JP2003061944A - 断層撮影装置の校正方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数台の断層撮影装置にわたる性能のバラツ
キを解消する断層撮影装置の校正方法を提供する。 【解決手段】 この発明は、Ｘ線管と、高吸収体で形成
された２個の微小球からなる校正用ファントムを挟んで
Ｘ線管と対向配置したＸ線検出器とを平行平面上で同期
させて回転断層軸周りに一周走査し、Ｘ線検出器Ｄに投
影された２個の微小球の積算投影像Ｇを得る。そして、
この投影像Ｇのそれぞれから中心点Ｐを求め、直線で結
んで回転断層軸の投影線Ｚ'を求める。さらに、この求
まった投影線Ｚ'にＸ線検出器Ｄの所定の画素列Ｈが投
影線Ｚ'と一致するようにＸ線検出器Ｄの移動調整を行
う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、医療分野や工業
分野に用いられ、被検体の断層撮影を行なう断層撮影装
置の校正方法に係り、特に、Ｘ線管と検出器からなる走
査系の位置ズレを校正する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のＸ線断層撮像装置においては、被
検体の撮像時、定期点検時、または故障発生時などに、
装置保守・校正を行っている。特に検出器はＸ線を検出
して出力するといった装置でも重要な役割を担っている
にも関わらず、Ｘ線源と同期して回転駆動するので、経
時的にＸ線管と検出器からなる走査系の位置に微妙なズ
レが生じる。このような状態で、複数角度から検出され
た画像情報に基づいて再構成出力される断層画像には偽
像が発生してしまう。従ってＸ線管と検出器からなる走
査系の位置ズレを解消するために、オペレ−タが装置操
作を行って検出器の位置調整を行なったり、または検出
器の傾きなどによる位置ズレの移動調整を経験則に基づ
いて直接手動で行ったりしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来の方法では、オペレータの経験則
に頼って検出器の傾きの移動調整を行っているために、
非常に手間がかかるとともに、正確な移動調整を行なう
ことができないといった問題がある。つまり、移動調整
を行なうための基準が設けられていなかったので、校正
が常に安定せず、ひいては装置ごとに性能のバラツキが
発生していた。

【０００４】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであって、再構成出力される断層画像における
偽像の発生を防止するとともに、装置ごとの性能のバラ
ツキを解消するための断層撮影装置の安定した校正方法
を提供することを主たる目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、天板に載置した被検体に
向けて透過性を有する電磁波を末広がりビーム形状にし
て照射する照射手段と、被検体を挟んで前記照射手段に
対向配置され、被検体を透過した電磁波を検出するよう
にアレイ配列された複数画素を備えた面検出器とを、被
検体の関心領域のほぼ中心に設定される回転断層軸周り
に同期させて平行平面上で回転走査する走査手段とを備
えた断層撮影装置の校正方法であって、前記天板に校正
用ファントムを載置して前記照射手段と前記面検出器と
を一周走査し、このときに得られる積算投影像から回転
断層軸の投影線を求め、この求まった投影線に対して面
検出器の所定の画素列が一致するように、面検出器を移
動調整することを特徴とするものである。

【０００６】また、請求項２に記載の発明は、天板に載
置した被検体に向けて透過性を有する電磁波を末広がり
ビーム形状にして照射する照射手段と、被検体を挟んで
前記照射手段に対向配置され、被検体を透過した電磁波
を検出するようにアレイ配列された複数画素を備えた面
検出器とを、被検体の関心領域のほぼ中心に設定される
回転断層軸周りに同期させて平行平面上で回転走査する
走査手段とを備えた断層撮影装置の校正方法であって、
（ａ）前記天板に校正用ファントムを載置して前記照射
手段と前記面検出器とを一周走査し、このとき得られる
積算投影像から回転断層軸の投影線の位置情報を求め、
（ｂ）この投影線の位置情報を利用して投影線の位置情
報に応じた面検出器の画素配列の情報を求め、（ｃ）こ
の画素配列の情報を本番の断層撮像を実行したときに得
られる画像情報に反映させて仮想的に面検出器の校正を
行なうことを特徴とするものである。

【０００７】また、請求項３に記載の発明は、請求項１
または請求項２に記載の断層撮影装置の校正方法におい
て、前記校正用ファントムは、前記回転断層軸の上下近
傍に対向配置された１対の小さい高吸収体で構成されて
いることを特徴とするものである。

【０００８】また、請求項４に記載の発明は、請求項１
または請求項２に記載の断層撮影装置の校正方法におい
て、前記校正用ファントムは、回転断層軸に沿って配置
した高吸収体で形成された棒状のものであることを特徴
とするものである。

【０００９】〔作用〕請求項１に記載の発明の作用は次
のとおりである。すなわち、校正用ファントムを天板に
載置して照射手段と面検出器とを一周走査することによ
って、複数角度からなる１群の投影像が得られる。この
とき、回転断層軸に対してＸ線管と検出器からなる走査
系に位置ズレが生じていると、特徴的なパターンからな
る積算投影像が発生する。そして、この得られた特徴的
なパターンからなる積算投影像から回転断層軸の投影線
を求め、求まった投影線に対して面検出器の所定の画素
列が一致するように、面検出器の移動調整が行われる。

【００１０】請求項２に記載の発明によれば、校正用フ
ァントムを利用して回転断層軸の投影線の位置情報求
め、この投影線の位置情報に応じた画素配列の情報が予
め求められる。この求められた画素配列の情報が、本番
の断層撮像で得られた画像情報に反映させられることに
よって、Ｘ線検出器の位置ズレを仮想的に校正すること
ができる。

【００１１】また、請求項３に記載の発明によれば回転
断層軸の上下近傍に１対の小さな高吸収体を、請求項４
に記載の発明によれば、回転断層軸に沿って配置した高
吸収体で形成された棒状の校正用ファントムを利用する
ことによって、請求項１または請求項２の方法が好適に
実施される。

【００１２】

【発明の実施の形態】<第１実施例>以下、この発明の断
層撮影装置の校正方法に係る一実施例として、非ＣＴタ
イプのＸ線断層撮影装置（以下、単に「断層撮影装置」
という）を例に採って、図面を参照しながら説明する。
図１は、この実施例の断層撮影装置の概略構成を示すブ
ロック図である。

【００１３】先ず、この実施例の断層撮影装置の構成に
ついて説明する。この実施例装置は、種々の情報および
命令を入力する操作部１０と、これら入力された情報お
よび命令に基づいてＸ線撮影を制御する撮影制御部２０
と、この撮影制御部２０により制御されながら撮像部４
０を動作させる駆動部３０と、被検体Ｍの関心領域を撮
影する撮像部４０と、この撮像部４０から検出された透
過Ｘ線をデジタル信号に変換し、画像情報として収集す
るデータ収集部（ＤＡＳ）５０と、このデータ収集部５
０から出力されるデジタル信号に基づいて被検体Ｍの関
心領域の画像再構成を行ない、再構成された画像情報を
記憶するデータ処理部６０と、このデータ処理部６０に
記憶された画像情報を出力表示するモニタ７０とを備え
ている。

【００１４】以下、各部の構成および機能について具体
的に説明する。図２は、この実施例の断層撮像装置にお
けるＸ線管Ｒとフラットパネル型Ｘ線検出器Ｄ（以下、
単に「Ｘ線検出器Ｄ」という）との一走査形態を示す概
略平面図である。つまり、図２に示すように、被検体Ｍ
を挟んで、被検体Ｍの関心領域のほぼ中心に設定される
回転断層軸Ｚ周りに、Ｘ線管ＲとＸ線検出器Ｄとを同期
させて平行平面上で一回転走査させながら撮影すること
で、被検体Ｍの体軸周り略１回転分の透過像を取得す
る。

【００１５】操作部１０からは、被検体Ｍの関心領域を
撮影する前に、Ｘ線管ＲからＸ線検出器Ｄまでの距離
や、Ｘ線管ＲおよびＸ線検出器Ｄを円形に回転移動させ
るその円形方向への移動ピッチなどが予め設定入力され
る。なお、この操作部１０としては、キーボード、マウ
ス、タッチパネルなどの入力装置が用いられる。上述し
たＸ線管Ｒは、この発明における照射手段に相当する。

【００１６】撮影制御部２０には、操作部１０と、駆動
部３０およびデータ処理部６０とが接続されている。そ
して、撮影制御部２０は、操作部１０より設定入力され
た各情報に基づいて、駆動部３０とデータ処理部６０と
をそれぞれ総括的に制御している。

【００１７】駆動部３０は、図２に示すように、被検体
Ｍを挟んで対向配置されるＸ線管ＲとＸ線検出器Ｄと
を、被検体Ｍの関心領域のほぼ中心に設定される回転断
層軸Ｚ周りに、同期させて平行平面上で一回転させて移
動させるように走査させるものである。また、このと
き、被検体Ｍに向けてＸ線管Ｒから照射されるコーンビ
ーム状のＸ線の中心軸が、常に、回転断層軸Ｚ上の特定
の点である、被検体Ｍの特定断層面の中心点Ｏを透過し
て、Ｘ線検出器Ｄの検出面の中心点に垂直に入射される
ように、Ｘ線管ＲとＸ線検出器Ｄとを対向させている。
上述した駆動部３０はこの発明における走査手段に相当
する。

【００１８】撮像部４０は、図１に示すように、被検体
Ｍを載置する天板Ｔと、被検体Ｍに向けてコーンビーム
状のＸ線を照射するＸ線管Ｒと、被検体Ｍを透過したＸ
線を検出するフラットパネル型Ｘ線検出器Ｄとを備えて
いる。

【００１９】Ｘ線検出器Ｄは、図示しないが多数の検出
素子が縦横に配列されている２次元マトリックスのＸ線
検出器であって、Ｘ線管ＲによるＸ線照射によって生じ
る被検体ＭのＸ線透視像を検出してＸ線検出信号として
の電気信号に変換して出力するようになっている。検出
素子の配列は、例えば横方向１０２４，縦方向１０２４
の正方形マトリックスなどが挙げられる。

【００２０】また、Ｘ線検出器Ｄは、図７に示すよう
に、プレートＢに取り付けられており、プレートＢの左
右上下に設けられたボルト機構のボルトＶを回転操作す
ることによって、Ｘ軸方向への移動調整が可能となって
いる。また、上下一対のボルトＶを異なった方向に回転
操作することによって、Ｙ軸方向に傾斜角を持たせるこ
とができるようになっている。

【００２１】データ処理部６０は、撮像部４０において
走査各位置で検出された投影データ（検出信号）に基づ
いて、Ｘ線検出器Ｄのズレ（画素列の傾き）を求める画
素列算出部６１と、Ｘ線検出器Ｄの移動調整に関するデ
ータを予め記憶しているメモリ６２と、関心領域の画像
再構成を行なう再構成処理部６３と、この再構成処理部
６３で再構成された関心領域の画像情報を記憶する画像
情報記憶部６４とを備えている。

【００２２】メモリ６２は、ボルトＶの回転数または回
転率に対応するＸ線検出器Ｄの移動距離としての画素列
の数が予め設定入力されている。

【００２３】なお、画素列算出部６１については、以下
の校正方法の説明で詳述する。

【００２４】次に、この実施例の特徴である装置の校正
方法を、上述の断層撮像装置に基づいて説明する。先
ず、装置の校正を行なうに当たり、被検体Ｍの代わり、
校正用ファントムを天板Ｔに載置して利用する。校正用
ファントムとしては、図３に示すように、Ｘ線吸収率の
少ない４本の支柱と、この支柱によって支持された上下
２枚の円盤によって構成された構造物の上下中央に、例
えば、直径が１ｍｍのステンレス鋼またはタングステン
など、Ｘ線の吸収率の高い高吸収体からなる微小球のも
のが取り付けられている。

【００２５】この校正用ファントムＦは、天板Ｔのほぼ
中央に位置するようにオペレータによって載置される。

【００２６】次に、Ｘ線管ＲとＸ線検出器Ｄとを被検体
Ｍの略中心に位置する回転断層軸Ｚの周りに一周走査し
て走査各位置で検出された投影データ（検出信号）に基
づいて、積算投影像が得られる。このとき、図４に示す
ように、Ｘ線検出器Ｄにおける所定の画素列Ｈが回転断
層軸Ｚに対して位置ズレが生じてなければ、Ｘ線検出器
Ｄに投影される校正用ファントムＦの積算投影像Ｇは、
画素列Ｈ上に中心点が位置する楕円状のものが２個現れ
る。

【００２７】逆に、Ｘ線検出器Ｄの画素列Ｈが回転断層
軸Ｚに対して位置ズレが生じている一般的場合は、図５
に示すように、各積算投影像Ｇの中心点Ｐが画素列Ｈ上
に位置しなくなる。このときの回転断層軸Ｚは、各積算
投影像Ｇの中心点Ｐを結んだ線（斜め線）が回転断層軸
Ｚの投影線Ｚ'となる。なお、この投影線Ｚ'は、例え
ば、次のようにして求まる。

【００２８】先ず、図５に示すように、上下２個の楕円
状の積算投影像Ｇにおける長手方向の左右両端から中心
点Ｐ（楕円中心）をそれぞれ求める。この求まったそれ
ぞれの中心点Ｐ同士を直線（図では一点鎖線）で結ぶこ
とによって回転断層軸Ｚの投影線Ｚ'が求まる。なお、
楕円の中心点Ｐの求め方は、この方法に限定されるもの
ではない。

【００２９】そして、この求まった回転断層軸Ｚの投影
線Ｚ'を基準とし、例えば図６に示すように、一点鎖線
で示す投影線Ｚ'にＸ線検出器Ｄ（実線）の所定の画素
列Ｈが、一致するようにＸ線検出器Ｄの位置を移動調整
する。つまり、二点鎖線で示したＸ線検出器Ｄ'となる
ようにＸ線検出器Ｄを移動調整（以下、適宜「粗調整」
という）する。

【００３０】具体的には、画素列算出部６１で積算投影
像Ｇの中心点Ｐの座標が上述の方法によってそれぞれ求
められるとともに、この求まった座標とＸ線検出器Ｄに
おける所定の画素列Ｈの特定座標とが比較される。そし
て、画素列Ｈの特定座標から左右にズレている各中心点
Ｐの座標との距離に相当する画素列の数が求められるよ
うになっている。このように画素列の数を求めることに
よって、実質、画素列の傾きを求めたことになる。

【００３１】そして、この求まった画素列の数に応じて
ボルトＶの回転数などがモニタ７０に表示され、この表
示された情報類に基づいてオペレータがボルトＶを回転
操作し、Ｘ線検出器Ｄの粗調整を実行する。

【００３２】なお、Ｘ線検出器Ｄの粗調整を行なう形態
は、この形態に限定されるものではない。

【００３３】上述の手順によってＸ線検出器Ｄの粗調整
を行なった後、再度断層撮影を実行して２個の微小球の
断層面での断層画像を取得し、偽像の発生の有無を確認
する。このとき、例えば、断層画像が図８（ｂ）に示す
真円状Ｆ'とならず、偽像を含んだ図８（ａ）に示す断
層画像Ｇとして出力される場合、さらにＸ線検出器Ｄの
位置の微調整を行ない、図８（ｂ）に示すように、偽像
が消去された投影像Ｆ'が得られるようにする。

【００３４】以上のように、校正用ファントムＦを利用
して、回転断層軸Ｚの投影線Ｚ'を仮想的に求め、求ま
る投影線Ｚ'に対してＸ線検出器Ｄの所定の画素列Ｈが
一致するようにＸ線検出器Ｄの粗調整を行なうことによ
って、断層撮影装置の校正を正確かつ容易に行なうこと
ができる。すなわち、この方法を用いることによって、
複数台にわたる装置間の性能のバラツキも解消すること
ができる。

【００３５】<第２実施例>先の第１実施例では、回転断
層軸Ｚの投影線Ｚ'を求め、この投影線Ｚ'の傾きに応じ
てオペレータが検出器Ｄの位置（傾き）を直接手動で調
節していたが、この第２実施例では、求まった回転断層
軸Ｚの投影線Ｚ'の位置データを利用して、投影線Ｚ'の
位置データに対応した各画素の配列位置データを演算に
より求めるとともに、この求まった位置データを本番の
断層撮像時の投影データに反映させてＸ線検出器Ｄの校
正を仮想的に行なっている。

【００３６】以下、この校正方法について実施例装置の
図を参照して説明する。なお、この実施例では先の第１
実施例と重複する部分については同一符号を付すに留
め、異なる部分について説明する。図９は、この実施例
の断層撮影装置の概略構成を示すブロック図である。

【００３７】この実施例装置は先の第１実施例装置のデ
ータ処理部６０に、画素位置算出部６０１、メモリ６０
２、および補正部６０３とから構成された校正部６００
を備えている。

【００３８】画素位置算出部６０１は、Ｘ線検出器Ｄの
ズレ（傾き）にともなう画素位置のズレを補正するため
の基準となる画素位置の基準データを求めるようになっ
ている。

【００３９】メモリ６０２は、図１０の実線で示すＸ線
検出器Ｄにおける各画素の格子点の位置データ（以下、
単に「格子データ」という）が予め操作卓１０から入力
されて記憶されているとともに、画素位置算出部６０１
で求められた基準データが記憶されるようになってい
る。

【００４０】補正部６０３は、本番の断層撮像を実行し
たときに検出された投影データと、メモリ６０２に記憶
された基準データとを読み込み、基準データを検出され
た画像データに反映させて、Ｘ線検出器Ｄの位置ズレに
ともなう画素位置のズレを補正演算処理するようになっ
ている。

【００４１】次に、上述の実施例装置で実行される校正
の方法の手順について説明する。先ず、天板Ｔのほぼ中
央に載置した校正用ファントムＦの略中心に位置する回
転断層軸Ｚの周りにＸ線管ＲとＸ線検出器Ｄとを平行平
面上で一周走査し、走査各位置で検出された投影データ
（検出信号）がデータ収集部５０に送られる。

【００４２】そして、データ収集部５０でデジタル変換
された投影データが加算(積算)されて積算投影データと
して画素位置算出部６０１に入力される。

【００４３】このとき入力された積算投影データが、図
１０に示すような楕円状の投影像Ｇとなるとき、上下２
個の楕円状の積算投影像Ｇにおけるデータから投影像の
長手方向の左右両端部に当たる画素位置情報を利用し、
両画素を直線で結んだときの中心点Ｐ（楕円中心）をそ
れぞれ求めるようになっている。なお、この中心点Ｐの
求め方はこの方法に限定されるものではない。

【００４４】そして、この求まったそれぞれの中心点Ｐ
同士を直線（図では一点鎖線）で結ぶことによって回転
断層軸Ｚの投影線Ｚ'を求めるとともに、投影線Ｚ'の各
画素位置データ（以下、適宜「Ｚ'線データ」という）
も求める。

【００４５】そして、予めメモリ６０２に入力されてい
る各画素の格子データを読み込む。この読み込まれた格
子データとＺ'線データとが比較演算処理され、投影線
Ｚ'の画素位置に相当する格子点（一致または最近似す
る格子点）が求められる。さらに、この求められた格子
点のデータを基準とし、各格子点の位置データＥを、図
１０に示すように、格子点上に順番に割り当て、基準デ
ータを求める。結果、図１０の二点鎖線で示す検出器
Ｄ'のように位置ズレを校正した画素配列のデータが得
られたことになる。

【００４６】次に、断層撮像を実行するごとにメモリ６
０２に記憶された基準データが補正部６０３に読み込ま
れ、検出された投影データに反映されるように補正処理
される。つまり、Ｘ線検出器Ｄ'に校正された状態で投
影像が得られたときの投影データが求められ、再構成処
理部６３に送出される。

【００４７】そして再構成処理部６３で通常の画像再構
成の演算処理が実行され、求まった断層画像情報は、画
像情報記憶部６４に記憶され、オペレータの操作により
適時にモニタ７０に表示される。

【００４８】なお、演算処理によるＸ線検出器の校正方
法は、上述の実施の形態に限定されるものではない。

【００４９】この発明は、上記実施の形態に限定される
ものではなく、以下のように変形実施することができ
る。 （１）上記各実施例では、校正用ファントムＦに高吸収
体の微小球を用いたものを例に採って説明しているが、
この形態に限定されるものではなく、図１１に示すよう
に、４本の支柱で支持された２枚の円盤の中央に高吸収
体であるステンレス鋼などで形成された棒状のものを利
用してもよい。

【００５０】この校正用ファントムＦを利用し、回転断
層軸の周りにＸ線管ＲとＸ線検出器Ｄとを一周走査して
走査各位置で検出された投影データ（検出信号）に基づ
いて、投影像を得ると、図１２に示すような積算投影像
Ｇが得られる。つまり、Ｘ線検出器Ｄの略中心を頂点と
する上下対称の三角形の投影像Ｇとなる。

【００５１】これら２つの三角形の投影像Ｇにおける底
辺Ｋの中点Ｐを求め、直線（図１２では一点鎖線）で結
ぶことによって、回転断層軸Ｚの投影線Ｚ`が求まる。
以下、この求まった投影線Ｚ`を基準とし、上記実施例
と同様にＸ線検出器Ｄの粗調整と微調整を行なうことに
よって、断層撮像装置の校正を行なうことができる。

【００５２】（２）上記各実施例では、Ｘ線管ＲとＸ線
検出器Ｄとが回転断層軸Ｚの周りを走査する形態のもの
を例に採って説明したが、この形態に限定されるもので
はく、図１３に示すように、被検体が回転するような形
態のものであってもよい。この場合、Ｘ線管ＲとＸ線検
出器Ｄとは固定配置し、被検体Ｍを載置した天板Ｔが回
転駆動することとなる。つまり、この変形例の場合、Ｘ
線ＣＴ装置としての利用が可能となる。

【００５３】装置の構成方法については、粗調整までは
同様であるが、微調整については、通常のＸ線ＣＴ装置
として校正用ファントムＦである２個の微小球の断層面
でπスキャンを実行し、このとき得られる断層画像に基
づいて面検出器Ｄの微調整が行なわれる。

【００５４】なお、Ｘ線管ＲとＸ線検出器Ｄとの配置
は、被検体Ｍに向けてＸ線管Ｒから照射されるコーンビ
ーム状のＸ線の中心軸が、常に、回転断層軸Ｚ上の特定
の点である、被検体Ｍの特定断層面の中心点Ｏを透過し
て、Ｘ線検出器Ｄの検出面の中心点に入射するような関
係にあればよい。つまり、Ｘ線の中心軸が、Ｘ線検出器
Ｄの検出面の中心点に垂直に入射してもよいし、斜め方
向から入射するような関係の配置であってもよい。

【００５５】（３）上記各実施例では、被検体Ｍに向け
てＸ線管Ｒから照射されるコーンビーム状のＸ線の中心
軸が、常に、回転断層軸Ｚ上の特定の点である、被検体
Ｍの特定断層面の中心点Ｏを透過して、Ｘ線検出器Ｄの
検出面の中心点に垂直に入射されるようにＸ線管ＲとＸ
線検出器Ｄとを配置していたが、この形態に限定される
ものではない。

【００５６】例えば、図１４に示すように、Ｘ線の中心
軸が、常に、回転断層軸Ｚ上の特定の点である、被検体
Ｍの特定断層面の中心点Ｏを透過して回転断層軸Ｚ上の
特定の点である、被検体Ｍの特定断層面の中心点Ｏを透
過して、Ｘ線検出器Ｄの検出面の中心点に斜め方向から
入射されるようにＸ線管ＲとＸ線検出器Ｄとを配置する
ような構成であってもよい。

【００５７】（４）上記各実施例では、フラットパネル
型検出器を例に採って説明したが、この他に、例えば、
イメージインテシファイアなどを用いてもよい。

【００５８】（５）上記各実施例では、Ｘ線を用いて説
明したが、この他に、プラズマＸ線源、放射性同位元素
からのガンマ線、電子ライラックからのＸ線、シンクロ
トロン軌道放射光源（ＳＯＲ）などであってもよい。

【００５９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、天板に載置した校正用ファン
トムに対して一周走査して得られた積算投影像から回転
断層軸の投影線を求め、この求まった投影線に対して所
定の画素列が一致するように面検出器を移動調整する、
結果、装置の校正を正確かつ容易に行なうことができ、
複数台の装置にわたる性能のバラツキをも解消すること
ができる。

【００６０】また、請求項２に記載の発明によれば、校
正用ファントムを利用して回転断層軸の投影線の位置情
報を求めるとともに、この位置情報に応じた画素配列と
なるように予め画素配列の情報を求めて本番の断層撮像
で得られた画像情報に反映させることによって、Ｘ線検
出器の位置ズレを仮想的に校正することができる。

【００６１】また、請求項３に記載の発明によれば、回
転断層軸の上下近傍に配置した１対の小さな高吸収体
を、請求項４に記載の発明によれば、回転断層軸に沿っ
て配置した高級体で形成された棒状の校正用ファントム
を利用することにより、請求項１または請求項２の方法
を好適に実施することができる。

【００６２】

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例装置に係る断層撮影装置の全体構成
を示したブロック図である。

【図２】第１実施例装置の走査形態を示した模式図であ
る。

【図３】第１実施例装置に用いた校正用ファントムの構
造図である。

【図４】第１実施例装置の校正データ収集を示した模式
図である。

【図５】回転断層軸の投影線を求めるときの模式図であ
る。

【図６】Ｘ線検出器の移動調整を示した模式図である。

【図７】Ｘ線検出器取付け台及び調整機構の構成を示し
た図である。

【図８】Ｘ線検出器の微調整時の断層画像であって、
（ａ）は粗調整後の断層画像、（ｂ）は微調整後の断層
画像を示した図である。

【図９】第２実施例装置に係る断層撮影装置の全体構成
を示したブロック図である。

【図１０】基準となる画素位置データを求めるときの模
式図である。

【図１１】変形例の校正用ファントムを示した構造図で
ある。

【図１２】変形例の回転断層軸の投影線を求めるときの
模式図である。

【図１３】被検体が回転断層軸を中心に回転する変形例
の断層撮影装置の走査形態を示した模式図であって、
（ａ）はＸ線の中心軸がＸ線検出器の中心に垂直に投影
される構成の装置の模式図、（ｂ）はＸ線の中心軸がＸ
線検出器の中心に斜めから投影される装置の模式図であ
る。

【図１４】変形例装置の走査を示した模式図である。

【符号の説明】

Ｍ … 被検体 Ｒ … Ｘ線管 Ｄ … フラットパネル型Ｘ線検出器 Ｆ … 校正用ファントム Ｚ … 回転断層軸 Ｚ'… 回転断層軸の投影線 Ｈ … 画素行列 Ｇ … 偽像含む投影像 ６０ … データ処理部 ６１ … 画素列算出部 ６２ … メモリ ６３ … 再構成処理部 ６４ … 画像情報記憶部 ６００… 校正部 ６０１… 画素位置算出部 ６０２… メモリ ６０３… 補正部

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 天板に載置した被検体に向けて透過性を
   有する電磁波を末広がりビーム形状にして照射する照射
   手段と、被検体を挟んで前記照射手段に対向配置され、
   被検体を透過した電磁波を検出するようにアレイ配列さ
   れた複数画素を備えた面検出器とを、被検体の関心領域
   のほぼ中心に設定される回転断層軸周りに同期させて平
   行平面上で回転走査する走査手段とを備えた断層撮影装
   置の校正方法であって、前記天板に校正用ファントムを
   載置して前記照射手段と前記面検出器とを一周走査し、
   このときに得られる積算投影像から回転断層軸の投影線
   を求め、この求まった投影線に対して面検出器の所定の
   画素列が一致するように、面検出器を移動調整すること
   を特徴とする断層撮影装置の校正方法。
2. 【請求項２】 天板に載置した被検体に向けて透過性を
   有する電磁波を末広がりビーム形状にして照射する照射
   手段と、被検体を挟んで前記照射手段に対向配置され、
   被検体を透過した電磁波を検出するようにアレイ配列さ
   れた複数画素を備えた面検出器とを、被検体の関心領域
   のほぼ中心に設定される回転断層軸周りに同期させて平
   行平面上で回転走査する走査手段とを備えた断層撮影装
   置の校正方法であって、（ａ）前記天板に校正用ファン
   トムを載置して前記照射手段と前記面検出器とを一周走
   査し、このとき得られる積算投影像から回転断層軸の投
   影線の位置情報を求め、（ｂ）この投影線の位置情報を
   利用して投影線の位置情報に応じた面検出器の画素配列
   の情報を求め、（ｃ）この画素配列の情報を本番の断層
   撮像を実行したときに得られる画像情報に反映させて仮
   想的に面検出器の校正を行なうことを特徴とする断層撮
   影装置の校正方法。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の断層撮
   影装置の校正方法において、前記校正用ファントムは、
   前記回転断層軸の上下近傍に対向配置された１対の小さ
   い高吸収体で構成されていることを特徴とする断層撮影
   装置の校正方法。
4. 【請求項４】 請求項１または請求項２に記載の断層撮
   影装置の校正方法において、前記校正用ファントムは、
   回転断層軸に沿って配置した高吸収体で形成された棒状
   のものであることを特徴とする断層撮影装置の校正方
   法。