JP2003091078A - 感光性平版印刷版用アルカリ現像処理液及び平版印刷版の製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光性平版印刷版の現像にあたって非画像部
に残膜を生じないようにして、且つ画像部に欠陥を与え
ることなく、高鮮鋭で鮮明な画像を形成し得、感光層成
分が溶け込んでも、一定の性能を発揮することができる
感光性平版印刷版用アルカリ現像処理液を提供する。 【解決手段】 ノニオン界面活性剤又はアルキレンオキ
シド付加化合物、並びに元素周期律表の第２族、第３
族、第４族、第５族、第６族、第７族、第８族、第９
族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、第１４
族及び１５族から選ばれる金属の塩類を含有することを
特徴とする、赤外線感光性平版印刷版用アルカリ現像処
理液；赤外線吸収剤を含む画像形成層を有する赤外線感
光性平版印刷版を赤外線露光後、上記アルカリ現像処理
液で現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
デジタル信号に基づき、赤外線レーザー走査により直接
製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版
原版のアルカリ現像用の現像処理液に関する。本発明は
さらに、該現像処理液を使用する平版印刷版の製版方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、レーザーの発展はめざましく、特
に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザー、半導
体レーザーは、高出力かつ小型のものが容易に入手でき
るようになっており、このデジタルデータから直接製版
するシステムの露光光源として、これらのレーザーは非
常に有用である。レーザー書き込みに適する画像記録材
料として、例えば特開平７−２８５２７５号公報にはク
レゾール樹脂のような結着剤と、光を吸収して熱を発生
する物質と、キノンジアジドのような熱分解性であっ
て、且つ分解前の状態では前記結着剤の溶解性を実質的
に低下させうる化合物とを含有するポジ型の画像記録材
料が提案されている。これは、赤外線照射により露光部
分において前記光を吸収して熱を発生する物質が発熱
し、露光部分をアルカリ可溶性にするもの（ヒートモー
ド型）であるが、支持体であるアルミニウムに吸熱され
てしまうため熱効率が低く、現像工程におけるアルカリ
現像処理液に対する溶解性は満足のいくものではなかっ
た。このため、現像液のアルカリ濃度を上げ、露光部分
の溶解性を確保してきた。

【０００３】ところが、ヒートモード型の平版印刷版原
版は、上記のような高濃度のアルカリ条件下では画像部
のアルカリ現像処理液に対する耐溶解性が低く、画像記
録材料表面に僅かに傷があるだけで溶解され、画像部に
欠陥を生ずるなどの問題があった。特に、アルカリ水溶
液に対して可溶性の高い高分子化合物を使用するポジ型
の平版印刷版原版において、その傾向はより顕著であっ
た。従って、非画像部に残膜が生じないようにアルカリ
現像液のアルカリ濃度を上げるには限度があり、形成し
た画像部に欠陥を与えることなく、高鮮鋭で鮮明な画像
を形成するのは困難であった。特に、ドット部や細線な
どを含む精細な画像において、その高鮮鋭化、再現性の
向上が要求されている。そのため、現像液に各種界面活
性剤を添加することが検討されており、画像の高鮮鋭化
に関してある程度の向上が得られている。しかしなが
ら、現像液中への感光層成分の溶け込みによって、その
性能が減少することが問題となっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来におけ
る諸問題を解決し、感光性平版印刷版の現像にあたって
非画像部に残膜を生じないようにして、且つ画像部に欠
陥を与えることなく、高鮮鋭で鮮明な画像を形成し得、
感光層成分が溶け込んでも、一定の性能を発揮すること
ができる感光性平版印刷版用アルカリ現像処理液を提供
することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、特定の化合物と特定の金属の塩類とを現像
処理液に含有させることにより、上記課題を達成しうる
ことを見出し、本発明を完成させるに至った。従って本
発明は、ノニオン界面活性剤又はアルキレンオキシド付
加化合物、並びに元素周期律表の第２族、第３族、第４
族、第５族、第６族、第７族、第８族、第９族、第１０
族、第１１族、第１２族、第１３族、第１４族及び１５
族から選ばれる金属の塩類を含有することを特徴とす
る、赤外線感光性平版印刷版用アルカリ現像処理液であ
る。本発明はさらに、赤外線吸収剤を含む画像形成層を
有する赤外線感光性平版印刷版を赤外線露光後、上記の
アルカリ現像処理液で現像することを特徴とする平版印
刷版の製版方法に向けられている。

【０００６】本発明のアルカリ現像処理液を用いる製版
方法について概略すると次のとおりである。平版印刷版
原版として、支持体上に少なくとも赤外線吸収剤を含有
する画像形成層を有する平版印刷版原版を用い、該平版
印刷版原版にデジタルデータに基づき赤外線レーザーを
照射して所望の画像様に露光すると、前記赤外線吸収剤
によりレーザー光が効率よく吸収され、次の過程を通じ
て画像が形成される。すなわち、ポジ型の平版印刷版原
版の場合には、露光による吸収エネルギーの蓄積により
露光部分のみが発熱してアルカリ水に可溶性となり、本
発明のアルカリ現像処理液を用いた現像処理により、露
光部のみが除去されて所望の画像が形成され、ネガ型の
平版印刷版原版の場合には、露光による吸収エネルギー
の蓄積により露光部分のみが発熱して酸を発生すると、
この酸により共存する架橋剤が架橋反応を起こし、露光
部のみがアルカリ水に不溶性となって像を形成する一
方、非露光部では本発明のアルカリ現像処理液を用いた
現像処理により除去されて、所望の画像が形成される。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明のアルカリ現像処理液につ
いて説明する。現像処理に用いるアルカリ現像処理液
（以下、単に「現像液」ともいう。）はアルカリ性の水
溶液であって、従来公知のアルカリ水溶液の中から適宜
選択することができる。アルカリ水溶液としては、ケイ
酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基とからなる現像液
が挙げられ、特にｐＨ１2.５〜１4.０のものが好まし
い。前記ケイ酸アルカリとしては、水に溶解したときに
アルカリ性を示すものであり、例えばケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどのアルカリ金
属ケイ酸塩、ケイ酸アンモニウムなどが挙げられる。ケ
イ酸アルカリは１種単独でも、２種以上を組み合わせて
用いてもよい。

【０００８】上記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素ＳｉＯ₂とアルカリ酸化物Ｍ₂Ｏ（Ｍはア
ルカリ金属又はアンモニウム基を表す。）との混合比
率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節するこ
とができる。前記アルカリ水溶液の中でも、前記酸化ケ
イ素ＳｉＯ₂とアルカリ酸化物Ｍ₂Ｏとの混合比率（Ｓｉ
Ｏ₂／Ｍ₂Ｏ：モル比）が0.５〜3.０のものが好ましく、
1.０〜2.０のものがより好ましい。前記ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ
が0.５未満であると、アルカリ強度が強くなっていくた
め、平版印刷版原版の支持体として汎用のアルミニウム
板などをエッチングしてしまうといった弊害を生ずるこ
とがあり、3.０を超えると、現像性が低下することがあ
る。

【０００９】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の質量に対して１〜１０質量％
が好ましく、３〜８質量％がより好ましく、４〜７質量
％が最も好ましい。この濃度が１質量％未満であると現
像性、処理能力が低下することがあり、１０質量％を超
えると沈澱や結晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の
中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支障をきた
すことがある。

【００１０】非還元糖と塩基を含む現像液において、非
還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持たない
ために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同士の結
合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が
結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖アルコ
ールに分類される。本発明ではこれらのいずれも好適に
用いることができる。トレハロース型少糖類としては、
例えばサッカロースやトレハロースが挙げられ、前記配
糖体としては、例えばアルキル配糖体、フェノール配糖
体、カラシ油配糖体などが挙げられる。糖アルコールと
しては、例えばＤ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリ
ット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，
Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシット、アロズ
ルシットなどが挙げられる。さらには、二糖類の水素添
加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得ら
れる還元体（還元水あめ）なども好適に挙げることがで
きる。

【００１１】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、Ｄ−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが適度なｐＨ領域に
緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖は
単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.１〜３０質量％が好ましく、１
〜２０質量％がより好ましい。

【００１２】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を従来公知の物の中から適宜
選択して組み合わせることができる。該アルカリ剤とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無
機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウ
ム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。

【００１３】さらにモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も好適に
挙げることができる。これらのアルカリ剤は単独で用い
ても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由
は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広
いｐＨ領域においてｐＨ調整が可能となるためである。
また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があ
るので好ましい。

【００１４】本発明の感光性平版印刷版用アルカリ現像
処理液は、上述のようなアルカリ水溶液中に、ノニオン
界面活性剤又はアルキレンオキシド付加化合物を含有さ
せる。 [ノニオン界面活性剤]例えば以下の式で表されるポリエ
チレングリコール型ノニオン界面活性剤が挙げられる。

【００１５】 Ｒ₁′−Ｏ−（Ｒ₂′−Ｏ）_nＨ （Ｉ） 式中、Ｒ₁′は、水素原子（ただしＲ₂′が炭素原子数３
以上のアルキレン基を表すときのみ）、置換基を有して
もよい炭素原子数１〜３０のアルキル基、アルケニル
基、置換基を有してもよい炭素原子数６〜１５の芳香族
炭化水素基、又は置換基を有してもよい炭素原子数４〜
１５の複素芳香族環基（なお、置換基としては炭素原子
数１〜２０のアルキル基、アルケニル基、Ｂｒ、Ｃｌ、
Ｉ等のハロゲン原子、炭素原子数６〜１５の芳香族炭化
水素基、炭素原子数７〜１７のアラルキル基、炭素原子
数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数２〜２０のアル
コキシ−カルボニル基、炭素原子数２〜１５のアシル基
が挙げられる。）を示し、Ｒ ₂′は、置換基を有しても
よい炭素原子数２〜１００のアルキレン基（尚、置換基
としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子
数６〜１５の芳香族炭化水素基が挙げられる。）を示
し、ｎは１〜１００の整数を表す。

【００１６】また式（Ｉ）の（Ｒ₂′−Ｏ）_nの部分は、
上記範囲であれば、２種、又は３種の基であっても良
い。具体的にはエチレンオキシ基とプロピレンオキシ
基、エチレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレ
ンオキシ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイ
ソブチレン基等の組み合わせのランダム又はブロック状
に連なったもの等が挙げられる。

【００１７】上記式（Ｉ）の化合物として具体的に、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチ
レンアルケニルエーテル類、ポリオキシエチレンフェニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル類、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオ
キシエチレンアルキルナフチルエーテル類、ポリオキシ
エチレンアントラニルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキルアントラニルエーテル、ポリエチレングリコール
の誘導体、ポリプロピレングリコールもしくはその誘導
体、プルロニック型ノニオン界面活性剤などがある。

【００１８】一般式（Ｉ）で示される化合物の更なる具
体例には、ポリ（オキシエチレン）オクチルエーテル、
ポリ（オキシエチレン）ラウリルエーテル、ポリ（オキ
シエチレン）セチルエーテル、ポリ（オキシエチレン）
ステアリルエーテル、ポリ（オキシエチレン）オクチル
フェニルエーテル、ポリ（オキシエチレン）ノニルフェ
ニルエーテル、ポリ（オキシエチレン）ドデシルフェニ
ルエーテル、ポリ（オキシエチレン）フェニルエーテ
ル、ポリ（オキシエチレン）オクチルナフチルエーテ
ル、ポリ（オキシエチレン）ノニルナフチルエーテル、
ポリ（オキシエチレン）ドデシルナフチルエーテル、ポ
リ（オキシエチレン）ナフチルエーテル、ポリ（オキシ
エチレン）オクチルアントラニルエーテル、ポリ（オキ
シエチレン）ノニルアントラニルエーテル、ポリ（オキ
シエチレン）ドデシルアントラニルエーテル、ポリ（オ
キシエチレン）アントラニルエーテルなどがある。

【００１９】一般式（Ｉ）で示される化合物は市場にお
いて一般に入手することができる。それらの市販品の例
として式中Ｒ₁′が脂肪族炭化水素基のものとして旭電
化製、花王石鹸製、三洋化成製、新日本理化製、第一工
業製薬製、竹本油脂製、東邦化学製、日本油脂製などの
ものがある。式中Ｒ₁′が芳香族炭化水素基のものとし
て花王石鹸製、三洋化成製、第一工業製薬製、竹本油脂
製、東邦化学製などのものがある。

【００２０】[アルキレンオキシド付加化合物]本発明で
使用するアルキレンオキシド付加化合物の具体例には、
多価アルコールのアルキレンオキシド付加物がある。例
えばグリセリン、ペンタエリスリット、ソルビットなど
の多価アルコールのエチレンオキシド付加物；アミノア
ルコールのエチレンオキシド付加物、例えばモノエタノ
ールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ンなどのエチレンオキシド付加物；糖類のエチレンオキ
シド付加物、ポリエチレングリコール等が挙げられる。
ここでエチレンオキシド付加とは、エチレンオキシ基単
独のほか、エチレンオキシ基とプロピレンオキシ基、エ
チレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレンオキ
シ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソブチ
レン基などの組み合わせのランダム又はブロック状に連
なったものなどを包含する。

【００２１】本発明で使用する上記のノニオン界面活性
剤又はアルキレンオキシド付加化合物の分子量として
は、５０〜１００００が好ましく、１００〜５０００が
より好ましく、５００〜３５００が最も好ましい。前記
分子量が５０未満であると画像部に対する溶解抑止力を
得ることができないことがあり、１００００を超えると
非画像部の現像性が低下することがある。

【００２２】アルキレンオキシド付加化合物の別の具体
例として、以下の一般式(II)で示されるものがある。

【００２３】（式中、Ｒ₁〜Ｒ₈は同一でも異なっていて
もよく、Ｈ又はＣＨ₃を示し、Ｒ₉〜Ｒ ₁₂は同一でも異な
っていてもよく、Ｈ、ＣＨ₃、ＣＯＲ₁₃、ＣＯＮＨＲ₁₄
を示し、Ｒ₁₃及びＲ₁₄は、アルキル基、アリール基、ア
ルケニル基又はアルキニル基を示し、ａは２〜１２の整
数、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ及びｉは同一でも異な
っていてもよく、０〜３００の整数を示し、（ｂ＋ｆ）
（ｃ＋ｇ）（ｄ＋ｈ）（ｅ＋ｉ）≠０である。） これらの化合物は一般的に水溶性である。上記一般式
（II）で表される化合物のうち特に好ましいものは、Ｒ
₁＝Ｒ₂＝Ｒ ₃＝Ｒ₄＝ＣＨ₃、Ｒ₅＝Ｒ₆＝Ｒ₇＝Ｒ₈＝Ｈ、
Ｒ₉＝Ｒ₁₀＝Ｒ₁₁＝Ｒ₁₂＝Ｈ又はＣＯＲ₁₃、Ｒ₁₃＝アル
キルであり、エチレンオキサイドが総分子中４０〜８０
重量％含まれ、プロピレンオキサイドの分子量範囲が
２，０００〜５，０００であり、ａが２〜６の整数であ
るような化合物である。

【００２４】上記一般式（II）においてＲ₁₃及びＲ₁₄に
よって表されるアルキル基としては、例えばＣＨ₃−、
ＣＨ₃ＣＨ₂−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）
₃−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₄−、（ＣＨ₃）₂ＣＨ（ＣＨ₂）
₂−、ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂−、ＣＨ₃（ＣＨ
₂）₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（Ｃ
Ｈ₂） ₈−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₀−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₂−、
ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₄−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₆−、ＣＨ₃（Ｃ
Ｈ₂）₁₈−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂₀−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）
₂₂−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂₄−などの炭素原子数１〜２５の
直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。また、Ｒ₁₃及び
Ｒ₁₄によって表されるアリ−ル基としては例えば、フェ
ニル、

【００２５】

【００２６】などの単環又は２環のアリール基及びこれ
らに直鎖又は分岐のアルキル基で置換基を有するものが
含まれる。また、Ｒ₁₃及びＲ₁₄によって表されるアルケ
ニル基又はアルキニル基としては、例えば ＣＨ₂＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₅ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ₃（ＣＨ
₂）₇ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₃（ＣＨ₂）₅ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₀ＣＨ＝
ＣＨ（ＣＨ₂）₄−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₅ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₉−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₄ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ
（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ
ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₃（ＣＨ
＝ＣＨ）₃（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₈（ＣＨ＝Ｃ
Ｈ）₃（ＣＨ₂）₄ＣＯ（ＣＨ₂）₂−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₇Ｃ
≡Ｃ（ＣＨ₂）₇−、ＣＨ₃（ＣＨ₂）₉ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₇−などの炭素原子数９〜２４のものが挙げられ
る。これらの水溶性化合物の例としては、旭電化工業
（株）の商品名テトロニックの商品カタログなどに記載
されている化合物を挙げることができる。

【００２７】本発明のアルカリ現像処理液には、上記の
ようなノニオン界面活性剤及びアルキレンオキシド付加
化合物から選ばれる１種又は２種以上の化合物を組み合
わせて使用することができる。アルカリ現像処理液中に
おける、ノニオン界面活性剤及びアルキレンオキシド付
加化合物から選ばれる１種以上の化合物の含有量として
は、０．００１〜１０．０質量％が適当であり、０．０
１〜５．０質量％が好ましい。さらに０．１〜１．０質
量％が最も好ましい。この添加量が０．００１質量％未
満であると、形成した画像部の可溶性を十分に抑制でき
ないことがあり、一方１０．０質量％超えると溶解抑止
力が強すぎて現像感度が低下することがある。

【００２８】本発明のアルカリ現像処理液には、さらに
元素周期律表において第２族、第３族、第４族、第５
族、第６族、第７族、第８族、第９族、第１０族、第１
１族、第１２族、第１３族、第１４族及び１５族からか
ら選ばれる金属の塩類を含有させる。そのような金属の
具体例としてＣａ、Ｍｇ、Ｂｅ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｔｃ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃ
ｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓ
ｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｅなどがある。中でも好ましく用い
られるのは、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂｅ、Ｓｒ、Ｂａである。塩
類としては有機酸塩、無機酸塩を含み、酢酸塩、グルコ
ン酸塩、グリコール酸塩、レブリン酸塩、酒石酸塩、フ
ィチン酸塩、ソルビン酸塩、、ステアリン酸塩、乳酸
塩、ぎ酸塩、蓚酸塩、塩化物、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩
などがある。中でも好ましいものは、酢酸塩、グルコン
酸塩、プロピオン酸塩である。本発明のアルカリ現像処
理液には、上記の塩類を１種単独で又は２種以上を組み
合わせて使用することができる。上記塩類の添加量とし
ては、アルカリ現像処理液中に０．００１〜１０質量％
が適当であり、０．０１〜５．０質量％が好ましい。さ
らに０．１〜１．０質量％が最も好ましい。この添加量
が０．００１質量％未満であると、形成した画像部の可
溶性を充分に抑制できないことがあり、一方１０．０質
量％を超えると現像液中に溶解しなくなり感光層成分が
多量に溶け込んだときに析出や沈殿する。

【００２９】本発明のアルカリ現像処理液は、上記のと
おり、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基を含む
現像液を用いるが、そのカチオン成分として従来よりＬ
ｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、ＮＨ₄ ⁺が用いられ、中でも、イオン
半径の小さいカチオンを多く含有する系では、画像形成
層への浸透性が高く現像性に優れる一方、画像部まで溶
解して画像欠陥を生ずる。従って、アルカリ濃度を上げ
るには、ある程度の限度があり、画像部に欠陥を生ずる
ことなく、且つ非画像部に画像形成層（残膜）が残存し
ないように完全に処理するためには、微妙な液性条件の
設定が要求された。しかし、前記カチオン成分として、
そのイオン半径の大きいカチオンを用いることにより、
画像形成層中への現像液の浸透性を抑制することがで
き、アルカリ濃度、即ち、現像性を低下させることな
く、画像部の溶解抑止効果をも向上させることができ
る。前記カチオン成分としては、上記アルカリ金属カチ
オン及びアンモニウムイオンのほか、他のカチオンも用
いることができる。

【００３０】本発明のアルカリ現像処理液には、さらに
現像性能を高める目的で、以下のような添加剤を加える
ことができる。例えば特開昭５８−７５１５２号公報に
記載のＮａＣｌ、ＫＣｌ、ＫＢｒなどの中性塩、特開昭
５８−１９０９５２号公報に記載のＥＤＴＡ、ＮＴＡな
どのキレート剤、特開昭５９−１２１３３６号公報に記
載の［Ｃｏ（ＮＨ₃）₆］Ｃｌ₃、ＣｏＣｌ₂・６Ｈ₂Ｏな
どの錯体、特開昭５０−５１３２４号公報に記載のアル
キルナフタレンスルホン酸ソーダ、ｎ−テトラデシル−
Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルベタインなどのアニオン又
は両性界面活性剤、米国特許第４，３７４，９２０号明
細書に記載のテトラメチルデシンジオールなどの非イオ
ン性界面活性剤、特開昭５５−９５９４６号公報に記載
のｐ−ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチルクロ
ライド４級化合物などのカチオニックポリマー、特開昭
５６−１４２５２８号公報に記載のビニルベンジルトリ
メチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ソーダとの
共重合体などの両性高分子電解質、特開昭５７−１９２
９５１号公報に記載の亜硫酸ソーダなどの還元性無機
塩、特開昭５８−５９４４４号公報に記載の塩化リチウ
ムなどの無機リチウム化合物、特開昭５９−７５２５５
号公報に記載の有機Ｓｉ、Ｔｉなどを含む有機金属界面
活性剤、特開昭５９−８４２４１号公報に記載の有機ホ
ウ素化合物、ＥＰ１０１０１０号明細書に記載のテトラ
アルキルアンモニウムオキサイドなどの４級アンモニウ
ム塩等が挙げられる。

【００３１】本発明の平版印刷版用アルカリ現像処理液
の使用態様は特に限定されるものではない。近年では、
特に製版・印刷業界において、製版作業の合理化及び標
準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられ
ている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部か
らなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプ
レー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間などに応じて補充液を補充しながら
処理することができる。

【００３２】この場合、現像液よりもアルカリ強度の高
い水溶液を補充液として現像液中に加えることによっ
て、長時間現像タンク中に現像液を交換することなく多
量の画像形成材料を処理できる。本発明のアルカリ現像
処理液を使用するに際しても、この補充方式を採用する
ことが好ましい態様である。前記補充液としても、本発
明の平版印刷版用アルカリ現像処理液を、現像用の現像
液よりもアルカリ強度の高い水溶液として使用すること
ができる。

【００３３】前記現像液及び現像液補充液には、現像性
の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて上記以外の種々の
界面活性剤や有機溶剤などを添加することもできる。界
面活性剤としては、カチオン系、アニオン系、ノニオン
系又は両性界面活性剤が好ましく、有機溶剤としてはベ
ンジルアルコールなどが好ましい。また、ポリエチレン
グリコールもしくはその誘導体、又はポリプロピレング
リコールもしくはその誘導体などの添加も好ましい。さ
らに必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫
酸又は亜硫酸水素酸のナトリウム塩若しくはカリウム塩
などの無機塩系還元剤、有機カルボン酸、消泡剤、硬水
軟化剤を加えることもできる。

【００３４】本発明のアルカリ現像処理液及び補充液を
用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水や界面活性
剤などを含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体
を含む不感脂化液で後処理がなされる。この後処理に
は、これらの処理液を種々組み合わせて行うことができ
る。また、実質的に未使用の現像処理液で処理する、い
わゆる使い捨て処理方式とすることも可能である。

【００３５】次に本発明のアルカリ現像処理液を適用し
得る平版印刷版原版について説明する。平版印刷版原版
は、支持体上に画像形成層を有し、さらに必要に応じて
他の層を有してなり、画像形成層には（Ａ）赤外線吸収
剤を有し、さらに（Ｂ１）カルボキシル基を有するアル
カリ可溶性高分子化合物、（Ｂ２）アルカリ可溶性樹
脂、（Ｃ）該（Ｂ１）及び（Ｂ２）のアルカリ可溶性高
分子化合物と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物
及び樹脂のアルカリ水溶液への溶解性を低下させるとと
もに、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合物、
（Ｄ）環状酸無水物などを含有して構成される。また、
ネガ型の平版印刷版原版の場合には、露光部が硬化して
画像部となるため、画像形成層にさらに（Ｅ）熱により
酸を発生する化合物と、（Ｆ）酸により架橋する架橋剤
とを含有して構成される。以下に、各構成成分について
簡単に説明する。

【００３６】−（Ａ）赤外線吸収剤− 赤外線吸収剤（以下、「（Ａ）「成分」ということがあ
る。）は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有す
る。本発明において使用可能な赤外線吸収剤としては、
波長７００nm以上の領域に、好ましくは波長７５０nm〜
１２００nmの波長領域に赤外線を高効率に吸収しうる染
料又は顔料が好ましく、波長７６０nm〜１２００nmの領
域に吸収極大を有する染料又は顔料がより好ましい。

【００３７】前記染料材としては、市販の染料又は文献
（例えば、「染料便覧」、有機合成化学協会編集、昭和
４５年刊）に記載の公知のものが挙げられ、例えば、ア
ゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフ
トキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。

【００３８】中でも、例えば、特開昭５８−１２５２４
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２
８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載のシアニ
ン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１
８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載の
メチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８
−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭
５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開
昭６０−６３７４４号等に記載のナフトキノン染料、特
開昭５８−１１２７９２号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許４３４，８７５号明細書に記載のシアニン
染料、米国特許５，３８０，６３５号明細書に記載のジ
ヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が好適に挙げら
れる。

【００３９】また、米国特許第５，１５６，９３８号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、米国特許第
３，８８１，９２４号明細書に記載の置換されたアリー
ルベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６
４５（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）に記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号に
記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号
明細書に記載のペンタメチンチオピリウム塩等、特公平
５−１３５１４号、同５−１９７０２号に記載のピリリ
ウム化合物、市販品としては、Epolight III-１７８、E
polight III-１３０、Epolight III-１２５、Epolight
IV−６２Ａ（エポリン社製）等も好ましい。

【００４０】さらに、米国特許第4,756,993 号明細書に
記載の式（Ｉ）、（II）で表される近赤外線吸収染料も
好適なものとして挙げることができる。上記のうち、シ
アニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッ
ケルチオレート錯体がより好ましい。

【００４１】前記顔料としては、市販の顔料又はカラー
インデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日
本顔料技術協会編）、１９７７年刊）、「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載の顔料が挙げ
られ、たとえば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマー結合色素が
挙げられる。

【００４２】具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、ア
ゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタ
ロシナニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。中でも、
カーボンブラックが好ましい。

【００４３】前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよ
いし、表面処理を施した後に用いてもよい。表面処理の
方法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シ
ランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネ
ート等）を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。
これらの表面処理の方法は、「金属石鹸の性質と応用」
（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８
４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９
８６年刊）に記載されている。

【００４４】前記顔料の粒径としては、0.０１μm〜１
０μmが好ましく、0.０５μm〜１μmがより好ましく、
0.１μm〜１μmが最も好ましい。前記粒径が、0.０１μ
m未満であると、感光層塗布液等の分散液を調製したと
きの分散物の安定性が劣化することがあり、１０μmを
超えると、画像形成層の均一性が悪化することがある。

【００４５】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に汎用の分散機等、公知の分散技術から
適宜選択することができる。前記分散機としては、超音
波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、ス
ーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、
ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミ
ル、加圧ニーダー等が挙げられる。その詳細について
は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）に記載がある。

【００４６】前記染料又は顔料の含有量としては、画像
形成層の全固形分質量に対して0.０１〜５０質量％が好
ましく、0.１〜１０質量％がより好ましく、さらに染料
の場合には、0.５〜１０質量％が最も好ましく、顔料の
場合には、3.１〜１０質量％が最も好ましい。前記含有
量が0.０１質量％未満であると、感度が低くなることが
あり、５０質量％を超えると、画像形成層の均一性が低
下し、その耐久性が劣化することがある。前記染料又は
顔料は、他の成分と同一層に添加してもよいし、別の層
を設けてそこに添加してもよい。別の層とする場合は、
後述の（Ｃ）成分を含有する層に隣接する層に添加する
ことが好ましい。また、染料又は顔料と、アルカリ可溶
性樹脂、アルカリ可溶性高分子化合物とは同一の層に含
有することが好ましいが、別の層にそれぞれ含有させて
も構わない。

【００４７】−（Ｂ１）カルボキシル基を有するアルカ
リ可溶性高分子化合物（以下「（Ｂ１）成分」というこ
ともある。） （Ｂ１）成分の高分子化合物としては、カルボキシル基
を有するアルカリ可溶性高分子化合物であれば何れでも
よいが、下記で定義される高分子化合物（ｂ１−１）、
（ｂ１−２）が好ましい。 （ｂ１−１）下記一般式(III)で表される重合性モノマ
ー単位を有するアルカリ可溶性高分子化合物（以下、高
分子化合物（ｂ１−１）ともいう） （式中、Ｘｍは単結合又は２価の連結基を、Ｙは水素又
はカルボキシル基を、Ｚは水素、アルキル基又はカルボ
キシル基を表す。） 一般式（III）で表される重合性モノマー単位を構成す
るモノマーとして、カルボキシル基と、重合可能な不飽
和基を分子内にそれぞれ１以上有する重合性モノマーが
ある。そのような重合性モノマーの具体例として、アク
リル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、
イタコン酸、無水イタコン酸等のα、β−不飽和カルボ
ン酸類を挙げることができる。

【００４８】上記カルボキシル基を有する重合性モノマ
ーと共重合させるモノマーとしては、例えば下記(1)〜
(11)が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。 (1)２−ヒドロキエチルアクリレート又は２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアク
リル酸エステル類、メタクリル酸エステル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アク
リル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベン
ジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアク
リレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等の
アルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ア
ミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロ
ロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。

【００４９】(4)アクリルアミド、メタクリルアミド、
Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルア
ミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキ
シルアクリるアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルア
ミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニ
ルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリル
アミド等のアクリルアミド又はメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエ
ーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビ
ニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニル
エーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル
類。 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニ
ルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、
クロロメチルスチレン等のスチレン類。

【００５０】(8)メチルビニルケトン、エチルビニルケ
トン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等
のビニルケトン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、
４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル等。 (11)マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ
−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタク
リルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリル
アミド等の不飽和イミド。

【００５１】また、下記一般式（IV）のモノマーも好ま
しく用いられる。 式中、ＸはＯ、Ｓ、又はＮ−Ｒ¹²を表す。Ｒ¹⁰〜Ｒ
¹²は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
ｍ、ｎ、ｏは、各々独立に、２から５の整数を表し、Ｃ
_mＨ_2m、Ｃ_nＨ_2n、Ｃ_oＨ_2oは、各々、直鎖でも分岐構造
でもよい。ｐ、ｑ、ｒは各々独立に、０から３，０００
の整数を表し、ｐ＋ｑ＋ｒ≧２である。

【００５２】Ｒ¹⁰〜Ｒ¹²におけるアルキル基としては、
炭素原子数１〜１２のものが好ましく、具体的には、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基な
どが挙げられる。ｐ、ｑ、ｒは好ましくは０から５００
の整数を表し、更に好ましくは０から１００の整数を表
す。上記一般式(IV)で表される繰り返し単位に相当する
モノマーの例を以下に挙げるが、この限りではない。

【００５３】

【化１】

【００５４】

【化２】

【００５５】上記一般式(IV)で表される繰り返し単位
は、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、
例えば商品名プルロニック（Pluronic（旭電化工業
（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）
製）、カルボワックス（Carbowax（グリコ・プロダク
ス））、トリトン（Toriton（ローム・アンド・ハース
（Rohm and Haas製）、およびP.E.G（第一工業製薬
（株）製）として販売されているものを公知の方法でア
クリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリ
ルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによ
って製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オ
キシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもでき
る。

【００５６】市販品のモノマーとしては、日本油脂株式
会社製の水酸基末端ポリアルキレングリコールモノ（メ
タ）アクリレートとしてブレンマーPE-90、ブレンマーP
E-200、ブレンマーPE-350、ブレンマーAE-90、ブレンマ
ーAE-200、ブレンマーAE-400、ブレンマーPP-1000、ブ
レンマーPP-500、ブレンマーPP-800、ブレンマーAP-15
0、ブレンマーAP-400、ブレンマーAP-550、ブレンマーA
P-800、ブレンマー50PEP-300、ブレンマー70PEP-350B、
ブレンマーAEPシリーズ、ブレンマー55PET−400、ブレ
ンマー30PET-800、ブレンマー55PET-800、ブレンマーAE
Tシリーズ、ブレンマー30PPT-800、ブレンマー50PPT-80
0、ブレンマー70PPT-800、ブレンマーAPTシリーズ、ブ
レンマー10PPB-500B、ブレンマー10APB-500Bなどが挙げ
られる。同様に日本油脂株式会社製のアルキル末端ポリ
アルキレングリコールモノ（メタ）アクリレートとして
ブレンマーPME-100、ブレンマーPME-200、ブレンマーPM
E-400、ブレンマーPME-1000、ブレンマーPME-4000、ブ
レンマーAME-400、ブレンマー50POEP-800B、ブレンマー
50AOEP-800B、ブレンマーPLE-200、ブレンマーALE-20
0、ブレンマーALE-800、ブレンマーPSE-400、ブレンマ
ーPSE-1300、ブレンマーASEPシリーズ、ブレンマーPKEP
シリーズ、ブレンマーAKEPシリーズ、ブレンマーANE-30
0、ブレンマーANE-1300、ブレンマーPNEPシリーズ、ブ
レンマーPNPEシリーズ、ブレンマー43ANEP-500、ブレン
マー70ANEP-550など、また共栄社化学株式会社製ライト
エステルMC、ライトエステル130MA、ライトエステル041
MA、ライトアクリレートBO-A、ライトアクリレートEC-
A、ライトアクリレートMTG-A、ライトアクリレート130
A、ライトアクリレートDPM-A、ライトアクリレートP-20
0A、ライトアクリレートNP-4EA、ライトアクリレートNP
-8EAなどが挙げられる。

【００５７】高分子化合物（ｂ１−１）におけるカルボ
キシル基と、重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ
１以上有する重合性モノマー成分を有する最小構成単位
は、特に１種類のみである必要はなく、同一の酸性基を
有する最小構成単位を２種以上、または異なる酸性基を
有する最小構成単位を２種以上共重合させたものを用い
ることもできる。共重合の方法としては、従来知られて
いるグラフト共重合、ブロック共重合、ランダム共重合
法などを用いることができる。

【００５８】（ｂ１−２）カルボキシル基を有する下記
一般式（V）、（VI）または（VII）で表されるジオール
化合物と下記一般式（X）で表されるジイソシアネート
化合物との反応生成物を基本骨格とするカルボキシル基
を有するアルカリ可溶性高分子化合物（以下、高分子化
合物（ｂ１−２）ともいう。）

【００５９】

【００６０】Ｒ¹³は水素原子、置換基（例えばアルキ
ル、アリール、アルコキシ、エステル、ウレタン、アミ
ド、ウレイド、ハロゲノの各基が好ましい。）を有して
いてもよいアルキル、アルケニル、アラルキル、アリー
ル、アルコキシ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水
素原子、炭素原子数１〜８個のアルキル基もしくは炭素
原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数６〜１５個の
アリール基を示す。Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶はそれぞれ同一で
も相異していてもよい、単結合、置換基（例えばアルキ
ル、アルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ及
びハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい二
価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。好ましくは炭素
原子数１〜２０のアルキレン基、炭素原子数６〜１５の
アリーレン基、更に好ましくは炭素原子数１〜８個のア
ルキレン基を示す。また、必要に応じ、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ
¹⁶中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例え
ばエステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基、炭
素−炭素不飽和結合を有していてもよい。なお、Ｒ¹³、
Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶のうちの２又は３個で環を構成しても
よい。Ａｒは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭
化水素を示し、好ましくは炭素原子数６〜１５個の芳香
族基を示す。

【００６１】ＯＣＮ−Ｒ¹⁸−ＮＣＯ (X) 式中、Ｒ¹⁸は置換基（例えばアルキル、アルケニル、ア
ラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好
ましい。）を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香族
炭化水素を示す。必要に応じ、Ｒ¹⁸中にイソシアネート
基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタ
ン、アミド、ウレイド基、炭素−炭素不飽和結合を有し
ていてもよい。

【００６２】一般式(V)、（VI）又は（VII）で示される
カルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的
には以下に示すものが含まれる。即ち、３，５−ジヒド
ロキシ安息香酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プ
ロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プ
ロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）
プロピオン酸、ビス（ヒドロキシメチル）酢酸、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）酢酸、４，４−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、酒石酸、Ｎ，Ｎ−ビ
ス（２−ヒドロキシエチル）−３−カルボキシ−プロピ
オンアミドなどが挙げられる。

【００６３】該（ｂ１−２）のカルボキシル基を有する
アルカリ可溶性高分子化合物は、下記一般式（VIII）又
は（IX）で表されるジオールを組み合わせた反応生成物
であると好ましい。

【００６４】

【００６５】式中、Ｒ¹⁷はそれぞれ水素原子又は炭素原
子数１〜８のアルキル基を示し、ｎは２以上の整数を示
す。Ｒ¹⁷における炭素原子数１〜８のアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、i-プロピル基、n-ブチ
ル基、i-ブチル基などが挙げられる。以下に、上記一般
式（VIII）又は（IX）で表されるジオールの具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００６６】（VIII）の具体例 HO-(-CH₂CH₂O-)₃-H HO-(-CH₂CH₂O-)₄-H HO-(-CH₂CH₂O-)₅-H HO-(-CH₂CH₂O-)₆-H HO-(-CH₂CH₂O-)₇-H HO-(-CH₂CH₂O-)₈-H HO-(-CH₂CH₂O-)₁₀-H HO-(-CH₂CH₂O-)₁₂-H ポリエチレングリコール（平均分子量1000） ポリエチレングリコール（平均分子量2000） ポリエチレングリコール（平均分子量4000） HO-(-CH₂CH(CH₃)O-)₃-H HO-(-CH₂CH(CH₃)O-)₄-H HO-(-CH₂CH(CH₃)O-)₆-H ポリプロピレングリコール（平均分子量1000） ポリプロピレングリコール（平均分子量2000） ポリプロピレングリコール（平均分子量4000）

【００６７】（IX）の具体例 HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)₃-H HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)₄-H HO-(-CH₂CH₂CH₂O-)₈-H HO-(-CH₂CH₂CH(CH₃)O-)₁₂-H

【００６８】一般式(X)で示されるジイソシアネート化
合物として、具体的には以下に示すものが含まれる。す
なわち、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４−
トリレンジイソシアネートの二量体、２，６−トリレン
ジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、
ｍ−キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソ
シアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’
−ジイソシアネートなどの如き芳香族ジイソシアネート
化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチル
ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネ
ート、ダイマー酸ジイソシアネートなどの如き脂肪族ジ
イソシアネート化合物、イソホロンジイソシアネート、
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト）、メチルシクロヘキサン−２，４（又は２，６）−
ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）
シクロヘキサンなどの如き脂肪族ジイソシアネート化合
物；１，３−ブチレングリコール１モルとトリレンジイ
ソシアネート２モルとの付加体などの如きジオールとジ
イソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合
物などが挙げられる。

【００６９】高分子化合物（ｂ１−２）の合成に使用す
るジイソシアネート及びジオール化合物のモル比は好ま
しくは０．８：１〜１．２〜１であり、ポリマー末端に
イソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はア
ミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネー
ト基が残存しない形で合成される。

【００７０】（Ｂ１）成分として、上記の高分子化合物
（ｂ１−１）及び（ｂ１−２）から１種単独を使用して
もよいし、また２種以上を併用してもよい。（Ｂ１）成
分中に含有されるカルボキシル基を有する繰り返し単位
の含有量は、該（Ｂ１）成分の各単量体の総量に基づい
て２モル％以上であり、好ましくは２〜７０モル％であ
り、より好ましくは５〜６０モル％の範囲である。（Ｂ
１）成分の好ましい重量平均分子量は、３０００〜３０
０，０００が好ましく、６，０００〜１００，０００が
より好ましい。

【００７１】さらに、（Ｂ１）成分の好ましい添加量
は、画像形成層の全固形分質量に対して０．００５〜８
０質量％の範囲であり、好ましくは０．０１〜５０質量
％の範囲であり、更に好ましくは１〜２０質量％の範囲
である。（Ｂ１）成分の添加量が０．００５質量％未満
では効果が不充分であり、また８０質量％より多くなる
と、塗膜の乾燥が十分に行なわれなくなったり、感光材
料としての性能（例えば感度）に悪影響を及ぼす。 −(Ｂ２)アルカリ可溶性樹脂− 使用可能なアルカリ可溶性樹脂（以下、「(Ｂ２）成
分」ということがある。）としては、下記（１）〜
（３）の酸性基を主鎖及び／又は側鎖の構造中に有する
アルカリ水可溶性の高分子化合物を用いることができ
る。 （１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ） （２）スルホンアミド基（−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ） （３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド
基」という。） 〔−ＳＯ₂ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂Ｒ、−ＣＯＮ
ＨＳＯ₂Ｒ〕 前記（１）〜（３）中、Ａｒは置換基を有していてもよ
い２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置換基を有して
いてもよい炭化水素基を表す。以下に、その具体例を示
すが、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。

【００７２】（１）フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、フェノールとホルム
アルデヒドとの縮重合体、ｍ−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール（ｍ
−、ｐ−又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい。）とホ
ルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂又はピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有するモノマーを重
合させた高分子化合物を挙げることもできる。

【００７３】側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽
和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる
重合性モノマーを単独重合、或いは、該重合性モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。フェノール基を側鎖に有するモノマ
ーとしては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。

【００７４】具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリ
レート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタク
リレート等を好適に挙げることができる。

【００７５】前記フェノール基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物の質量平均分子量としては、5.０×１０²
〜2.０×１０⁵のものが、数平均分子量としては、2.０
×１０ ²〜1.０×１０⁵のものが、画像形成性の点で好ま
しい。また、フェノール基を有するアルカリ可溶性高分
子化合物は、単独での使用のみならず、２種類以上を組
合わせて使用してもよい。組合わせる場合には、米国特
許第４１２３２７９号明細書に記載されているような、
ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体
や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として
有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体を併
用してもよい。これらの縮重合体も、質量平均分子量が
5.０×１０²〜2.０×１０⁵のもの、数平均分子量が2.０
×１０²〜1.０×１０⁵のものが好ましい。

【００７６】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する化合物を主たるモノマー構成単位とする重合
体、即ち、単独重合体又は前記モノマー構成単位に他の
重合性モノマーを共重合させた共重合体を挙げることが
できる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとし
ては、１分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基−ＳＯ₂ −ＮＨ−と、
重合可能な不飽和結合とを、それぞれ１以上有する低分
子化合物からなるモノマーが挙げられる。中でも、アク
リロイル基、アリル基又はビニロキシ基と、置換或いは
モノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ
基と、を有する低分子化合物が好ましい。前記低分子化
合物としては、例えば、下記一般式（ａ）〜（ｅ）で表
される化合物が挙げられるが、本発明においては、これ
らに限定されるものではない。

【００７７】

【００７８】式中、Ｘ¹、Ｘ²は、それぞれ独立に酸素原
子又はＮＲ⁷ を表す。Ｒ¹ 、Ｒ⁴ は、それぞれ独立に水
素原子又はＣＨ₃を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹²、Ｒ
¹⁶は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数
１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基又はアラルキレン基を表す。Ｒ³、Ｒ⁷、Ｒ¹³は、
それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭
素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基又はアラルキル基を表す。また、Ｒ⁶、Ｒ¹⁷は、そ
れぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基を表す。Ｒ⁸、Ｒ¹⁰、Ｒ¹⁴は、それぞれ独立に水
素原子又はＣＨ₃を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹⁵は、それぞれ独立
に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ独立に単
結合又はＣＯを表す。

【００７９】中でもｍ−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。

【００８０】（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有す
る化合物を主たるモノマー構成単位とする重合体を挙げ
ることができる。活性イミド基を有する化合物を主たる
モノマー構成単位とする重合体としては、１分子中に、
下記式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ１以上有する低分子化合物からなるモノ
マーを単独重合、或いは、該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。

【００８１】

【００８２】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に挙げることができる。さらに、上記のほか、前記フェ
ノール基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を
有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合
性モノマーのうちのいずれか２種類以上を重合させた高
分子化合物、或いは、これら２種以上の重合性モノマー
にさらに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高
分子化合物も好適に挙げられる。

【００８３】フェノール基を有する重合性モノマー（Ｍ
１）に、スルホンアミド基を有する重合性モノマー（Ｍ
２）及び／又は活性イミド基を有する重合性モノマー
（Ｍ３）を共重合させる場合の配合比（Ｍ１：Ｍ２及び
／又はＭ３；質量比）としては、５０：５０〜５：９５
が好ましく、４０：６０〜１０：９０がより好ましい。

【００８４】アルカリ可溶性樹脂が、前記酸性基（１）
〜（３）より選ばれるいずれかを有するモノマー構成単
位と、他の重合性モノマーの構成単位とから構成される
共重合体である場合、該共重合体中に、前記酸性基
（１）〜（３）より選ばれるいずれかを有するモノマー
構成単位を１０モル％以上含むことが好ましく、２０モ
ル％以上含むことがより好ましい。前記モノマー構成単
位の含有量が、１０モル％未満であると、十分なアルカ
リ可溶性が得られずに、現像ラチチュードが狭くなるこ
とがある。前記共重合体の合成方法としては、従来より
公知のグラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム
共重合法等を用いることができる。

【００８５】前記酸性基（１）〜（３）より選ばれるい
ずれかを有するモノマーを構成単位とする重合性モノマ
ーと共重合させる。他の重合性モノマーとしては、例え
ば、下記（ａ）〜（１）に挙げるモノマーを挙げること
ができるが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。

【００８６】（ａ）２−ヒドロキエチルアクリレート又
は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類。 （ｂ）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （ｃ）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。

【００８７】（ｄ）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルアクリるアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミド、又はメタクリルアミ
ド。 （ｅ）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （ｆ）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 （ｇ）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等とスチレン類。

【００８８】（ｈ）メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
等のビニルケトン類。 （ｉ）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （ｊ）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （ｋ）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、
Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタ
クリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。 （ｌ）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。

【００８９】前記アルカリ可溶性樹脂としては、単独重
合体、共重合体に関わらず、膜強度の点で、質量平均分
子量が２０００以上、数平均分子量が５００以上のもの
が好ましく、質量平均分子量が５０００〜３００００
０、数平均分子量が８００〜２５００００であり、分散
度（質量平均分子量／数平均分子量）が１．１〜１０の
ものがより好ましい。また、前記アルカリ可溶性樹脂
が、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−
アルデヒド樹脂等である場合には、質量平均分子量が５
００〜２００００であって、数平均分子量が２００〜１
００００のものが好ましい。

【００９０】前記アルカリ可溶性樹脂の含有量として
は、画像形成層の全固形分質量に対して３０〜９９質量
％が好ましく、４０〜９５質量％がより好ましく、５０
〜９０質量％が最も好ましい。前記含有量が、３０質量
％未満であると、画像形成層の耐久性が低下することが
あり、９９質量％を越えると、感度、耐久性が低下する
ことがある。また、前記高分子化合物は、１種類のみを
用いても、２種類以上を組合わせて用いてもよい。

【００９１】−（Ｃ）前記カルボキシル基を含有するア
ルカリ可溶性高分子化合物及び前記アルカリ可溶性樹脂
と相溶させて該高分子化合物及び該樹脂のアルカリ水溶
液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解
性低下作用が減少する化合物− この（Ｃ）成分は、分子内に存在する水素結合性の官能
基の働きにより、前記（Ｂ１）及び（Ｂ２）成分との相
溶性が良好であり、均一な画像形成層用塗布液を形成し
うるとともに、該（Ｂ１）及び（Ｂ２）成分との相互作
用により、該（Ｂ１）及び（Ｂ２）成分のアルカリ可溶
性を抑制する機能（溶解性抑制作用）を有する化合物を
指す。

【００９２】また、加熱により（Ｂ１）及び（Ｂ２）成
分に対する前記溶解性抑制作用は消滅するが、赤外線吸
収剤自体が加熱により分解する化合物である場合には、
分解に十分なエネルギーが、レーザー出力や照射時間等
の諸条件により付与されないと、（Ｂ１）及び（Ｂ２）
成分の溶解性抑制作用を十分に低下させることができ
ず、感度が低下するおそれがある。このため、（Ｃ）成
分の熱分解温度としては、１５０℃以上が好ましい。

【００９３】（Ｃ）成分としては、前記（Ｂ１）及び
（Ｂ２）成分との相互作用を考慮して、例えば、スルホ
ン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、アミド化
合物等の、前記アルカリ可溶性高分子化合物と相互作用
しうる化合物の中から適宜選択することができる。特
に、例えば、前記（Ｂ２）成分として、ノボラック樹脂
を単独で用いる場合には、後述する「（Ａ＋Ｃ）成分」
が好ましく、以下に例示するシアニン染料Ａなどがより
好ましい。（Ａ＋Ｃ）成分については後述する。

【００９４】（Ｃ）成分と前記（Ｂ１）成分及び（Ｂ
２）成分との配合比（Ｃ／（Ｂ１＋Ｂ２）質量比）とし
ては、一般に１／９９〜２５／７５が好ましい。前記混
合比が、１／９９未満、即ち、（Ｃ）成分が少なすぎる
と、アルカリ可溶性樹脂やアルカリ可溶性高分子化合物
との相互作用が不十分となり、アルカリ可溶性を低下さ
せることができず、良好に画像形成することができない
ことがあり、２５／７５を超える、即ち、（Ｃ）成分が
多すぎると、相互作用が過大となり、感度が著しく低下
することがある。

【００９５】−（Ａ＋Ｃ）成分− 前記（Ａ）成分及び（Ｃ）成分に代えて、これら双方の
特性を有する化合物（（Ａ＋Ｃ）成分）を用いることが
できる。前記（Ａ＋Ｃ）成分は、光を吸収して熱を発生
する性質（即ち、（Ａ）成分の特性）を有し、しかも７
００〜１２００nmの波長領域に吸収域を持つと共に、さ
らに（Ｂ１）及び（Ｂ２）成分のアルカリ可溶性高分子
化合物と良好に相溶しうる塩基性染料である。（Ａ＋
Ｃ）成分は、その分子内にアンモニウム基、イミニウム
基等のアルカリ可溶性高分子化合物と相互作用する基を
有する（即ち、（Ｃ）成分の特性）ため、前記高分子化
合物と相互作用して、そのアルカリ可溶性を抑制するこ
とができる。前記（Ａ＋Ｃ）成分としては、例えば、下
記一般式（Ｚ）で表される化合物を挙げることができ
る。

【００９６】

【００９７】前記一般式（Ｚ）中、Ｒ²¹〜Ｒ²⁴は、それ
ぞれ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭
素数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、Ｒ²¹と
Ｒ²²、Ｒ²³とＲ²⁴はそれぞれ結合して環構造を形成して
いてもよい。Ｒ²¹〜Ｒ²⁴としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよ
い。ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。

【００９８】式中、Ｒ²⁵〜Ｒ³⁰は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基を表
し、前記Ｒ²⁵〜Ｒ³⁰としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。

【００９９】式中、Ｒ³¹〜Ｒ³³は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
１〜８のアルキル基を表し、前記Ｒ³²は、前記Ｒ³¹又は
Ｒ³³と結合して環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の
場合は、複数のＲ³²同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。前記Ｒ³¹〜Ｒ³³としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、Ｒ³²同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。また、ｍは１〜８の整数を表し、中でも１〜３が好
ましい。

【０１００】式中、Ｒ³⁴〜Ｒ³⁵は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
１〜８のアルキル基を表し、前記Ｒ³⁴は、Ｒ³⁵と結合し
て環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の場合は、複数
のＲ³⁴同士が結合して環構造を形成していてもよい。前
記Ｒ³⁴〜Ｒ³⁵としては、例えば、塩素原子、シクロヘキ
シル基、Ｒ³⁴同士が結合してなるシクロペンチル環、シ
クロヘキシル環等が挙げられ、これらの基は、さらに置
換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、例
えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリ
ル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エス
テル、スルホン酸エステル等が挙げられる。また、ｍ
は、１〜８の整数を表し、中でも、１〜３が好ましい。

【０１０１】式中、Ｘ^-は、アニオンを表し、例えば、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−Ｏ−トル
エンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−
クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スル
ホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等
が挙げられる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、２，５−ジメチルベンゼン
スルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。

【０１０２】前記一般式（Ｚ）で表される化合物は、一
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、本発明に
おいては、これらに限られるものではない。

【０１０３】上述の（Ａ）成分及び（Ｃ）成分に代え
て、これら双方の特性を有する前記（Ａ＋Ｃ）成分を用
いる場合、該（Ａ＋Ｃ）成分と前記（Ｂ１）、（Ｂ２）
成分との使用量比〔（Ａ＋Ｃ）／（（Ｂ１）＋（Ｂ
２））〕としては、１／９９〜３０／７０が好ましく、
１／９９〜２５／７５がより好ましい。

【０１０４】−（Ｄ）環状酸無水物− 平版印刷版原版には、さらに環状酸無水物を使用する。
該環状酸無水物は、その構造内にカルボン酸無水物のカ
ルボニル基と共役する結合を有し、そのカルボニル基の
安定性を増すことで分解速度を制御し、保存経時におい
て適当な速度で分解して酸を発生する。そのため、保存
経時での現像性劣化を抑え、現像性を長期間安定に維持
しうる。前記環状酸無水物としては、下記一般式（XI）
又は（XII）で表される化合物が挙げられる。

【０１０５】

【０１０６】一般式（XI）中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²はそれぞれ独
立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子
数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基、カルボニル基、カ
ルボキシ基もしくはカルボン酸エステルを表す。なお、
Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²は互いに連結して環構造を形成してもよい。
前記Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²としては、例えば水素原子、又は炭素原
子数１〜１２の無置換のアルキル基、アリール基、アル
ケニル基、シクロアルキル基などが好適に挙げられ、具
体的には水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、
ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられ、これらの基は、さらに置換
基を有していてもよい。Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²が互いに連結して環
構造を形成する場合、その環状基としては、例えばフェ
ニレン基、ナフチレン基、シクロヘキセン基、シクロペ
ンテン基などが挙げられる。前記置換基としては、例え
ばハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボニル基、スルホ
ン酸エステル、ニトロ基、ニトリル基などが挙げられ
る。

【０１０７】一般式（XII）中、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ
⁴⁶は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、塩素な
どのハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、又は置換基
を有していてもよい炭素原子数１〜１２のアルキル基、
アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリ
ール基、カルボニル基、カルボキシ基もしくはカルボン
酸エステル基などを表す。前記Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶
としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数
１〜１２の無置換のアルキル基、アルケニル基、炭素原
子数６〜１２のアリール基などが好適に挙げられ、具体
的にはメチル基、ビニル基、フェニル基、アリル基など
が挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していて
もよい。前記置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基、カルボニル基、スルホン酸エステル、ニト
ロ基、ニトリル基、カルボキシ基などが挙げられる。

【０１０８】環状酸無水物として、例えば無水フタル
酸、３，４，５，６−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、３−ヒドロキシ無水フタル酸、
３−メチル無水フタル酸、３−フェニル無水フタル酸、
無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイ
ン酸、フェニル無水マレイン酸、ジメチル無水マレイン
酸、ジクロロ無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸な
どが好適に挙げられる。環状酸無水物の含有量として
は、画像形成層の全固形分含量に対して0.５〜２０質量
％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、１〜１
０質量％が最も好ましい。前記含有量が0.５質量％未満
であると現像性の維持効果が不十分となることがあり、
２０質量％を超えると画像を形成できないことがある。

【０１０９】以下は、ネガ型平版印刷版の記録層を構成
する成分である。 −（Ｅ）熱により酸を発生する化合物− 画像形成材料がネガ型の場合、加熱時に酸を発生する化
合物（以下、「酸発生剤」という。）を併用する。この
酸発生剤は、１００℃以上に加熱することにより分解し
て酸を発生する化合物を増す。発生する酸としては、ス
ルホン酸、塩酸等の pＫa が２以下の強酸であることが
好ましい。前記酸発生剤としては、ヨードニウム塩、ス
ルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオ
ニウム塩を好適に挙げることができる。具体的には、米
国特許４，７０８，９２５号や特開平７−２０６２９号
に記載の化合物を挙げることができ、中でも、スルホン
酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウ
ム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。

【０１１０】前記ジアゾニウム塩としては、米国特許第
３，８６７，１４７号に記載のジアゾニウム塩化合物、
米国特許第２，６３２，７０３号明細書に記載のジアゾ
ニウム化合物、特開平１−１０２４５６号、特開平１−
１０２４５７号の各公報に記載のジアゾ樹脂も好適に挙
げることができる。また、米国特許第５，１３５，８３
８号、米国特許第５，２００，５４４号に記載のベンジ
ルスルホナート類、特開平２−１０００５４号、特開平
２−１０００５５号、特開平８−９４４４号に記載の活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。その他特開平７−２７１０２９号に記載の、ハロア
ルキル置換されたＳ−トリアジン類も好ましい。前記酸
発生剤の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に
対し0.０１〜５０質量％が好ましく、0.１〜４０質量％
がより好ましく、0.５〜３０質量％が最も好ましい。

【０１１１】−（Ｆ）酸により架橋する架橋剤− 平版印刷版原版がネガ型である場合、酸により架橋する
架橋剤（以下、単に「架橋剤」という場合がある。）を
併用する。前記架橋剤としては、以下のものを挙げるこ
とができる。 （ｉ）アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置
換された芳香族化合物 （ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル
基又はＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 さらに、特開平１１−２５４８５０号公報に記載のもの
やフェノール誘導体等も挙げることができる。

【０１１２】前記架橋剤の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し５〜８０質量％が好ましく、１０
〜７５質量％がより好ましく、２０〜７０質量％が最も
好ましい。前記フェノール誘導体を架橋剤として使用す
る場合、該フェノール誘導体の添加量としては、画像形
成材料の全固形分質量に対し５〜７０質量％が好まし
く、１０〜５０質量％がより好ましい。上記の各種化合
物の詳細については、特開２０００−２６７２６５号公
報に記載されている。

【０１１３】−その他の成分− アルカリ現像処理液を適用するのに好適な平版印刷版原
版の画像形成層には、必要に応じて、さらに種々の添加
剤を添加することができる。例えば、感度を向上させる
目的で、フェノール類、有機酸類、スルホニル化合物類
等の公知の添加剤を併用することもできる。フェノール
類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノー
ル、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，
４′，４″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，
４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，
５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。

【０１１４】前記有機酸類としては、、特開昭６０−８
８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスル
フィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安
息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、
３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。スルホニル化合物類としては、例え
ばビスヒドロキシフェニルスルホン、メチルフェニルス
ルホン、ジフェニルジスルホンなどが挙げられる。前記
のフェノール類、有機酸類又はスルホニル化合物類の添
加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、0.０
５〜２０質量％が好ましく、0.１〜１５質量％がより好
ましく、0.１〜１０質量％が最も好ましい。

【０１１５】また、現像条件に対する処理性の安定性を
拡げる目的で、特開昭６２−２５１７４０号公報、特開
平３−２０８５１４号公報等に記載の非イオン界面活性
剤、特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４
９号公報等に記載の両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７
号公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特
開平１１−２８８０９３号公報に記載されているような
フッ素含有のモノマー共重合体を添加することができ
る。非イオン界面活性剤としては、例えばソルビタント
リステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビ
タントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げられ
る。両性界面活性剤としては、例えばアルキルジ（アミ
ノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシ
ン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テト
ラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば商品名：アモー
ゲンＫ、第１工業（株）製）などが挙げられる。シロキ
サン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアル
キレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例
として（株）チッソ社製、ＤＢＥ−２２４、ＤＢＥ−６
２１、ＤＢＥ−７１２、ＤＢＰ−７３２、ＤＢＰ−５３
４、独Ｔｅｇｏ社製、Tego Glide 100等のポリアルキレ
ンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。前記
界面活性剤の使用量としては、画像形成層の全固形分質
量に対し、0.０５〜１５質量％が好ましく、0.１〜５質
量％がより好ましい。

【０１１６】前記画像形成層には、露光による加熱後、
直ちに可視像を得るための焼き出し剤や画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。前記焼き出し剤
としては、例えば、露光による加熱によって酸を発生す
る化合物と塩を形成しうる有機染料との組合せが挙げら
れる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、特開昭
５３−８１２８号の各公報に記載の、ｏ−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料との組合せ、特開昭５３−３６２２３号、特開昭５４
−７４７２８号、特開昭６０−３６２６号、特開昭６１
−１４３７４８号、特開昭６１−１５１６４４号及び特
開昭６３−５８４４０号の各公報に記載の、トリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せ、が挙げられ
る。前記トリハロメチル化合物として、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物があり、いずれも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。前記画像着色
剤としては、例えば、前記塩形成性有機染料以外に、他
の染料を用いることができ、例えば、油溶性染料、塩基
性染料が好適に挙げられる。

【０１１７】具体的には、オイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業
（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイ
オレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、メチルバイオレット
（Ｃ．Ｉ．４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（Ｃ．Ｉ．１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（Ｃ．Ｉ．４２０００）、メチレンブルー（Ｃ．Ｉ．
５２０１５）等を挙げることができる。また、特開昭６
２−２９３２４７号公報に記載の染料は、特に好まし
い。前記各種染料の添加量としては、画像形成層の全固
形分質量に対し、0.０１〜１０質量％が好ましく、0.１
〜３質量％がより好ましい。

【０１１８】また、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することができる。可
塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマーな
どが挙げられる。

【０１１９】さらに必要に応じて、以下の種々添加剤を
添加することができる。例えば、オニウム塩、ｏ−キノ
ンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スル
ホン酸エステル化合物等の、熱分解性で、未分解状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる化合物を併用することができる。該化合物の添
加は、画像部の現像液への溶解阻止能の向上を図る点で
好ましい。前記オニウム塩としては、例えばジアゾニウ
ム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
などが挙げられる。中でも、例えばS.I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974), T.S.Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), 特開昭５−１５８２３０号
公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，
０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０
１４０号に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988)、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，
０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、J. V. Criv
elloet et al. Macromolecules, 10(6), 1307 (1977)、
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p.31 (1988)、欧州特許
第１０４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同
第４１０，２０１号、特開平２−１５０８４８号、特開
平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、

【０１２０】J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985)、J. V. Crivello et al, J.Org. Chem., 43,
3055 (1978)、W. R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984)、J. V. Crivello et
al, Polymer bull., 14, 279 (1985)、J. V. Crivello
et al, Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J.V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), 欧州特許第３７０，６９３号、同２
３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４
２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０
２，１１４号、同４１０，２０１号、同３９９，０４９
号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４
号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，
６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５
８１号に記載のスルホニウム塩、

【０１２１】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977), J.V. Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen et al, The Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988)に記載の
アルソニウム塩などが挙げられる。上記のうち、ジアゾ
ニウム塩が好ましく、中でも、特開平５−１５８２３０
号公報に記載のものがより好ましい。

【０１２２】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５
−スルホサチリル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２
−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスル
ホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸などを挙げることが
できる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸などのアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。

【０１２３】前記ｏ−キノンジアジド化合物としては、
少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物
で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものが挙げら
れ、種々の構造の化合物を用いることができる。前記ｏ
−キノンジアジドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能
を喪失し、且つｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶
性の物質に変化する、両効果により平版印刷版原版の溶
解性を助ける。

【０１２４】上記のようなｏ−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティ
ブ・システムズ」（John Wiley & Sons. Inc.）第３３
９〜３５２頁に記載の化合物が使用可能であるが、中で
も、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物又は芳香族アミ
ノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸
エステル又はスルホン酸アミドが好ましい。また、特開
昭４３−２８４０３号公報に記載の、ベンゾキノン
（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又は、米国
特許第３，０４６，１２０号、同第３，１８８，２１０
号に記載のベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホ
ン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジ
ド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルも好ましい。

【０１２５】さらに、ナフトキノン−（１，２）−ジア
ジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも好ましい。その他、例えば特開昭４
７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４
８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭
４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公
昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公
昭４９−１７４８１号、米国特許第２，７９７，２１３
号、同ぢ３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２
３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４
９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２
２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，
２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第
１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４、８９０号
などに記載のものも有用である。これらの化合物は単独
でも、数種を組み合わせて混合物として使用してもよ
い。前記オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香
族スルホン酸エステル等の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し、0.１〜５０質量％が好ましく、
0.５〜３０質量％がより好ましく、0.５〜２０質量％が
最も好ましい。

【０１２６】その他、画像のディスクリミネーションの
強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特
開２０００−１８７３１８号公報に記載されているよう
な、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基
を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合
成分とする重合体を併用することが好ましい。添加量と
しては画像形成層の全固形分質量に対し、0.１〜１０質
量％が好ましく、より好ましくは0.５〜５質量％であ
る。また、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面
の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもでき
る。具体的には、米国特許第６１１７９１３号明細書に
開示されているような長鎖アルキルカルボン酸のエステ
ルなどを挙げることができる。その添加量として好まし
いのは、画像形成層の全固形分質量に対し0.１〜１０質
量％であり、より好ましくは0.５〜５質量％である。ま
た、画像形成層の溶解性を調節する目的で種々の溶解抑
制剤を含んでもよい。溶解抑制剤としては、特開平１１
−１１９４１８号公報に記載されるようなジスルホン化
合物又はスルホン化合物が好適に用いられ、具体例とし
て4,4'-ビスヒドロキシフェニルスルホンを用いること
が好ましい。その添加量として好ましいのは、画像形成
層の全固形分質量に対し0.０５〜２０質量％であり、よ
り好ましくは0.５〜１０質量％である。

【０１２７】本発明の製版方法を適用し得る平版印刷版
原版の具体例として、特願２０００−３７８５０７号に
開示されるような画像形成層を２層構造のポジ型感熱層
とした平版印刷版原版も挙げられる。即ちこのポジ型感
熱層は積層構造を有し、表面（露光面）に近い位置に設
けられている感熱層と、支持体に近い側に設けられてい
るアルカリ可溶性樹脂、アルカリ可溶性高分子化合物を
含有する下層とを有することを特徴とする。該感熱層と
下層の双方に或いは一方に、上述してきた（Ａ）赤外線
吸収剤、（Ｂ１）カルボキシル基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物、（Ｂ２）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）
該（Ｂ１）及び（Ｂ２）のアルカリ可溶性高分子化合物
と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ
水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該
溶解性低下作用が減少する化合物、その他の成分などを
含有させることができる。下層で用いられるアルカリ可
溶性樹脂としては、アクリル樹脂が、緩衝作用を有する
有機化合物と塩基とを主成分とするアルカリ現像液に対
して下層の溶解性を良好に保持し得るため、現像時の画
像形成の観点から好ましい。さらにこのアクリル樹脂と
してスルホアミド基を有するものが特に好ましい。ま
た、感熱層で用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、
未露光部では強い水素結合性を生起し、露光部において
は、一部の水素結合が容易に解除される点などからフェ
ノール性水酸基を有する樹脂が望ましい。更に好ましく
はノボラック樹脂である。赤外線吸収剤は、感熱層のみ
ならず、下層にも添加することができる。下層に赤外線
吸収剤を添加することで下層も感熱層として機能させる
ことができる。下層に赤外線吸収剤を添加する場合に
は、上部の感熱層におけるのと互いに同じ物を用いても
よく、また異なる物を用いてもよい。その他の添加剤は
下層のみに含有させてもよいし、感熱層のみに含有させ
てもよく、更に両方の層に含有させてもよい。

【０１２８】平版印刷版原版の画像形成層（上記２層構
造も含む）は、上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支
持体上に塗布することができる。溶媒として、例えばエ
チレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２
−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−
メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチル
ウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、α−ブチロラクトン、トルエンなどが
挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記
溶媒は単独でも２種以上を混合してもよい。

【０１２９】画像形成層を２層構造とする場合、感熱層
に用いるアルカリ可溶性樹脂と下層に用いるアルカリ可
溶性樹脂に対して溶解性の異なるものを選ぶことが好ま
しい。つまり、下層を塗布した後、それに隣接して上層
である感熱層を塗布する際、最上層の塗布溶剤として下
層のアルカリ可溶性樹脂を溶解させうる溶剤を用いる
と、層界面での混合が無視できなくなり、極端な場合、
重層にならず均一な単一層になってしまう場合がある。
このため、上部の感熱層を塗布するのに用いる溶剤は、
下層に含まれるアルカリ可溶性樹脂に対する貧溶剤であ
ることが好ましい。

【０１３０】画像形成層を塗布する場合の溶媒中の上記
成分の全固形分濃度は、一般的に１〜５０質量％が好ま
しい。また、支持体上に塗布、乾燥して設けられる画像
形成層の乾燥塗布量（固形分）としては、一般的に０．
５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。２層構造とする場合に
は、感熱層は０．０５〜１．０ｇ／ｍ²であり、下層は
０．３〜３．０ｇ／ｍ²であることが好ましい。塗布量
が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画
像形成層の皮膜特性は低下する。支持体上に塗布する方
法としては、公知の種々の方法の中から適宜選択できる
が、例えばバーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
グレード塗布、ロール塗布などを挙げることができる。
画像形成層用塗布液中には、塗布性を良化する目的で界
面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記
載のフッ素系界面活性剤などを添加することができる。
その添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し
て0.０１〜１質量％が好ましく、0.０５〜0.５質量％が
より好ましい。

【０１３１】−支持体− 平版印刷版原版の支持体としては、例えば純アルミニウ
ム板、アルミニウム合金板、アルミニウムがラミネート
もしくは蒸着されたプラスチックフィルムなどが挙げら
れる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、ケイ酸ソ
ーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩などの
水溶液への浸透処理、あるいは、陽極酸化処理などの表
面処理が施されていることが好ましい。また、米国特許
第２，７１４，０６６号明細書に記載の砂目立てした後
にケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理したアルミニウ
ム板、特公昭４７−５１２５号公報に記載のアルミニウ
ム板を陽極酸化処理した後、アルカリ金属ケイ酸塩の水
溶液中で浸漬処理したアルミニウム板も好ましい。

【０１３２】前記陽極酸化処理としては、例えば塩酸、
硫酸、リン酸、クロム酸、硝酸、ホウ酸などの無機酸若
しくは蓚酸、スルファミン酸などの有機酸又はこれらの
塩の水溶液若しくは非水溶液の単独若しくは二種以上を
組み合わせた電解液中で、アルミニウム板を陽極として
電極を流すことにより施される。また、米国特許第３，
６５８，６６２号明細書に記載のシリケート電着も有効
である。

【０１３３】また、米国特許第４，０８７，３４１号明
細書、特公昭４６−２７４８１号公報、特開昭５２−３
０５０３号公報に記載の、電解グレインを施した支持体
に前記陽極酸化処理を施したものも有用である。米国特
許第３，８３４，９９８号明細書に記載の砂目立てした
後、化学的にエッチングし、さらに陽極酸化処理したア
ルミニウム板も有用である。これらの処理は支持体の表
面を親水性とする目的で施されるほか、支持体上に設け
られる画像形成層との有害な反応を防止する目的、画像
形成像との密着性を向上させる目的などの種々の目的で
施される。

【０１３４】平版印刷版原版は、支持体上に少なくとも
画像形成層を積層して設けたものであるが、必要に応じ
て支持体上に下塗り層を設けることができる。下塗り層
に用いる成分としては、種々の有機化合物が挙げられ、
例えばカルボキシメチルセルロース、デキストリン、ア
ラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ
基を有するホスホン酸類；置換基を有していてもよいフ
ェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホス
ホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及
びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸；置換基
を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸；
置換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロ
ホスフィン酸などの有機ホスフィン酸；グリシンやβ−
アラニンなどのアミノ酸類；トリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩など
が挙げられる。前記有機化合物は、１種単独で用いても
よく、２種以上を混合して用いてもよい。また、前述し
たジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様であ
る。

【０１３５】また、下塗り層としては、下記一般式（XI
II）で表される構成単位を有する有機高分子化合物の少
なくとも１種を含む有機下塗り層も好ましい。

【０１３６】

【０１３７】式中、Ｒ⁵¹は水素原子、ハロゲン原子又は
アルキル基を表し、Ｒ⁵²及びＲ⁵³は、それぞれ独立に水
素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、−ＯＲ⁵⁴、−Ｃ
ＯＯＲ⁵⁵、−ＣＯＮＨＲ⁵⁶、−ＣＯＲ⁵⁷又は−ＣＮを表
し、前記Ｒ⁵²及びＲ⁵³は互いに結合して環構造を形成し
てもよい。ここで、Ｒ⁵⁴〜Ｒ⁵⁷はそれぞれ独立にアルキ
ル基又はアリール基を表す。Ｘは水素原子、金属原子、
−ＮＲ⁵⁸Ｒ⁵⁹Ｒ⁶⁰Ｒ⁶¹を表す。ここで善意Ｒ⁵⁸〜Ｒ⁶¹は
それぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基又は置換アリール基を表し、Ｒ⁵⁸及びＲ
⁵⁹は互いに結合して環構造を形成してもよい。ｍは１〜
３の整数を表す。下塗り層の乾燥塗布量としては２〜２
００ｍｇ／ｍ²が好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ²がより
好ましい。この乾燥塗布量が２ｍｇ／ｍ²未満であると
十分な膜性が得られないことがある。一方２００ｍｇ／
ｍ²を超えて塗布しても、それ以上の効果を得ることは
できない。

【０１３８】下塗り層は下記方法により設けることがで
きる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエ
チルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に
前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアルミニ
ウム板などの支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、
水又はメタノール、エタノール、エチルエチルケトンな
どの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合
物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板など
の支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、その後
水等で洗浄、乾燥して設ける方法である。

【０１３９】前者の方法では、前記有機化合物の０．０
０５〜１０質量％濃度の下塗り層用溶液を用いることが
好ましい。一方、後者の方法では、下塗り層用溶液の前
記有機化合物の濃度としては、０．０１〜２０質量％が
適当であり、好ましくは０．０５〜１０質量％、より好
ましくは０．１〜５質量％である。また、浸漬温度とし
ては２０〜９０℃が好ましく、２５〜５０℃がより好ま
しい。浸漬時間としては０．１秒〜２０分が好ましく、
２秒〜１分がより好ましい。下塗り層用溶液はアンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や塩酸、リン酸などの酸性物質を用いてｐＨ１〜１２
の範囲に調整することもできる。また、調子再現性改良
を目的として黄色染料を追加することもできる。

【０１４０】上記のようにして作成された平版印刷版原
版は赤外線レーザーで記録することができる他、紫外線
ランプによる記録やサーマルヘッド等による熱的な記録
も可能である。前記赤外線レーザーとしては波長７００
〜１２００ｎｍの赤外線を放射するレーザーが好まし
く、同波長範囲の赤外線を放射する固体レーザー又は半
導体レーザーがより好ましい。

【０１４１】

【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版用アルカリ現
像処理液は、その使用中に感光層成分が溶け込んでも一
定の性能を維持することができ、該現像処理液で赤外線
吸収剤を含む画像形成層を有する平版印刷版原版を処理
することにより、現像性を維持しながら画像部に画像欠
陥を招くことなく、エッジ調の高鮮鋭で鮮明な画像を形
成することができる。

【０１４２】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、
実施例中の「％」は全て「質量％」を表す。

【非シリケート系アルカリ現像処理液の調製】非還元糖
と塩基とを組み合わせたＤ−ソルビット／酸化カリウム
Ｋ₂Ｏよりなるカリウム塩５．０％水溶液１リットルに
以下に示す各種ノニオン界面活性剤又はアルキレンオキ
シド付加化合物Ａ〜Ｍ、各種金属の塩類ａ〜ｚを表１に
記載の濃度(g/リットル)で添加し、本発明のアルカリ現
像処理液（１）〜（５０）を作製した。比較のため、上
記組成で金属の塩類を含まないものを現像処理液(１０
１)とし、ノニオン界面活性剤、アルキレンオキシド付
加化合物及び金属の塩類のいずれも含まないものを現像
処理液(１０２)とした。

【シリケート系アルカリ現像処理液の調製】酸化ケイ素
ＳｉＯ₂及び酸化カリウムＫ₂Ｏの混合比ＳｉＯ₂／Ｋ₂Ｏ
が１．１のケイ酸カリウム４．０％水溶液１リットル
に、以下に示す各種ノニオン界面活性剤又はアルキレン
オキシド付加化合物Ａ〜Ｍ、各種金属の塩類ａ〜ｚを表
２に記載の濃度(g/リットル)で添加し、本発明のアルカ
リ現像処理液（５１）〜（１００）を作製した。比較の
ため、上記組成で金属の塩類を含まないものを現像処理
液(１０３)とし、ノニオン界面活性剤、アルキレンオキ
シド付加化合物及び金属の塩類のいずれも含まないもの
を現像処理液(１０４)とした。

【０１４３】実施例で使用したノニオン界面活性剤又は
アルキレンオキシド付加化合物Ａ〜Ｍ

【０１４４】実施例で使用した金属塩ａ〜ｚ a.グルコン酸カルシウム b.グリコール酸カルシウム c.レブリン酸カルシウム d.酒石酸カルシウム e.プロピオン酸カルシウム f.塩化カルシウム g.硝酸カルシウム h.ぎ酸カルシウム j.酢酸ベリリウム k.酢酸マグネシウム l.酢酸ストロンチウム m.酢酸バリウム n.酢酸スカンジウム o.酢酸チタン p.酢酸バナジウム q.酢酸クロム r.酢酸マンガン s.酢酸鉄 t.酢酸コバルト u.酢酸ニッケル v.酢酸銅 w.酢酸亜鉛 x.酢酸アルミニウム y.酢酸スズ z.酢酸ビスマス

【０１４５】

【表１】非シリケート系アルカリ現像処理液

【０１４６】

【表２】シリケート系アルカリ現像処理液

【０１４７】

【実施例１〜１００及び比較例１〜４】実施例１〜１０
０及び比較例１〜４で用いる赤外線感光性平版印刷版を
以下のように作製し、実施例１〜５０として各々、アル
カリ現像処理液(1)〜(50)で処理し、比較例１〜２とし
て各々、アルカリ現像処理液（101）及び(102)で処理
し、実施例５１〜１００として各々、アルカリ現像処理
液（51）〜(100)で処理し、比較例３〜４として各々、
アルカリ現像処理液(103)及び(104)で処理した。

【０１４８】＜平版印刷版原版の作成１＞０．３ｍｍ厚
のアルミニウム板(材質１０５０)をトリクロロエチレン
で洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシ
ュのパミス−水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。洗浄後、このアルミニウム板を４５
℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエ
ッチングを行い、水洗した後、さらに２０％硝酸水溶液
に２０秒間浸漬し、再度水洗した。このときの砂目立て
表面のエッチング量は、約３ｇ／ｍ ²であった。

【０１４９】次に、このアルミニウム板を７％硫酸を電
解液として、電流密度１５Ａ／ｄｍ ²の直流電流で３ｇ
／ｍ²の陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥した。こ
れを、３０℃の珪酸ナトリウム２．５％水溶液で１０秒
処理し、下記下塗り層用塗布液を塗布し、８０℃下で１
５秒間乾燥して支持体を得た。乾燥後の下塗り層の乾燥
塗布量は、１５ｍｇ／ｍ²であった。

【０１５０】＜下塗り層用塗布液＞ 下記共重合体Ｐ(分子量２８０００) ０．３ｇ メタノール １００ｇ 水 １ｇ

【０１５１】

【０１５２】合成例１（Ｂ１成分：カルボキシル基を有
するアルカリ可溶性高分子化合物（共重合体）の合成） 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた２０ml三ッ口フ
ラスコに、メタクリル酸ｎ−プロピル６．３９ｇ（０．
０４５モル）、メタクリル酸１．２９ｇ（０．０１５モ
ル）及び１−メトキシ−２−プロパノール２０ｇを入
れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「Ｖ−６０１」（和光純薬（株）製）
０．１５ｇを加え７０℃に保ちながら窒素気流下２時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにメタクリル
酸ｎ−プロピル６．３９ｇ（０．０４５モル）、メタク
リル酸１．２９ｇ（０．０１５モル）、１−メトキシ−
２−プロパノール２０ｇ及び「Ｖ−６０１」０．１５ｇ
の混合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴
下終了後、さらに９０℃で２時間得られた混合物を攪拌
した。反応終了後、メタノール４０ｇを混合物に加え、
冷却し、得られた混合物を水２リットルにこの水を攪拌
しながら投入し、３０分混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより１５ｇの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
によりこの共重合体の重量平均分子量（ポリスチレン標
準）を測定したところ５３，０００であった。

【０１５３】合成例２（Ｂ１成分：カルボキシル基を有
するアルカリ可溶性高分子化合物（共重合体）の合成） 上記合成例１と同様の操作によって、メタクリル酸エチ
ル／メタクリル酸イソブチル／メタクリル酸（モル％:3
5/35/30）を使用して共重合体を合成した。その重量平
均分子量（ポリスチレン標準）を測定したところ５０，
０００であった。

【０１５４】合成例３（Ｂ１成分：カルボキシル基を有
するポリウレタン樹脂の合成） 冷却管コンデンサー、攪拌機を備えた５００mlの三ッ口
丸底フラスコに、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プ
ロピオン酸１４．６ｇ（０．１０９モル）、テトラエチ
レングリコール１３．３ｇ（０．０６８６モル）及び
１，４−ブタンジオール２．０５ｇ（０．０２２８モ
ル）を加え、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１１８ｇに
溶解した。これに、４，４′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート３０．８ｇ（０．１２３モル）、ヘキサメチ
レンジイソシアネート１３．８ｇ（０．０８１９モル）
及び触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ０．１
ｇを添加し、攪拌下、９０℃、７時間加熱した。この反
応液にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ml、メタノ
ール５０ml及び酢酸５０mlを加え、攪拌した後に、これ
を水４リットル中に攪拌しながら投入し、白色のポリマ
ーを析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄
後、減圧乾燥させることにより、６０ｇのポリマーを得
た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰ
Ｃ）にて分子量を測定したところ、重量平均（ポリスチ
レン標準）で７０，０００であった。また、滴定により
カルボキシル基含量を測定したところ１．４３meq／ｇ
であった。

【０１５５】合成例４（Ｂ１成分：カルボキシル基を有
するポリウレタン樹脂の合成） 以下のジイソシアネート化合物（モル％） 及び以下のジオール化合物（モル％） を用いて、合成例３と同様にして共重合体を合成した。
得られた共重合体の滴定による酸含量は１．７２meq／
ｇであり、重量平均分子量（ポリスチレン標準）は８
０，０００であった。

【０１５６】合成例５（Ｂ２成分の合成） 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた５００ml三つ口
フラスコにメタクリル酸３１．０ｇ（０．３６モル）、
クロロギ酸エチル３９．１ｇ（０．３６モル）及びアセ
トニトリル２００mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合
物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン３６．４
ｇ（０．３６モル）を約１時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で３
０分間混合物を攪拌した。この反応混合物にp-アミノベ
ンゼンスルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加
え、油浴にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌し
た。反応終了後、この混合物を水１リットルにこの水を
攪拌しながら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌し
た。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水
５００mlでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、
得られた固体を乾燥することにより、N-(p-アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られ
た（収量４６．９ｇ）

【０１５７】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た２０ml三つ口フラスコにN-(p-アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド４．６１ｇ、（０．０１９２モ
ル）、メタクリル酸エチル２．９４ｇ（０．０２５８モ
ル）、アクリロニトリル０．８０ｇ（０．０１５モル）
及びN,N-ジメチルアセトアミド２０ｇを入れ、湯水浴に
より６５℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合
物に「Ｖ-６５」（和光純薬（株）製）０．１５ｇを加
え、６５℃に保ちながら窒素気流下２時間混合物を攪拌
した。この反応混合物にさらにN-(p-アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド４．６１ｇ、メタクリル酸
エチル２．９４ｇ、アクリロニトリル０．８０ｇ、N,N-
ジメチルアセトアミド及び「Ｖ−６５」０．１５ｇの混
合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終
了後、さらに６５℃で２時間得られた混合物を攪拌し
た。反応終了後、メタノール４０ｇを混合物に加え、冷
却し、得られた混合物を水２リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、３０分間混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより１５ｇの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により、この特定の共重合体の重量平均分子量（ポリス
チレン標準）を測定したところ、５３，０００であっ
た。

【０１５８】得られた支持体上に下記画像形成層塗布液
を塗布し、１５０℃、３０秒乾燥させて、乾燥塗布量を
１．８ｇ／ｍ²とし、ポジ型の平版印刷版原版を得た。 ＜画像形成層用塗布液＞ 上記合成例２の共重合体［（Ｂ１）成分］ ０．０５０ｇ 上記合成例４の共重合体［（Ｂ１）成分］ ０．０５０ｇ 上記合成例５の共重合体［（Ｂ２）成分］ ０．４ｇ ｍ，ｐ−クレゾールノボラック［（Ｂ２）成分］ ０．６ｇ （ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量８０００、 未反応クレゾールを０．５％含有） シアニン染料Ａ［（Ａ＋Ｃ）成分］ ０．１ｇ 無水フタル酸［（Ｄ）成分］ ０．０５ｇ ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００２ｇ エチルバイオレット ０．０２ｇ （対イオン：６−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸） ナフトキノン１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 ０．０１ｇ フッ素系界面活性剤 ０．０５ｇ (商品名：メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン ８ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ４ｇ

【０１５９】上記より得られた平版印刷版原版に出力５
００ｍＷ、波長８３０ｎｍビーム径１７μｍ（１／
ｅ²）の半導体レーザーを用いて主走査速度５ｍ／秒に
て露光し、２５℃に保持した。この平版印刷版原版を、
上記の各種アルカリ現像処理液を満たした自動現像機Ｐ
Ｓ９００ＮＰ(富士写真フイルム（株）製)により、現像
温度３０℃、１２秒で現像処理した。補充液の補充なし
に、５０ｍ²、１００ｍ²、２００ｍ²、３００ｍ²、４０
０ｍ²、５００ｍ²と処理した。現像処理が終了したの
ち、水洗工程を経て、ガム（ＧＵ−７（１：１））など
で処理して、製版が完了した平版印刷版を得た。

【０１６０】＜画像部／非画像部のバランスの評価＞ （非画像部の現像性の評価）上記のようにして現像直
後、５０ｍ²、１００ｍ²、２００ｍ²、３００ｍ²、４０
０ｍ²、５００ｍ²と処理して得た平版印刷版の非画像部
の現像性を「非画像部の残膜の有無」を観察することで、
官能評価を行った。その結果を表３〜表５に示す。 −基準− ○：十分に現像され、非画像部上の画像形成層の残存は
認められなかった。印刷物上に汚れがなかった。 △：非画像部上に画像形成層が若干残存していた。印刷
物上には汚れがなかった。 ×：現像不良が認められ、非画像部に画像形成層が残存
していた。印刷物上に汚れが発生した。

【０１６１】＜画像部の膜べりの評価＞上記のようにし
て現像直後、５０ｍ²、１００ｍ²、２００ｍ²、３００
ｍ²、４００ｍ²、５００ｍ²と処理して得た平版印刷版
の「画像部の欠陥」を下記基準に従い、目視により観察
し、官能評価を行った。評価結果を表６〜表８に示す。 −基準− ○：画像部に欠陥は認められなかった。印刷物上でも画
像部の白ぬけはなかった。 △：画像部濃度が若干低下し、一部に欠陥が認められ
た。印刷物上では、画像部の白ぬけはなかった。 ×：画像部濃度が大幅に低下し、画像部に欠陥した部分
有り。印刷物上に画像部の白ぬけが発生した。

【０１６２】

【表３】

【０１６３】

【表４】

【０１６４】

【表５】

【０１６５】

【表６】

【０１６６】

【表７】

【０１６７】

【表８】

【０１６８】

【実施例１０１〜２００及び比較例５〜８】実施例１０
１〜２００及び比較例５〜８で用いる赤外線感光性平版
印刷版を以下のように作製し、実施例１０１〜１５０と
して各々、アルカリ現像処理液(1)〜(50)で処理し、比
較例５〜６として各々、アルカリ現像処理液（101）及
び(102)で処理し、実施例１５１〜２００として各々、
アルカリ現像処理液（51）〜(100)で処理し、比較例７
〜８として各々、アルカリ現像処理液(103)及び(104)で
処理した。

【０１６９】＜平版印刷版原版の作成２＞上記の＜平版
印刷版原版の作成１＞で使用したのと同様に処理し下塗
り層を設けたアルミニウム支持体に、以下の感光液２を
塗布量が０．１６ｇ／ｍ²になるようにワイヤーバーで
塗布した後、TABAI社製 PERFECT OVER PH200にてWindCo
ntrolを７に設定して140℃、50秒で乾燥した。更にその
上に感光液３を塗布量が０．８５ｇ／ｍ²になるように
ワイヤーバーで塗布した後、TABAI社製 PERFECT OVER P
H200にてWindControlを７に設定して120℃、60秒で乾燥
し、２層構成の感熱層を有する平版印刷版原版を得た。

【０１７０】 （感光液２） 上記合成例２の共重合体 ０．０５０ｇ 上記合成例４の共重合体 ０．０５０ｇ N-(4-アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル （36/34/30重量平均分子量50000） １．８９６ｇ クレゾールノボラック（m/p=6/4 重量平均分子量4500、 残存モノマー0.8wt%） ０．２３７ｇ シアニン染料Ａ ０．１０９ｇ 4,4'-ビスヒドロキシフェニルスルホン ０．０６３ｇ 無水テトラヒドロフタル酸 ０．１９０ｇ ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００８ｇ エチルバイオレットの対イオンを 6-ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたもの ０．０５ｇ フッ素系界面活性剤（F176、大日本インキ工業(株)社製） ０．０３５ｇ メチルエチルケトン ２６．６ｇ 1-メトキシ-2-プロパノール １３．６ｇ γ−ブチロラクトン １３．８ｇ

【０１７１】 （感光液３） 上記合成例２の共重合体 ０．０５０ｇ 上記合成例４の共重合体 ０．０５０ｇ クレゾールノボラック（m/p=6/4 重量平均分子量4500、 残存モノマー0.8wt%） ０．２３７ｇ シアニン染料Ａ ０．０４７ｇ ステアリン酸ドデシル ０．０６０ｇ 3-メトキシ-4-ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート ０．０３０ｇ フッ素系界面活性剤（F176(20%溶液)、大日本インキ工業(株)社製） ０．１１０ｇ フッ素系界面活性剤（MCF312F(30%溶液)、大日本インキ工業(株)社製） ０．１２ｇ メチルエチルケトン １５．１ｇ 1-メトキシ-2-プロパノール ７．７ｇ

【０１７２】上記より得られた平版印刷版原版に出力５
００ｍＷ、波長８３０ｎｍビーム径１７μｍ（１／
ｅ²）の半導体レーザーを用いて主走査速度５ｍ／秒に
て露光し、２５℃に保持した。この平版印刷版原版を、
上記の各種アルカリ現像処理液を満たした自動現像機Ｐ
Ｓ９００ＮＰ(富士写真フイルム（株）製)により、現像
温度３０℃、１２秒で現像処理した。補充液の補充なし
に、５０ｍ²、１００ｍ²、２００ｍ²、３００ｍ²、４０
０ｍ²、５００ｍ²と処理した。現像処理が終了したの
ち、水洗工程を経て、ガム（ＧＵ−７（１：１））など
で処理して、製版が完了した平版印刷版を得た。

【０１７３】こうして製版された平版印刷版について、
実施例１〜１００と同様にして、非画像部の現像性及び
画像部の膜べりの評価を行った。その評価結果を、非画
像部の現像性について表９〜１１に、画像部の膜べりに
ついて表１２〜１４に示す。

【０１７４】

【表９】

【０１７５】

【表１０】

【０１７６】

【表１１】

【０１７７】

【表１２】

【０１７８】

【表１３】

【０１７９】

【表１４】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ノニオン界面活性剤又はアルキレンオキ
   シド付加化合物、並びに元素周期律表の第２族、第３
   族、第４族、第５族、第６族、第７族、第８族、第９
   族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、第１４
   族及び１５族から選ばれる金属の塩類を含有することを
   特徴とする、赤外線感光性平版印刷版用アルカリ現像処
   理液。
2. 【請求項２】 赤外線吸収剤を含む画像形成層を有する
   赤外線感光性平版印刷版を赤外線露光後、請求項１記載
   のアルカリ現像処理液で現像することを特徴とする平版
   印刷版の製版方法。