。前記
赤外線レーザーとしては波長700〜1200nmの赤
外線を放射するレーザーが好ましく、同波長範囲の赤外
線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーがより好
ましい。
The infrared-sensitive lithographic printing plate can be recorded by an infrared laser, recording by an ultraviolet lamp or thermal recording by a thermal head or the like. As the infrared laser, a laser emitting infrared rays having a wavelength of 700 to 1200 nm is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser emitting infrared rays in the same wavelength range is more preferable.

【0100】本発明の製版方法に使用し得るアルカリ現
像処理液(以下、単に「現像液」ともいう。)はアルカ
リ性の水溶液であって、従来公知のアルカリ水溶液の中
から適宜選択することができる。アルカリ水溶液として
は、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基とからな
る現像液が挙げられ、pH12.5〜14.0の範囲が
適当であり、より好ましくはpH12.5〜13.5で
ある。前記ケイ酸アルカリとしては、水に溶解したとき
にアルカリ性を示すものであり、例えばケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどのアルカリ金
属ケイ酸塩、ケイ酸アンモニウムなどが挙げられる。ケ
イ酸アルカリは1種単独でも、2種以上を組み合わせて
用いてもよい。
The alkaline developing treatment solution (hereinafter also simply referred to as "developing solution") which can be used in the plate-making method of the present invention is an alkaline aqueous solution and can be appropriately selected from conventionally known alkaline aqueous solutions. . Examples of the alkaline aqueous solution include a developer containing an alkali silicate or non-reducing sugar and a base, and a pH range of 12.5 to 14.0 is suitable, and a pH range of 12.5-13.5 is more preferable. . The alkali silicate shows alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate, and ammonium silicate. The alkali silicate may be used alone or in combination of two or more.

【0101】上記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2O(Mはア
ルカリ金属又はアンモニウム基を表す。)との混合比
率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節するこ
とができる。前記アルカリ水溶液の中でも、前記酸化ケ
イ素SiO2とアルカリ酸化物M2Oとの混合比率(Si
2/M2O:モル比)が0.5〜3.0のものが好ましく、
1.0〜2.0のものがより好ましい。前記SiO2/M2
が0.5未満であると、アルカリ強度が強くなっていくた
め、平版印刷用原版の支持体として汎用のアルミニウム
板などをエッチングしてしまうといった弊害を生ずるこ
とがあり、3.0を超えると、現像性が低下することがあ
る。
The above alkaline aqueous solution is developed by adjusting the mixing ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 which is a silicate component and alkali oxide M 2 O (M represents an alkali metal or ammonium group). The sex can be adjusted easily. Among the alkaline aqueous solutions, the mixing ratio of the silicon oxide SiO 2 and the alkali oxide M 2 O (Si
O 2 / M 2 O: molar ratio) is preferably 0.5 to 3.0,
The one of 1.0 to 2.0 is more preferable. Said SiO 2 / M 2 O
When the value is less than 0.5, the alkali strength increases, which may cause an adverse effect such as etching a general-purpose aluminum plate as a support for the lithographic printing plate precursor, and when it exceeds 3.0. However, the developability may decrease.

【0102】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の質量に対して1〜10質量%
が好ましく、3〜8質量%がより好ましく、4〜7質量
%が最も好ましい。この濃度が1質量%未満であると現
像性、処理能力が低下することがあり、10質量%を超
えると沈澱や結晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の
中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支障をきた
すことがある。
The concentration of alkali silicate in the developing solution is 1 to 10% by mass with respect to the mass of the alkaline aqueous solution.
Is preferable, 3-8 mass% is more preferable, 4-7 mass% is the most preferable. If this concentration is less than 1% by mass, developability and processing ability may be deteriorated, and if it exceeds 10% by mass, precipitates and crystals are likely to be formed, and further gelation is likely to occur during neutralization during waste liquid. , It may interfere with waste liquid treatment.

【0103】非還元糖と塩基とからなる現像液におい
て、非還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持
たないために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同
士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非
糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖
アルコールに分類される。本発明ではこれらのいずれも
好適に用いることができる。トレハロース型少糖類とし
ては、例えばサッカロースやトレハロースが挙げられ、
前記配糖体としては、例えばアルキル配糖体、フェノー
ル配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。糖アルコ
ールとしては、例えばD,L−アラビット、リビット、
キシリット、D,L−ソルビット、D,L−アンニッ
ト、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシッ
ト、アロズルシットなどが挙げられる。さらには、二糖
類の水素添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素
添加で得られる還元体(還元水あめ)なども好適に挙げ
ることができる。
In the developer containing a non-reducing sugar and a base, the non-reducing sugar means a saccharide having no reducing property because it has no free aldehyde group or ketone group, and trehalose in which reducing groups are bonded to each other. Type oligosaccharides, glycosides in which reducing groups of saccharides and non-saccharides are bound, and sugar alcohols that are hydrogenated and reduced to sugars. In the present invention, any of these can be preferably used. Examples of trehalose-type oligosaccharides include saccharose and trehalose,
Examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides, and the like. Examples of sugar alcohols include D, L-arabit, rebit,
Examples include xylit, D, L-sorbit, D, L-unnit, D, L-idit, D, L-talit, zuricit, and alodulcit. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide, a reduced form (reduced starch syrup) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide, and the like can be preferably mentioned.

【0104】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に
緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖は
単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.1〜30質量%が好ましく、1
〜20質量%がより好ましい。
Of the above, sugar alcohols and saccharoses are preferable as the non-reducing sugars, and among them, D-sorbit, saccharose, and reduced starch syrup are more preferable because they have a buffering action in an appropriate pH range. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more, and their proportion in the developing solution is preferably 0.1 to 30% by mass, 1
-20 mass% is more preferred.

【0105】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を従来公知の物の中から適宜
選択して組み合わせることができる。該アルカリ剤とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無
機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウ
ム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。
The alkali silicate or non-reducing sugar can be combined with an alkali agent as a base by appropriately selecting it from conventionally known substances. Examples of the alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate,
Triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate,
Examples thereof include inorganic alkali agents such as potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, potassium citrate, tripotassium citrate, sodium citrate, and the like.

【0106】さらにモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も好適に
挙げることができる。これらのアルカリ剤は単独で用い
ても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由
は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広
いpH領域においてpH調整が可能となるためである。
また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があ
るので好ましい。
Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanol. Organic alkali agents such as amine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also preferable. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more. Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. The reason is that the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting the addition amount to the non-reducing sugar.
Further, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they have a buffering effect.

【0107】アルカリ現像処理液は、上記のとおり、ケ
イ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基を含む現像液を
用いるが、そのカチオン成分として従来よりLi+、N
+、K+、NH4 +が用いられ、中でも、イオン半径の小
さいカチオンを多く含有する系では、画像形成層への浸
透性が高く現像性に優れる一方、画像部まで溶解して画
像欠陥を生ずる。従って、アルカリ濃度を上げるには、
ある程度の限度があり、画像部に欠陥を生ずることな
く、且つ非画像部に画像形成層(残膜)が残存しないよ
うに完全に処理するためには、微妙な液性条件の設定が
要求された。しかし、前記カチオン成分として、そのイ
オン半径の大きいカチオンを用いることにより、画像形
成層中への現像液の浸透性を抑制することができ、アル
カリ濃度、即ち、現像性を低下させることなく、画像部
の溶解抑止効果をも向上させることができる。前記カチ
オン成分としては、上記アルカリ金属カチオン及びアン
モニウムイオンのほか、他のカチオンも用いることがで
きる。
[0107] alkali developing solution, as described above, the alkali silicate or nonreducing sugar, but using a developing solution containing a base, conventionally Li as a cation component +, N
In the case where a + , K + , NH 4 + are used, and in particular, a system containing a large number of cations having a small ionic radius has high penetrability into the image forming layer and excellent developability, but it also dissolves in the image area to cause image defects. Cause Therefore, to increase the alkali concentration,
There is a certain limit, and it is necessary to set delicate liquid conditions in order to completely process the image forming layer (residual film) without causing defects in the image portion and in the non-image portion. It was However, by using a cation having a large ionic radius as the cation component, the permeability of the developing solution into the image forming layer can be suppressed, and the alkali concentration, that is, the developing property does not decrease, and It is possible to improve the dissolution inhibiting effect of the part. As the cation component, other cations can be used in addition to the above-mentioned alkali metal cations and ammonium ions.

【0108】上述のようなアルカリ水溶液(現像液)中
には、界面活性剤を添加することが必要である。界面活
性剤としては非イオン性界面活性剤、アニオン系界面活
性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤が挙げら
れる。非イオン界面活性としては、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリス
リトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコール
モノ脂肪酸エステル類、
It is necessary to add a surfactant to the above alkaline aqueous solution (developing solution). Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants and amphoteric surfactants. Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid moieties. Esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters,

【0109】しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチ
レングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪
酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、
ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、
脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒド
ロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル
アミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシドなどが好適に挙げられる。
Sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oils,
Polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters,
Suitable examples include fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, and trialkylamine oxides.

【0110】アニオン界面活性剤としては、例えば脂肪
酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホ
ン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ
琥珀酸エステル塩類、αオレフィンスルホン酸塩類、直
鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸
塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピル
スルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフ
ェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリ
ンナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド
二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、
脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸エステル塩類、
Examples of the anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid ester salts, α-olefinsulfonic acid salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts, and branched salts. Chain alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide Sodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil,
Sulfate ester salts of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester salts,

【0111】脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エス
テル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテ
ル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン
酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合
物類などが好適に挙げられる。
Fatty acid monoglyceride sulfate ester salts,
Polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate ester salts, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salts, alkyl phosphate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate ester salts, styrene / anhydrous Preferable examples include partially saponified products of maleic acid copolymers, partially saponified products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalenesulfonate formalin condensates.

【0112】カチオン性界面活性剤としては、例えばア
ルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド
等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などが
挙げられる。両性界面活性剤としては、例えばカルボキ
シベタイン類、アルキルアミノカルボン酸類、スルホベ
タイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類など
が挙げられる。以上の界面活性剤のうち、「ポリオキシ
エチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオ
キシプロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオキシア
ルキレンに読み替えることもでき、それらもまた前記界
面活性剤に包含される。現像液中における界面活性剤濃
度としては、0.001〜10質量%が好ましく、0.00
5〜1質量%がより好ましく、0.01〜0.5質量%が最
も好ましい。
Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine salts and polyethylene polyamine derivatives. Examples of the amphoteric surfactant include carboxybetaines, alkylaminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, imidazolines and the like. Among the above surfactants, those with "polyoxyethylene" can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene and polyoxybutylene, and these are also included in the above surfactants. It The concentration of the surfactant in the developer is preferably 0.001 to 10% by mass,
5 to 1 mass% is more preferable, and 0.01 to 0.5 mass% is the most preferable.

【0113】アルカリ現像処理液には、さらに現像性能
を高める目的で、以下のような添加剤を加えることがで
きる。例えば特開昭58−75152号公報に記載のN
aCl、KCl、KBrなどの中性塩、特開昭58−1
90952号公報に記載のEDTA、NTAなどのキレ
ート剤、特開昭59−121336号公報に記載の[C
o(NH36]Cl3、CoCl2・6H2Oなどの錯
体、特開昭50−51324号公報に記載のアルキルナ
フタレンスルホン酸ソーダ、n−テトラデシル−N,N
^ジヒドロキシエチルベタインなどのアニオン又は両性
界面活性剤、米国特許第4,374,920号明細書に
記載のテトラメチルデシンジオールなどの非イオン性界
面活性剤、特開昭55−95946号公報に記載のp−
ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチルクロライド
4級化合物などのカチオニックポリマー、特開昭56−
142528号公報に記載のビニルベンジルトリメチル
アンモニウムクロライドとアクリル酸ソーダとの共重合
体などの両性高分子電解質、特開昭57−192951
号公報に記載の亜硫酸ソーダなどの還元性無機塩、特開
昭58−59444号公報に記載の塩化リチウムなどの
無機リチウム化合物、特開昭59−75255号公報に
記載の有機Si、Tiなどを含む有機金属界面活性剤、
特開昭59−84241号公報に記載の有機ホウ素化合
物、EP101010号明細書に記載のテトラアルキル
アンモニウムオキサイドなどの4級アンモニウム塩等が
挙げられる。
The following additives may be added to the alkaline developing solution for the purpose of further improving the developing performance. For example, N described in JP-A-58-75152
Neutral salts such as aCl, KCl and KBr, JP-A-58-1
Chelating agents such as EDTA and NTA described in JP-A-90952, and [C described in JP-A-59-121336].
complexes such as o (NH 3 ) 6 ] Cl 3 , CoCl 2 .6H 2 O, sodium alkylnaphthalenesulfonate described in JP-A No. 50-51324, and n-tetradecyl-N, N.
^ Anionic or amphoteric surfactant such as dihydroxyethyl betaine, nonionic surfactant such as tetramethyldecynediol described in US Pat. No. 4,374,920, and described in JP-A-55-95946. P-
Cationic polymers such as methyl chloride quaternary compounds of dimethylaminomethyl polystyrene, JP-A-56-
An amphoteric polymer electrolyte such as a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate described in JP-A-142528, JP-A-57-192951.
Inorganic lithium compounds such as lithium chloride described in JP-A-58-59444, organic Si, Ti described in JP-A-59-75255, and the like. Including organometallic surfactants,
Examples thereof include organic boron compounds described in JP-A-59-84241, and quaternary ammonium salts such as tetraalkylammonium oxide described in EP101010.

【0114】[0114]

【発明の効果】本発明のバーニング前整面液は発泡性が
低く、スプレー循環式の処理機などによる自動化された
適用に適している。本発明のバーニング前整面液を、感
光性平版印刷版の製版、特に赤外線吸収剤を含有する画
像形成層を有する赤外線感光性平版印刷版の製版に用い
ることによって、画像部に欠陥を与えることなく非画像
部に残膜を残さずに、又は、若干残膜が残ったとしても
最終的に印刷物上に汚れとならず、高鮮鋭で鮮明な画像
を提供できる耐刷性に優れた平版印刷版が達成される。
ポジ型・ネガ型赤外線感光性平版印刷版は一般的に、現
像液温度によって現像性が大きく変化する。現像液温度
が高いと非画像部の現像性は良いが画像部に膜べりが発
生し、現像液温度が低いと非画像部に残膜が残り易い。
本発明のバーニング前整面液を使うことで、上記のよう
な非画像部の残膜を良化して汚れが発生しにくくなる。
The surface conditioning liquid before burning of the present invention has a low foaming property and is suitable for automated application by a spray circulation type processing machine or the like. By using the pre-burning surface-adjusting solution of the present invention for making a plate of a photosensitive lithographic printing plate, particularly for making an infrared-sensitive lithographic printing plate having an image forming layer containing an infrared absorber, to give a defect to an image area. Without leaving a residual film on the non-image area, or even if there is a slight residual film, it does not stain the printed matter finally, and it is possible to provide a highly sharp and clear image with excellent printing durability. Plate is achieved.
In the positive type / negative type infrared-sensitive lithographic printing plate, the developing property generally largely changes depending on the temperature of the developing solution. When the temperature of the developer is high, the developability of the non-image area is good, but film slippage occurs in the image area. When the temperature of the developer is low, the residual film is likely to remain in the non-image area.
By using the pre-burning surface-adjusting liquid of the present invention, the residual film in the non-image area as described above is improved and stains are less likely to occur.

【0115】[0115]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、
実施例中の「%」は全て「質量%」を表す。 <平版印刷版用原版の作成>0.3mm厚のアルミニウ
ム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱
脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−
水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、水でよく洗浄
した。洗浄後、このアルミニウム板を45℃の25%水
酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行
い、水洗した後、さらに20%硝酸水溶液に20秒間浸
漬し、再度水洗した。このときの砂目立て表面のエッチ
ング量は、約3g/m 2であった。次に、このアルミニ
ウム板を7%硫酸を電解液として、電流密度15A/d
2の直流電流で3g/m2の陽極酸化被膜を設けた後、
水洗、乾燥した。これを基板(I)とする。
The present invention will be described in detail below with reference to examples.
However, the present invention is not limited to these. In addition,
All "%" in the examples represent "mass%". <Preparation of original plate for planographic printing plate> 0.3mm thick aluminum plate
The aluminum plate (material 1050) with trichlorethylene to remove it.
After greasing, nylon brush and 400 mesh pumice-
Grain this surface with a water suspension and wash it thoroughly with water.
did. After washing, wash the aluminum plate at 45 ° C with 25% water.
Immerse in an aqueous solution of sodium oxide for 9 seconds to perform etching
After rinsing with water, soak in 20% nitric acid solution for 20 seconds.
It was pickled and washed again with water. Etching of the grained surface at this time
Amount is about 3g / m 2Met. Next, this aluminum
Umium plate with 7% sulfuric acid as electrolyte, current density 15A / d
m 2DC current of 3g / m2After providing the anodic oxide coating of
It was washed with water and dried. This is a substrate (I).

【0116】[0116]

【実施例1〜72及び比較例1〜2】基板(I)を30
℃の珪酸ナトリウム2.5%水溶液で10秒処理し、下
記下塗り層用塗布液を塗布し、80℃下で15秒間乾燥
した。乾燥後の下塗り層の乾燥塗布量は、15mg/m
2であった。
Examples 1-72 and Comparative Examples 1-2 Substrate (I) 30
It was treated with a 2.5% aqueous solution of sodium silicate at 10 ° C. for 10 seconds, the following coating solution for undercoat layer was applied, and dried at 80 ° C. for 15 seconds. The dry coating amount of the undercoat layer after drying is 15 mg / m.
Was 2 .

【0117】<下塗り層用塗布液> 下記共重合体P(分子量28000) 0.3g メタノール 100g 水 1g<Coating liquid for undercoat layer> The following copolymer P (molecular weight 28,000) 0.3 g 100 g of methanol 1 g water

【0118】 得られた支持体上に下記画像形成層塗布液を、乾燥塗布
量が、1.8g/m2となるように塗布し、ポジ型の平
版印刷版原版を得た。
[0118] The following coating solution for the image forming layer was applied onto the obtained support so that the dry coating amount was 1.8 g / m 2 to obtain a positive lithographic printing plate precursor.

【0119】<特定の共重合体の合成> 合成例(特定の共重合体1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三つ口
フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モル)、
クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及びアセ
トニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合
物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36.4
g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で3
0分間混合物を攪拌した。この反応混合物にp-アミノベ
ンゼンスルホンアミド51.7g(0.30モル)を加
え、油浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌し
た。反応終了後、この混合物を水1リットルにこの水を
攪拌しながら投入し、30分間得られた混合物を攪拌し
た。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水
500mlでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、
得られた固体を乾燥することにより、N-(p-アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られ
た(収量46.9g)
<Synthesis of Specific Copolymer> Synthesis Example (Specific Copolymer 1) 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid was placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling with an ice water bath. Triethylamine 36.4 was added to this mixture.
g (0.36 mol) was added dropwise by a dropping funnel over about 1 hour. After completion of the dropping, remove the ice-water bath and let it stand at room temperature for 3
The mixture was stirred for 0 minutes. To this reaction mixture, 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C in an oil bath. After completion of the reaction, this mixture was put into 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture is filtered to remove the precipitate, which is slurried with 500 ml of water and then the slurry is filtered,
The obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).

【0120】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三つ口フラスコにN-(p-アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド4.61g、(0.0192モ
ル)、メタクリル酸エチル2.94g(0.0258モ
ル)、アクリロニトリル0.80g(0.015モル)
及びN,N-ジメチルアセトアミド20gを入れ、湯水浴に
より65℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合
物に「V-65」(和光純薬(株)製)0.15gを加
え、65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物を攪拌
した。この反応混合物にさらにN-(p-アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド4.61g、メタクリル酸
エチル2.94g、アクリロニトリル0.80g、N,N-
ジメチルアセトアミド及び「V−65」0.15gの混
合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終
了後、さらに65℃で2時間得られた混合物を攪拌し
た。反応終了後、メタノール40gを混合物に加え、冷
却し、得られた混合物を水2リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、30分間混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより15gの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により、この特定の共重合体の重量平均分子量(ポリス
チレン標準)を測定したところ、53,000であっ
た。
Then, in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, (0.0192 mol) and 2.94 g of ethyl methacrylate ( 0.0258 mol), acrylonitrile 0.80 g (0.015 mol)
And 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while heating at 65 ° C. in a hot water bath. To this mixture was added 0.15 g of "V-65" (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 2 hours while maintaining the temperature at 65 ° C. The reaction mixture was further added with N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.61 g, ethyl methacrylate 2.94 g, acrylonitrile 0.80 g, N, N-
A mixture of dimethylacetamide and 0.15 g of "V-65" was added dropwise by a dropping funnel over 2 hours. After the dropping was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After the reaction was completed, 40 g of methanol was added to the mixture, the mixture was cooled, and the resulting mixture was added to 2 liters of water while stirring this water, the mixture was stirred for 30 minutes, and then the precipitate was taken out by filtration and dried. Gave 15 g of a white solid. The weight average molecular weight (polystyrene standard) of the specific copolymer was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000.

【0121】 <画像形成層用塗布液> 上記特定の共重合体1[(B)成分] 0.4g m,p−クレゾールノボラック[(B)成分] 0.6g (m/p比=6/4、重量平均分子量8000、 未反応クレゾールを0.5%含有) シアニン染料A[(A+C)成分] 0.1g 無水フタル酸[(D)成分] 0.05g p−トルエンスルホン酸 0.002g エチルバイオレット 0.02g (対イオン:6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸) ナフトキノン1,2−ジアジド−5−スルホニルクロイドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 0.01g フッ素系界面活性剤 0.05g (商品名:メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 8g 1−メトキシ−2−プロパノール 4g[0121] <Coating liquid for image forming layer>   0.4 g of the above-mentioned specific copolymer 1 [component (B)]   m, p-cresol novolac [(B) component] 0.6 g   (M / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 8000,     Contains 0.5% unreacted cresol)   Cyanine dye A [(A + C) component] 0.1 g   Phthalic anhydride [(D) component] 0.05 g   p-toluenesulfonic acid 0.002 g   Ethyl violet 0.02g   (Counterion: 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid)   Naphthoquinone 1,2-diazide-5-sulfonylcroid     Esterification product with pyrogallol-acetone resin 0.01 g   Fluorine-based surfactant 0.05g   (Brand name: Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)   Methyl ethyl ketone 8g   1-methoxy-2-propanol 4g

【0122】[0122]

【実施例1〜36及び比較例1及び2】(SiO2含有
のアルカリ現像処理液の調製)酸化ケイ素SiO2及び
酸化カリウムK2Oの混合比SiO2/K2Oが1.1の
ケイ酸カリウム4.0%、パイオニンC−158−G
(竹本油脂製)0.025%、パイオニンD−1105
(竹本油脂製)0.005%、及びオルフィンAK−0
2(日信化学製)0.015%含有のアルカリ現像処理
液を調製した。
Examples 1 to 36 and Comparative Examples 1 and 2 (Preparation of SiO 2 -Containing Alkali Developing Solution) Silicon oxide SiO 2 and potassium oxide K 2 O having a mixing ratio SiO 2 / K 2 O of 1.1. Potassium acidate 4.0%, Pionine C-158-G
(Made by Takemoto Yushi) 0.025%, PIONIN D-1105
(Made by Takemoto Yushi) 0.005% and Olfine AK-0
2 (manufactured by Nisshin Chemical Co., Ltd.) was used to prepare an alkali developing treatment solution containing 0.015%.

【0123】上記により得られた平版印刷版原版に出力
500mW、波長830nmビーム径17μm(1/e
2)の半導体レーザーを用いて主走査速度5m/秒にて
露光し、25℃に保持した。この平版印刷版原版を前記
アルカリ現像処理液を満たした自動現像機PS900N
P(富士写真フイルム(株)製)により、現像液温度25
℃、28℃、30℃、12秒にて現像処理した。現像処
理の後、水洗工程を行った。
The lithographic printing plate precursor obtained as described above had an output of 500 mW and a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 17 μm (1 / e).
The semiconductor laser of 2 ) was used to perform exposure at a main scanning speed of 5 m / sec and the temperature was kept at 25 ° C. This lithographic printing plate precursor is an automatic processor PS900N in which the alkaline developing solution is filled.
P (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The development processing was carried out at 12 ° C., 28 ° C., 30 ° C. for 12 seconds. After the development processing, a water washing step was performed.

【0124】下記表1〜2に示す濃度で大豆多糖類、も
しくは大豆多糖類とスルホン酸塩を含む各種水溶液(バ
ーニング前整面液(1)〜(36))で上記の版を版面処理
し、270℃、7分間バーニングした後、水洗、ガムG
U−7(1:1)(富士写真フイルム(株)製)で版面
処理し、製版が完了した平版印刷版を得た(実施例1〜
36)。一方、ホウ酸2.5%水溶液をバーニング前整
面液とした以外は実施例1と同様に製版したものを比較
例1とした。また、バーニング前整面液による処理とバ
ーニング処理をせずに、その他は実施例1と同様に製版
したものを比較例2とした。
The above plate was subjected to plate surface treatment with soybean polysaccharide or various aqueous solutions containing soybean polysaccharide and a sulfonate at a concentration shown in Tables 1 and 2 below (a surface conditioning solution before burning (1) to (36)). After burning at 270 ° C for 7 minutes, wash with water and gum G
The plate surface was processed with U-7 (1: 1) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to obtain a lithographic printing plate on which plate making was completed (Examples 1 to 1).
36). On the other hand, Comparative Example 1 was prepared as in Example 1 except that a 2.5% aqueous solution of boric acid was used as the surface conditioning solution before burning. Further, Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the pre-burning surface-adjusting solution and the burning treatment were not performed.

【0125】表1〜2に示すバーニング前整面液(1)〜
(36)に用いた大豆多糖類及びスルホン酸塩の詳細は以下
のとおりである。 大豆多糖類A:ソヤファイブ−S−DN(不二製油製、
ガラクトース46.1%、アラビノース22.6%、ガ
ラクツロン酸18.2%、粗蛋白9.2%) 大豆多糖類B:ソヤファイブ−S−LN(不二製油製、
ガラクトース43.6%、アラビノース22.5%、ガ
ラクツロン酸2.2%、粗蛋白10.4%)
Pre-burning surface conditioning solution (1) shown in Tables 1 to 2
Details of the soybean polysaccharide and sulfonate used in (36) are as follows. Soybean Polysaccharide A: Soyafive-S-DN (made by Fuji Oil,
Galactose 46.1%, arabinose 22.6%, galacturonic acid 18.2%, crude protein 9.2%) Soybean polysaccharide B: Soyafive-S-LN (made by Fuji Oil,
Galactose 43.6%, arabinose 22.5%, galacturonic acid 2.2%, crude protein 10.4%)

【0126】スルホン酸塩(a)〜(o) Sulfonates (a) to (o)

【0127】[0127]

【表1】 [Table 1]

【0128】[0128]

【表2】 [Table 2]

【0129】これらの平版印刷版を以下のように評価し
た。また、この平版印刷版を使用して、ハイデルベルグ
社製KOR型印刷機で市販のインキにて、上質紙に印刷
した。 <画像部/非画像部のバランスの評価> (非画像部の現像性の評価)上記のようにして得た平版
印刷版の非画像部の現像性を「非画像部の残膜の有無」を
観察することで、官能評価を行った。また、印刷物上の
汚れも評価して、結果を表3〜4に示す。 −基準− ○:十分に現像され、非画像部上の画像形成層の残存は
認められなかった。印刷物上で汚れがなかった。 △:非画像部上に画像形成層が若干残存していた。しか
し、印刷物上で汚れがなかった。 ×:非画像部上に画像形成層が残存し、印刷物上で汚れ
が発生した。
These lithographic printing plates were evaluated as follows. The planographic printing plate was used to print on high-quality paper with a commercially available ink using a KOR type printer manufactured by Heidelberg. <Evaluation of balance of image area / non-image area> (Evaluation of developability of non-image area) The developability of the non-image area of the lithographic printing plate obtained as described above was determined by "presence or absence of residual film in non-image area". Sensory evaluation was performed by observing. The stains on the printed matter were also evaluated, and the results are shown in Tables 3 and 4. -Criteria- A: Sufficiently developed, no residual image forming layer on the non-image area was observed. There was no stain on the print. Δ: The image forming layer was slightly left on the non-image area. However, there was no stain on the printed matter. X: The image forming layer remained on the non-image area, and stains were generated on the printed matter.

【0130】(画像部の膜べりの評価)上記のようにして
得た平版印刷版の「画像部の欠陥」を下記基準に従い、
目視により観察し、官能評価を行った。また、印刷物上
の膜べりも評価して、結果を表3に示す。 −基準− ○:画像部に欠陥は認められなかった。印刷物上の画像
部の白抜けがなかった。 △:画像部濃度が若干低下し、一部に欠陥が認められ
た。しかし印刷物上の画像部の白抜けがなかった。 ×:画像部に欠陥した部分有り。印刷物上の画像部に白
抜けが見られた。 評価結果を表3〜4にまとめる。
(Evaluation of film slippage in image area) The "defect in image area" of the lithographic printing plate obtained as described above was measured according to the following criteria.
It was visually observed and sensory evaluation was performed. Also, the film slippage on the printed matter was evaluated, and the results are shown in Table 3. -Reference- ○: No defect was observed in the image area. There was no white spot in the image area on the printed matter. Δ: The image area density was slightly reduced, and some defects were recognized. However, there was no white spot in the image area on the printed matter. X: There is a defective portion in the image area. White spots were found in the image area on the printed matter. The evaluation results are summarized in Tables 3-4.

【0131】<耐刷力の評価>画像部が摩耗してインキ
が付着しなくなり、正常な印刷物が得られなくなるまで
の正常な印刷物の印刷枚数で表す。耐刷性の劣るものは
少ない枚数となる。結果を表3〜4にまとめる。 <発泡性>スプレー循環式処理機でのバーニング前整面
液を入れた処理槽における発泡性を表3〜4にまとめ
る。 −基準− ○:泡が発生しない。 △:泡が発生するが使用上問題ないレベルである。 ×:使用上、問題あり。
<Evaluation of Printing Durability> It is represented by the number of prints of a normal print until the image part is worn out and ink is not attached and a normal print cannot be obtained. The number of sheets with poor printing durability is small. The results are summarized in Tables 3-4. <Foamability> Tables 3 to 4 summarize the foamability in the treatment tank containing the surface conditioning solution before burning in the spray circulation type processor. -Standard- ○: No bubbles are generated. B: Bubbles are generated but there is no problem in use. X: There is a problem in use.

【0132】[0132]

【表3】 [Table 3]

【0133】[0133]

【表4】 [Table 4]

【0134】[0134]

【実施例37〜72及び比較例3及び4】(非還元糖含
有のアルカリ現像処理液の調製)非還元糖と塩基とを組
み合わせたD−ソルビット/酸化カリウムK2Oよりな
るカリウム塩5.0%、パイオニンC−158−G(竹
本油脂製)0.025%、パイオニンD−1105(竹
本油脂製)0.005%、及びオルフィンAK−02
(日信化学製)0.015%含有のアルカリ現像処理液
を調製した。このアルカリ現像処理液を使用する以外は
実施例1〜36、比較例1及び2と同様に露光、現像処
理及び水洗処理した。バーニング前整面液(1)〜(36)で
上記の版を版面処理し、270℃、7分間バーニングし
た後、水洗、ガムGU−7(1:1)(富士写真フイル
ム(株)製)で版面処理し、製版が完了した平版印刷版
を得た(実施例37〜72)。一方、ホウ酸2.5%水
溶液をバーニング前整面液とした以外は実施例37と同
様に製版したものを比較例3とした。また、バーニング
前整面液による処理とバーニング処理をせずに、その他
は実施例37と同様に製版したものを比較例4とした。
これらの平版印刷版を実施例1〜36と同様に評価し
た。その結果を表5〜6にまとめる。
Examples 37 to 72 and Comparative Examples 3 and 4 (Preparation of alkaline developing solution containing non-reducing sugar) Potassium salt of D-sorbit / potassium oxide K 2 O in which non-reducing sugar and base are combined. 0%, Pionin C-158-G (manufactured by Takemoto Yushi) 0.025%, Pionin D-1105 (manufactured by Takemoto Yushi) 0.005%, and Olphin AK-02.
An alkaline developing treatment solution containing 0.015% (manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.) was prepared. Exposure, development and washing with water were carried out in the same manner as in Examples 1 to 36 and Comparative Examples 1 and 2 except that this alkaline developing solution was used. The plate was surface-treated with the surface conditioning solution (1) to (36) before burning, burned at 270 ° C. for 7 minutes, washed with water, and gum GU-7 (1: 1) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) The plate surface treatment was carried out to obtain a lithographic printing plate for which plate making was completed (Examples 37 to 72). On the other hand, Comparative Example 3 was prepared as in Example 37 except that a 2.5% aqueous solution of boric acid was used as the surface conditioning solution before burning. Further, as Comparative Example 4, a plate was prepared in the same manner as in Example 37, except that the pre-burning surface-adjusting solution and the burning process were not performed.
These planographic printing plates were evaluated in the same manner as in Examples 1-36. The results are summarized in Tables 5-6.

【0135】[0135]

【表5】 [Table 5]

【0136】[0136]

【表6】 [Table 6]

【0137】[0137]

【実施例73〜108、比較例5及び6】基板(I)に
下記下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾
燥後の被覆量は8mg/m2であった。 (下塗り液) アミノエチルホスホン酸 0.1g メタノール 70g 純水 30g
Examples 73 to 108, Comparative Examples 5 and 6 Substrates (I) were coated with the following undercoat liquid and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 8 mg / m 2 . (Undercoating liquid) Aminoethylphosphonic acid 0.1 g Methanol 70 g Pure water 30 g

【0138】次に下記溶液[A]を調製した。この溶液
を上記下塗り済みの基板(I)に塗布し、100℃で1
分間乾燥してネガ型平版印刷版原版[A]を得た。乾燥
後の塗布量は1.5g/m2であった。 (溶液[A]) ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート (東京化成工業(株)製) 0.15g 赤外線吸収剤(NK-2014、日本感光色素研究所(株)製) 0.10g フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 (重量平均分子量 10000) 1.5g 架橋剤(下記構造式で表される化合物 MM−1) 0.5g 着色剤(保土ヶ谷化学(株)製 Vicotria Pure Blue) 0.04g フッ素系界面活性剤 (メガファックF-176,大日本インキ化学工業(株)製) 0.03g メチルエチルケトン 20g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g メチルアルコール 3g
Next, the following solution [A] was prepared. This solution is applied to the above-mentioned undercoated substrate (I), and 100 ° C. for 1 hour.
After drying for a minute, a negative lithographic printing plate precursor [A] was obtained. The coating amount after drying was 1.5 g / m 2 . (Solution [A]) Diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0.15 g Infrared absorber (NK-2014, manufactured by Japan Photosensitive Dye Research Institute Co., Ltd.) 0.10 g Obtained from phenol and formaldehyde Novolac resin (weight average molecular weight 10000) 1.5 g Crosslinking agent (compound MM-1 represented by the following structural formula) 0.5 g Colorant (Vicotria Pure Blue manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.04 g Fluorosurfactant (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.03 g methyl ethyl ketone 20 g 1-methoxy-2-propanol 7 g methyl alcohol 3 g

【0139】 [0139]

【0140】上記により得られたネガ型平版印刷版原版
[A]を、1ビーム当たりの感材面での出力が70mW、
波長830nm、ビーム径16μm(1/e2)の半導体レーザ
ーを用いて、主走査速度3.0m/秒で画像露光した
後、プレヒートとして140℃で1分間加熱処理した。
この平版印刷版を富士写真フイルム(株)製アルカリ水現
像液LH−DN(1:7)を満たした自動現像機PS9
00NP(富士写真フイルム(株)製)により、現像液温
度25℃、30℃、35℃、12秒にて現像処理した。
現像処理の後、水洗工程を行った。さらに、上記バーニ
ング前整面液(1)〜(36)で版面を処理し、270℃、7
分間バーニングした後、水洗、ガムGU−7(1:1)
(富士写真フイルム(株)製)で版面処理し、製版が完了
した平版印刷版を得た(実施例73〜108)。一方、
ホウ酸2.5%水溶液をバーニング前整面液とした以外
は実施例73と同様に製版したものを比較例5とした。
また、バーニング前整面液による処理とバーニング処理
をせずに、その他は実施例73と同様に製版したものを
比較例6とした。
The negative type lithographic printing plate precursor [A] obtained above had an output of 70 mW on the photosensitive material surface per 1 beam,
Image exposure was performed at a main scanning speed of 3.0 m / sec using a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 16 μm (1 / e 2 ), and then preheating was performed at 140 ° C. for 1 minute.
This lithographic printing plate is an automatic processor PS9 filled with an alkaline water developer LH-DN (1: 7) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
00NP (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used for developing treatment at developer temperatures of 25 ° C, 30 ° C, 35 ° C and 12 seconds.
After the development processing, a water washing step was performed. Further, the plate surface is treated with the above-mentioned surface conditioning solution (1) to (36) before burning, and the plate is treated at 270 ° C. for 7 hours.
After burning for minutes, rinse with water, gum GU-7 (1: 1)
(Fuji Photo Film Co., Ltd.), the plate surface treatment was performed to obtain a lithographic printing plate for which plate making was completed (Examples 73 to 108). on the other hand,
Comparative Example 5 was prepared in the same manner as in Example 73 except that a 2.5% aqueous boric acid solution was used as the surface conditioning solution before burning.
Further, as Comparative Example 6, a plate was prepared in the same manner as in Example 73, except that the surface-polishing liquid before burning and the burning treatment were not performed.

【0141】これらの平版印刷版を以下のように評価し
た。また、この平版印刷版を使用して、ハイデルベルグ
社製KOR型印刷機で市販のインキにて、上質紙に印刷
した。
These lithographic printing plates were evaluated as follows. The planographic printing plate was used to print on high-quality paper with a commercially available ink using a KOR type printer manufactured by Heidelberg.

【0142】<画像部/非画像部のバランスの評価> (非画像部の現像性の評価)上記のようにして得た現像
液温度25℃、30℃、35℃での平版印刷版の非画像
部の現像性を、プレヒートの温度も変えて「非画像部の
残膜の有無」を観察して官能評価を行った。また、印刷
物上の汚れも評価した。 −基準− ○:プレヒート温度140℃で十分に現像され、非画像
部上の画像形成層の残存は認められなかった。印刷物上
で汚れがなかった。 △:プレヒート温度140℃で、非画像部上に画像形成
層が若干残存していた。しかし、印刷物上で汚れがなか
った。また、プレヒート温度130℃では十分に現像さ
れ、非画像部上の画像形成層の残存は認められなかっ
た。印刷物上で汚れがなかった。 ×:プレヒート温度130℃でも、非画像部上に画像形
成層が残存し、印刷物上で汚れが発生した。
<Evaluation of balance between image area / non-image area> (Evaluation of developability of non-image area) Non-image area of the lithographic printing plate obtained at the developer temperature of 25 ° C., 30 ° C. and 35 ° C. Sensory evaluation was performed on the developability of the image area by observing "presence or absence of residual film in non-image area" while changing the preheating temperature. Also, the stain on the printed matter was evaluated. -Reference- A: Sufficiently developed at a preheat temperature of 140 ° C, and no image forming layer remained on the non-image area. There was no stain on the print. Δ: At the preheating temperature of 140 ° C., the image forming layer was slightly left on the non-image area. However, there was no stain on the printed matter. Further, at the preheating temperature of 130 ° C., it was sufficiently developed and no image forming layer remained on the non-image area. There was no stain on the print. X: The image forming layer remained on the non-image area even at the preheating temperature of 130 ° C., and the printed matter was stained.

【0143】(画像部の膜べりの評価)上記のようにして
得た現像液温度25℃、30℃、35℃での平版印刷版
の画像部の膜べりを、プレヒートの温度も変えて、「画
像部の欠陥」を観察し、官能評価を行った。また、印刷
物上の膜べりも評価した。 −基準− ○:プレヒート温度140℃で画像部に欠陥は認められ
なかった。印刷物上の画像部の白抜けがなかった。 △:プレヒート温度140℃で画像濃度が若干低下し、
一部に欠陥が認められた。しかし印刷物上の画像部の白
抜けがなかった。また、プレヒート温度150℃では画
像部に欠陥は認められなかった。印刷物上の画像部の白
抜けがなかった。 ×:プレヒート温度150℃でも画像部に欠陥した部分
有り。印刷物上の画像部に白抜けが見られた。
(Evaluation of the film thickness of the image area) The film thickness of the image area of the lithographic printing plate at the developer temperatures of 25 ° C., 30 ° C. and 35 ° C. obtained as described above was changed by changing the preheating temperature. The "defect in the image area" was observed and sensory evaluation was performed. The film slippage on the printed matter was also evaluated. -Reference- ○: No defect was observed in the image area at the preheating temperature of 140 ° C. There was no white spot in the image area on the printed matter. Δ: The image density slightly decreased at the preheating temperature of 140 ° C.,
Some defects were found. However, there was no white spot in the image area on the printed matter. Further, at the preheating temperature of 150 ° C., no defect was found in the image area. There was no white spot in the image area on the printed matter. X: There is a defective portion in the image area even at a preheating temperature of 150 ° C. White spots were found in the image area on the printed matter.

【0144】また、耐刷力及び発泡性の評価を実施例1
〜72と同様に実施した。評価結果を表7〜8に示す。
In addition, evaluation of printing durability and foaming property was carried out in Example 1.
~ 72. The evaluation results are shown in Tables 7-8.

【0145】[0145]

【表7】 [Table 7]

【0146】[0146]

【表8】 [Table 8]

【0147】[0147]

【実施例109〜144、比較例7及び8】基板(I)
に下記下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。
乾燥後の被覆量は10mg/m2であった。
Examples 109 to 144, Comparative Examples 7 and 8 Substrate (I)
Was coated with the following undercoat liquid and dried at 80 ° C. for 30 seconds.
The coating amount after drying was 10 mg / m 2 .

【0148】上記下塗り済みの基板(I)に、特公昭4
3−28403号公報の実施例1に記載されているアセ
トンとピロガロールの縮合物により得られるポリヒドロ
キシフェニルのナフトキノン-1,2-ジアジド-5-スルホン
酸エステル0.8質量部とノボラック型m/p混合クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂2.2質量部、ノボラック
型オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂0.02質
量部、無水フタル酸0.08質量部、2-トリクロルメチ
ル-5-(p-メトキシスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール
0.04質量部及びクリスタルバイオレットのパラトル
エンスルホン酸塩0.03質量部を20質量部のメチル
セロソルブアセテートと8質量部のメチルエチルケトン
に溶解して感光液を調液し、回転塗布機によって塗布乾
燥して、2g/m2の感光層を有する感光版を得た。こ
の感光版に富士写真フイルム(株)製PSライト(2K
Wメタルハライドランプ)を用いて露光し、25℃に保
持した。
On the undercoated substrate (I), Japanese Patent Publication No.
0.828 parts by mass of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of polyhydroxyphenyl obtained by the condensation product of acetone and pyrogallol described in Example 1 of 3-28403 gazette and novolac type m / 2.2 parts by mass of p-mixed cresol formaldehyde resin, 0.02 parts by mass of novolac type octylphenol formaldehyde resin, 0.08 parts by mass of phthalic anhydride, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxystyryl) -1,3,4 -Oxadiazole 0.04 parts by mass and crystal violet paratoluene sulfonate 0.03 parts by mass are dissolved in 20 parts by mass of methyl cellosolve acetate and 8 parts by mass of methyl ethyl ketone to prepare a photosensitive solution and spin coating. It was coated and dried by a machine to obtain a photosensitive plate having a photosensitive layer of 2 g / m 2 . Fuji Photo Film Co., Ltd. PS light (2K
It was exposed using a W metal halide lamp) and kept at 25 ° C.

【0149】この平版印刷版を富士写真フイルム(株)
製アルカリ水現像液DP−4(1:8)を満たした自動
現像機PS900NP(富士写真フイルム(株)製)によ
り、現像液温度25℃、30℃、35℃で12秒にて現
像処理した。現像処理の後、水洗工程を行った。さら
に、上記バーニング前整面液(1)〜(36)で版面を処理
し、270℃、7分間バーニングした後、水洗、ガムG
U−7(1:1)(富士写真フイルム(株)製)で版面処
理し、製版が完了した平版印刷版を得た(実施例109
〜144)。一方、ホウ酸2.5%水溶液をバーニング
前整面液とした以外は実施例109と同様に製版したも
のを比較例7とした。また、バーニング前整面液による
処理とバーニング処理をせずに、その他は実施例109
と同様に製版したものを比較例8とした。
This planographic printing plate is used by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Development was performed for 12 seconds at a developer temperature of 25 ° C., 30 ° C. and 35 ° C. by an automatic processor PS900NP (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) filled with alkaline water developer DP-4 (1: 8). . After the development processing, a water washing step was performed. Further, the plate surface is treated with the above-mentioned surface conditioning solution (1) to (36) before burning, and after burning at 270 ° C. for 7 minutes, washing with water and gum G
The plate surface was processed with U-7 (1: 1) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to obtain a lithographic printing plate on which plate making was completed (Example 109).
~ 144). On the other hand, a plate made in the same manner as in Example 109 was used as Comparative Example 7 except that a 2.5% aqueous solution of boric acid was used as the surface conditioning solution before burning. In addition, the treatment with the surface conditioning liquid before burning and the burning treatment were not performed, and the other conditions were the same as those in Example
A plate produced in the same manner as in Comparative Example 8 was used.

【0150】これらの平版印刷版を以下のように評価す
る。また、これらの平版印刷版を使用して、ハイデルベ
ルグ社製KOR型印刷機で市販のインキにて、上質紙に
印刷した。 <画像部/非画像部のバランスの評価> (非画像部の現像性の評価)上記のようにして得た平版
印刷版の非画像部の現像性を「非画像部の残膜の有無」を
観察することで、官能評価を行った。また、印刷物上の
汚れも評価した。 −基準− ○:十分に現像され、非画像部上の画像形成層の残存は
認められなかった。印刷物上で汚れがなかった。 △:非画像部上に画像形成層が若干残存していた。しか
し、印刷物上で汚れがなかった。 ×:非画像部上に画像形成層が残存し、印刷物上で汚れ
が発生した。
These lithographic printing plates are evaluated as follows. Further, using these lithographic printing plates, high-quality paper was printed with a commercially available ink using a KOR type printer manufactured by Heidelberg. <Evaluation of balance of image area / non-image area> (Evaluation of developability of non-image area) The developability of the non-image area of the lithographic printing plate obtained as described above was determined by "presence or absence of residual film in non-image area". Sensory evaluation was performed by observing. Also, the stain on the printed matter was evaluated. -Criteria- A: Sufficiently developed, no residual image forming layer on the non-image area was observed. There was no stain on the print. Δ: The image forming layer was slightly left on the non-image area. However, there was no stain on the printed matter. X: The image forming layer remained on the non-image area, and stains were generated on the printed matter.

【0151】(画像部の膜べりの評価)上記のようにして
得た平版印刷版の「画像部の欠陥」を下記基準に従い、
目視により観察し、官能評価を行った。また、印刷物上
の膜べりも評価した。 −基準− ○:画像部に欠陥は認められなかった。印刷物上の画像
部の白抜けがなかった。 △:画像部濃度が若干低下し、一部に欠陥が認められ
た。しかし印刷物上の画像部の白抜けがなかった。 ×:画像部に欠陥した部分有り。印刷物上の画像部に白
抜けが見られた。耐刷力及び発泡性の評価は、実施例1
〜72と同様に実施した。評価結果を表9〜10に示
す。
(Evaluation of film slippage in the image area) The "defect in the image area" of the lithographic printing plate obtained as described above was evaluated according to the following criteria.
It was visually observed and sensory evaluation was performed. The film slippage on the printed matter was also evaluated. -Reference- ○: No defect was observed in the image area. There was no white spot in the image area on the printed matter. Δ: The image area density was slightly reduced, and some defects were recognized. However, there was no white spot in the image area on the printed matter. X: There is a defective portion in the image area. White spots were found in the image area on the printed matter. The evaluation of printing durability and foaming property was performed in Example 1
~ 72. The evaluation results are shown in Tables 9-10.

【0152】[0152]

【表9】 [Table 9]

【0153】[0153]

【表10】 [Table 10]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/032 G03F 7/032 Fターム(参考) 2H025 AB03 AC01 AC08 AD01 AD03 CB43 CB52 CC20 FA10 FA17 FA28 FA29 2H096 AA07 BA16 BA20 EA04 GA08 HA01 HA02 JA04 2H114 AA04 AA24 BA01 BA10 DA03 DA21 DA34 DA41 DA42 DA52 DA53 DA59 EA03 EA05 EA08 GA01 GA21 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G03F 7/032 G03F 7/032 F term (reference) 2H025 AB03 AC01 AC08 AD01 AD03 CB43 CB52 CC20 FA10 FA17 FA28 FA29 2H096 AA07 BA16 BA20 EA04 GA08 HA01 HA02 JA04 2H114 AA04 AA24 BA01 BA10 DA03 DA21 DA34 DA41 DA42 DA52 DA53 DA59 EA03 EA05 EA08 GA01 GA21

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 大豆多糖類を含有することを特徴とする
バーニング前整面液。
1. A surface smoothing solution before burning comprising soybean polysaccharide.
【請求項2】 さらにスルホン酸塩を含有する請求項1
記載のバーニング前整面液。
2. The method according to claim 1, further comprising a sulfonate.
The surface conditioning solution before burning as described.
【請求項3】 感光性平版印刷版を露光し、現像処理し
た後、大豆多糖類を含有する水溶液で処理し、次いでバ
ーニング処理することを特徴とする平版印刷版の製版方
法。
3. A method of making a lithographic printing plate comprising exposing a photosensitive lithographic printing plate to light, developing it, treating it with an aqueous solution containing a soybean polysaccharide, and then performing a burning treatment.
【請求項4】 赤外線吸収剤を含有する画像形成層を有
する赤外線感光性平版印刷版を赤外線露光し、現像処理
した後、大豆多糖類を含有する水溶液で処理し、次いで
バーニング処理することを特徴とする平版印刷版の製版
方法。
4. An infrared-sensitive lithographic printing plate having an image-forming layer containing an infrared absorber is exposed to infrared rays, developed, treated with an aqueous solution containing soybean polysaccharide, and then subjected to a burning treatment. A method for making a lithographic printing plate.
【請求項5】 赤外線吸収剤を含有する画像形成層を有
する赤外線感光性平版印刷版を赤外線露光し、現像処理
した後、大豆多糖類及びスルホン酸塩を含有する水溶液
で処理し、次いでバーニング処理することを特徴とする
平版印刷版の製版方法。
5. An infrared-sensitive lithographic printing plate having an image-forming layer containing an infrared absorber is exposed to infrared rays, developed, and then treated with an aqueous solution containing soybean polysaccharide and sulfonate, and then burned. A method of making a lithographic printing plate comprising:
JP2001292970A 2001-09-26 2001-09-26 Pre-burning counter-etching liquid and plate making method for planographic printing plate Pending JP2003098687A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001292970A JP2003098687A (en) 2001-09-26 2001-09-26 Pre-burning counter-etching liquid and plate making method for planographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001292970A JP2003098687A (en) 2001-09-26 2001-09-26 Pre-burning counter-etching liquid and plate making method for planographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003098687A true JP2003098687A (en) 2003-04-04

Family

ID=19114843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001292970A Pending JP2003098687A (en) 2001-09-26 2001-09-26 Pre-burning counter-etching liquid and plate making method for planographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003098687A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013134341A (en) * 2011-12-26 2013-07-08 Fujifilm Corp Method for making planographic printing plate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013134341A (en) * 2011-12-26 2013-07-08 Fujifilm Corp Method for making planographic printing plate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4709104B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate precursor
JP3939437B2 (en) Planographic printing plate making method
JP3841397B2 (en) Infrared sensitive composition
JP4095821B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JP5068681B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP2003149799A (en) Planographic printing plate for infrared laser
JP2002229186A (en) Original plate of planographic printing plate
JP4505388B2 (en) Image forming material
JP2001324819A (en) Alkali developing solution for planographic printing plate and developing method
JP2004125877A (en) Development processing method for planographic printing plate
JP3795658B2 (en) Planographic printing plate making method
JP2001051406A (en) Plate making process for planographic printing plate by alkali development
JP5159123B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser
JP4437960B2 (en) Image forming material
JP3832813B2 (en) Infrared sensitive composition
JP4028272B2 (en) Infrared sensitive composition
JP2003098687A (en) Pre-burning counter-etching liquid and plate making method for planographic printing plate
JP2003029426A (en) Alkali developing solution for photosensitive planographic printing plate and plate making method for planographic printing plate
JP2003015319A (en) Alkali developing solution for photosensitive planographic printing plate and plate making method for planographic printing plate
JP4005266B2 (en) Planographic printing plate making method
JPH1184657A (en) Positive photosensitive composition for infrared laser
JP3841414B2 (en) Infrared sensitive composition
JP2003015317A (en) Alkali developing solution for planographic printing plate and plate making method for planographic printing plate
JP2001272801A (en) Method for making planographic printing plate
JP4005265B2 (en) Planographic printing plate making method