JP2003066620A - 平版印刷版用アルカリ現像処理液及び平版印刷版の製版方法 - Google Patents

平版印刷版用アルカリ現像処理液及び平版印刷版の製版方法

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JP2003066620A
JP2003066620A JP2001252548A JP2001252548A JP2003066620A JP 2003066620 A JP2003066620 A JP 2003066620A JP 2001252548 A JP2001252548 A JP 2001252548A JP 2001252548 A JP2001252548 A JP 2001252548A JP 2003066620 A JP2003066620 A JP 2003066620A
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Shuichi Takamiya
周一 高宮
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製版工程において画像形成層に含まれるシア
ニン染料といった赤外線吸収染料が版に付着したり、現
像処理浴中で沈殿、析出することを防ぎ、長期間安定に
現像し得、高鮮鋭で鮮明な画像を得ることのできるアル
カリ現像処理液、及び平版印刷版の製版方法を提供す
る。 【解決手段】 アセチレンアルコール及び/又はアセチ
レングリコールを含有することを特徴とする赤外線感光
性平版印刷版用アルカリ現像処理液;赤外線吸収染料を
含む画像形成層を有する赤外線感光性平版印刷版を赤外
線露光後、上記のアルカリ現像処理液で現像することを
特徴とする平版印刷版の製版方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
デジタル信号に基づき、赤外線レーザー走査により直接
製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版
原版のアルカリ現像用の現像処理液に関する。本発明は
さらに、該現像処理液を使用する平版印刷版の製版方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、レーザーの発展はめざましく、特
に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザー、半導
体レーザーは、高出力かつ小型のものが容易に入手でき
るようになっており、このデジタルデータから直接製版
するシステムの露光光源として、これらのレーザーは非
常に有用である。レーザー書き込みに適する画像記録材
料として、例えば特開平7−285275号公報にはク
レゾール樹脂のような結着剤と、光を吸収して熱を発生
する物質と、キノンジアジドのような熱分解性であっ
て、且つ分解前の状態では前記結着剤の溶解性を実質的
に低下させうる化合物とを含有するポジ型の画像記録材
料が提案されている。これは、赤外線照射により露光部
分において前記光を吸収して熱を発生する物質が発熱
し、露光部分をアルカリ可溶性にするもの(ヒートモー
ド型)であるが、支持体であるアルミニウムに吸熱され
てしまうため熱効率が低く、現像工程におけるアルカリ
現像処理液に対する溶解性は満足のいくものではなかっ
た。このため、現像液のアルカリ濃度を上げ、露光部分
の溶解性を確保してきた。
【0003】ところが、ヒードモード型の平版印刷版原
版は、上記のような高濃度のアルカリ条件下では画像部
のアルカリ現像処理液に対する耐溶解性が低く、画像記
録材料表面に僅かに傷があるだけで溶解され、画像部に
欠陥を生ずるなどの問題があった。特に、アルカリ水溶
液に対して可溶性の高い高分子化合物を使用するポジ型
の平版印刷版原版において、その傾向はより顕著であっ
た。従って、非画像部に残膜が生じないようにアルカリ
現像液のアルカリ濃度を上げるには限度がある。
【0004】また、近年の赤外線レーザー露光型の画像
記録材料の改良に伴い、従来の赤外線吸収染料と比較し
てアルカリ現像処理液には溶解し難い、例えばシアニン
染料といった赤外線吸収染料が使用される傾向があり、
この画像記録材料をアルカリ現像処理液で現像した場合
に、現像処理液中に赤外線吸収染料の不溶物が排出され
る傾向がある。これがバインダーポリマーの成分や水中
の無機物などとの相互作用により更なる不溶物を形成し
て、これらの不溶物がプレート上に付着して画像に支障
をきたしたり、現像処理浴中で沈殿・析出し、処理浴の
メンテナンスに負担を生じるといった不都合を起こす。
このような状況下、非画像部上に残膜があるまま、例え
ばバーニング処理を施すと、残膜が炭化して印刷時の汚
れとなる不都合もある。よって、赤外線吸収染料などに
起因する不溶物による不都合を回避し、形成した画像部
に欠陥を与えることなく、高鮮鋭で鮮明な画像を形成す
ること、特に、ドット部や細線などを含む精細な画像に
おいて、その高鮮鋭化、再現性の向上が要求されてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、製版
工程において画像形成層に含まれるシアニン染料といっ
た赤外線吸収染料が版に付着したり、現像処理浴中で沈
殿、析出することを防ぎ、長期間安定に現像し得、高鮮
鋭で鮮明な画像を得ることのできるアルカリ現像処理
液、及び平版印刷版の製版方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の化合物
をアルカリ現像処理液に含ませることにより、現像液に
適した液性条件を維持しながら、赤外線吸収染料に起因
する不溶物の発生を制し、また、不溶物の付着、沈殿を
防止できることを見出し、本発明を完成させるに至っ
た。従って本発明は、アセチレンアルコール及び/又は
アセチレングリコールを含有することを特徴とする赤外
線感光性平版印刷版用アルカリ現像処理液に関する。本
発明はさらに、赤外線吸収染料を含む画像形成層を有す
る赤外線感光性平版印刷版を赤外線露光後、上記アルカ
リ現像処理液で現像することを特徴とする平版印刷版の
製版方法に関する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明のアルカリ現像処理液につ
いて説明する。現像処理に用いるアルカリ現像処理液
(以下、単に「現像液」ともいう。)はアルカリ性の水
溶液であって、従来公知のアルカリ水溶液の中から適宜
選択することができる。アルカリ水溶液としては、ケイ
酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基とからなる現像液
が挙げられ、特にpH12.5〜14.0のものが好まし
い。前記ケイ酸アルカリとしては、水に溶解したときに
アルカリ性を示すものであり、例えばケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどのアルカリ金
属ケイ酸塩、ケイ酸アンモニウムなどが挙げられる。ケ
イ酸アルカリは1種単独でも、2種以上を組み合わせて
用いてもよい。
【0008】上記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2O(Mはア
ルカリ金属又はアンモニウム基を表す。)との混合比
率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節するこ
とができる。前記アルカリ水溶液の中でも、前記酸化ケ
イ素SiO2とアルカリ酸化物M2Oとの混合比率(Si
2/M2O:モル比)が0.5〜3.0のものが好まし
く、0.75〜1.5のものがより好ましい。前記Si
2/M2Oが0.5未満であると、アルカリ強度が強くな
っていくため、平版印刷版原版の支持体として汎用のア
ルミニウム板などをエッチングしてしまうといった弊害
を生ずることがあり、3.0を超えると、現像性が低下す
ることがある。
【0009】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の質量に対して1〜10質量%
が好ましく、3〜8質量%がより好ましく、4〜7質量
%が最も好ましい。この濃度が1質量%未満であると現
像性、処理能力が低下することがあり、10質量%を超
えると沈澱や結晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の
中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支障をきた
すことがある。
【0010】非還元糖と塩基とからなる現像液におい
て、非還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持
たないために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同
士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非
糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖
アルコールに分類される。本発明ではこれらのいずれも
好適に用いることができる。トレハロース型少糖類とし
ては、例えばサッカロースやトレハロースが挙げられ、
前記配糖体としては、例えばアルキル配糖体、フェノー
ル配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。糖アルコ
ールとしては、例えばD,L−アラビット、リビット、
キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニッ
ト、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシッ
ト、アロズルシットなどが挙げられる。さらには、二糖
類の水素添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素
添加で得られる還元体(還元水あめ)なども好適に挙げ
ることができる。
【0011】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に
緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖は
単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.1〜30質量%が好ましく、1
〜20質量%がより好ましい。
【0012】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を従来公知の物の中から適宜
選択して組み合わせることができる。該アルカリ剤とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無
機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウ
ム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。
【0013】さらにモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も好適に
挙げることができる。これらのアルカリ剤は単独で用い
ても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由
は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広
いpH領域においてpH調整が可能となるためである。
また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があ
るので好ましい。
【0014】本発明の現像液は、上記のようなアルカリ
水溶液にアセチレンアルコール及び/又はアセチレング
リコールを含有することを特徴とする。アセチレンアル
コールとは、分子内にアセチレン結合(三重結合)をも
つ不飽和アルコールである。また、アセチレングリコー
ルとは、アルキンジオールとも呼ばれ、分子内にアセチ
レン結合(三重結合)をもつ不飽和グリコールである。
より具体的には、以下の一般式(I)、(II)で示される
ものがある。
【0015】 (式中、R1は炭素原子数1〜5の直鎖又は分岐鎖のア
ルキル基を表す。) (式中、R2及びR3はそれぞれ独立して炭素原子数1〜
5の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表し、a+bは0〜
30の数である。) 上記式中の炭素原子数1〜5の直鎖又は分岐鎖のアルキ
ル基として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イ
ソブチル基、イソペンチル基などが挙げられる。
【0016】アセチレンアルコール及びアセチレングリ
コールの更なる具体例として以下のものが挙げられる。 (1) プロパルギルアルコール CH≡C−CH2OH (2) プロパルギルカルビノール CH≡C−CH2−CH2OH (3) 3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール (4) 3−メチル−1−ブチン−3−オール (5) 3−メチル−1−ペンチン−3−オール
【0017】(6) 1,4−ブチンジオール HO−CH2−C≡C−CH2−OH (7) 2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオ
ール (8) 3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオ
ール
【0018】(9) 2,4,7,9−テトラメチル−5
−デシン−4,7−ジオール (10) 2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−
4,7−ジオールの酸化エチレン付加物 (m+n=1〜30) (11) 2,5,8,11−テトラメチル−6−ドデシン
−5,8−ジオール
【0019】これらのアセチレンアルコール、アセチレ
ングリコールは市場で入手することができ、市販品とし
て例えば Air Products and Chemicals Inc.の商品名サ
フィノールが知られている。市販品の具体例には、上記
(3)としてサフィノール61、上記(4)としてオルフィン
B、上記(5)としてオルフィンP、上記(7)としてオルフ
ィンY、上記(8)としてサフィノール82、上記(9)とし
てサフィノール104、オルフィンAK−02、上記(1
0)としてサフィノール400シリーズ、上記(11)として
サフィノールDF−110などがある。
【0020】本発明のアルカリ現像処理液中には、アセ
チレンアルコール及びアセチレングリコールから選ばれ
る1種を、又は2種以上を組み合わせて用いることがで
きる。本発明のアルカリ現像処理液中における、アセチ
レンアルコール及びアセチレングリコールからなる群か
ら選ばれる少なくとも1種の含有量は、現像液の全質量
に基づいて0.001〜10.0質量%が適当であり、
好ましくは0.01〜5.0質量%であり、より好まし
くは0.1〜1.0質量%である。
【0021】本発明のアルカリ現像処理液は、上記のと
おり、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基を含む
現像液を用いるが、そのカチオン成分として従来よりL
+、Na+、K+、NH4 +が用いられ、中でも、イオン
半径の小さいカチオンを多く含有する系では、画像形成
層への浸透性が高く現像性に優れる一方、画像部まで溶
解して画像欠陥を生ずる。従って、アルカリ濃度を上げ
るには、ある程度の限度があり、画像部に欠陥を生ずる
ことなく、且つ非画像部に画像形成層(残膜)が残存し
ないように完全に処理するためには、微妙な液性条件の
設定が要求された。しかし、前記カチオン成分として、
そのイオン半径の大きいカチオンを用いることにより、
画像形成層中への現像液の浸透性を抑制することがで
き、アルカリ濃度、即ち、現像性を低下させることな
く、画像部の溶解抑止効果をも向上させることができ
る。前記カチオン成分としては、上記アルカリ金属カチ
オン及びアンモニウムイオンのほか、他のカチオンも用
いることができる。
【0022】本発明のアルカリ現像処理液中には、さら
に界面活性剤を添加することができる。界面活性剤とし
ては非イオン性界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カ
チオン系界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。非
イオン界面活性としては、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエー
テル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアル
キルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソ
ルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール
脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪
酸エステル類、
【0023】しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチ
レングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪
酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、
ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、
脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒド
ロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル
アミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシドなどが好適に挙げられる。
【0024】アニオン界面活性剤としては、例えば脂肪
酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホ
ン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ
琥珀酸エステル塩類、αオレフィンスルホン酸塩類、直
鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸
塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピル
スルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフ
ェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリ
ンナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド
二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、
脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸エステル塩類、
【0025】脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エス
テル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテ
ル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン
酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合
物類などが好適に挙げられる。
【0026】カチオン性界面活性剤としては、例えばア
ルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド
等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などが
挙げられる。両性界面活性剤としては、例えばカルボキ
シベタイン類、アルキルアミノカルボン酸類、スルホベ
タイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類など
が挙げられる。以上の界面活性剤のうち、「ポリオキシ
エチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオ
キシプロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオキシア
ルキレンに読み替えることもでき、それらもまた前記界
面活性剤に包含される。現像液中における界面活性剤濃
度としては、0.001〜10.0質量%が好ましく、
0.01〜5.0質量%がより好ましく、0.1〜1.
0質量%が最も好ましい。
【0027】アルカリ現像処理液には、さらに現像性能
を高める目的で、以下のような添加剤を加えることがで
きる。例えば特開昭58−75152号公報に記載のN
aCl、KCl、KBrなどの中性塩、特開昭58−1
90952号公報に記載のEDTA、NTAなどのキレ
ート剤、特開昭59−121336号公報に記載の[C
o(NH36]Cl3、CoCl2・6H2Oなどの錯
体、特開昭50−51324号公報に記載のアルキルナ
フタレンスルホン酸ソーダ、n−テトラデシル−N,N
-ジヒドロキシエチルベタインなどのアニオン又は両性
界面活性剤、米国特許第4,374,920号明細書に
記載のテトラメチルデシンジオールなどの非イオン性界
面活性剤、特開昭55−95946号公報に記載のp−
ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチルクロライド
4級化合物などのカチオニックポリマー、特開昭56−
142528号公報に記載のビニルベンジルトリメチル
アンモニウムクロライドとアクリル酸ソーダとの共重合
体などの両性高分子電解質、特開昭57−192951
号公報に記載の亜硫酸ソーダなどの還元性無機塩、特開
昭58−59444号公報に記載の塩化リチウムなどの
無機リチウム化合物、特開昭59−75255号公報に
記載の有機Si、Tiなどを含む有機金属界面活性剤、
特開昭59−84241号公報に記載の有機ホウ素化合
物、EP101010号明細書に記載のテトラアルキル
アンモニウムオキサイドなどの4級アンモニウム塩等が
挙げられる。
【0028】本発明のアルカリ現像処理液の使用態様は
特に限定されるものではない。近年では、特に製版・印
刷業界において、製版作業の合理化及び標準化のため、
印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。この
自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷
用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とか
らなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポン
プで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付け
て現像処理するものである。また、最近は処理液が満た
された処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷
用版材を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。
このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼
働時間などに応じて補充液を補充しながら処理すること
ができる。
【0029】この場合、現像液よりもアルカリ強度の高
い水溶液を補充液として現像液中に加えることによっ
て、長時間現像タンク中に現像液を交換することなく多
量の画像形成材料を処理できる。本発明のアルカリ現像
処理液を使用するに際しても、この補充方式を採用する
ことが好ましい態様である。前記補充液としても、本発
明の平版印刷版用アルカリ現像処理液を、現像用の現像
液よりもアルカリ強度の高い水溶液として使用すること
ができる。
【0030】前記現像液及び現像液補充液には、現像性
の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて上記以外の種々の
界面活性剤や有機溶剤などを添加することもできる。界
面活性剤としては、アニオン系、ノニオン系、カチオン
系又は両性界面活性剤から選ぶことができ、有機溶剤と
してはベンジルアルコールなどが好ましい。また、ポリ
エチレングリコールもしくはその誘導体、又はポリプロ
ピレングリコールもしくはその誘導体などの添加も好ま
しい。さらに必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシ
ン、亜硫酸又は亜硫酸水素酸のナトリウム塩若しくはカ
リウム塩などの無機塩系還元剤、有機カルボン酸、消泡
剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
【0031】本発明のアルカリ現像処理液及び補充液を
用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水や界面活性
剤などを含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体
を含む不感脂化液で後処理がなされる。この後処理に
は、これらの処理液を種々組み合わせて行うことができ
る。また、実質的に未使用の現像処理液で処理する、い
わゆる使い捨て処理方式とすることも可能である。
【0032】次に本発明のアルカリ現像処理液を適用し
得る平版印刷版原版について説明する。赤外線感光性平
版印刷版は、支持体上に画像形成層を有し、さらに必要
に応じて他の層を有してなり、画像形成層は(A)赤外
線吸収染料を含み、さらに(B)アルカリ可溶性高分子
化合物を含み、任意に(C)アルカリ可溶性高分子化合
物と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカ
リ水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により
該溶解性低下作用が減少する化合物、(D)環状酸無水
物などを含有してもよい。また、ネガ型の平版印刷版原
版の場合には、露光部が硬化して画像部となるため、画
像形成層にさらに(E)熱により酸を発生する化合物
と、(F)酸により架橋する架橋剤とを含有して構成さ
れる。以下に、各構成成分について簡単に説明する。
【0033】−(A)赤外線吸収染料− 画像形成層に用いられる赤外線吸収染料は、赤外光を吸
収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線
吸収染料として知られる種々の染料を用いることができ
る。赤外線吸収染料としては、市販の染料又は文献(例
えば、「染料便覧」、有機合成化学協会編集、昭和45
年刊)に記載の公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染
料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキ
ノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シ
アニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属
チオレート錯体等の染料が挙げられる。これらの染料の
うち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外
光もしくは近赤外光を発光するレーザの利用に適する点
で特に好ましい。
【0034】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する染料として、例えば、特開昭58−125246
号、特開昭59−84356号、特開昭59−2028
29号、特開昭60−78787号等に記載のシアニン
染料、特開昭58−173696号、特開昭58−18
1690号、特開昭58−194595号等に記載のメ
チン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−
224793号、特開昭59−48187号、特開昭5
9−73996号、特開昭60−52940号、特開昭
60−63744号等に記載のナフトキノン染料、特開
昭58−112792号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許434,875号明細書に記載のシアニン
染料、米国特許5,380,635号明細書に記載のジ
ヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が好適に挙げら
れる。
【0035】また、染料として米国特許第5,156,
938号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、
米国特許第3,881,924号明細書に記載の置換さ
れたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57
−142645(米国特許第4,327,169号明細
書)に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58
−181051号、同58−220143号、同59−
41363号、同59−84248号、同59−842
49号、同59−146063号、同59−14606
1号に記載のピリリウム系化合物、特開昭59−216
146号に記載のシアニン色素、米国特許第4,28
3,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリウム
塩等、特公平5−13514号、同5−19702号に
記載のピリリウム化合物、市販品としては、Epolight I
II-178、Epolight III-130、Epolight III-12
5、Epolight IV−62A(エポリン社製)等も好まし
い。さらに、米国特許第4,756,993 号明細書に記載の式
(I)、(II)で表される近赤外線吸収染料も好適なも
のとして挙げることができる。上記のうち、シアニン色
素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオ
レート錯体がより好ましい。
【0036】さらに具体的に、下記一般式(Z)で表さ
れる化合物を挙げることができる。
【0037】
【0038】前記一般式(Z)中、R21〜R24は、それ
ぞれ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭
素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、R21
22、R23とR24はそれぞれ結合して環構造を形成して
いてもよい。R21〜R24としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよ
い。ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。
【0039】式中、R25〜R30は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基を表
し、前記R25〜R30としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。
【0040】式中、R31〜R33は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R32は、前記R31又は
33と結合して環構造を形成していてもよく、m>2の
場合は、複数のR32同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。前記R31〜R33としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、R32同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。また、mは1〜8の整数を表し、中でも1〜3が好
ましい。
【0041】式中、R34〜R35は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R34は、R35と結合し
て環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複数
のR34同士が結合して環構造を形成していてもよい。前
記R34〜R35としては、例えば、塩素原子、シクロヘキ
シル基、R34同士が結合してなるシクロペンチル環、シ
クロヘキシル環等が挙げられ、これらの基は、さらに置
換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、例
えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリ
ル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エス
テル、スルホン酸エステル等が挙げられる。また、m
は、1〜8の整数を表し、中でも、1〜3が好ましい。
【0042】式中、X-は、アニオンを表し、例えば、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−O−トル
エンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−
クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スル
ホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等
が挙げられる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
【0043】前記一般式(Z)で表される化合物のなか
でも、具体的には、以下に示す化合物が好適に用いられ
るが、本発明においては、これらに限られるものではな
い。
【0044】上記のような赤外線吸収染料の含有量とし
ては、画像形成層の全固形分質量に対して0.01〜50
質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、
さらに0.5〜10質量%が最も好ましい。前記含有量が
0.01質量%未満であると、感度が低くなることがあ
り、50質量%を超えると、画像形成層の均一性が低下
し、その耐久性が劣化することがある。
【0045】−(B)アルカリ可溶性高分子化合物− 使用可能なアルカリ可溶性高分子化合物(以下、
「(B)成分」ということがある。)としては、下記
(1)〜(3)の酸性基を主鎖及び/又は側鎖の構造中
に有するアルカリ水可溶性の高分子化合物を用いること
ができる。 (1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。) 〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CON
HSO2R〕 前記(1)〜(3)中、Arは置換基を有していてもよ
い2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有して
いてもよい炭化水素基を表す。以下に、その具体例を示
すが、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。
【0046】(1)フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、フェノールとホルム
アルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m
−、p−又はm−/p−混合のいずれでもよい。)とホ
ルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂又はピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有するモノマーを重
合させた高分子化合物を挙げることもできる。
【0047】側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽
和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる
重合性モノマーを単独重合、或いは、該重合性モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。フェノール基を側鎖に有するモノマ
ーとしては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【0048】具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニル
アクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリ
レート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタク
リレート等を好適に挙げることができる。
【0049】前記フェノール基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物の重量平均分子量としては、5.0×102
〜2.0×105のものが、数平均分子量としては、2.0
×10 2〜1.0×105のものが、画像形成性の点で好ま
しい。また、フェノール基を有するアルカリ可溶性高分
子化合物は、単独での使用のみならず、2種類以上を組
合わせて使用してもよい。組合わせる場合には、米国特
許第4123279号明細書に記載されているような、
t−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体
や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として
有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体を併
用してもよい。これらの縮重合体も、重量平均分子量が
5.0×102〜2.0×105のもの、数平均分子量が2.0
×102〜1.0×105のものが好ましい。
【0050】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する化合物を主たるモノマー構成単位とする重合
体、即ち、単独重合体又は前記モノマー構成単位に他の
重合性モノマーを共重合させた共重合体を挙げることが
できる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとし
ては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基−SO2 −NH−と、
重合可能な不飽和結合とを、それぞれ1以上有する低分
子化合物からなるモノマーが挙げられる。中でも、アク
リロイル基、アリル基又はビニロキシ基と、置換或いは
モノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ
基と、を有する低分子化合物が好ましい。前記低分子化
合物としては、例えば、下記一般式(a)〜(e)で表
される化合物が挙げられるが、本発明においては、これ
らに限定されるものではない。
【0051】
【0052】式中、X1、X2は、それぞれ独立に酸素原
子又はNR7 を表す。R1 、R4 は、それぞれ独立に水
素原子又はCH3を表す。R2、R5、R9、R12、R
16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数
1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、R13は、
それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭
素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基又はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、そ
れぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基を表す。R8、R10、R14は、それぞれ独立に水
素原子又はCH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立
に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Y1、Y2はそれぞれ独立に単
結合又はCOを表す。
【0053】中でもm−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0054】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有す
る化合物を主たるモノマー構成単位とする重合体を挙げ
ることができる。活性イミド基を有する化合物を主たる
モノマー構成単位とする重合体としては、1分子中に、
下記式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ1以上有する低分子化合物からなるモノ
マーを単独重合、或いは、該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。
【0055】
【0056】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に挙げることができる。さらに、上記のほか、前記フェ
ノール基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を
有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合
性モノマーのうちのいずれか2種類以上を重合させた高
分子化合物、或いは、これら2種以上の重合性モノマー
にさらに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高
分子化合物も好適に挙げられる。
【0057】フェノール基を有する重合性モノマー(M
1)に、スルホンアミド基を有する重合性モノマー(M
2)及び/又は活性イミド基を有する重合性モノマー
(M3)を共重合させる場合の配合比(M1:M2及び
/又はM3;質量比)としては、50:50〜5:95
が好ましく、40:60〜10:90がより好ましい。
【0058】アルカリ可溶性高分子化合物が、前記酸性
基(1)〜(3)より選ばれるいずれかを有するモノマ
ー構成単位と、他の重合性モノマーの構成単位とから構
成される共重合体である場合、該共重合体中に、前記酸
性基(1)〜(3)より選ばれるいずれかを有するモノ
マー構成単位を10モル%以上含むことが好ましく、2
0モル%以上含むことがより好ましい。前記モノマー構
成単位の含有量が、10モル%未満であると、十分なア
ルカリ可溶性が得られずに、現像ラチチュードが狭くな
ることがある。前記共重合体の合成方法としては、従来
より公知のグラフト共重合法、ブロック共重合法、ラン
ダム共重合法等を用いることができる。
【0059】前記酸性基(1)〜(3)より選ばれるい
ずれかを有するモノマーを構成単位とする重合性モノマ
ーと共重合させる。他の重合性モノマーとしては、例え
ば、下記(a)〜(1)に挙げるモノマーを挙げること
ができるが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。
【0060】(a)2−ヒドロキエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類。 (b)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (c)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。
【0061】(d)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリるアミド、N−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミド、又はメタクリルアミ
ド。 (e)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (f)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (g)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等とスチレン類。
【0062】、(h)メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。 (i)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (j)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (k)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、
N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタ
クリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。 (l)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。
【0063】前記アルカリ水可溶性高分子化合物として
は、単独重合体、共重合体に関わらず、膜強度の点で、
重量平均分子量が2000以上、数平均分子量が500
以上のものが好ましく、重量平均分子量が5000〜3
00000、数平均分子量が800〜250000であ
り、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜
10のものがより好ましい。また、前記アルカリ可溶性
高分子化合物が、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−アルデヒド樹脂等である場合には、重量平
均分子量が500〜20000であって、数平均分子量
が200〜10000のものが好ましい。
【0064】前記アルカリ水可溶性高分子化合物の含有
量としては、画像形成層の全固形分質量に対して30〜
99質量%が好ましく、40〜95質量%がより好まし
く、50〜90質量%が最も好ましい。前記含有量が、
30質量%未満であると、画像形成層の耐久性が低下す
ることがあり、99質量%を越えると、感度、耐久性が
低下することがある。また、前記高分子化合物は、1種
類のみを用いても、2種類以上を組合わせて用いてもよ
い。
【0065】−(C)前記アルカリ可溶性高分子化合物
と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ
水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該
溶解性低下作用が減少する化合物− この(C)成分は、分子内に存在する水素結合性の官能
基の働きにより、前記(B)アルカリ可溶性高分子化合
物との相溶性が良好であり、均一な画像形成層用塗布液
を形成しうるとともに、アルカリ可溶性高分子化合物と
の相互作用により、該アルカリ可溶性高分子化合物のア
ルカリ可溶性を抑制する機能(溶解性抑制作用)を有す
る化合物を指す。
【0066】また、加熱によりアルカリ可溶性高分子化
合物に対する前記溶解性抑制作用は消滅するが、この赤
外線吸収剤自体が加熱により分解する化合物である場合
には、分解に十分なエネルギーが、レーザー出力や照射
時間等の諸条件により付与されないと、アルカリ可溶性
高分子化合物の溶解性抑制作用を十分に低下させること
ができず、感度が低下するおそれがある。このため、
(C)成分の熱分解温度としては、150°C以上が好
ましい。
【0067】(C)成分としては、前記(B)アルカリ
可溶性高分子化合物との相互作用を考慮して、例えば、
スルホン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ア
ミド化合物等の前記アルカリ可溶性高分子化合物と相互
作用しうる化合物の中から適宜選択することができる。
(C)成分と前記(B)アルカリ可溶性高分子化合物と
の配合比(C/B)としては、一般に1/99〜25/
75が好ましい。
【0068】−(D)環状酸無水物− 平版印刷版原版には、さらに環状酸無水物を使用しても
よい。該環状酸無水物は、その構造内にカルボン酸無水
物のカルボニル基と共役する結合を有し、そのカルボニ
ル基の安定性を増すことで分解速度を制御し、保存経時
において適当な速度で分解して酸を発生する。そのた
め、保存経時での現像性劣化を抑え、現像性を長期間安
定に維持しうる。前記環状酸無水物としては、下記一般
式(III)又は(IV)で表される化合物が挙げられる。
【0069】
【0070】一般式(III)中、R41、R42はそれぞれ
独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原
子数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基、カルボニル基、カ
ルボキシ基もしくはカルボン酸エステルを表す。なお、
41、R42は互いに連結して環構造を形成してもよい。
前記R41、R42としては、例えば水素原子、又は炭素原
子数1〜12の無置換のアルキル基、アリール基、アル
ケニル基、シクロアルキル基などが好適に挙げられ、具
体的には水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、
ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられ、これらの基は、さらに置換
基を有していてもよい。R41、R42が互いに連結して環
構造を形成する場合、その環状基としては、例えばフェ
ニレン基、ナフチレン基、シクロヘキセン基、シクロペ
ンテン基などが挙げられる。前記置換基としては、例え
ばハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボニル基、スルホ
ン酸エステル、ニトロ基、ニトリル基などが挙げられ
る。
【0071】一般式(IV)中、R43、R44、R45、R46
は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、塩素など
のハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、又は置換基を
有していてもよい炭素年始数1〜12のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリー
ル基、カルボニル基、カルボキシ基もしくはカルボン酸
エステル基などを表す。前記R43、R44、R45、R46
しては、例えば水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1
〜12の無置換のアルキル基、アルケニル基、炭素原子
数6〜12のアリール基などが好適に挙げられ、具体的
にはメチル基、ビニル基、フェニル基、アリル基などが
挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても
よい。前記置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、カルボニル基、スルホン酸エステル、ニトロ
基、ニトリル基、カルボキシ基などが挙げられる。
【0072】環状酸無水物として、例えば無水フタル
酸、3,4,5,6−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、3−ヒドロキシ無水フタル酸、
3−メチル無水フタル酸、3−フェニル無水フタル酸、
無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイ
ン酸、フェニル無水マレイン酸、ジメチル無水マレイン
酸、ジクロロ無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸な
どが好適に挙げられる。環状酸無水物の含有量として
は、画像形成層の全固形分含量に対して0.5〜20質量
%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、1〜1
0質量%が最も好ましい。前記含有量が0.5質量%未満
であると現像性の維持効果が不十分となることがあり、
20質量%を超えると画像を形成できないことがある。
【0073】以下は、ネガ型平版印刷版の記録層を構成
する成分である。 −(E)熱により酸を発生する化合物− 画像形成材料がネガ型の場合、加熱時に酸を発生する化
合物(以下、「酸発生剤」という。)を併用する。この
酸発生剤は、100°C以上に加熱することにより分解
して酸を発生する化合物を増す。発生する酸としては、
スルホン酸、塩酸等の pKa が2以下の強酸であること
が好ましい。前記酸発生剤としては、ヨードニウム塩、
スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等の
オニウム塩を好適に挙げることができる。具体的には、
米国特許4,708,925号や特開平7−20629
号に記載の化合物を挙げることができ、中でも、スルホ
ン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニ
ウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。
【0074】前記ジアゾニウム塩としては、米国特許第
3,867,147号に記載のジアゾニウム塩化合物、
米国特許第2,632,703号明細書に記載のジアゾ
ニウム化合物、特開平1−102456号、特開平1−
102457号の各公報に記載のジアゾ樹脂も好適に挙
げることができる。また、米国特許第5,135,83
8号、米国特許第5,200,544号に記載のベンジ
ルスルホナート類、特開平2−100054号、特開平
2−100055号、特開平8−9444号に記載の活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。その他特開平7−271029号に記載の、ハロア
ルキル置換されたS−トリアジン類も好ましい。前記酸
発生剤の添加量としては、画像形成層の全固形分質量に
対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜40質量%
がより好ましく、0.5〜30質量%が最も好ましい。
【0075】−(F)酸により架橋する架橋剤− 平版印刷版原版がネガ型である場合、酸により架橋する
架橋剤(以下、単に「架橋剤」という場合がある。)を
併用する。前記架橋剤としては、以下のものを挙げるこ
とができる。 (i)アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置
換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基又はN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 さらに、特開平11−254850号公報に記載のもの
やフェノール誘導体等も挙げることができる。
【0076】前記架橋剤の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し5〜80質量%が好ましく、10
〜75質量%がより好ましく、20〜70質量%が最も
好ましい。前記フェノール誘導体を架橋剤として使用す
る場合、該フェノール誘導体の添加量としては、画像形
成材料の全固形分質量に対し5〜70質量%が好まし
く、10〜50質量%がより好ましい。上記の各種化合
物の詳細については、特開2000−267265号公
報に記載されている。
【0077】−その他の成分− 平版印刷版原版の画像形成層には、必要に応じて、さら
に種々の添加剤を添加することができる。例えば、感度
を向上させる目的で、フェノール類、有機酸類、スルホ
ニル化合物類等の公知の添加剤を併用することもでき
る。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニ
トロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,
4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニル
メタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−
3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタン
などが挙げられる。
【0078】前記有機酸類としては、、特開昭60−8
8942号公報、特開平2−96755号公報などに記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
フィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安
息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、
3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。スルホニル化合物類としては、例え
ばビスヒドロキシフェニルスルホン、メチルフェニルス
ルホン、ジフェニルジスルホンなどが挙げられる。前記
他の環状酸無水物、フェノール類、有機酸類又はスルホ
ニル化合物類の添加量としては、画像形成層の全固形分
質量に対し、0.05〜20質量%が好ましく、0.1〜1
5質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が最も好ま
しい。
【0079】また、現像条件に対する処理性の安定性を
拡げる目的で、EP950517号公報に記載されてい
るようなシロキサン系化合物、特開平11−28809
3号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー
共重合体を添加することができる。シロキサン系化合物
としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシ
ドのブロック共重合体が好ましく、具体例として(株)
チッソ社製、DBE−224、DBE−621、DBE
−712、DBP−732、DBP−534、独Teg
o社製、Tego Glide 100等のポリアルキレンオキシド変
性シリコーンを挙げることができる。前記界面活性剤の
使用量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、0.
05〜15質量%が好ましく、0.1〜5質量%がより好
ましい。
【0080】前記画像形成層には、露光による加熱後、
直ちに可視像を得るための焼き出し剤や画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。前記焼き出し剤
としては、例えば、露光による加熱によって酸を発生す
る化合物と塩を形成しうる有機染料との組合せが挙げら
れる。具体的には、特開昭50−36209号、特開昭
53−8128号の各公報に記載の、o−ナフトキノン
ジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料との組合せ、特開昭53−36223号、特開昭54
−74728号、特開昭60−3626号、特開昭61
−143748号、特開昭61−151644号及び特
開昭63−58440号の各公報に記載の、トリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せ、が挙げられ
る。前記トリハロメチル化合物として、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物があり、いずれも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。前記画像着色
剤としては、例えば、前記塩形成性有機染料以外に、他
の染料を用いることができ、例えば、油溶性染料、塩基
性染料が好適に挙げられる。
【0081】具体的には、オイルイエロー#101、オ
イルイエロー#103、オイルピンク#312、オイル
グリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#6
03、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイ
ルブラックT−505(以上、オリエント化学工業
(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイ
オレット(C.I.42555)、メチルバイオレット
(C.I.42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(C.I.145170B)、マラカイトグリー
ン(C.I.42000)、メチレンブルー(C.I.
52015)等を挙げることができる。また、特開昭6
2−293247号公報に記載の染料は、特に好まし
い。前記各種染料の添加量としては、画像形成層の全固
形分質量に対し、0.01〜10質量%が好ましく、0.1
〜3質量%がより好ましい。
【0082】また、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することができる。可
塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマーな
どが挙げられる。
【0083】さらに必要に応じて、以下の種々添加剤を
添加することができる。例えば、オニウム塩、o−キノ
ンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スル
ホン酸エステル化合物等の、熱分解性で、未分解状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる化合物を併用することができる。該化合物の添
加は、画像部の現像液への溶解阻止能の向上を図る点で
好ましい。前記オニウム塩としては、例えばジアゾニウ
ム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
などが挙げられる。中でも、例えばS.I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974), T.S.Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), 特開昭5−158230号
公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,
055号、同4,069,056号、特開平3−140
140号に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988)、米国特許第4,069,055号、同4,
069,056号に記載のホスホニウム塩、J. V. Criv
elloet et al. Macromolecules, 10(6), 1307 (1977)、
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p.31 (1988)、欧州特許
第104,143号、米国特許第339,049号、同
第410,201号、特開平2−150848号、特開
平2−296514号に記載のヨードニウム塩、
【0084】J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985)、J. V. Crivello et al, J.Org. Chem., 43,
3055 (1978)、W. R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984)、J. V. Crivello et
al, Polymer bull., 14, 279 (1985)、J. V. Crivello
et al, Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J.V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), 欧州特許第370,693号、同2
33,567号、同297,443号、同297,44
2号、米国特許第4,933,377号、同3,90
2,114号、同410,201号、同399,049
号、同4,760,013号、同4,734,444
号、同2,833,827号、独国特許第2,904,
626号、同3,604,580号、同3,604,5
81号に記載のスルホニウム塩、
【0085】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977), J.V. Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen et al, The Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988)に記載の
アルソニウム塩などが挙げられる。上記のうち、ジアゾ
ニウム塩が好ましく、中でも、特開平5−158230
号公報に記載のものがより好ましい。
【0086】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサチリル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸などを挙げることが
できる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸などのアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
【0087】前記o−キノンジアジド化合物としては、
少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物
で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものが挙げら
れ、種々の構造の化合物を用いることができる。前記o
−キノンジアジドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能
を喪失し、且つo−キノンジアジド自身がアルカリ可溶
性の物質に変化する、両効果により平版印刷版原版の溶
解性を助ける。
【0088】上記のようなo−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティ
ブ・システムズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第33
9〜352頁に記載の化合物が使用可能であるが、中で
も、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物又は芳香族アミ
ノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸
エステル又はスルホン酸アミドが好ましい。また、特開
昭43−28403号公報に記載の、ベンゾキノン
(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又は、米国
特許第3,046,120号、同第3,188,210
号に記載のベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホ
ン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−5−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルも好ましい。
【0089】さらに、ナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド
−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも好ましい。その他、例えば特開昭4
7−5303号、特開昭48−63802号、特開昭4
8−63803号、特開昭48−96575号、特開昭
49−38701号、特開昭48−13354号、特公
昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公
昭49−17481号、米国特許第2,797,213
号、同ぢ3,454,400号、同第3,544,32
3号、同第3,573,917号、同第3,674,4
95号、同第3,785,825号、英国特許第1,2
27,602号、同第1,251,345号、同第1,
267,005号、同第1,329,888号、同第
1,330,932号、ドイツ特許第854、890号
などに記載のものも有用である。これらの化合物は単独
でも、数種を組み合わせて混合物として使用してもよ
い。前記オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香
族スルホン酸エステル等の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し、0.1〜50質量%が好ましく、
0.5〜30質量%がより好ましく、0.5〜20質量%が
最も好ましい。
【0090】その他、画像のディスクリミネーションの
強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特
開2000−187318号公報に記載されているよう
な、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基
を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合
成分とする重合体を併用することが好ましい。添加量と
しては画像形成層の全固形分質量に対し、0.1〜10質
量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%であ
る。また、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面
の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもでき
る。具体的には、米国特許第6117913号明細書に
開示されているような長鎖アルキルカルボン酸のエステ
ルなどを挙げることができる。その添加量として好まし
いのは、画像形成層の全固形分質量に対し0.1〜10質
量%であり、より好ましくは0.5〜5質量%である。ま
た、画像形成層の溶解性を調節する目的で種々の溶解抑
制剤を含んでもよい。溶解抑制剤としては、特開平11
−119418号公報に記載されるようなジスルホン化
合物又はスルホン化合物が好適に用いられ、具体例とし
て4,4'-ビスヒドロキシフェニルスルホンを用いること
が好ましい。その添加量として好ましいのは、画像形成
層の全固形分質量に対し0.05〜20質量%であり、よ
り好ましくは0.5〜10質量%である。
【0091】本発明の製版方法を適用し得る感光性平版
印刷版の具体例として、特願2000−378507号
に開示されるような画像形成層を2層構造のポジ型感熱
層とした平版印刷版原版も挙げられる。即ちこのポジ型
感熱層は積層構造を有し、表面(露光面)に近い位置に
設けられている感熱層と、支持体に近い側に設けられい
るアルカリ可溶性高分子化合物を含有する下層とを有す
ることを特徴とする。該感熱層と下層の双方に或いは一
方に、上述してきた(A)赤外線吸収染料、(B)アルカリ可
溶性高分子化合物、(C)アルカリ可溶性高分子化合物と
相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ水
溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶
解性低下作用が減少する化合物、−その他の成分−を含
有させることができる。下層で用いられるアルカリ可溶
性高分子化合物としては、アクリル樹脂が、緩衝作用を
有する有機化合物と塩基とを主成分とするアルカリ現像
液に対して下層の溶解性を良好に保持し得るため、現像
時の画像形成の観点から好ましい。さらにこのアクリル
樹脂としてスルホアミド基を有するものが特に好まし
い。また、感熱層で用いられるアルカリ可溶性高分子化
合物としては、未露光部では強い水素結合性を生起し、
露光部においては、一部の水素結合が容易に解除される
点などからフェノール性水酸基を有する樹脂が望まし
い。更に好ましくはノボラック樹脂である。赤外線吸収
染料は、感熱層のみならず、下層にも添加することがで
きる。下層に赤外線吸収染料を添加することで下層も感
熱層として機能させることができる。下層に赤外線吸収
染料を添加する場合には、上部の感熱層におけるのと互
いに同じ物を用いてもよく、また異なる物を用いてもよ
い。その他の添加剤は下層のみに含有させてもよいし、
感熱層のみに含有させてもよく、更に両方の層に含有さ
せてもよい。
【0092】平版印刷版原版の画像形成層(上記2層構
造も含む)は、上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支
持体上に塗布することができる。溶媒として、例えばエ
チレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2
−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチル
ウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、α−ブチロラクトン、トルエンなどが
挙げられるが、これらに限定されるものではない。前記
溶媒は単独でも2種以上を混合してもよい。
【0093】画像形成層を2層構造とする場合、感熱層
に用いるアルカリ可溶性高分子化合物と下層に用いるア
ルカリ可溶性高分子化合物に対して溶解性の異なるもの
を選ぶことが好ましい。つまり、下層を塗布した後、そ
れに隣接して上層である感熱層を塗布する際、最上層の
塗布溶剤として下層のアルカリ可溶性高分子化合物を溶
解させうる溶剤を用いると、層界面での混合が無視でき
なくなり、極端な場合、重層にならず均一な単一層にな
ってしまう場合がある。このため、上部の感熱層を塗布
するのに用いる溶剤は、下層に含まれるアルカリ可溶性
高分子化合物に対する貧溶剤であることが好ましい。
【0094】画像形成層を塗布する場合の溶媒中の上記
成分の全固形分濃度は、一般的に1〜10質量%が好ま
しい。また、支持体上に塗布、乾燥して設けられる画像
形成層の乾燥塗布量(固形分)としては、一般的に0.5
〜5.0g/m2が好ましい。2層構造とする場合には、
感熱層は0.05〜1.0g/m2であり、下層は0.
3〜3.0g/m2であることが好ましい。塗布量が少
なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像形
成層の皮膜特性は低下する。支持体上に塗布する方法と
しては、公知の種々の方法の中から適宜選択できるが、
例えばバーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カ
ーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、グレー
ド塗布、ロール塗布などを挙げることができる。画像形
成層用塗布液中には、塗布性を良化する目的で界面活性
剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載のフ
ッ素系界面活性剤などを添加することができる。その添
加量としては、画像形成層の全固形分質量に対して0.0
1〜1質量%が好ましく、0.05〜0.5質量%がより好
ましい。
【0095】−支持体− 平版印刷版原版の支持体としては、例えば純アルミニウ
ム板、アルミニウム合金板、アルミニウムがラミネート
もしくは蒸着されたプラスチックフィルムなどが挙げら
れる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、ケイ酸ソ
ーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩などの
水溶液への浸透処理、あるいは、陽極酸化処理などの表
面処理が施されていることが好ましい。また、米国特許
第2,714,066号明細書に記載の砂目立てした後
にケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理したアルミニウ
ム板、特公昭47−5125号公報に記載のアルミニウ
ム板を陽極酸化処理した後、アルカリ金属ケイ酸塩の水
溶液中で浸漬処理したアルミニウム板も好ましい。
【0096】前記陽極酸化処理としては、例えばリン
酸、クロム酸、硝酸、ホウ酸などの無機酸若しくは蓚
酸、スルファミン酸などの有機酸又はこれらの塩の水溶
液若しくは非水溶液の単独若しくは二種以上を組み合わ
せた電解液中で、アルミニウム板を陽極として電極を流
すことにより施される。また、米国特許第3,658,
662号明細書に記載のシリケート電着も有効である。
【0097】また、米国特許第4,087,341号明
細書、特公昭46−27481号公報、特開昭52−3
0503号公報に記載の、電解グレインを施した支持体
に前記陽極酸化処理を施したものも有用である。米国特
許第3,834,998号明細書に記載の砂目立てした
後、化学的にエッチングし、さらに陽極酸化処理したア
ルミニウム板も有用である。これらの処理は支持体の表
面を親水性とする目的で施されるほか、支持体上に設け
られる画像形成層との有害な反応を防止する目的、画像
形成像との密着性を向上させる目的などの種々の目的で
施される。
【0098】平版印刷版原版は、支持体上に少なくとも
画像形成層を積層して設けたものであるが、必要に応じ
て支持体上に下塗り層を設けることができる。下塗り層
に用いる成分としては、種々の有機化合物が挙げられ、
例えばカルボキシメチルセルロース、デキストリン、ア
ラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ
基を有するホスホン酸類;置換基を有していてもよいフ
ェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホス
ホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及
びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸;置換基
を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸;
置換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロ
ホスフィン酸などの有機ホスフィン酸;グリシンやβ−
アラニンなどのアミノ酸類;トリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩など
が挙げられる。前記有機化合物は、1種単独で用いても
よく、2種以上を混合して用いてもよい。また、前述し
たジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様であ
る。
【0099】また、下塗り層としては、下記一般式
(V)で表される構成単位を有する有機高分子化合物の
少なくとも1種を含む有機下塗り層も好ましい。
【0100】
【0101】式中、R51は水素原子、ハロゲン原子又は
アルキル基を表し、R52及びR53は、それぞれ独立に水
素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、−OR54、−C
OOR55、−CONHR56、−COR57又は−CNを表
し、前記R52及びR53は互いに結合して環構造を形成し
てもよい。ここで、R54〜R57はそれぞれ独立にアルキ
ル基又はアリール基を表す。Xは水素原子、金属原子、
−NR58596061を表す。ここでR58〜R 61はそれ
ぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基又は置換アリール基を表し、R58及びR59は互
いに結合して環構造を形成してもよい。mは1〜3の整
数を表す。下塗り層の乾燥塗布量としては2〜200m
g/m2が好ましく、5〜100mg/m2がより好まし
い。この乾燥塗布量が2mg/m2未満であると十分な
膜性が得られないことがある。一方200mg/m2
超えて塗布しても、それ以上の効果を得ることはできな
い。
【0102】下塗り層は下記方法により設けることがで
きる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエ
チルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に
前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアルミニ
ウム板などの支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、
水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンな
どの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合
物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板など
の支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、その後
水等で洗浄、乾燥して設ける方法である。
【0103】前者の方法では、前記有機化合物の0.00
5〜10質量%濃度の下塗り層用溶液を用いることが好
ましい。一方、後者の方法では、下塗り層用溶液の前記
有機化合物の濃度としては、0.01〜20質量%が適当
であり、好ましくは0.05〜10質量%であり、より好
ましくは0.1〜5質量%である。また、浸漬温度とし
ては20〜90℃が好ましく、25〜50℃がより好ま
しい。浸漬時間としては0.1秒〜20分が好ましく、2
秒〜1分がより好ましい。下塗り層用溶液はアンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や塩酸、リン酸などの酸性物質を用いてpH1〜12
の範囲に調整することもできる。また、調子再現性改良
を目的として黄色染料を追加することもできる。
【0104】赤外線感光性平版印刷版は赤外線レーザー
で記録することができる他、紫外線ランプによる記録や
サーマルヘッド等による熱的な記録も可能である。前記
赤外線レーザーとしては波長700〜1200nmの赤
外線を放射するレーザーが好ましく、同波長範囲の赤外
線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーがより好
ましい。
【0105】
【発明の効果】本発明のアルカリ現像処理液及び平版印
刷版の製版方法によれば、アルカリ現像処理液の液性条
件を維持しつつ、赤外線吸収染料などに起因する不溶物
の発生や版面へ付着を抑制し、長期間安定に平版印刷版
原版の現像処理を行うことができ、高鮮鋭で鮮明な画像
を形成することができる。
【0106】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、
実施例中の「%」はすべて「質量%」を表す。
【0107】[SiO2含有のアルカリ現像処理液の調
製]酸化ケイ素SiO2及び酸化カリウムK2Oの混合比
SiO2/K2Oが1.1のケイ酸カリウム4.0%水溶
液1リットルに、一般式(I)、(II)の以下に示す各種
化合物A〜Nを表1に記載の濃度(g/リットル)で添
加し、本発明のアルカリ現像処理液(1)〜(30)を
作成した。また、比較のため上記組成で当該化合物を含
まないものをアルカリ現像処理液(61)とした。[非
還元糖含有のアルカリ現像処理液の調製]非還元糖と塩
基とを組み合わせたD−ソルビット/酸化カリウムK2
Oよりなるカリウム塩5.0%水溶液1リットルに、、
一般式(I)、(II)の以下に示す各種化合物A〜Nを表
1に記載の濃度(g/リットル)で添加し、本発明のア
ルカリ現像処理液(31)〜(60)を作成した。ま
た、比較のため上記組成で当該化合物を含まないものを
アルカリ現像処理液(62)とした。
【0108】現像液に用いた化合物 A:プロパルギルアルコール B:プロパルギルカルビノール C:3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール D:3-メチル-1-ブチン-3-オール E:3-メチル-1-ペンチン-3-オール F:1,4-ブチンジオール G:2,5-ジメチル-3-ヘキシン-2,5-ジオール H:3,6-ジメチル-4-オクチン-3,6-ジオール I:2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオール J:2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオールの酸
化エチレン付加物(前記式中m+n=1.3) K:2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオールの酸
化エチレン付加物(前記式中m+n=3.5) L:2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオールの酸
化エチレン付加物(前記式中m+n=10) M:2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオールの酸
化エチレン付加物(前記式中m+n=30) N:2,5,8,11-テトラメチル-6-ドデシン-5,8,-ジオール
【表1】
【0109】
【実施例1〜60及び比較例1及び2】実施例1〜60
及び比較例1及び2で用いる赤外線感光性平版印刷版を
以下のように作製した。実施例1〜30として各々、ア
ルカリ現像処理液(1)〜(30)で処理し、実施例31〜6
0として各々、アルカリ現像処理液(31)〜(60)で処理
し、比較例1〜2として各々、アルカリ現像処理液(6
1)及び(62)で処理した。
【0110】<平版印刷版原版の作成1>0.3mm厚
のアルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン
で洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシ
ュのパミス−水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、
水でよく洗浄した。洗浄後、このアルミニウム板を45
℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエ
ッチングを行い、水洗した後、さらに20%硝酸水溶液
に20秒間浸漬し、再度水洗した。このときの砂目立て
表面のエッチング量は、約3g/m 2であった。
【0111】次に、このアルミニウム板を7%硫酸を電
解液として、電流密度15A/dm 2の直流電流で3g
/m2の陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥した。こ
れを、30℃の珪酸ナトリウム2.5%水溶液で10秒
処理し、下記下塗り層用塗布液を塗布し、80℃下で1
5秒間乾燥して支持体を得た。乾燥後の下塗り層の乾燥
塗布量は、15mg/m2であった。
【0112】<下塗り層用塗布液> 下記共重合体P(分子量28000) 0.3g メタノール 100g 水 1g
【0113】
【0114】<特定の共重合体の合成> 合成例(特定の共重合体1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三つ口
フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モル)、
クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及びアセ
トニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合
物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36.4
g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で3
0分間混合物を攪拌した。この反応混合物にp-アミノベ
ンゼンスルホンアミド51.7g(0.30モル)を加
え、油浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌し
た。反応終了後、この混合物を水1リットルにこの水を
攪拌しながら投入し、30分間得られた混合物を攪拌し
た。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水
500mlでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、
得られた固体を乾燥することにより、N-(p-アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られ
た(収量46.9g)
【0115】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三つ口フラスコにN-(p-アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド4.61g、(0.0192モ
ル)、メタクリル酸エチル2.94g(0.0258モ
ル)、アクリロニトリル0.80g(0.015モル)
及びN,N-ジメチルアセトアミド20gを入れ、湯水浴に
より65℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合
物に「V-65」(和光純薬(株)製)0.15gを加
え、65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物を攪拌
した。この反応混合物にさらにN-(p-アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド4.61g、メタクリル酸
エチル2.94g、アクリロニトリル0.80g、N,N-
ジメチルアセトアミド及び「V−65」0.15gの混
合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終
了後、さらに65℃で2時間得られた混合物を攪拌し
た。反応終了後、メタノール40gを混合物に加え、冷
却し、得られた混合物を水2リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、30分間混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより15gの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により、この特定の共重合体の重量平均分子量(ポリス
チレン標準)を測定したところ、53,000であっ
た。
【0116】得られた支持体上に下記画像形成層塗布液
を塗布し、150℃、30秒乾燥させて、乾燥塗布量を
1.8g/m2とし、ポジ型の平版印刷版原版を得た。 <画像形成層用塗布液> 上記特定の共重合体1[(B)成分] 0.4g m,p−クレゾールノボラック[(B)成分] 0.6g (m/p比=6/4、重量平均分子量8000、 未反応クレゾールを0.5%含有) シアニン染料A[(A+C)成分] 0.1g 無水フタル酸[(D)成分] 0.05g p−トルエンスルホン酸 0.002g エチルバイオレット 0.02g (対イオン:6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸) ナフトキノン1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 0.01g フッ素系界面活性剤 0.05g (商品名:メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 8g 1−メトキシ−2−プロパノール 4g
【0117】上記より得られた平版印刷版原版に出力5
00mW、波長830nmビーム径17μm(1/
2)の半導体レーザーを用いて主走査速度5m/秒に
て露光し、25℃に保持した。この平版印刷版原版を、
上記の各種アルカリ現像処理液を満たした自動現像機P
S900NP(富士写真フイルム(株)製)により、現像
温度30℃、12秒で現像処理した。補充液の補充なし
に、50m2、100m2、200m2、300m2、40
0m2、500m2と処理した。現像処理が終了したの
ち、水洗工程を経て、ガム(GU−7(1:1))など
で処理して、製版が完了した平版印刷版を得た。
【0118】<画像部/非画像部のバランスの評価> (非画像部の現像性の評価)上記のようにして現像直
後、50m2、100m2、200m2、300m2、40
0m2、500m2と処理して得た平版印刷版の非画像部
の現像性を「非画像部の残膜の有無」を観察することで、
官能評価を行った。その結果を表2〜表3に示す。 −基準− ○:十分に現像され、非画像部上の画像形成層の残存は
認められなかった。印刷物上に汚れがなかった。 △:非画像部上に画像形成層が若干残存していた。印刷
物上には汚れがなかった。 ×:現像不良が認められ、非画像部に画像形成層が残存
していた。印刷物上に汚れが発生した。
【0119】<画像部の膜べりの評価>上記のようにし
て現像直後、50m2、100m2、200m2、300
2、400m2、500m2と処理して得た平版印刷版
の「画像部の欠陥」を下記基準に従い、目視により観察
し、官能評価を行った。評価結果を表4〜表5に示す。 −基準− ○:画像部に欠陥は認められなかった。印刷物上でも画
像部の白ぬけはなかった。 △:画像部濃度が若干低下し、一部に欠陥が認められ
た。印刷物上では、画像部の白ぬけはなかった。 ×:画像部濃度が大幅に低下し、画像部に欠陥した部分
有り。印刷物上に画像部の色抜けが発生した。
【0120】<現像液中の不溶物の評価>1リットル当
たり、1m2、10m2、100m2処理した現像液を、
冷蔵庫(5℃)、常温(20〜25℃)、サーモ(35
℃)の中に1ヶ月放置したときの不溶物を評価して、結
果を表6〜7にまとめる。 ○:不溶物なし △:若干の不溶物があるが、振ると溶解してなくなる。 ×:振っても不溶物が残存する。
【0121】
【表2】
【0122】
【表3】
【0123】
【表4】
【0124】
【表5】
【0125】
【表6】 現像液中の不溶物
【0126】
【表7】 現像液中の不溶物
【0127】
【実施例61〜120及び比較例3及び4】実施例61
〜120及び比較例3及び4で用いる赤外線感光性平版
印刷版を以下のように作製し、実施例61〜90として
各々、アルカリ現像処理液(1)〜(30)で処理し、実施例
91〜120として各々、アルカリ現像処理液(31)〜
(60)で処理し、比較例3及び4として各々、アルカリ現
像処理液(61)及び(62)で処理した。
【0128】<平版印刷版原版の作成2>上記の<平版
印刷版原版の作成1>で使用したのと同様に処理し下塗
り層を設けたアルミニウム支持体に、以下の感光液2を
塗布量が0.16g/m2になるようにワイヤーバーで
塗布した後、TABAI社製 PERFECT OVER PH200にてWindCo
ntrolを7に設定して140℃、50秒で乾燥した。更にその
上に感光液3を塗布量が0.85g/m2になるように
ワイヤーバーで塗布した後、TABAI社製 PERFECT OVER P
H200にてWindControlを7に設定して120℃、60秒で乾燥
し、2層構成の感熱層を有する平版印刷版原版を得た。
【0129】 (感光液2) N-(4-アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル (36/34/30重量平均分子量50000) 1.896g クレゾールノボラック(m/p=6/4 重量平均分子量4500、 残存モノマー0.8wt%) 0.237g シアニン染料A 0.109g 4,4'-ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.063g 無水テトラヒドロフタル酸 0.190g p−トルエンスルホン酸 0.008g エチルバイオレットの対イオンを 6-ヒドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.05g フッ素系界面活性剤(F176、大日本インキ工業(株)社製) 0.035g メチルエチルケトン 26.6g 1-メトキシ-2-プロパノール 13.6g γ−ブチロラクトン 13.8g
【0130】 (感光液3) クレゾールノボラック(m/p=6/4 重量平均分子量4500、 残存モノマー0.8wt%) 0.237g シアニン染料A 0.047g ステアリン酸ドデシル 0.060g 3-メトキシ-4-ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート 0.030g フッ素系界面活性剤(F176(20%溶液)、大日本インキ工業(株)社製) 0.110g フッ素系界面活性剤(MCF312F(30%溶液)、大日本インキ工業(株)社製) 0.12g メチルエチルケトン 15.1g 1-メトキシ-2-プロパノール 7.7g
【0131】上記より得られた平版印刷版原版に出力5
00mW、波長830nmビーム径17μm(1/
2)の半導体レーザーを用いて主走査速度5m/秒に
て露光し、25℃に保持した。この平版印刷版原版を、
上記の各種アルカリ現像処理液を満たした自動現像機P
S900NP(富士写真フイルム(株)製)により、現像
温度30℃、12秒で現像処理した。補充液の補充なし
に、50m2、100m2、200m2、300m2、40
0m2、500m2と処理した。現像処理が終了したの
ち、水洗工程を経て、ガム(GU−7(1:1))など
で処理して、製版が完了した平版印刷版を得た。
【0132】こうして製版された平版印刷版について、
実施例1〜60と同様にして評価を行った。その評価結
果を、非画像部の現像性について表8〜9に、画像部の
膜べりについて表10〜11、及び現像液中の不溶物に
ついて表12〜13に示す。
【0133】
【表8】
【0134】
【表9】
【0135】
【表10】
【0136】
【表11】
【0137】
【表12】 現像液中の不溶物
【0138】
【表13】 現像液中の不溶物

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アセチレンアルコール及び/又はアセチ
    レングリコールを含有することを特徴とする赤外線感光
    性平版印刷版用アルカリ現像処理液。
  2. 【請求項2】 赤外線吸収染料を含む画像形成層を有す
    る赤外線感光性平版印刷版を赤外線露光後、請求項1記
    載のアルカリ現像処理液で現像することを特徴とする平
    版印刷版の製版方法。
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