JP2003043496A

JP2003043496A - 電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法、

Info

Publication number: JP2003043496A
Application number: JP2001228450A
Authority: JP
Inventors: Reiko Wachi; 礼子和智
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2001-07-27
Filing date: 2001-07-27
Publication date: 2003-02-13

Abstract

(57)【要約】【課題】電気光学物質を保持する基板にプラスチック
基板を用いても基板間隔を高い精度で制御することので
きる電気光学装置、この電気光学装置を用いた電子機
器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】反射型の液晶装置１において、第１の基
板１０および第２の基板２０にはプラスチック基板１０
０、２００が用いられている。第１の基板１０では、プ
ラスチック基板１００自身から突き出して第２の基板２
０に当接する複数の基板間隔制御用突起１１１が円柱状
に形成されており、これらの基板間隔制御用突起１１１
によって、第１の基板１０と第２の基板２０との間には
所定の間隔が確保されている。また、プラスチック基板
１００には、反射膜１２３の表面に光散乱性を付与する
ための凹凸１１２も形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の基板間に電
気光学物質が保持された電気光学装置、この電気光学装
置を用いた電子機器、および電気光学装置の製造方法に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】各種の電気光学装置のうち、電気光学物
質として液晶を用いた液晶装置では、図１１（Ａ）、
（Ｂ）に示すように、第１の基板１０と第２の基板２０
とがシール材３０によって貼り合わされているととも
に、シール材３０で区画された領域内に液晶３６が保持
されている。第１の基板１０および第２の基板２０に
は、従来、ガラス基板１０９、２０９が用いられてい
る。

【０００３】ここで、パッシブマトリクス型の液晶装置
では、第１の基板１０および第２の基板１０に第１の電
極パターン５０および第２の電極パターン４０がＩＴＯ
などといった透明導電膜によってストライプ状に形成さ
れており、第１の電極パターン５０と第２の電極パター
ン４０の交差部分で液晶３６を駆動する。

【０００４】また、液晶装置では、液晶３６の層厚を一
定とする必要があることから、第１の基板１０と第２の
基板２０とを貼り合わせる際、一方の基板にビーズ状あ
るいはファイバー状のギャップ材３００を散布し、この
ギャップ材３００を第１の基板１０と第２の基板２０と
の間に介在させることによって基板間隔を制御してい
る。

【０００５】また、液晶装置のうち、反射型あるいは半
透過・半反射型の液晶装置では、第１の基板１０に用い
られているガラス基板１０９の表面に、フッ酸などを用
いて凹凸１１２′を形成しておき、この凹凸１１２′の
表面に反射膜１２３、平坦化膜１２５、および第１の電
極パターン５０がこの順に形成される。このため、反射
膜１２３の表面には、凹凸１１２′によって光散乱性が
付与されるので、品位の高い画像を表示することができ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】液晶装置が携帯電話機
あるいはモバイルコンピュータなどに使用されている状
況において、液晶装置についてはガラス基板１０９、２
０９に代えて、プラスチック基板を用いることにより、
液晶装置あるいは電子機器を軽量化することが検討され
ている。

【０００７】しかしながら、ガラス基板１０９、２０６
９に代えてプラスチック基板を用いると、プラスチック
基板が撓んだとき、第１の基板１０と第２の基板２０と
の間でギャップ材３００が移動してしまい、第１の基板
１０と第２の基板２０との間隔を高い精度で制御できな
くなるという問題点がある。

【０００８】また、従来の液晶装置において、シール材
３０から溶出した成分が液晶３６の配向状態を乱すおそ
れがあり、このような場合には、シール材３０付近での
画質が低下するという問題点もある。

【０００９】さらに、従来の液晶装置においては、反射
型あるいは半透過・半反射型の液晶装置を構成する際、
いくつも工程を行ってガラス基板１０９の表面に凹凸１
１２′を付すため、製造コストが高いという問題点があ
る。

【００１０】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
電気光学物質を保持する基板にプラスチック基板を用い
ても基板間隔を高い精度で制御することのできる電気光
学装置、この電気光学装置を用いた電子機器、および電
気光学装置の製造方法を提供することにある。

【００１１】また、本発明の課題は、基板にプラスチッ
ク基板を用いたことを利用して、さらに画像の高品位化
を図ることのできる電気光学装置、この電気光学装置を
用いた電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供
することにある。

【００１２】さらに本発明の課題は、基板にプラスチッ
ク基板を用いたことを利用して、反射膜に光散乱性を付
す際の製造コストを低減することのできる電気光学装
置、この電気光学装置を用いた電子機器、および電気光
学装置の製造方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、シール材によって対向するように貼り
合わされた一対の基板と、該一対の基板間で前記シール
材によって区画された領域内に保持された電気光学物質
とを有する電気光学装置において、前記一対の基板のう
ち一方の基板にはプラスチック基板が用いられ、当該一
方の基板において、他方の基板と対向する側の面には、
当該他方の基板に当接する突起がプラスチック基板自身
に形成されていることを特徴とする。

【００１４】本発明において、前記突起は、例えば、前
記一方の基板と前記他方の基板との間隔を規定する複数
の基板間隔制御用突起として点在した状態に形成されて
いる。

【００１５】本発明では、電気光学物質を保持する一対
の基板のうちの少なくとも一方の基板にプラスチック基
板を用いているので、液晶装置、およびそれを用いた電
子機器の軽量化を図ることができる。また、一方の基板
に用いたプラスチック基板自身に他方の基板に当接する
突起を形成しており、このような突起であれば、常に最
適な位置に形成することができるので、一対の基板の間
隔を高い精度で制御できる。さらに、プラスチック基板
自身に形成した突起であれば、プラスチック基板が撓ん
でも、ギャップ材と違って基板間で移動することがない
ので、一対の基板の間隔を高い精度で制御することがで
きる。さらにまた、突起は、プラスチック基板自身に形
成したものであり、プラスチック基板の表面に成膜した
薄膜によって形成したものではないので、一方の基板に
突起を形成するといってもコストが増大することがな
い。また、一方の基板に基板間隔制御用突起を作り込ん
だので、ギャップ材を散布する工程を省略することがで
きる。それ故、電気光学装置の製造コストを低減するこ
とができる。

【００１６】本発明において、前記突起は、前記シール
材の内周縁に沿って形成された仕切り壁としても形成さ
れる場合があり、この場合、該仕切り壁は、前記シール
材で区画された領域内で前記電気光学物質が保持されて
いる領域を区画する。このように構成すると、電気光学
物質とシール材との間に仕切り壁が介在するので、シー
ル材から溶出した成分で電気光学物質が劣化することが
ない。また、仕切り壁は、プラスチック基板自身に形成
したものであり、プラスチック基板の表面に成膜した薄
膜によって形成したものではない。それ故、一方の基板
に仕切り壁を形成するといってもコストが大幅に増大す
ることがない。

【００１７】本発明において、前記一方の基板には、前
記他方の基板に対向する側の面のうち、前記突起が形成
された領域とは異なる領域に凹凸がプラスチック基板自
身に形成されているとともに、前記凹凸が形成されてい
る領域の上層側には、前記凹凸によって表面に光散乱性
が付与された反射膜が形成されていることが好ましい。
このように構成すると、散乱光によって画像を表示する
ので、表示された画像に背景や照明などが映り込んだり
することを回避することができる。また、凹凸はプラス
チック基板自身に形成したものであり、プラスチック基
板の表面に成膜した薄膜によって形成したものではな
い。それ故、一方の基板に凹凸を形成するといってもコ
ストが大幅に増大することがない。なお、一方の基板で
は、反射膜自身を電極として利用すれば、その上層側に
電極を形成しなくてもよいので、製造コストを低減する
ことができる。これに対して、他方の基板にはＩＴＯ膜
などによって電極を形成する一方、一方の基板では反射
膜の上層にＩＴＯ膜などによって電極を形成すれば、双
方の電極が同一材料であるため、電気光学物質が極性分
極することを防止することができる。

【００１８】本発明において、前記他方の基板にもプラ
スチック基板が用いられていることが好ましい。

【００１９】本発明において、前記他方の基板には、前
記一方の基板と対向する側の面に、前記突起が嵌る凹部
が形成されていることが好ましい。このように構成する
と、プラスチック基板が撓んでも一対の基板の間での互
いの位置関係がずれることがない。この場合、前記他方
の基板にもプラスチック基板が用いられ、該プラスチッ
ク基板自身に前記凹部が形成されていることが好まし
い。このように構成すると、凹部は、他方の基板に用い
たプラスチック基板自身に形成したものであり、このプ
ラスチック基板の表面に成膜した薄膜によって形成した
ものではない。それ故、他方の基板に凹部を形成すると
いってもコストが大幅に増大することがない。

【００２０】本発明において、前記電気光学物質は、例
えば、液晶である。

【００２１】本発明に係る電気光学装置は、例えば、携
帯電話機あるいはモバイルコンピュータなどといった電
子機器の表示部として用いられる。

【００２２】本発明では、シール材によって対向するよ
うに貼り合わされた一対の基板と、該一対の基板間で前
記シール材によって区画された領域内に保持された電気
光学物質とを有する電気光学装置の製造方法において、
前記一対の基板のうち一方の基板には、複数の突起が形
成されたプラスチック基板を用い、前記一方の基板と他
方の基板とを貼り合わせるときには、前記突起が前記他
方の基板に当接するように貼り合わせることを特徴とす
る。

【００２３】本発明においては、前記複数の突起を、例
えば、前記一方の基板と前記他方の基板との間隔を規定
する基板間隔制御用突起として点在した状態に形成す
る。

【００２４】本発明において、前記複数の突起を前記シ
ール材の塗布領域の内周縁に沿う仕切り壁としても形成
しておくことが好ましく、この場合、前記一方の基板と
他方の基板とを前記シール材によって貼り合わせた後、
前記シール材によって区画された領域のうち、前記仕切
り壁で区画された領域内に前記電気光学物質を充填す
る。

【００２５】本発明において、前記一方の基板に用いる
プラスチック基板に前記突起を形成する工程では、前記
突起に対応する位置が凹部になった第１の型材を用い、
該第１の型材の凹凸形状をプラスチック基板に転写する
ことが好ましい。例えば、前記第１の型材としては、ロ
ール面に前記凹凸形状が形成されたロール状の型材を用
いる。また、前記第１の型材としては、平坦面に前記凹
凸形状が形成された平板状の型材を用いてもよい。この
場合、前記第１の型材によってプラスチックフィルムを
熱圧してプラスチック基板を形成する。また、第１の型
材によって、溶融したプラスチック材料を成形してプラ
スチック基板を形成してもよい。このような方法によれ
ば、プラスチック基板に突起を高い寸法精度および位置
精度で形成することができる。また、突起が形成された
プラスチック基板を連続的に製造できるので、電気光学
装置の製造コストを低減することができる。

【００２６】本発明において、前記一方の基板に用いる
プラスチック基板には、前記突起が形成された領域とは
異なる領域に凹凸を形成しておき、該凹凸が形成されて
いる領域の上層側に、前記凹凸によって表面に光散乱性
が付与された反射膜を形成することが好ましい。

【００２７】このような電気光学装置を製造する際、前
記一方の基板に用いるプラスチック基板に前記突起およ
び前記凹凸を形成する工程では、前記突起に対応する位
置が凹部になっており、かつ、前記凹凸の反転パターン
が形成された第１の型材を用い、該第１の型材の凹凸形
状をプラスチック基板に転写することが好ましい。例え
ば、前記第１の型材としては、ロール面に前記凹凸形状
が形成されたロール状の型材を用いる。また、前記第１
の型材としては、平坦面に前記凹凸形状が形成された平
板状の型材を用いてもよい。この場合、前記第１の型材
によってプラスチックフィルムを熱圧してプラスチック
基板を形成する。また、第１の型材によって、溶融した
プラスチック材料を成形してプラスチック基板を形成し
てもよい。このような方法によれば、プラスチック基板
に任意の寸法の突起および凹凸を任意の位置に同時に形
成でき、かつ、寸法精度および位置精度も高い。また、
突起および凹凸が形成されたプラスチック基板を連続的
に製造できるので、電気光学装置の低コスト化を図るこ
とができる。

【００２８】本発明において、前記他方の基板の一方の
面側に凹部を形成しておき、前記一方の基板と前記他方
の基板とを前記シール材によって貼り合わせる際に前記
凹部内に前記突起を嵌めることが好ましい。

【００２９】この場合、前記他方の基板にもプラスチッ
ク基板を用い、該プラスチック基板自身に前記凹部を形
成しておくことが好ましい。

【００３０】本発明では、前記他方の基板に用いるプラ
スチック基板に前記凹部を形成する工程においては、前
記凹部に対応する位置が凸部になった第２の型材を用
い、該第２の型材の凹凸形状をプラスチック基板に転写
することが好ましい。例えば、前記第２の型材として
は、ロール面に前記凹凸形状が形成されたロール状の型
材を用いる。また、前記第２の型材としては、平坦面に
前記凹凸形状が形成された平板状の型材を用いてもよ
い。この場合、前記第２の型材によってプラスチックフ
ィルムを熱圧してプラスチック基板を形成する。また、
第２の型材によって、溶融したプラスチック材料を成形
してプラスチック基板を形成してもよい。このような方
法によれば、プラスチック基板に任意の寸法の凹部を形
成でき、かつ、寸法精度や位置精度も高い。また、凹部
が形成されたプラスチック基板を連続的に製造できるの
で、電気光学装置の低コスト化を図ることができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明の実施の
形態を説明する。なお、以下に実施形態を説明するにあ
たっては、各種の電気光学装置のうち、パッシブマトリ
クス方式の液晶装置を例に説明する。

【００３２】［実施の形態１］（液晶装置の全体構成）
図１および図２はそれぞれ、本発明を適用した電気光学
装置としての液晶装置の斜視図、および分解斜視図であ
る。図３は、本発明を適用した液晶装置を図１のＩ−
Ｉ′線で切断したときのＩ側の端部の断面図である。な
お、図１、図２、および後述する各図には、電極パター
ンおよび端子などを模式的に示してあるだけであり、実
際の液晶装置では、より多数の電極パターンや端子が形
成されている。また、各図においては、各層や各部材を
図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各
部材ごとに縮尺を異ならせてある。

【００３３】図１および図２において、本形態の液晶装
置１は、携帯電話などの電子機器に搭載されているパッ
シブマトリクスタイプの反射型の液晶表示装置である。
この液晶装置１において、所定の間隙を介してシール材
３０によって貼り合わされた第１の基板１０および第２
の基板２０の間には、シール材３０によって液晶封入領
域３５が区画されているとともに、この液晶封入領域３
５内に電気光学物質としての液晶３６が封入されてい
る。シール材３０の一部は、基板間に液晶３６を注入す
るための注入口３２として途切れているが、この注入口
３２は、基板間に液晶３６を注入した後、塗布、硬化さ
れた封止材３１で塞がれている。

【００３４】（電極パターンおよび端子の構成）本形態
の液晶装置１では、外部からの信号入力および基板間の
導通のいずれを行うにも、第１の基板１０および第２の
基板２０の同一方向に位置する各基板辺１０１、２０１
付近において第１の基板１０および第２の基板２０のそ
れぞれに形成されている第１の端子形成領域１１および
第２の端子形成領域２１が用いられる。従って、第１の
基板１０としては、第２の基板２０よりも大きな基板が
用いられ、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合
わせたときに第２の基板２０の基板辺２０１から第１の
基板１０が張り出す部分１５を利用して、駆動用ＩＣ７
をＣＯＦ実装したフレキシブル基板９０の接続などが行
われる。

【００３５】このため、第１の基板１０において第１の
端子形成領域１１は、基板辺１０１に近い部分が第２の
基板２０から張り出した部分１５に形成され、この基板
辺１０１に近い端子形成領域部分の表面は開放状態にあ
る。これに対して、第１の端子形成領域１１において液
晶封入領域３５の側に位置する部分は、第２の基板２０
の側との基板間導通用に用いられるので、第１の端子形
成領域１１のうち、液晶封入領域３５の側に位置する部
分は、第２の基板２０との重なり部分に形成されてい
る。

【００３６】また、第２の基板１０において、第２の端
子形成領域２１は、第１の基板１０の側との基板間導通
に用いられるので、第１の基板１０の第１の端子形成領
域１１と重なる領域に配置されている。

【００３７】このような接続構造を構成するにあたっ
て、第１の基板１０の第１の端子形成領域１１には、ま
ず、その中央領域に複数の第１の外部入力用端子８１が
形成され、その両側に複数の第２の外部入力用端子８２
が形成されている。また、第１の外部入力用端子８１か
らは、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせ
たときに第２の基板２０と重なる位置まで複数の基板間
導通用端子７０が基板辺１０２に向かって直線的に延び
ている。さらに、第１の基板１０において、第２の外部
入力用端子８２からは外側を回り込むように複数列の第
１の電極パターン５０が形成され、これらの第１の電極
パターン５０は、液晶封入領域３５内において基板辺１
０２、１０２と平行に延びている。

【００３８】これに対して、第２の基板２０の第２の端
子形成領域２１では、基板辺２０１に沿って複数の基板
間導通用端子６０が所定の間隔をもって並んでおり、基
板間導通用端子６０から対向する基板辺２０２に向かっ
ては、複数列の液晶駆動用の第２の電極パターン４０が
斜め外側に広がるように延びた後、基板辺２０２に向か
って直線的に延びて、第１の電極パターン５０と交差し
ている。

【００３９】このように構成した第１の基板１０および
第２の基板２０を用いて液晶装置１を構成するにあたっ
て、第１の基板１０と第２の基板２０とをシール材３０
を介して貼り合わせる際には、シール材３０にギャップ
材および導通材を配合しておくとともに、シール材３０
を基板間導通用端子６０、７０が重なる領域にも形成す
る。シール材３０に含まれる導電材は、たとえば、弾性
変形可能なプラスチックビーズの表面にめっきを施した
粒子である。それ故、第１の基板１０と第２の基板２０
とを重ねた状態でその間隙を狭めるような力を加えなが
らシール材３０を溶融、硬化させると、シール材３０に
含まれている導電材は、第１の基板１０と第２の基板２
０との間で押し潰された状態で基板間導通用端子６０、
７０同士を導通させる。

【００４０】また、第１の基板１０と第２の基板２０と
を貼り合わせると、第１の電極パターン５０と第２の電
極パターン４０との交差部分によって画素がマトリクス
状に形成される。このため、第１の基板１０の第１の端
子形成領域１１に形成されている第１の外部入力用端子
８１および第２の外部入力用端子８２にフレキシブル基
板９０を異方性導電材などを用いて実装した後、このフ
レキシブル基板９０を介して第１の外部入力用端子８１
および第２の外部入力用端子８２に信号入力すると、第
１の基板１０に形成されている第１の電極パターン５０
には第２の外部入力用端子８２を介して走査信号を直
接、印加することができ、かつ、第２の基板２０に形成
されている第２の電極パターン４０には、第１の外部入
力用端子８１、基板間導通用端子７０、導通材および基
板間導通用端子６０を介して画像データを信号入力する
ことができる。よって、これらの画像データおよび走査
信号によって、各画素において第１の電極パターン５０
と第２の電極パターン４０との間に位置する液晶の配向
状態を制御することができるので、所定の画像を表示す
ることができる。

【００４１】（基板の詳細構成）図３（Ａ）、（Ｂ）は
それぞれ、本形態の液晶装置１において、第１の基板１
０および第２の基板２０がシール材３０で貼り合わされ
ているとともに、第１の基板１０に形成されている第１
の電極パターン５０と、第２の基板２０に形成されてい
る電極パターン４０との交差部分によって画素がマトリ
クス状に形成されている状態を模式的に示す平面図、お
よびその断面図である。なお、図３（Ａ）では、遮光膜
の形成領域を斜線で示してある。

【００４２】図３（Ａ）、（Ｂ）において、本形態で
は、第１の基板１０および第２の基板２０のいずれに
も、プラスチック基板１００、２００が用いられてい
る。ここで、プラスチック基板１００、２００は、プラ
スチック層単独の場合、複数のプラスチック層が積層さ
れたもの、プラスチック層と薄い金属層とがラミネート
されたものを用いることができる。

【００４３】第２の基板２０では、プラスチック基板２
００において第１の基板１０と対向する側の面に、ＩＴ
Ｏ膜などの透明導電膜によって第２の電極パターン４０
が形成されているとともに、その表面には、ポリイミド
膜からなる配向膜４１が形成されている。

【００４４】これに対して、第１の基板１０では、プラ
スチック基板１００において第２の基板２０と対向する
側の面に、まず、プラスチック基板１００自身から突き
出して第２の基板２０に当接する複数の基板間隔制御用
突起１１１が円柱状に形成されており、これらの基板間
隔制御用突起１１１によって、第１の基板１０と第２の
基板２０との間には所定の間隔が確保されている。この
ため、本形態では、従来と違って、第１の基板１０と第
２の基板２０との間にギャップ材が配置されていない。
ここで、基板間隔制御用突起１１１は、第１の電極パタ
ーン５０と電極パターン４０との交差部分を避ける位置
に点在する状態に形成されている。

【００４５】また、第１の基板１０では、プラスチック
基板１００において第２の基板２０と対向する側の面の
うち、基板間隔制御用突起１１１が形成されている領域
を避けて微細な凹凸１１２がプラスチック基板１００自
身に形成されている。本形態では、第１の電極パターン
５０と第２の電極パターン４０とが交差する領域に凹凸
１１２が形成されている。

【００４６】第１の基板１０において、凹凸１１２の上
層にはアルミニウムなどといった反射膜１２３が形成さ
れている。このため、反射膜１２３の表面には、凹凸１
１２によって微細な凹凸が形成され、この凹凸によって
光散乱性が付与されている。

【００４７】また、反射膜１２３の表面には、第１の電
極パターン５０と電極パターン４０との交差部分を避け
て遮光膜１２４が形成されている一方、第１の電極パタ
ーン５０と電極パターン４０との交差部分には、Ｒ、
Ｇ、Ｂのカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが所定の配列
をもって形成されている。

【００４８】さらに、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ
の上層には平坦化膜１２５が形成され、この平坦化膜１
２５の上層に、ＩＴＯ膜からなる第１の電極パターン５
０がストライプ状に形成されている。さらに、第１の電
極パターン５０の表面には、ポリイミド膜からなる配向
膜１２６が形成されている。

【００４９】このような液晶装置１において、第２の基
板２０の側から入射した光は、第１の基板１０に形成さ
れている反射膜１２３で反射して、第２の基板２０の側
から出射していく間に液晶３６によって画素毎に光変調
され、所定のカラー画像を表示する。この際、第２の基
板２０から出射される光は、反射膜１２３の表面で散乱
した光であるため、表示された画像に背景や照明などが
映り込んだりすることを回避することができる。なお、
反射膜１２３自身を電極パターンとして利用してもよい
が、本形態では、第２の基板２０に形成されている第２
の電極パターン４０と同様、第１の基板１０には、ＩＴ
Ｏ膜からなる第１の電極パターン５０を形成したので、
双方の電極が同一材料であるため、液晶３６が極性分極
することを防止することができる。

【００５０】（液晶装置の製造方法）図４（Ａ）〜
（Ｅ）は、本形態の液晶装置の製造方法を示す工程断面
図である。図５（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本形態の液
晶装置に用いたプラスチック基板を製造するための装置
の構成を示す説明図である。

【００５１】本形態の液晶装置１の製造工程において、
第１の基板１０を形成するにあたっては、まず、図４
（Ａ）に示すように、基板間隔制御用突起１１１および
凹凸１１２が形成されたプラスチック基板１００を準備
する。

【００５２】このようなプラスチック基板１００を製造
するにあたっては、例えば、図５（Ａ）に示すように、
繰り出しロール６１０から巻き上げロール６２０までの
間に、両面が平坦なプラスチックシート１００′を上下
から挟むように型ロール６４０およびプレスロール６３
０が配置されたロールプレス機６００を用い、このロー
ルプレス機６００において、型ロール６４０とプレスロ
ール６３０との間でプラスチックシート１００′に対し
て熱圧を施す。ここで、型ロール６４０のロール面に
は、基板間隔制御用突起１１１と対応する箇所に深い凹
部が形成されているとともに、凹凸１１２の反転パター
ンに相当する微細な凹凸が付与されている。このため、
プラスチックシート１００′には、型ロール６４０のロ
ール面に形成されている凹凸形状が反転して転写され
る。従って、ロール状に巻き上げられたプラスチックシ
ート１００′を所定の寸法に切断すれば、基板間隔制御
用突起１１１および凹凸１１２が形成されたプラスチッ
ク基板１００を得ることができる。

【００５３】また、プラスチック基板１００は、図５
（Ｂ）に示すように、プラスチックシート１００′を平
板状の型材７１０とベース７２０との間で熱プレスする
プレス機７００を用いてもよい。ここで、型材７１０に
は、基板間隔制御用突起１１１と対応する箇所に深い凹
部が形成されているとともに、凹凸１１２の反転パター
ンに相当する微細な凹凸が付与されている。このため、
プラスチックシート１００′には、型材７１０の凹凸形
状が反転して転写されるので、基板間隔制御用突起１１
１および凹凸１１２が形成されたプラスチック基板１０
０を得ることができる。

【００５４】さらに、図５（Ｂ）に示すような型材７１
０によって、溶融したプラスチック材料を成形してプラ
スチック基板１００を形成してもよい。

【００５５】次に、プラスチック基板１００には、スパ
ッタ法などによって表面全体にアルミニウム膜を形成し
た後、フォトリソグラフィ技術を用いてアルミニウム膜
をパターニングして、図４（Ｂ）に示すように、凹凸１
１２が形成されている領域に反射膜１２３を形成する。
このようにして形成した反射膜１２３の表面には、凹凸
１１２によって凹凸が形成され、光散乱性が付与され
る。

【００５６】次に、図４（Ｃ）に示すように、プラスチ
ック基板１００表面の所定領域にフォトリソグラフィ技
術を用いて遮光膜１２４を形成した後、遮光膜１２４が
形成されていない領域にＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ７
Ｒ、７Ｇ、７Ｂを形成する。このようなカラーフィルタ
７Ｒ、７Ｇ、７Ｂを形成するにあたっては、フレキソ印
刷法やインクジェット法を利用することができる。次
に、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの上層全体、ある
いは所定領域に平坦化膜１２５を形成する。

【００５７】次に図４（Ｄ）に示すように、平坦化膜１
２５の上層側全体にスパッタ法などによってＩＴＯ膜を
形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてＩＴＯ膜
をパターニングし、ストライプ状の第１の電極パターン
５０を形成する。次に第１の電極パターン５０の上層側
にポリイミド膜を塗布した後、焼成し、しかる後に、ラ
ビング処理を施して配向膜１２６を形成する。その結
果、第１の基板１０が完成する。

【００５８】このような工程を行う一方、図４（Ｅ）に
示すように、第２の基板２０を形成するためのプラスチ
ック基板２００には、フォトリソグラフィ技術を用いて
第２の電極パターン４０をストライプ状に形成した後、
その表面にポリイミド膜からなる配向膜４１を形成す
る。

【００５９】次に、第１の基板１０に対してシール材３
０を枠状に塗布した後、このシール材３０を挟むように
第１の基板１０と第２の基板２０とを重ね合わせ、この
状態でシール材３０を光硬化、あるいは熱硬化させて、
図３（Ｂ）に示すように、第１の基板１０と第２の基板
２０とを貼り合わせる。この状態で、シール材３０は、
図３（Ａ）に示すように、一部が注入口３２として途切
れているので、この注入口３２からシール材３０で区画
された領域内に液晶３６を注入した後、注入口３０に封
止材３１を塗布し、硬化させる。このようにして、液晶
装置１が完成する。

【００６０】（本形態の主な効果）以上説明したよう
に、本形態では、液晶３６を保持する第１の基板１０お
よび第２の基板２０にプラスチック基板１００、２００
を用いたので、液晶装置１、およびそれを用いた電子機
器の軽量化を図ることができる。

【００６１】また、第１の基板１０に用いたプラスチッ
ク基板１００には、第２の基板２００に当接する複数の
基板間隔制御用突起１１１が形成され、これらの基板間
隔制御用突起１１１については最適な位置に配置するこ
とができるので、第１の基板１０と第２の基板２０との
間隔を高い精度で制御できる。しかも、プラスチック基
板１００自身に基板間隔制御用突起１１１が一体に形成
されているので、ギャップ材を散布する工程を省略する
ことができる。それ故、液晶装置の製造コストを低減す
ることができる。

【００６２】さらに、プラスチック基板１００自身に基
板間隔制御用突起１１１が一体に形成され、このような
基板間隔制御用突起１１１であれば、プラスチック基板
１００、２００が撓んでも基板間で移動することがない
ので、基板間隔制御用突起１１１は、第１の基板１０と
第２の基板２０との間隔を高い精度で制御することがで
きる。

【００６３】さらにまた、基板間隔制御用突起１１１お
よび凹凸１１２は、プラスチック基板１００自身に形成
したものであり、プラスチック基板１００の表面に成膜
した薄膜などによって形成したものではない。すなわ
ち、キャスト法あるいはプレス法によってプラスチック
基板１００に基板間隔制御用突起１１１および凹凸１１
２を同時に形成するので、製造コストを低減することが
できる。

【００６４】［実施の形態２］本形態の液晶装置は、基
本的な構成が実施の形態１と同様であるため、液晶装置
の全体構成については説明を省略する。

【００６５】（基板の詳細構成）図６（Ａ）、（Ｂ）は
それぞれ、本形態の液晶装置１において、第１の基板１
０および第２の基板２０がシール材３０で貼り合わされ
ているとともに、第１の基板１０に形成されている第１
の電極パターン５０と、第２の基板２０に形成されてい
る電極パターン４０との交差部分によって画素がマトリ
クス状に形成されている状態を模式的に示す平面図、お
よびその断面図である。なお、図６（Ａ）では、図３
（Ａ）と違って、仕切り壁の位置などが明確となるよう
に遮光膜の形成領域を省略してある。

【００６６】図６（Ａ）、（Ｂ）において、本形態の液
晶装置１も、携帯電話などの電子機器に搭載されている
パッシブマトリクスタイプの反射型の液晶表示装置であ
り、本形態でも、第１の基板１０および第２の基板２０
のいずれにも、プラスチック基板１００、２００が用い
られている。

【００６７】第１の基板１０では、プラスチック基板１
００において第２の基板２０と対向する側の面に、ま
ず、プラスチック基板１００自身から突き出して第２の
基板２０に当接する複数の基板間隔制御用突起１１１が
円柱状に形成されており、これらの基板間隔制御用突起
１１１によって、第１の基板１０と第２の基板２０との
間には所定の間隔が確保されている。このため、本形態
では、従来と違って、第１の基板１０と第２の基板２０
との間にギャップ材が配置されていない。ここで、基板
間隔制御用突起１１１は、第１の電極パターン５０と電
極パターン４０との交差部分を避ける位置に形成されて
いる。

【００６８】また、第１の基板１０では、プラスチック
基板２００において第１の基板１０と対向する側の面の
うち、シール材３０の内周縁に沿って、プラスチック基
板１００自身から突き出して第２の基板２０に当接する
仕切り壁１１４が枠状に形成されており、シール材３０
で区画された領域のうち、仕切り壁１１４で区画された
領域内に液晶３６が充填、保持されている。

【００６９】また、第１の基板１０では、実施の形態１
と同様、プラスチック基板２００において第１の基板１
０と対向する側の面のうち、基板間隔制御用突起１１１
が形成されている領域を避けて微細な凹凸１１２が形成
されている。

【００７０】第１の基板１０において、凹凸１１２の上
層にはアルミニウムなどといった反射膜１２３が形成さ
れている。このため、反射膜１２３の表面には、凹凸１
１２によって微細な凹凸が形成され、光散乱性が付与さ
れている。

【００７１】また、反射膜１２３の表面には、第１の電
極パターン５０と電極パターン４０との交差部分を避け
て遮光膜１２４が形成されている一方、第１の電極パタ
ーン５０と電極パターン４０との交差部分には、Ｒ、
Ｇ、Ｂのカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが所定の配列
をもって形成されている。

【００７２】さらに、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ
の上層には平坦化膜１２５が形成され、この平坦化膜１
２５の上層に、ＩＴＯ膜からなる第１の電極パターン５
０が形成されている。さらに、第１の電極パターン５０
の表面には、配向膜１２６が形成されている。

【００７３】これ対して、第２の基板２０では、プラス
チック基板２００において第１の基板１０と対向する側
の表面に、ＩＴＯ膜などの透明導電膜によって第２の電
極パターン４０が形成されているとともに、その表面に
は配向膜４１が形成されている。

【００７４】また、第２の基板２０に用いたプラスチッ
ク基板２００には、第１の基板１０においてプラスチッ
ク基板１００から突き出ている基板間隔制御用突起１１
１および仕切り壁１１４がそれぞれ嵌る凹部２１１、２
１４が形成されている。

【００７５】（液晶装置の製造方法）図７（Ａ）〜
（Ｅ）は、本形態の液晶装置の製造方法を示す工程断面
図である。

【００７６】本形態の液晶装置１の製造工程において、
第１の基板１０を形成するにあたっては、まず、図７
（Ａ）に示すように、基板間隔制御用突起１１１、仕切
り壁１１４、および凹凸１１２が形成されたプラスチッ
ク基板１００を準備する。

【００７７】このようなプラスチック基板１００を製造
するにあたっても、実施の形態１と同様、図５（Ａ）に
示すように、繰り出しロール６１０から巻き上げロール
６２０までの間に、両面が平坦なプラスチックシート１
００′を上下から挟むように型ロール６４０およびプレ
スロール６３０が配置されたロールプレス機６００を用
い、このロールプレス機６００において、型ロール６４
０とプレスロール６３０との間でプラスチックシート１
００′に対して熱圧を施す。ここで、型ロール６４０の
ロール面には、基板間隔制御用突起１１１および仕切り
壁１１４と対応する箇所に深い凹部が形成されていると
ともに、凹凸１１２の反転パターンに相当する微細な凹
凸が付与されている。このため、プラスチックシート１
００′には、型ロール６４０のロール面に形成されてい
る凹凸形状が反転して転写される。従って、ロール状に
巻き上げられたプラスチックシート１００′を所定の寸
法に切断すれば、基板間隔制御用突起１１１、仕切り壁
１１４、および凹凸１１２が形成されたプラスチック基
板１００を得ることができる。

【００７８】また、プラスチック基板１００は、図５
（Ｂ）に示すように、プラスチックシート１００′を平
板状の型材７１０とベース７２０との間で熱プレスする
プレス機７００を用いてもよい。ここで、型材７１０に
は、基板間隔制御用突起１１１および仕切り壁１１４と
対応する箇所に深い凹部が形成されているとともに、凹
凸１１２の反転パターンに相当する微細な凹凸が付与さ
れている。このため、プラスチックシート１００′に
は、型材７１０の凹凸形状が反転して転写されるので、
基板間隔制御用突起１１１、仕切り壁１１４および凹凸
１１２が形成されたプラスチック基板１００を得ること
ができる。

【００７９】また、図５（Ｂ）に示すような型材７１０
によって、溶融したプラスチック材料を成形してプラス
チック基板１００を形成してもよい。

【００８０】このようにして得たプラスチック基板１０
０には、スパッタ法などによって表面全体にアルミニウ
ム膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてア
ルミニウム膜をパターニングして、図７（Ｂ）に示すよ
うに、凹凸１１２が形成されている領域に反射膜１２３
を形成する。このようにして形成した反射膜１２３の表
面には、凹凸１１２によって微細な凹凸が形成され、光
散乱性が付与されている。

【００８１】次に、図７（Ｃ）に示すように、プラスチ
ック基板１００表面の所定位置にフォトリソグラフィ技
術を用いて遮光膜１２４を形成した後、遮光膜１２４が
形成されていない領域にＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ７
Ｒ、７Ｇ、７Ｂを形成する。このようなカラーフィルタ
７Ｒ、７Ｇ、７Ｂを形成するにあたっても、フレキソ印
刷法やインクジェット法を利用することができる。次
に、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの上層全体、ある
いは所定領域に平坦化膜１２５を形成する。

【００８２】次に図７（Ｄ）に示すように、平坦化膜１
２５の上層側全体にスパッタ法などによってＩＴＯ膜を
形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてＩＴＯ膜
をパターニングし、ストライプ状の第１の電極パターン
５０を形成する。次に、第１の電極パターン５０の上層
側にポリイミド膜を塗布した後、焼成し、しかる後に、
ラビング処理を施して配向膜１２６を形成する。その結
果、第１の基板１０が完成する。

【００８３】このような工程を行う一方、図７（Ｅ）に
示すように、第２の基板２０を形成するためのプラスチ
ック基板２００には、フォトリソグラフィ技術を用いて
第２の電極パターン４０を形成した後、その表面にポリ
イミド膜からなる配向膜４１を形成する。

【００８４】ここで、プラスチック基板２００には、第
１の基板１０においてプラスチック基板１００から突き
出ている基板間隔制御用突起１１１および仕切り壁１１
４がそれぞれ嵌る凹部２１１、２１４が形成されてい
る。

【００８５】このようなプラスチック基板２００を製造
するにあたっても、プラスチック基板１００と同様、図
５（Ａ）に示すように、繰り出しロール６１０から巻き
上げロール６２０までの間に、プラスチックシート１０
０′を上下から挟むように型ロール６４０およびプレス
ロール６３０が配置されたロールプレス機６００を用
い、このロールプレス機６００において、型ロール６４
０とプレスロール６３０との間でプラスチックシートに
対して熱圧を施す。ここで、型ロール６４０のロール面
には、凹部２１１、２１４と対応する箇所に凸部が形成
されている。このため、プラスチックシートには、型ロ
ール６４０のロール面に形成されている凹凸形状が反転
して転写される。従って、ロール状に巻き上げられたプ
ラスチックシートを所定の寸法に切断すれば、凹部２１
１、２１４が形成されたプラスチック基板２００を得る
ことができる。

【００８６】また、プラスチック基板２００を製造する
にあたっては、図５（Ｂ）に示すように、プラスチック
シートを平板状の型材７１０とベース７２０との間で熱
プレスするプレス機７００を用いてもよい。ここで、型
材７１０には、凹部２１１、２１４と対応する箇所に凸
部が形成されている。このため、プラスチックシートに
は、型材７１０の凹凸形状が反転して転写されるので、
凹部２１１、２１４が形成されたプラスチック基板２０
０を得ることができる。

【００８７】また、図５（Ｂ）に示すような型材７１０
によって、溶融したプラスチック材料を成形してプラス
チック基板２００を形成してもよい。

【００８８】このようにして第２の基板２０を形成する
一方、第１の基板１０に対してシール材３０を塗布し、
このシール材３０を挟むように第１の基板１０と第２の
基板２０とを重ね合わせ、この状態でシール材３０を光
硬化、あるいは熱硬化させる。この際、第１の基板１０
においてプラスチック基板１００から突き出ている基板
間隔制御用突起１１１および仕切り壁１１４を、第２の
基板２０においてプラスチック基板２００に形成されて
いる凹部２１１、２１４に嵌める。

【００８９】このようにして第１の基板１０と第２の基
板２０とを貼り合わせる。この状態で、シール材３０
は、図３（Ａ）に示すように、一部が注入口３２として
途切れているので、この注入口３２からシール材３０で
区画された領域のうち、仕切り壁１１４で区画された領
域内に液晶３６を注入した後、注入口３０に封止材３１
を塗布し、硬化させる。このようにして、液晶装置１が
完成する。

【００９０】（本形態の主な効果）以上説明したよう
に、本形態の液晶装置１では、液晶３６を保持する第１
の基板１０および第２の基板２０にプラスチック基板１
００、２００を用いているので、液晶装置１、およびそ
れを用いた電子機器の軽量化を図ることができる。

【００９１】また、第１の基板１０に用いたプラスチッ
ク基板１００には、第２の基板２００に当接する複数の
基板間隔制御用突起１１１が形成され、これらの基板間
隔制御用突起１１１については最適な位置に配置するこ
とができるので、第１の基板１０と第２の基板２０との
間隔を高い精度で制御できる。しかも、プラスチック基
板１００自身に基板間隔制御用突起１１１が一体に形成
されているので、ギャップ材を散布する工程を省略する
ことができる。それ故、液晶装置１の製造コストを低減
することができる。

【００９２】さらに、プラスチック基板１００自身に基
板間隔制御用突起１１１が一体に形成され、このような
基板間隔制御用突起１１１であれば、プラスチック基板
１００、２００が撓んでも基板間で移動することがない
ので、基板間隔制御用突起１１１は、第１の基板１０と
第２の基板２０との間隔を高い精度で制御することがで
きる。

【００９３】さらにまた、シール材３０で区画された領
域のうち、仕切り壁１１４で区画された領域内に液晶３
６を充填するので、液晶３６はシール材３０と接触しな
い。従って、シール材３０から溶出した成分が液晶３６
の配向状態などを乱すことがないので、シール材３０付
近でも画質が低下しない。

【００９４】さらにまた、基板間隔制御用突起１１１、
仕切り壁１１４および凹凸１１２は、プラスチック基板
１００自身に形成したものであり、プラスチック基板１
００の表面に成膜した薄膜などによって形成したもので
はない。すなわち、キャスト法あるいはプレス法によっ
てプラスチック基板１００に基板間隔制御用突起１１１
および凹凸１１２を同時に形成するので、製造コストを
低減することができる。

【００９５】また、本形態では、第２の基板２０に用い
たプラスチック基板２００には、第１の基板１０から突
き出た基板間隔制御用突起１１１および仕切り壁１１４
が嵌る凹部２１１、１４が形成されているため、第１の
基板１０と第２の基板２０が撓んでも互いの位置関係が
ずれることがない。しかも、凹部２１１、２１４は、プ
ラスチック基板２００自身に形成したものであり、プラ
スチック基板２００の表面に成膜した薄膜などによって
形成したものではない。すなわち、キャスト法あるいは
プレス法によってプラスチック基板２００に凹部２１
１、２１４を同時に形成するので、製造コストを低減す
ることができる。

【００９６】［その他の実施の形態］なお、上記形態で
は、プラスチック基板自身に突起や凹凸を形成するのに
キャスト法やプレス法を用いたが、プラスチック基板に
対するケミカルエッチングによってプラスチック基板自
身に突起や凹凸を形成してもよい。

【００９７】また、上記実施形態では、パッシブマトリ
クス型の液晶装置１の製造に本発明を適用した例を説明
したが、能動素子としてＴＦＤ素子を用いたアクティブ
マトリクス方式の液晶装置、あるいは能動素子として薄
膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス方式の液
晶装置等々、各種の電気光学装置の製造に本発明を適用
してもよい。

【００９８】（電子機器の実施形態）図８は、本発明に
係る電気光学装置（液晶装置１）を各種の電子機器の表
示装置として用いる場合の一実施形態を示している。こ
こに示す電子機器は、表示情報出力源７０、表示情報処
理回路７１、電源回路７２、タイミングジェネレータ７
３、そして液晶装置７４を有する。また、液晶装置７４
は、液晶表示パネル７５および駆動回路７６を有する。
液晶装置７４および液晶パネル７５としては、前述した
液晶装置１を用いることができる。

【００９９】表示情報出力源７０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ
ＯｎｌｙＭｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ
ＡｃｃｅｓｓＭｅｍｏｒｙ）等といったメモリ、各種
ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像
信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェ
ネレータ７３によって生成された各種のクロック信号に
基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示
情報を表示情報処理回路７１に供給する。

【０１００】表示情報処理回路７１は、シリアル−パラ
レル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各
種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、そ
の画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路７６へ
供給する。電源回路７２は、各構成要素に所定の電圧を
供給する。

【０１０１】図９は、本発明に係る電子機器の一実施形
態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示して
いる。ここに示すパーソナルコンピュータ８０は、キー
ボード８６を備えた本体部８７と、液晶表示ユニット８
８とを有する。液晶表示ユニット８８は、前述した液晶
装置１を含んで構成される。

【０１０２】図１０は、本発明に係る電子機器の他の実
施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯
電話機９０は、複数の操作ボタン９１と液晶装置１とを
有している。

【０１０３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、電気
光学物質を保持する一対の基板のうちの少なくとも一方
の基板にプラスチック基板を用いているので、液晶装
置、およびそれを用いた電子機器の軽量化を図ることが
できる。また、一方の基板に用いたプラスチック基板自
身に他方の基板に当接する突起を形成しており、このよ
うな突起であれば、常に最適な位置に形成することがで
きるので、一対の基板の間隔を高い精度で制御できる。
さらに、プラスチック基板自身に形成した突起であれ
ば、プラスチック基板が撓んでも、ギャップ材と違って
基板間で移動することがないので、一対の基板の間隔を
高い精度で制御することができる。さらにまた、突起
は、プラスチック基板自身に形成したものであり、プラ
スチック基板の表面に成膜した薄膜によって形成したも
のではないので、一方の基板に突起を形成するといって
もコストが増大することがない。また、一方の基板に基
板間隔制御用突起を作り込んだので、ギャップ材を散布
する工程を省略することができる。それ故、電気光学装
置の製造コストを低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した電気光学装置の斜視図であ
る。

【図２】図１に示す電気光学装置の分解斜視図である。

【図３】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態１に係る液晶装置において、第１の基板および第２の
基板がシール材で貼り合わされているとともに、第１の
基板に形成されている第１の電極パターンと、第２の基
板に形成されている電極パターンとの交差部分によって
画素がマトリクス状に形成されている状態を模式的に示
す平面図、およびその断面図である。

【図４】（Ａ）〜（Ｅ）は、図３に示す液晶装置の製造
方法を示す工程断面図である。

【図５】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図３に示す液晶装
置に用いたプラスチック基板を製造するための装置の構
成を示す説明図である。

【図６】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態２に係る液晶装置において、第１の基板および第２の
基板がシール材で貼り合わされているとともに、第１の
基板に形成されている第１の電極パターンと、第２の基
板に形成されている電極パターンとの交差部分によって
画素がマトリクス状に形成されている状態を模式的に示
す平面図、およびその断面図である。

【図７】（Ａ）〜（Ｅ）は、図６に示す液晶装置の製造
方法を示す工程断面図である。

【図８】本発明に係る電気光学装置を用いた各種電子機
器の構成を示すブロック図である。

【図９】本発明に係る電気光学装置を用いた電子機器の
一実施形態としてのモバイル型のパーソナルコンピュー
タを示す説明図である。

【図１０】本発明に係る電気光学装置を用いた電子機器
の一実施形態としての携帯電話機の説明図である。

【図１１】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、従来の液晶装置
において、第１の基板および第２の基板がシール材で貼
り合わされているとともに、第１の基板に形成されてい
る第１の電極パターンと、第２の基板に形成されている
電極パターンとの交差部分によって画素がマトリクス状
に形成されている状態を模式的に示す平面図、およびそ
の断面図である。

【符号の説明】

１液晶装置（電気光学装置）７Ｒ、７Ｇ、７Ｂカラーフィルタ１０第１の基板２０第２の基板３０シール材３１封止材３２注入口３５液晶封入領域３６液晶（電気光学物質）４０第２の電極パターン４１配向膜５０第１の電極パターン１００、２００プラスチック基板１００′ プラスチックフィルム１１１プラスチック基板に形成した基板間隔制御用突
起１１２プラスチック基板に形成した凹凸１１４プラスチック基板に形成した仕切り壁１２３反射膜１２４遮光膜１２５平坦化膜１２６配向膜２１１、２１４プラスチック基板に形成した凹部６００ロールプレス機６１０繰り出しロール６２０巻き上げロール６４０型ロール６３０プレスロール７００プレス機７１０平板状の型材７２０ベース

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H089 LA04 LA11 LA12 LA14 QA14 TA01 TA17 2H090 JB03 LA01 LA02 LA03 LA10 LA20 5G435 AA07 AA18 EE04 KK05 KK10 LL07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シール材によって対向するように貼り合
わされた一対の基板と、該一対の基板間で前記シール材
によって区画された領域内に保持された電気光学物質と
を有する電気光学装置であって、前記一対の基板のうち一方の基板にはプラスチック基板
が用いられ、当該一方の基板において、他方の基板と対向する側の面
には、当該他方の基板に当接する突起がプラスチック基
板自身に形成されていることを特徴とする電気光学装
置。
【請求項２】請求項１において、前記突起は、少なく
とも前記一方の基板と前記他方の基板との間隔を規定す
る複数の基板間隔制御用突起として点在した状態に形成
されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】請求項２において、前記突起は、少なく
とも前記シール材の内周縁に沿って形成された仕切り壁
としても形成され、該仕切り壁は、前記シール材で区画された領域内で前記
電気光学物質が保持されている領域を区画していること
を特徴とする電気光学装置。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記一方の基板には、前記他方の基板に対向する側の面
のうち、前記突起が形成された領域とは異なる領域に凹
凸がプラスチック基板自身に形成されているとともに、前記凹凸が形成されている領域の上層側には、前記凹凸
によって表面に光散乱性が付与された反射膜が形成され
ていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記他方の基板にもプラスチック基板が用いられている
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記他方の基板には、前記一方の基板と対向する側の面
に、前記突起が嵌る凹部が形成されていることを特徴と
する電気光学装置。
【請求項７】請求項６において、前記他方の基板にも
プラスチック基板が用いられ、該プラスチック基板自身
に前記凹部が形成されていることを特徴とする電気光学
装置。
【請求項８】請求項１ないし７のいずれかにおいて、
前記電気光学物質は液晶であることを特徴とする電気光
学装置。
【請求項９】請求項１ないし８のいずれかに規定する
電気光学装置を表示部として用いたことを特徴とする電
子機器。
【請求項１０】シール材によって対向するように貼り
合わされた一対の基板と、該一対の基板間で前記シール
材によって区画された領域内に保持された電気光学物質
とを有する電気光学装置の製造方法であって、前記一対の基板のうち一方の基板には、複数の突起が形
成されたプラスチック基板を用い、前記一方の基板と他方の基板とを貼り合わせるときに
は、前記突起が前記他方の基板に当接するように貼り合
わせることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】請求項１０において、前記複数の突起
を前記一方の基板と前記他方の基板との間隔を規定する
基板間隔制御用突起として点在した状態に形成しておく
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】請求項１１において、前記複数の突起
を前記シール材の塗布領域の内周縁に沿う仕切り壁とし
ても形成しておき、前記一方の基板と他方の基板とを前記シール材によって
貼り合わせた後、前記シール材によって区画された領域
のうち、前記仕切り壁で区画された領域内に前記電気光
学物質を充填することを特徴とする電気光学装置の製造
方法。
【請求項１３】請求項１０ないし１２のいずれかにお
いて、前記一方の基板に用いるプラスチック基板に前記
突起を形成する工程では、前記突起に対応する位置が凹
部になった第１の型材を用い、該第１の型材の凹凸形状
をプラスチック基板に転写することを特徴とする電気光
学装置の製造方法。
【請求項１４】請求項１３において、前記第１の型材
は、ロール面に前記凹凸形状が形成されたロール状の型
材であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】請求項１３において、前記第１の型材
は、平坦面に前記凹凸形状が形成された平板状の型材で
あることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】請求項１３ないし１５のいずれかにお
いて、前記第１の型材によってプラスチックフィルムを
熱圧してプラスチック基板を形成することを特徴とする
電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】請求項１３ないし１５のいずれかにお
いて、前記第１の型材によって、溶融したプラスチック
材料を成形してプラスチック基板を形成することを特徴
とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１８】請求項１０ないし１２のいずれかにお
いて、前記一方の基板に用いるプラスチック基板には、
前記突起が形成された領域とは異なる領域に凹凸を形成
しておき、該凹凸が形成されている領域の上層側に、前
記凹凸によって表面に光散乱性が付与された反射膜を形
成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１９】請求項１８において、前記一方の基板
に用いるプラスチック基板に前記突起および前記凹凸を
形成する工程では、前記突起に対応する位置が凹部にな
っており、かつ、前記凹凸の反転パターンが形成された
第１の型材を用い、該第１の型材の凹凸形状をプラスチ
ック基板に転写することを特徴とする電気光学装置の製
造方法。
【請求項２０】請求項１９において、前記第１の型材
は、ロール面に前記凹凸形状が形成されたロール状の型
材であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２１】請求項１９において、前記第１の型材
は、平坦面に前記凹凸形状が形成された平板状の型材で
あることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２２】請求項１９ないし２１のいずれかにお
いて、前記第１の型材によってプラスチックフィルムを
熱圧してプラスチック基板を形成することを特徴とする
電気光学装置の製造方法。
【請求項２３】請求項１９ないし２１のいずれかにお
いて、前記第１の型材によって、溶融したプラスチック
材料を成形してプラスチック基板を形成することを特徴
とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２４】請求項１０ないし２３のいずれかにお
いて、前記他方の基板の一方の面側に凹部を形成してお
き、前記一方の基板と前記他方の基板とを前記シール材
によって貼り合わせる際に前記凹部内に前記突起を嵌め
ることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２５】請求項２４において、前記他方の基板
にもプラスチック基板を用い、該プラスチック基板自身
に前記凹部を形成しておくことを特徴とする電気光学装
置の製造方法。
【請求項２６】請求項２５において、前記他方の基板
に用いるプラスチック基板に前記凹部を形成する工程で
は、前記凹部に対応する位置が凸部になった第２の型材
を用い、該第２の型材の凹凸形状をプラスチック基板に
転写することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２７】請求項２６において、前記第２の型材
は、ロール面に前記凹凸形状が形成されたロール状の型
材であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２８】請求項２６において、前記第２の型材
は、平坦面に前記凹凸形状が形成された平板状の型材で
あることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２９】請求項２６ないし２８のいずれかにお
いて、前記第２の型材によってプラスチックフィルムを
熱圧してプラスチック基板を形成することを特徴とする
電気光学装置の製造方法。
【請求項３０】請求項２６ないし２８のいずれかにお
いて、前記第２の型材によって、溶融したプラスチック
材料を成形してプラスチック基板を形成することを特徴
とする電気光学装置の製造方法。