JP3841397B2 - Infrared sensitive composition - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an IR sensitive composition excellent in suitability to processing with an exhausted developing solution having lowered activity (development latitude) when used in an image forming layer of an original plate for a planographic printing plate or the like. <P>SOLUTION: The IR sensitive composition comprises (A) a polyurethane resin, (B) a novolak resin and (C) a photothermal conversion agent, wherein (A) the polyurethane resin has a specified diol as a component. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【００１０】
式中、Ｒはそれぞれ水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、ｎは２以上の整数を示す。
【００１１】
以下に、好ましい態様を記載する。
（２） （Ｃ）光熱変換剤がシアニン染料であることを特徴とする前記（１）に記載の感赤外線感光性組成物。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の感赤外線感光性組成物について、詳細に説明する。
まず、（Ａ）ポリウレタン樹脂（「（Ａ）成分」、「（Ａ）樹脂」と略記することもある）について詳細に説明する。
【００１３】
本発明の（Ａ）樹脂は、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表されるジオールを構成成分として有する。
【００１４】
【化３】

【００１５】
式中、Ｒはそれぞれ水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、ｎは２以上の整数を示す。
Ｒにおける炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基等が挙げられる。
【００１６】
以下に、本発明の上記一般式（Ｉ）又は（II）で表されるジオールの具体例を示すが、本発明がこれらに限定されるものではない。
【００１７】
【化４】

【００１８】
【化５】

【００１９】
上記（Ａ）ポリウレタン樹脂は種々の方法で製造することができる。例えば、下記一般式（III）で表わされるジイソシアネート化合物と、上記一般式（Ｉ）、（II）で表されるジオール化合物との反応生成物を基本骨格とするポリウレタン樹脂が挙げられる。
ＯＣＮ−Ｒ¹−ＮＣＯ （III）
【００２０】
式中、Ｒ¹は置換基（例えば、アルキル、アルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。必要に応じ、Ｒ¹中にイソンアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよい。
【００２１】
一般式（III）で示されるジイソシアネート化合物として、具体的には以下に示すものが含まれる。即ち、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートの二量体、２，６−トリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物、イソホロンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４（又は２，６）−ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物；１，３−ブチレングリコール１モルとトリレンジイソシアネート２モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
【００２２】
（Ａ）ポリウレタン樹脂は、下記一般式（IV）〜（Ｘ）で表わされる酸性水素原子を持つ置換基を有するジオールを組み合わせた反応生成物であると好ましい。
【００２３】
【化６】

【００２４】
【化７】

【００２５】
Ｒ²は水素原子、置換基（例えば、アルキル、アリール、アルコキシ、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、ハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよいアルキル、アルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基もしくは炭素数２〜８個のアルケニル基、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ同一でも相異していてもよい、単結合、置換基（例えば、アルキル、アルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ及びハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。好ましくは炭素数１〜２０個のアルキレン基、炭素数６〜１５個のアリーレン基、更に好ましくは炭素数１〜８個のアルキレン基を示す。
また、必要に応じ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基、炭素−炭素不飽和結合を有していてもよい。なお、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵のうちの２又は３個で環を形成してもよい。
Ａｒは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素を示し、好ましくは炭素数６〜１５個の芳香族基を示す。
【００２６】
式中、Ｒ⁶は置換基（例えば、アルキル、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい一価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。好ましくは炭素数１〜２０個のアルキル基又は炭素数２〜２０個のアルケニル基、炭素数６〜１５個のアリール基、炭素数７〜１５個のアラルキル基を示す。更に好ましくは炭素数１〜８個のアルキル基、又は炭素数２〜８個のアルケニル基、炭素数６〜１０個のアリール基を示す。
ＹはＮ−スルホニルアミド基（−ＣＯ−ＮＨ−ＳＯ₂−）、Ｎ−スルホニルウレイド基（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ＳＯ₂−）、Ｎ−アミノスルホニルアミド基（−ＣＯ−ＮＨ−ＳＯ₂−ＮＨ−）又はスルホニルウレタン基（−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＳＯ₂−）を示す。
【００２７】
一般式（IV）、（V）又は（VI）で示されるカルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。
即ち、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル〉プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）プロピオン酸、ビス（ヒドロキシメチル）酢酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、酒石酸、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−カルボキシ−プロピオンアミド等が挙げられる。
【００２８】
一般式（VII）、（VIII）、(IX）又は（X）で示されるジオール化合物は、例えば一般式（IV）、（V）、(VI）で示されるカルボキシル基を有するジオール化合物のヒドロキシ基を保護した後、塩基存在下、一般式（XI）、（XII）、（XIII）、（XIV）の化合物との反応により合成される。更に、クロロスルホニルイソシアネートと反応させた後、一般式（XI）のアミン化合物と反応させることにより合成される。
【００２９】
Ｒ⁶−ＳＯ₂−ＮＣＯ （XI）
Ｘ−Ｒ³−ＣＯ−ＮＨ−ＳＯ₂−Ｒ⁶ （XII）
Ｘ−Ｒ³−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ＳＯ₂−Ｒ⁶ （XIII）
Ｘ−Ｒ³−ＣＯ−ＮＨ−ＳＯ₂−ＮＨ−Ｒ⁶ （XIV）
Ｒ⁶−ＮＨ₂ （XV）
【００３０】
式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す。スルホニルウレタン基の場合、トリヒドロキシ化合物の１つはヒドロキシ基を一般式（XI）の化合物と反応させることにより合成できる。
【００３１】
具体的には一般式（VII）、（VIII）（IX）及び（X）で示されるジオール化合物としては、以下に示すものが含まれる。
【００３２】
【化８】

【００３３】
【化９】

【００３４】
【化１０】

【００３５】
【化１１】

【００３６】
【化１２】

【００３７】
【化１３】

【００３８】
また本発明に好適に使用される上記ポリウレタン樹脂の分子量は重量平均（ポリスチレン標準）で５０００〜８００，０００である。好ましい重量平均分子量は１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましく２０，０００〜２００，０００である。このときの分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２０以下であり、好ましくは１６以下、更に好ましくは１４以下である。分子量が低いと効果が小さく、分子量が高いと現像性が著しく低下する。
【００３９】
本発明のポリウレタン樹脂の感光性組成物中の含量は、固形分換算で１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。本発明のポリウレタン樹脂は上記ジイソシアネート化合物及びジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱することにより合成される。
使用するジイソシアネート及びジオール化合物のモル比は好ましくは０．８：１〜１．２：１であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
【００４０】
次に本発明に用いられる（Ａ）ポリウレタン樹脂の合成例を示す。
（合成例１）
コンデンサー、かくはん機を備えた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコに、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸１４．６ｇ（０．１０９mole）、テトラエチレングリコール１３．３ｇ（０．０６８６mole）および１，４−ブタンジオール２．０５ｇ（０．０２２８mole）を加え、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１１８ｇに溶解した。これに、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート３０．８ｇ（０．１２３mole）、ヘキサメチレンジイソシアネート１３．８ｇ（０．０８１９mole）および触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ０．１ｇを添加し、攪拌下、９０℃、７時間加熱した。この反応液に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌ、メタノール５０ｍｌおよび酢酸５０ｍｌを加え、攪拌した後に、これを水４リットル中に攪拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、減圧乾燥させることにより、６０ｇのポリマー（ポリウレタン樹脂（ａ））を得た。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて分子量を測定したところ、重量平均（ポリスチレン標準）で７００００であった。又滴定によりカルボキシル基含量を測定したところ１．４３ｍｅｑ／ｇであった。
【００４１】
（合成例２〜６）
〔表１〕に示したジイソシアネート、〔表２〕に示したジオール化合物を用いて、合成例１と同様にしてポリウレタン樹脂（ｂ）〜（ｆ）を合成した。滴定により測定した酸含量及びＧＰＣにより測定した分子量をあわせて〔表２〕に示す。
（比較合成例１）
比較のため一般式（１）で表わされるジオール成分を含まないポリウレタン樹脂（ｇ）、（ｈ）を合成した、使用したジイソシアネートを〔表３〕に、ジオール化合物、酸含量及び分子量を〔表４〕に示す。
【００４２】
【表１】

【００４３】
【表２】

【００４４】
【表３】

【００４５】
【表４】

【００４６】
次に、本発明に係る前記（Ｂ）ノボラック樹脂について詳細に説明する。
本発明に用いるノボラック樹脂としては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。
【００４７】
また更に、米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３−８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。また、その重量平均分子量が５００以上であることが好ましく、１，０００〜７００，０００であることがより好ましい。また、その数平均分子量が５００以上であることが好ましく、７５０〜６５０，０００であることがより好ましい。分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０であることが好ましい。
【００４８】
また、本発明に用いるノボラック樹脂は、本発明の感赤外線感光性組成物を平版印刷版の感光層に用いる際、その感光層全固形分中、５０重量%以上であることが必要で、それ以下の場合、バーニング処理による耐刷向上効果が低くて使用できない。７０重量％以上であることがより好ましく、８０重量％以上であることが特に好ましい。
【００４９】
本発明の感赤外線感光性組成物には、（Ｃ）光熱変換剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）を添加する。
【００５０】
本発明において用いられる（Ｃ）光熱変換剤は、赤外光を吸収し熱を発生する物質であれば特に制限はなく、赤外線吸収染料のほか、赤外線吸収顔料として知られる種々の顔料もしくは、例示した以外の赤外線吸収染料を用いることができる。
顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【００５１】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
【００５２】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【００５３】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると記録層の均一性の点で好ましくない。
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。
【００５４】
染料としては、市販の染料及び文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。
本発明において、これらの顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
【００５５】
そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられる。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料としては、例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００５６】
また、染料として米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ III−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１２５等が、特に好ましく用いられる。
【００５７】
また、染料として特に好ましい別の例として、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
これらの顔料もしくは染料は、全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０重量％、顔料の場合特に好ましくは３．１〜１０重量％の割合で添加することができる。
【００５８】
顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％未満であると感度が低くなり、また５０重量％を越えると画像形成層の均一性が失われ、画像形成層の耐久性が悪くなる。これらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
【００５９】
本発明の感赤外線感光性組成物には、更にノボラック樹脂以外の（Ｄ）水不溶アルカリ水可溶性樹脂（以下、アルカリ可溶性樹脂という）を添加することが好ましい。
【００６０】
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、Ｎ-（４-ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共重合体の他、特開平７-２８２４４号公報記載のスルホニルイミド系ポリマー、特開平７-３６１８４号公報記載のカルボキシル基含有ポリマーなどが挙げられる。その他特開昭５１-３４７１１号公報に開示されているようなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特開平２-８６６号に記載のスルホンアミド基を有するアクリル系樹脂や、ウレタン系の樹脂等、種々のアルカリ可溶性の高分子化合物も用いることができる。これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子量が５００〜２０，０００で数平均分子量が２００〜６０，０００のものが好ましい。かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は１種類あるいは２種類以上を組合せて使用してもよく、全組成物の８０重量％以下の添加量で用いられる。
【００６１】
更に、米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されているように、ｔ-ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。かかるアルカリ可溶性樹脂は、通常、組成物全重量の９０重量％以下の添加量で用いられる。
【００６２】
本発明において、他のアルカリ可溶性樹脂として、特に好ましくは、（ａ−１）フェノール性水酸基、（ａ−２）スルホンアミド基、（ａ−３）活性イミド基のいずれかの官能基を分子内に有する高分子化合物が挙げられ、例えば以下のものが例示される。
【００６３】
（ａ−１）フェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物を用いることができる。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、あるいは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げることができる。
フェノール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート等を好適に使用することができる。
かかるフェノール性水酸基を有する樹脂は、１種類以上あるいは２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【００６４】
（ａ−２）スルホンアミド基を有する高分子化合物としては、スルホンアミド基を有する重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げることができる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとしては、１分子中に、窒素原子上に少なくとも１つの水素原子が結合したスルホンアミド基−ＮＨ−ＳＯ₂−と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
このような化合物としては、例えば、下記一般式（ａ）〜（ｅ）で表される化合物が挙げられるが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００６５】
【化１４】

【００６６】
式中、Ｘ¹、Ｘ²は、それぞれ独立に酸素原子又はＮＲ⁷を表す。Ｒ¹、Ｒ⁴は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹²、Ｒ¹⁶は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｒ³、Ｒ⁷、Ｒ¹³は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、Ｒ⁶、Ｒ¹⁷は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ⁸、Ｒ¹⁰、Ｒ¹⁴は、それぞれ独立に水素原子又はＣＨ₃を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹⁵は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｙ¹、Ｙ²は、それぞれ独立に単結合又はＣＯを表す。
【００６７】
中でも、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００６８】
（ａ−３）活性イミド基を有する高分子化合物は、下記式で表される活性イミド基を分子内に有するものであり、この高分子化合物としては、１分子中に、下記の式で表わされる活性イミノ基と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げることができる。
【００６９】
【化１５】

【００７０】
このような化合物としては、具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００７１】
さらに、他のアルカリ可溶性樹脂としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの２種以上を重合させた高分子化合物、或いはこれらの２種以上の重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物を使用することができる。
フェノール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミド基を有する重合性モノマー及び／又は活性イミド基を有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら成分の配合重量比は５０：５０から５：９５の範囲にあることが好ましく、４０：６０から１０：９０の範囲にあることが特に好ましい。
【００７２】
他のアルカリ可溶性樹脂が前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの共重合体である場合には、アルカリ可溶性を付与するモノマーは１０モル％以上含むことが好ましく、２０モル％以上含むものがより好ましい。共重合成分が１０モル％より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやすく、現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないことがある。
【００７３】
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させるモノマー成分としては、例えば、下記（１）〜（１２）に挙げるモノマーを用いることができるがこれらに限定されるものではない。
【００７４】
（１）例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸エステル類。
（２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等のアルキルアクリレート。
（３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド。
（５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルブニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
【００７５】
（６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【００７６】
他のアルカリ可溶性樹脂が、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体あるいは共重合体の場合、重量平均分子量が２０００以上、数平均分子量が５００以上のものが好ましい。さらに好ましくは、重量平均分子量が５０００〜３０００００で、数平均分子量が８００〜２５００００であり、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）が、１．１〜１０のものである。
【００７７】
次に本発明による画像形成層用の組成物としての感光性組成物を調製するに際して添加することのできる他の成分について説明する。
ポジ型感光性組成物としては、露光の前後で現像液に対する溶解性または膨潤性が変化するものならば使用できるが、その中に含まれる好ましいものとしては、ｏ-キノンジアジド化合物が挙げられる。例えば、アルカリ可溶性樹脂とｏ-キノンジアジド化合物とを含有するポジ型感光性組成物の場合、ｏ-キノンジアジド化合物は、少なくとも１つのｏ-キノンジアジド基を有する化合物で、活性光線によりアルカリ水溶液に対する溶解性を増すものが好ましい。
【００７８】
この様なものとしては、種々の構造のものが知られており、例えば、J.KOSAR著「Light-Sensitive Systems」(John Wiley & Sons, Inc, 1965年発行）P.336〜P.352に詳細に記載されている。ポジ型感光性樹脂組成物の感光性化合物としては、特に種々のヒドロキシル化合物とｏ-ベンゾキノンジアジドあるいはｏ-ナフトキノンジアジドのスルホン酸エステルが好適である。
【００７９】
上記のようなｏ-キノンジアジド化合物としては、例えば、１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドとフェノール・ホルムアルデヒド樹脂またはクレゾール・ホルムアルデヒド樹脂とのエステル；米国特許第３，６３５，７０９号明細書に記載されている１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドとピロガロール・アセトン樹脂とのエステル；特公昭６３-１３，５２８号公報に記載されている１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドとレゾルシン-ベンズアルデヒド樹脂とのエステル；特公昭６２-４４，２５７号公報に記載されている１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドとレゾルシン-ピロガロール・アセトン共縮合樹脂とのエステル；
【００８０】
特公昭５６-４５，１２７号公報に記載されている末端にヒドロキシル基を有するポリエステルに１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドをエステル化させたもの；特公昭５０-２４，６４１号公報に記載されているＮ-（４-ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドのホモポリマーまたは他の共重合しうるモノマーとの共重合体に１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドをエステル化させたもの；特公昭５４-２９，９２２号公報に記載されている１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドとビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂とのエステル；特公昭５２-３６，０４３号公報に記載されているｐ-ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたは他の共重合しうるモノマーとの共重合体に１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドをエステル化させたもの；１，２-ナフトキノン-２-ジアジド-５-スルホニルクロライドとポリヒドロキシベンゾフェノンとのエステルがある。
【００８１】
その他、本発明に使用できる公知のｏ-キノンジアジド化合物としては、特開昭６３-８０，２５４号、特開昭５８-５，７３７号、特開昭５７-１１１，５３０号、特開昭５７-１１１，５３１号、特開昭５７-１１４，１３８号、特開昭５７-１４２，６３５号、特開昭５１-３６，１２９号、特公昭６２-３，４１１号、特公昭６２-５１，４５９号、特公昭５１-４８３号などの各明細書中に記載されているものなどを上げることができる。
前記のｏ-キノンジアジド化合物の含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、通常５〜６０重量％で、より好ましくは１０〜４０重量％である。
【００８２】
感光性組成物中には、更に必要に応じて、感度を高めるための環状酸無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼き出し剤、画像着色剤としての染料、その他のフィラーなどを加えることができる。
【００８３】
本発明における感光性組成物中には、感度を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加することが好ましい。
環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６-エンドオキシ〜Δ4〜テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α-フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸等がある。フェノール類としては、ビスフェノールＡ、ｐ-ニトロフェノール、ｐ-エトキシフェノール、２，３，４-トリヒドロキシベンゾフェノン、４-ヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４′-トリヒドロキシベンゾフェノン、４，４′，４″-トリヒドロキシ-トリフェニルメタン、４，４′，３″，４″-テトラヒドロキシ-３，５，３′，５′-テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
【００８４】
有機酸類としては、特開昭６０-８８９４２号公報、特開平２-９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル類、カルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ-トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ-トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ-トルイル酸、３，４-ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４-シクロヘキセン-２，２-ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ-ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ましくは、０．１〜５重量％である。
【００８５】
露光後、直ちに可視像を得るための焼き出し剤としては、露光によって酸を放出する感光性化合物と、酸と塩を形成して色調を変える有機染料との組み合わせを挙げることができる。
【００８６】
露光によって酸を放出する感光性化合物としては、例えば、特開昭５０-３６，２０９号公報に記載されているｏ-ナフトキノンジアジド-４-スルホン酸ハロゲニド；特開昭５３-３６２２３号公報に記載されているトリハロメチル-２-ビロンやトリハロメチル-ｓ-トリアジン；特開昭５５-６２４４４号公報に記載されている種々のｏ-ナフトキノンジアジド化合物；特開昭５５-７７７４２号公報に記載されている２-トリハロメチル-５-アリール-１，３，４-オキサジアゾール化合物；ジアゾニウム塩などを挙げることができる。
これらの化合物は、単独または混合して使用することができ、その添加量は、組成物全重量に対し、０．３〜１５重量％の範囲が好ましい。
【００８７】
本発明における、感光性組成物中には、光分解して酸性物質を発生する化合物の光分解生成物と相互作用することによってその色調を変える有機染料が少なくとも一種類以上用いられる。
このような有機染料としては、ジフェニルメタン系、トリアリールメタン系、チアジン系、オキサジン系、フェナジン系、キサンテン系、アントラキノン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系の色素を用いることができる。具体的には次のようなものである。
【００８８】
ブリリアントグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３-ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾン、２，７-ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α-ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、フエナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブルー＃６０３〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルピンク＃３１２〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルレッド５Ｂ〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルスカーレット＃３０８〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルレッドＯＧ〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルレッドＲＲ〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルグリーン＃５０２〔オリエント化学工業（株）製〕、スピロンレッドＢＥＨスペシャル〔保土谷化学工業（株）製〕、ビクトリアピュアーブルーＢＯＨ〔保土谷化学工業（株）製〕、
【００８９】
パテントピュア-ブルー〔住友三国化学工業（株）製〕、スーダンブルーII〔ＢＡＳＦ社製〕、ｍ-クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ファーストアッシドバイオレットＲ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４-ｐ-ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２-カルボキシアニリノ-４-ｐ-ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２-カルボステアリルアミノ-４-ｐ-ジヒドロオキシエチル-アミノ-フェニルイミノナフトキノン、ｐ-メトキシベンゾイル-ｐ′-ジエチルアミノ-ｏ′-メチルフェニルイミノアセトアニリド、シアノ-ｐ-ジエチルアミノフェニルイミノアセトアニリド、１-フェニル-３-メチル-４-ｐ-ジエチルアミノフェニルイミノ-５-ピラゾロン、１〜β〜ナフチル-４-ｐ-ジエチルアミノフェニルイミノ-５-ピラゾロン等。
【００９０】
特に好ましい有機染料は、トリアリールメタン系染料である。トリアリールメタン系染料では、特開昭６２-２９３２４７１号公報、特許第２９６９０２１号公報に示されているような対アニオンとしてスルホン酸化合物を有するものが特に有用である。
これらの染料は単独又は混合して使用することができ、添加量は感光性組成物の総重量に対して０．３〜１５重量％が好ましい。また必要に応じて他の染料、顔料と併用でき、その使用量は染料及び顔料の総重量に対して７０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下である。
【００９１】
本発明は上記のポジ型平版印刷版用原版（ポジ型ＰＳ版ともいう）のほかにも、例えば次のタイプの平版印刷版材料にも同様に用いることができる。
（１） アルカリ可溶バインダー、酸発生剤、酸（熱）架橋性化合物を含むネガ型のレーザー直描型平版印刷材料。
（２）光熱変換剤／熱ラジカル発生剤／ラジカル重合性化合物を含有するネガ型のレーザー直描型平版印刷版
【００９２】
（１）に使用するアルカリ可溶バインダーは前記と同様のものであり、酸発生剤は従来公知のものを使用することができる。
酸（熱）架橋性化合物とは、酸の存在下で架橋する化合物を指し、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基、若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素環化合物が挙げられるが、その中でも好ましい例として、フェノール類とアルデヒド類を塩基性条件下で縮合させた化合物が挙げられる。
前記の化合物のうち好ましいものとしては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドを前記のように塩基性条件下で縮合させた化合物、同様にして、ｍ-クレゾールとホルムアルデヒドから得られる化合物、ビスフェノールＡとホルムアルデヒドから得られる化合物、４，４′-ビスフェノールとホルムアルデヒドから得られる化合物、その他、ＧＢ第２，０８２，３３９号にレゾール樹脂として開示された化合物等が挙げられる。
【００９３】
これらの酸架橋性化合物は、重量平均分子量が５００〜１００，０００で数平均分子量が２００〜５０，０００のものが好ましい。他の好ましい例としては、ＥＰ-Ａ第０，２１２，４８２号に開示されているアルコキシメチル又はオキシラニルメチル基で置換された芳香族化合物、ＥＰ-Ａ第０，１３３，２１６号、ＤＥ-Ａ第３，６３４，６７１号、ＤＥ第３，７１１，２６４号に開示された単量体及びオリゴマーメラミン-ホルムアルデヒド縮合物並びに尿素-ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ-Ａ第０，２１２，４８２号に開示されたアルコキシ置換化合物等がある。さらに他の好ましい例は、例えば、少なくとも２個の遊離Ｎ-ヒドロキシメチル、Ｎ-アルコキシメチル又はＮ-アシルオキシメチル基を有するメラミン-ホルムアルデヒド誘導体である。このなかでは、Ｎ-アルコキシメチル誘導体が特に好ましい。
【００９４】
また、低分子量又はオリゴマーシラノールは、ケイ素含有架橋剤として使用できる。これらの例は、ジメチル-及びジフェニル-シランジオール、並びに既に予備縮合され且つこれらの単位を含有するオリゴマーであり、例えば、ＥＰ-Ａ第０，３７７，１５５号に開示されたものを使用できる。
アルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のなかでは、ヒドロキシル基に隣接する位置にアルコキシメチル基を有し、且つそのアルコキシメチル基のアルコキシ基が炭素数１８以下の化合物を好ましい例として挙げることができ、特に好ましい例として、下記一般式（Ｂ）〜（Ｅ）の化合物を挙げることができる。
【００９５】
【化１６】

【００９６】
式中Ｌ₁〜Ｌ₈は同じであっても異なっていてもよく、メトキシメチル、エトキシメチル等のように炭素数１８以下のアルコキシ基で置換された、アルコキシメチル基を示す。これらは架橋効率が高く、耐刷性を向上させることができる点で好ましい。上記の熱により架橋する化合物は、１種類のみで使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明に使用される酸架橋性化合物は、平版印刷版材料の全固形分中、５〜８０重量％、好ましくは１０〜７５重量％、特に好ましくは２０〜７０重量％の添加量で用いられる。酸架橋性化合物の添加量が５重量％未満であると得られる平版印刷版材料の感光層の耐久性が悪化し、また、８０重量％を越えると保存時の安定性の点で好ましくない。
【００９７】
（２）に使用される素材の具体例としては、その主な成分として、付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物、熱ラジカル発生剤、光熱変換剤等を含むものである。
【００９８】
付加重合可能な二重結合を含む化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物の中から任意に選択することができる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものである。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等があげられる。
【００９９】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４-シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリト-ルペンタアクリレ-ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【０１００】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３-ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリト-ルペンタメタアクリレ-ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ-（３-メタクリルオキシ-２-ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス-〔ｐ-（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【０１０１】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３-ブタンジオールジイタコネート、１，４-ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
【０１０２】
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあげることができる。
【０１０３】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス-アクリルアミド、メチレンビス-メタクリルアミド、１，６-ヘキサメチレンビス-アクリルアミド、１，６-ヘキサメチレンビス-メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の例としては、特公昭４８-４１７０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ5）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ6）ＯＨ （Ａ）
（ただし、Ｒ5およびＲ6はＨあるいはＣＨ₃を示す。）
【０１０４】
また、特開昭５１-３７１９３号に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８-６４１８３号、特公昭４９-４３１９１号、特公昭５２-３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。さらに日本接着協会誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
なお、これらの二重結合を含む化合物の使用量は、全成分に対して５〜７０重量％（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜５０％である。
【０１０５】
熱ラジカル発生剤としては、従来公知の光重合開始剤として用いられている多くのものが有用である。また、アゾビス化合物（アゾビスイソブチロニトリル）やジアゾニウム化合物等も熱重合開始剤として使用できる。
また、光熱変換剤は、前記と同様のものである。
【０１０６】
その他本発明の組成物中には、画像のインキ着肉性を向上させるための、疎水基を有する各種樹脂、例えばオクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｔ-ブチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｔ-ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変性ノボラック樹脂、及びこれら変性ノボラック樹脂のｏ-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル等；塗膜の可撓性を改良するための可塑剤、例えばフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、ブチルグリコレート、リン酸トリクレジル、アジピン酸ジオクチル等、種々の目的に応じて各種添加剤を加えることができる。これらの添加量は組成物全重量に対して、０．０１〜３０重量％の範囲が好ましい。
【０１０７】
更にこれらの組成物中には、皮膜の耐摩耗性を更に向上させるための公知の樹脂を添加できる。これらの樹脂としては、例えばポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、ナイロン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等があり、単独または混合して使用することができる。添加量は組成物全重量に対して、２〜４０重量％の範囲が好ましい。
【０１０８】
また、本発明における感光性組成物中には、現像のラチチュードを広げるために、特開昭６２-２５１７４０号公報や、特開平４-６８３５５号公報に記載されているような非イオン性界面活性剤、特開昭５９-１２１０４４号公報、特開平４-１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。非イオン性界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げられ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、アモーゲンＫ（商品名、第一工業製薬（株）製、Ｎ-テトラデシル-Ｎ，Ｎ-ベタイン型）、２-アルキル-Ｎ-カルボキシエチル-Ｎ-ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、レボン１５（商品名、三洋化成（株）製、アルキルイミダゾリン系）などが挙げられる。
上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合は０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ましくは、０．１〜５重量％である。
【０１０９】
塗布面質の向上；本発明における感光性組成物中には、塗布面質を向上するための界面活性剤、例えば、特開昭６２-１７０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、全感光性組成物の０．００１〜１．０重量％であり、更に好ましくは０．００５〜０．５重量％である。
【０１１０】
また本発明における感光性組成物中には黄色系染料、好ましくは４１７ｎｍの吸光度が４３６ｎｍの吸光度の７０％以上ある黄色系染料を添加することができる。
【０１１１】
本発明のフッ素系ポリマーを含んだ感光性樹脂組成物から平版印刷版用感光材料を得る場合には、まずそれが適当な支持体上に画像形成層として設けられる。本発明のフッ素系ポリマーを含んだ感光性樹脂組成物は、下記の有機溶剤の単独あるいは混合したものに溶解または分散され、支持体に塗布され乾燥される。 有機溶剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、沸点４０℃〜２００℃、特に６０℃〜１６０℃の範囲のものが、乾燥の際における有利さから選択される。勿論、本発明の界面活性剤が溶解するものを選択するのが良い。
【０１１２】
有機溶剤としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ｎ-またはイソ-プロピルアルコール、ｎ-またはイソ-ブチルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メトキシベンゼン等の炭化水素類、エチルアセテート、ｎ-またはイソ-プロピルアセテート、ｎ-またはイソ-ブチルアセテート、エチルブチルアセテート、ヘキシルアセテート等の酢酸エステル類、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼン等のハロゲン化物、イソプロピルエーテル、ｎ-ブチルエーテル、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
【０１１３】
エチレングリコール、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、ジエチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３-メチル-３-メトキシブタノール等の多価アルコールとその誘導体、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド等の特殊溶剤などが単独あるいは混合して好適に使用される。そして、塗布する組成物中の固形分の濃度は、２〜５０重量％とするのが適当である。
【０１１４】
本発明の組成物の塗布方法としては、例えばロールコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオフセットコーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティング、スプレーコーティング等の方法が用いられ、乾燥後の重量にして０．３〜４．０ｇ／ｍ²が好ましい。塗布量が小さくなるにつれて画像を得るための露光量は小さくて済むが、膜強度は低下する。塗布量が大きくなるにつれ、露光量を必要とするが感光膜は強くなり、例えば、印刷版として用いた場合、印刷可能枚数の高い（高耐刷の）印刷版が得られる。
【０１１５】
支持体上に塗布された感光性組成物の乾燥は、通常加熱された空気によって行われる。加熱は３０℃〜２００℃特に、４０℃〜１４０℃の範囲が好適である。乾燥の温度は乾燥中一定に保たれる方法だけでなく段階的に上昇させる方法も実施し得る。また、乾燥風は除湿することによって好結果が得られる場合もある。加熱された空気は、塗布面に対し０．１ｍ／秒〜３０ｍ／秒、特に０．５ｍ／秒〜２０ｍ／秒の割合で供給するのが好適である。
【０１１６】
マット層；上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ましい。具体的には、特開昭５０-１２５８０５号、特公昭５７-６５８２号、同６１-２８９８６号の各公報に記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭６２-６２３３７号公報に記載されているような固体粉末を熱融着させる方法などが挙げられる。
【０１１７】
感光性平版印刷版等に使用される支持体は、寸度的に安定な板状物であり、これ迄印刷版の支持体として使用されたものが含まれ、好適に使用することができる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、例えばアルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックスのフイルム、上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
【０１１８】
支持体は、必要に応じて表面処理される。例えば感光性平版印刷版の場合には、支持体の表面に、親水化処理が施される。また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい。また、米国特許第２，７１４，０６６号明細書に記載されているように、砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。
上記陽極酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸等の無機酸、若しくはシュウ酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【０１１９】
また、米国特許第３，６５８，６６２号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させる為に施されるものである。アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い。
前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われている。
【０１２０】
砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭５４-３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸またはこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開昭５５-１３７９９３号公報に記載されているような機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｒａ）が０．３〜１．０μｍとなるような範囲で施されることが好ましい。このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗および化学的にエッチングされる。
【０１２１】
エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間１分あたり０．３グラムから４０ｇ／ｍ²になる様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回るものであっても差支えない。
【０１２２】
エッチングは上記エッチング液にアルミニウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５〜１０ｇ／ｍ²の範囲となるように処理されることが好ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行なうことができる。
具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。
【０１２３】
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変化するので一般には決定され得ないが一般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法および米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例えばケイ酸ナトリウム水溶液または特公昭３６-２２０６３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
【０１２４】
有機下塗層；本発明の感光性平版印刷版には感光層を塗設する前に有機下塗層を設けることが非画像部の感光層残りを減らす上で好ましい。かかる有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２-アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ-アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
【０１２５】
その他ポリ（ｐ-ビニル安息香酸）などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることができる。より具体的にはp-ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、p-ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などがあげられる。
【０１２６】
この有機下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。
【０１２７】
これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。さらにこの溶液には、下記一般式（ａ）で示される化合物を添加することもできる。
一般式（ａ）
（ＨＯ）ｘ-Ｒ５-（ＣＯＯＨ）ｙ
但し、Ｒ５は置換基を有してもよい炭素数１４以下のアリーレン基を表し、ｘ，ｙは独立して１から３の整数を表す。上記一般式（ａ）で示される化合物の具体的な例として、３-ヒドロキシ安息香酸、４-ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、１-ヒドロキシ-２-ナフトエ酸、２-ヒドロキシ-１-ナフトエ酸、２-ヒドロキシ-３-ナフトエ酸、２，４-ジヒドロキシ安息香酸、１０-ヒドロキシ-９-アントラセンカルボン酸などが挙げられる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、１〜１００ｍｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは２〜７０ｍｇ／ｍ²である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²より少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、１００ｍｇ／ｍ²より大きくても同様である。
【０１２８】
バックコート；支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平５-４５８８５号公報記載の有機高分子化合物および特開平６-３５１７４号公報記載の有機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓi(ＯＣＨ₃)₄、Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₄、Ｓi(ＯＣ₃Ｈ₇)₄、Ｓi(ＯＣ₄Ｈ₉)₄などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
【０１２９】
上記のようにして作成された平版印刷版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
【０１３０】
本発明の感光性樹脂組成物を用いる平版印刷版の現像液として好ましいものは、（ａ）非還元糖から選ばれる少なくとも一種の糖類および（ｂ）少なくとも一種の塩基を含有し、ｐＨが９．０〜１３．５の範囲にある現像液である。以下この現像液について詳しく説明する。なお、本明細書中において、特にことわりのない限り、現像液とは現像開始液（狭義の現像液）と現像補充液とを意味する。
【０１３１】
この現像液は、その主成分が、非還元糖から選ばれる少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種の塩基からなり、液のｐＨが９．０〜１３．５の範囲であることが好ましい。かかる非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体および糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも好適に用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてはＤ，Ｌ-アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ-ソルビット、Ｄ，Ｌ-マンニット、Ｄ，Ｌ-イジット、Ｄ，Ｌ-タリット、ズリシットおよびアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトールおよびオリゴ糖の水素添加で得られる還元体（還元水あめ）が好適に用いられる。
これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にＤ-ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なｐＨ領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ましい。
【０１３２】
これらの非還元糖は、単独もしくは二種以上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は０．１〜３０重量％が好ましく、更に好ましくは、１〜２０重量％である。
この範囲以下では十分な緩衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。尚、還元糖を塩基と組み合わせて使用した場合、経時的に褐色に変色し、ｐＨも徐々に下がり、よって現像性が低下するという問題点がある。
【０１３３】
非還元糖に組み合わせる塩基としては従来より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ-ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
【０１３４】
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいのは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである、その理由は、非還元糖に対するこれらの量を調整することにより広いｐＨ領域でｐＨ調整が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
これらのアルカリ剤は現像液のｐＨを９．０〜１３．５の範囲になるように添加され、その添加量は所望のｐＨ、非還元糖の種類と添加量によって決められるが、より好ましいｐＨ範囲は１０．０〜１３．２である。
【０１３５】
現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液として用いられる弱酸としては、解離定数（ｐＫａ）が１０．０〜１３．２のものが好ましい。
このような弱酸としては、Pergamon Press社発行のIONISATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTIONなどに記載されているものから選ばれ、例えば２，２，３，３-テトラフルオロプロパノール-１（ＰＫａ１２．７４）、トリフルオロエタノール（同１２．３７）、トリクロロエタノール（同１２．２４）などのアルコール類、ピリジン-２-アルデヒド（同１２．６８）、ピリジン-４-アルデヒド（同１２．０５）などのアルデヒド類、サリチル酸（同１３．０）、３-ヒドロキシ-２-ナフトエ酸（同１２．８４）、カテコール（同１２．６）、没食子酸（同１２．４）、スルホサリチル酸（同１１．７）、３，４-ジヒドロキシスルホン酸（同１２．２）、３，４-ジヒドロキシ安息香酸（同１１．９４）、１，２，４-トリヒドロキシベンゼン（同１１．８２）、ハイドロキノン（同１１．５６）、ピロガロール（同１１．３４）、ｏ-クレゾール（同１０．３３）、レゾルシノール（同１１．２７）、ｐ-クレゾール（同１０．２７）、ｍ-クレゾール（同１０．０９）などのフェノール性水酸基を有する化合物、
【０１３６】
２-ブタノンオキシム（同１２．４５）、アセトキシム（同１２．４２）、１，２-シクロヘプタンジオンジオキシム（同１２．３）、２-ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム（同１２．１０）、ジメチルグリオキシム（同１１．９）、エタンジアミドジオキシム（同１１．３７）、アセトフェノンオキシム（同１１．３５）などのオキシム類、アデノシン（同１２．５６）、イノシン（同１２．５）、グアニン（同１２．３）、シトシン（同１２．２）、ヒポキサンチン（同１２．１）、キサンチン（同１１．９）などの核酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸（同１２．３２）、１-アミノ-３，３，３-トリフルオロ安息香酸（同１２．２９）、イソプロピリデンジホスホン酸（同１２．１０）、１，１-エチリデンジホスホン酸（同１１．５４）、１，１-エチリデンジホスホン酸１-ヒドロキシ（同１１．５２）、ベンズイミダゾール（同１２．８６）、チオベンズアミド（同１２．８）、ピコリンチオアミド（同１２．５５）、バルビツル酸（同１２．５）などの弱酸が挙げられる。
【０１３７】
これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホサリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合わせによりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用される。
【０１３８】
現像液には、現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。
【０１３９】
界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ-ビス-２-ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、
【０１４０】
脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ-メチル-Ｎ-オレイルタウリンナトリウム塩、Ｎ-アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、
【０１４１】
ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホべタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
【０１４２】
更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤である。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の界面活性剤は、単独もしくは２種以上を組み合わせて使用することができ、現像液中に０．００１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の範囲で添加される。
【０１４３】
現像液には、種々の現像安定化剤を用いることができる。それらの好ましい例として、特開平６-２８２０７９号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭５０-５１３２４号公報記載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特開昭５５-９５９４６号公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭５６-１４２５２８号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質を挙げることができる。
【０１４４】
更に、特開昭５９-８４２４１号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭６０-１１１２４６号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭６０-１２９７５０号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭６１-２１５５５４号公報記載の重量平均分子量３００以上のポリエチレングリコール、特開昭６３-１７５８５８号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平２-３９１５７号公報の酸またはアルコールに４モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
【０１４５】
現像液には更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約１０重量％以下のものが適しており、好ましくは５重量％以下のものから選ばれる。例えば、１-フェニルエタノール、２-フェニルエタノール、３-フェニル-１-プロパノール、４-フェニル-１-ブタノール、４-フェニル-２-ブタノール、２-フェニル-１-ブタノール、２-フェノキシエタノール、２-ベンジルオキシエタノール、ｏ-メトキシベンジルアルコール、ｍ-メトキシベンジルアルコール、ｐ-メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、２-メチルシクロヘキサノール、３-メチルシクロヘキサノールおよび４-メチルシクロヘキサノール、Ｎ-フェニルエタノールアミンおよびＮ-フェニルジエタノールアミンなどを挙げることができる。
有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して０．１〜５重量％である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
【０１４６】
現像液には更に還元剤を加えることができる。これは印刷版の汚れを防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効である、好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、２-メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。
これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、０．０５〜５重量％の範囲で含有される。
【０１４７】
現像液には更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、ｏ-クロロ安息香酸、ｐ-クロロ安息香酸、ｏ-ヒドロキシ安息香酸、ｐ-ヒドロキシ安息香酸、ｏ-アミノ安息香酸、ｐ-アミノ安息香酸、２，４-ジヒドロシ安息香酸、２，５-ジヒドロキシ安息香酸、２，６-ジヒドロキシ安息香酸、２，３-ジヒドロキシ安息香酸、３，５-ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、１-ヒドロキシ-２-ナフトエ酸、３-ヒドロキシ-２-ナフトエ酸、２-ヒドロキシ-１-ナフトエ酸、１-ナフトエ酸、２-ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。
【０１４８】
上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが、０．１重量％より低いと効果が十分でなく、また１０重量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して０．１〜１０重量％であり、より好ましくは０．５〜４重量％である。
【０１４９】
現像液には、更に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤および硬水軟化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１，２-ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸および１，３-ジアミノ-２-プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）および１-ヒドロキシタエン-１，１-ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げることができる。
【０１５０】
このような硬水軟化剤はそのキレート化と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液に０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０１〜０．５重量％の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当である。
【０１５１】
本発明の感光性組成物を用いる平版印刷版の現像液としてはまた、特開平６-２８２０７９号公報記載の現像液も使用できる。これは、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ（Ｍはアルカリ金属を示す）のモル比が０．５〜２．０の珪酸アルカリ金属塩と、水酸基を４以上有する糖アルコールに５モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物を含有する現像液である。糖アルコールは糖のアルデヒド基およびケトン基を還元してそれぞれ第一、第二アルコール基としたものに相当する多価アルコールである。糖アルコールの貝体的な例としては、Ｄ，Ｌ-トレイット、エリトリット、Ｄ，Ｌ-アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ-ソルビット、Ｄ，Ｌ-マンニット、Ｄ，Ｌ-イジット、Ｄ，Ｌ-タリット、ズルシット、アロズルシットなどであり、更に糖アルコールを縮合したジ、トリ、テトラ、ペンタおよびヘキサグリセリンなども挙げられる。上記水溶性エチレンオキシド付加化合物は上記糖アルコール１モルに対し５モル以上のエチレンオキシドを付加することにより得られる。さらにエチレンオキシド付加化合物には必要に応じてプロピレンオキシドを溶解性が許容できる範囲でブロック共重合させてもよい。これらのエチレンオキシド付加化合物は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加量は現像液（使用液）に対して０．００１〜５重量％が適しており、より好ましくは０．００１〜２重量％である。
【０１５２】
この現像液にはさらに、現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
【０１５３】
かかる組成の現像液で現像処理されたＰＳ版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明のＰＳ版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０１５４】
近年、型版・印刷業界では製版作業の合理化および標準化のため、ＰＳ版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、ＰＳ版を搬送する装置と、各処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済みのＰＳ版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像および後処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによってＰＳ版を浸漬搬送させて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水としで再利用する方法も知られている。
【０１５５】
このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼動時間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１５６】
【実施例】
以下本発明を実施例に基づいて更に説明する。ただし本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【０１５７】
（実施例１〜６、比較例１〜３）
〔支持体の作製〕
ＪＩＳ Ａ １０５０アルミニウムシートをパミス−水懸濁液を研磨剤として回転ナイロンブラシで表面を砂目立てした。このときの表面粗さ（中心線平均粗さ）は０．５μｍであった。水洗後、１０％苛性ソーダ水溶液を７０℃に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ³になるようにエッチングした。水洗後、３０％硝酸水溶液に１分間浸漬して中和し、十分水洗した。その後に、０．７％硝酸水溶液中で、陽極時電圧１３ボルト、陰極時電圧６ボルトの矩形波交番波形電圧を用いて２０秒間電解粗面化を行ない、２０％硫酸の５０℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、水洗した。
粗面化後のアルミニウムシートに、２０％硫酸水溶液中で直流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行なった。電流密度５Ａ／ｄｍ²で電解を行ない、電解時間を調節して、表面に重量４．０ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を有する基板を作製した。この基板を１００℃１気圧において飽和した蒸気チャンバーの中で１０秒間処理して封孔率６０％の基板（ａ）を作成した。
基板（ａ）をケイ酸ナトリウム２．５重量％水溶液で３０℃１０秒間処理して表面親水化を行なった後、下記下塗り液を塗布し、塗膜を８０℃で１５秒間乾燥し平版印刷版用支持体〔Ａ〕を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は１５ｍｇ／ｍ²であった。
【０１５８】
〔下塗り液〕
・分子量２．８万の下記共重合体 ０．３ｇ
・メタノール １００ｇ
・水 １ｇ
【０１５９】
【化１７】

【０１６０】
〔記録層の形成〕
得られた下塗り済の支持体〔Ａ〕に以下の感光液１を塗布量が１．８ｇ／ｍ²になるよう塗布、乾燥して感光層（記録層）を形成し、平版印刷版用原版１を得た。
【０１６１】

【０１６２】
【化１８】

【０１６３】
〔現像ラチチュードの評価〕
得られた平版印刷版用原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒにてビーム強度９ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
まず、上記の条件で露光した平版印刷版原版を、下記アルカリ現像液Ａを仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサー９００Ｈを用い、液温を３０℃に保ち、現像時間２０秒で現像した。
次に、現像液を徐々に水で希釈しながら、処理を繰り返した。この時、現像不良の記録層残膜に起因する汚れや着色がないかを確認した。更に、水で希釈しながら処理を繰り返し、現像が行なえた現像液の電導度を測定した。
結果を下記表５に示す。上限値と下限値との差が大きいものを現像ラチチュードに優れると評価する。
【０１６４】

【０１６５】
【表５】

【０１６６】
表５の結果より、本発明の感赤外線感光性組成物を平版印刷版用原版の画像形成層に適用することで、優れた現像ラチチュードが実現できた。
【０１６７】
（実施例７〜１２、比較例４〜６）
実施例１で用いたのと同じ支持体〔Ａ〕基板に、以下の感光液２Ａを塗布し、１００℃で２分間乾燥して、（Ａ）層を形成した。乾燥後の塗布量は１．０４ｇ／ｍ²であった。
その後、以下の感光液２Ｂを塗布し、１００℃で２分間乾燥して、（Ｂ）層（上層）を形成し、平版印刷版用原版２を得た。乾燥後の感光液の合計塗布量は１．２ｇ／ｍ²であった。
【０１６８】

【０１６９】

【０１７０】
〔共重合体１の合成〕
攪拌後、冷却管及び滴下ロートを備えた５００ｍｌ三ツ口フラスコにメタクリル酸３１．０ｇ（０．３６モル）、クロロギ酸エチル３９．１ｇ（０．３６モル）及びアセトニトリル２００ｍｌを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン３６．４ｇ（０．３６モル）を約１時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室温下で３０分間混合物を攪拌した。
【０１７１】
この反応混合物に、ｐ−アミノべンゼンスルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、油浴にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌した。反応終了後、この混合物を水１リットルにこの水を攪拌しながら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌した。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水５００ｍｌでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られた固体を乾燥することによりＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られた（収量４６．９ｇ）。
【０１７２】
次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた２０ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド４．６１ｇ（０．０１９２モル）、メタクリル酸エチル２．５８ｇ（０．０２５８モル）、アクリロニトリル０．８０ｇ（０．０１５モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを入れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合物に「Ｖ−６５」（和光純薬（株）製）０．１５ｇを加え６５℃に保ちながら窒素気流下２時間混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド４．６１ｇ、メタクリル酸メチル２．５８ｇ、アクリロニトリル０．８０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及び「Ｖ−６５」０．１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後さらに６５℃で２時間得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール４０ｇを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水２リットルにこの水を攪拌しながら投入し、３０分混合物を攪拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより１５ｇの白色固体を得た。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによりこの特定の共重合体１の重量平均分子量（ポリスチレン標準）を測定したところ５３，０００であった。
【０１７３】
〔現像ラチチュードの評価〕
得られた平版印刷版用原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒにてビーム強度９ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
まず、上記の条件で露光した平版印刷版原版を、下記アルカリ現像液Ａを仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサー９００Ｈを用い、液温を３０℃に保ち、現像時間２０秒で現像した。
次に、現像液を徐々に水で希釈しながら、処理を繰り返した。この時、現像不良の記録層残膜に起因する汚れや着色がないかを確認した。更に、水で希釈しながら処理を繰り返し、現像が行なえた現像液の電導度を測定した。
結果を下記表６に示す。上限値と下限値との差が大きいものを現像ラチチュードに優れると評価する。
【０１７４】

【０１７５】
【表６】

【０１７６】
表６の結果より、本発明の感赤外線感光性組成物を平版印刷版用原版の画像形成層に適用することで、優れた現像ラチチュードが実現できた。
【０１７７】
【発明の効果】
本発明により、平版印刷用原版の画像形成層として用いる場合、活性度の落ちた疲労現像液での処理性（現像ラチチュード）に優れる感赤外線感光性組成物を提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an infrared-sensitive composition, and in particular, it can be used for an image forming layer or the like of a positive lithographic printing plate precursor for so-called direct plate making that can be directly made from a digital signal of a computer or the like. The present invention relates to a photosensitive composition.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a system for making a plate directly from digital data of a computer, (1) an electrophotographic method, (2) a photopolymerization system by a combination of Ar laser exposure and post-heating, and (3) a silver salt on a photosensitive resin Known are laminates of light-sensitive materials, (4) silver master type, (5) discharge destruction or destruction of a silicone rubber layer by laser light.
[0003]
However, in the method using the electrophotographic method (1), the processing such as charging, exposure, and development is complicated, and the apparatus is complicated and large. The method (2) requires a post-heating step and requires a highly sensitive plate material, which makes it difficult to handle in a bright room. The methods {circle around (3)} and {circle around (4)} are disadvantageous in that the silver salt is used, so that the treatment becomes complicated and the cost increases. The method (5) is a method with a relatively high degree of completion, but it still has a problem in removing the silicone soot remaining on the printing plate. On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can easily obtain high-power and small-sized ones. These lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer.
[0004]
As a conventional lithographic printing plate material, Japanese Patent Publication No. 46-27919 discloses a polymer compound or composition which is insoluble or slightly soluble before heating and can be made more soluble in a solvent under the influence of heat. A method is described in which a recording material including a mixed recording layer is heated according to information to form an image. JP-A-56-69192 discloses a heat-sensitive recording material having a heat-sensitive layer containing a novolac type phenolic resin and carbon black. However, these are only disclosed examples in which an image is recorded without using laser light, and the above-mentioned near infrared to infrared is used as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer. When an image is recorded using a laser having a light emitting region, a good printed matter cannot always be obtained due to background stains or a decrease in printing durability. In order to obtain a good printed matter, the exposed portion (non-image portion) is easily dissolved in the alkali development after exposure, and the portion not exposed to light (image portion) remains. The durability of the remaining image area needs to be good. That is, in the above-described known technique, when laser light is used, it is considered that the non-image area is hardly dissolved and the image area is easily dissolved because the image recording property is not good.
[0005]
In order to solve such a problem of the above-mentioned known technique, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-285275 discloses that an image forming layer has a binder, a substance that absorbs light and generates heat, and is thermally decomposable. In addition, by using an image recording material containing a substance that substantially reduces the solubility of the binder when not decomposed, conventional processing apparatuses and printing apparatuses can be used as they are, and it is possible to make a plate directly from digital data such as a computer. It is disclosed that a good recording property can be provided.
However, even the technique disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-285275 does not have sufficient processability (development latitude) with a fatigue developer having a decreased activity.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
The object of the present invention is to overcome the disadvantages of the conventional techniques described above and to be excellent in processability (development latitude) with a fatigue developer with reduced activity when used in an image forming layer or the like of a lithographic printing plate precursor. It is to provide an infrared-sensitive composition.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
As a result of diligent research, the present inventors have achieved the above object by, for example, adding a specific polyurethane resin to an infrared-sensitive composition that can be used for an image forming layer of a lithographic printing plate precursor. I found it to be achieved.
That is, the present invention is achieved by the following configuration.
[0008]
(1) (A) polyurethane resin,
(B) novolac resin,
(C) Photothermal conversion agent
And (A) the polyurethane resin has a diol represented by the following general formula (I) or (II) as a constituent componentAn infrared-sensitive composition,
  (A) The polyurethane resin contains a substituent having an acidic hydrogen atom, and the content of the (A) polyurethane resin in the infrared-sensitive composition is 1 to 30% by weight in terms of solid content.An infrared-sensitive photosensitive composition characterized by the above.
[0009]
[Chemical 2]

[0010]
In the formula, each R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 2 or more.
[0011]
  The preferred embodiments are described below..
(2)  (C) The photothermal conversion agent is a cyanine dye,(1)The infrared-sensitive composition as described.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the infrared-sensitive composition of the present invention will be described in detail.
First, the (A) polyurethane resin (sometimes abbreviated as “(A) component” or “(A) resin”) is described in detail.
[0013]
(A) resin of this invention has diol represented by the following general formula (I) or (II) as a structural component.
[0014]
[Chemical Formula 3]

[0015]
In the formula, each R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 2 or more.
As a C1-C8 alkyl group in R, a methyl group, an ethyl group, i-propyl group, n-propyl group, n-butyl group, i-butyl group etc. are mentioned, for example.
[0016]
Specific examples of the diol represented by the general formula (I) or (II) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0017]
[Formula 4]

[0018]
[Chemical formula 5]

[0019]
The (A) polyurethane resin can be produced by various methods. For example, a polyurethane resin having a basic skeleton as a reaction product of a diisocyanate compound represented by the following general formula (III) and a diol compound represented by the above general formulas (I) and (II) may be mentioned.
OCN-R¹-NCO (III)
[0020]
Where R¹Represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon which may have a substituent (for example, alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl, alkoxy and halogeno groups are preferred). R if necessary¹It may have another functional group that does not react with the isonanate group, such as an ester, urethane, amide, ureido group, or carbon-carbon unsaturated bond.
[0021]
Specific examples of the diisocyanate compound represented by the general formula (III) include those shown below. 2,4-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate dimer, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, Aromatic diisocyanate compounds such as 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate; aliphatic such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer diisocyanate Diisocyanate compound, isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) -diisocyanate, 1, -An aliphatic diisocyanate compound such as-(isocyanatomethyl) cyclohexane; and a diisocyanate compound that is a reaction product of a diol and diisocyanate such as an adduct of 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate. .
[0022]
(A) The polyurethane resin is preferably a reaction product in which a diol having a substituent having an acidic hydrogen atom represented by the following general formulas (IV) to (X) is combined.
[0023]
[Chemical 6]

[0024]
[Chemical 7]

[0025]
R²Is an alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy group optionally having a hydrogen atom and a substituent (eg, alkyl, aryl, alkoxy, ester, urethane, amide, ureido, halogeno groups are preferred). And preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms. R^Three, R^Four, R^FiveEach may be the same or different, and may have a single bond or a substituent (for example, alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl, alkoxy and halogeno groups are preferred) and a divalent aliphatic group. Or an aromatic hydrocarbon is shown. Preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms is shown.
If necessary, R^Three, R^Four, R^FiveIt may have another functional group that does not react with the isocyanate group, for example, an ester group, a urethane group, an amide group, a ureido group, or a carbon-carbon unsaturated bond. R², R^Three, R^Four, R^Five2 or 3 of them may form a ring.
Ar represents a trivalent aromatic hydrocarbon which may have a substituent, preferably an aromatic group having 6 to 15 carbon atoms.
[0026]
Where R⁶Represents a monovalent aliphatic or aromatic hydrocarbon which may have a substituent (for example, alkyl, alkoxy and halogeno groups are preferred). An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms are preferable. More preferably, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is shown.
Y represents an N-sulfonylamide group (—CO—NH—SO₂-), N-sulfonylureido group (-NH-CO-NH-SO₂-), N-aminosulfonylamide group (-CO-NH-SO₂-NH-) or a sulfonylurethane group (-O-CO-NH-SO₂-).
[0027]
Specific examples of the diol compound having a carboxyl group represented by the general formula (IV), (V) or (VI) include those shown below.
3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, Bis (hydroxymethyl) acetic acid, bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-carboxy-propionamide Etc.
[0028]
The diol compound represented by the general formula (VII), (VIII), (IX) or (X) is, for example, a hydroxy group of a diol compound having a carboxyl group represented by the general formula (IV), (V) or (VI). Is protected and then synthesized by a reaction with a compound of general formula (XI), (XII), (XIII), or (XIV) in the presence of a base. Furthermore, after making it react with chlorosulfonyl isocyanate, it synthesize | combines by making it react with the amine compound of general formula (XI).
[0029]
R⁶-SO₂-NCO (XI)
X-R^Three-CO-NH-SO₂-R⁶                     (XII)
X-R^Three-NH-CO-NH-SO₂-R⁶               (XIII)
X-R^Three-CO-NH-SO₂-NH-R⁶               (XIV)
R⁶-NH₂                                          (XV)
[0030]
In the formula, X represents a chlorine atom or a bromine atom. In the case of a sulfonylurethane group, one of the trihydroxy compounds can be synthesized by reacting the hydroxy group with a compound of general formula (XI).
[0031]
Specifically, the diol compounds represented by the general formulas (VII), (VIII), (IX), and (X) include those shown below.
[0032]
[Chemical 8]

[0033]
[Chemical 9]

[0034]
[Chemical Formula 10]

[0035]
Embedded image

[0036]
Embedded image

[0037]
Embedded image

[0038]
The molecular weight of the polyurethane resin preferably used in the present invention is 5000 to 800,000 in terms of weight average (polystyrene standard). The preferred weight average molecular weight is 10,000 to 500,000, more preferably 20,000 to 200,000. The degree of dispersion (Mw / Mn) at this time is 20 or less, preferably 16 or less, and more preferably 14 or less. If the molecular weight is low, the effect is small, and if the molecular weight is high, the developability is remarkably lowered.
[0039]
The content of the polyurethane resin of the present invention in the photosensitive composition is 1 to 30% by weight, preferably 2 to 20% by weight in terms of solid content. The polyurethane resin of the present invention is synthesized by adding the above-mentioned diisocyanate compound and diol compound in an aprotic solvent to a known catalyst having an activity corresponding to the reactivity and heating.
The molar ratio of the diisocyanate and diol compound to be used is preferably 0.8: 1 to 1.2: 1. If an isocyanate group remains at the end of the polymer, it is finally treated by treatment with alcohols or amines. In the form in which no isocyanate group remains.
[0040]
Next, a synthesis example of the polyurethane resin (A) used in the present invention is shown.
(Synthesis Example 1)
To a 500 ml three-necked round bottom flask equipped with a condenser and a stirrer was added 14.6 g (0.109 mole) of 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 13.3 g (0.0686 mole) of tetraethylene glycol and 1 , 4-Butanediol (2.05 g, 0.0228 mole) was added and dissolved in 118 g of N, N-dimethylacetamide. To this, 30.8 g (0.123 mole) of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 13.8 g (0.0819 mole) of hexamethylene diisocyanate and 0.1 g of di-n-butyltin dilaurate as a catalyst were added. Heated at 90 ° C. for 7 hours. To this reaction solution, 100 ml of N, N-dimethylacetamide, 50 ml of methanol and 50 ml of acetic acid were added and stirred. Then, this was poured into 4 liters of water while stirring to precipitate a white polymer. The polymer was separated by filtration, washed with water, and dried under reduced pressure to obtain 60 g of polymer (polyurethane resin (a)).
When the molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC), the weight average (polystyrene standard) was 70000. The carboxyl group content measured by titration was 1.43 meq / g.
[0041]
(Synthesis Examples 2 to 6)
Polyurethane resins (b) to (f) were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 using the diisocyanate shown in [Table 1] and the diol compound shown in [Table 2]. The acid content measured by titration and the molecular weight measured by GPC are shown together in [Table 2].
(Comparative Synthesis Example 1)
For comparison, the diisocyanate used for synthesizing the polyurethane resins (g) and (h) not containing the diol component represented by the general formula (1) is shown in [Table 3], and the diol compound, acid content and molecular weight are shown in [Table 4]. ].
[0042]
[Table 1]

[0043]
[Table 2]

[0044]
[Table 3]

[0045]
[Table 4]

[0046]
Next, the (B) novolac resin according to the present invention will be described in detail.
As the novolak resin used in the present invention, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, or m- / p -Any of mixing) Novolak resin such as mixed formaldehyde resin and pyrogallol acetone resin are preferable.
[0047]
Furthermore, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, a phenol having a C 3-8 alkyl group as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin; Examples thereof include condensation polymers with formaldehyde. Moreover, it is preferable that the weight average molecular weight is 500 or more, and it is more preferable that it is 1,000-700,000. Moreover, it is preferable that the number average molecular weight is 500 or more, and it is more preferable that it is 750-650,000. The dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
[0048]
Further, the novolak resin used in the present invention needs to be 50% by weight or more in the total solid content of the photosensitive layer when the infrared-sensitive composition of the present invention is used for the photosensitive layer of a lithographic printing plate. In the following cases, the effect of improving the printing durability by the burning treatment is low and cannot be used. It is more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 80% by weight or more.
[0049]
(C) A photothermal conversion agent (hereinafter also referred to as component (C)) is added to the infrared-sensitive composition of the present invention.
[0050]
The (C) photothermal conversion agent used in the present invention is not particularly limited as long as it is a substance that absorbs infrared light and generates heat, in addition to infrared absorbing dyes, various pigments known as infrared absorbing pigments, and examples Infrared absorbing dyes other than those described above can be used.
Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “Printing” The pigments described in "Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984) can be used.
[0051]
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.
[0052]
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Conceivable. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.
[0053]
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. When the particle diameter of the pigment is less than 0.01 μm, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the recording layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the recording layer.
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).
[0054]
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes.
In the present invention, among these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.
[0055]
Carbon black is preferably used as a pigment that absorbs such infrared light or near infrared light. Examples of the dye that absorbs infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., JP-A-58-112793, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Examples thereof include squarylium dyes described in 58-112792 and cyanine dyes described in British Patent 434,875.
[0056]
Further, near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium described in US Pat. No. 3,881,924. Salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59 -84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyrylium compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 5 and the pyrylium compound disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 Commercially available products, Eporin Co. Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used.
[0057]
Another particularly preferable example of the dye includes near infrared absorbing dyes described as the formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.
These pigments or dyes are 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight, particularly preferably pigments, based on the total solid content. 3.1 to 10% by weight can be added.
[0058]
When the added amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered, and when it exceeds 50% by weight, the uniformity of the image forming layer is lost and the durability of the image forming layer is deteriorated. These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.
[0059]
It is preferable to add (D) water-insoluble alkaline water-soluble resin (hereinafter referred to as alkali-soluble resin) other than the novolak resin to the infrared-sensitive composition of the present invention.
[0060]
Examples of the alkali-soluble resin include polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide copolymer, hydroquinone monomethacrylate copolymer, and JP-A-7-28244. Sulfonylimide-based polymers, and carboxyl group-containing polymers described in JP-A-7-36184. Other acrylic resins containing phenolic hydroxyl groups as disclosed in JP-A-51-34711, acrylic resins having sulfonamide groups described in JP-A-2-866, urethane-based resins, etc. Various alkali-soluble polymer compounds can also be used. These alkali-soluble polymer compounds preferably have a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 60,000. Such alkali-soluble polymer compounds may be used alone or in combination of two or more, and are used in an amount of 80% by weight or less of the total composition.
[0061]
Furthermore, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, phenol and formaldehyde having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. It is preferable to use a condensate with the above in order to improve the oil sensitivity of the image. Such an alkali-soluble resin is usually used in an addition amount of 90% by weight or less of the total weight of the composition.
[0062]
In the present invention, as the other alkali-soluble resin, a functional group of any one of (a-1) a phenolic hydroxyl group, (a-2) a sulfonamide group, and (a-3) an active imide group is preferably present in the molecule. Examples of the polymer compound are as follows.
[0063]
(A-1) As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group, a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain can be used. As a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer comprising a low molecular weight compound having at least one unsaturated bond polymerizable with the phenolic hydroxyl group is homopolymerized, or other polymerizable property is added to the monomer. Examples thereof include polymer compounds obtained by copolymerizing monomers.
Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group. Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3 -Hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p- Hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) Preferred are ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, and the like. Can be used.
Such resins having a phenolic hydroxyl group may be used singly or in combination of two or more.
[0064]
(A-2) Examples of the polymer compound having a sulfonamide group include a polymer compound obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. Can do. Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group include a sulfonamide group —NH—SO in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom in one molecule.₂-And a polymerizable monomer composed of a low molecular compound each having one or more polymerizable unsaturated bonds. Among these, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable.
Examples of such a compound include compounds represented by the following general formulas (a) to (e), but are not limited to these in the present invention.
[0065]
Embedded image

[0066]
Where X¹, X²Each independently represents an oxygen atom or NR⁷Represents. R¹, R^FourAre each independently a hydrogen atom or CH_ThreeRepresents. R², R^Five, R⁹, R¹², R¹⁶Each independently represents a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a substituent. R^Three, R⁷, R¹³Each independently represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R⁶, R¹⁷Represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group that may each independently have a substituent. R⁸, R^Ten, R¹⁴Are each independently a hydrogen atom or CH_ThreeRepresents. R¹¹, R¹⁵Each independently represents a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a single bond or a substituent. Y¹, Y²Each independently represents a single bond or CO.
[0067]
Among these, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like are preferably used. Can do.
[0068]
(A-3) The polymer compound having an active imide group has an active imide group represented by the following formula in the molecule, and this polymer compound is represented by the following formula in one molecule. A high molecular compound obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer comprising a low molecular weight compound having at least one active imino group and at least one polymerizable unsaturated bond, or copolymerizing the polymerizable monomer with another polymerizable monomer. Can be mentioned.
[0069]
Embedded image

[0070]
As such a compound, specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.
[0071]
Furthermore, as another alkali-soluble resin, a polymer obtained by polymerizing two or more of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, and the polymerizable monomer having an active imide group is used. A compound or a polymer compound obtained by copolymerizing other polymerizable monomers with two or more kinds of these polymerizable monomers can be used.
When copolymerizing a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group with a polymerizable monomer having a sulfonamide group and / or a polymerizable monomer having an active imide group, the blending weight ratio of these components is 50:50 to 5: It is preferably in the range of 95, particularly preferably in the range of 40:60 to 10:90.
[0072]
When the other alkali-soluble resin is a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group and another polymerizable monomer Is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more of the monomer that imparts alkali solubility. When the copolymerization component is less than 10 mol%, alkali solubility tends to be insufficient, and the development latitude improvement effect may not be sufficiently achieved.
[0073]
Examples of the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group include the monomers listed in the following (1) to (12). However, it is not limited to these.
[0074]
(1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylates such as acrylates;
(3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylate such as methacrylate.
(4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl butyl ether, and phenyl vinyl ether.
[0075]
(6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene.
(8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.
(10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.
[0076]
In the case where the other alkali-soluble resin is a homopolymer or copolymer of a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group, the weight average molecular weight is Those having a molecular weight of 2000 or more and a number average molecular weight of 500 or more are preferred. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10.
[0077]
Next, other components that can be added in preparing the photosensitive composition as the composition for the image forming layer according to the present invention will be described.
Any positive photosensitive composition may be used as long as the solubility or swellability in the developer changes before and after exposure, and preferred examples include o-quinonediazide compounds. For example, in the case of a positive photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and an o-quinonediazide compound, the o-quinonediazide compound is a compound having at least one o-quinonediazide group and has solubility in an alkaline aqueous solution by actinic rays. Increases are preferred.
[0078]
As such a thing, the thing of various structures is known, For example, J.KOSAR "Light-Sensitive Systems" (John Wiley & Sons, Inc, 1965 publication) P.336-P.352 It is described in detail. As the photosensitive compound of the positive photosensitive resin composition, various hydroxyl compounds and o-benzoquinone diazide or sulfonate esters of o-naphthoquinone diazide are particularly suitable.
[0079]
Examples of such o-quinonediazide compounds include esters of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and phenol-formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin; U.S. Pat. No. 3,635,709. Esters of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol / acetone resin described in the specification; 1,2-naphthoquinone described in JP-B 63-13528 Esters of 2-diazide-5-sulfonyl chloride and resorcin-benzaldehyde resin; 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and resorcin-pyrogallol described in JP-B-62-44,257 Ester with acetone cocondensation resin;
[0080]
1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride esterified to a polyester having a hydroxyl group at the terminal described in JP-B-56-45,127; JP-B-50-24,641 1,2-Naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride is esterified to a homopolymer of N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide or a copolymer with other copolymerizable monomers described in the publication Ester of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and bisphenol-formaldehyde resin described in JP-B-54-29,922; JP-B-52-36,043 1, 2-hydroxystyrene homopolymers or copolymers with other copolymerizable monomers described in the publication An ester of naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride; an ester of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and polyhydroxybenzophenone.
[0081]
Other known o-quinonediazide compounds that can be used in the present invention include JP-A-63-80,254, JP-A-58-5,737, JP-A-57-111,530, JP-A-57. -111,531, JP-A-57-114,138, JP-A-57-142,635, JP-A-51-36,129, JP-B-62-3411, JP-B-62-51 No. 4,459, Japanese Patent Publication No. 51-483, and the like.
The content of the o-quinonediazide compound is usually 5 to 60% by weight, more preferably 10 to 40% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition.
[0082]
In the photosensitive composition, if necessary, a cyclic acid anhydride for increasing sensitivity, a print-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a dye as an image coloring agent, other fillers, and the like. Can be added.
[0083]
In the photosensitive composition of the present invention, it is preferable to add cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids in order to increase sensitivity.
As cyclic acid anhydrides, as described in US Pat. No. 4,115,128, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy to Δ4 to tetrahydrophthalic anhydride Acid, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride, and the like. Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 4,4 ', 4. "-Trihydroxy-triphenylmethane, 4,4 ', 3", 4 "-tetrahydroxy-3,5,3', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like.
[0084]
Examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphinic acids, phosphoric esters, and carbonic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. Specific examples include acids such as p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid. Acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexene-2,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid Etc.
The proportion of the cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by weight, and more preferably 0.1 to 5% by weight.
[0085]
Examples of the print-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure include a combination of a photosensitive compound that releases an acid by exposure and an organic dye that forms a salt with the acid to change the color tone.
[0086]
Examples of the photosensitive compound that releases an acid upon exposure include o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide described in JP-A-50-36,209; JP-A-53-36223. Trihalomethyl-2-bilone and trihalomethyl-s-triazine; various o-naphthoquinonediazide compounds described in JP-A-55-62444; described in JP-A-55-77742 And 2-trihalomethyl-5-aryl-1,3,4-oxadiazole compounds; diazonium salts and the like.
These compounds can be used alone or as a mixture, and the addition amount thereof is preferably in the range of 0.3 to 15% by weight based on the total weight of the composition.
[0087]
In the photosensitive composition according to the present invention, at least one organic dye that changes its color tone by interacting with a photodecomposition product of a compound that generates an acidic substance upon photolysis is used.
As such organic dyes, diphenylmethane, triarylmethane, thiazine, oxazine, phenazine, xanthene, anthraquinone, iminonaphthoquinone, and azomethine dyes can be used. Specifically, it is as follows.
[0088]
Brilliant green, eosin, ethyl violet, erythrosin B, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, phenolphthalein, 1,3-diphenyltriazine, alizarin red S, thymolphthalein, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, Thymolsulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, orange IV, diphenylthiocarbazone, 2,7-dichlorofluorescein, paramethyl red, Congo red, benzopurpurin 4B, α-naphthyl red, Nile blue 2B, Nile blue A , Phenacetalin, methyl violet, malachite green, parafuchsin, oil blue # 603 [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], oil pink # 312 [Orien Tosei Kogyo Co., Ltd.], Oil Red 5B [Oriental Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Industries Co., Ltd.], Oil Red RR [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Victoria Pure Blue BOH [Hodogaya Chemical Industry ( Manufactured by)
[0089]
Patent Pure-Blue (manufactured by Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.), Sudan Blue II (manufactured by BASF), m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, first acid violet R, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carbostearylamino-4-p-dihydrooxyethyl-amino-phenyliminonaphthoquinone, p-methoxybenzoyl-p '-Diethylamino-o'-methylphenyliminoacetanilide, cyano-p-diethylaminophenyliminoacetanilide, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4-p -Diethylaminofe Ruimino-5-pyrazolone and the like.
[0090]
Particularly preferred organic dyes are triarylmethane dyes. Of the triarylmethane dyes, those having a sulfonic acid compound as a counter anion as shown in JP-A-62-2932471 and Japanese Patent No. 2996921 are particularly useful.
These dyes can be used alone or in combination, and the addition amount is preferably 0.3 to 15% by weight based on the total weight of the photosensitive composition. Further, if necessary, it can be used in combination with other dyes and pigments, and the amount used is 70% by weight or less, more preferably 50% by weight or less, based on the total weight of the dyes and pigments.
[0091]
In addition to the above-described positive type lithographic printing plate precursor (also referred to as a positive type PS plate), the present invention can be used in the following types of lithographic printing plate materials, for example.
(1) A negative laser direct-drawing planographic printing material containing an alkali-soluble binder, an acid generator, and an acid (thermal) crosslinkable compound.
(2) Negative-type laser direct-drawing lithographic printing plate containing a photothermal conversion agent / thermal radical generator / radical polymerizable compound
[0092]
The alkali-soluble binder used in (1) is the same as described above, and conventionally known acid generators can be used.
The acid (thermal) crosslinkable compound refers to a compound that crosslinks in the presence of an acid, and examples thereof include aromatic compounds and heterocyclic compounds that are poly-substituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group, or an alkoxymethyl group. Among them, preferred examples include compounds obtained by condensing phenols and aldehydes under basic conditions.
Among the above compounds, preferred are, for example, compounds obtained by condensing phenol and formaldehyde under basic conditions as described above, similarly, compounds obtained from m-cresol and formaldehyde, and compounds obtained from bisphenol A and formaldehyde. Compounds obtained from 4,4'-bisphenol and formaldehyde, and other compounds disclosed as a resole resin in GB 2,082,339.
[0093]
These acid crosslinkable compounds preferably have a weight average molecular weight of 500 to 100,000 and a number average molecular weight of 200 to 50,000. Other preferred examples include aromatic compounds substituted with alkoxymethyl or oxiranylmethyl groups disclosed in EP-A 0,212,482, EP-A 0,133,216, DE -A 3,634,671, DE 3,711,264 disclosed monomer and oligomer melamine-formaldehyde condensates and urea-formaldehyde condensates, in EP-A 0,212,482 There are disclosed alkoxy-substituted compounds and the like. Yet another preferred example is a melamine-formaldehyde derivative having, for example, at least two free N-hydroxymethyl, N-alkoxymethyl or N-acyloxymethyl groups. Of these, N-alkoxymethyl derivatives are particularly preferred.
[0094]
Low molecular weight or oligomeric silanols can also be used as silicon-containing crosslinking agents. Examples of these are dimethyl- and diphenyl-silanediols and oligomers already precondensed and containing these units, for example those disclosed in EP-A 0,377,155 can be used.
Of the aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted with an alkoxymethyl group, a compound having an alkoxymethyl group at a position adjacent to the hydroxyl group, and the alkoxy group of the alkoxymethyl group having 18 or less carbon atoms is preferable. Examples thereof can be mentioned, and particularly preferred examples include compounds represented by the following general formulas (B) to (E).
[0095]
Embedded image

[0096]
Where L₁~ L₈May be the same or different and each represents an alkoxymethyl group substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms such as methoxymethyl, ethoxymethyl and the like. These are preferable in that the crosslinking efficiency is high and the printing durability can be improved. The above-mentioned compound that crosslinks by heat may be used alone or in combination of two or more.
The acid crosslinkable compound used in the present invention is used in an added amount of 5 to 80% by weight, preferably 10 to 75% by weight, particularly preferably 20 to 70% by weight, based on the total solid content of the lithographic printing plate material. . If the addition amount of the acid crosslinkable compound is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the obtained lithographic printing plate material is deteriorated, and if it exceeds 80% by weight, it is not preferable in terms of stability during storage.
[0097]
Specific examples of the material used in (2) include a compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization, a thermal radical generator, a photothermal conversion agent, and the like as main components.
[0098]
The compound containing a double bond capable of addition polymerization can be arbitrarily selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. For example, those having chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated Examples include amides of carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds.
[0099]
Specific examples of the ester monomers of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate And polyester acrylate oligomers.
[0100]
Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol Tetramethacrylate, bis [p- ( 3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane, and the like.
[0101]
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
[0102]
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate. Furthermore, the mixture of the above-mentioned ester monomer can be mention | raise | lifted.
[0103]
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide, etc. As another example, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-B-48-41708 contains a hydroxyl group represented by the following general formula (A). Examples thereof include a vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer is added.
CH₂= C (R5) COOCH₂CH (R6) OH (A)
(However, R5 and R6 are H or CH._ThreeIndicates. )
[0104]
Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, etc. Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid can be used. Furthermore, those introduced as photocurable monomers and oligomers in Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, No. 7, pages 300 to 308 (1984) can also be used.
In addition, the usage-amount of the compound containing these double bonds is 5-70 weight% (henceforth%) with respect to all the components, Preferably it is 10-50%.
[0105]
As the thermal radical generator, many that are used as conventionally known photopolymerization initiators are useful. An azobis compound (azobisisobutyronitrile), a diazonium compound, or the like can also be used as a thermal polymerization initiator.
The photothermal conversion agent is the same as described above.
[0106]
In addition, in the composition of the present invention, various resins having a hydrophobic group, for example, octylphenol / formaldehyde resin, t-butylphenol / formaldehyde resin, t-butylphenol / benzaldehyde resin, rosin, are used for improving the ink inking property of the image. Modified novolak resins, and o-naphthoquinone diazide sulfonate esters of these modified novolak resins, etc .; plasticizers for improving the flexibility of the coating film, such as dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, butyl glycolate, tricresyl phosphate, Various additives such as dioctyl adipate can be added depending on various purposes. These addition amounts are preferably in the range of 0.01 to 30% by weight relative to the total weight of the composition.
[0107]
Further, a known resin for further improving the abrasion resistance of the film can be added to these compositions. Examples of these resins include polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, epoxy resin, vinyl chloride resin, nylon, polyester resin, acrylic resin, and the like, which can be used alone or in combination. The addition amount is preferably in the range of 2 to 40% by weight based on the total weight of the composition.
[0108]
Further, in the photosensitive composition of the present invention, in order to widen the development latitude, nonionic surfactants such as those described in JP-A Nos. 62-251740 and 4-68355 are disclosed. An amphoteric surfactant as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of nonionic surfactants include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene nonylphenyl ether, etc. Specific examples of the activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, Amorgen K (trade name, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., N-tetradecyl-N, N-betaine type), 2 -Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, Levon 15 (trade name, manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd., alkylimidazoline series) and the like.
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.
[0109]
Improvement of coated surface quality: In the photosensitive composition of the present invention, a surfactant for improving the coated surface quality, for example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950. An agent can be added.
A preferable addition amount is 0.001 to 1.0% by weight of the total photosensitive composition, and more preferably 0.005 to 0.5% by weight.
[0110]
Further, a yellow dye, preferably a yellow dye having an absorbance at 417 nm of 70% or more of the absorbance at 436 nm can be added to the photosensitive composition of the present invention.
[0111]
When a lithographic printing plate photosensitive material is obtained from the photosensitive resin composition containing the fluoropolymer of the present invention, it is first provided as an image forming layer on a suitable support. The photosensitive resin composition containing the fluoropolymer of the present invention is dissolved or dispersed in one or a mixture of the following organic solvents, applied to a support and dried. Any known organic solvent can be used, but an organic solvent having a boiling point in the range of 40 ° C. to 200 ° C., particularly 60 ° C. to 160 ° C. is selected from the advantages in drying. Of course, it is preferable to select one that dissolves the surfactant of the present invention.
[0112]
Examples of the organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n- or iso-propyl alcohol, n- or iso-butyl alcohol, diacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, and methyl amyl. Ketones such as ketone, methyl hexyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, acetylacetone, hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, methoxybenzene, ethyl acetate, n- or iso-propyl acetate, Acetic esters such as n- or iso-butyl acetate, ethyl butyl acetate, hexyl acetate, methylene dichloride, ethylene dichloride, monochloroben Halides, isopropyl ether emissions such, n- butyl ether, dioxane, dimethyl dioxane, tetrahydrofuran and the like,
[0113]
Ethylene glycol, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, diethyl cellosolve, cellosolve acetate, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl Polyhydric alcohols such as ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol and derivatives thereof, Rusuruhokishido, N, and special solvents such as N- dimethylformamide is preferably used singly or as a mixture. The solid content in the composition to be applied is suitably 2 to 50% by weight.
[0114]
Examples of the method for applying the composition of the present invention include roll coating, dip coating, air knife coating, gravure coating, gravure offset coating, hopper coating, blade coating, wire doctor coating, and spray coating. 0.3 to 4.0 g / m in weight²Is preferred. As the coating amount decreases, the exposure amount for obtaining an image can be reduced, but the film strength decreases. As the coating amount increases, the exposure amount is required, but the photosensitive film becomes stronger. For example, when used as a printing plate, a printing plate having a high printable number (high printing durability) can be obtained.
[0115]
Drying of the photosensitive composition coated on the support is usually performed with heated air. The heating is preferably in the range of 30 ° C to 200 ° C, particularly 40 ° C to 140 ° C. Not only a method in which the drying temperature is kept constant during drying, but also a method in which the temperature is raised stepwise can be carried out. Also, good results may be obtained by dehumidifying the dry air. The heated air is preferably supplied at a rate of 0.1 m / second to 30 m / second, particularly 0.5 m / second to 20 m / second, with respect to the coated surface.
[0116]
Matt layer: A mat layer may be provided on the surface of the photosensitive layer provided as described above in order to shorten the time for vacuuming during the close contact exposure using the vacuum baking frame and to prevent blurring. preferable. Specifically, a method for providing a mat layer as described in JP-A-50-125805, JP-B-57-6582, JP-A-61-28986, and JP-B-62-62337. And a method of heat-sealing the solid powder as described above.
[0117]
The support used for the photosensitive lithographic printing plate or the like is a dimensionally stable plate-like material, and includes those that have been used as a support for a printing plate so far and can be suitably used. Such supports include paper, paper laminated with plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), eg, a metal plate such as aluminum (including aluminum alloys), zinc, iron, copper, etc., eg, diacetic acid Cellulose, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose butyrate acetate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Although vapor-deposited paper or plastic film is included, an aluminum plate is particularly preferable. Aluminum plates include pure aluminum plates and aluminum alloy plates. Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of aluminum such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel and the like is used. These compositions contain some iron and titanium as well as other negligible amounts of impurities.
[0118]
The support is surface-treated as necessary. For example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate, a hydrophilic treatment is performed on the surface of the support. In the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluoride zirconate, phosphate or the like, or anodization treatment may be performed. It is preferable that it is made. Further, as described in US Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate that has been grained and then dipped in an aqueous sodium silicate solution is disclosed in US Pat. No. 3,181,461. As described above, an aluminum plate that has been anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used.
The anodic oxidation treatment is, for example, an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid or boric acid, an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or an aqueous solution or non-aqueous solution of these salts, or a combination of two or more. In this electrolyte solution, an aluminum plate is used as an anode and a current is passed.
[0119]
Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. These hydrophilization treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in order to prevent harmful reactions with the photosensitive composition provided thereon, and to improve adhesion to the photosensitive layer. It is given to improve. Prior to graining the aluminum plate, the surface may be pretreated if necessary to remove the rolling oil on the surface and expose a clean aluminum surface.
For the former, a solvent such as trichlene, a surfactant or the like is used. For the latter, a method using an alkali / etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used.
[0120]
As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a blast polishing method, a brush polishing method in which an aqueous dispersion slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush, and a chemical method is disclosed in JP-A-54-31187. A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in the publication is suitable, and as an electrochemical method, a method of alternating current electrolysis in an acidic electrolyte such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof Is preferred. Among such surface roughening methods, in particular, a surface roughening method combining mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 55-137993 is used for a greasy image. This is preferable because of its strong adhesion to the support. Graining by the method as described above is preferably performed in such a range that the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm. The grained aluminum plate is washed with water and chemically etched as necessary.
[0121]
The etching treatment liquid is usually selected from an aqueous solution of a base or acid that dissolves aluminum. In this case, a film different from aluminum derived from the etching solution component should not be formed on the etched surface. Examples of preferable etching agents include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium phosphate, etc. as basic substances; sulfuric acid, persulfuric acid as acidic substances Phosphoric acid, hydrochloric acid and salts thereof, and the like, but metals such as zinc, chromium, cobalt, nickel, and copper, which have a lower ionization tendency than aluminum, are not preferable because an unnecessary film is formed on the etched surface. With these etching agents, the dissolution rate of the aluminum or alloy to be used is 0.3 g to 40 g / m / min.²Although it is most preferable to carry out so that it becomes, it may be above or below this.
[0122]
Etching is performed by immersing an aluminum plate in the above etching solution or by applying an etching solution to the aluminum plate. The etching amount is 0.5 to 10 g / m.²It is preferable to process so that it may become this range. As the etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, since a smut is generated, a normal desmut process is performed. As the acid used for the desmut treatment, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. The etched aluminum plate is washed with water and anodized as necessary. Anodization can be performed by a method conventionally used in this field.
Specifically, when direct current or alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc. or a combination of two or more thereof, aluminum An anodized film can be formed on the surface of the support.
[0123]
Since the anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, it cannot generally be determined, but in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ~ 60A / dm²A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes are suitable. Among these anodizing treatments, in particular, the method of anodizing at high current density in sulfuric acid described in British Patent 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661. A method of anodizing the described phosphoric acid as an electrolytic bath is preferred. The roughened and further anodized aluminum plate as described above may be subjected to a hydrophilic treatment as required. Preferred examples thereof include US Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181. Alkali metal silicates such as those disclosed in US Pat. No. 4,461,461, such as aqueous sodium silicate solutions or potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and U.S. Pat. No. 4,153,461. There are methods of treatment with polyvinylphosphonic acid as disclosed.
[0124]
Organic subbing layer: It is preferable to provide an organic subbing layer on the photosensitive lithographic printing plate of the present invention before coating the photosensitive layer in order to reduce the remaining photosensitive layer in the non-image area. Examples of the organic compound used in the organic undercoat layer include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid optionally having a substituent, and naphthyl. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, organic such as phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphonic acid which may have a substituent Phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine The hydroxyl Although selected from hydrochlorides of amines having a group, two or more may be used in combination.
[0125]
In addition, at least one compound selected from the group of polymer compounds having a structural unit represented by poly (p-vinylbenzoic acid) in the molecule can be used. More specifically, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltriethylammonium salt, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltrimethylammonium chloride, and the like can be given.
[0126]
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. The organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to immerse the aluminum compound by immersing the aluminum plate, and then washed with water and dried to provide an organic undercoat layer. Is the method. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by weight of the organic compound can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
[0127]
The solution used for this can be used in a pH range of 1 to 12 by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. Furthermore, the compound shown by the following general formula (a) can also be added to this solution.
General formula (a)
(HO) x-R5- (COOH) y
However, R5 represents the C14 or less arylene group which may have a substituent, and x and y independently represent an integer of 1 to 3. Specific examples of the compound represented by the general formula (a) include 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, salicylic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 2 -Hydroxy-3-naphthoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 10-hydroxy-9-anthracenecarboxylic acid and the like. The coating amount after drying of the organic undercoat layer is 1 to 100 mg / m.²Is suitable, preferably 2 to 70 mg / m²It is. The above coating amount is 2 mg / m²If it is less, sufficient printing durability cannot be obtained. 100 mg / m²It is the same even if it is larger.
[0128]
Back coat: A back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. As such a back coat, a coating layer comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Is preferably used. Of these coating layers, Si (OCH_Three)_Four, Si (OC₂H_Five)_Four, Si (OC_ThreeH₇)_Four, Si (OC_FourH₉)_FourA silicon alkoxy compound such as the above is inexpensive and readily available, and a metal oxide coating layer obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent developer resistance.
[0129]
The lithographic printing plate prepared as described above is usually subjected to image exposure and development processing. As an actinic ray light source used for image exposure, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable.
[0130]
A developer for a lithographic printing plate using the photosensitive resin composition of the present invention preferably contains (a) at least one saccharide selected from non-reducing sugars and (b) at least one base, and has a pH of 9. The developer is in the range of 0 to 13.5. Hereinafter, the developer will be described in detail. In the present specification, unless otherwise specified, the developing solution means a developing start solution (a developing solution in a narrow sense) and a developing replenisher.
[0131]
The main component of the developer is preferably composed of at least one compound selected from non-reducing sugars and at least one base, and the pH of the solution is in the range of 9.0 to 13.5. Such non-reducing sugars are saccharides that do not have a free aldehyde group or ketone group and do not exhibit reducing properties, and are trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded to each other, and glycosides in which a reducing group of saccharides and non-saccharides are bonded. It is classified into sugar alcohols reduced by hydrogenating the body and saccharides, and any of them is preferably used. Trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides, and the like. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit and allozulcit. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide and a reduced form (reduced water candy) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide are preferably used.
Among these, particularly preferred non-reducing sugars are sugar alcohol and saccharose, and D-sorbite, saccharose, and reduced starch syrup are particularly preferred because they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.
[0132]
These non-reducing sugars can be used alone or in combination of two or more thereof, and the proportion of the non-reducing sugar in the developer is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably 1 to 20% by weight.
Below this range, a sufficient buffering effect cannot be obtained, and when the concentration is above this range, it is difficult to achieve high concentration, and the problem of increased costs arises. In addition, when reducing sugar is used in combination with a base, there is a problem that the color changes to brown over time, the pH gradually decreases, and thus developability decreases.
[0133]
A conventionally known alkaline agent can be used as the base to be combined with the non-reducing sugar. For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, Examples include inorganic alkali agents such as ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.
[0134]
These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable because the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting these amounts relative to the non-reducing sugar. Further, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they have a buffering action.
These alkali agents are added so that the pH of the developer is in the range of 9.0 to 13.5, and the addition amount is determined by the desired pH, the type and addition amount of the non-reducing sugar, and more preferable pH. The range is 10.0 to 13.2.
[0135]
Further, an alkaline buffer composed of a weak acid other than sugars and a strong base can be used in combination with the developer. As the weak acid used as such a buffer, one having a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2 is preferable.
Such weak acid is selected from those described in IONISATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION published by Pergamon Press, for example, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (PKa 12.74). , Alcohols such as trifluoroethanol (12.37) and trichloroethanol (12.24), aldehydes such as pyridine-2-aldehyde (12.68) and pyridine-4-aldehyde (12.05) , Salicylic acid (13.0), 3-hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7) 3,4-dihydroxysulfonic acid (12.2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-trihydroxybenzene (11.8) ), Hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.34), o-cresol (10.33), resorcinol (11.27), p-cresol (10.27), m-cresol ( A compound having a phenolic hydroxyl group, such as 10.09)
[0136]
2-butanone oxime (12.45), acetoxime (12.42), 1,2-cycloheptanedione dioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9), ethanediamide dioxime (11.37), oximes such as acetophenone oxime (11.35), adenosine (12.56), inosine (12.5), guanine (same) 12.3), nucleic acid-related substances such as cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1- Amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.29), isopropylidene diphosphonic acid (12.10), 1,1-ethylidene diphosphone Acid (11.54), 1,1-ethylidene diphosphonic acid 1-hydroxy (11.52), benzimidazole (12.86), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (12. 55) and weak acids such as barbituric acid (12.5).
[0137]
Of these weak acids, sulfosalicylic acid and salicylic acid are preferred. As the base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are preferably used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. The above various alkali agents are used by adjusting the pH within a preferable range depending on the concentration and combination.
[0138]
Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as needed for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
[0139]
Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan Fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, poly Glycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acids Ethanol amides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, anionic surfactants such as trialkyl amine oxides,
[0140]
Fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid ester salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts, branched alkylbenzenesulfonic acid salts, alkylnaphthalenesulfonic acid salts, alkylphenoxypolyoxyethylene Propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl esters Tellurium sulfate ester salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate ester salt, styrene / maleic anhydride copolymer Partially saponified products, partially saponified products of olefin / maleic anhydride copolymer,
[0141]
Anionic surfactants such as naphthalene sulfonate formalin condensates, alkylamine salts, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, cationic surfactants such as polyoxyethylene alkylamine salts, polyethylene polyamine derivatives, carboxy Examples include amphoteric surfactants such as betaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines. Among the surfactants listed above, those having polyoxyethylene can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene and polyoxybutylene, and these surfactants are also included.
[0142]
A more preferred surfactant is a fluorosurfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, anionic types such as perfluoroalkyl phosphates, amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines, and perfluoroalkyltrimethylammonium salts. Cationic and perfluoroalkylamine oxides, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups Nonionic types such as group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, and lipophilic group-containing urethanes can be mentioned. Said surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, and is added in 0.001 to 10 weight% in a developing solution, More preferably, it is added in 0.01 to 5 weight%.
[0143]
Various development stabilizers can be used in the developer. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. A salt is a preferred example. Further, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. And water-soluble amphoteric polymer electrolytes that have been used.
[0144]
Further, an organoboron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A-59-84241, a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant as described in JP-A-60-111246, An alkylenediamine compound substituted with polyoxyethylene / polyoxypropylene disclosed in JP-A-60-129750, a polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more described in JP-A-61-215554, and a cation described in JP-A-63-175858 And a fluorine-containing surfactant having a functional group, a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol disclosed in JP-A-2-39157, and a water-soluble polyalkylene compound.
[0145]
If necessary, an organic solvent is further added to the developer. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably those having a solubility in water of 5% by weight or less are selected. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2- Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples thereof include amines and N-phenyldiethanolamine.
The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight with respect to the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because the amount of the surfactant is small, and when the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, so that it is impossible to expect good developability.
[0146]
A reducing agent can be further added to the developer. This is to prevent stains on the printing plate, and is particularly effective when developing a negative photosensitive lithographic printing plate containing a photosensitive diazonium salt compound. Preferred organic reducing agents include thiosalicylic acid, hydroquinone, and metol. And phenol compounds such as methoxyquinone, resorcin and 2-methylresorcin, and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. More preferable inorganic reducing agents include sodium, potassium and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, hydrogen phosphite, dihydrogen phosphite, thiosulfuric acid and dithionite. A salt etc. can be mentioned.
Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the antifouling effect. These reducing agents are preferably contained in the range of 0.05 to 5% by weight with respect to the developer at the time of use.
[0147]
An organic carboxylic acid can also be added to the developer. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . Further, it may be an unsaturated fatty acid having a double bond in the carbon chain or a branched carbon chain. Aromatic carboxylic acids are compounds in which a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring or the like is substituted with a carboxyl group, and specifically include o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p- Hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydrobenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3, There are 5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid, etc. Naphthoic acid is particularly effective.
[0148]
The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as sodium salts, potassium salts or ammonium salts in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if it is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient, and if it is 10% by weight or more, the effect cannot be further improved. In addition, dissolution may be hindered when other additives are used in combination. Therefore, the preferable addition amount is 0.1 to 10% by weight, and more preferably 0.5 to 4% by weight with respect to the developing solution in use.
[0149]
The developer may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a hard water softening agent, and the like, if necessary. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetra Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylene Phosphonic acid), triethylenetetramine hexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1- Dorokishitaen 1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.
[0150]
The optimum value of such a hard water softener varies depending on its chelation and the hardness of the hard water used and the amount of hard water. %, More preferably in the range of 0.01 to 0.5% by weight. If the addition amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved. If the addition amount is more than this range, adverse effects on the image area such as color loss will occur. The remaining component of the developer is water. It is advantageous in terms of transportation that the developer is a concentrated solution having a water content less than that in use and is diluted with water when in use. In this case, the degree of concentration is appropriate such that each component does not cause separation or precipitation.
[0151]
As a developer for a lithographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention, a developer described in JP-A-6-282079 can also be used. This is SiO₂/ M₂Water-soluble ethylene oxide addition obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to an alkali metal silicate having a molar ratio of O (M represents an alkali metal) of 0.5 to 2.0 and a sugar alcohol having 4 or more hydroxyl groups A developer containing a compound. Sugar alcohols are polyhydric alcohols corresponding to those obtained by reducing aldehyde groups and ketone groups of sugars to form primary and secondary alcohol groups, respectively. Examples of sugar alcohol shells include D, L-trait, erythritol, D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, Examples thereof include L-talit, dulcit, and allozulcit, and di-, tri-, tetra-, penta-, and hexaglycerin condensed with sugar alcohol. The water-soluble ethylene oxide addition compound can be obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to 1 mol of the sugar alcohol. Further, propylene oxide may be block-copolymerized in the ethylene oxide addition compound as required within a range where solubility is acceptable. These ethylene oxide addition compounds may be used alone or in combination of two or more.
The addition amount of these water-soluble ethylene oxide addition compounds is suitably 0.001 to 5% by weight, more preferably 0.001 to 2% by weight, based on the developing solution (working solution).
[0152]
The developer may further contain the above-described various surfactants and organic solvents as necessary for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area.
[0153]
The PS plate developed with the developer having such a composition is post-treated with a washing water, a rinse solution containing a surfactant, a finisher mainly composed of gum arabic, a starch derivative, or the like, or a protective gum solution. Various combinations of these treatments can be used for the post-treatment of the PS plate of the present invention.
[0154]
In recent years, automatic developing machines for PS plates have been widely used in the stencil and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of an apparatus for transporting the PS plate, each processing liquid tank and a spray device, and the exposed PS plate is pumped up while being transported horizontally. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle to develop and post-process. In addition, recently, a PS plate is immersed and transported in a processing solution tank filled with a processing solution by a guide roll in the solution, and a small amount of washing water after development is supplied to the plate surface for washing. A method is also known in which the waste water is reused as dilution water for the developer stock solution.
[0155]
In such automatic processing, each processing solution can be processed while being replenished with each replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
[0156]
【Example】
The present invention will be further described below based on examples. However, the present invention is not limited to these examples.
[0157]
(Examples 1-6, Comparative Examples 1-3)
(Production of support)
The surface of a JIS A 1050 aluminum sheet was grained with a rotating nylon brush using a pumice-water suspension as an abrasive. The surface roughness (centerline average roughness) at this time was 0.5 μm. After washing with water, a 10% aqueous solution of caustic soda is immersed in a solution warmed to 70 ° C., so that the dissolution amount of aluminum is 6 g / m.^ThreeIt etched so that it might become. After washing with water, it was neutralized by immersing in a 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute and thoroughly washed with water. After that, electrolytic surface roughening was carried out in a 0.7% nitric acid aqueous solution for 20 seconds using a rectangular wave alternating waveform voltage with an anode voltage of 13 volts and a cathode voltage of 6 volts. After dipping to wash the surface, it was washed with water.
The roughened aluminum sheet was subjected to a porous anodic oxide film forming treatment using direct current in a 20% aqueous sulfuric acid solution. Current density 5A / dm²Electrolysis is carried out with a weight of 4.0 g / m on the surface by adjusting the electrolysis time.²A substrate having an anodic oxide film was prepared. This substrate was treated for 10 seconds in a vapor chamber saturated at 100 ° C. and 1 atm to prepare a substrate (a) having a sealing rate of 60%.
The substrate (a) was treated with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C. for 10 seconds to hydrophilize the surface, and then the following undercoat solution was applied, and the coating film was dried at 80 ° C. for 15 seconds to produce a lithographic printing plate A support [A] was obtained. The coating amount after drying is 15 mg / m²Met.
[0158]
[Undercoat liquid]
-0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000
・ Methanol 100g
・ Water 1g
[0159]
Embedded image

[0160]
[Formation of recording layer]
The following photosensitive solution 1 was applied to the obtained undercoated support [A] at a coating amount of 1.8 g / m 2.²The photosensitive layer (recording layer) was formed by coating and drying to obtain a lithographic printing plate precursor 1.
[0161]

[0162]
Embedded image

[0163]
[Evaluation of development latitude]
The obtained lithographic printing plate precursor was imaged in an image with a Trend setter manufactured by Creo at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm.
First, a lithographic printing plate precursor exposed under the above conditions was developed using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. charged with the following alkaline developer A, at a liquid temperature of 30 ° C., and developed for 20 seconds. .
Next, the processing was repeated while gradually diluting the developer with water. At this time, it was confirmed whether there was any stain or coloring caused by the recording layer remaining film with poor development. Further, the treatment was repeated while diluting with water, and the electric conductivity of the developer that could be developed was measured.
The results are shown in Table 5 below. Those having a large difference between the upper limit value and the lower limit value are evaluated as being excellent in development latitude.
[0164]

[0165]
[Table 5]

[0166]
From the results shown in Table 5, excellent development latitude was realized by applying the infrared-sensitive composition of the present invention to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor.
[0167]
(Examples 7-12, Comparative Examples 4-6)
The following photosensitive solution 2A was applied to the same support [A] substrate used in Example 1, and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a layer (A). The coating amount after drying is 1.04 g / m²Met.
Thereafter, the following photosensitive solution 2B was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a layer (B) (upper layer), whereby a lithographic printing plate precursor 2 was obtained. The total coating amount of the photosensitive solution after drying is 1.2 g / m.²Met.
[0168]

[0169]

[0170]
[Synthesis of Copolymer 1]
After stirring, 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid, 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile were placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a condenser and a dropping funnel, and cooled in an ice-water bath. The mixture was stirred while. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped with a dropping funnel over about 1 hour. After completion of the dropwise addition, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
[0171]
To this reaction mixture, 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water with stirring, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to take out a precipitate, which was slurried with 500 ml of water, then the slurry was filtered, and the obtained solid was dried to dry a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide. Was obtained (yield 46.9 g).
[0172]
Next, in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser tube and a dropping funnel, 4.61 g (0.0192 mol) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide and 2.58 g (0.0258 mol) of ethyl methacrylate. , 0.80 g (0.015 mol) of acrylonitrile and 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while heating to 65 ° C. with a hot water bath. To this mixture, 0.15 g of “V-65” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C. To this reaction mixture was further added a mixture of 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, 2.58 g of methyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, N, N-dimethylacetamide and 0.15 g of “V-65”. It dropped by the dropping funnel over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture, cooled, and the resulting mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water. After stirring the mixture for 30 minutes, the precipitate was removed by filtration and dried. 15 g of a white solid was obtained.
It was 53,000 when the weight average molecular weight (polystyrene standard) of this specific copolymer 1 was measured by the gel permeation chromatography.
[0173]
[Evaluation of development latitude]
The obtained lithographic printing plate precursor was imaged in an image with a Trend setter manufactured by Creo at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm.
First, a lithographic printing plate precursor exposed under the above conditions was developed using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. charged with the following alkaline developer A, at a liquid temperature of 30 ° C., and developed for 20 seconds. .
Next, the processing was repeated while gradually diluting the developer with water. At this time, it was confirmed whether there was any stain or coloring caused by the recording layer remaining film with poor development. Further, the treatment was repeated while diluting with water, and the electric conductivity of the developer that could be developed was measured.
The results are shown in Table 6 below. Those having a large difference between the upper limit value and the lower limit value are evaluated as being excellent in development latitude.
[0174]

[0175]
[Table 6]

[0176]
From the results shown in Table 6, an excellent development latitude was realized by applying the infrared-sensitive composition of the present invention to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor.
[0177]
【The invention's effect】
According to the present invention, when used as an image forming layer of an original plate for lithographic printing, it is possible to provide an infrared-sensitive composition having excellent processability (development latitude) with a fatigue developer with reduced activity.

Claims (1)

(A) polyurethane resin,
(B) novolac resin,
(C) a photothermal conversion agent, and (A) a polyurethane resin is an infrared-sensitive composition having a diol represented by the following general formula (I) or (II) as a constituent component ,
(A) The polyurethane resin contains a substituent having an acidic hydrogen atom, and the content of the (A) polyurethane resin in the infrared-sensitive composition is 1 to 30% by weight in terms of solid content. An infrared-sensitive photosensitive composition characterized by the above.

In the formula, each R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 2 or more.