JP2003098516A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置及びその製造方法Info
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- JP2003098516A JP2003098516A JP2002227517A JP2002227517A JP2003098516A JP 2003098516 A JP2003098516 A JP 2003098516A JP 2002227517 A JP2002227517 A JP 2002227517A JP 2002227517 A JP2002227517 A JP 2002227517A JP 2003098516 A JP2003098516 A JP 2003098516A
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルタを有する液晶表示装置におい
て、表示領域の周縁にある外周部において充分な遮光性
を確保するとともに、表示領域における表示不良や表示
ムラを引き起こすことなく、しかも製造コストを低減で
きる新規の構造を提供する。 【解決手段】 対向基板２０上のカラーフィルタ２１の
形成は、表示領域Ｄのみでなく、外周部Ｅにおいても上
述の工程と同時に行われ、着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，
２１Ｂ’が形成される。ただし、これらの着色層２１
Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’の形成パターンは、表示領域
Ｄにおける着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの形成パター
ンとは異なり、より小さく形成される。一方、素子基板
１０上の外周部Ｅには、上記着色層に対応する位置に、
金属で形成された遮光層１４が形成される。
て、表示領域の周縁にある外周部において充分な遮光性
を確保するとともに、表示領域における表示不良や表示
ムラを引き起こすことなく、しかも製造コストを低減で
きる新規の構造を提供する。 【解決手段】 対向基板２０上のカラーフィルタ２１の
形成は、表示領域Ｄのみでなく、外周部Ｅにおいても上
述の工程と同時に行われ、着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，
２１Ｂ’が形成される。ただし、これらの着色層２１
Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’の形成パターンは、表示領域
Ｄにおける着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの形成パター
ンとは異なり、より小さく形成される。一方、素子基板
１０上の外周部Ｅには、上記着色層に対応する位置に、
金属で形成された遮光層１４が形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置及びそ
の製造方法に係り、特に、カラーフィルタを有する液晶
パネルの遮光構造に関する。
の製造方法に係り、特に、カラーフィルタを有する液晶
パネルの遮光構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種の液晶を挟持した液晶パネルは、２
枚の基板を貼り付けるシール材によって画成された液晶
封入領域の内部に液晶を注入して形成される。この液晶
パネルを平面的に眺めると、シール材によって画成され
た液晶封入領域があり、この液晶封入領域のほとんどが
多数の画素を配列した表示領域となっている。この表示
領域の外側には、上記シール材との間に周辺領域として
の外周部が存在し、表示画素の形成されていない領域と
なっている。
枚の基板を貼り付けるシール材によって画成された液晶
封入領域の内部に液晶を注入して形成される。この液晶
パネルを平面的に眺めると、シール材によって画成され
た液晶封入領域があり、この液晶封入領域のほとんどが
多数の画素を配列した表示領域となっている。この表示
領域の外側には、上記シール材との間に周辺領域として
の外周部が存在し、表示画素の形成されていない領域と
なっている。
【０００３】上記外周部は、光漏れを防止するために通
常何らかの方法で遮光される。図４に示すものはそのう
ちの一つの方法を採用した遮光構造を備えたものであ
る。２枚の基板１，２のうちの基板１の内面上に、レッ
ド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）の３色の着
色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが所定の配列パターンにて形成さ
れ、その間にブラックマトリクス層３ＢＭが形成されて
なるカラーフィルタ３が構成されている。
常何らかの方法で遮光される。図４に示すものはそのう
ちの一つの方法を採用した遮光構造を備えたものであ
る。２枚の基板１，２のうちの基板１の内面上に、レッ
ド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）の３色の着
色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが所定の配列パターンにて形成さ
れ、その間にブラックマトリクス層３ＢＭが形成されて
なるカラーフィルタ３が構成されている。
【０００４】カラーフィルタ３は表示領域Ｄから外周部
Ｅにまで伸びるように形成され、外周部Ｅは一体のブラ
ックマトリクス層３ａによって遮光されている。なお、
図４において、保護膜４は透明樹脂からなり、カラーフ
ィルタ３を保護するためのものである。また、透明電極
５及び６はＩＴＯから成る対向電極及び画素電極であ
り、液晶に電界を印加するためのものである。
Ｅにまで伸びるように形成され、外周部Ｅは一体のブラ
ックマトリクス層３ａによって遮光されている。なお、
図４において、保護膜４は透明樹脂からなり、カラーフ
ィルタ３を保護するためのものである。また、透明電極
５及び６はＩＴＯから成る対向電極及び画素電極であ
り、液晶に電界を印加するためのものである。
【０００５】同様に外周部Ｅを遮光した構造は図５にも
示されている。この構造では、カラーフィルタ３’は３
色の着色層３Ｒ’，３Ｇ’，３Ｂ’から構成されてい
る。各着色層の間には、３色の着色層を重ねることによ
って上記のブラックマトリクス層３ＢＭと同様の遮光部
３ＢＭ’が形成されている。この構造においては、外周
部Ｅは３色の着色層を重ねて形成した遮光部３ａ’によ
って遮光されている。
示されている。この構造では、カラーフィルタ３’は３
色の着色層３Ｒ’，３Ｇ’，３Ｂ’から構成されてい
る。各着色層の間には、３色の着色層を重ねることによ
って上記のブラックマトリクス層３ＢＭと同様の遮光部
３ＢＭ’が形成されている。この構造においては、外周
部Ｅは３色の着色層を重ねて形成した遮光部３ａ’によ
って遮光されている。
【０００６】図６にも外周部Ｅを遮光した別の構造を示
す。この構造においては、着色層３Ｒ”，３Ｇ”，３
Ｂ”を形成して成るカラーフィルタ３”を形成した基板
１に対して、基板２の上に金属層から成る遮光層７を着
色層の間の領域に対応させて形成し、その上に絶縁膜８
を介して透明電極６を形成している。この構造におい
て、外周部Ｅには、上記遮光層７と同時に形成された金
属層からなる遮光層９が形成される。
す。この構造においては、着色層３Ｒ”，３Ｇ”，３
Ｂ”を形成して成るカラーフィルタ３”を形成した基板
１に対して、基板２の上に金属層から成る遮光層７を着
色層の間の領域に対応させて形成し、その上に絶縁膜８
を介して透明電極６を形成している。この構造におい
て、外周部Ｅには、上記遮光層７と同時に形成された金
属層からなる遮光層９が形成される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記図
４に示す構造においては、カラーフィルタ３を３色の着
色層とブラックマトリクス層との計４層のパターニング
によって形成しているため、工数が多くなり、製造コス
トが高くなるとともに、製品の歩留りが低下するという
問題点がある。
４に示す構造においては、カラーフィルタ３を３色の着
色層とブラックマトリクス層との計４層のパターニング
によって形成しているため、工数が多くなり、製造コス
トが高くなるとともに、製品の歩留りが低下するという
問題点がある。
【０００８】また、図５に示す構造においては、カラー
フィルタ３’を３層のパターニングによって形成するこ
とができるため、図４に示す構造と較べて低コストで製
造できる。その一方で、表示領域Ｄにおける３つの着色
層を積層した遮光部３ＢＭ’の厚さよりも、外周部Ｅに
おける遮光部３ａ’の厚さの方が厚くなる。つまり、遮
光部３ＢＭ’の幅は高々５０μｍ程度であるが、遮光部
３ａ’の幅は数百μｍ以上になるため、同様のパターニ
ングにて形成しても、遮光部３ａ’の厚さは遮光部３Ｂ
Ｍ’の厚さの３割以上大きくなるのである。このため
に、外周部Ｅのセルギャップが小さくなり、ここに図中
点線で示すようにスペーサＳが入り込むと外周部Ｅのセ
ル厚が表示領域Ｄよりも大きくなり、この外周部Ｅにお
けるセル厚さの変化が表示領域Ｄの周縁部にも影響し、
表示不良や表示ムラが発生するという問題点がある。
フィルタ３’を３層のパターニングによって形成するこ
とができるため、図４に示す構造と較べて低コストで製
造できる。その一方で、表示領域Ｄにおける３つの着色
層を積層した遮光部３ＢＭ’の厚さよりも、外周部Ｅに
おける遮光部３ａ’の厚さの方が厚くなる。つまり、遮
光部３ＢＭ’の幅は高々５０μｍ程度であるが、遮光部
３ａ’の幅は数百μｍ以上になるため、同様のパターニ
ングにて形成しても、遮光部３ａ’の厚さは遮光部３Ｂ
Ｍ’の厚さの３割以上大きくなるのである。このため
に、外周部Ｅのセルギャップが小さくなり、ここに図中
点線で示すようにスペーサＳが入り込むと外周部Ｅのセ
ル厚が表示領域Ｄよりも大きくなり、この外周部Ｅにお
けるセル厚さの変化が表示領域Ｄの周縁部にも影響し、
表示不良や表示ムラが発生するという問題点がある。
【０００９】さらに、図６に示す構造においては、基板
２の方に遮光層７，９を形成しているために上記の図４
及び図５の構造のような欠点はないものの、薄い金属層
では遮光性が十分でない場合が多いとともに、２枚の基
板１と２の間の組ずれによって遮光不良が発生する恐れ
がある。
２の方に遮光層７，９を形成しているために上記の図４
及び図５の構造のような欠点はないものの、薄い金属層
では遮光性が十分でない場合が多いとともに、２枚の基
板１と２の間の組ずれによって遮光不良が発生する恐れ
がある。
【００１０】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、表示領域の周縁にある外周部にお
いて充分な遮光性を確保するとともに、表示領域におけ
る表示不良や表示ムラを引き起こすことなく、しかも製
造コストを低減できる新規の構造を提供することにあ
る。
であり、その課題は、表示領域の周縁にある外周部にお
いて充分な遮光性を確保するとともに、表示領域におけ
る表示不良や表示ムラを引き起こすことなく、しかも製
造コストを低減できる新規の構造を提供することにあ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が講じた手段は、第１の基板と第２の基板の間
に液晶層を配置して構成された液晶パネルを有し、該液
晶パネルの表示領域の周囲に表示に寄与しない外周部を
備え、前記第１の基板上に異なる色調を呈する複数種類
の着色層を含むカラーフィルタを備えた液晶表示装置に
おいて、前記第１の基板には、前記表示領域から前記外
周部に連続して前記カラーフィルタを形成するととも
に、前記第２の基板には、前記第１の基板上の前記外周
部における透光性領域に対応した位置に形成された遮光
層を有することを特徴とする。
に本発明が講じた手段は、第１の基板と第２の基板の間
に液晶層を配置して構成された液晶パネルを有し、該液
晶パネルの表示領域の周囲に表示に寄与しない外周部を
備え、前記第１の基板上に異なる色調を呈する複数種類
の着色層を含むカラーフィルタを備えた液晶表示装置に
おいて、前記第１の基板には、前記表示領域から前記外
周部に連続して前記カラーフィルタを形成するととも
に、前記第２の基板には、前記第１の基板上の前記外周
部における透光性領域に対応した位置に形成された遮光
層を有することを特徴とする。
【００１２】この手段によれば、第１の基板にはカラー
フィルタを外周部にまで形成するとともに、第２の基板
にはカラーフィルタの透光性領域に対応した位置に遮光
層を形成するため、カラーフィルタと遮光層とによって
２重に遮光され、従来よりも完全に遮光を行うことがで
きる。また、第１の基板の製造に関しては、カラーフィ
ルタの形成領域を外周部にまで拡大するだけでよいため
に工数が増加することはなく、第２の基板の製造に関し
ては、配線層や電極層等の他の工程と同時に遮光層を形
成することができるため、製造コストの上昇を抑制する
ことが可能である。
フィルタを外周部にまで形成するとともに、第２の基板
にはカラーフィルタの透光性領域に対応した位置に遮光
層を形成するため、カラーフィルタと遮光層とによって
２重に遮光され、従来よりも完全に遮光を行うことがで
きる。また、第１の基板の製造に関しては、カラーフィ
ルタの形成領域を外周部にまで拡大するだけでよいため
に工数が増加することはなく、第２の基板の製造に関し
ては、配線層や電極層等の他の工程と同時に遮光層を形
成することができるため、製造コストの上昇を抑制する
ことが可能である。
【００１３】ここで、前記カラーフィルタは、前記着色
層の間を遮光するための遮光部を備えており、前記遮光
層は、前記着色層の形成位置に対応して形成されている
ことが好ましい。
層の間を遮光するための遮光部を備えており、前記遮光
層は、前記着色層の形成位置に対応して形成されている
ことが好ましい。
【００１４】この手段によれば、カラーフィルタにおけ
る着色層の間には遮光部が設けられているため、カラー
フィルタの透光性領域は着色層となり、第２の基板に形
成される遮光層は着色層の形成位置に対応して形成すれ
ば充分な遮光を行うことができる。
る着色層の間には遮光部が設けられているため、カラー
フィルタの透光性領域は着色層となり、第２の基板に形
成される遮光層は着色層の形成位置に対応して形成すれ
ば充分な遮光を行うことができる。
【００１５】なお、上記の場合、カラーフィルタの透光
性領域よりも遮光層の大きさを大きく形成しておくこと
が、確実な遮光を行う点でより好ましい。着色層の間に
遮光部が形成されている場合には、着色層の面積を遮光
層が完全にカバーし、さらにそのカバー範囲の周囲に余
裕を以て遮光層が形成されていることが好ましい。
性領域よりも遮光層の大きさを大きく形成しておくこと
が、確実な遮光を行う点でより好ましい。着色層の間に
遮光部が形成されている場合には、着色層の面積を遮光
層が完全にカバーし、さらにそのカバー範囲の周囲に余
裕を以て遮光層が形成されていることが好ましい。
【００１６】この場合にはまた、前記カラーフィルタ
は、前記外周部において前記表示領域よりも前記着色層
の透光面積を縮小し、前記遮光部の遮光面積を増大させ
るように構成されていることが望ましい。
は、前記外周部において前記表示領域よりも前記着色層
の透光面積を縮小し、前記遮光部の遮光面積を増大させ
るように構成されていることが望ましい。
【００１７】この手段によれば、着色層の透光面積が小
さくなるため、第２の基板に形成された遮光層は着色層
を完全にカバーしてさらに周囲に余裕を以て形成されて
いることとなるため、確実に遮光することができ、基板
間の組ズレ等に起因する光漏れを防止することができ
る。
さくなるため、第２の基板に形成された遮光層は着色層
を完全にカバーしてさらに周囲に余裕を以て形成されて
いることとなるため、確実に遮光することができ、基板
間の組ズレ等に起因する光漏れを防止することができ
る。
【００１８】さらに、前記遮光部は異なる色調の前記着
色層を積層することによって構成されている場合があ
る。
色層を積層することによって構成されている場合があ
る。
【００１９】この場合には、第２の基板にカラーフィル
タを形成する際に、遮光部のみを形成する工程を不要と
することができるため、工数を削減することができる。
タを形成する際に、遮光部のみを形成する工程を不要と
することができるため、工数を削減することができる。
【００２０】次に、第１の基板と第２の基板の間に液晶
層を配置して構成された液晶パネルを有し、該液晶パネ
ルの表示領域の周囲に表示に寄与しない外周部を備え、
前記第１の基板上に異なる色調を呈する複数種類の着色
層を含むカラーフィルタを備えた液晶表示装置の製造方
法においては、前記第１の基板には、前記表示領域と同
時に前記外周部にも前記カラーフィルタを形成し、前記
第２の基板には、前記外周部における前記カラーフィル
タの透光性領域に対応した位置に遮光層を形成するもの
である。
層を配置して構成された液晶パネルを有し、該液晶パネ
ルの表示領域の周囲に表示に寄与しない外周部を備え、
前記第１の基板上に異なる色調を呈する複数種類の着色
層を含むカラーフィルタを備えた液晶表示装置の製造方
法においては、前記第１の基板には、前記表示領域と同
時に前記外周部にも前記カラーフィルタを形成し、前記
第２の基板には、前記外周部における前記カラーフィル
タの透光性領域に対応した位置に遮光層を形成するもの
である。
【００２１】ここで、前記遮光層を、前記他方の基板上
に形成される金属層の形成と同時に同一材料で形成する
ことが好ましい。
に形成される金属層の形成と同時に同一材料で形成する
ことが好ましい。
【００２２】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る液晶表示装置及びその製造方法の実施形態につい
て説明する。本実施形態はＴＮ型液晶を用い、ＭＩＭ
（金属−絶縁体−金属）素子を画素毎に備えたアクティ
ブマトリクス形式の透過型液晶表示装置について本発明
を適用した例である。なお、本発明はこのようなタイプ
の装置に限らず、ＴＦＴ等の他のアクティブ素子を用い
たもの、パッシブマトリクス型その他の駆動形式を有す
るもの、反射型液晶表示装置など、種々の液晶表示装置
に対して、カラーフィルタを備えた液晶表示装置であり
さえすれば広く適用できるものである。
に係る液晶表示装置及びその製造方法の実施形態につい
て説明する。本実施形態はＴＮ型液晶を用い、ＭＩＭ
（金属−絶縁体−金属）素子を画素毎に備えたアクティ
ブマトリクス形式の透過型液晶表示装置について本発明
を適用した例である。なお、本発明はこのようなタイプ
の装置に限らず、ＴＦＴ等の他のアクティブ素子を用い
たもの、パッシブマトリクス型その他の駆動形式を有す
るもの、反射型液晶表示装置など、種々の液晶表示装置
に対して、カラーフィルタを備えた液晶表示装置であり
さえすれば広く適用できるものである。
【００２３】図１は本実施形態における断面構造を示す
ものである。ガラス製の素子基板１０の表示領域Ｄ内に
おける表面上には、Ｔａ等からなる複数の金属配線１１
が並列して配置されるようにパターニングされる。この
金属配線１１に対して、Ｔａの陽極酸化膜等から成る絶
縁膜を介してＣｒ等からなる対向電極を形成することに
よって構成されたＭＩＭ素子１２が接続されている。Ｍ
ＩＭ素子１２にはＩＴＯから成る透明電極１３が接続さ
れる。この透明電極１３は、所定の画素領域に対応した
平面矩形の電極である。
ものである。ガラス製の素子基板１０の表示領域Ｄ内に
おける表面上には、Ｔａ等からなる複数の金属配線１１
が並列して配置されるようにパターニングされる。この
金属配線１１に対して、Ｔａの陽極酸化膜等から成る絶
縁膜を介してＣｒ等からなる対向電極を形成することに
よって構成されたＭＩＭ素子１２が接続されている。Ｍ
ＩＭ素子１２にはＩＴＯから成る透明電極１３が接続さ
れる。この透明電極１３は、所定の画素領域に対応した
平面矩形の電極である。
【００２４】一方、対向基板２０の表示領域Ｄにおける
内面上には、例えばレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）又は
ブルー（Ｂ）に対応した顔料を含む有機溶媒と感光性樹
脂とからなる着色レジスト液をスピンコート法によって
塗布し、露光、現像工程を経てパターニングされた厚さ
０．８〜１．５μｍ程度の着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２１
Ｂが形成される。この着色層製造工程は、上記３色の着
色層を順次フォトリソグラフィ法によってパターン形成
していくことによって実施される。
内面上には、例えばレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）又は
ブルー（Ｂ）に対応した顔料を含む有機溶媒と感光性樹
脂とからなる着色レジスト液をスピンコート法によって
塗布し、露光、現像工程を経てパターニングされた厚さ
０．８〜１．５μｍ程度の着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２１
Ｂが形成される。この着色層製造工程は、上記３色の着
色層を順次フォトリソグラフィ法によってパターン形成
していくことによって実施される。
【００２５】上記着色層のパターニングによって、各画
素領域においては上記３色の着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２
１Ｂのうちのいずれかが１層のみ形成されており、ま
た、画素領域の境界部分では、３色の着色層が全て積層
されて遮光部２１ＢＭを構成している。
素領域においては上記３色の着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２
１Ｂのうちのいずれかが１層のみ形成されており、ま
た、画素領域の境界部分では、３色の着色層が全て積層
されて遮光部２１ＢＭを構成している。
【００２６】これらの着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの
表面上には、アクリル系光硬化型樹脂が塗布され、２０
０ｍＪの紫外線照射によって硬化させ、その後、約１８
０℃で約１時間の焼成を行うことによって保護膜２２を
形成する。この保護膜２２の上には、ストライプ状のＩ
ＴＯから成る透明電極２３をスパッタリングとパターニ
ングによって形成する。
表面上には、アクリル系光硬化型樹脂が塗布され、２０
０ｍＪの紫外線照射によって硬化させ、その後、約１８
０℃で約１時間の焼成を行うことによって保護膜２２を
形成する。この保護膜２２の上には、ストライプ状のＩ
ＴＯから成る透明電極２３をスパッタリングとパターニ
ングによって形成する。
【００２７】なお、上記素子基板１０と対向基板２０と
は、それぞれに上記構造を形成した後に、シール材３１
によって液晶封入領域を形成した状態で相互に貼り合わ
されれ、セル厚が５μｍ程度になるように形成される。
そして、その液晶封入領域に液晶が注入されることによ
って液晶層３０が形成される。また、必要に応じて素子
基板１０及び対向基板２０には偏光板が貼着される。
は、それぞれに上記構造を形成した後に、シール材３１
によって液晶封入領域を形成した状態で相互に貼り合わ
されれ、セル厚が５μｍ程度になるように形成される。
そして、その液晶封入領域に液晶が注入されることによ
って液晶層３０が形成される。また、必要に応じて素子
基板１０及び対向基板２０には偏光板が貼着される。
【００２８】上記カラーフィルタ２１、保護膜２２及び
透明電極２３の形成は、表示領域Ｄのみでなく、外周部
Ｅにおいても上述の工程と同時に行われ、着色層２１
Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’が形成される。ただし、これ
らの着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’の形成パター
ンは、図２にも示すように、着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２
１Ｂの形成パターンとは異なっている。
透明電極２３の形成は、表示領域Ｄのみでなく、外周部
Ｅにおいても上述の工程と同時に行われ、着色層２１
Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’が形成される。ただし、これ
らの着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’の形成パター
ンは、図２にも示すように、着色層２１Ｒ，２１Ｇ，２
１Ｂの形成パターンとは異なっている。
【００２９】すなわち、着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，２
１Ｂ’の形成周期は表示領域Ｄに形成された着色層２１
Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂと同様であるが、形成面積は着色層
２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂよりも小さく形成される。その
結果、外周部Ｅにおける３層に積層されてなる遮光部２
１ＢＭ’は、着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’の形
成面積の減少を補うように表示領域Ｄにおける遮光部２
１ＢＭよりも広い面積となるように形成されている。例
えば、本実施形態においては、表示領域Ｄでは着色層の
幅は１００μｍで、遮光部の幅が５０μｍであるとする
と、外周部Ｅでは着色層の幅は８０μｍで、遮光部の幅
は７０μｍとなる。
１Ｂ’の形成周期は表示領域Ｄに形成された着色層２１
Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂと同様であるが、形成面積は着色層
２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂよりも小さく形成される。その
結果、外周部Ｅにおける３層に積層されてなる遮光部２
１ＢＭ’は、着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’の形
成面積の減少を補うように表示領域Ｄにおける遮光部２
１ＢＭよりも広い面積となるように形成されている。例
えば、本実施形態においては、表示領域Ｄでは着色層の
幅は１００μｍで、遮光部の幅が５０μｍであるとする
と、外周部Ｅでは着色層の幅は８０μｍで、遮光部の幅
は７０μｍとなる。
【００３０】外周部Ｅには、素子基板１０の表面上に金
属膜で形成された遮光層１４が図３に示すような平面パ
ターン、すなわち、表示領域Ｄにおける透明電極１３と
ほぼ同様の配列周期で、かつ、透明電極とほぼ同面積に
形成されている。この遮光層１４は、例えばＭＩＭ素子
１２を形成する際に必要なＴａからなる金属配線１１や
Ｃｒからなる電極層と同時に同材質で形成されることが
好ましい。これは、パターニング時のパターンを変える
だけでほとんど製造コストの上昇を招くことなく形成で
きるからである。
属膜で形成された遮光層１４が図３に示すような平面パ
ターン、すなわち、表示領域Ｄにおける透明電極１３と
ほぼ同様の配列周期で、かつ、透明電極とほぼ同面積に
形成されている。この遮光層１４は、例えばＭＩＭ素子
１２を形成する際に必要なＴａからなる金属配線１１や
Ｃｒからなる電極層と同時に同材質で形成されることが
好ましい。これは、パターニング時のパターンを変える
だけでほとんど製造コストの上昇を招くことなく形成で
きるからである。
【００３１】この実施形態によれば、図１に示すよう
に、外周部Ｅにおける積層された遮光部２１ＢＭ’を挟
んで形成された着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’に
対向する素子基板上の位置に、遮光層１４が形成されて
いるため、素子基板１０に形成された着色層２１Ｒ’，
２１Ｇ’，２１Ｂ’及び積層された遮光部２１ＢＭ’
と、対向基板２０に形成された遮光層１４とによって完
全に遮光を行うことができる。
に、外周部Ｅにおける積層された遮光部２１ＢＭ’を挟
んで形成された着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’に
対向する素子基板上の位置に、遮光層１４が形成されて
いるため、素子基板１０に形成された着色層２１Ｒ’，
２１Ｇ’，２１Ｂ’及び積層された遮光部２１ＢＭ’
と、対向基板２０に形成された遮光層１４とによって完
全に遮光を行うことができる。
【００３２】ここで、外周部Ｅの着色層２１Ｒ’，２１
Ｇ’，２１Ｂ’は表示領域Ｄよりも小さく形成されてい
るとともに、表示領域Ｄよりも広い遮光部２１ＢＭ’に
より取り囲まれており、一方、素子基板１０上には透明
電極１３と同等の面積を有する遮光層１４が形成されて
いるため、カラーフィルタ２１の透光性領域よりも遮光
層１４が大きく余裕を以て形成されていることとなるか
ら、光漏れを起こす恐れがなく、基板の組ズレによる不
具合もない。
Ｇ’，２１Ｂ’は表示領域Ｄよりも小さく形成されてい
るとともに、表示領域Ｄよりも広い遮光部２１ＢＭ’に
より取り囲まれており、一方、素子基板１０上には透明
電極１３と同等の面積を有する遮光層１４が形成されて
いるため、カラーフィルタ２１の透光性領域よりも遮光
層１４が大きく余裕を以て形成されていることとなるか
ら、光漏れを起こす恐れがなく、基板の組ズレによる不
具合もない。
【００３３】本実施形態では、着色層と遮光層とによっ
て２重に遮光されているので、完全な遮光を行うことが
できるとともに、従来の工程に付加する製造工程も不要
であり、低コストに形成できる。また、外周部の着色層
を小さく形成することによって遮光構造の寸法に余裕が
生じ、光漏れを起こす恐れもなく、確実に遮光を行うこ
とができる。
て２重に遮光されているので、完全な遮光を行うことが
できるとともに、従来の工程に付加する製造工程も不要
であり、低コストに形成できる。また、外周部の着色層
を小さく形成することによって遮光構造の寸法に余裕が
生じ、光漏れを起こす恐れもなく、確実に遮光を行うこ
とができる。
【００３４】なお、上記外周部に形成される遮光層は、
カラーフィルタの透光性領域以外の部分をもカバーする
ように広く形成されていてもよく、例えば、外周部の複
数（若しくはほぼ全ての）の着色層に亘って連続的に形
成されていてもよい。但し、表示領域Ｄからの配線層の
引き出し領域を確保するとともに、浮遊容量の発生や電
気的短絡の発生を抑制するには、上記のように着色層の
一つ一つに対応した遮光層が形成されている方が好まし
い。
カラーフィルタの透光性領域以外の部分をもカバーする
ように広く形成されていてもよく、例えば、外周部の複
数（若しくはほぼ全ての）の着色層に亘って連続的に形
成されていてもよい。但し、表示領域Ｄからの配線層の
引き出し領域を確保するとともに、浮遊容量の発生や電
気的短絡の発生を抑制するには、上記のように着色層の
一つ一つに対応した遮光層が形成されている方が好まし
い。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば以下
の効果を奏する。
の効果を奏する。
【００３６】請求項１、請求項５又は請求項６によれ
ば、第１の基板にはカラーフィルタを外周部にまで形成
するとともに、第２の基板にはカラーフィルタの透光性
領域に対応した位置に遮光層を形成するため、カラーフ
ィルタと遮光層とによって２重に遮光され、従来よりも
完全に遮光を行うことができる。また、第１の基板の製
造に関しては、カラーフィルタの形成領域を外周部にま
で拡大するだけでよいために工数が増加することはな
く、第２の基板の製造に関しては、遮光層を配線層や電
極層等の他の工程と同時に形成することができるため、
製造コストの上昇を抑制することが可能である。
ば、第１の基板にはカラーフィルタを外周部にまで形成
するとともに、第２の基板にはカラーフィルタの透光性
領域に対応した位置に遮光層を形成するため、カラーフ
ィルタと遮光層とによって２重に遮光され、従来よりも
完全に遮光を行うことができる。また、第１の基板の製
造に関しては、カラーフィルタの形成領域を外周部にま
で拡大するだけでよいために工数が増加することはな
く、第２の基板の製造に関しては、遮光層を配線層や電
極層等の他の工程と同時に形成することができるため、
製造コストの上昇を抑制することが可能である。
【００３７】請求項２によれば、カラーフィルタにおけ
る着色層の間には遮光部が設けられているため、カラー
フィルタの透光性領域は着色層となり、第２の基板に形
成される遮光層は着色層の形成位置に対応して形成すれ
ば充分な遮光を行うことができる。
る着色層の間には遮光部が設けられているため、カラー
フィルタの透光性領域は着色層となり、第２の基板に形
成される遮光層は着色層の形成位置に対応して形成すれ
ば充分な遮光を行うことができる。
【００３８】請求項３によれば、着色層の透光面積が小
さくなるため、第２の基板に形成された遮光層は着色層
を完全にカバーしてさらに周囲に余裕を以て形成されて
いることとなるため、確実に遮光することができ、基板
間の組ズレ等に起因する光漏れを防止することができ
る。
さくなるため、第２の基板に形成された遮光層は着色層
を完全にカバーしてさらに周囲に余裕を以て形成されて
いることとなるため、確実に遮光することができ、基板
間の組ズレ等に起因する光漏れを防止することができ
る。
【００３９】請求項４によれば、第２の基板にカラーフ
ィルタを形成する際に遮光部のみを形成する工程を不要
とすることができるため、工数を削減することができ
る。
ィルタを形成する際に遮光部のみを形成する工程を不要
とすることができるため、工数を削減することができ
る。
【図１】本発明に係る液晶表示装置の実施形態の構造を
示す縦断面図である。
示す縦断面図である。
【図２】同実施形態における対向基板上の着色層の配置
及び形状を示す概略平面図である。
及び形状を示す概略平面図である。
【図３】同実施形態における素子基板上の透明電極及び
遮光層の配置及び形状を示す概略平面図である。
遮光層の配置及び形状を示す概略平面図である。
【図４】従来の遮光構造を示す概略断面図である。
【図５】従来の別の遮光構造を示す概略断面図である。
【図６】従来のさらに別の遮光構造を示す概略断面図で
ある。
ある。
１０ 素子基板
１３ 透明電極
１４ 遮光層
２０ 対向基板
２１ カラーフィルタ
２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ 着色層（表示領域Ｄの）
２１ＢＭ 遮光部（表示領域Ｄの）
２１Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’ 着色層（外周部Ｅの）
２１ＢＭ’ 遮光部（外周部Ｅの）
２２ 保護膜
２３ 透明電極
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０９Ｆ 9/35 Ｇ０９Ｆ 9/35
Ｆターム(参考） 2H042 AA09 AA26
2H048 BA02 BA11 BA45 BB01 BB02
BB08 BB42
2H091 FA02Y FA34Y FD04 FD21
GA01 LA16 LA30
5C094 AA03 AA08 AA43 AA48 BA03
BA43 CA19 CA24 DA13 EB02
ED03 ED15
Claims (6)
- 【請求項１】 第１の基板と第２の基板の間に液晶層を
配置して構成された液晶パネルを有し、該液晶パネルの
表示領域の周囲に表示に寄与しない外周部を備え、前記
第１の基板上に異なる色調を呈する複数種類の着色層を
含むカラーフィルタを備えた液晶表示装置において、 前記第１の基板には、前記表示領域から前記外周部に連
続して前記カラーフィルタを形成するとともに、前記第
２の基板には、前記第１の基板上の前記外周部における
透光性領域に対応した位置に形成された遮光層を有する
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記カラーフィルタ
は、前記着色層の間を遮光するための遮光部を備えてお
り、前記遮光層は、前記着色層の形成位置に対応して形
成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項３】 請求項２において、前記カラーフィルタ
は、前記外周部において前記表示領域よりも前記着色層
の透光面積を縮小し、前記遮光部の遮光面積を増大させ
るように構成されていることを特徴とする液晶表示装
置。 - 【請求項４】 請求項２又は請求項３において、前記遮
光部は異なる色調の前記着色層を積層することによって
構成されている液晶表示装置。 - 【請求項５】 第１の基板と第２の基板の間に液晶層を
配置して構成された液晶パネルを有し、該液晶パネルの
表示領域の周囲に表示に寄与しない外周部を備え、前記
第１の基板上に異なる色調を呈する複数種類の着色層を
含むカラーフィルタを備えた液晶表示装置の製造方法に
おいて、 前記第１の基板には、前記表示領域と同時に前記外周部
にも前記カラーフィルタを形成し、前記第２の基板に
は、前記外周部における前記カラーフィルタの透光性領
域に対応した位置に遮光層を形成することを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項６】 請求項５において、前記遮光層を、前記
他方の基板上に形成される金属層の形成と同時に同一材
料で形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002227517A JP3541843B2 (ja) | 2002-08-05 | 2002-08-05 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002227517A JP3541843B2 (ja) | 2002-08-05 | 2002-08-05 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22255696A Division JP3367346B2 (ja) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003098516A true JP2003098516A (ja) | 2003-04-03 |
| JP3541843B2 JP3541843B2 (ja) | 2004-07-14 |
Family
ID=19196210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002227517A Expired - Lifetime JP3541843B2 (ja) | 2002-08-05 | 2002-08-05 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3541843B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006267334A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Sanyo Epson Imaging Devices Corp | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 |
-
2002
- 2002-08-05 JP JP2002227517A patent/JP3541843B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006267334A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Sanyo Epson Imaging Devices Corp | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 |
| JP4557221B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2010-10-06 | ソニー株式会社 | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3541843B2 (ja) | 2004-07-14 |
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