JP2001272801A - 平版印刷版の製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 形成した画像部に欠陥を与えることなく、非
画像部に残膜を残さないか、又は、ある程度残膜が残っ
たとしても最終的に印刷物上に汚れとならず、高鮮鋭で
鮮明な画像を得ることのできる平版印刷版の製版方法を
提供する。 【解決手段】 赤外線吸収剤を含有する赤外線感応性平
版印刷原版を赤外線露光し、アルカリ現像した後、スル
ホン酸塩含有水溶液で処理する平版印刷版の製版方法；
スルホン酸塩含有水溶液で処理した後、さらにバーニン
グ処理することを特徴とする、上記平版印刷版の製版方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版の製版方
法に関し、さらに詳しくは赤外線吸収染料を含有する赤
外線感応性平版印刷原版の製版方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、レーザーの発展はめざましく、特
に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザー、半導
体レーザーは、高出力かつ小型のものが容易に入手でき
るようになっており、このデジタルデータから直接製版
するシステムの露光光源として、これらのレーザーは非
常に有用である。レーザー書き込みに適する画像記録材
料として、例えば特開平７−２８５２７５号公報にはク
レゾール樹脂のような結着剤と、光を吸収して熱を発生
する物質と、キノンジアジドのような熱分解性であっ
て、且つ分解前の状態では前記結着剤の溶解性を実質的
に低下させうる化合物とを含有するポジ型の画像記録材
料が提案されている。これは、赤外線照射により露光部
分において前記光を吸収して熱を発生する物質が発熱
し、露光部分をアルカリ可溶性にするもの（ヒートモー
ド型）であるが、支持体であるアルミニウムに吸熱され
てしまうため熱効率が低く、現像工程におけるアルカリ
現像処理液に対する溶解性は満足のいくものではなかっ
た。このため、現像液のアルカリ濃度を上げ、露光部分
の溶解性を確保してきた。

【０００３】ところが、ヒードモード型の平版印刷用原
版は、上記のような高濃度のアルカリ条件下では画像部
のアルカリ現像処理液に対する耐溶解性が低く、画像記
録材料表面に僅かに傷があるだけで溶解され、画像部に
欠陥を生ずるなどの問題があった。特に、アルカリ水溶
液に対して可溶性の高い高分子化合物を使用するポジ型
の平版印刷用原版において、その傾向はより顕著であっ
た。従って、非画像部に残膜が生じないようにアルカリ
現像液のアルカリ濃度を上げるには限度がある。このよ
うな状況下、現像後、非画像部上に残膜があるまま、バ
ーニング処理を施すと、残膜が炭化して印刷時の汚れと
なる不都合がある。よって、形成した画像部に欠陥を与
えることなく、高鮮鋭で鮮明な画像を形成すること、特
に、ドット部や細線などを含む精細な画像において、そ
の高鮮鋭化、再現性の向上が要求されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、形成した画
像部に欠陥を与えることなく、非画像部に残膜を残さな
いか、又は、ある程度残膜が残ったとしても最終的に印
刷物上に汚れとならず、高鮮鋭で鮮明な画像を得ること
のできる平版印刷版の製版方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、赤外線吸収剤
を含有する赤外線感応性平版印刷原版を露光・現像処理
した後、特定の処理液を施すことで、優れた平版印刷版
が得られることを見出し、本発明を完成させるに至っ
た。従って、本発明は、赤外線吸収剤を含有する赤外線
感応性平版印刷原版を赤外線露光し、アルカリ現像した
後、スルホン酸塩含有水溶液で処理する平版印刷版の製
版方法に関する。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の製版方法で使用するスルホン酸塩には芳香族ス
ルホン酸塩及び脂肪族スルホン酸塩がある。芳香族スル
ホン酸塩として下記式にて示されるものがある。

【０００７】

【０００８】（上記式[Ｉ]〜[XIX]中、Ｒは炭素原子数
１〜２４個の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、Ｒ¹は
水素あるいは炭素原子数１〜２４個の直鎖又は分岐のア
ルキル基を表し、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は各々独立して
水素原子又は炭素原子数１〜２４個の直鎖又は分岐のア
ルキル基を表し、Ｍはアルカリ金属、アンモニウム又は
アミンを表す。ｎは０又は１、ｎ′は０又は１、ｍは１
又は２、ｐは０、１又は２、ｑは０、１又は２を表し、
但し、ｐ＋ｑは１以上であり、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、
−ＣＨ（ＯＨ）−、又は−（ＣＨ₃）Ｃ（ＣＨ₃）−を表
す。）上記アルカリ金属としては中でもナトリウム、カ
リウム、リチウムが挙げられる。上記化合物の具体例と
しては、ドデシルフェノキシベンゼンジスルホン酸ナト
リウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンジナフタレンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウムなどがある。

【０００９】脂肪族スルホン酸塩は、一般にＲ−ＳＯ₃
Ｍ（式中、Ｒは炭素原子数１〜２４個の飽和炭化水素基
又は不飽和炭化水素基を表し、Ｍはアルカリ金属、アン
モニウム又はアミンを表す。）で示されるものである。
上記炭化水素基は直鎖又は分岐していてもよく、ハロゲ
ン原子又はエステル基で置換されていてもよく、また、
炭化水素基中のメチレン基が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ′）−
（式中、Ｒ′はアルキル基又は水素原子を表す。）で置
き換わっていてもよい。上記アルカリ金属としては中で
もナトリウム、カリウム、リチウムが挙げられる。具体
的な化合物としては、ジオクチルスルホコハク酸ナトリ
ウム、ジメチルアミルスルホコハク酸ナトリウム、ジア
ルキルスルホコハク酸ナトリウム、パーフルオロアルキ
ルスルホン酸アンモニウム又はカリウム、α−オレフィ
ンスルホン酸ナトリウムなどがある。

【００１０】当該水溶液中における上記化合物の濃度
は、０．０１〜４５．０質量％が適当であって、好まし
くは０．１〜３０質量％、より好ましくは１．０〜２０
質量％である。０．０１質量％よりも少ないと非画像部
の残膜を除去する効果がなく、４５．０質量％を超える
と画像部に欠陥を生じるようになる。本発明の方法に使
用する上記水溶液には、更にクエン酸などの酸、及び水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基をｐＨを調
整するために添加してもよい。その濃度は、当該水溶液
全量において一般的に０．０１〜１０質量％である。

【００１１】本発明の製版方法を適用する赤外線吸収剤
を含有する赤外線感応性平版印刷原版は、特に限定され
るものではない。また、露光処理及び現像処理は常法に
従って実施することができ、上記スルホン酸塩含有水溶
液による処理と併せて、一般的な自動現像機にて実施す
ることができる。近年、製版・印刷業界において印刷用
版材用の自動現像機が、製版作業の合理化及び標準化の
ため広く用いられている。この自動現像機は、一般に現
像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と
各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷
版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液
をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものであ
る。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中
ガイドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて
処理する方法も知られている。このような自動処理にお
いては、各処理液に処理量や稼働時間などに応じて補充
液を補充しながら処理することができる。また、実質的
に未使用の各処理液で処理する、いわゆる使い捨て処理
方式とすることも可能である。

【００１２】スルホン酸塩含有水溶液による処理は、現
像処理後、すぐに実施してもよいし、また、水洗工程を
経てから実施してもよい。スルホン酸塩含有水溶液は１
５〜３５℃で使用するのが適当である。スルホン酸塩含
有水溶液の使用方法は、ガム液と同じように、スプレー
で吹き付けてロールで均一にするのが適当である。スル
ホン酸塩含有水溶液による処理を完了した版は、そのま
ま印刷工程に進めることができる。また、該水溶液によ
る処理後にバーニング処理を施してもよい。バーニング
処理は、２００〜３００℃にて加熱する。加熱後、その
まま印刷工程に進めることができる。また、加熱後、水
洗し、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理して、印刷工程に進めることもできる。

【００１３】以下に、本発明の製版方法を適用し得る一
般的な赤外線感応性平版印刷原版、及び本発明の製版方
法に使用する一般的なアルカリ現像処理液について説明
する。赤外線感応性平版印刷用原版は、支持体上に画像
形成層を有し、さらに必要に応じて他の層を有してな
り、画像形成層には（Ａ）赤外線吸収剤を有し、さらに
少なくとも（Ｂ）アルカリ可溶性高分子化合物、（Ｃ）
アルカリ可溶性高分子化合物と相溶させて該アルカリ可
溶性高分子化合物のアルカリ水溶液への溶解性を低下さ
せるとともに、加熱により該溶解性低下作用が減少する
化合物、（Ｄ）環状酸無水物を含有して構成される。ま
た、ネガ型の平版印刷用原版の場合には、露光部が硬化
して画像部となるため、画像形成層にさらに（Ｅ）熱に
より酸を発生する化合物と、（Ｆ）酸により架橋する架
橋剤とを含有して構成される。以下に、各構成成分につ
いて簡単に説明する。

【００１４】−（Ａ）赤外線吸収剤− 赤外線吸収剤（以下、「（Ａ）「成分」ということがあ
る。）は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有す
る。本発明において使用可能な赤外線吸収剤としては、
波長７００nm以上の領域に、好ましくは波長７５０nm〜
１２００nmの波長領域に赤外線を高効率に吸収しうる染
料又は顔料が好ましく、波長７５０nm〜１２００nmの領
域に吸収極大を有する染料又は顔料がより好ましい。

【００１５】前記染料材としては、市販の染料又は文献
（例えば、「染料便覧」、有機合成化学協会編集、昭和
４５年刊）に記載の公知のものが挙げられ、例えば、ア
ゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフ
トキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。

【００１６】中でも、例えば、特開昭５８−１２５２４
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２
８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載のシアニ
ン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１
８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載の
メチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８
−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭
５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開
昭６０−６３７４４号等に記載のナフトキノン染料、特
開昭５８−１１２７９２号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許４３４，８７５号明細書に記載のシアニン
染料、米国特許５，３８０，６３５号明細書に記載のジ
ヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が好適に挙げら
れる。

【００１７】また、米国特許第５，１５６，９３８号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、米国特許第
３，８８１，９２４号明細書に記載の置換されたアリー
ルベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６
４５（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）に記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号に
記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号
明細書に記載のペンタメチンチオピリウム塩等、特公平
５−１３５１４号、同５−１９７０２号に記載のピリリ
ウム化合物、市販品としては、Epolight III-１７８、E
polight III-１３０、Epolight III-１２５、Epolight
IV−６２Ａ（エポリン社製）等も好ましい。

【００１８】さらに、米国特許第4,756,993 号明細書に
記載の式（Ｉ）、（II）で表される近赤外線吸収染料も
好適なものとして挙げることができる。上記のうち、シ
アニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッ
ケルチオレート錯体がより好ましい。

【００１９】前記顔料としては、市販の顔料又はカラー
インデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日
本顔料技術協会編）、１９７７年刊）、「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載の顔料が挙げ
られ、たとえば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマー結合色素が
挙げられる。

【００２０】具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、ア
ゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタ
ロシナニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。中でも、
カーボンブラックが好ましい。

【００２１】前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよ
いし、表面処理を施した後に用いてもよい。表面処理の
方法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シ
ランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネ
ート等）を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。
これらの表面処理の方法は、「金属石鹸の性質と応用」
（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８
４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９
８６年刊）に記載されている。

【００２２】前記顔料の粒径としては、0.０１μm 〜１
０μm が好ましく、0.０５μm 〜１μm がより好まし
く、0.１μm 〜１μm が最も好ましい。前記粒径が、0.
０１μm 未満であると、感光層塗布液等の分散液を調製
したときの分散物の安定性が劣化することがあり、１０
μm を超えると、画像形成層の均一性が悪化することが
ある。

【００２３】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に汎用の分散機等、公知の分散技術から
適宜選択することができる。前記分散機としては、超音
波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、ス
ーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、
ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミ
ル、加圧ニーダー等が挙げられる。その詳細について
は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）に記載がある。

【００２４】前記染料又は顔料の含有量としては、画像
形成層の全固形分質量に対して0.０１〜５０質量％が好
ましく、0.１〜１０質量％がより好ましく、さらに染料
の場合には、0.５〜１０質量％が最も好ましく、顔料の
場合には、3.１〜１０質量％が最も好ましい。前記含有
量が0.０１質量％未満であると、感度が低くなることが
あり、５０質量％を超えると、画像形成層の均一性が低
下し、その耐久性が劣化することがある。前記染料又は
顔料は、他の成分と同一層に添加してもよいし、別の層
を設けてそこに添加してもよい。別の層とする場合は、
後述の（Ｃ）成分を含有する層に隣接する層に添加する
ことが好ましい。また、染料又は顔料と、アルカリ可溶
性高分子化合物とは同一の層に含有することが好ましい
が、別の層にそれぞれ含有させても構わない。

【００２５】−(Ｂ)アルカリ可溶性高分子化合物− 使用可能なアルカリ可溶性高分子化合物（以下、
「(Ｂ）成分」ということがある。）としては、下記
（１）〜（３）の酸性基を主鎖及び／又は側鎖の構造中
に有するアルカリ水可溶性の高分子化合物を用いること
ができる。 （１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ） （２）スルホンアミド基（−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ） （３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド
基」という。）〔−ＳＯ₂ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ＮＨＳＯ
₂Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ₂Ｒ〕 前記（１）〜（３）中、Ａｒは置換基を有していてもよ
い２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置換基を有して
いてもよい炭化水素基を表す。以下に、その具体例を示
すが、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。

【００２６】（１）フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、フェノールとホルム
アルデヒドとの縮重合体、ｍ−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール（ｍ
−、ｐ−又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい。）とホ
ルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂又はピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有するモノマーを重
合させた高分子化合物を挙げることもできる。

【００２７】側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽
和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる
重合性モノマーを単独重合、或いは、該重合性モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。フェノール基を側鎖に有するモノマ
ーとしては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。

【００２８】具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレ
ート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリ
レート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタク
リレート等を好適に挙げることができる。

【００２９】前記フェノール基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物の質量平均分子量としては、5.０×１０²
〜2.０×１０⁵のものが、数平均分子量としては、2.０
×１０ ²〜1.０×１０⁵のものが、画像形成性の点で好ま
しい。また、フェノール基を有するアルカリ可溶性高分
子化合物は、単独での使用のみならず、２種類以上を組
合わせて使用してもよい。組合わせる場合には、米国特
許第４１２３２７９号明細書に記載されているような、
ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体
や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として
有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体を併
用してもよい。これらの縮重合体も、質量平均分子量が
5.０×１０²〜2.０×１０⁵のもの、数平均分子量が2.０
×１０²〜1.０×１０⁵のものが好ましい。

【００３０】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する化合物を主たるモノマー構成単位とする重合
体、即ち、単独重合体又は前記モノマー構成単位に他の
重合性モノマーを共重合させた共重合体を挙げることが
できる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとし
ては、１分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基−ＳＯ₂ −ＮＨ−と、
重合可能な不飽和結合とを、それぞれ１以上有する低分
子化合物からなるモノマーが挙げられる。中でも、アク
リロイル基、アリル基又はビニロキシ基と、置換或いは
モノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ
基と、を有する低分子化合物が好ましい。前記低分子化
合物としては、例えば、下記一般式（ａ）〜（ｅ）で表
される化合物が挙げられるが、本発明においては、これ
らに限定されるものではない。

【００３１】

【００３２】式中、Ｘ¹、Ｘ²は、それぞれ独立に酸素原
子又はＮＲ⁷ を表す。Ｒ¹ 、Ｒ⁴ は、それぞれ独立に水
素原子又はＣＨ₃を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁹、Ｒ¹²、Ｒ
¹⁶は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数
１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基又はアラルキレン基を表す。Ｒ³、Ｒ⁷、Ｒ¹³は、
それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭
素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基又はアラルキル基を表す。また、Ｒ⁶、Ｒ¹⁷は、そ
れぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基を表す。Ｒ⁸、Ｒ¹⁰、Ｒ¹⁴は、それぞれ独立に水
素原子又はＣＨ₃を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹⁵は、それぞれ独立
に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ独立に単
結合又はＣＯを表す。

【００３３】中でもｍ−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。

【００３４】（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有す
る化合物を主たるモノマー構成単位とする重合体を挙げ
ることができる。活性イミド基を有する化合物を主たる
モノマー構成単位とする重合体としては、１分子中に、
下記式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ１以上有する低分子化合物からなるモノ
マーを単独重合、或いは、該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。

【００３５】

【００３６】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に挙げることができる。さらに、上記のほか、前記フェ
ノール基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を
有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合
性モノマーのうちのいずれか２種類以上を重合させた高
分子化合物、或いは、これら２種以上の重合性モノマー
にさらに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高
分子化合物も好適に挙げられる。

【００３７】フェノール基を有する重合性モノマー（Ｍ
１）に、スルホンアミド基を有する重合性モノマー（Ｍ
２）及び／又は活性イミド基を有する重合性モノマー
（Ｍ３）を共重合させる場合の配合比（Ｍ１：Ｍ２及び
／又はＭ３；質量比）としては、５０：５０〜５：９５
が好ましく、４０：６０〜１０：９０がより好ましい。

【００３８】アルカリ可溶性高分子化合物が、前記酸性
基（１）〜（３）より選ばれるいずれかを有するモノマ
ー構成単位と、他の重合性モノマーの構成単位とから構
成される共重合体である場合、該共重合体中に、前記酸
性基（１）〜（３）より選ばれるいずれかを有するモノ
マー構成単位を１０モル％以上含むことが好ましく、２
０モル％以上含むことがより好ましい。前記モノマー構
成単位の含有量が、１０モル％未満であると、十分なア
ルカリ可溶性が得られずに、現像ラチチュードが狭くな
ることがある。前記共重合体の合成方法としては、従来
より公知のグラフト共重合法、ブロック共重合法、ラン
ダム共重合法等を用いることができる。

【００３９】前記酸性基（１）〜（３）より選ばれるい
ずれかを有するモノマーを構成単位とする重合性モノマ
ーと共重合させる。他の重合性モノマーとしては、例え
ば、下記（ａ）〜（１）に挙げるモノマーを挙げること
ができるが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。

【００４０】（ａ）２−ヒドロキエチルアクリレート又
は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類。 （ｂ）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （ｃ）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。

【００４１】（ｄ）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルアクリるアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミド、又はメタクリルアミ
ド。 （ｅ）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （ｆ）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 （ｇ）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等とスチレン類。

【００４２】、（ｈ）メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。 （ｉ）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （ｊ）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （ｋ）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、
Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタ
クリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。 （ｌ）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。

【００４３】前記アルカリ水可溶性高分子化合物として
は、単独重合体、共重合体に関わらず、膜強度の点で、
質量平均分子量が２０００以上、数平均分子量が５００
以上のものが好ましく、質量平均分子量が５０００〜３
０００００、数平均分子量が８００〜２５００００であ
り、分散度（質量平均分子量／数平均分子量）が1.１〜
１０のものがより好ましい。また、前記アルカリ可溶性
高分子化合物が、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−アルデヒド樹脂等である場合には、質量平
均分子量が５００〜２００００であって、数平均分子量
が２００〜１００００のものが好ましい。

【００４４】前記アルカリ水可溶性高分子化合物の含有
量としては、画像形成層の全固形分質量に対して３０〜
９９質量％が好ましく、４０〜９５質量％がより好まし
く、５０〜９０質量％が最も好ましい。前記含有量が、
３０質量％未満であると、画像形成層の耐久性が低下す
ることがあり、９９質量％を越えると、感度、耐久性が
低下することがある。また、前記高分子化合物は、１種
類のみを用いても、２種類以上を組合わせて用いてもよ
い。

【００４５】−（Ｃ）前記アルカリ可溶性高分子化合物
と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ
水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該
溶解性低下作用が減少する化合物− この（Ｃ）成分は、分子内に存在する水素結合性の官能
基の働きにより、前記（Ｂ）アルカリ可溶性高分子化合
物との相溶性が良好であり、均一な画像形成層用塗布液
を形成しうるとともに、アルカリ可溶性高分子化合物と
の相互作用により、該アルカリ可溶性高分子化合物のア
ルカリ可溶性を抑制する機能（溶解性抑制作用）を有す
る化合物を指す。

【００４６】また、加熱によりアルカリ可溶性高分子化
合物に対する前記溶解性抑制作用は消滅するが、この赤
外線吸収剤自体が加熱により分解する化合物である場合
には、分解に十分なエネルギーが、レーザー出力や照射
時間等の諸条件により付与されないと、アルカリ可溶性
高分子化合物の溶解性抑制作用を十分に低下させること
ができず、感度が低下するおそれがある。このため、
（Ｃ）成分の熱分解温度としては、１５０°Ｃ以上が好
ましい。

【００４７】（Ｃ）成分としては、前記（Ｂ）アルカリ
可溶性高分子化合物との相互作用を考慮して、例えば、
スルホン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ア
ミド化合物等の前記アルカリ可溶性高分子化合物と相互
作用しうる化合物の中から適宜選択することができる。
特に、例えば、前記（Ｂ）成分として、ノボラック樹脂
を単独で用いる場合には、後述する「（Ａ＋Ｃ）成分」
が好ましく、以下に例示するシアニン染料Ａ等がより好
ましい。（Ａ＋Ｃ）成分については後述する。

【００４８】（Ｃ）成分と前記（Ｂ）アルカリ可溶性高
分子化合物との配合比（Ｃ／Ｂ）としては、一般に１／
９９〜２５／７５が好ましい。前記混合比が、１／９９
未満、即ち、（Ｃ）成分が少なすぎると、アルカリ可溶
性高分子化合物との相互作用が不十分となり、アルカリ
可溶性を低下させることができず、良好に画像形成する
ことができないことがあり、２５／７５を超える、即
ち、（Ｃ）成分が多すぎると、相互作用が過大となり、
感度が著しく低下することがある。

【００４９】−（Ａ＋Ｃ）成分− 前記（Ａ）成分及び（Ｃ）成分に代えて、これら双方の
特性を有する化合物（（Ａ＋Ｃ）成分）を用いることが
できる。前記（Ａ＋Ｃ）成分は、光を吸収して熱を発生
する性質（即ち、（Ａ）成分の特性）を有し、しかも７
００〜１２００nmの波長領域に吸収域を持つと共に、さ
らにアルカリ可溶性高分子化合物と良好に相溶しうる塩
基性染料である。（Ａ＋Ｃ）成分は、その分子内にアン
モニウム基、イミニウム基等のアルカリ可溶性高分子化
合物と相互作用する基を有する（即ち、（Ｃ）成分の特
性）ため、前記高分子化合物と相互作用して、そのアル
カリ可溶性を抑制することができる。前記（Ａ＋Ｃ）成
分としては、例えば、下記一般式（Ｚ）で表される化合
物を挙げることができる。

【００５０】

【００５１】前記一般式（Ｚ）中、Ｒ²¹〜Ｒ²⁴は、それ
ぞれ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭
素数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、Ｒ²¹と
Ｒ²²、Ｒ²³とＲ²⁴はそれぞれ結合して環構造を形成して
いてもよい。Ｒ²¹〜Ｒ²⁴としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよ
い。ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。

【００５２】式中、Ｒ²⁵〜Ｒ³⁰は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基を表
し、前記Ｒ²⁵〜Ｒ³⁰としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。

【００５３】式中、Ｒ³¹〜Ｒ³³は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
１〜８のアルキル基を表し、前記Ｒ³²は、前記Ｒ³¹又は
Ｒ³³と結合して環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の
場合は、複数のＲ³²同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。前記Ｒ³¹〜Ｒ³³としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、Ｒ³²同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。また、ｍは１〜８の整数を表し、中でも１〜３が好
ましい。

【００５４】式中、Ｒ³⁴〜Ｒ³⁵は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
１〜８のアルキル基を表し、前記Ｒ³⁴は、Ｒ³⁵と結合し
て環構造を形成していてもよく、ｍ＞２の場合は、複数
のＲ³⁴同士が結合して環構造を形成していてもよい。前
記Ｒ³⁴〜Ｒ³⁵としては、例えば、塩素原子、シクロヘキ
シル基、Ｒ³⁴同士が結合してなるシクロペンチル環、シ
クロヘキシル環等が挙げられ、これらの基は、さらに置
換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、例
えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリ
ル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エス
テル、スルホン酸エステル等が挙げられる。また、ｍ
は、１〜８の整数を表し、中でも、１〜３が好ましい。

【００５５】式中、Ｘ^-は、アニオンを表し、例えば、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−Ｏ−トル
エンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−
クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スル
ホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等
が挙げられる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、２，５−ジメチルベンゼン
スルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。

【００５６】前記一般式（Ｚ）で表される化合物は、一
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、本発明に
おいては、これらに限られるものではない。

【００５７】上述の（Ａ）成分及び（Ｃ）成分に代え
て、これら双方の特性を有する前記（Ａ＋Ｃ）成分を用
いる場合、該（Ａ＋Ｃ）成分と前記（Ｂ）成分との使用
量比〔（Ａ＋Ｃ）／（Ｂ）〕としては、１／９９〜３０
／７０が好ましく、１／９９〜２５／７５がより好まし
い。

【００５８】−（Ｄ）環状酸無水物− 平版印刷用原版には、さらに環状酸無水物を使用する。
該環状酸無水物は、その構造内にカルボン酸無水物のカ
ルボニル基と共役する結合を有し、そのカルボニル基の
安定性を増すことで分解速度を制御し、保存経時におい
て適当な速度で分解して酸を発生する。そのため、保存
経時での現像性劣化を抑え、現像性を長期間安定に維持
しうる。前記環状酸無水物としては、下記一般式（Ｉ）
又は（II）で表される化合物が挙げられる。

【００５９】

【００６０】一般式（Ｉ）中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²はそれぞれ独
立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子
数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基、カルボニル基、カ
ルボキシ基もしくはカルボン酸エステルを表す。なお、
Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²は互いに連結して環構造を形成してもよい。
前記Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²としては、例えば水素原子、又は炭素原
子数１〜１２の無置換のアルキル基、アリール基、アル
ケニル基、シクロアルキル基などが好適に挙げられ、具
体的には水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、
ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられ、これらの基は、さらに置換
基を有していてもよい。Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²が互いに連結して環
構造を形成する場合、その環状基としては、例えばフェ
ニレン基、ナフチレン基、シクロヘキセン基、シクロペ
ンテン基などが挙げられる。前記置換基としては、例え
ばハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボニル基、スルホ
ン酸エステル、ニトロ基、ニトリル基などが挙げられ
る。

【００６１】一般式（II）中、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶
は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、塩素など
のハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、又は置換基を
有していてもよい炭素年始数１〜１２のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリー
ル基、カルボニル基、カルボキシ基もしくはカルボン酸
エステル基などを表す。前記Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶と
しては、例えば水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１
〜１２の無置換のアルキル基、アルケニル基、炭素原子
数６〜１２のアリール基などが好適に挙げられ、具体的
にはメチル基、ビニル基、フェニル基、アリル基などが
挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても
よい。前記置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、カルボニル基、スルホン酸エステル、ニトロ
基、ニトリル基、カルボキシ基などが挙げられる。

【００６２】環状酸無水物として、例えば無水フタル
酸、３，４，５，６−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、３−ヒドロキシ無水フタル酸、
３−メチル無水フタル酸、３−フェニル無水フタル酸、
無水トリメット酸、無水ピロメット酸、無水マレイン
酸、フェニル無水マレイン酸、ジメチル無水マレイン
酸、ジクロロ無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸な
どが好適に挙げられる。環状酸無水物の含有量として
は、画像形成層の全固形分含量に対して0.５〜２０質量
％が好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、１〜１
０質量％が最も好ましい。前記含有量が0.５質量％未満
であると現像性の維持効果が不十分となることがあり、
２０質量％を超えると画像を形成できないことがある。

【００６３】以下は、ネガ型平版印刷版の記録層を構成
する成分である。 −（Ｅ）熱により酸を発生する化合物− 画像形成材料がネガ型の場合、加熱時に酸を発生する化
合物（以下、「酸発生剤」という。）を併用する。この
酸発生剤は、１００°Ｃ以上に加熱することにより分解
して酸を発生する化合物を増す。発生する酸としては、
スルホン酸、塩酸等の pＫa が２以下の強酸であること
が好ましい。前記酸発生剤としては、特願平１１−６６
７３３号に記載のものが挙げられる。前記酸発生剤の添
加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し0.０１
〜５０質量％が好ましく、0.１〜４０質量％がより好ま
しく、0.５〜３０質量％が最も好ましい。

【００６４】−（Ｆ）酸により架橋する架橋剤− 平版印刷用原版がネガ型である場合、酸により架橋する
架橋剤（以下、単に「架橋剤」という場合がある。）を
併用する。前記架橋剤としては、以下のものを挙げるこ
とができる。 （ｉ）アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置
換された芳香族化合物 （ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル
基又はＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 さらに、特願平１０−５３７８８号に記載のものやフェ
ノール誘導体等も挙げることができる。

【００６５】前記架橋剤の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し５〜８０質量％が好ましく、１０
〜７５質量％がより好ましく、２０〜７０質量％が最も
好ましい。前記フェノール誘導体を架橋剤として使用す
る場合、該フェノール誘導体の添加量としては、画像形
成材料の全固形分質量に対し５〜７０質量％が好まし
く、１０〜５０質量％がより好ましい。上記の各種化合
物の詳細については、特願平１１−６６７３３号に記載
されている。

【００６６】−その他の成分− アルカリ現像処理液を適用するのに好適な平版印刷用原
版の画像形成層には、必要に応じて、さらに種々の添加
剤を添加することができる。例えば、感度を向上させる
目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類、ス
ルホニル化合物類等の公知の添加剤を併用することもで
きる。前記環状酸無水物としては、米国特許第４，１１
５，１２８号明細書に記載のテトラヒドロ無水フタル
酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ
−Δ⁴−テトラヒドロ無水フタル酸、α−フェニル無水
マレイン酸、無水コハク酸、無水プロメリット酸などが
挙げられる。フェノール類としては、ビスフェノール
Ａ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、
２，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキ
シベンゾフェノン、４，４′，４″−トリヒドロキシト
リフェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒド
ロキシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェニ
ルメタンなどが挙げられる。

【００６７】前記有機酸類としては、、特開昭６０−８
８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスル
フィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安
息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、
３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。スルホニル化合物類としては、例え
ばビスヒドロキシフェニルスルホン、メチルフェニルス
ルホン、ジフェニルジスルホンなどが挙げられる。前記
他の環状酸無水物、フェノール類、有機酸類又はスルホ
ニル化合物類の添加量としては、画像形成層の全固形分
質量に対し、0.０５〜２０質量％が好ましく、0.１〜１
５質量％がより好ましく、0.１〜１０質量％が最も好ま
しい。

【００６８】また、現像条件に対する処理性の安定性を
拡げる目的で、特開昭６２−２５１７４０号公報、特開
平３−２０８５１４号公報等に記載の非イオン界面活性
剤、特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４
９号公報等に記載の両性界面活性剤を添加することがで
きる。非イオン界面活性剤としては、例えばソルビタン
トリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソル
ビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れる。両性界面活性剤としては、例えばアルキルジ（ア
ミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリ
シン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ
−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テ
トラデシル−Ｎ，Ｎ−−ベタイン型（例えば商品名：ア
モーゲンＫ、第１工業（株）製）などが挙げられる。前
記非イオン界面活性剤又は両性界面活性剤の使用量とし
ては、画像形成層の全固形分質量に対し、0.０５〜１５
質量％が好ましく、0.１〜１０質量％がより好ましい。

【００６９】前記画像形成層には、露光による加熱後、
直ちに可視像を得るための焼き出し剤や画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。前記焼き出し剤
としては、例えば、露光による加熱によって酸を発生す
る化合物と塩を形成しうる有機染料との組合せが挙げら
れる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、特開昭
５３−８１２８号の各公報に記載の、ｏ−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料との組合せ、特開昭５３−３６２２３号、特開昭５４
−７４７２８号、特開昭６０−３６２６号、特開昭６１
−１４３７４８号、特開昭６１−１５１６４４号及び特
開昭６３−５８４４０号の各公報に記載の、トリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せ、が挙げられ
る。前記トリハロメチル化合物として、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物があり、いずれも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。前記画像着色
剤としては、例えば、前記塩形成性有機染料以外に、他
の染料を用いることができ、例えば、油溶性染料、塩基
性染料が好適に挙げられる。

【００７０】具体的には、オイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業
（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイ
オレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、メチルバイオレット
（Ｃ．Ｉ．４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（Ｃ．Ｉ．１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（Ｃ．Ｉ．４２０００）、メチレンブルー（Ｃ．Ｉ．
５２０１５）等を挙げることができる。また、特開昭６
２−２９３２４７号公報に記載の染料は、特に好まし
い。前記各種染料の添加量としては、画像形成層の全固
形分質量に対し、0.０１〜１０質量％が好ましく、0.１
〜３質量％がより好ましい。

【００７１】また、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することができる。可
塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマーな
どが挙げられる。

【００７２】さらに必要に応じて、以下の種々添加剤を
添加することができる。例えば、オニウム塩、ｏ−キノ
ンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スル
ホン酸エステル化合物等の、熱分解性で、未分解状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる化合物を併用することができる。該化合物の添
加は、画像部の現像液への溶解阻止能の向上を図る点で
好ましい。前記オニウム塩としては、例えばジアゾニウ
ム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
などが挙げられる。中でも、例えばS.I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974), T.S.Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), 特開昭５−１５８２３０号
公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，
０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１４０
１４０号に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988)、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，
０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、J. V. Criv
elloet et al. Macromolecules, 10(6), 1307 (1977)、
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p.31 (1988)、欧州特許
第１０４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同
第４１０，２０１号、特開平２−１５０８４８号、特開
平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、

【００７３】J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985)、J. V. Crivello et al, J.Org. Chem., 43,
3055 (1978)、W. R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984)、J. V. Crivello et
al, Polymer bull., 14, 279 (1985)、J. V. Crivello
et al, Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J.V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), 欧州特許第３７０，６９３号、同２
３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４
２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０
２，１１４号、同４１０，２０１号、同３９９，０４９
号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４
号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，
６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５
８１号に記載のスルホニウム塩、

【００７４】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977), J.V. Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen et al, The Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988)に記載の
アルソニウム塩などが挙げられる。上記のうち、ジアゾ
ニウム塩が好ましく、中でも、特開平５−１５８２３０
号公報に記載のものがより好ましい。

【００７５】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５
−スルホサチリル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２
−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスル
ホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸などを挙げることが
できる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸などのアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。

【００７６】前記ｏ−キノンジアジド化合物としては、
少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物
で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものが挙げら
れ、種々の構造の化合物を用いることができる。前記ｏ
−キノンジアジドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能
を喪失し、且つｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶
性の物質に変化する、両効果により平版印刷用原版の溶
解性を助ける。

【００７７】上記のようなｏ−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティ
ブ・システムズ」（John Wiley & Sons. Inc.）第３３
９〜３５２頁に記載の化合物が使用可能であるが、中で
も、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物又は芳香族アミ
ノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸
エステル又はスルホン酸アミドが好ましい。また、特開
昭４３−２８４０３号公報に記載の、ベンゾキノン
（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又は、米国
特許第３，０４６，１２０号、同第３，１８８，２１０
号に記載のベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホ
ン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジ
ド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルも好ましい。

【００７８】さらに、ナフトキノン−（１，２）−ジア
ジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも好ましい。その他、例えば特開昭４
７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４
８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭
４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公
昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公
昭４９−１７４８１号、米国特許第２，７９７，２１３
号、同ぢ３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２
３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４
９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２
２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，
２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第
１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４、８９０号
などに記載のものも有用である。これらの化合物は単独
でも、数種を組み合わせて混合物として使用してもよ
い。前記オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香
族スルホン酸エステル等の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し、0.１〜５０質量％が好ましく、
0.５〜３０質量％がより好ましく、0.５〜２０質量％が
最も好ましい。

【００７９】−支持体− 画像形成層を設けるための支持体としては、例えば純ア
ルミニウム板、アルミニウム合金板、アルミニウムがラ
ミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムなど
が挙げられる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、
ケイ酸ソーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン酸
塩などの水溶液への浸透処理、あるいは、陽極酸化処理
などの表面処理が施されていることが好ましい。また、
米国特許第２，７１４，０６６号明細書に記載の砂目立
てした後にケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理したア
ルミニウム板、特公昭４７−５１２５号公報に記載のア
ルミニウム板を陽極酸化処理した後、アルカリ金属ケイ
酸塩の水溶液中で浸漬処理したアルミニウム板も好まし
い。

【００８０】前記陽極酸化処理としては、例えばリン
酸、クロム酸、硝酸、ホウ酸などの無機酸若しくは蓚
酸、スルファミン酸などの有機酸又はこれらの塩の水溶
液若しくは非水溶液の単独若しくは二種以上を組み合わ
せた電解液中で、アルミニウム板を陽極として電極を流
すことにより施される。また、米国特許第３，６５８，
６６２号明細書に記載のシリケート電着も有効である。

【００８１】また、米国特許第４，０８７，３４１号明
細書、特公昭４６−２７４８１号公報、特開昭５２−３
０５０３号公報に記載の、電解グレインを施した支持体
に前記陽極酸化処理を施したものも有用である。米国特
許第３，８３４，９９８号明細書に記載の砂目立てした
後、化学的にエッチングし、さらに陽極酸化処理したア
ルミニウム板も有用である。これらの処理は支持体の表
面を親水性とする目的で施されるほか、支持体上に設け
られる画像形成層との有害な反応を防止する目的、画像
形成像との密着性を向上させる目的などの種々の目的で
施される。

【００８２】平版印刷用原版は、感光層として画像形成
層を所望の支持体上に塗布することにより作製すること
ができるが、前記画像形成層の形成前に必要に応じて、
支持体上に下塗り層を設けることもできる。下塗り層に
用いる成分としては、種々の有機化合物が挙げられ、例
えばカルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類；置換基を有していてもよいフェ
ニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホ
ン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及び
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸；置換基を
有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、ア
ルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸；置
換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、ナフチ
ルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホ
スフィン酸などの有機ホスフィン酸；グリシンやβ−ア
ラニンなどのアミノ酸類；トリエタノールアミンの塩酸
塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などが
挙げられる。前記有機化合物は、１種単独で用いてもよ
く、２種以上を混合して用いてもよい。また、前述した
ジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様であ
る。

【００８３】また、下塗り層としては、下記一般式（II
I）で表される構成単位を有する有機高分子化合物の少
なくとも１種を含む有機下塗り層も好ましい。

【００８４】

【００８５】式中、Ｒ⁵¹は水素原子、ハロゲン原子又は
アルキル基を表し、Ｒ⁵²及びＲ⁵³は、それぞれ独立に水
素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、−ＯＲ⁵⁴、−Ｃ
ＯＯＲ⁵⁵、−ＣＯＮＨＲ⁵⁶、−ＣＯＲ⁵⁷又は−ＣＮを表
し、前記Ｒ⁵²及びＲ⁵³は互いに結合して環構造を形成し
てもよい。ここで、Ｒ⁵⁴〜Ｒ⁵⁷はそれぞれ独立にアルキ
ル基又はアリール基を表す。Ｘは水素原子、金属原子、
−ＮＲ⁵⁸Ｒ⁵⁹Ｒ⁶⁰Ｒ⁶¹を表す。ここで善意Ｒ⁵⁸〜Ｒ⁶¹は
それぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基又は置換アリール基を表し、Ｒ⁵⁸及びＲ
⁵⁹は互いに結合して環構造を形成してもよい。ｍは１〜
３の整数を表す。前記下塗り層の乾燥塗布量としては２
〜２００ｍｇ／ｍ²が好ましく５〜１００ｍｇ／ｍ²がよ
り好ましい。この乾燥塗布量が２ｍｇ／ｍ²未満である
と十分な膜性が得られないことがある。一方２００ｍｇ
／ｍ²を超えて塗布しても、それ以上の効果を得ること
はできない。

【００８６】前記下塗り層は下記方法により設けること
ができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶
剤に前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアル
ミニウム板などの支持体上に塗布、乾燥して設ける方
法、水又はメタノール、エタノール、エチルエチルケト
ンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機
化合物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板
などの支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、そ
の後水等で洗浄、乾燥して設ける方法である。

【００８７】前者では、前記有機化合物の0.００５〜１
０質量％濃度の下塗り層用溶液を用いることが好まし
い。一方、後者では、下塗り層用溶液の前記有機化合物
の濃度としては、0.０１〜２０質量％が好まし、0.０５
〜５質量％より好ましい。また、浸漬温度としては２０
〜９０℃が好ましく、２５〜５０℃がより好ましい。浸
漬時間としては0.１〜２０分が好ましく、２秒〜１分が
より好ましい。前記下塗り層用溶液はアンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や塩
酸、リン酸などの酸性物質を用いてｐＨ１〜１２の範囲
に調整することもできる。また、調子再現性改良を目的
として黄色染料を追加することもできる。

【００８８】平版印刷用原版は一般に、上述の各種成分
（成分（Ａ）〜（Ｆ）及びその他の成分）を溶媒に溶解
して画像形成層用塗布液とし、これを所望の支持体上に
塗布して作製する。前記溶媒としては、例えばエチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プ
ロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メト
キシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳
酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルグレ
ア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン、α−ブチロラクトン、トルエンなどが挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。前記溶媒は
単独でも２種以上を混合してもよい。

【００８９】前記溶媒中における各種成分（成分（Ａ）
〜（Ｆ）及びその他の成分）の全固形分濃度としては１
〜５０質量％が好ましい。た、支持体上に塗布、乾燥し
て設けられる画像形成層の乾燥塗布量（固形分）として
は、一般的に0.５〜5.０ｇ／ｍ²が好ましい。支持体上
に塗布する方法としては、公知の種々の方法の中から適
宜選択できるが、例えばバーコーター塗布、回転塗布、
スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナ
イフ塗布、グレード塗布、ロール塗布などを挙げること
ができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度
は大になるが、画像形成層の皮膜特性は低下する。画像
形成層用塗布液中には、塗布性を良化する目的で界面活
性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載の
フッ素系界面活性剤などを添加することができる。その
添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対して0.
０１〜１質量％が好ましく、0.０５〜0.５質量％がより
好ましい。

【００９０】赤外線感応性平版印刷用原版は赤外線レー
ザーで記録することができる他、紫外線ランプによる記
録やサーマルヘッド等による熱的な記録も可能である。
前記赤外線レーザーとしては波長７００〜１２００ｎｍ
の赤外線を放射するレーザーが好ましく、同波長範囲の
赤外線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーがよ
り好ましい。

【００９１】本発明の製版方法に使用し得るアルカリ現
像処理液（以下、単に「現像液」ともいう。）はアルカ
リ性の水溶液であって、従来公知のアルカリ水溶液の中
から適宜選択することができる。アルカリ水溶液として
は、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基とからな
る現像液が挙げられ、特にｐＨ１2.５〜１3.５のものが
好ましい。前記ケイ酸アルカリとしては、水に溶解した
ときにアルカリ性を示すものであり、例えばケイ酸ナト
リウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどのアルカ
リ金属ケイ酸塩、ケイ酸アンモニウムなどが挙げられ
る。ケイ酸アルカリは１種単独でも、２種以上を組み合
わせて用いてもよい。

【００９２】上記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素ＳｉＯ₂とアルカリ酸化物Ｍ₂Ｏ（Ｍはア
ルカリ金属又はアンモニウム基を表す。）との混合比
率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節するこ
とができる。前記アルカリ水溶液の中でも、前記酸化ケ
イ素ＳｉＯ₂とアルカリ酸化物Ｍ₂Ｏとの混合比率（Ｓｉ
Ｏ₂／Ｍ₂Ｏ：モル比）が0.５〜3.０のものが好ましく、
1.０〜2.０のものがより好ましい。前記ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ
が0.５未満であると、アルカリ強度が強くなっていくた
め、平版印刷用原版の支持体として汎用のアルミニウム
板などをエッチングしてしまうといった弊害を生ずるこ
とがあり、3.０を超えると、現像性が低下することがあ
る。

【００９３】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の質量に対して１〜１０質量％
が好ましく、３〜８質量％がより好ましく、４〜７質量
％が最も好ましい。この濃度が１質量％未満であると現
像性、処理能力が低下することがあり、１０質量％を超
えると沈澱や結晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の
中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支障をきた
すことがある。

【００９４】非還元糖と塩基とからなる現像液におい
て、非還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持
たないために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同
士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非
糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖
アルコールに分類される。本発明ではこれらのいずれも
好適に用いることができる。トレハロース型少糖類とし
ては、例えばサッカロースやトレハロースが挙げられ、
前記配糖体としては、例えばアルキル配糖体、フェノー
ル配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。糖アルコ
ールとしては、例えばＤ，Ｌ−アラビット、リビット、
キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−アンニッ
ト、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシッ
ト、アロズルシットなどが挙げられる。さらには、二糖
類の水素添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素
添加で得られる還元体（還元水あめ）なども好適に挙げ
ることができる。

【００９５】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、Ｄ−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが適度なｐＨ領域に
緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖は
単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.１〜３０質量％が好ましく、１
〜２０質量％がより好ましい。

【００９６】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を従来公知の物の中から適宜
選択して組み合わせることができる。該アルカリ剤とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無
機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウ
ム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。

【００９７】さらにモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も好適に
挙げることができる。これらのアルカリ剤は単独で用い
ても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由
は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広
いｐＨ領域においてｐＨ調整が可能となるためである。
また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があ
るので好ましい。

【００９８】アルカリ現像処理液は、上記のとおり、ケ
イ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基を含む現像液を
用いるが、そのカチオン成分として従来よりＬｉ⁺、Ｎ
ａ⁺、Ｋ⁺、ＮＨ₄ ⁺が用いられ、中でも、イオン半径の小
さいカチオンを多く含有する系では、画像形成層への浸
透性が高く現像性に優れる一方、画像部まで溶解して画
像欠陥を生ずる。従って、アルカリ濃度を上げるには、
ある程度の限度があり、画像部に欠陥を生ずることな
く、且つ非画像部に画像形成層（残膜）が残存しないよ
うに完全に処理するためには、微妙な液性条件の設定が
要求された。しかし、前記カチオン成分として、そのイ
オン半径の大きいカチオンを用いることにより、画像形
成層中への現像液の浸透性を抑制することができ、アル
カリ濃度、即ち、現像性を低下させることなく、画像部
の溶解抑止効果をも向上させることができる。前記カチ
オン成分としては、上記アルカリ金属カチオン及びアン
モニウムイオンのほか、他のカチオンも用いることがで
きる。

【００９９】上述のようなアルカリ水溶液（現像液）中
には、界面活性剤を添加することが必要である。界面活
性剤としては非イオン性界面活性剤、アニオン系界面活
性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤が挙げら
れる。非イオン界面活性としては、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリス
リトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコール
モノ脂肪酸エステル類、

【０１００】しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチ
レングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪
酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、
ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、
脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒド
ロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル
アミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシドなどが好適に挙げられる。

【０１０１】アニオン界面活性剤としては、例えば脂肪
酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホ
ン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ
琥珀酸エステル塩類、αオレフィンスルホン酸塩類、直
鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸
塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピル
スルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフ
ェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリ
ンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド
二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、
脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸エステル塩類、

【０１０２】脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エス
テル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテ
ル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン
酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合
物類などが好適に挙げられる。

【０１０３】カチオン性界面活性剤としては、例えばア
ルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド
等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などが
挙げられる。両性界面活性剤としては、例えばカルボキ
シベタイン類、アルキルアミノカルボン酸類、スルホベ
タイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類など
が挙げられる。以上の界面活性剤のうち、「ポリオキシ
エチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオ
キシプロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオキシア
ルキレンに読み替えることもでき、それらもまた前記界
面活性剤に包含される。現像液中における界面活性剤濃
度としては、0.００１〜１０質量％が好ましく、0.００
５〜１質量％がより好ましく、0.０１〜0.５質量％が最
も好ましい。

【０１０４】アルカリ現像処理液には、さらに現像性能
を高める目的で、以下のような添加剤を加えることがで
きる。例えば特開昭５８−７５１５２号公報に記載のＮ
ａＣｌ、ＫＣｌ、ＫＢｒなどの中性塩、特開昭５８−１
９０９５２号公報に記載のＥＤＴＡ、ＮＴＡなどのキレ
ート剤、特開昭５９−１２１３３６号公報に記載の［Ｃ
ｏ（ＮＨ₃）₆］Ｃｌ₃、ＣｏＣｌ₂・６Ｈ₂Ｏなどの錯
体、特開昭５０−５１３２４号公報に記載のアルキルナ
フタレンスルホン酸ソーダ、ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ
＾ジヒドロキシエチルベタインなどのアニオン又は両性
界面活性剤、米国特許第４，３７４，９２０号明細書に
記載のテトラメチルデシンジオールなどの非イオン性界
面活性剤、特開昭５５−９５９４６号公報に記載のｐ−
ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチルクロライド
４級化合物などのカチオニックポリマー、特開昭５６−
１４２５２８号公報に記載のビニルベンジルトリメチル
アンモニウムクロライドとアクリル酸ソーダとの共重合
体などの両性高分子電解質、特開昭５７−１９２９５１
号公報に記載の亜硫酸ソーダなどの還元性無機塩、特開
昭５８−５９４４４号公報に記載の塩化リチウムなどの
無機リチウム化合物、特開昭５９−７５２５５号公報に
記載の有機Ｓｉ、Ｔｉなどを含む有機金属界面活性剤、
特開昭５９−８４２４１号公報に記載の有機ホウ素化合
物、ＥＰ１０１０１０号明細書に記載のテトラアルキル
アンモニウムオキサイドなどの４級アンモニウム塩等が
挙げられる。

【０１０５】

【発明の効果】赤外線吸収剤を含有する赤外線感応性平
版印刷原版を、本発明の製版方法により処理すること
で、形成した画像部に欠陥を与えることなく、非画像部
に残膜をできる限り残さずに、又は、若干残膜が残った
としても最終的に印刷物上に汚れとならず、高鮮鋭で鮮
明な画像を得ることのできる平版印刷版が達成される。

【０１０６】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、
実施例中の「％」は全て「質量％」を表す。 ＜平版印刷版用原版の作成＞０．３ｍｍ厚のアルミニウ
ム板(材質１０５０)をトリクロロエチレンで洗浄して脱
脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミス−
水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、水でよく洗浄
した。洗浄後、このアルミニウム板を４５℃の２５％水
酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行
い、水洗した後、さらに２０％硝酸水溶液に２０秒間浸
漬し、再度水洗した。このときの砂目立て表面のエッチ
ング量は、約３ｇ／ｍ ²であった。次に、このアルミニ
ウム板を７％硫酸を電解液として、電流密度１５Ａ／ｄ
ｍ ²の直流電流で３ｇ／ｍ²の陽極酸化被膜を設けた後、
水洗、乾燥した。これを基板（Ｉ）とする。

【０１０７】

【実施例１〜６８及び比較例１〜２】基板（Ｉ）を３０
℃の珪酸ナトリウム２．５％水溶液で１０秒処理し、下
記下塗り層用塗布液を塗布し、８０℃下で１５秒間乾燥
した。乾燥後の下塗り層の乾燥塗布量は、１５ｍｇ／ｍ
²であった。

【０１０８】＜下塗り層用塗布液＞ 下記共重合体Ｐ(分子量２８０００) ０．３ｇ メタノール １００ｇ 水 １ｇ

【０１０９】 得られた支持体上に下記画像形成層塗布液を、乾燥塗布
量が、１．８ｇ／ｍ²となるように塗布し、ポジ型の平
版印刷用原版を得た。

【０１１０】＜特定の共重合体の合成＞ 合成例（特定の共重合体１） 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた５００ml三つ口
フラスコにメタクリル酸３１．０ｇ（０．３６モル）、
クロロギ酸エチル３９．１ｇ（０．３６モル）及びアセ
トニトリル２００mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合
物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン３６．４
ｇ（０．３６モル）を約１時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で３
０分間混合物を攪拌した。この反応混合物にp-アミノベ
ンゼンスルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加
え、油浴にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌し
た。反応終了後、この混合物を水１リットルにこの水を
攪拌しながら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌し
た。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水
５００mlでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、
得られた固体を乾燥することにより、N-(p-アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られ
た（収量４６．９ｇ）

【０１１１】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た２０ml三つ口フラスコにN-(p-アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド４．６１ｇ、（０．０１９２モ
ル）、メタクリル酸エチル２．９４ｇ（０．０２５８モ
ル）、アクリロニトリル０．８０ｇ（０．０１５モル）
及びN,N-ジメチルアセトアミド２０ｇを入れ、湯水浴に
より６５℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合
物に「Ｖ-６５」（和光純薬（株）製）０．１５ｇを加
え、６５℃に保ちながら窒素気流下２時間混合物を攪拌
した。この反応混合物にさらにN-(p-アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド４．６１ｇ、メタクリル酸
エチル２．９４ｇ、アクリロニトリル０．８０ｇ、N,N-
ジメチルアセトアミド及び「Ｖ−６５」０．１５ｇの混
合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終
了後、さらに６５℃で２時間得られた混合物を攪拌し
た。反応終了後、メタノール４０ｇを混合物に加え、冷
却し、得られた混合物を水２リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、３０分間混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより１５ｇの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により、この特定の共重合体の重量平均分子量（ポリス
チレン標準）を測定したところ、５３，０００であっ
た。

【０１１２】 ＜画像形成層用塗布液＞ 上記特定の共重合体１［（Ｂ）成分］ ０．４ｇ ｍ，ｐ−クレゾールノボラック［（Ｂ）成分］ ０．６ｇ （ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量８０００、 未反応クレゾールを０．５％含有） シアニン染料Ａ［（Ａ＋Ｃ）成分］ ０．１ｇ 無水フタル酸［（Ｄ）成分］ ０．０５ｇ ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００２ｇ エチルバイオレット ０．０２ｇ （対イオン：６−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸） ナフトキノン１，２−ジアジド−５−スルホニルクロイドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 ０．０１ｇ フッ素系界面活性剤 ０．０５ｇ (商品名：メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン ８ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ４ｇ

【０１１３】

【実施例１〜３４及び比較例１】（ＳｉＯ₂含有のアル
カリ現像処理液の調製）酸化ケイ素ＳｉＯ₂及び酸化カ
リウムＫ₂Ｏの混合比ＳｉＯ₂／Ｋ₂Ｏが１．１のケイ酸
カリウム４．０％水溶液１リットルにポリエチレングリ
コール１％添加し、アルカリ現像処理液を調製した。上
記により得られた平版印刷用原版に出力５００ｍＷ、波
長８３０ｎｍビーム径１７μｍ（１／ｅ²）の半導体レ
ーザーを用いて主走査速度５ｍ／秒にて露光し、２５℃
に保持した。この平版印刷用原版を前記アルカリ現像処
理液を満たした自動現像機ＰＳ900ＮＰ（富士写真フイ
ルム(株)製）により、現像液温度２５℃、２８℃、３０
℃、１２秒にて現像処理した。現像処理の後、水洗工程
を行った。一方下記表１〜２に示す濃度で各種スルホン
酸塩を含有する水溶液(1)〜(17)を調製しておく。この
水溶液で版面を処理し、製版が完了した平版印刷版を得
た（実施例１〜１７）。また、各種スルホン酸塩を含有
する水溶液(1)〜(17)で版面処理し、２７０℃、７分間
バーニングした後、水洗、ガムＧＵ−７（１：１）（富
士写真フイルム(株)製）を版面処理し、製版が完了した
平版印刷版を得た（実施例１８〜３４）。一方、スルホ
ン酸塩含有水溶液の代わりに、ガムＧＵ−７（１：１）
で版面処理した以外は実施例１と同様に製版したものを
比較例１とした。これらの平版印刷版を以下のように評
価する。また、この平版印刷版を使用して、ハイデルベ
ルグ社製ＫＯＲ型印刷機で市販のインキにて、上質紙に
印刷した。

【０１１４】＜画像部／非画像部のバランスの評価＞ （非画像部の現像性の評価）上記のようにして得た現像
液温度２５℃、２８℃、３０℃での平版印刷版の非画像
部の現像性を「非画像部の残膜の有無」を観察すること
で、官能評価を行った。また、印刷物上の汚れも評価し
て、結果を表２に示す。 −基準− ○：十分に現像され、非画像部上の画像形成層の残存は
認められなかった。印刷物上で汚れがなかった。 △：非画像部上に画像形成層が若干残存していた。しか
し、印刷物上で汚れがなかった。 ×：非画像部上に画像形成層が残存し、印刷物上で汚れ
が発生した。

【０１１５】(画像部の膜べりの評価)上記のようにして
得た現像液温度２５℃、２８℃、３０℃での平版印刷版
の「画像部の欠陥」を下記基準に従い、目視により観察
し、官能評価を行った。また、印刷物上の膜べりも評価
して、結果を表２に示す。 −基準− ○：画像部に欠陥は認められなかった。印刷物上の画像
部の白抜けがなかった。 △：画像部濃度が若干低下し、一部に欠陥が認められ
た。しかし印刷物上の画像部の白抜けがなかった。 ×：画像部に欠陥した部分有り。印刷物上の画像部に白
抜けが見られた。 評価結果を表３にまとめる。

【０１１６】

【表１】

【０１１７】

【表２】

【０１１８】

【表３】

【０１１９】

【実施例３５〜６８及び比較例２】（非還元糖含有のア
ルカリ現像処理液の調製）非還元糖と塩基とを組み合わ
せたＤ−ソルビット／酸化カリウムＫ₂Ｏよりなるカリ
ウム塩５．０質量％水溶液１リットルにポリエチレング
リコール１％を添加し、アルカリ現像処理液を調製し
た。このアルカリ現像処理液を使用する以外は実施例１
〜３４、比較例１と同様に処理し、製版し、得られた平
版印刷版を評価した。なお、スルホン酸塩含有水溶液の
代わりに、ガムＧＵ−７（１：１）で版面処理した以外
は実施例３５と同様に製版したものを比較例２とした。
結果を表４に示す。

【０１２０】

【表４】

【０１２１】

【実施例６９〜１０２、比較例３】基板（Ｉ）に下記下
塗り液を塗布し、８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の
被覆量は８mg/ｍ²であった。 （下塗り液） アミノエチルホスホン酸 ０．１ｇ メタノール ７０ｇ 純水 ３０ｇ

【０１２２】次に下記溶液［Ａ］を調製した。この溶液
を上記下塗り済みの基板（Ｉ）に塗布し、１００℃で１
分間乾燥してネガ型平版印刷用版材［Ａ］を得た。乾燥
後の塗布量は１．５ｇ/ｍ²であった。 （溶液［Ａ］） ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート （東京化成工業（株）製） ０．１５ｇ 赤外線吸収剤（NK-2014、日本感光色素研究所（株）製） ０．１０ｇ フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 （重量平均分子量 10000） １．５ｇ 架橋剤（下記構造式で表される化合物 ＭＭ−１） ０．５ｇ 着色剤（保土ヶ谷化学（株）製 Vicotria Pure Blue） ０．０４ｇ フッ素系界面活性剤 （メガファックF-176,大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３ｇ メチルエチルケトン ２０ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ７ｇ メチルアルコール ３ｇ

【０１２３】

【０１２４】上記により得られたネガ型平版印刷版材
［Ａ］を、１ビーム当たりの感材面での出力が７０mW、
波長８３０nm、ビーム径１６μm(1/e²)の半導体レーザ
ーを用いて、主走査速度３．０ｍ／秒で画像露光した
後、プレヒートとして１４０℃で１分間加熱処理した。
この平版印刷版を富士写真フイルム(株)製アルカリ水現
像液ＬＨ−ＤＮ（１：７）を満たした自動現像機ＰＳ90
0ＮＰ（富士写真フイルム(株)製）により、現像液温度
２５℃、３０℃、３５℃、１２秒にて現像処理した。現
像処理の後、水洗工程を行った。一方下記表１〜２に示
す濃度で各種スルホン酸塩を含有する水溶液(1)〜(17)
で版面を処理し、製版が完了した平版印刷版を得た（実
施例６９〜８５）。また、各種スルホン酸塩を含有する
水溶液(1)〜(17)で版面を処理し、２７０℃、７分間バ
ーニングした後、水洗、ガムＧＵ−７（１：１）（富士
写真フイルム(株)製）を版面処理し、製版が完了した平
版印刷版を得た（実施例８６〜１０２）。一方、スルホ
ン酸塩含有水溶液の代わりに、ガムＧＵ−７（１：１）
で版面処理した以外は実施例６９と同様に製版したもの
を比較例３とした。これらの平版印刷版を以下のように
評価する。また、この平版印刷版を使用して、ハイデル
ベルグ社製ＫＯＲ型印刷機で市販のインキにて、上質紙
に印刷した。

【０１２５】＜画像部／非画像部のバランスの評価＞ （非画像部の現像性の評価）上記のようにして得た現像
液温度２５℃、３０℃、３５℃での平版印刷版の非画像
部の現像性を、プレヒートの温度も変えて「非画像部の
残膜の有無」を観察して官能評価を行った。また、印刷
物上の汚れも評価した。 −基準− ○：プレヒート温度１４０℃で十分に現像され、非画像
部上の画像形成層の残存は認められなかった。印刷物上
で汚れがなかった。 △：プレヒート温度１４０℃で、非画像部上に画像形成
層が若干残存していた。しかし、印刷物上で汚れがなか
った。また、プレヒート温度１３０℃では十分に現像さ
れ、非画像部上の画像形成層の残存は認められなかっ
た。印刷物上で汚れがなかった。 ×：プレヒート温度１３０℃でも、非画像部上に画像形
成層が残存し、印刷物上で汚れが発生した。

【０１２６】(画像部の膜べりの評価)上記のようにして
得た現像液温度２５℃、３０℃、３５℃での平版印刷版
の画像部の膜べりを、プレヒートの温度も変えて、「画
像部の欠陥」を観察し、官能評価を行った。また、印刷
物上の膜べりも評価した。 −基準− ○：プレヒート温度１４０℃で画像部に欠陥は認められ
なかった。印刷物上の画像部の白抜けがなかった。 △：プレヒート温度１４０℃で画像濃度が若干低下し、
一部に欠陥が認められた。しかし印刷物上の画像部の白
抜けがなかった。また、プレヒート温度１５０℃では画
像部に欠陥は認められなかった。印刷物上の画像部の白
抜けがなかった。 ×：プレヒート温度１５０℃でも画像部に欠陥した部分
有り。印刷物上の画像部に白抜けが見られた。 評価結果を表５にまとめる。

【０１２７】

【表５】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB03 AC08 AD01 AD03 CC20 FA03 FA17 FA28 FA29 2H084 AA14 AA25 AA40 CC05 2H096 AA07 BA16 EA04 GA08 HA01 HA02 JA04 2H114 AA04 AA23 AA24 BA01 DA35 DA39 DA41 DA53 DA78 EA02 EA05 GA26

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 赤外線吸収剤を含有する赤外線感応性平
   版印刷原版を赤外線露光し、アルカリ現像した後、スル
   ホン酸塩含有水溶液で処理する平版印刷版の製版方法。
2. 【請求項２】 スルホン酸塩含有水溶液で処理した後、
   さらにバーニング処理することを特徴とする、請求項１
   記載の平版印刷版の製版方法。