JP2003068204A

JP2003068204A - プラズマディスプレイパネルの製造方法

Info

Publication number: JP2003068204A
Application number: JP2001257359A
Authority: JP
Inventors: Kanako Miyashita; 加奈子宮下; Hiroyuki Kado; 博行加道
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-08-28
Filing date: 2001-08-28
Publication date: 2003-03-07

Abstract

(57)【要約】【課題】パネル内部の残留不純物を取り除き、放電特
性の優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提
供する。【解決手段】前面板１と背面板２からなるパネルの製
造工程におけるエージング時に、放電ガスを流しながら
表示電極間に放電を生じさせる。この際、内部空間３に
流れる放電ガスを一定の流速ではなく、ガス導入系８、
ガス排出系９により断続的に流したり、流れの方向をエ
ージングの途中で変えたりすることによって乱流を生じ
させ、滞留を防ぐことにより洗浄効果を高めるとともに
面内均一性を高める。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、文字または画像表
示用のカラーテレビジョン受像機やディスプレイ等に使
用するガス放電発光を利用したプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】以下では、従来のプラズマディスプレイ
パネルについて図面を参照しながら説明する。

【０００３】図１２は、交流型（ＡＣ型）のプラズマデ
ィスプレイパネルの一例を示す概略断面図である。図１
２において３１は前面ガラス基板であり、この前面ガラ
ス基板３１上に表示電極３２が配設され、その上から誘
電体膜３３及び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる誘
電体保護膜３４で覆われている（例えば、特開平５−３
４２９９１号公報参照）。

【０００４】また、４１は背面ガラス基板であり、この
背面ガラス基板４１上には、アドレス電極４２、下地誘
電体層４３、および隔壁４４、蛍光体層４５が設けられ
ている。蛍光体層４５は、カラー表示するために、赤色
蛍光体層４５Ｒ、緑色蛍光体層４５Ｇ、青色蛍光体層４
５Ｂの３色が順に配置された構成である。また、４６が
放電ガスを封入する放電空間となっている。上記の各蛍
光体層４５は、放電によって発生する波長の短い真空紫
外線（波長１４７ｎｍ）により励起発光する。

【０００５】以下従来のＰＤＰの製造方法について図１
３に基づいて説明する。

【０００６】前面ガラス基板上に、銀からなる表示電極
と、誘電体膜、保護膜（ＭｇＯ）を形成する（前面板形
成）。

【０００７】一方、背面ガラス基板上に、銀からなるア
ドレス電極を形成し、その上に誘電体ガラスからなる下
地誘電体層と、ガラス製の隔壁を所定のピッチで作成す
る。これらの隔壁に挟まれた各空間内に、赤色蛍光体，
緑色蛍光体，青色蛍光体をそれぞれ配設することによっ
て蛍光体層を形成する（背面板形成）。

【０００８】その後、背面板の周囲に前面板との封着用
ガラスフリットを塗布し、ガラスフリット内の樹脂成分
等を除去するために３５０℃程度で仮焼する（フリット
仮焼成工程）。

【０００９】さらに、前記前面板と、前記背面板を隔壁
を介して表示電極とアドレス電極が直交するよう対向配
置し、４５０℃程度で焼成し、封着ガラスによって、周
囲を密封する（封着工程）。

【００１０】次に、３５０℃程度まで加熱しながらパネ
ル内を排気し（排気ベーキング工程）、冷却後に放電ガ
スを所定の圧力だけ導入する（ガス導入工程）ととも
に、排気および放電ガス導入に用いる管を封じる（チッ
プオフ工程）。そして表示電極間にパルス波形を印加
し、一定時間放電を生じさせ、前面板保護膜の活性化を
行うとともに、放電を安定化させる（エージング工
程）。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
パネルの放電特性を特徴づける一つの要素として、パネ
ル内の残留不純物が挙げられる。中でも水や炭酸系、あ
るいは炭化水素系の不純物が確認されており、炭酸系、
炭化水素系の不純物は主に、大気中や封止用の有機溶剤
などから混入した炭素化合物に起因するものと考えられ
るが、これら不純物の存在によって特性が不安定になっ
たり寿命特性が短くなったりすると考えられている。

【００１２】従来は、これら不純物を取り除くために排
気工程での加熱温度を上げたり加熱時間を長くするなど
の方法で対処してきた。ところが、加熱時間を長くする
と製造タクトが長くなり生産性が悪くなるし、加熱時間
を長くしたところで完全には残留不純物を取り除くこと
ができないといった課題がある。

【００１３】上記課題の解決法として、表示電極間で放
電を生じさせるエージング工程を、放電ガスを流しなが
ら行うことで、パネル内部の残留不純物を取り除くこと
が可能になる。しかしながら、ガスの流し方によっては
局部のみに効果が現れ、パネル特性に不均一性が生じる
場合がある。

【００１４】そこで本発明は、このような問題に鑑み、
エージング時に流すガスの流速を変化させたり方向を変
えたりすることにより、乱流を発生させて洗浄効果を高
めるとともに洗浄ムラを抑え、放電特性に優れながら、
面内均一性のすぐれたプラズマディスプレイパネルを提
供することを目的とするものである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、表
示電極を有する一対の前面板と背面板との間にガス媒体
が封入され、かつ表示領域外に前記前面板あるいは前記
背面板のいずれかに貫通穴が設けられたプラズマディス
プレイパネルを製造するに際し、一つの貫通穴から放電
ガスを導入し、他の一つの貫通穴から放電ガスを含む内
部空間のガスを排出させ、放電空間内に放電ガスを流し
ながら表示電極間で放電を生じさせるエージング工程を
設け、そのエージング工程で放電空間内を流れるガスの
流速が一定でないことを特徴とするものである。

【００１６】上記構成において、エージング工程で、放
電空間内に放電ガスを断続的に流しながら表示電極間で
放電を生じさせることを特徴とする。この際、放電ガス
の導入と内部ガスの排出とを交互に行ってガス圧力を変
化させ、放電ガスを断続的に流すことが好ましいが、放
電空間内のガス圧力を一定に保ちつつ放電ガスを断続的
に流しても差し支えない。

【００１７】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、前記エージング工程時に、放電空間内
を流れるガス流の方向をエージング工程の途中で変える
ことを特徴とする。

【００１８】上記構成において、放電ガスの導入に用い
る貫通穴と、内部空間のガスの排出に用いる貫通穴と
を、エージング工程の途中で切り替えることを特徴とす
る。さらに、放電ガスの導入に用いる貫通穴と、内部空
間のガスの排出に用いる貫通穴とを、それぞれ２つ以上
用いることを特徴とし、放電空間内を流れるガス流の方
向を、エージング工程中に少なくとも２回以上変えるこ
とが好ましい。

【００１９】さらに、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法は、放電空間内のガス圧力が断続的にあ
るいは定常的に大気圧より高い状態で表示電極間に放電
を生じさせることを特徴とする。ここで、少なくとも前
面基板あるいは背面基板のいずれかが２ｍｍ以下の厚さ
であることが好ましい。

【００２０】また、上記いずれかの製造方法において、
放電空間内にガスを流す際には、少なくとも複数個の圧
着部材を備え、前面板および背面板が当該圧着部材によ
り圧着固定されていることを特徴とし、当該圧着部材が
前面板および背面板の基板周辺部を圧着固定することが
好ましい。より好ましくは、前面板あるいは背面板に封
着用の接合部材が塗布され、平行に貼り合わされるプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法において、エージン
グ工程に際して、少なくとも放電空間内に放電ガスを流
す際には、少なくとも複数個の圧着部材を備え、前記前
面板あるいは前記背面板に塗布された前記接合部材より
内側の基板周辺部が前記圧着部材により固定される。

【００２１】また、このようなプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法により得たプラズマディスプレイパネル
と、このプラズマディスプレイパネルを駆動する駆動回
路とによりプラズマディスプレイ装置を構成したもので
ある。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態にお
けるプラズマディスプレイパネルの製造方法について説
明する。

【００２３】図１は本発明の製造方法を実施するための
構成を示す図で、パルス発生回路を備え、かつガス導入
系・排気系を備えた加熱装置を模式的に示す図である。
加熱装置は、前面板１と背面板２が封着部材４によって
貼り合わされたパネルの内部空間３にガスを導入するた
めのガス導入系８と、前記パネルの内部空間３からガス
を排出させるためのガス排出系９と、所定のパルスを発
生させるパルス発生回路１０と、パネルを加熱する加熱
炉７とから構成される。以下、排気工程以降の工程につ
いて説明する。

【００２４】図１において、前面板１と背面板２が貼り
合わされ封着されたパネルが加熱炉７内に設置されてい
る。このパネルの背面板２の表示領域外には貫通穴（図
示せず）が複数個設けられており、この貫通穴にはガラ
ス管５が取り付けられ、そのガラス管５のうち二つは配
管６ａ、６ｂと接続されている。ここで貫通穴に取り付
けられたガラス管５の一つはガス導入系８の配管６ａ
が、また別の一つのガラス管５はガス排出系９の配管６
ｂが接続されている。残りのガラス管５はバーナーを用
いて封じきられている。

【００２５】そして、ガス導入系のバルブ１１ａを閉じ
た状態で、ガス排出系９を用いてガラス管５に接続され
た配管６ｂから内部空間３内の気体を吸引する。すなわ
ち排気を開始する。内部空間３が１０^-5Ｔｏｒｒ程度の
真空状態になった時点で排気を続けながら加熱炉７によ
る加熱を始め、パネルを昇温する。３５０℃になったと
ころで３時間程度温度を維持し、自然冷却する。

【００２６】パネルが常温に冷えたところで、ガス導入
系８から放電ガスを導入する。この際にはガス排出系９
のバルブ１１ｂを閉じてガス導入系の配管６ａより放電
ガスを導入する。そして、パネル内圧力が５００Ｔｏｒ
ｒになった時点でガス導入系８のバルブとガス排出系９
のバルブとを調整して所定の流量でガスを流しながら差
動排気を行い、パルス発生回路１０により２５０Ｖ、３
０ｋＨｚのパルスを発生させ、前面板１の表示電極間で
放電を生じさせる。すなわちエージングを開始する。

【００２７】エージング工程では、前面板に形成された
表示電極間で放電を生じさせるために、前面板の最表面
を覆っている保護膜（ＭｇＯ）は放電による荷電粒子に
よりたたかれ、活性化される。この際に、保護膜表面に
吸着していた不純物が解離され完全に取り除かれれば清
浄化と活性化が同時に行われるが、不純物が解離された
ところで取り除かれなければ放電を終了させたときに再
付着し、清浄化は行われないことになる。また、最悪の
場合には解離されたばかりの不純物が即座に保護膜のグ
レイン間に入り込んで吸着してしまい、再解離すること
すら困難な状態になってしまうことがある。そこで解離
された不純物を取り除くためには、十分置換しうるガス
の絶対量が必要であるし、また、ある程度のガスの流れ
が必要となるが、ガスの流れを作るには放電空間はあま
りにも狭い。

【００２８】上記のように、パネル内の圧力を一定に保
ちつつガス導入とガス排出を同時に行う差動排気を行え
ば、パネル内部空間にガス流を設けることができるた
め、放電により取り除かれた不純物をガス流に乗せて外
部に排出することが可能になる。

【００２９】また、放電ガスを断続的に流すと乱流が発
生して滞留を引き起こすことなく洗浄効果があることが
分かった。断続的に放電ガスを流すためには、図１に示
すように、排気用の貫通穴の上部のガラス管５をガス導
入系８とガス排出系９の配管６ａ、６ｂとに接続し、パ
ネル内が所定の圧力に保たれている状態から所定の流量
でガスを排出させて減圧させ、その後再度元の圧力にな
るように等量の放電ガスを導入し、これを繰り返す。こ
の操作の間、表示電極間で絶えず放電を生じさせておく
と、減圧しているときにはガス粒子の平均自由工程が長
くなるために不純物の除去が効率よく行うことができる
上、その後導入される放電ガスにより乱流が発生して、
保護膜への再付着を防ぐことが可能になる。

【００３０】また、断続的に放電ガスを流す別の手段と
して、ガス導入系８とガス排出系９とにマスフローコン
トローラーを設置し、内部空間３のガス圧力を一定に保
った状態で、導入系と排出系とで同時に等量だけ流し、
差動排気を断続的に行う方法がある。いずれの場合に
も、放電ガスを断続的に流すことによって放電空間内の
ガスの滞留を抑制することが可能で、不純ガス洗浄効果
があることが確認できた。

【００３１】一方、放電ガスを流す方向をエージングの
途中で変えることで、パネル内面での不純物濃度に面内
偏りがなくなり、放電特性を均一にすることができた。
流す方向を変えるのには、図２に示すように、ガス導入
系と排気系とに相互に交差して接続された配管を備えた
系で、貫通穴上部のガラス管を配管６ａ、６ｂに接続す
る。そしてバルブ１１ｃ、１１ｄを閉じた状態でバルブ
１１ａ、１１ｂを開いてパネルの内部空間３に放電ガス
を流しながらエージングを開始し、所定の時間が経過し
たところでバルブ１１ａ、１１ｂを閉じてバルブ１１
ｃ、１１ｄを開くように再度バルブ操作を行い、内部空
間をガスが流れる方向を逆向きになるようにする。

【００３２】あるいは、図３に示すように、あらかじめ
排気用の貫通穴１２ａ、１２ｂを４カ所に設け、ガス導
入とガス排出にそれぞれ２つずつ用いるように貫通穴１
２ａをガス導入系の配管６ａに、貫通穴１２ｂをガス排
出系の配管６ｂに接続されるようにする。また、上記２
方法の応用で、あらゆる方向にガスが流れるようにする
と、面内均一性が増すことが確認できた。なお、１３は
隔壁である。

【００３３】さらに、放電ガスを流す方向を２回以上変
えることで、より均一性を向上させることができた。

【００３４】なお、洗浄効果の均一性を高めるために
は、放電空間に放電ガスを流通させるときに、セル内を
ガスが流れる必要がある。しかしながら、ガスが複数の
隔壁１３の最も外側に位置するものよりも外側に多く流
れてしまうと、セル内をガスがあまり流れないので、洗
浄効果があまり得られなくなる。

【００３５】これに対して、封着部材を形成する際に、
図４に示すように、内方に突出する堰１４を形成してお
くと、内部空間を流通するガスの多くは隔壁どうしの間
隙を経由するので、セル内をガスが流れやすくなり洗浄
効果が高まる。

【００３６】また、ガス洗浄効果は、ガス圧力によって
基板厚さにも依存することを実験により見出した。パネ
ル内のガス圧力が大気圧より高い場合であるが、両基板
の外周部は締結されている一方で中央部は締結されてお
らず、ガラス基板は弾性を有しているので、中央部では
基板が互いの距離が大きくなるように変形する。すなわ
ち、中央部ではパネルが膨れて浮いた状態になる。ここ
で、使用するガラス基板が薄いほど、この変形は大きく
なり、中央部での基板間の距離が大きくなるので、内部
空間に送り込まれる放電ガスが放電空間をスムーズに流
通することができる点で好ましいということができる。
したがって、内部空間における放電ガスの流通を良好に
するためには、少なくとも前面基板および背面基板のい
ずれか一方に薄い基板を用いることが好ましい。

【００３７】このような観点から見ると、前面基板およ
び背面基板は、現在では厚さ２．８ｍｍのものが多用さ
れているが、どちらか一方または両方の基板に２．０ｍ
ｍ以下のものを用いることが好ましい（ただし、基板と
しての必要な最低限の厚さは必要である）。この点は、
以下の実験結果からも分かる。

【００３８】すなわち、厚みの異なるいくつかのガラス
基板を準備し、別の一定厚みの基板と重ね合わせ外周部
を締結した状態で内部空間に空気を流通させ、その状態
で基板中央部での浮き量（両基板間の間隙）を測定し
た。

【００３９】図５はその結果であって、ガラス基板の板
厚（ｍｍ）と中央部における浮き量（ｍｍ）との関係を
表す特性図である。この図５より、ガラス基板の板厚が
２ｍｍ以下の範囲では浮き量が大きいことが分かる。な
お、背面基板として、ガラス基板の代わりに、例えば金
属製の背面基板を用いることも可能とは考えられるが、
金属基板と比べるとガラス基板の方が弾性定数が小さい
ので、同じ厚さで比べると、ガラス基板を用いる方が浮
き量を大きくして放電ガスを良好に流通させる点で有利
と考えられる。

【００４０】ただし、ガラスは脆性材料であって変形時
に割れやすいので、ガラス基板は厚さを薄く設定すると
強度を確保しにくい。これに対して金属製基板は延性に
すぐれるため、薄くしても強度を確保でき、生産性にす
ぐれるので、この点では金属製基板の方が有利であると
考えられる。金属のなかでもＡｌは弾性定数が比較的小
さいので、金属製基板としてはＡｌ製基板がすぐれてい
ると考えられる。

【００４１】なお、エージング工程において放電空間内
のガス圧力が大気圧より高い状態で放電を生じさせる場
合には、上記理由でガラス基板の板厚を薄くすることが
望ましいが、基板の変形量が大きくなる時には前面基板
と背面基板とが貼り合わされている封着材料の箇所で最
も大きな力がかかり、臨界点を超えるとはがれが生じや
すくなる。これを防ぐために、以下の方法を用いること
が有効である。

【００４２】すなわち、図６に示すように、前面板１、
背面板２に当接するバー１５とこのバー１５に押圧力を
加えるバネ１６とからなる圧着部材によって、前面板１
と背面板２の外周部を圧着して締結しておくことが望ま
しい。ここで、圧着部材の押圧位置が封着部材４より外
側であると、ガス圧力による変形力を助長する方向に力
がかかるようになり、基板と封着部材４との接点ではが
れやすくなるが、図７に示す断面図のように封着部材４
より基板中央部であれば基板の変形による応力を封着部
材４との接点で受けることがなくなる。

【００４３】エージング工程が終了した後は、いったん
内部空間３のガスをガス排出系９で吸引し、ガス導入系
８より放電ガスを導入し５００Ｔｏｒｒにする。この際
は不純物を取り除く必要がなくなっているため、排気ベ
ーキング工程のように加熱する必要もないし、１０^-2Ｔ
ｏｒｒの真空状態になれば十分である。あるいは、１０
^-2Ｔｏｒｒまで排気することなく、そのままガス排出系
９によるガス圧調整のみをして５００Ｔｏｒｒにしても
よい。その後、従来通りガラス管５を封じきることで本
実施の形態のプラズマディスプレイパネルが作製でき
る。

【００４４】図８は、このようにして作製した本発明の
一実施の形態における交流面放電型プラズマディスプレ
イパネルの概略を示す斜視図であり、このプラズマディ
スプレイパネルは、前面ガラス基板３１上に、走査電極
３２ａと共通電極３２ｂとからなる一対の表示電極３
２、誘電体膜３３、保護膜（ＭｇＯ）３４を設けた前面
板３５と、背面ガラス基板４１上にアドレス電極４２、
下地誘電体層４３、隔壁４４およびＲＧＢの蛍光体層４
５が配された背面板４７とを貼り合わせ、前面板３５お
よび背面板４７間に形成される放電空間４６内に放電ガ
スが封入された構成となっている。

【００４５】そして、図９に示すように、このような構
成のプラズマディスプレイパネル５０に、走査電極３２
ａに接続されるスキャンドライバ５１、共通電極３２ｂ
に接続されるサステインドライバ５２、アドレス電極４
２に接続されるデータドライバ５３の各ドライバを接続
するとともに、これらのドライバの動作を制御するパネ
ル駆動回路５４を接続することによりプラズマディスプ
レイ装置が構成される。このプラズマディスプレイ装置
では、走査電極３２ａとアドレス電極４２間で微弱な放
電をさせて放電させようとするセルを選択し、走査電極
３２ａと共通電極３２ｂ間に放電電圧を印加して維持放
電を行い、そして当該セルで放電に伴って紫外線を発光
し、蛍光体層４５で可視光に変換することにより、セル
がＲＧＢの色で点灯し、カラー画像が表示される。

【００４６】図１０は本発明の製造方法における工程の
フローチャートである。従来と同様に前面板と背面板を
形成し貼り合わせて封着する。その後、３５０℃に加熱
しながら排気し、放電ガスを導入する。そして放電ガス
を流しながらエージングをして、エージング終了後に排
気および放電ガス導入に用いる管を封じきることによ
り、パネルを得ることができる。

【００４７】表１に、上記実施の形態に基づいて作製し
たプラズマディスプレイ装置について、パネル駆動特性
を評価した結果を示す。なお、パネルサイズはすべて４
２インチサイズとした。

【００４８】

【表１】

【００４９】表１において、パネル番号１〜１１は本発
明の実施例に係わるプラズマディスプレイ装置である。
ここでパネル番号１〜７と１１のものは、前面板、背面
板ともに厚さ２．８ｍｍのガラス基板を用いており、パ
ネル番号８〜１０のものは前面板に厚さ１．１ｍｍのガ
ラス基板を用いた。詳細を後で説明するが、これらプラ
ズマディスプレイ装置は実施の形態に基づき、ガス流や
ガス圧、ガス流の方向を表１に示すように変化させ、表
示電極間に２５０Ｖ、６０ｋＨｚのパルス波形を印加
し、エージングを８時間行った。

【００５０】また、比較例に係わるプラズマディスプレ
イ装置は前面板および背面板ともに厚さ２．８ｍｍのガ
ラス基板を用いており、排気工程の後、差動排気により
Ｎｅ−Ｘｅ（５％）の放電ガスを５００Ｔｏｒｒで一定
に保ちながら５０ＣＣＭの流量で放電ガスを流し、表示
電極間に２５０Ｖ、６０ｋＨｚのパルス波形を印加し、
エージングを８時間行った。

【００５１】表１中の焼き付きとはガスレベルを調べる
ための評価で、所定のセルのみを白色で一定時間点灯さ
せた後、黒表示させたときに当該セルとその周辺セルの
輝度の差として表すことができる。本評価では、数値の
小さいものほど焼き付けが小さいことを表し、不純ガス
が少なくガスレベルが良いことを示す。なお、表中に左
側と示しているのは、ガスの流れの方向を示している図
１１における位置である。また、σは面内のばらつきを
示す標準偏差で値が小さい方が均一性がよいことを示
す。σの算出にはパネルの９カ所の評価結果を用いた。

【００５２】次に、実施例に係わるプラズマディスプレ
イ装置について詳細を説明する。

【００５３】パネル番号１のプラズマディスプレイ装置
はパネル内のガス圧を５００Ｔｏｒｒで一定に保持し図
１１の（Ａ）に示す方向に放電ガスを断続的に、すなわ
ち導入側と排出側とで同量のガスをマスフローコントロ
ーラーで制御して流したものである。このときの流量
は、エージング工程にかかる時間全体でパネル内に流れ
る総量の平均として５０ＣＣＭとなるようにした。

【００５４】また、パネル番号２のプラズマディスプレ
イ装置はあらかじめパネル内のガス圧を５００Ｔｏｒｒ
に保持し、表示電極間で放電を生じさせた状態でガスを
排出し、引き続いて放電ガスを導入することを繰り返し
た。ここでは、パネル内のガス圧は変動しているが、５
００Ｔｏｒｒを越えないように制御し、放電ガスの流れ
の方向は、パネル１と同様に、図１１の（Ａ）に示す方
向とした。なお、図１１で示した貫通穴は、１２ａを配
管６ａに、１２ｂを配管６ｂに接続するものとして示し
た。

【００５５】さらに、パネル番号３から７のプラズマデ
ィスプレイ装置はパネル内のガス圧を５００Ｔｏｒｒ、
ガス流量を平均して５０ＣＣＭとなるようにして、表中
に示すように放電ガスの流れを変化させたものである。
すなわち、パネル３は図２で示したバルブ１１の操作に
より、放電ガスの流れを途中で一回だけ図１１の（Ａ）
から（Ｂ）へと変更させたものであり、パネル４は、こ
の操作を３回繰り返したものである。パネル５はあらか
じめ貫通穴を４つ設けたパネルで、パネル３と同様に、
バルブ操作により放電ガスの流れを図１１の（Ａ）から
（Ｃ）へと途中で一回のみ変更させたものである。ま
た、パネル６もあらかじめ貫通穴を４つ設けたパネルで
あり、ガス導入用と排出用とそれぞれ２つずつ貫通穴を
用いるが、途中でバルブ操作をすることなく図１１の
（Ｄ）に示すように一定方向にガスを流すものである。
さらに、パネル７は貫通穴を４つ用いつつ、それぞれの
穴からガス導入系と排出系にそれぞれ接続され、バルブ
操作により任意の貫通穴が導入用にも排出用にも用いる
ことができるようにしたものである。

【００５６】パネル番号８は前面板に用いたガラス基板
の厚さが１．１ｍｍであることを除けば、他の条件はパ
ネル番号１のものと同様であり、このガス圧を８００Ｔ
ｏｒｒで保持させたパネルがパネル番号９である。さら
に、パネル番号１０のものはパネル番号２のプラズマデ
ィスプレイ装置と同様に、表示電極間で放電を生じさせ
た状態でガスの排出と導入を行ったが、当該パネルでは
ガス圧をあらかじめ８００Ｔｏｒｒに保持し、その後も
８００Ｔｏｒｒを越えないように制御した。また、前面
基板の厚さが２．８ｍｍであって、パネル番号１０と同
じ条件でエージングを行ったものがパネル１１である。

【００５７】以下、各パネルのガスレベルについて説明
する。

【００５８】パネル番号１の放電ガスを断続的に流した
プラズマディスプレイ装置では、パネル内を流れるガス
の総量は同じでありながら、比較例に対し全体的に焼き
付きレベルにすぐれている。当該パネルと比較例とは、
ガスを定常的に流すか断続的に流すかが異なるのみで他
のパラメーターはすべて同じであり、この結果から、エ
ージング工程での洗浄効果は、ガス総量よりも流れ方に
効くことが分かる。断続的に放電ガスが流れることで、
内部空間内に乱流が発生して不純物が除去されやすくな
っていると考えられる。

【００５９】次にパネル番号２のものでは、面内均一性
はパネル番号１のものと同レベルであるが、全体的に焼
き付きレベルがさらにすぐれた結果が得られた。このパ
ネルはエージング時のガス圧が変動しているが、ガス圧
が低い場合には放電ガスの衝突エネルギーが大きくなる
ため、保護膜表面に吸着した不純物を取り去る効果が大
きくなるものと考えられる。

【００６０】パネル番号３から７のものはガス流量を５
０ＣＣＭ一定で流通させたまま、流れの方向を変えたも
のである。

【００６１】ガスの流通する方向として、比較例では一
方向のみであり、パネルの左右で焼き付きレベルが異な
る。また、表中には示していないがパネル上下でもレベ
ルが異なり、上下左右いずれもガス導入側は比較的レベ
ルが良いのに対し、排出側でレベルが劣る。パネル番号
３ではこのガスの流れを途中で逆方向から流すことによ
って、全体的に均整がとれるようになった。さらに、パ
ネル番号４のようにガス流の逆流を３回繰り返すと全体
的なレベルも向上した。また、ガス導入および排出に用
いる貫通穴を２つずつ用いてあらゆる方向にガスを流す
ようにすると、パネル番号７のように全体的なレベルが
上がる上に、均一性も向上する。しかしながら、同様に
貫通穴を２つずつ用いても、パネル番号５、６のように
ガスの流れを図１１の（Ａ）から（Ｃ）に変えたとき、
あるいは（Ｅ）のようにした場合には、特性が左右対称
になる一方で、上下で差が生じ、均一性はそれほど上が
らなかった。

【００６２】次に、パネル番号８から１０のものでは前
面板の厚さを薄くしたもので、ガスを断続的に流した。
パネル番号８のようにガス圧が５００Ｔｏｒｒの場合は
パネル１と同レベルであるが、パネル番号９のようにガ
ス圧を８００Ｔｏｒｒとすると前面基板を薄くしたとき
に全体的にレベルが上がることが分かる。また、放電さ
せた状態でガスの排出と導入を行い、ガス圧が変動して
いるパネル番号１０ではさらに大きな効果が得られた。
パネル内のガス圧が７６０Ｔｏｒｒを越えると内圧が陽
圧になるため、パネルが太鼓状に膨らんでガスの流れが
作られやすくなり、同時にパネル番号２と同様にガス圧
の変動によってガス圧が低いときの不純物除去効果が得
られたためと考えられる。なお、パネル番号１０と同じ
８００Ｔｏｒｒでガス圧を変動させてエージングを行っ
ても、前面板が２．８ｍｍと厚いパネル番号１１は、格
別の効果が得られていないことが分かる。

【００６３】以上の結果から、不純物除去効果を得るた
めには、放電ガスを断続的に流すことが有効であり、均
一性を高めるためにはあらゆる方向からガスを流すこ
と、すなわち不純物を含んでいないガスで洗浄すること
が効果的であることが分かる。

【００６４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、パネルの
製造工程におけるエージング時に放電ガスを流しながら
表示電極間で放電を生じさせる際に、放電空間に流れる
放電ガスを一定の流速ではなく断続的に流す、あるいは
エージング工程の途中で流れの方向を変えることによ
り、内部空間に乱流が発生し、滞留を防ぐことが可能と
なる。その結果、洗浄効果が高まるとともに面内均一性
を高めることができ、放電特性の優れたプラズマディス
プレイパネルが実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプ
レイパネルの製造方法を実施するための加熱装置を示す
構成図

【図２】本発明の他の実施の形態によるプラズマディス
プレイパネルの製造方法を実施するための加熱装置を示
す構成図

【図３】本実施の形態によるガス導入系・排気系に接続
する貫通穴の位置を示す平面図

【図４】本実施の形態による封着部材の構成を示す平面
図

【図５】基板の板厚に対するパネル中央部の変位量を示
す特性図

【図６】本実施の形態によるパネル固定のための圧着部
材を示す平面図

【図７】同概略断面図

【図８】本発明の製造方法により得られる交流面放電型
プラズマディスプレイパネルを示す斜視図

【図９】同じくプラズマディスプレイパネル装置を示す
構成図

【図１０】本発明の製造方法における製造フローチャー
ト

【図１１】本発明の具体的実施例におけるエージング工
程での放電ガスの流れを示す説明図

【図１２】従来の交流面放電型プラズマディスプレイパ
ネルの概略断面図

【図１３】従来のプラズマディスプレイパネルの製造フ
ローチャート

【符号の説明】

１前面板２背面板３内部空間４封着部材７加熱炉８ガス導入系９ガス排出系１２ａ、１２ｂ貫通穴１５バー１６バネ５０プラズマディスプレイパネル５１スキャンドライバ５２サステインドライバ５３データドライバ５４パネル駆動回路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表示電極を有する一対の前面板と背面板
との間にガス媒体が封入され、かつ表示領域外に前記前
面板あるいは前記背面板のいずれかに貫通穴が設けられ
たプラズマディスプレイパネルを製造するに際し、一つ
の貫通穴から放電ガスを導入し、他の一つの貫通穴から
放電ガスを含む内部空間のガスを排出させ、放電空間内
に放電ガスを流しながら表示電極間で放電を生じさせる
エージング工程を設け、かつそのエージング工程で放電
空間内を流れるガスの流速が一定でないことを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】エージング工程で、放電空間内に放電ガ
スを断続的に流しながら表示電極間で放電を生じさせる
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレ
イパネル。
【請求項３】エージング工程で、放電空間内のガス圧
力を一定に保ちつつ放電ガスを断続的に流しながら表示
電極間で放電を生じさせることを特徴とする請求項２に
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】エージング工程で、放電空間内に放電ガ
スを断続的に流しながら表示電極間で放電を生じさせる
際に、放電空間内のガス圧力を変動させることを特徴と
する請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製
造方法。
【請求項５】表示電極を有する一対の前面板と背面板
との間にガス媒体が封入され、かつ表示領域外に前記前
面板あるいは前記背面板のいずれかに貫通穴が設けられ
たプラズマディスプレイパネルを製造するに際し、一つ
の貫通穴から放電ガスを導入し、他の一つの貫通穴から
放電ガスを含む内部空間のガスを排出させ、放電空間内
に放電ガスを流しながら表示電極間で放電を生じさせる
エージング工程を設け、前記エージング工程時に、放電
空間内を流れるガス流の方向をエージング工程の途中で
変えることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項６】放電ガスの導入に用いる貫通穴と、内部
空間のガスの排出に用いる貫通穴とを、エージング工程
の途中で切り替えることを特徴とする請求項５に記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】放電ガスの導入に用いる貫通穴と、内部
空間のガスの排出に用いる貫通穴とをそれぞれ２つ以上
用いることを特徴とする請求項５に記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。
【請求項８】放電空間内を流れるガス流の方向を、エ
ージング工程中に少なくとも２回以上変えることを特徴
とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項９】放電空間内のガス圧力が、断続的に大気
圧より高い状態で表示電極間に放電を生じさせることを
特徴とする請求項１〜請求項８のいずれかに記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】放電空間内のガス圧力が、大気圧より
高い圧力で一定に保ちながら表示電極間で放電を生じさ
せることを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれかに
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】少なくとも前面基板あるいは背面基板
のいずれかが２ｍｍ以下の厚さであることを特徴とする
請求項９または請求項１０に記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
【請求項１２】放電空間内にガスを流す際には、少な
くとも複数個の圧着部材を備え、前面板および背面板が
当該圧着部材により圧着固定されていることを特徴とす
る請求項１または請求項５に記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
【請求項１３】圧着部材が前面板および背面板の基板
周辺部を圧着固定することを特徴とする請求項１２に記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】前面板あるいは背面板に封着用の接合
部材が塗布され、平行に貼り合わされるプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、エージング工程に際
して、少なくとも放電空間内に放電ガスを流す際には、
少なくとも複数個の圧着部材を備え、前記前面板あるい
は前記背面板に塗布された前記接合部材より内側の基板
周辺部が前記圧着部材により固定されることを特徴とす
る請求項１または請求項５に記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
【請求項１５】請求項１〜請求項１４のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法により得た
プラズマディスプレイパネルと、このプラズマディスプ
レイパネルを駆動する駆動回路とを備えたプラズマディ
スプレイ装置。