JP2003045007A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

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JP2003045007A
JP2003045007A JP2001226433A JP2001226433A JP2003045007A JP 2003045007 A JP2003045007 A JP 2003045007A JP 2001226433 A JP2001226433 A JP 2001226433A JP 2001226433 A JP2001226433 A JP 2001226433A JP 2003045007 A JP2003045007 A JP 2003045007A
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heat dissipation
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coil
magnetic head
dissipation layer
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Yuichi Yamada
裕一 山田
Toshiki Hoshino
敏規 星野
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 素子から発生する熱の放散性を向上させ、磁
気ヘッドの温度上昇を抑えて信頼性を向上させ、大容量
の磁気ディスク装置等に好適に使用できる磁気ヘッドと
して提供する。 【解決手段】 再生用の素子１８及びシールド層１６、
記録用のコイル２２及び磁極２０、２２を備えた磁気ヘ
ッドにおいて、前記素子１８あるいはコイル２２の近傍
に、素子１８、シールド層１６、コイル２２及び磁極２
０、２４に接触しない配置で、層間を絶縁する絶縁層に
用いられる材料よりも高熱伝導率の材料を用いて、端面
がスライダー１０の浮上面に露出する放熱層３０が設け
られている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置に
用いられる磁気ヘッドに関し、より詳細には記録再生用
の素子部分から発生する熱を効率的に放散させて素子の
温度上昇を抑える磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は、近年、ますます大
容量ととなるとともに高密度化されており、これにとも
ない磁気ヘッドはより高精度に、かつ小型になってき
た。図１８、１９は磁気ヘッドの記録再生用の素子部分
の従来の構成を示す。図１８(b)はスライダー１０を浮
上面側から見た平面図、図１９(b)はスライダー１０の
側面図である。図１８(a)は磁気ヘッドの記録再生素子
部Ａをスライダー１０の浮上面側から見た状態の断面
図、図１９(b)は記録再生素子部Ａをスライダー１０の
側面方向から見た状態の断面図である。図１８(a)、図
１９(a)で、１２はスライダー１０の母材であるアルチ
ック基板、１４はアルミナ絶縁層、１６は下部シールド
層、１８はＭＲ素子形成層、２０は下部磁極、２２は記
録用のコイル、２４は上部磁極である。なお、下部磁極
２０は記録用素子の上部シールド層としても作用する。
【０００３】このような磁気ヘッドにおいては、再生用
の素子や記録用の素子の小型化にともない、これらの素
子からの発熱によって磁気ヘッドが温度上昇することが
問題となってきた。図２０は、記録用のコイル２２の平
面図を示す。このコイル２２では、磁気記録の高周波化
を可能にするため、上部磁極によって囲まれる部分（図
のＢ部分）がより小型になってきている。この結果、上
部磁極によって囲まれるコイル部分では、コイルの膜厚
が薄く、線幅が細くなり、コイルの断面積とコイル間の
スペースが減少することと、高周波化にともなってコイ
ル２２の断線が生じたり、寿命が短くなるという問題が
生じやすくなる。
【０００４】このような記録再生素子の発熱による磁気
ヘッドの温度上昇を抑える方法としては、記録用のコイ
ルで磁極によって囲まれる部分以外のコイル部分の断面
積を大きくしてコイル間のスペースを広げる方法、下部
磁極の面積を拡大して放熱性を向上させる方法（特開平
62-128011号公報）、上部シールドに非磁性の金属を接
触させて放熱板に相当する部分を形成する方法（特開平
9-167314号公報）、ＭＲ素子層に非磁性体からなる放熱
層を設ける方法（特開平7-210829号公報）、リード素子
層の絶縁層に熱伝導性の良いシリコンやダイヤモンドラ
イクカーボンを使用する方法（特開平6-223331号公
報）、リード素子層の絶縁層に熱伝導性の良い窒化アル
ミニウムを使用する方法（特開平6-274830号公報）等が
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、磁気ヘ
ッドの温度上昇を抑える方法としては、従来種々の方法
が検討されてきたが、必ずしも有効とはいえない問題も
あった。たとえば、コイルの断面積を広げたり、コイル
間のスペースを広げるといった方法は、上部磁極によっ
て囲まれたコイル部分の発熱を抑えることに対しては有
効に作用しない。また、リード素子層の絶縁層に熱伝導
性の良い材料を使用する方法は、厚さ方向への放熱とな
るため必ずしも有効ではない。また、上部シールドに非
磁性の金属を接触させて放熱板に相当する部分を形成す
るといった場合には、書き込み用のコイルを形成すると
いった操作とは別の工程が必要になるという問題もあ
る。
【０００６】そこで、本発明はこれらの問題点を解消す
べくなされたものであり、その目的とするところは、磁
気ヘッドの熱放散性を向上させ、磁気ヘッドの温度上昇
を抑えて、大容量の磁気ディスク装置等に好適に使用す
ることができる磁気ヘッドを提供するにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため次の構成を備える。すなわち、再生用の素子
及びシールド層、記録用のコイル及び磁極を備えた磁気
ヘッドにおいて、前記素子あるいはコイルの近傍に、素
子、シールド層、コイル及び磁極に接触しない配置で、
層間を絶縁する絶縁層に用いられる材料よりも高熱伝導
率の材料を用いて、端面がスライダーの浮上面に露出す
る放熱層が設けられていることを特徴とする。
【０００８】前記放熱層としては、コイルと同一の層に
設けられているものが有効である。また、前記放熱層を
形成する材料としては、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ａｌを１種類以上含んだ非磁性材料
が、熱放散性及び磁気ヘッドの電磁変換特性を損なわな
い点から好適である。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について、添付図面とともに詳細に説明する。図１、２
は磁気ヘッドの第１の実施形態の構成を示す。図１では
磁気ヘッドの記録再生用の素子部分をスライダー１０の
浮上面側から見た状態の断面図、図２では磁気ヘッドの
記録再生用の素子部分をスライダー１０の側面方向から
見た断面図を示す。
【００１０】図１、２では、スライダー１０の全体図に
より記録再生用の素子部分Ａのスライダー１０内におけ
る配置を示し、記録再生用の素子部分Ａの構成を断面図
で示している。記録再生用の素子部分Ａの基本構成は、
図１８、１９に示す従来の磁気ヘッドでの構成と変わら
ない。すなわち、記録再生用の素子部分は、図１、２に
示すように、スライダー１０の母材材であるアルチック
基板１２上に、アルミナ絶縁層１４、下部シールド層１
６、ＭＲ素子形成層１８、下部磁極２０、コイル２２、
上部磁極２４をこの順に積層して形成される。なお、図
２では媒体４０の表面に対する記録再生用の素子の配置
を示す。すなわち、記録再生用の素子はスライダー１０
の前端側の端面の近傍に配置され、媒体４０の表面に対
向する配置でＭＲ素子形成層１８と下部磁極２０、上部
磁極２４が配置されている。
【００１１】本発明に係る磁気ヘッドにおいて特徴とす
る構成は、発熱源であるＭＲ素子あるいはコイルが形成
されている近傍部分に、ＭＲ素子あるいはコイルと接触
しない配置で、記録再生用の素子を形成する際に絶縁層
として使用されるアルミナよりも熱伝導率の大きな材料
を使用して放熱層を形成したことにある。この放熱層
は、成膜工程によって記録再生用の素子を形成する際
に、適宜組み込んで形成することができる。すなわち、
本発明において形成する放熱層は、成膜工程によって記
録再生用の素子を形成する従来の工程、感光性レジスト
塗布、露光及び現像、めっきあるいはスパッタリングあ
るいは蒸着等の各工程を利用して形成することができ
る。放熱層を形成する材料としては、絶縁層を形成して
いる材料よりも高熱伝導率を有する、Ｐｔ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ａｌ等の金属を１種類以
上含んだ非磁性材料が好適に使用できる。非磁性材料を
使用するのは磁気ヘッドの電磁変換特性に影響を与えな
いようにするためである。
【００１２】図１、２に示す磁気ヘッドでは、放熱層３
０を上部磁極２４を被覆する保護層２６の上層に形成し
たものである。図１に示すように、放熱層３０はスライ
ダー１０の端面と平行に記録再生用の素子が形成される
領域を超えて延びるように形成される。これは放熱層３
０として一定の面積を確保し、これによって効果的な放
熱作用が得られるようにするためである。保護層２６の
上層に放熱層３０を形成するから、放熱層３０は上部磁
極２４とは接触せず、したがって記録再生用の素子が配
置される領域まで重複する配置で放熱層３０が形成され
る。図２に示すように、放熱層３０はスライダー１０の
浮上面まで達して浮上面で端部が露出するように形成さ
れる。放熱層３０を成膜して形成する際には、放熱層３
０の端部がスライダー１０の浮上面側に延出するように
し、スライダー１０の浮上面を研削加工することによっ
てスライダー１０の浮上面に放熱層３０の端面を露出さ
せることができる。本実施形態の磁気ヘッドでは、コイ
ル２２による発熱は、上部磁極２４を介して放熱層３０
に伝達され、放熱層３０から媒体４０の表面に向けて放
散される。放熱層３０が媒体４０の表面に面しているこ
とから、放熱層３０が冷却され放熱層３０の熱放散性が
さらに向上する。
【００１３】図３、４は磁気ヘッドの第２の実施形態に
ついての構成を示す。本実施形態では、コイル２２の上
部と上部磁極２４との間にコイル２２および上部磁極２
４と離間した配置で放熱層３０を設けたことを特徴とす
る。ＭＲ素子形成層１８、下部磁極２０等の配置は図
１、２に示す構成と同様であるので省略する（以下の各
実施形態においても同様）。本実施形態においても、放
熱層３０はスライダー１０の端面と平行に、記録再生用
の素子が形成される領域を超えて延びるように形成され
る。放熱層３０の端面がスライダー１０の浮上面で露出
するように設けることも上記実施形態と同様である。な
お、放熱層３０と上部磁極２４とは重複する位置にある
から、上部磁極２４と重複しないよう放熱層３０を迂回
する配置として設ける。本実施形態の磁気ヘッドでは、
コイル２２と放熱層３０がきわめて接近して配置されて
いるから、コイル２２からの発熱が効率的に放熱層３０
に伝達され、放熱層３０を介してスライダー１０の媒体
４０との対向面から放散される。
【００１４】図５、６は磁気ヘッドの第３の実施形態に
ついての構成を示す。本実施形態に係る磁気ヘッドは、
コイル２２と同一の層に放熱層３０を設けたことを特徴
とする。本実施形態においても、放熱層３０はスライダ
ー１０の端面と平行に、記録再生用の素子が形成される
領域を超えて延びるように形成される。放熱層３０の端
面がスライダー１０の浮上面で露出するように設けるこ
とも上記実施形態と同様である。なお、放熱層３０とコ
イル２２とは重複する位置にあるからコイル２２の配置
位置とまったく同一の層に形成する際には、コイル２２
と干渉しないように放熱層３０を形成する必要がある。
図７はコイル２２と放熱層３０との配置を平面方向から
見た状態を示す。この例では、放熱層３０はコイル２２
の外側位置にコイル２２に沿った配置で形成されてい
る。
【００１５】図７では、放熱層３０を形成した際に、放
熱層３０の端部３１をスライダー１０の研削面Ｃよりも
延出するように形成した状態を示す。このように放熱層
３０を形成しておくことにより、スライダー１０を研削
して浮上面を形成する際に、浮上面に放熱層３０の端面
を露出させることができる。本実施形態のように、コイ
ル２２と同一層に放熱層３０を形成する際には、コイル
２２をパターン形成する工程で同時に放熱層３０を形成
することができるという利点がある。コイル２２と放熱
層３０とを同時形成する方法であれば、記録再生用の素
子を形成する従来の加工工程で形成でき、余分の加工工
程を加える必要がない。また、コイル２２と同時にパタ
ーン形成する方法であれば、コイル２２と放熱層３０と
の相互の位置ずれをコイル２２と放熱層３０とを別個に
形成する場合にくらべて、相互の位置ずれをはるかに小
さくできるから、コイル２２と放熱層３０との間隔を狭
くすることができ、これによってコイル２２から放熱層
３０への熱の伝達を良好にして磁気ヘッドの熱放散性を
向上させることが可能となる。
【００１６】なお、図６に示すように、上層のコイル２
２ｂと下層のコイル２２ａとの間に放熱層３０を配置す
る構成とすることも可能である。この場合は、下層のコ
イル２２を形成した後、放熱層３０を形成し、次いで上
層のコイル２２を形成することになる。下層のコイル２
２と上層のコイル２２との間に絶縁層を設けることによ
って上層のコイル２２と下層のコイル２２にきわめて接
近した配置でかつ、電気的に絶縁して放熱層３０を設け
ることができる。この場合も、コイル２２と放熱層３０
とがきわめて接近した配置となることで、コイル２２か
ら効率的に熱放散させることができる。放熱層３０がコ
イル２２や上部磁極２４等と接しないように配置するこ
と、放熱層３０の端部がスライダー１０の浮上面で露出
するように端部を浮上面側に延出して形成することも同
様である。
【００１７】図８、９は磁気ヘッドの第４の実施形態に
ついての構成を示す。本実施形態に係る磁気ヘッドは、
コイル２２と下部磁極２０との間に放熱層３０を設けた
ことを特徴とする。本実施形態においても、放熱層３０
はスライダー１０の端面と平行に、記録再生用の素子が
形成される領域を超えて延びるように形成される。ま
た、放熱層３０の端面がスライダー１０の浮上面で露出
するように設ける。本実施形態の磁気ヘッドもコイル２
２にきわめて接近した配置で放熱層３０を設けたことを
特徴とする。放熱層３０とコイル２２とをきわめて接近
した配置としてことにより、コイル２２から効率的に放
熱層３０に熱が伝達され、コイル２２からの熱放散性を
向上させることができる。スライダー１０の媒体４０に
対向する面は空気流によって冷却されているから、コイ
ル２２から放熱層３０に伝達された熱は放熱層３０の端
面から効率的に放散される。
【００１８】図１０、１１は磁気ヘッドの第５の実施形
態についての構成を示す。本実施形態に係る磁気ヘッド
は、下部シールド層１６とアルチック基板１２との間の
アルミナ絶縁層１４中に放熱層３０を設けたことを特徴
とする。放熱層３０はアルミナ絶縁層１４により下部シ
ールド層１６とアルチック基板１２とに絶縁されている
から、下部磁極２０やコイル２２と干渉することはな
く、単一の層として形成することができる。熱放散性を
良好にするため、スライダー１０の端面と平行に比較的
大きな面積を確保して形成することが可能である。ま
た、端面をスライダー１０の浮上面で露出するように形
成することも上記実施形態と同様である。本実施形態の
磁気ヘッドの場合は、コイル２２あるいはＭＲ素子形成
層１８からの発熱は下部シールド層１６を経由して厚さ
方向に伝達し、放熱層３０から放散される。
【００１９】図１２、１３は磁気ヘッドの第６の実施形
態についての構成を示す。本実施形態に係る磁気ヘッド
は記録再生用の素子部分に放熱層を複数個設けた例とし
て、上部磁極２４を被覆するアルミナの保護層２６中に
第１の放熱層３０ａを設け、下部シールド層１６とアル
チック基板１２との間のアルミナ絶縁層１４中に第２の
放熱層３０を設けたものを示す。第１の放熱層３０ａと
第２の放熱層３０ｂの構成は、第１の実施形態と第５の
実施形態における放熱層３０の構成と同様である。本実
施形態の磁気ヘッドにおいては、第１の放熱層３０ａと
第２の放熱層３０ｂの双方から熱放散されることから、
ＭＲ素子形成層１８及びコイル２２から発生する熱を効
率的に放散することが可能となる。
【００２０】本発明に係る磁気ヘッドは、磁気ヘッドの
記録再生用の素子部分に放熱層３０を設けたことを特徴
とする。図１４〜１６は記録再生用の素子を形成する工
程中で放熱層３０を形成する一例として、コイル２２と
上部磁極２４との間に放熱層３０を形成する場合を説明
する。図１４(a)は、アルチック基板１２、アルミナ絶
縁層１４、下部シールド層１６、ＭＲ素子形成層１８を
形成した後、下部磁極２０を形成した状態である。下部
シールド層１６、ＭＲ素子形成層１８等の各層の形成方
法は従来例と同様であるから説明は省略する。下部磁極
２０は、ＭＲ素子形成層１８の表面に感光性レジストを
塗布し、露光及び現像によりＭＲ素子形成層１８の表面
で下部磁極２０を形成する部位を露出させた後、めっき
を施して下部磁極２０を形成し、エッチングにより感光
性レジストを除去することによって形成できる。下部磁
極２０はたとえば、ＮｉＦｅのめっきによって形成する
ことができる。
【００２１】図１４(b)は、下部磁極２０の表面上に下
部磁極２０とコイル２２とを電気的に絶縁するための絶
縁層２１ａを形成する工程である。下部磁極２０の表面
に感光性レジストを塗布し、露光及び現像により絶縁層
２１ａを形成する部位を露出した後、アルミナのスパッ
タリングにより絶縁層２１ａを形成し、感光性レジスト
をリフトオフして絶縁層２１ａを形成する。図１４(c)
は、絶縁層２１ａの表面に下層のコイル２２ａを形成す
る工程である。絶縁層２１ａの表面に無電解銅めっきに
より、めっき給電用の薄い銅めっき層を形成した後、感
光性レジストを塗布し、露光及び現像によりコイル２２
ａを形成するパターン部分を露出させた後、銅めっきを
施してコイル２２ａとなる導体部分を形成する。次い
で、感光性レジストをエッチングにより除去した後、イ
オンミリングによりめっき給電用の薄い銅めっき層を除
去し、絶縁層２１ａの表面に所定パターンのコイル２２
ａを形成する。
【００２２】図１４(d)は、下層のコイル２２ａと上層
のコイル２２ａとの間の絶縁層２３ａを形成する工程で
ある。コイル２２ａおよび絶縁層２１ａを被覆するよう
に感光性レジストを塗布し、露光及び現像によりレジス
トをパターニングした後、レジストをハードベーキング
して絶縁層２３ａを形成する。図１４(e)は、絶縁層２
３ａの上に上層のコイル２２ｂを形成する工程である
（図はＭＲ素子形成層１８以下を省略している）。上層
のコイル２２ｂも下層のコイル２２ａと同様の工程によ
って形成する。すなわち、 絶縁層２３ａの表面にめっ
き給電用の薄い銅めっき層を形成した後、感光性レジス
トを塗布し、露光及び現像を施しコイル２２ｂを形成す
る部位を露出させた後、銅めっきを施し、感光性レジス
トを除去し、めっき給電用の銅めっき層を除去すること
によってコイル２２ｂを形成する。
【００２３】図１４(f)は、コイル２２ｂの上層に絶縁
層２３ｂを形成する工程である。絶縁層２３ｂも絶縁層
２３ａと同様に形成する。すなわち、コイル２２ｂと絶
縁層２３ａを被覆するように感光性レジストを塗布し、
露光及び現像によりレジストをパターニングした後、レ
ジストをハードベーキングすることによって絶縁層２３
ｂを形成する。図１４(g)は、絶縁層２３ｂの表面に放
熱層３０を形成する工程である。放熱層３０は本実施形
態では銅めっきによって形成する。絶縁層２３ｂの表面
に感光性レジストを塗布し、露光及び現像により、形成
すべき放熱層３０のパターン部分の絶縁層２３ｂを露出
させ、銅めっきを施すことによって放熱層３０を形成す
る。図１５は放熱層３０を形成した状態の断面図であ
る。放熱層３０は上部磁極２４、コイル２２等と接触し
ない配置となるようパターン形成する。また、放熱層３
０は放熱面積を確保するため、記録再生用の素子部の領
域を超えてスライダー１０の端面と平行に延出させて形
成する。また、放熱層３０を形成した時点では、図７に
示すように最終的に研削して形成するスライダー１０の
浮上面よりも外側まで端部を延出させて形成し、浮上面
を研削することによって放熱層３０の端面がスライダー
１０の浮上面に露出するようにする。
【００２４】なお、放熱層３０は記録再生用の素子部分
に形成されるＭＲ素子およびコイル２２からの発熱を効
率的に放散させるためのものであるから、銅等の熱伝導
性の良いものが好適に使用できる。放熱層３０としては
少なくとも、絶縁層１４、２１ａに使用するアルミナよ
りも熱伝導性の良いものを使用することが有効である。
また、コイル２２と同一の層に放熱層３０を形成すると
いった場合には、銅めっきによってコイル２２を形成す
る際に同時に放熱層３０をパターン形成することにより
１回の工程で放熱層３０を合わせて形成することができ
て作業が効率的になる。
【００２５】図１６(a)は、放熱層３０の上に絶縁層２
３ｃを形成する工程である。放熱層３０および下層の絶
縁層２３ｂを被覆するように感光性レジストを塗布し、
露光及び現像によりレジストをパターニングした後、レ
ジストをハードベーキングして絶縁層２３ｃを形成す
る。図１６(b)は、上部磁極２４を形成する工程であ
る。上部磁極２４は絶縁層２３ｃの表面に感光性レジス
トを塗布し、露光及び現像により上部磁極２４を形成す
る部位を露出するようにパターニングした後、ＮｉＦｅ
めっきを施して上部磁極２４となる磁気抵抗部を形成
し、感光性レジストを除去することによって上部磁極２
４を形成することができる。
【００２６】図１６(c)は、最後に、記録再生用の素子
部の外面にアルミナをスパッタリングして記録再生用の
素子部分を保護層２６によって被覆した状態である。こ
うして、記録再生用の素子部分に放熱層３０を備えた磁
気ヘッドが得られる。前述した各実施形態で示したよう
に、放熱層３０は記録再生用の素子の適宜層に形成して
素子からの熱放散を向上させることが可能である。上述
したように、記録再生用の素子は順次成膜して形成する
から、放熱層３０の形成する層により、素子の成膜工程
と合わせて放熱層３０を形成することができる。
【００２７】なお、上記実施形態では、放熱層３０はス
ライダー１０の浮上面にその端面を露出させる形態とし
たが、スライダー１０の浮上面に放熱層３０の端面に連
結させて放熱面を設けることにより、さらに熱放散性を
向上させた構成とすることも可能である。放熱面は、素
子を成膜して形成する際に、スライダー１０の浮上面と
なる面に銅等の熱伝導性の良好な材料をスパッタリング
あるいはめっき等を施して一定面積の放熱面が確保でき
るようにする方法、あるいは、研削加工して浮上面を形
成した後、放熱面を形成する部位をパターニングし、ス
パッタリングあるいはめっき等を施して形成する方法等
によって形成することができる。
【００２８】図１７は、本発明に係る放熱層を備えた磁
気ヘッドと従来の放熱層を有しない磁気ヘッドとの発熱
量を比較したグラフである。素子に流す電流が増大する
とともに素子からの発熱量は増大するが、本発明に係る
放熱層を備えた磁気ヘッドによれば、素子から発生する
熱を効率的に放散させることによって、従来の磁気ヘッ
ドにくらべて磁気ヘッドの温度上昇を抑えることができ
る。コイルを単層の１ターンとしたモデルでの計算によ
ると、放熱層を設けることによってコイルの温度上昇を
約１０％程度抑えることが可能であり、最高温度で約５
％の改善が可能となる。
【００２９】
【発明の効果】本発明に係る磁気ヘッドによれば、上述
したように、磁気ヘッドの記録再生用の素子に放熱層を
設けたことにより、記録再生用の素子から発生する熱を
効果的に放散させることができ、磁気ヘッドの温度上昇
を抑えて信頼性の高い磁気ヘッドとして提供することが
でき、大容量化している磁気ディスク装置等に好適に使
用できる磁気ヘッドとして提供することができる。ま
た、再生用の素子あるいはコイル、磁極等に接触しない
配置とすることで磁気ヘッドの電磁変換特性に及ぼす影
響を防止することができる。また、成膜工程によって記
録再生用の素子を製造する加工工程で放熱層を形成でき
ることから、従来の製造装置を利用して製造できる等の
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】磁気ヘッドの第１の実施形態の断面図である。
【図２】磁気ヘッドの第１の実施形態の側面断面図であ
る。
【図３】磁気ヘッドの第２の実施形態の断面図である。
【図４】磁気ヘッドの第２の実施形態の側面断面図であ
る。
【図５】磁気ヘッドの第３の実施形態の断面図である。
【図６】磁気ヘッドの第３の実施形態の側面断面図であ
る。
【図７】放熱層とコイルの平面配置を示す平面図であ
る。
【図８】磁気ヘッドの第４の実施形態の断面図である。
【図９】磁気ヘッドの第４の実施形態の側面断面図であ
る。
【図１０】磁気ヘッドの第５の実施形態の断面図であ
る。
【図１１】磁気ヘッドの第５の実施形態の側面断面図で
ある。
【図１２】磁気ヘッドの第６の実施形態の断面図であ
る。
【図１３】磁気ヘッドの第６の実施形態の側面断面図で
ある。
【図１４】磁気ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図１５】放熱層の形成例を示す断面図である。
【図１６】磁気ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図１７】磁気ヘッドの発熱量を示すグラフである。
【図１８】磁気ヘッドの従来の構成を示す断面図であ
る。
【図１９】磁気ヘッドの従来の構成を示す側面断面図で
ある。
【図２０】磁気ヘッドの記録用のコイルを示す平面図で
ある。
【符号の説明】
１０ スライダー １２ アルチック基板 １４ アルミナ絶縁層 １６ 下部シールド層 １８ ＭＲ素子形成層 ２０ 下部磁極 ２２ コイル ２４ 上部磁極 ２６ 絶縁層 ３０、３０ａ、３０ｂ 放熱層 ４０ 媒体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5D033 BA71 BB14 BB43 CA07 5D034 BA21 BB12 CA02

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 再生用の素子及びシールド層、記録用の
    コイル及び磁極を備えた磁気ヘッドにおいて、 前記素子あるいはコイルの近傍に、素子、シールド層、
    コイル及び磁極に接触しない配置で、層間を絶縁する絶
    縁層に用いられる材料よりも高熱伝導率の材料を用い
    て、端面がスライダーの浮上面に露出する放熱層が設け
    られていることを特徴とする磁気ヘッド。
  2. 【請求項２】 放熱層が、コイルと同一の層に設けられ
    ていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
  3. 【請求項３】 放熱層が、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃ
    ｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ａｌを１種類以上含んだ非磁性材料に
    よって形成されていることを特徴とする請求項１または
    ２記載の磁気ヘッド。
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