JP2003073139A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
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- JP2003073139A JP2003073139A JP2001266645A JP2001266645A JP2003073139A JP 2003073139 A JP2003073139 A JP 2003073139A JP 2001266645 A JP2001266645 A JP 2001266645A JP 2001266645 A JP2001266645 A JP 2001266645A JP 2003073139 A JP2003073139 A JP 2003073139A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01486—Means for supporting, rotating or translating the preforms being formed, e.g. lathes
- C03B37/01493—Deposition substrates, e.g. targets, mandrels, start rods or tubes
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光ファイバ化後に気泡が発生せず、かつ水
素、水酸基などによる吸収が少ない高品質の光ファイバ
を得ることができる光ファイバ母材の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 少なくとも１種類の添加物が含まれた組
成を有する石英系ガラスロッドの外周面にガラス層を形
成することにより新たなガラスロッドを得る工程を有す
る光ファイバ母材の製造方法において、該ガラス層が形
成される前のガラスロッドをその表面の最大粗さが０．
５μｍ以下となるように機械的手段で処理し、次いで前
記表面を洗浄した後に前記ガラス層を形成する。
素、水酸基などによる吸収が少ない高品質の光ファイバ
を得ることができる光ファイバ母材の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 少なくとも１種類の添加物が含まれた組
成を有する石英系ガラスロッドの外周面にガラス層を形
成することにより新たなガラスロッドを得る工程を有す
る光ファイバ母材の製造方法において、該ガラス層が形
成される前のガラスロッドをその表面の最大粗さが０．
５μｍ以下となるように機械的手段で処理し、次いで前
記表面を洗浄した後に前記ガラス層を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信用などの光
ファイバの製造の際に用いられる光ファイバ母材の製造
方法に関する。
ファイバの製造の際に用いられる光ファイバ母材の製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光ファイバを用いた光伝送におけ
る伝送容量を増大させる技術、および伝送距離の長距離
化を可能とする技術の検討が盛んに行われている。
る伝送容量を増大させる技術、および伝送距離の長距離
化を可能とする技術の検討が盛んに行われている。
【０００３】光伝送における伝送容量を増大させるため
には、モード分散による信号波形の劣化を防止するた
め、光伝送を行う光ファイバが使用波長においてシング
ルモード伝送可能なことが必要とされる。
には、モード分散による信号波形の劣化を防止するた
め、光伝送を行う光ファイバが使用波長においてシング
ルモード伝送可能なことが必要とされる。
【０００４】その過程で、光伝送路に使用される光ファ
イバとして、波長１３００ｎｍ付近にゼロ分散波長を有
するシングルモード光ファイバ（ＳＭＦ）がまず使用さ
れはじめ、次に波長１５５０ｎｍ付近にゼロ分散波長を
有する分散シフト光ファイバ（ＤＳＦ）が開発された。
これらの光ファイバは、主にゼロ分散波長付近で光伝送
を行う技術については適したものであった。
イバとして、波長１３００ｎｍ付近にゼロ分散波長を有
するシングルモード光ファイバ（ＳＭＦ）がまず使用さ
れはじめ、次に波長１５５０ｎｍ付近にゼロ分散波長を
有する分散シフト光ファイバ（ＤＳＦ）が開発された。
これらの光ファイバは、主にゼロ分散波長付近で光伝送
を行う技術については適したものであった。
【０００５】最近では、さらに伝送容量を増大させるた
めの技術として波長分割多重（ＷＤＭ）光伝送について
の研究開発がきわめて盛んに行われている。光ファイバ
をＷＤＭ光伝送に使用する場合には、使用波長帯にゼロ
分散波長が存在しないことが四光波混合（ＦＷＭ）を防
ぐ観点から要求されるため、使用波長帯にゼロ分散をも
たない分散シフト光ファイバ（ＮＺＤＳＦ）が開発され
た。
めの技術として波長分割多重（ＷＤＭ）光伝送について
の研究開発がきわめて盛んに行われている。光ファイバ
をＷＤＭ光伝送に使用する場合には、使用波長帯にゼロ
分散波長が存在しないことが四光波混合（ＦＷＭ）を防
ぐ観点から要求されるため、使用波長帯にゼロ分散をも
たない分散シフト光ファイバ（ＮＺＤＳＦ）が開発され
た。
【０００６】一方、広帯域ＷＤＭ光伝送を考慮した場
合、光伝送路には分散および分散スロープが極力小さい
ことが求められるが、非線形性を低くするために実効コ
ア断面積（Ａeff ）を大きくすることも必要とされてい
る。しかしながら、この両方の要求を満足する光伝送路
を１種類の光ファイバで実現することは困難であるた
め、場合によっては２種類以上の光ファイバを組み合わ
せて光伝送路を構成せざるを得なくなる。
合、光伝送路には分散および分散スロープが極力小さい
ことが求められるが、非線形性を低くするために実効コ
ア断面積（Ａeff ）を大きくすることも必要とされてい
る。しかしながら、この両方の要求を満足する光伝送路
を１種類の光ファイバで実現することは困難であるた
め、場合によっては２種類以上の光ファイバを組み合わ
せて光伝送路を構成せざるを得なくなる。
【０００７】例えば、前述のＳＭＦの分散を補償する光
ファイバとして分散補償光ファイバ（ＤＣＦ）が知られ
ており、前述のＤＳＦやＮＺＤＳＦの分散および分散ス
ロープを補償する光ファイバとして分散スロープ補償光
ファイバ（ＤＳＣＦ）が知られている。
ファイバとして分散補償光ファイバ（ＤＣＦ）が知られ
ており、前述のＤＳＦやＮＺＤＳＦの分散および分散ス
ロープを補償する光ファイバとして分散スロープ補償光
ファイバ（ＤＳＣＦ）が知られている。
【０００８】ところで、前述のＳＭＦ以外の光ファイバ
の屈折率分布は比較的複雑であり、例えばＤＳＦは中心
コアとクラッドとの間に１つの環状領域を有するものが
代表的であり、ＮＺＤＳＦ、ＤＣＦ、ＤＳＣＦについて
は中心コアとクラッドとの間に少なくとも２つの環状領
域を有するものが代表的である。
の屈折率分布は比較的複雑であり、例えばＤＳＦは中心
コアとクラッドとの間に１つの環状領域を有するものが
代表的であり、ＮＺＤＳＦ、ＤＣＦ、ＤＳＣＦについて
は中心コアとクラッドとの間に少なくとも２つの環状領
域を有するものが代表的である。
【０００９】これらの屈折率分布が複雑な光ファイバの
製造方法として、石英系ガラスロッドの外周面にガラス
層を形成することにより新たな石英系ガラスロッドを得
る方法が知られている。また、この方法において屈折率
分布を形成するために、ゲルマニウムなどを添加して屈
折率を上昇させ、あるいはフッ素などを添加して屈折率
を低下させることも知られている。
製造方法として、石英系ガラスロッドの外周面にガラス
層を形成することにより新たな石英系ガラスロッドを得
る方法が知られている。また、この方法において屈折率
分布を形成するために、ゲルマニウムなどを添加して屈
折率を上昇させ、あるいはフッ素などを添加して屈折率
を低下させることも知られている。
【００１０】また、この技術を繰り返し適用すること
で、屈折率の異なる複数のガラス層を容易に形成するこ
とが可能となる。この場合、ガラスロッドの外周面に新
たなガラス層を形成した後、加熱延伸して適度な外径を
有する新たなガラスロッドを作製して、その外周面にさ
らに新たなガラス層を形成することを繰り返すこととな
る。
で、屈折率の異なる複数のガラス層を容易に形成するこ
とが可能となる。この場合、ガラスロッドの外周面に新
たなガラス層を形成した後、加熱延伸して適度な外径を
有する新たなガラスロッドを作製して、その外周面にさ
らに新たなガラス層を形成することを繰り返すこととな
る。
【００１１】ところで、光通信に用いられる光ファイバ
には、光信号を増幅するために用いられる光増幅用光フ
ァイバ、単一の偏波状態を維持して光信号を伝送する定
偏波光ファイバなど、主に部品として使用される光ファ
イバもある。以下、光増幅用光ファイバについて例示す
る。
には、光信号を増幅するために用いられる光増幅用光フ
ァイバ、単一の偏波状態を維持して光信号を伝送する定
偏波光ファイバなど、主に部品として使用される光ファ
イバもある。以下、光増幅用光ファイバについて例示す
る。
【００１２】一般に、光増幅用光ファイバのコア部分と
しては、エルビウムなどの希土類元素と、アルミニウ
ム、リン、ゲルマニウム、フッ素などの添加物が含まれ
た石英系ガラスが使用されている。
しては、エルビウムなどの希土類元素と、アルミニウ
ム、リン、ゲルマニウム、フッ素などの添加物が含まれ
た石英系ガラスが使用されている。
【００１３】また、光増幅用光ファイバを製造する際に
は、コア部分となるガラスロッドを作製し、その外周面
に新たなガラス層を形成した後に、加熱延伸して適度な
外径を有する新たなガラスロッドを作製する技術を用い
ることができる。この製造方法により、他の製造方法と
比較して大型の母材を得ることが可能となり、光増幅用
光ファイバを安価に提供することが可能となっている。
は、コア部分となるガラスロッドを作製し、その外周面
に新たなガラス層を形成した後に、加熱延伸して適度な
外径を有する新たなガラスロッドを作製する技術を用い
ることができる。この製造方法により、他の製造方法と
比較して大型の母材を得ることが可能となり、光増幅用
光ファイバを安価に提供することが可能となっている。
【００１４】ここで、上述のガラスロッドの外周面にガ
ラス微粒子を堆積させた後にガラス化を行うことによ
り、新たなガラス層を形成する方法では、ガラスロッド
外周面を研磨してガラスロッドの断面を真円化すること
が、偏波モード分散（ＰＭＤ）の影響を抑制する観点な
どから望ましいとされている。
ラス微粒子を堆積させた後にガラス化を行うことによ
り、新たなガラス層を形成する方法では、ガラスロッド
外周面を研磨してガラスロッドの断面を真円化すること
が、偏波モード分散（ＰＭＤ）の影響を抑制する観点な
どから望ましいとされている。
【００１５】また、ガラスロッドの表面の粗さが大きい
と、ガラスロッドの外周面にガラス管を被せて、あるい
は、ガラス微粒子を堆積させてガラス層を形成したとき
に、界面に気泡が発生する恐れがあるため、ガラスロッ
ドの表面の粗さは極力小さくする必要がある。なかで
も、ガラスロッドの表面にガラス微粒子を堆積させてガ
ラス層を形成する方法を用いる場合においては、ガラス
ロッドの表面の粗さを特に小さくする必要がある。
と、ガラスロッドの外周面にガラス管を被せて、あるい
は、ガラス微粒子を堆積させてガラス層を形成したとき
に、界面に気泡が発生する恐れがあるため、ガラスロッ
ドの表面の粗さは極力小さくする必要がある。なかで
も、ガラスロッドの表面にガラス微粒子を堆積させてガ
ラス層を形成する方法を用いる場合においては、ガラス
ロッドの表面の粗さを特に小さくする必要がある。
【００１６】石英系ガラスロッドの研磨方法には、特開
平６−５６４４８号公報に開示されているガラスロッド
表面を火炎で研磨する方法、特開２０００−２３３９３
７号公報に開示されているガラスロッド表面を砥石等の
機械的手法により研磨する方法などがある。
平６−５６４４８号公報に開示されているガラスロッド
表面を火炎で研磨する方法、特開２０００−２３３９３
７号公報に開示されているガラスロッド表面を砥石等の
機械的手法により研磨する方法などがある。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開６−５６
４４８号公報に開示されている技術を用いた場合、表面
は滑らかになるが、ガラスロッド内に水素や水酸基が侵
入し、伝送損失の増大を招くという問題が発生する。
４４８号公報に開示されている技術を用いた場合、表面
は滑らかになるが、ガラスロッド内に水素や水酸基が侵
入し、伝送損失の増大を招くという問題が発生する。
【００１８】また、特開２０００−２３３９３７号公報
に開示されている技術では、ガラスロッドを機械研削す
るため、ガラスロッド内に水素や水酸基が侵入する問題
は生じないが、ガラスロッド表面の粗さについては言及
されていない。該公報に開示されている砥石を用いた研
削手段では、ガラスロッド表面の最大粗さを例えば１μ
ｍ以下に小さくすることは困難である。
に開示されている技術では、ガラスロッドを機械研削す
るため、ガラスロッド内に水素や水酸基が侵入する問題
は生じないが、ガラスロッド表面の粗さについては言及
されていない。該公報に開示されている砥石を用いた研
削手段では、ガラスロッド表面の最大粗さを例えば１μ
ｍ以下に小さくすることは困難である。
【００１９】特に、ガラスロッドにゲルマニウム、フッ
素、アルミニウム等の添加物が多く含まれている場合、
ガラスロッド表面の最大粗さが１μｍ程度では、ガラス
ロッドの外周にガラス層を形成して新たなガラスロッド
を得る際、または新たなガラスロッドを加熱延伸して光
ファイバを得る際などに、ガラス層の界面に気泡が発生
するという問題がある。
素、アルミニウム等の添加物が多く含まれている場合、
ガラスロッド表面の最大粗さが１μｍ程度では、ガラス
ロッドの外周にガラス層を形成して新たなガラスロッド
を得る際、または新たなガラスロッドを加熱延伸して光
ファイバを得る際などに、ガラス層の界面に気泡が発生
するという問題がある。
【００２０】一方、特開２０００−２３９０３３号公報
には、ガラス管の内面の表面粗さを規定することが開示
されているが、機械的手段による研磨は最大粗さ０．７
μｍであって、仕上げ研磨としてガラス管の内面をヒー
タ等の手段で加熱溶融しているが、ガラス管の表面を加
熱する際に、ガラスロッド内に水素や水酸基が侵入し、
またはダストが付着することなどの問題がある。
には、ガラス管の内面の表面粗さを規定することが開示
されているが、機械的手段による研磨は最大粗さ０．７
μｍであって、仕上げ研磨としてガラス管の内面をヒー
タ等の手段で加熱溶融しているが、ガラス管の表面を加
熱する際に、ガラスロッド内に水素や水酸基が侵入し、
またはダストが付着することなどの問題がある。
【００２１】本発明は、上述の問題点を解決するため、
石英系ガラスロッドの外周面にガラス層を形成すること
により新たなガラスロッドを得る工程の改良を行い、新
たなガラスロッドの作製時や光ファイバの線引き時など
における気泡の発生を防止し、水素や水酸基等による吸
収が少ない高品質の光ファイバを得ることが可能な光フ
ァイバ母材の製造方法を提供することを目的とする。
石英系ガラスロッドの外周面にガラス層を形成すること
により新たなガラスロッドを得る工程の改良を行い、新
たなガラスロッドの作製時や光ファイバの線引き時など
における気泡の発生を防止し、水素や水酸基等による吸
収が少ない高品質の光ファイバを得ることが可能な光フ
ァイバ母材の製造方法を提供することを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
石英系ガラスロッドの外周面にガラス層を形成すること
により新たなガラスロッドを得る工程を有する光ファイ
バ母材の製造方法において、該ガラス層が形成される前
のガラスロッドをその外周面の最大粗さが０．５μｍ以
下となるように機械的手段で処理し、次いで前記外周面
を洗浄した後に前記ガラス層を形成することを特徴とす
るものである。
石英系ガラスロッドの外周面にガラス層を形成すること
により新たなガラスロッドを得る工程を有する光ファイ
バ母材の製造方法において、該ガラス層が形成される前
のガラスロッドをその外周面の最大粗さが０．５μｍ以
下となるように機械的手段で処理し、次いで前記外周面
を洗浄した後に前記ガラス層を形成することを特徴とす
るものである。
【００２３】請求項２に係る発明は、石英系ガラスロッ
ドの外周面にガラス層を形成することにより新たなガラ
スロッドを得る工程を有する光ファイバ母材の製造方法
において、該ガラス層が形成される前のガラスロッドを
その外周面の最大粗さが３μｍ以下となるように第１の
機械的手段で処理し、次いで該第１の機械的手段により
処理された該ガラスロッドをその外周面の最大粗さが
０．５μｍ以下となるように第２の機械的手段で処理
し、次いで前記外周面を洗浄した後に前記ガラス層を形
成することを特徴とするものである。
ドの外周面にガラス層を形成することにより新たなガラ
スロッドを得る工程を有する光ファイバ母材の製造方法
において、該ガラス層が形成される前のガラスロッドを
その外周面の最大粗さが３μｍ以下となるように第１の
機械的手段で処理し、次いで該第１の機械的手段により
処理された該ガラスロッドをその外周面の最大粗さが
０．５μｍ以下となるように第２の機械的手段で処理
し、次いで前記外周面を洗浄した後に前記ガラス層を形
成することを特徴とするものである。
【００２４】本発明は鋭意実験した結果によるもので、
本発明により、石英系ガラスロッドを所定の屈折率分布
構造を有するように機械的に削り、その後で外周面にガ
ラス層を形成することにより新たなガラスロッドを得る
工程、または新たなガラスロッドを線引きして光ファイ
バとする工程などにおける界面での気泡の発生や界面不
整などを防止し、伝送損失や吸収損失が小さい高品質の
光ファイバを得ることが可能となる。特に本発明は、請
求項３に記載のように、ガラス層が形成される前のガラ
スロッドが少なくとも１種類の添加物が含まれた組成を
有する場合に有効なものである。
本発明により、石英系ガラスロッドを所定の屈折率分布
構造を有するように機械的に削り、その後で外周面にガ
ラス層を形成することにより新たなガラスロッドを得る
工程、または新たなガラスロッドを線引きして光ファイ
バとする工程などにおける界面での気泡の発生や界面不
整などを防止し、伝送損失や吸収損失が小さい高品質の
光ファイバを得ることが可能となる。特に本発明は、請
求項３に記載のように、ガラス層が形成される前のガラ
スロッドが少なくとも１種類の添加物が含まれた組成を
有する場合に有効なものである。
【００２５】なお、本発明において、ガラスロッドの表
面の最大粗さは、「ＪＩＳ Ｂ ０６０１」に規定され
る表面粗さの定義に従っている。
面の最大粗さは、「ＪＩＳ Ｂ ０６０１」に規定され
る表面粗さの定義に従っている。
【００２６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を説明する。
本実施形態においては、ガラス層が形成される前のガラ
スロッドの外周面を機械的手段で仕上げ処理するにあた
り、円筒状の容器内でガラスロッドを鉛直にかつ回転可
能に把持し、容器内に酸化セリウム、コロイダルシリカ
等の砥粒を混合させた水などの液体を満たした状態でガ
ラスロッドを回転させることで、ガラスロッドの外周面
の最大粗さを０．５μｍ以下にすることが可能となる。
この場合、最大粗さは０．２μｍ以下であることがより
好ましい。
本実施形態においては、ガラス層が形成される前のガラ
スロッドの外周面を機械的手段で仕上げ処理するにあた
り、円筒状の容器内でガラスロッドを鉛直にかつ回転可
能に把持し、容器内に酸化セリウム、コロイダルシリカ
等の砥粒を混合させた水などの液体を満たした状態でガ
ラスロッドを回転させることで、ガラスロッドの外周面
の最大粗さを０．５μｍ以下にすることが可能となる。
この場合、最大粗さは０．２μｍ以下であることがより
好ましい。
【００２７】なお、ガラスロッドの外周面を機械的手段
で処理するに際しては、処理を２段階に分けて、外周面
の最大粗さが３μｍ以下となるように第１の機械的手段
で前処理し、次いで上記の機械的手段（第２の機械的手
段）で仕上げ処理をすると、効率よく表面処理を行うこ
とができる。この前処理には、従来技術をそのまま適用
することが可能である。
で処理するに際しては、処理を２段階に分けて、外周面
の最大粗さが３μｍ以下となるように第１の機械的手段
で前処理し、次いで上記の機械的手段（第２の機械的手
段）で仕上げ処理をすると、効率よく表面処理を行うこ
とができる。この前処理には、従来技術をそのまま適用
することが可能である。
【００２８】本実施形態により、石英系ガラスロッドの
外周面を機械的手段で処理した後に、その外周面にガラ
ス層を形成することにより新たなガラスロッドを得る工
程、または新たなガラスロッドを線引きして光ファイバ
とする工程などにおける新たなガラスロッドの界面での
気泡の発生や界面不整などを防止することが可能とな
る。
外周面を機械的手段で処理した後に、その外周面にガラ
ス層を形成することにより新たなガラスロッドを得る工
程、または新たなガラスロッドを線引きして光ファイバ
とする工程などにおける新たなガラスロッドの界面での
気泡の発生や界面不整などを防止することが可能とな
る。
【００２９】また、ゲルマニウム、フッ素、アルミニウ
ムなどが単独で５ｍｏｌ％以上添加されたガラス層、あ
るいは石英を主体とした多成分系のガラス層を有するガ
ラスロッドから製造される光ファイバの伝送損失や吸収
損失を小さくし、きわめて高性能な光ファイバを得るこ
とが可能となる。
ムなどが単独で５ｍｏｌ％以上添加されたガラス層、あ
るいは石英を主体とした多成分系のガラス層を有するガ
ラスロッドから製造される光ファイバの伝送損失や吸収
損失を小さくし、きわめて高性能な光ファイバを得るこ
とが可能となる。
【００３０】以下、実施例により説明する。
【００３１】実施例１
機械的手段により外周面を処理するガラスロッドとし
て、エルビウム、アルミニウム、ゲルマニウムを含む石
英系のガラスからなり、光増幅用光ファイバのコアとな
るガラスロッドを用いた。上記ガラスロッドの外周面を
第１の機械的手段（特開平２０００−２３３９３７号公
報に開示されている研削、研磨方法）により最大粗さが
約１．５μｍとなるように前処理した。次いで、第２の
機械的手段（前記、砥粒を混合させた液体中で回転させ
る方法）により最大粗さが約０．１５μｍとなるように
仕上げ処理をした後に、ガラス微粒子を堆積させ、ガラ
ス化を行って新たなガラスロッドを作製して光ファイバ
母材とした。この光ファイバ母材を線引きして光ファイ
バとした。なお、第１の機械的手段は第２の機械的手段
と同一であってもよい。
て、エルビウム、アルミニウム、ゲルマニウムを含む石
英系のガラスからなり、光増幅用光ファイバのコアとな
るガラスロッドを用いた。上記ガラスロッドの外周面を
第１の機械的手段（特開平２０００−２３３９３７号公
報に開示されている研削、研磨方法）により最大粗さが
約１．５μｍとなるように前処理した。次いで、第２の
機械的手段（前記、砥粒を混合させた液体中で回転させ
る方法）により最大粗さが約０．１５μｍとなるように
仕上げ処理をした後に、ガラス微粒子を堆積させ、ガラ
ス化を行って新たなガラスロッドを作製して光ファイバ
母材とした。この光ファイバ母材を線引きして光ファイ
バとした。なお、第１の機械的手段は第２の機械的手段
と同一であってもよい。
【００３２】一方、従来例として、上述の光増幅用光フ
ァイバのコアとなるガラスロッドに従来のフッ酸による
最大粗さが約１０μｍとなる表面処理を施した後、ガラ
ス微粒子を堆積させ、ガラス化を行って新たなガラスロ
ッドを作製して光ファイバ母材とした。この光ファイバ
母材を線引きして光ファイバとした。
ァイバのコアとなるガラスロッドに従来のフッ酸による
最大粗さが約１０μｍとなる表面処理を施した後、ガラ
ス微粒子を堆積させ、ガラス化を行って新たなガラスロ
ッドを作製して光ファイバ母材とした。この光ファイバ
母材を線引きして光ファイバとした。
【００３３】上記実施例１の光ファイバ母材を線引きし
てなる光ファイバは、上記従来例の光ファイバ母材を線
引きしてなる光ファイバと比較したところ、背景損失が
約１０ｄＢ／ｋｍ低下し、気泡の発生はきわめて少なく
なった。
てなる光ファイバは、上記従来例の光ファイバ母材を線
引きしてなる光ファイバと比較したところ、背景損失が
約１０ｄＢ／ｋｍ低下し、気泡の発生はきわめて少なく
なった。
【００３４】実施例２
機械的手段により表面を処理するガラスロッドとして、
波長分割多重用に適した光ファイバ用のコアとなるガラ
スロッドで、石英系のガラスにゲルマニウムが約１５ｍ
ｏｌ％含まれているものを用いた。上記ガラスロッドを
フッ酸を用いた手段により外周面の最大粗さが約１μｍ
となるように前処理し、次いで機械的手段（（上記、砥
粒を混合させた液体中で回転させる方法）により最大粗
さが約０．１５μｍとなるように仕上げ処理した後に、
ガラス微粒子を堆積させ、ガラス化を行って新たなガラ
スロッドを作製して光ファイバ母材とし、この光ファイ
バ母材を線引きして光ファイバとした。
波長分割多重用に適した光ファイバ用のコアとなるガラ
スロッドで、石英系のガラスにゲルマニウムが約１５ｍ
ｏｌ％含まれているものを用いた。上記ガラスロッドを
フッ酸を用いた手段により外周面の最大粗さが約１μｍ
となるように前処理し、次いで機械的手段（（上記、砥
粒を混合させた液体中で回転させる方法）により最大粗
さが約０．１５μｍとなるように仕上げ処理した後に、
ガラス微粒子を堆積させ、ガラス化を行って新たなガラ
スロッドを作製して光ファイバ母材とし、この光ファイ
バ母材を線引きして光ファイバとした。
【００３５】上記実施例２の光ファイバ母材を線引きし
てなる光ファイバは、フッ酸を用いた手段による処理の
みを施し、機械的手段による表面処理を施さない光ファ
イバと比較したところ、伝送損失が０．０５〜０．１０
ｄＢ／ｋｍ低下し、気泡の発生はきわめて少なくなっ
た。
てなる光ファイバは、フッ酸を用いた手段による処理の
みを施し、機械的手段による表面処理を施さない光ファ
イバと比較したところ、伝送損失が０．０５〜０．１０
ｄＢ／ｋｍ低下し、気泡の発生はきわめて少なくなっ
た。
【００３６】なお、実施例１、２に関し、ガラスロッド
の外周面を機械的手段で仕上げ処理し、最大粗さを０．
２μｍ以下にした場合、ほとんど気泡の発生は起こら
ず、最大粗さが０．５μｍ以下の場合は、気泡の発生が
起こる割合が製造上差し支えない範囲となり、伝送損失
に与える影響もほとんどなかった。
の外周面を機械的手段で仕上げ処理し、最大粗さを０．
２μｍ以下にした場合、ほとんど気泡の発生は起こら
ず、最大粗さが０．５μｍ以下の場合は、気泡の発生が
起こる割合が製造上差し支えない範囲となり、伝送損失
に与える影響もほとんどなかった。
【００３７】比較例
実施例２において、ガラスロッドを機械的手段（（上
記、砥粒を混合させた液体中で回転させる方法）のみで
最大粗さを約０．７０μｍとなるように処理した後に、
ガラス微粒子を堆積させ、ガラス化を行って新たなガラ
スロッドを作製して、光ファイバ母材とし、この光ファ
イバ母材を線引きして光ファイバとした。この光ファイ
バは、伝送損失がフッ酸による手段のみを施し、機械的
手段による表面処理を施さないガラスロッドを用いた場
合とほとんど差がなく、気泡の発生がガラスロッドの界
面に相当する箇所で認められた。
記、砥粒を混合させた液体中で回転させる方法）のみで
最大粗さを約０．７０μｍとなるように処理した後に、
ガラス微粒子を堆積させ、ガラス化を行って新たなガラ
スロッドを作製して、光ファイバ母材とし、この光ファ
イバ母材を線引きして光ファイバとした。この光ファイ
バは、伝送損失がフッ酸による手段のみを施し、機械的
手段による表面処理を施さないガラスロッドを用いた場
合とほとんど差がなく、気泡の発生がガラスロッドの界
面に相当する箇所で認められた。
【００３８】なお、従来例として、実施例２に用いたガ
ラスロッド（波長分割多重用に適した光ファイバ用のコ
アとなるもの）を特開平６−５６４４８号公報に記載さ
れている方法で火炎研磨を行った後にガラス微粒子を堆
積させ、ガラス化を行って新たなガラスロッドを作製
し、光ファイバとしたが、この結果、波長１３８０ｎｍ
付近の伝送損失が約１０ｄＢ／ｋｍとなり、波長１５２
０ｎｍ付近においても伝送損失の増加が見られるものが
あった。
ラスロッド（波長分割多重用に適した光ファイバ用のコ
アとなるもの）を特開平６−５６４４８号公報に記載さ
れている方法で火炎研磨を行った後にガラス微粒子を堆
積させ、ガラス化を行って新たなガラスロッドを作製
し、光ファイバとしたが、この結果、波長１３８０ｎｍ
付近の伝送損失が約１０ｄＢ／ｋｍとなり、波長１５２
０ｎｍ付近においても伝送損失の増加が見られるものが
あった。
【００３９】なお、本発明の実施形態は上述のものに限
らず、適宜変更することが可能である。
らず、適宜変更することが可能である。
【００４０】
【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、石英系
ガラスロッドの外周面にガラス層を形成することにより
新たなガラスロッドを得る工程において、ガラス層を形
成する前の石英系ガラスロッドの表面を最大粗さが０．
５μｍ以下となるように機械的手段で処理するため、光
ファイバ化後に気泡が発生せず、かつ水素、水酸基など
による吸収が少ない高品質の光ファイバを得ることがで
きるという優れた効果がある。
ガラスロッドの外周面にガラス層を形成することにより
新たなガラスロッドを得る工程において、ガラス層を形
成する前の石英系ガラスロッドの表面を最大粗さが０．
５μｍ以下となるように機械的手段で処理するため、光
ファイバ化後に気泡が発生せず、かつ水素、水酸基など
による吸収が少ない高品質の光ファイバを得ることがで
きるという優れた効果がある。
Claims (3)
- 【請求項１】 石英系ガラスロッドの外周面にガラス層
を形成することにより新たなガラスロッドを得る工程を
有する光ファイバ母材の製造方法において、該ガラス層
が形成される前のガラスロッドをその外周面の最大粗さ
が０．５μｍ以下となるように機械的手段で処理し、次
いで前記外周面を洗浄した後に前記ガラス層を形成する
ことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項２】 石英系ガラスロッドの外周面にガラス層
を形成することにより新たなガラスロッドを得る工程を
有する光ファイバ母材の製造方法において、該ガラス層
が形成される前のガラスロッドをその外周面の最大粗さ
が３μｍ以下となるように第１の機械的手段で処理し、
次いで該第１の機械的手段により処理された該ガラスロ
ッドをその外周面の最大粗さが０．５μｍ以下となるよ
うに第２の機械的手段で処理し、次いで前記外周面を洗
浄した後に前記ガラス層を形成することを特徴とする光
ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項３】 ガラス層が形成される前のガラスロッド
が少なくとも１種類の添加物が含まれた組成を有するこ
とを特徴とする請求項１または２記載の光ファイバ母材
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001266645A JP2003073139A (ja) | 2001-09-04 | 2001-09-04 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001266645A JP2003073139A (ja) | 2001-09-04 | 2001-09-04 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003073139A true JP2003073139A (ja) | 2003-03-12 |
Family
ID=19092901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001266645A Pending JP2003073139A (ja) | 2001-09-04 | 2001-09-04 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003073139A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007153679A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Fujikura Ltd | 石英ガラス母材の製造方法 |
| WO2018131499A1 (ja) * | 2017-01-11 | 2018-07-19 | 信越石英株式会社 | 中空状多孔質石英ガラス母材の製造方法 |
-
2001
- 2001-09-04 JP JP2001266645A patent/JP2003073139A/ja active Pending
Cited By (10)
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| JP4663501B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2011-04-06 | 株式会社フジクラ | 石英ガラス母材の製造方法 |
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| KR102072822B1 (ko) | 2017-01-11 | 2020-02-03 | 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 | 중공형 다공질 석영유리 모재의 제조 방법 |
| EP3521250A4 (en) * | 2017-01-11 | 2020-05-13 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | PROCESS FOR PRODUCING BASE MATERIAL IN HOLLOW POROUS QUARTZ GLASS |
| CN110139837B (zh) * | 2017-01-11 | 2021-11-16 | 信越石英株式会社 | 中空多孔石英玻璃基底材料的制造方法 |
| US11401192B2 (en) | 2017-01-11 | 2022-08-02 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Method for producing hollow porous quartz glass base material |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061212 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070508 |