JP2003043390A - マルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装置 - Google Patents
マルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装置Info
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- JP2003043390A JP2003043390A JP2001236505A JP2001236505A JP2003043390A JP 2003043390 A JP2003043390 A JP 2003043390A JP 2001236505 A JP2001236505 A JP 2001236505A JP 2001236505 A JP2001236505 A JP 2001236505A JP 2003043390 A JP2003043390 A JP 2003043390A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の発光点からの光ビームの結像位置のズ
レを根本的に解消し、さらに複数の光スポットの集光状
態のばらつきを効果的に低減することによって、高速・
高画質の画像出力に最適なマルチビーム光走査光学系及
びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装置を
得ること。 【解決手段】 複数の発光点から出射したそれぞれの光
ビームを集光レンズで集光し、光偏向器の偏向面上に入
射させる光ビーム入射光学系を有し、複数の光ビームを
走査レンズ系を介し被走査面上に導光する際、光ビーム
入射光学系は、複数の発光点と集光レンズとの間にリレ
ー光学系を有しており、リレー光学系の複数の発光点に
相当する像面位置と集光レンズの複数の発光点に相当す
る像面位置を調整することにより、被走査面上における
複数の光スポットの集光状態のばらつきを低減したこ
と。
レを根本的に解消し、さらに複数の光スポットの集光状
態のばらつきを効果的に低減することによって、高速・
高画質の画像出力に最適なマルチビーム光走査光学系及
びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装置を
得ること。 【解決手段】 複数の発光点から出射したそれぞれの光
ビームを集光レンズで集光し、光偏向器の偏向面上に入
射させる光ビーム入射光学系を有し、複数の光ビームを
走査レンズ系を介し被走査面上に導光する際、光ビーム
入射光学系は、複数の発光点と集光レンズとの間にリレ
ー光学系を有しており、リレー光学系の複数の発光点に
相当する像面位置と集光レンズの複数の発光点に相当す
る像面位置を調整することにより、被走査面上における
複数の光スポットの集光状態のばらつきを低減したこ
と。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、マルチビーム光走
査光学系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像
形成装置に関し、特に高速・高記録密度を達成する為に
光源として複数の発光点を有する半導体レーザアレイを
使用した、例えばレーザービームプリンタやデジタル複
写機等の光学機器に好適なものである。
査光学系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像
形成装置に関し、特に高速・高記録密度を達成する為に
光源として複数の発光点を有する半導体レーザアレイを
使用した、例えばレーザービームプリンタやデジタル複
写機等の光学機器に好適なものである。
【0002】
【従来の技術】2つ以上の複数の異なる発光点から出射
された複数の光ビーム(光束)を回転多面鏡等の光偏向
器と走査レンズ等から構成される共通の走査光学系によ
り、被走査面である感光体等の記録媒体上にスポット状
に集光し、互いに副走査方向に分離した複数の光スポッ
トとして記録媒体上を主走査方向に同時に走査して画像
記録を行うマルチビーム画像形成装置が従来から知られ
ており、レーザービームプリンタやデジタル複写機等に
一部用いられている。
された複数の光ビーム(光束)を回転多面鏡等の光偏向
器と走査レンズ等から構成される共通の走査光学系によ
り、被走査面である感光体等の記録媒体上にスポット状
に集光し、互いに副走査方向に分離した複数の光スポッ
トとして記録媒体上を主走査方向に同時に走査して画像
記録を行うマルチビーム画像形成装置が従来から知られ
ており、レーザービームプリンタやデジタル複写機等に
一部用いられている。
【0003】また最近はレーザービームプリンタやデジ
タル複写機等のカラー化が進み、特にプリントスピード
に有利なタンデム方式の需要が高まりつつあり、このよ
うなカラー画像形成装置において、光走査装置をマルチ
ビーム化することによって、より一層の高速化を達成す
ることが試みられている。
タル複写機等のカラー化が進み、特にプリントスピード
に有利なタンデム方式の需要が高まりつつあり、このよ
うなカラー画像形成装置において、光走査装置をマルチ
ビーム化することによって、より一層の高速化を達成す
ることが試みられている。
【0004】図15に従来から用いられている複数の発
光点を有する光源を使用したマルチビーム光走査光学系
の主走査方向の要部断面図を示す。
光点を有する光源を使用したマルチビーム光走査光学系
の主走査方向の要部断面図を示す。
【0005】同図において61は複数(同図では2つ)
の発光点から構成される半導体レーザー等から成る光源
(複数光源)であり、該光源61から出射したそれぞれ
の光ビームはコリメータ−レンズ62で略平行光束、若
しくは収束光束、若しくは発散光束とされ、開口絞り6
3でその光ビームの断面形状を整形し、シリンドリカル
レンズ64によって副走査方向にのみ収束されて、光偏
向器であるポリゴンミラー65の偏向面(偏向反射面)
65a近傍におい主走査方向に長く伸びた焦線状に結像
される。さらに図中矢印A方向に一定角速度で回転して
いるポリゴンミラー65によって反射され偏向走査され
た複数の光ビームはfθレンズ系66によって感光ドラ
ム等から成る被走査面67上にスポット状に集光され、
図中矢印B方向(主走査方向)に一定速度で走査され
る。
の発光点から構成される半導体レーザー等から成る光源
(複数光源)であり、該光源61から出射したそれぞれ
の光ビームはコリメータ−レンズ62で略平行光束、若
しくは収束光束、若しくは発散光束とされ、開口絞り6
3でその光ビームの断面形状を整形し、シリンドリカル
レンズ64によって副走査方向にのみ収束されて、光偏
向器であるポリゴンミラー65の偏向面(偏向反射面)
65a近傍におい主走査方向に長く伸びた焦線状に結像
される。さらに図中矢印A方向に一定角速度で回転して
いるポリゴンミラー65によって反射され偏向走査され
た複数の光ビームはfθレンズ系66によって感光ドラ
ム等から成る被走査面67上にスポット状に集光され、
図中矢印B方向(主走査方向)に一定速度で走査され
る。
【0006】68は画像書出し位置検知の為のBD光学
系(同期検出系)である。68aはBDスリット、68
bは結像レンズ、68cはBDセンサー、69はBDミ
ラーである。
系(同期検出系)である。68aはBDスリット、68
bは結像レンズ、68cはBDセンサー、69はBDミ
ラーである。
【0007】この様なマルチビーム光走査光学系におい
ては、図16に示すように複数の発光点(光源)A、B
を副走査方向に縦に並べて配置してしまうと、被走査面
上における副走査方向の複数の線の間隔が記録密度より
も大幅に間隔が開いてしまう為、通常は図17に示す様
に複数の発光点A、Bを主走査方向に対し斜めに配置し
て、その斜めの角度δを微調整することにより、被走査
面上における副走査方向の複数の走査線の間隔を記録密
度に合わせて正確に調整している。
ては、図16に示すように複数の発光点(光源)A、B
を副走査方向に縦に並べて配置してしまうと、被走査面
上における副走査方向の複数の線の間隔が記録密度より
も大幅に間隔が開いてしまう為、通常は図17に示す様
に複数の発光点A、Bを主走査方向に対し斜めに配置し
て、その斜めの角度δを微調整することにより、被走査
面上における副走査方向の複数の走査線の間隔を記録密
度に合わせて正確に調整している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の様な構成の
マルチビーム光走査光学系においては、複数の発光点
A、Bを斜めに配置している為に図18に示すように複
数の発光点A、Bから出射した光ビームはポリゴンミラ
ー75の偏向面75a上で主走査方向に離れた位置に到
達し、且つポリゴンミラー75から反射される光ビーム
の角度もそれぞれ異なる為、被走査面上において互いに
主走査方向に離れた位置にスポットが結像されることに
なる(光線Aと光線B)。
マルチビーム光走査光学系においては、複数の発光点
A、Bを斜めに配置している為に図18に示すように複
数の発光点A、Bから出射した光ビームはポリゴンミラ
ー75の偏向面75a上で主走査方向に離れた位置に到
達し、且つポリゴンミラー75から反射される光ビーム
の角度もそれぞれ異なる為、被走査面上において互いに
主走査方向に離れた位置にスポットが結像されることに
なる(光線Aと光線B)。
【0009】よって、この様な構成のマルチビーム光走
査光学系においては、ある1つの基準の発光点が被走査
面上に結像する位置に他の発光点からの光束の結像位置
を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらして
画像データを送っている。δTだけ時間がずれたときの
ポリゴンミラー面は同図の75a’の角度に設定され、
このときに反射される光線はB’の方向、即ちAと同じ
方向に反射されることによって互いのスポットの結像位
置が一致することになる。
査光学系においては、ある1つの基準の発光点が被走査
面上に結像する位置に他の発光点からの光束の結像位置
を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらして
画像データを送っている。δTだけ時間がずれたときの
ポリゴンミラー面は同図の75a’の角度に設定され、
このときに反射される光線はB’の方向、即ちAと同じ
方向に反射されることによって互いのスポットの結像位
置が一致することになる。
【0010】このとき、何らかの原因、例えば光学系を
保持する光学ユニットと被走査面との位置誤差、光学ユ
ニットに光学部品を組み付けるときの組つけ誤差等によ
り、主走査方向のピントずれが発生する場合がある。こ
こでは、一例として被走査面77が77’の位置にずれ
てしまったと仮定する。このような場合、同図から明ら
かなようにそれぞれの光線の結像位置が主走査方向にδ
Yだけずれてしまうことになる。
保持する光学ユニットと被走査面との位置誤差、光学ユ
ニットに光学部品を組み付けるときの組つけ誤差等によ
り、主走査方向のピントずれが発生する場合がある。こ
こでは、一例として被走査面77が77’の位置にずれ
てしまったと仮定する。このような場合、同図から明ら
かなようにそれぞれの光線の結像位置が主走査方向にδ
Yだけずれてしまうことになる。
【0011】従来、このように光源71からの光ビーム
の相対的な結像位置が、主走査方向にずれてしまうこと
によって、印字精度の低下・画質の劣化を招いてしまう
という問題点が存在していた。
の相対的な結像位置が、主走査方向にずれてしまうこと
によって、印字精度の低下・画質の劣化を招いてしまう
という問題点が存在していた。
【0012】主走査方向のピントがずれる要因はさまざ
まであり、それら全てをゼロにすることは難しい。それ
を仮に調整するにしても調整工程にコストがかかってし
まう。さらに、最近においてはコストの観点からfθレ
ンズにプラスチック材料を用いた光学系を使用すること
が多い。プラスチックレンズは射出成形で製造される
が、その面精度は光学ガラスを研磨することによって得
られる精度に比べて劣っている。特に、レンズのある部
分では設計値に対して凸に誤差が生じるが他の部分では
凹に誤差が生じる、ということが起こりやすい。このよ
うな面精度の誤差によるピントずれに対しては被走査面
全域に亙ってピントずれを補正することは難しい。
まであり、それら全てをゼロにすることは難しい。それ
を仮に調整するにしても調整工程にコストがかかってし
まう。さらに、最近においてはコストの観点からfθレ
ンズにプラスチック材料を用いた光学系を使用すること
が多い。プラスチックレンズは射出成形で製造される
が、その面精度は光学ガラスを研磨することによって得
られる精度に比べて劣っている。特に、レンズのある部
分では設計値に対して凸に誤差が生じるが他の部分では
凹に誤差が生じる、ということが起こりやすい。このよ
うな面精度の誤差によるピントずれに対しては被走査面
全域に亙ってピントずれを補正することは難しい。
【0013】よって光源71からの光ビームの結像位置
ずれによる画質の劣化を補正することは非常に困難なこ
とであった。
ずれによる画質の劣化を補正することは非常に困難なこ
とであった。
【0014】ここでは、簡単の為、発光点の数を2とし
て図示し説明しているが、発光点の数が3、4、……と
増加すればするほど、両端の発光点間において発生する
上記δYの値が比例的に増大してくることは容易に理解
出来る。即ち、上記従来のマルチビーム光走査光学系に
おいては、高速化を達成する為に発光点の数を増加させ
ようとしても、前述の光源71からの光ビームの結像位
置のずれが増大することにより印字精度の低下・画質の
劣化を招いてしまい、高速化が非常に難しいという問題
点があった。
て図示し説明しているが、発光点の数が3、4、……と
増加すればするほど、両端の発光点間において発生する
上記δYの値が比例的に増大してくることは容易に理解
出来る。即ち、上記従来のマルチビーム光走査光学系に
おいては、高速化を達成する為に発光点の数を増加させ
ようとしても、前述の光源71からの光ビームの結像位
置のずれが増大することにより印字精度の低下・画質の
劣化を招いてしまい、高速化が非常に難しいという問題
点があった。
【0015】それを解決する為に、本出願人は先に提案
した特願2000−309245号において、図19に示すように
光源(複数光源)1から出射したそれぞれの光ビームを
集光レンズ3で集光し、光偏向器5の偏向面5a上に入
射させる光ビーム入射光学系9を有するマルチビーム光
走査光学系において、該光ビーム入射光学系9は、該光
源1と該集光レンズ3との間にリレー光学系2を有し、
該リレー光学系2による複数の発光点1a,1bのそれ
ぞれの結像点よりも光源1側に、該光源1から出射した
それぞれの光ビームのビーム幅を制限する開口絞り6を
配置する構成をとることにより、該光源1から出射した
それぞれの光ビームの結像位置のずれを根本的に解消す
ることを開示している。
した特願2000−309245号において、図19に示すように
光源(複数光源)1から出射したそれぞれの光ビームを
集光レンズ3で集光し、光偏向器5の偏向面5a上に入
射させる光ビーム入射光学系9を有するマルチビーム光
走査光学系において、該光ビーム入射光学系9は、該光
源1と該集光レンズ3との間にリレー光学系2を有し、
該リレー光学系2による複数の発光点1a,1bのそれ
ぞれの結像点よりも光源1側に、該光源1から出射した
それぞれの光ビームのビーム幅を制限する開口絞り6を
配置する構成をとることにより、該光源1から出射した
それぞれの光ビームの結像位置のずれを根本的に解消す
ることを開示している。
【0016】尚、図19において、1は2つの発光点1
a,1bを有する半導体レーザ等から成る光源であり、
前記図17に示すように2つの発光点A、Bを主走査方
向に対して斜めに配置して、その斜めの角度δを調整す
ることにより、被走査面8上における副走査方向のそれ
ぞれの線の間隔を記録密度に合わせて正確に調整してい
る。
a,1bを有する半導体レーザ等から成る光源であり、
前記図17に示すように2つの発光点A、Bを主走査方
向に対して斜めに配置して、その斜めの角度δを調整す
ることにより、被走査面8上における副走査方向のそれ
ぞれの線の間隔を記録密度に合わせて正確に調整してい
る。
【0017】図19において、2つの発光点1a,1b
から出射した2つの光ビームはリレー光学系であるリレ
ーレンズ2によって開口絞り6を介してP点の位置に結
像される。P点の位置に結像された2つの光ビームは、
集光レンズ3によって略平行光束または収束光束または
発散光束とされ、シリンドリカルレンズ4によって副走
査方向にのみ収束されて、光偏向器であるポリゴンミラ
ー5の偏向面(偏向反射面)5a近傍において主走査方
向に長く伸びた焦線状に結像される。
から出射した2つの光ビームはリレー光学系であるリレ
ーレンズ2によって開口絞り6を介してP点の位置に結
像される。P点の位置に結像された2つの光ビームは、
集光レンズ3によって略平行光束または収束光束または
発散光束とされ、シリンドリカルレンズ4によって副走
査方向にのみ収束されて、光偏向器であるポリゴンミラ
ー5の偏向面(偏向反射面)5a近傍において主走査方
向に長く伸びた焦線状に結像される。
【0018】シリンドリカルレンズ4はガラス材料から
成る凸のパワーの第1のシリンドリカルレンズ4aと、
プラスチック材料から成る凹のパワーの第2のシリンド
リカルレンズ4bの2枚のレンズから構成されており、
走査レンズ系であるプラスチック材料から成るfθレン
ズ系7の環境変動による副走査方向のピント移動を補正
している。開口絞り6はリレーレンズ2を通過した後
で、例えば収束光束とされた2つの光ビームのビーム幅
を制限しており、該リレーレンズ2による2つの発光点
1a,1bの結像位置であるP点よりも、光源1側に配
置されている。集光レンズ3は開口絞り6と偏向面5a
とを略共役な関係とするように配置されている。
成る凸のパワーの第1のシリンドリカルレンズ4aと、
プラスチック材料から成る凹のパワーの第2のシリンド
リカルレンズ4bの2枚のレンズから構成されており、
走査レンズ系であるプラスチック材料から成るfθレン
ズ系7の環境変動による副走査方向のピント移動を補正
している。開口絞り6はリレーレンズ2を通過した後
で、例えば収束光束とされた2つの光ビームのビーム幅
を制限しており、該リレーレンズ2による2つの発光点
1a,1bの結像位置であるP点よりも、光源1側に配
置されている。集光レンズ3は開口絞り6と偏向面5a
とを略共役な関係とするように配置されている。
【0019】尚、上記、リレーレンズ2、開口絞り6、
集光レンズ3、そしてシリンドリカルレンズ4等の各要
素は光ビーム入射光学系9の一要素を構成している。
集光レンズ3、そしてシリンドリカルレンズ4等の各要
素は光ビーム入射光学系9の一要素を構成している。
【0020】そして図中矢印A方向に一定角速度で回転
しているポリゴンミラー5によって反射され偏向走査さ
れた2つの光ビームは走査レンズ系7によって被走査面
としての感光ドラム面8上にスポット状に集光され、図
中矢印B方向(主走査方向)に一定速度で走査される。
しているポリゴンミラー5によって反射され偏向走査さ
れた2つの光ビームは走査レンズ系7によって被走査面
としての感光ドラム面8上にスポット状に集光され、図
中矢印B方向(主走査方向)に一定速度で走査される。
【0021】図20は上記マルチビーム光走査光学系に
おける光ビーム入射光学系の部分を示す副走査断面図で
ある。ここでは発光点の数を2つとして説明する。
おける光ビーム入射光学系の部分を示す副走査断面図で
ある。ここでは発光点の数を2つとして説明する。
【0022】2つの発光点1a,1bから出射したそれ
ぞれの光ビームはリレー光学系であるリレーレンズ2に
よってP点の位置にそれぞれ結像される。P点の位置に
結像されたそれぞれの光ビームは集光レンズ3によって
略平行光束または収束光束または発散光束とされ、シリ
ンドリカルレンズ4によって副走査方向にのみ収束され
て、光偏向器であるポリゴンミラー5の偏向面5a近傍
において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像される。
ぞれの光ビームはリレー光学系であるリレーレンズ2に
よってP点の位置にそれぞれ結像される。P点の位置に
結像されたそれぞれの光ビームは集光レンズ3によって
略平行光束または収束光束または発散光束とされ、シリ
ンドリカルレンズ4によって副走査方向にのみ収束され
て、光偏向器であるポリゴンミラー5の偏向面5a近傍
において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像される。
【0023】ここで、上記2つの発光点1a,1bから
出射したそれぞれの光ビームの主光線PA・PBは、リ
レーレンズ2の後側焦点位置Q点において交差する。一
方、集光レンズ3は、リレーレンズ2の後側焦点位置Q
点と偏向面5aとを略共役な関係とするように配置され
ている。その様に集光レンズ3を配置した場合、Q点に
おいて交差した2本の主光線PA・PBは集光レンズ3
によって偏向面5a上の点において再度交差する。
出射したそれぞれの光ビームの主光線PA・PBは、リ
レーレンズ2の後側焦点位置Q点において交差する。一
方、集光レンズ3は、リレーレンズ2の後側焦点位置Q
点と偏向面5aとを略共役な関係とするように配置され
ている。その様に集光レンズ3を配置した場合、Q点に
おいて交差した2本の主光線PA・PBは集光レンズ3
によって偏向面5a上の点において再度交差する。
【0024】このような構成にすると図18における光
線Aに相当する光線PAと、図18における光線B’に
相当する光線PBとが完全に同一経路をたどることにな
り、その結果として、従来の如き主走査方向のピントず
れに起因する、2つの光ビームの主走査方向の結像位置
ずれδYが原理的に発生しないことになる。
線Aに相当する光線PAと、図18における光線B’に
相当する光線PBとが完全に同一経路をたどることにな
り、その結果として、従来の如き主走査方向のピントず
れに起因する、2つの光ビームの主走査方向の結像位置
ずれδYが原理的に発生しないことになる。
【0025】一方、マルチビーム光走査光学系において
は複数の発光点のうちの一部は必然的にコリメータレン
ズの光軸からずれた位置に配置されることになってしま
う。光軸から外れた位置から出射されてコリメータレン
ズに入射する光ビームに対しては、該コリメータレンズ
の収差の影響により、被走査面上において所望の光スポ
ットの集光状態を得ることが出来ない。
は複数の発光点のうちの一部は必然的にコリメータレン
ズの光軸からずれた位置に配置されることになってしま
う。光軸から外れた位置から出射されてコリメータレン
ズに入射する光ビームに対しては、該コリメータレンズ
の収差の影響により、被走査面上において所望の光スポ
ットの集光状態を得ることが出来ない。
【0026】具体的には、コリメータレンズの像面湾曲
収差によるものであり、例えば従来の図15に示したよ
うな単純な構成のコリメータレンズ62の場合は、一般
的にアンダーな像面湾曲収差が発生する。その為、光軸
上に配置された発光点から出射された光ビームに対して
最適な位置にコリメータレンズと光源との間隔を調整し
た場合、光軸から外れた位置から出射された光ビームは
被走査面の手前側でスポット状に結像されてしまう。そ
の為、被走査面上における複数の結像スポットのスポッ
ト径にばらつきが生じるという問題点がある。
収差によるものであり、例えば従来の図15に示したよ
うな単純な構成のコリメータレンズ62の場合は、一般
的にアンダーな像面湾曲収差が発生する。その為、光軸
上に配置された発光点から出射された光ビームに対して
最適な位置にコリメータレンズと光源との間隔を調整し
た場合、光軸から外れた位置から出射された光ビームは
被走査面の手前側でスポット状に結像されてしまう。そ
の為、被走査面上における複数の結像スポットのスポッ
ト径にばらつきが生じるという問題点がある。
【0027】但し、図15に示したような従来の単純な
マルチビーム光走査光学系においては、上記問題が重大
な欠点とはなっていなかった。
マルチビーム光走査光学系においては、上記問題が重大
な欠点とはなっていなかった。
【0028】コリメータレンズの焦点距離にもよるが、
通常は、コリメータレンズの焦点距離に比して光源の発
光点間隔の方が桁違いに小さく、光軸から外れた位置か
ら出射された光ビームがコリメータレンズに入射すると
きの画角は非常に小さいものとなり、そのような場合の
像面湾曲収差は非常に小さいものであるからである。
通常は、コリメータレンズの焦点距離に比して光源の発
光点間隔の方が桁違いに小さく、光軸から外れた位置か
ら出射された光ビームがコリメータレンズに入射すると
きの画角は非常に小さいものとなり、そのような場合の
像面湾曲収差は非常に小さいものであるからである。
【0029】それに対して、本出願人による、図19に
示したようなリレー光学系2を使用したマルチビーム光
走査光学系においては、上述の如く光源1からの光ビー
ムの結像位置のずれを根本的に解決し、高速・高画質な
画像出力を得ることが可能となるが、図15に示したよ
うな従来の単純なマルチビーム走査光学系に対して、リ
レー光学系の像面湾曲収差成分が付加される為、被走査
面上における複数の結像スポットのスポット径のばらつ
きがやや大きくなる傾向となる。
示したようなリレー光学系2を使用したマルチビーム光
走査光学系においては、上述の如く光源1からの光ビー
ムの結像位置のずれを根本的に解決し、高速・高画質な
画像出力を得ることが可能となるが、図15に示したよ
うな従来の単純なマルチビーム走査光学系に対して、リ
レー光学系の像面湾曲収差成分が付加される為、被走査
面上における複数の結像スポットのスポット径のばらつ
きがやや大きくなる傾向となる。
【0030】発光点の数が2つ程度の場合では上記問題
点もそれ程影響を与えないが、発光点数が増えれば増え
る程、像面湾曲収差の影響は大きくなる為、リレー光学
系を使用したマルチビーム光走査光学系においては、被
走査面上における複数の結像スポットの集光状態のばら
つきを効果的に抑えることが重要となってくる。
点もそれ程影響を与えないが、発光点数が増えれば増え
る程、像面湾曲収差の影響は大きくなる為、リレー光学
系を使用したマルチビーム光走査光学系においては、被
走査面上における複数の結像スポットの集光状態のばら
つきを効果的に抑えることが重要となってくる。
【0031】本発明は本出願人が先に提案したマルチビ
ーム光走査光学系を更に改良したものであり、複数の発
光点から出射した光ビームの被走査面上の結像位置ずれ
の無いマルチビーム光走査光学系を達成したうえで、さ
らに複数の発光点から出射した光ビームの被走査面上で
の光スポットの集光状態のばらつきを効果的に低減する
ことによって、高速・高画質の画像出力に最適なマルチ
ビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置及び
カラー画像形成装置の提供を目的とする。
ーム光走査光学系を更に改良したものであり、複数の発
光点から出射した光ビームの被走査面上の結像位置ずれ
の無いマルチビーム光走査光学系を達成したうえで、さ
らに複数の発光点から出射した光ビームの被走査面上で
の光スポットの集光状態のばらつきを効果的に低減する
ことによって、高速・高画質の画像出力に最適なマルチ
ビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置及び
カラー画像形成装置の提供を目的とする。
【0032】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明のマルチ
ビーム光走査光学系は、複数の発光点から出射したそれ
ぞれの光ビームを集光レンズで集光し、光偏向器の偏向
面上に入射させる光ビーム入射光学系を有し、複数の光
ビームを走査レンズ系を介し被走査面上に導光するマル
チビーム光走査光学系において、該光ビーム入射光学系
は、該複数の発光点と該集光レンズとの間にリレー光学
系を有しており、該リレー光学系の複数の発光点に対応
する像面位置と該集光レンズの該複数の発光点に対応す
る物点位置を調整することにより、該被走査面上におけ
る複数の光スポットの集光状態のばらつきを低減したこ
とを特徴としている。
ビーム光走査光学系は、複数の発光点から出射したそれ
ぞれの光ビームを集光レンズで集光し、光偏向器の偏向
面上に入射させる光ビーム入射光学系を有し、複数の光
ビームを走査レンズ系を介し被走査面上に導光するマル
チビーム光走査光学系において、該光ビーム入射光学系
は、該複数の発光点と該集光レンズとの間にリレー光学
系を有しており、該リレー光学系の複数の発光点に対応
する像面位置と該集光レンズの該複数の発光点に対応す
る物点位置を調整することにより、該被走査面上におけ
る複数の光スポットの集光状態のばらつきを低減したこ
とを特徴としている。
【0033】請求項2の発明は請求項1の発明におい
て、前記被走査面上における複数の光スポットの集光状
態のばらつきは、該光スポットのスポット径であること
を特徴としている。
て、前記被走査面上における複数の光スポットの集光状
態のばらつきは、該光スポットのスポット径であること
を特徴としている。
【0034】請求項3の発明は請求項1の発明におい
て、前記被走査面上における複数の光スポットの集光状
態のばらつきは、該光スポットのスポット径が最小とな
るビームウェスト位置であることを特徴としている。
て、前記被走査面上における複数の光スポットの集光状
態のばらつきは、該光スポットのスポット径が最小とな
るビームウェスト位置であることを特徴としている。
【0035】請求項4の発明は請求項1,2又は3の発
明において、前記調整は、前記複数の発光点、リレー光
学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸方向
又は/及び光軸と垂直方向の成分を持つように移動させ
て行っていることを特徴としている。
明において、前記調整は、前記複数の発光点、リレー光
学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸方向
又は/及び光軸と垂直方向の成分を持つように移動させ
て行っていることを特徴としている。
【0036】請求項5の発明は請求項1,2又は3の発
明において、前記調整は、前記複数の発光点、リレー光
学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸と直
交する軸を中心に回転させて行っていることを特徴とし
ている。
明において、前記調整は、前記複数の発光点、リレー光
学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸と直
交する軸を中心に回転させて行っていることを特徴とし
ている。
【0037】請求項6の発明は請求項1,2又は3の発
明において、前記調整は、前記複数の発光点、リレー光
学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸方向
に移動させる調整手段、光軸と垂直な面内において光軸
と垂直な方向に成分を持つように移動させる移動手段、
光軸と直交する軸を中心に回転させる回転手段のうちの
2つ以上の手段を組み合わせて行っていることを特徴と
している。
明において、前記調整は、前記複数の発光点、リレー光
学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸方向
に移動させる調整手段、光軸と垂直な面内において光軸
と垂直な方向に成分を持つように移動させる移動手段、
光軸と直交する軸を中心に回転させる回転手段のうちの
2つ以上の手段を組み合わせて行っていることを特徴と
している。
【0038】請求項7の発明は請求項1乃至6の何れか
1項の発明において、前記複数の発光点は、各々独立に
変調可能であり、モノリシックにアレイ配列して構成さ
れていることを特徴としている。
1項の発明において、前記複数の発光点は、各々独立に
変調可能であり、モノリシックにアレイ配列して構成さ
れていることを特徴としている。
【0039】請求項8の発明は請求項1の発明におい
て、前記調整は、前記集光レンズの像面湾曲収差が、前
記リレー光学系で発生する像面湾曲収差を相殺する方向
に設定して行っていることを特徴としている。
て、前記調整は、前記集光レンズの像面湾曲収差が、前
記リレー光学系で発生する像面湾曲収差を相殺する方向
に設定して行っていることを特徴としている。
【0040】請求項9の発明のマルチビーム光走査光学
系は、複数の発光点から出射したそれぞれの光ビームを
集光レンズで集光し、光偏向器の偏向面上に入射させる
光ビーム入射光学系を有し、複数の光ビームを走査レン
ズ系を介し被走査面上に導光するマルチビーム光走査光
学系において、該光ビーム入射光学系は、該複数の発光
点と該集光レンズとの間にリレー光学系を有しており、
光軸上の発光点に対応する該リレー光学系の像点と該集
光レンズの物点との光軸方向の差をΔ0、光軸外であっ
て複数の発光点の任意の1つの発光点に対応する該リレ
ー光学系の像点と該集光レンズの物点との光軸方向の差
をΔaとしたとき、(Δ0−Δa)の絶対値が最も小さく
成るように調整することにより、該被走査面上における
複数の光スポットの集光状態のばらつきを低減したこと
を特徴としている。
系は、複数の発光点から出射したそれぞれの光ビームを
集光レンズで集光し、光偏向器の偏向面上に入射させる
光ビーム入射光学系を有し、複数の光ビームを走査レン
ズ系を介し被走査面上に導光するマルチビーム光走査光
学系において、該光ビーム入射光学系は、該複数の発光
点と該集光レンズとの間にリレー光学系を有しており、
光軸上の発光点に対応する該リレー光学系の像点と該集
光レンズの物点との光軸方向の差をΔ0、光軸外であっ
て複数の発光点の任意の1つの発光点に対応する該リレ
ー光学系の像点と該集光レンズの物点との光軸方向の差
をΔaとしたとき、(Δ0−Δa)の絶対値が最も小さく
成るように調整することにより、該被走査面上における
複数の光スポットの集光状態のばらつきを低減したこと
を特徴としている。
【0041】請求項10の発明のマルチビーム光走査装
置は、請求項1乃至9の何れか1項に記載のマルチビー
ム光走査光学系、それを保持する筐体、複数の発光点を
保持する発光基板、光偏向器、そして走査レンズ系を一
体化して構成したことを特徴としている。
置は、請求項1乃至9の何れか1項に記載のマルチビー
ム光走査光学系、それを保持する筐体、複数の発光点を
保持する発光基板、光偏向器、そして走査レンズ系を一
体化して構成したことを特徴としている。
【0042】請求項11の発明の画像形成装置は、請求
項10記載のマルチビーム光走査装置と、被走査面に配
置された感光体と、前記マルチビーム光走査装置で走査
されたそれぞれの光ビームによって前記感光体上に形成
された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、前
記現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、
転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを
有することを特徴としている。
項10記載のマルチビーム光走査装置と、被走査面に配
置された感光体と、前記マルチビーム光走査装置で走査
されたそれぞれの光ビームによって前記感光体上に形成
された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、前
記現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、
転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを
有することを特徴としている。
【0043】請求項12の発明の画像形成装置は、請求
項10記載のマルチビーム光走査装置と、外部機器から
入力されたコードデータを画像信号に変換して前記マル
チビーム光走査装置に入力せしめるプリンタコントロー
ラを有していることを特徴としている。
項10記載のマルチビーム光走査装置と、外部機器から
入力されたコードデータを画像信号に変換して前記マル
チビーム光走査装置に入力せしめるプリンタコントロー
ラを有していることを特徴としている。
【0044】請求項13の発明のカラー画像形成装置
は、各々が請求項10記載のマルチビーム光走査装置か
ら成る複数のマルチビーム光走査装置と、各々のマルチ
ビーム光走査装置の被走査面に配置され、互いに異なっ
た色の画像を形成する複数の像坦持体とを有することを
特徴としている。
は、各々が請求項10記載のマルチビーム光走査装置か
ら成る複数のマルチビーム光走査装置と、各々のマルチ
ビーム光走査装置の被走査面に配置され、互いに異なっ
た色の画像を形成する複数の像坦持体とを有することを
特徴としている。
【0045】請求項14の発明のカラー画像形成装置
は、各々が請求項10記載のマルチビーム光走査装置か
ら成る複数のマルチビーム光走査装置と、外部機器から
入力されたコードデータを異なった色ごとに画像信号に
変換して、各々の色に対応したそれぞれのマルチビーム
光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラを有し
ていることを特徴としている。
は、各々が請求項10記載のマルチビーム光走査装置か
ら成る複数のマルチビーム光走査装置と、外部機器から
入力されたコードデータを異なった色ごとに画像信号に
変換して、各々の色に対応したそれぞれのマルチビーム
光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラを有し
ていることを特徴としている。
【0046】
【発明の実施の形態】[実施形態1]図1は、本発明の
マルチビーム光走査光学系の実施形態1の主走査方向の
要部断面図(主走査断面図)である。
マルチビーム光走査光学系の実施形態1の主走査方向の
要部断面図(主走査断面図)である。
【0047】同図において、1は複数(本実施形態では
2つ)の発光点1a,1bを有する半導体レーザ等から
成る光源であり、前記図17に示す様に2つの発光点1
a,1b(A、B)を副走査方向に対して斜めに配置し
てその斜めの角度δを調整することにより、被走査面8
上における副走査方向のそれぞれの走査線の間隔を記録
密度に合わせて正確に調整している。
2つ)の発光点1a,1bを有する半導体レーザ等から
成る光源であり、前記図17に示す様に2つの発光点1
a,1b(A、B)を副走査方向に対して斜めに配置し
てその斜めの角度δを調整することにより、被走査面8
上における副走査方向のそれぞれの走査線の間隔を記録
密度に合わせて正確に調整している。
【0048】2はリレー光学系としてのリレーレンズで
あり、光源1と後述する開口絞り6との間に設けられて
いる。
あり、光源1と後述する開口絞り6との間に設けられて
いる。
【0049】6は開口絞りであり、リレーレンズ2を通
過した後で収束光束とされた2つの光ビームのビーム幅
を制限しており、リレーレンズ2による2つの発光点の
結像位置であるP点よりも、光源1側に配置されてい
る。
過した後で収束光束とされた2つの光ビームのビーム幅
を制限しており、リレーレンズ2による2つの発光点の
結像位置であるP点よりも、光源1側に配置されてい
る。
【0050】3は集光レンズ(コリメータレンズ)であ
り、開口絞り6を介した2つの光ビームを略平行光束、
若しくは収束光束、若しくは発散光束に変換している。
また集光レンズ3は開口絞り6と後述する光偏向器5の
偏向面5aとを略共役な関係とするように配置されてい
る。
り、開口絞り6を介した2つの光ビームを略平行光束、
若しくは収束光束、若しくは発散光束に変換している。
また集光レンズ3は開口絞り6と後述する光偏向器5の
偏向面5aとを略共役な関係とするように配置されてい
る。
【0051】4は副走査方向のみに所定の屈折力を有す
るシリンドリカルレンズであり、ガラス材料から成る凸
のパワーの第1シリンドリカルレンズ4aと、プラスチ
ック材料から成る凹のパワーの第2シリンドリカルレン
ズ4bとを有しており、後述するプラスチック材料から
成るfθレンズ系(走査レンズ系)7の環境変動による
副走査方向のピント移動を補正している。
るシリンドリカルレンズであり、ガラス材料から成る凸
のパワーの第1シリンドリカルレンズ4aと、プラスチ
ック材料から成る凹のパワーの第2シリンドリカルレン
ズ4bとを有しており、後述するプラスチック材料から
成るfθレンズ系(走査レンズ系)7の環境変動による
副走査方向のピント移動を補正している。
【0052】尚、リレーレンズ2、開口絞り6、集光レ
ンズ3、シリンドリカルレンズ4等の各要素は光ビーム
入射光学系9の一要素を構成している。
ンズ3、シリンドリカルレンズ4等の各要素は光ビーム
入射光学系9の一要素を構成している。
【0053】本実施形態においては後述するようにリレ
ーレンズ2の2つの発光点に対応する像面位置と、集光
レンズ3の2つの発光点に対応する物点位置を調整する
ことにより、被走査面8上における2つの光スポットの
集光状態のばらつきを低減している。
ーレンズ2の2つの発光点に対応する像面位置と、集光
レンズ3の2つの発光点に対応する物点位置を調整する
ことにより、被走査面8上における2つの光スポットの
集光状態のばらつきを低減している。
【0054】5は光偏向器であり、例えば6面構成のポ
リゴンミラー(回転多面鏡)より成っており、モータ等
の駆動手段(不図示)により図中矢印A方向に一定速度
で回転している。
リゴンミラー(回転多面鏡)より成っており、モータ等
の駆動手段(不図示)により図中矢印A方向に一定速度
で回転している。
【0055】7は集光機能とfθ特性とを有する走査レ
ンズ系(fθレンズ系)であり、プラスチック材料より
成る第1、第2の2枚のfθレンズ7a,7bより成
り、光偏向器5によって反射偏向された画像情報に基づ
く光束を被走査面としての感光ドラム面8上に結像さ
せ、かつ副走査断面内において光偏向器5の偏向面5a
と感光ドラム面8との間を共役関係にすることにより、
倒れ補正機能を有している。
ンズ系(fθレンズ系)であり、プラスチック材料より
成る第1、第2の2枚のfθレンズ7a,7bより成
り、光偏向器5によって反射偏向された画像情報に基づ
く光束を被走査面としての感光ドラム面8上に結像さ
せ、かつ副走査断面内において光偏向器5の偏向面5a
と感光ドラム面8との間を共役関係にすることにより、
倒れ補正機能を有している。
【0056】本実施形態において2つの発光点1a,1
bから出射したそれぞれの光ビームはリレーレンズ2に
よってP点の位置に結像される。P点の位置に結像され
た2つの光ビームは集光レンズ3によって略平行光束、
若しくは収束光束、若しくは発散光束に変換され、シリ
ンドリカルレンズ4によって副走査方向にのみ収束され
て、光偏向器であるポリゴンミラー5の偏向面5a近傍
において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像される。
bから出射したそれぞれの光ビームはリレーレンズ2に
よってP点の位置に結像される。P点の位置に結像され
た2つの光ビームは集光レンズ3によって略平行光束、
若しくは収束光束、若しくは発散光束に変換され、シリ
ンドリカルレンズ4によって副走査方向にのみ収束され
て、光偏向器であるポリゴンミラー5の偏向面5a近傍
において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像される。
【0057】そしてポリゴンミラー5によって反射され
偏向走査された2つの光ビームは走査レンズ系7によっ
て感光ドラム面8上にスポット状に集光され、図中矢印
B方向(主走査方向)に一定速度で走査される。
偏向走査された2つの光ビームは走査レンズ系7によっ
て感光ドラム面8上にスポット状に集光され、図中矢印
B方向(主走査方向)に一定速度で走査される。
【0058】図2は本発明の実施形態1における光ビー
ム入射光学系9の主走査方向の要部断面図(主走査断面
図)である。
ム入射光学系9の主走査方向の要部断面図(主走査断面
図)である。
【0059】同図において2つの発光点1a,1bのう
ち、リレーレンズ2の光軸2a上に存在する発光点1a
から出射した光ビームAは、前述の如くP点において結
像する。リレーレンズ2の光軸2aから外れた位置に
存在する発光点1bから出射した光ビームBは図3に示
すようにリレーレンズ2のアンダーな像面湾曲収差Pb
の為にP1点よりも光源1側の距離δ1の点Qに結像さ
れることになる。図3においてPaは近軸像面である。
ち、リレーレンズ2の光軸2a上に存在する発光点1a
から出射した光ビームAは、前述の如くP点において結
像する。リレーレンズ2の光軸2aから外れた位置に
存在する発光点1bから出射した光ビームBは図3に示
すようにリレーレンズ2のアンダーな像面湾曲収差Pb
の為にP1点よりも光源1側の距離δ1の点Qに結像さ
れることになる。図3においてPaは近軸像面である。
【0060】図3のP1点からQ点を結ぶ点線がリレー
レンズ2の像面湾曲収差Pbを表している。
レンズ2の像面湾曲収差Pbを表している。
【0061】次に集光レンズ3の像面湾曲収差を考え
る。ここでは集光レンズ3のポリゴンミラー5側から集
光レンズ3に光が入射すると考える。リレーレンズ2の
光軸2a上に存在する発光点1aに対応する光ビームA
は図4に示すP2点において結像するが、リレーレンズ
2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点1bに
対応する光ビームBは図4に示すように集光レンズ3の
アンダーな像面湾曲収差Pdの為にP2点よりもポリゴ
ンミラー5側の点Rに結像されることになる。図4にお
いてPcは近軸像面である。
る。ここでは集光レンズ3のポリゴンミラー5側から集
光レンズ3に光が入射すると考える。リレーレンズ2の
光軸2a上に存在する発光点1aに対応する光ビームA
は図4に示すP2点において結像するが、リレーレンズ
2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点1bに
対応する光ビームBは図4に示すように集光レンズ3の
アンダーな像面湾曲収差Pdの為にP2点よりもポリゴ
ンミラー5側の点Rに結像されることになる。図4にお
いてPcは近軸像面である。
【0062】図4のP2点からR点を結ぶ点線が集光レ
ンズ3の像面湾曲収差Pdを表している。通常は点P1
と点P2が一致した点Pと成るように配置している。
ンズ3の像面湾曲収差Pdを表している。通常は点P1
と点P2が一致した点Pと成るように配置している。
【0063】ここで集光レンズ3の焦点距離をf3、走
査レンズ系7の焦点距離をf7とすると、集光レンズ3
のアンダーな像面湾曲収差δ2の為に、光軸2aから外
れた位置に存在する発光点1bから出射した光ビーム
は図5に示すように被走査面8上において、
査レンズ系7の焦点距離をf7とすると、集光レンズ3
のアンダーな像面湾曲収差δ2の為に、光軸2aから外
れた位置に存在する発光点1bから出射した光ビーム
は図5に示すように被走査面8上において、
【0064】
【数1】
【0065】だけ被走査面8の手前側でスポット状に結
像されてしまう。
像されてしまう。
【0066】前記図15に示したような従来の単純なマ
ルチビーム光走査光学系においては、上記δ3の量だけ
被走査面8の手前側でスポット状に結像されることにな
る。本実施形態のようなリレーレンズ2を用いた形態の
場合は、図6に示すようにリレーレンズ2のアンダーな
像面湾曲収差δ1によって、さらに、
ルチビーム光走査光学系においては、上記δ3の量だけ
被走査面8の手前側でスポット状に結像されることにな
る。本実施形態のようなリレーレンズ2を用いた形態の
場合は、図6に示すようにリレーレンズ2のアンダーな
像面湾曲収差δ1によって、さらに、
【0067】
【数2】
【0068】だけ被走査面8の手前側でスポット状に結
像されてしまい、トータルの像面湾曲収差Δとして、 Δ=δ3+δ4より
像されてしまい、トータルの像面湾曲収差Δとして、 Δ=δ3+δ4より
【0069】
【数3】
【0070】だけ被走査面8の手前側でスポット状に結
像されてしまうこととなり、被走査面8上における複数
の結像スポット(光スポット)のスポット径(集光状
態)のばらつきが大きくなってしまい出力画像を劣化さ
せる原因となってしまう。
像されてしまうこととなり、被走査面8上における複数
の結像スポット(光スポット)のスポット径(集光状
態)のばらつきが大きくなってしまい出力画像を劣化さ
せる原因となってしまう。
【0071】尚、被走査面上における複数の光スポット
の集光状態のばらつきとは、該光スポットのスポット
径、もしくは該光スポットのスポット径が最小となるビ
ームウェスト位置のことである。
の集光状態のばらつきとは、該光スポットのスポット
径、もしくは該光スポットのスポット径が最小となるビ
ームウェスト位置のことである。
【0072】そこで本実施形態においては図7に示す如
くリレーレンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動さ
せることによって(点P1と点P2とをずらすことによ
って)、上記リレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3
の像面湾曲の和である(δ1+δ2)の量を小さくなるよ
うに調整を行う。
くリレーレンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動さ
せることによって(点P1と点P2とをずらすことによ
って)、上記リレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3
の像面湾曲の和である(δ1+δ2)の量を小さくなるよ
うに調整を行う。
【0073】即ち、リレーレンズ2を光軸上移動させ
て、該リレーレンズ2による発光点1bの像Qが集光レ
ンズ3の像面湾曲量の符号の逆と成る方向に近軸像面P
aからずらしている。
て、該リレーレンズ2による発光点1bの像Qが集光レ
ンズ3の像面湾曲量の符号の逆と成る方向に近軸像面P
aからずらしている。
【0074】これにより図8に示すようにリレーレンズ
2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整することによ
って、該リレーレンズ2の光軸2a上に存在する発光点
1aから出射した光ビームAをP1点からδ0だけ集光
レンズ3側のP'点に結像させる。このときリレーレン
ズ2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点1b
から出射した光ビームは同様にQ点からδ0だけ集光レ
ンズ3側のQ'点に結像されることになる。
2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整することによ
って、該リレーレンズ2の光軸2a上に存在する発光点
1aから出射した光ビームAをP1点からδ0だけ集光
レンズ3側のP'点に結像させる。このときリレーレン
ズ2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点1b
から出射した光ビームは同様にQ点からδ0だけ集光レ
ンズ3側のQ'点に結像されることになる。
【0075】このような調整を行えばリレーレンズ2の
像面湾曲と集光レンズ3の像面湾曲の和(δ1+δ2)、
δ′=δ1+δ2−δまで小さくすることが可能となる。
像面湾曲と集光レンズ3の像面湾曲の和(δ1+δ2)、
δ′=δ1+δ2−δまで小さくすることが可能となる。
【0076】ここで上記リレーレンズ2を光軸方向に集
光レンズ3側に移動させる量δ0を(δ1+δ2)とすれ
ばリレーレンズ2の光軸2aから外れた位置に存在す
る発光点1bから出射した光ビームBは被走査面8上に
おいてスポット状に結像されるが、逆にリレーレンズ2
の光軸2a上に存在する発光点1aに対応する光ビーム
Aは被走査面8上の奥側(図の右側)に
光レンズ3側に移動させる量δ0を(δ1+δ2)とすれ
ばリレーレンズ2の光軸2aから外れた位置に存在す
る発光点1bから出射した光ビームBは被走査面8上に
おいてスポット状に結像されるが、逆にリレーレンズ2
の光軸2a上に存在する発光点1aに対応する光ビーム
Aは被走査面8上の奥側(図の右側)に
【0077】
【数4】
【0078】だけ離れた点で結像されてしまう。
【0079】よってリレーレンズ2の光軸2a上に存在
する発光点1aから出射した光ビームAと、リレーレン
ズ2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点1b
から出射した光ビームBの被走査面8からのスポットの
結像位置のずれ量をそれぞれ同じ程度になるように上記
リレーレンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整
を行う。
する発光点1aから出射した光ビームAと、リレーレン
ズ2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点1b
から出射した光ビームBの被走査面8からのスポットの
結像位置のずれ量をそれぞれ同じ程度になるように上記
リレーレンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整
を行う。
【0080】具体的には上記δ0の量を{(δ1+δ2)
/2}とすれば、それぞれのスポットの結像位置のずれ
量が最小となることは容易に理解できるであろう。
/2}とすれば、それぞれのスポットの結像位置のずれ
量が最小となることは容易に理解できるであろう。
【0081】このように本実施形態においては上述した
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、上記リレーレンズ2を光軸方向
に集光レンズ3側に移動調整を行うことによって、複数
の発光点1a,1bから出射した光ビームの被走査面8
上からのスポットの結像位置のずれ量を効果的に減少さ
せ、被走査面8上における複数の結像スポットのスポッ
ト径のばらつきを最小としている。
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、上記リレーレンズ2を光軸方向
に集光レンズ3側に移動調整を行うことによって、複数
の発光点1a,1bから出射した光ビームの被走査面8
上からのスポットの結像位置のずれ量を効果的に減少さ
せ、被走査面8上における複数の結像スポットのスポッ
ト径のばらつきを最小としている。
【0082】特に本実施形態では光軸上におけるリレー
レンズ2の像点P1と集光レンズ3の物点(点P2に相
当)との光軸方向の差をΔ0、光軸外であって2つの発
光点1a,1bのうちの任意の一点の発光点(1b)に
相当する該リレーレンズ2の像点Qと集光レンズ3の物
点(点Rに相当)との光軸方向の差をΔaとしたとき、
(Δ0−Δa)の絶対値が最も小さく成るように調整して
いる。これによって被走査面8上における2つの発光点
1a,1bからのスポットのスポット径のばらつきを小
さくしている。
レンズ2の像点P1と集光レンズ3の物点(点P2に相
当)との光軸方向の差をΔ0、光軸外であって2つの発
光点1a,1bのうちの任意の一点の発光点(1b)に
相当する該リレーレンズ2の像点Qと集光レンズ3の物
点(点Rに相当)との光軸方向の差をΔaとしたとき、
(Δ0−Δa)の絶対値が最も小さく成るように調整して
いる。これによって被走査面8上における2つの発光点
1a,1bからのスポットのスポット径のばらつきを小
さくしている。
【0083】この様な構成をとることによって印字精度
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
【0084】尚、本実施形態においては、上記リレーレ
ンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整を行う構
成としたが、複数の発光点を有する光源1を光軸方向に
移動調整を行う構成としても良く、また複数の発光点を
有する光源1とリレーレンズ2を一体的に光軸方向に移
動調整を行う構成としても良く、また集光レンズ3を光
軸方向に移動調整を行う構成としても良く、また上記を
組み合わせることによって調整を行っても良い。
ンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整を行う構
成としたが、複数の発光点を有する光源1を光軸方向に
移動調整を行う構成としても良く、また複数の発光点を
有する光源1とリレーレンズ2を一体的に光軸方向に移
動調整を行う構成としても良く、また集光レンズ3を光
軸方向に移動調整を行う構成としても良く、また上記を
組み合わせることによって調整を行っても良い。
【0085】ここにおいて、発光点の数は2としている
が本実施形態はこれに限定されるものではなく、むしろ
発光点の数が3以上と数が増えたときに、より一層の効
果を得ることができる。
が本実施形態はこれに限定されるものではなく、むしろ
発光点の数が3以上と数が増えたときに、より一層の効
果を得ることができる。
【0086】また複数の発光点を有する光源1として
は、上記の如く独立に変調可能な複数の発光点をモノリ
シックにアレイ配列する構成の半導体レーザアレイを用
いることが好ましい。このモノリシックマルチビーム半
導体レーザは複数の発光点が互いに近接して配置するこ
とが可能である為、複数の発光点から出射する光ビーム
に対して光学系を共通化することができ、低コストでコ
ンパクトなマルチビーム光走査光学系を実現できるから
である。
は、上記の如く独立に変調可能な複数の発光点をモノリ
シックにアレイ配列する構成の半導体レーザアレイを用
いることが好ましい。このモノリシックマルチビーム半
導体レーザは複数の発光点が互いに近接して配置するこ
とが可能である為、複数の発光点から出射する光ビーム
に対して光学系を共通化することができ、低コストでコ
ンパクトなマルチビーム光走査光学系を実現できるから
である。
【0087】また本実施形態においてはマルチビーム光
走査光学系、それを保持する筐体、複数の発光点を保持
する発光基板、光偏向器、そして走査レンズ系等を一体
化にしてマルチビーム光走査装置を構成している。
走査光学系、それを保持する筐体、複数の発光点を保持
する発光基板、光偏向器、そして走査レンズ系等を一体
化にしてマルチビーム光走査装置を構成している。
【0088】また本実施形態においてはシリンドリカル
レンズ4を用いずに、光源1からの光束をリレーレンズ
2、そして集光レンズ3を介してポリゴンミラー5に導
光するようにしても良い。
レンズ4を用いずに、光源1からの光束をリレーレンズ
2、そして集光レンズ3を介してポリゴンミラー5に導
光するようにしても良い。
【0089】また本実施形態においては走査レンズ系7
を2枚のレンズより構成したが、これに限らず、例えば
単一、もしくは3枚以上のレンズより構成しても良い。
を2枚のレンズより構成したが、これに限らず、例えば
単一、もしくは3枚以上のレンズより構成しても良い。
【0090】[実施形態2]図9は本発明の実施形態2
における光ビーム入射光学系の主走査方向の要部断面図
(主走査断面図)である。図9においてP点と、R点は
図2で示したのと同様である。
における光ビーム入射光学系の主走査方向の要部断面図
(主走査断面図)である。図9においてP点と、R点は
図2で示したのと同様である。
【0091】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点はリレーレンズ2を光軸2aと垂直な面内におい
て、該光軸2aと垂直な方向に成分を持つように移動調
整したことである。(例えば垂直方向や斜め方向に移
動)その他の構成及び光学的作用は実施形態1と略同様
であり、これにより同様な効果を得ている。
なる点はリレーレンズ2を光軸2aと垂直な面内におい
て、該光軸2aと垂直な方向に成分を持つように移動調
整したことである。(例えば垂直方向や斜め方向に移
動)その他の構成及び光学的作用は実施形態1と略同様
であり、これにより同様な効果を得ている。
【0092】即ち、本実施形態においてはリレーレンズ
2を光軸2aと垂直な面内において、該光軸2aと垂直
な方向に成分を持つように移動調整することによって、
該リレーレンズ2の光軸2a上に存在する発光点1aか
ら出射した光ビームAを光軸2aから離れたP'点に、
該リレーレンズ2の光軸2aから外れた位置に存在す
る発光点1bから出射した光ビームBを光軸2a上の
Q'点に結像させる。
2を光軸2aと垂直な面内において、該光軸2aと垂直
な方向に成分を持つように移動調整することによって、
該リレーレンズ2の光軸2a上に存在する発光点1aか
ら出射した光ビームAを光軸2aから離れたP'点に、
該リレーレンズ2の光軸2aから外れた位置に存在す
る発光点1bから出射した光ビームBを光軸2a上の
Q'点に結像させる。
【0093】集光レンズ3に対してQ′点が光軸2a上
の点、P′点が光軸2aから外れた点と成るようにして
いる。
の点、P′点が光軸2aから外れた点と成るようにして
いる。
【0094】このようにリレーレンズ2を移動調整する
ことによって、該リレーレンズ2の光軸2aから外れた
位置に存在する発光点1bから出射した光ビームBの
被走査面8上からのスポットの
ことによって、該リレーレンズ2の光軸2aから外れた
位置に存在する発光点1bから出射した光ビームBの
被走査面8上からのスポットの
【0095】
【外1】
【0096】このように本実施形態においては上述した
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、該リレーレンズ2を光軸2aと
垂直な面内において、該光軸2aと垂直な方向に移動調
整を行うことによって、複数の発光点1a,1bから出
射した光ビームの被走査面8上からのスポットの結像位
置のずれ量を効果的に減少させ、被走査面8上における
複数の結像スポットのスポット径のばらつきを最小とし
ている。
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、該リレーレンズ2を光軸2aと
垂直な面内において、該光軸2aと垂直な方向に移動調
整を行うことによって、複数の発光点1a,1bから出
射した光ビームの被走査面8上からのスポットの結像位
置のずれ量を効果的に減少させ、被走査面8上における
複数の結像スポットのスポット径のばらつきを最小とし
ている。
【0097】この様な構成をとることによって印字精度
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
【0098】尚、本実施形態においては、上記リレーレ
ンズ2を光軸と垂直な面内において,該光軸2aと垂直
な方向に移動調整を行う構成としたが、複数の発光点を
有する光源1を光軸と垂直な方向に移動調整を行う構成
としても良く、また複数の発光点を有する光源1とリレ
ーレンズ2を一体的に光軸と垂直な方向に移動調整を行
う構成としても良く、また集光レンズ3を光軸2aと垂
直な方向に移動調整を行う構成としても良く、また上記
を組み合わせることによって調整を行っても良い。
ンズ2を光軸と垂直な面内において,該光軸2aと垂直
な方向に移動調整を行う構成としたが、複数の発光点を
有する光源1を光軸と垂直な方向に移動調整を行う構成
としても良く、また複数の発光点を有する光源1とリレ
ーレンズ2を一体的に光軸と垂直な方向に移動調整を行
う構成としても良く、また集光レンズ3を光軸2aと垂
直な方向に移動調整を行う構成としても良く、また上記
を組み合わせることによって調整を行っても良い。
【0099】[実施形態3]図10は本発明の実施形態
3における光ビーム入射光学系の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)である。図10においてP点と、R
点は図2で示したのと同様である。
3における光ビーム入射光学系の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)である。図10においてP点と、R
点は図2で示したのと同様である。
【0100】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点はリレーレンズ2を光軸2aと垂直な面内におい
て、該光軸2aと垂直な方向に成分を持つように移動調
整し、さらに該リレーレンズ2を光軸方向に集光レンズ
3側に移動調整したことである。その他の構成及び光学
的作用は実施形態1と略同様であり、これにより同様な
効果を得ている。
なる点はリレーレンズ2を光軸2aと垂直な面内におい
て、該光軸2aと垂直な方向に成分を持つように移動調
整し、さらに該リレーレンズ2を光軸方向に集光レンズ
3側に移動調整したことである。その他の構成及び光学
的作用は実施形態1と略同様であり、これにより同様な
効果を得ている。
【0101】即ち、本実施形態においてはリレーレンズ
2を光軸2aと垂直な面内において、該光軸2aと垂直
な方向に成分を持つように移動調整し、さらに該リレー
レンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整を行う
構成となっている。
2を光軸2aと垂直な面内において、該光軸2aと垂直
な方向に成分を持つように移動調整し、さらに該リレー
レンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整を行う
構成となっている。
【0102】このような調整を行うことによって、リレ
ーレンズ2の光軸2a上に存在する発光点1aから出射
した光ビームAをP'点に結像させ、またリレーレンズ
2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点1bか
ら出射した光ビームBをQ'点に結像させる。
ーレンズ2の光軸2a上に存在する発光点1aから出射
した光ビームAをP'点に結像させ、またリレーレンズ
2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点1bか
ら出射した光ビームBをQ'点に結像させる。
【0103】この場合、リレーレンズ2の光軸2a上に
存在する発光点1aから出射した光ビームAと、リレー
レンズ2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点
1bから出射した光ビームBの被走査面8からのスポッ
トの結像位置のずれ量を、それぞれ同じ程度になるよう
に、上記リレーレンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に
移動調整を行う。
存在する発光点1aから出射した光ビームAと、リレー
レンズ2の光軸2aから外れた位置に存在する発光点
1bから出射した光ビームBの被走査面8からのスポッ
トの結像位置のずれ量を、それぞれ同じ程度になるよう
に、上記リレーレンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に
移動調整を行う。
【0104】このように本実施形態においては上述した
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、該リレーレンズ2を光軸2aと
垂直な面内において、該光軸2aと垂直な方向に成分を
持つように移動調整し、さらに該リレーレンズ2を光軸
方向に集光レンズ3側にδ0だけ移動調整を行うことに
よって、複数の発光点1a,1bから出射した光ビーム
の被走査面8上からのスポットの結像位置のずれ量を効
果的に減少させ、被走査面8上における複数の結像スポ
ットのスポット径のばらつきを最小としている。
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、該リレーレンズ2を光軸2aと
垂直な面内において、該光軸2aと垂直な方向に成分を
持つように移動調整し、さらに該リレーレンズ2を光軸
方向に集光レンズ3側にδ0だけ移動調整を行うことに
よって、複数の発光点1a,1bから出射した光ビーム
の被走査面8上からのスポットの結像位置のずれ量を効
果的に減少させ、被走査面8上における複数の結像スポ
ットのスポット径のばらつきを最小としている。
【0105】この様な構成をとることによって印字精度
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
【0106】尚、本実施形態においては、上記リレーレ
ンズ2を光軸2aと垂直な面内において、該光軸2aと
垂直な方向に成分を持つように移動調整を行う構成とし
たが、複数の発光点を有する光源1を光軸と垂直な方向
に成分を持つように移動調整を行う構成としても良く、
また複数の発光点を有する光源1とリレーレンズ2を一
体的に光軸と垂直な方向に成分を持つように移動調整を
行う構成としても良く、また集光レンズ3を光軸2aと
垂直な方向に成分を持つように移動調整を行う構成とし
ても良く、また上記を組み合わせることによって調整を
行っても良い。
ンズ2を光軸2aと垂直な面内において、該光軸2aと
垂直な方向に成分を持つように移動調整を行う構成とし
たが、複数の発光点を有する光源1を光軸と垂直な方向
に成分を持つように移動調整を行う構成としても良く、
また複数の発光点を有する光源1とリレーレンズ2を一
体的に光軸と垂直な方向に成分を持つように移動調整を
行う構成としても良く、また集光レンズ3を光軸2aと
垂直な方向に成分を持つように移動調整を行う構成とし
ても良く、また上記を組み合わせることによって調整を
行っても良い。
【0107】また本実施形態においては、上記リレーレ
ンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整を行う構
成としたが、複数の発光点を有する光源1を光軸方向に
移動調整を行う構成としても良く、また複数の発光点を
有する光源1とリレーレンズ2を一体的に光軸方向に移
動調整を行う構成としても良く、また集光レンズ3を光
軸方向に移動調整を行う構成としても良く、また上記を
組み合わせることによって調整を行っても良い。
ンズ2を光軸方向に集光レンズ3側に移動調整を行う構
成としたが、複数の発光点を有する光源1を光軸方向に
移動調整を行う構成としても良く、また複数の発光点を
有する光源1とリレーレンズ2を一体的に光軸方向に移
動調整を行う構成としても良く、また集光レンズ3を光
軸方向に移動調整を行う構成としても良く、また上記を
組み合わせることによって調整を行っても良い。
【0108】[実施形態4]図11は本発明の実施形態
4における光ビーム入射光学系の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)である。図11においてP点と、R
点は図2で示したのと同様である。
4における光ビーム入射光学系の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)である。図11においてP点と、R
点は図2で示したのと同様である。
【0109】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点は2つの発光点1a,1bを有する光源1を光軸
2aと直交する軸を中心に回転調整したことである。そ
の他の構成及び光学的作用は実施形態1と略同様であ
り、これにより同様な効果を得ている。
なる点は2つの発光点1a,1bを有する光源1を光軸
2aと直交する軸を中心に回転調整したことである。そ
の他の構成及び光学的作用は実施形態1と略同様であ
り、これにより同様な効果を得ている。
【0110】即ち、本実施形態においては、2つの発光
点1a,1bを有する光源1を光軸2aと直交する軸を
中心に回転調整することによって、該リレーレンズ2の
光軸2aから外れた位置に存在する発光点1bの位置
を変位させ、発光点1bから出射した光ビームBの結像
点をR点に出来るだけ近い位置であるQ'点に結像させ
る。
点1a,1bを有する光源1を光軸2aと直交する軸を
中心に回転調整することによって、該リレーレンズ2の
光軸2aから外れた位置に存在する発光点1bの位置
を変位させ、発光点1bから出射した光ビームBの結像
点をR点に出来るだけ近い位置であるQ'点に結像させ
る。
【0111】具体的には図11に示したように2つの発
光点1a,1bを有する光源1を図中矢印Cで示した方
向に回転させれば、リレーレンズ2による像面湾曲は図
中点線で示した如く回転し、該リレーレンズ2の光軸2
aから外れた位置に存在する発光点1bから出射した
光ビームBはR点に近い位置であるQ'点に結像するこ
とになる。理想的にはQ'点をR点に一致させるのが良
いことは言うまでもない。
光点1a,1bを有する光源1を図中矢印Cで示した方
向に回転させれば、リレーレンズ2による像面湾曲は図
中点線で示した如く回転し、該リレーレンズ2の光軸2
aから外れた位置に存在する発光点1bから出射した
光ビームBはR点に近い位置であるQ'点に結像するこ
とになる。理想的にはQ'点をR点に一致させるのが良
いことは言うまでもない。
【0112】このように本実施形態においては上述した
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、上記複数の発光点を有する光源
1を光軸と直交する軸を中心に回転調整を行うことによ
って、複数の発光点から出射した光ビームの被走査面8
上からのスポットの結像位置のずれ量を効果的に減少さ
せ、被走査面8上における複数の結像スポットのスポッ
ト径のばらつきを最小としている。
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、上記複数の発光点を有する光源
1を光軸と直交する軸を中心に回転調整を行うことによ
って、複数の発光点から出射した光ビームの被走査面8
上からのスポットの結像位置のずれ量を効果的に減少さ
せ、被走査面8上における複数の結像スポットのスポッ
ト径のばらつきを最小としている。
【0113】この様な構成をとることによって印字精度
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
【0114】尚、本実施形態においては、上記複数の発
光点を有する光源1を光軸と直交する軸を中心に回転調
整を行う構成としたが、リレーレンズ2を光軸2aと直
交する軸を中心に回転調整を行う構成としても良く、ま
た集光レンズ3を光軸2aと直交する軸を中心に回転調
整を行う構成としても良い。
光点を有する光源1を光軸と直交する軸を中心に回転調
整を行う構成としたが、リレーレンズ2を光軸2aと直
交する軸を中心に回転調整を行う構成としても良く、ま
た集光レンズ3を光軸2aと直交する軸を中心に回転調
整を行う構成としても良い。
【0115】[実施形態5]図12は本発明の実施形態
5における光ビーム入射光学系の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)である。
5における光ビーム入射光学系の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)である。
【0116】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点は集光レンズ3の像面湾曲収差が、リレーレンズ
2で発生する像面湾曲収差を相殺する方向に設定したこ
とである。その他の構成及び光学的作用は実施形態1と
略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
なる点は集光レンズ3の像面湾曲収差が、リレーレンズ
2で発生する像面湾曲収差を相殺する方向に設定したこ
とである。その他の構成及び光学的作用は実施形態1と
略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【0117】即ち、本実施形態においては、集光レンズ
3の像面湾曲収差がリレーレンズ2で発生する像面湾曲
収差を相殺する方向に設定されている。
3の像面湾曲収差がリレーレンズ2で発生する像面湾曲
収差を相殺する方向に設定されている。
【0118】具体的には集光レンズ3の像面湾曲収差を
オーバーに発生させることによって、リレーレンズ2の
光軸から外れた位置に対応する光ビームBは、集光レ
ンズ3のオーバーな像面湾曲収差の為にP点よりも該リ
レーレンズ2側のQ点に近い、点R'に結像されること
になる。
オーバーに発生させることによって、リレーレンズ2の
光軸から外れた位置に対応する光ビームBは、集光レ
ンズ3のオーバーな像面湾曲収差の為にP点よりも該リ
レーレンズ2側のQ点に近い、点R'に結像されること
になる。
【0119】集光レンズ3の像面湾曲収差を、本実施形
態の如くオーバーに発生させる為には図12に示したよ
うに集光レンズ3を、例えば凹レンズと凸レンズの2枚
構成とすること等によって適宜設計可能である。
態の如くオーバーに発生させる為には図12に示したよ
うに集光レンズ3を、例えば凹レンズと凸レンズの2枚
構成とすること等によって適宜設計可能である。
【0120】このように本実施形態においては上述した
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、集光レンズ3の像面湾曲収差
が、リレーレンズ2で発生する像面湾曲収差を相殺する
方向に設定することによって、複数の発光点から出射し
た光ビームの被走査面8上からのスポットの結像位置の
ずれ量を効果的に減少させ、被走査面8上における複数
の結像スポットのスポット径のばらつきを最小としてい
る。
如くリレーレンズ2の像面湾曲と集光レンズ3の像面湾
曲の和(δ1+δ2)を、集光レンズ3の像面湾曲収差
が、リレーレンズ2で発生する像面湾曲収差を相殺する
方向に設定することによって、複数の発光点から出射し
た光ビームの被走査面8上からのスポットの結像位置の
ずれ量を効果的に減少させ、被走査面8上における複数
の結像スポットのスポット径のばらつきを最小としてい
る。
【0121】この様な構成をとることによって印字精度
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
の低下・画質の劣化の無い、高画質な画像出力の可能な
マルチビーム光走査光学系を達成することができる。
【0122】尚、本実施形態においては、集光レンズ3
の像面湾曲収差が、リレーレンズ2で発生する像面湾曲
収差を相殺する方向に設定する構成としたが、逆に該リ
レーレンズ2の像面湾曲収差が、集光レンズ3で発生す
る像面湾曲収差を相殺する方向に設定する構成としても
良い。
の像面湾曲収差が、リレーレンズ2で発生する像面湾曲
収差を相殺する方向に設定する構成としたが、逆に該リ
レーレンズ2の像面湾曲収差が、集光レンズ3で発生す
る像面湾曲収差を相殺する方向に設定する構成としても
良い。
【0123】また上記実施形態1〜5に詳述した複数の
発光点、リレー光学系、集光レンズのうちの少なくとも
1つを光軸方向に移動させる調整手段、光軸と垂直な面
内において光軸と垂直な方向に移動させる移動手段、光
軸と直交する軸を中心に回転させる回転手段のうちの2
つ以上の手段を適宜複数組み合わせて調整を行っても同
様な効果が得られることは言うまでもない。
発光点、リレー光学系、集光レンズのうちの少なくとも
1つを光軸方向に移動させる調整手段、光軸と垂直な面
内において光軸と垂直な方向に移動させる移動手段、光
軸と直交する軸を中心に回転させる回転手段のうちの2
つ以上の手段を適宜複数組み合わせて調整を行っても同
様な効果が得られることは言うまでもない。
【0124】[画像形成装置]図13は、前述した実施
形態1〜5のマルチビーム光走査装置を用いた画像形成
装置(電子写真プリンタ)の実施形態を示す副走査断面
内における要部断面図である。図13において、符号1
04は画像形成装置を示す。この画像形成装置104に
は、パーソナルコンピュータ等の外部機器117からコ
ードデータDcが入力する。このコードデータDcは、
装置内のプリンタコントローラ111によって、画像デ
ータ(ドットデータ)Diに変換される。この画像デー
タDiは、各実施形態1〜5で示した構成を有する光走
査ユニット100に入力される。そして、この光走査ユ
ニット(マルチビーム光走査装置)100からは、画像
データDiに応じて変調された光ビーム(光束)103
が出射され、この光ビーム103によって感光ドラム1
01の感光面が主走査方向に走査される。
形態1〜5のマルチビーム光走査装置を用いた画像形成
装置(電子写真プリンタ)の実施形態を示す副走査断面
内における要部断面図である。図13において、符号1
04は画像形成装置を示す。この画像形成装置104に
は、パーソナルコンピュータ等の外部機器117からコ
ードデータDcが入力する。このコードデータDcは、
装置内のプリンタコントローラ111によって、画像デ
ータ(ドットデータ)Diに変換される。この画像デー
タDiは、各実施形態1〜5で示した構成を有する光走
査ユニット100に入力される。そして、この光走査ユ
ニット(マルチビーム光走査装置)100からは、画像
データDiに応じて変調された光ビーム(光束)103
が出射され、この光ビーム103によって感光ドラム1
01の感光面が主走査方向に走査される。
【0125】静電潜像担持体(感光体)たる感光ドラム
101は、モータ115によって時計廻りに回転させら
れる。そして、この回転に伴って、感光ドラム101の
感光面が光ビーム103に対して、主走査方向と直交す
る副走査方向に移動する。感光ドラム101の上方に
は、感光ドラム101の表面を一様に帯電せしめる帯電
ローラ102が表面に当接するように設けられている。
そして、帯電ローラ102によって帯電された感光ドラ
ム101の表面に、前記光走査ユニット100によって
走査される光ビーム103が照射されるようになってい
る。
101は、モータ115によって時計廻りに回転させら
れる。そして、この回転に伴って、感光ドラム101の
感光面が光ビーム103に対して、主走査方向と直交す
る副走査方向に移動する。感光ドラム101の上方に
は、感光ドラム101の表面を一様に帯電せしめる帯電
ローラ102が表面に当接するように設けられている。
そして、帯電ローラ102によって帯電された感光ドラ
ム101の表面に、前記光走査ユニット100によって
走査される光ビーム103が照射されるようになってい
る。
【0126】先に説明したように、光ビーム103は、
画像データDiに基づいて変調されており、この光ビー
ム103を照射することによって感光ドラム101の表
面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光
ビーム103の照射位置よりもさらに感光ドラム101
の回転断面内における下流側で感光ドラム101に当接
するように配設された現像器107によってトナー像と
して現像される。
画像データDiに基づいて変調されており、この光ビー
ム103を照射することによって感光ドラム101の表
面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光
ビーム103の照射位置よりもさらに感光ドラム101
の回転断面内における下流側で感光ドラム101に当接
するように配設された現像器107によってトナー像と
して現像される。
【0127】現像器107によって現像されたトナー像
は、感光ドラム101の下方で、感光ドラム101に対
向するように配設された転写ローラ(転写器)108に
よって被転写材たる用紙112上に転写される。用紙1
12は感光ドラム101の前方(図13において右側)
の用紙カセット109内に収納されているが、手差しで
も給紙が可能である。用紙カセット109端部には、給
紙ローラ110が配設されており、用紙カセット109
内の用紙112を搬送路へ送り込む。
は、感光ドラム101の下方で、感光ドラム101に対
向するように配設された転写ローラ(転写器)108に
よって被転写材たる用紙112上に転写される。用紙1
12は感光ドラム101の前方(図13において右側)
の用紙カセット109内に収納されているが、手差しで
も給紙が可能である。用紙カセット109端部には、給
紙ローラ110が配設されており、用紙カセット109
内の用紙112を搬送路へ送り込む。
【0128】以上のようにして、未定着トナー像を転写
された用紙112はさらに感光ドラム101後方(図1
3において左側)の定着器へと搬送される。定着器は内
部に定着ヒータ(図示せず)を有する定着ローラ113
とこの定着ローラ113に圧接するように配設された加
圧ローラ114とで構成されており、転写部から撒送さ
れてきた用紙112を定着ローラ113と加圧ローラ1
14の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙
112上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ロ
ーラ113の後方には排紙ローラ116が配設されてお
り、定着された用紙112を画像形成装置の外に排出せ
しめる。
された用紙112はさらに感光ドラム101後方(図1
3において左側)の定着器へと搬送される。定着器は内
部に定着ヒータ(図示せず)を有する定着ローラ113
とこの定着ローラ113に圧接するように配設された加
圧ローラ114とで構成されており、転写部から撒送さ
れてきた用紙112を定着ローラ113と加圧ローラ1
14の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙
112上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ロ
ーラ113の後方には排紙ローラ116が配設されてお
り、定着された用紙112を画像形成装置の外に排出せ
しめる。
【0129】図13においては図示していないが、プリ
ントコントローラ111は、先に説明したデータの変換
だけでなく、モータ115を始め画像形成装置内の各部
や、光走査ユニット100内のポリゴンモータなどの制
御を行う。
ントコントローラ111は、先に説明したデータの変換
だけでなく、モータ115を始め画像形成装置内の各部
や、光走査ユニット100内のポリゴンモータなどの制
御を行う。
【0130】[カラー画像形成装置]図14は本発明の
実施態様のカラー画像形成装置の要部概略図である。本
実施形態は、マルチビーム光走査装置を4個並べ各々並
行して像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録
するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。図1
4において、60はカラー画像形成装置、11,12,
13,14は各々実施形態1〜5に示したいずれかの構
成を有するマルチビーム光走査装置、21,22,2
3,24は各々像担持体としての感光ドラム、31,3
2,33,34は各々現像器、51は搬送ベルトであ
る。
実施態様のカラー画像形成装置の要部概略図である。本
実施形態は、マルチビーム光走査装置を4個並べ各々並
行して像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録
するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。図1
4において、60はカラー画像形成装置、11,12,
13,14は各々実施形態1〜5に示したいずれかの構
成を有するマルチビーム光走査装置、21,22,2
3,24は各々像担持体としての感光ドラム、31,3
2,33,34は各々現像器、51は搬送ベルトであ
る。
【0131】図14において、カラー画像形成装置60
には、パーソナルコンピュータ等の外部機器52からR
(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)の各色信号
が入力する。これらの色信号は、装置内のプリンタコン
トローラ53によって、C(シアン),M(マゼン
タ),Y(イエロー)、B(ブラック)の各画像データ
(ドットデータ)に変換される。これらの画像データ
は、それぞれマルチビーム光走査装置11,12,1
3,14に入力される。そして、これらのマルチビーム
光走査装置からは、各画像データに応じて変調された光
ビーム41,42,43,44が出射され、これらの光
ビームによって感光ドラム21,22,23,24の感
光面が主走査方向に走査される。
には、パーソナルコンピュータ等の外部機器52からR
(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)の各色信号
が入力する。これらの色信号は、装置内のプリンタコン
トローラ53によって、C(シアン),M(マゼン
タ),Y(イエロー)、B(ブラック)の各画像データ
(ドットデータ)に変換される。これらの画像データ
は、それぞれマルチビーム光走査装置11,12,1
3,14に入力される。そして、これらのマルチビーム
光走査装置からは、各画像データに応じて変調された光
ビーム41,42,43,44が出射され、これらの光
ビームによって感光ドラム21,22,23,24の感
光面が主走査方向に走査される。
【0132】本実施態様におけるカラー画像形成装置は
マルチビーム光走査装置(11,12,13,14)を
4個並べ、各々がC(シアン),M(マゼンタ),Y
(イエロー)、B(ブラック)の各色に対応し、各々平
行して感光ドラム21,22,23,24面上に画像信
号(画像情報)を記録し、カラー画像を高速に印字する
ものである。
マルチビーム光走査装置(11,12,13,14)を
4個並べ、各々がC(シアン),M(マゼンタ),Y
(イエロー)、B(ブラック)の各色に対応し、各々平
行して感光ドラム21,22,23,24面上に画像信
号(画像情報)を記録し、カラー画像を高速に印字する
ものである。
【0133】本実施態様におけるカラー画像形成装置は
上述の如く4つのマルチビーム光走査装置11,12,
13,14により各々の画像データに基づいた光ビーム
を用いて各色の潜像を各々対応する感光ドラム21,2
2,23,24面上に形成している。その後、記録材に
多重転写して1枚のフルカラー画像を形成している。
上述の如く4つのマルチビーム光走査装置11,12,
13,14により各々の画像データに基づいた光ビーム
を用いて各色の潜像を各々対応する感光ドラム21,2
2,23,24面上に形成している。その後、記録材に
多重転写して1枚のフルカラー画像を形成している。
【0134】前記外部機器52としては、例えばCCD
センサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良
い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー
画像形成装置60とで、カラーデジタル複写機が構成さ
れる。
センサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良
い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー
画像形成装置60とで、カラーデジタル複写機が構成さ
れる。
【0135】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く複数の発光点
と集光レンズとの間の光路内にリレー光学系を設け、該
リレー光学系による複数の発光点のそれぞれの結像点よ
りも光源側に開口絞りを配置することにより、該複数の
発光点からの光ビームの結像位置のズレを根本的に解消
することができ、さらに複数の発光点から出射した複数
の光ビームの被走査面上における複数の光スポットの集
光状態のばらつきを効果的に低減することによって、高
速・高画質の画像出力に最適なマルチビーム光走査光学
系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装
置を達成することができる。
と集光レンズとの間の光路内にリレー光学系を設け、該
リレー光学系による複数の発光点のそれぞれの結像点よ
りも光源側に開口絞りを配置することにより、該複数の
発光点からの光ビームの結像位置のズレを根本的に解消
することができ、さらに複数の発光点から出射した複数
の光ビームの被走査面上における複数の光スポットの集
光状態のばらつきを効果的に低減することによって、高
速・高画質の画像出力に最適なマルチビーム光走査光学
系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装
置を達成することができる。
【図1】 本発明の実施形態1のマルチビーム光走査光
学系の主走査方向の要部断面図
学系の主走査方向の要部断面図
【図2】 本発明の実施形態1における、像面湾曲の和
の調整方法を説明する図
の調整方法を説明する図
【図3】 本発明の実施形態1における、リレー光学系
の像面湾曲収差図
の像面湾曲収差図
【図4】 本発明の実施形態1における、集光レンズの
像面湾曲収差図
像面湾曲収差図
【図5】 本発明の実施形態1における、像面湾曲の和
の調整方法を説明する図
の調整方法を説明する図
【図6】 本発明の実施形態1における、像面湾曲の和
の調整方法を説明する図
の調整方法を説明する図
【図7】 本発明の実施形態1における、像面湾曲の和
の調整方法を説明する図
の調整方法を説明する図
【図8】 本発明の実施形態1における、像面湾曲の和
の調整方法を説明する図
の調整方法を説明する図
【図9】 本発明の実施形態2における、像面湾曲の和
の調整方法を説明する図
の調整方法を説明する図
【図10】 本発明の実施形態3における、像面湾曲の
和の調整方法を説明する図
和の調整方法を説明する図
【図11】 本発明の実施形態4における、像面湾曲の
和の調整方法を説明する図
和の調整方法を説明する図
【図12】 本発明の実施形態5における、像面湾曲の
和の調整方法を説明する図
和の調整方法を説明する図
【図13】 本発明の画像形成装置の実施形態を示す副
走査方向の要部断面図
走査方向の要部断面図
【図14】 本発明のカラー画像形成装置の実施形態を
示す副走査方向の要部断面図
示す副走査方向の要部断面図
【図15】 従来のマルチビーム光走査光学系の主走査
方向の要部断面図
方向の要部断面図
【図16】 マルチビーム光走査光学系の発光点の配置
を示す図
を示す図
【図17】 マルチビーム光走査光学系の発光点の配置
を示す図
を示す図
【図18】 従来のマルチビーム光走査光学系において
ピントずれが発生した場合の説明図
ピントずれが発生した場合の説明図
【図19】 リレーレンズ系を使用したマルチビーム光
走査光学系の主走査方向の要部断面図
走査光学系の主走査方向の要部断面図
【図20】 リレーレンズ系を使用したマルチビーム光
走査光学系の入射光学系の主走査方向の要部断面図
走査光学系の入射光学系の主走査方向の要部断面図
1 光源(半導体レーザアレイ)
2 リレー光学系(リレーレンズ)
3 集光レンズ
4 シリンドリカルレンズ
5 光偏向器(ポリゴンミラー)
6 開口絞り
7 走査レンズ系(fθレンズ系)
8 被走査面(感光ドラム面)
9 光ビーム入射光学系
11、12、13、14 マルチビーム光走査装置
21、22、23、24 像担持体(感光ドラム)
31、32、33、34 現像器
41 搬送ベルト
51 マルチビームレーザー
52 外部機器
53 プリンタコントローラ
60 カラー画像形成装置
100 マルチビーム光走査装置
101 感光ドラム
102 帯電ローラ
103 光ビーム
104 画像形成装置
107 現像装置
108 転写ローラ
109 用紙カセット
110 給紙ローラ
111 プリンタコントローラ
112 転写材(用紙)
113 定着ローラ
114 加圧ローラ
115 モータ
116 排紙ローラ
117 外部機器
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
H04N 1/113 H04N 1/04 104A
Fターム(参考) 2C362 AA13 AA26 AA40 AA43 AA48
BA51 BA52 BA84 BA85 BA86
2H043 AD04 AD06 AD15 AD23
2H045 AA01 BA22 BA32 BA34 DA02
5C072 AA03 BA03 BA15 DA17 HA01
HA06 HA08 HA13 HB10
Claims (14)
- 【請求項1】 複数の発光点から出射したそれぞれの光
ビームを集光レンズで集光し、光偏向器の偏向面上に入
射させる光ビーム入射光学系を有し、複数の光ビームを
走査レンズ系を介し被走査面上に導光するマルチビーム
光走査光学系において、 該光ビーム入射光学系は、該複数の発光点と該集光レン
ズとの間にリレー光学系を有しており、該リレー光学系
の複数の発光点に対応する像面位置と該集光レンズの該
複数の発光点に対応する物点位置を調整することによ
り、該被走査面上における複数の光スポットの集光状態
のばらつきを低減したことを特徴とするマルチビーム光
走査光学系。 - 【請求項2】 前記被走査面上における複数の光スポッ
トの集光状態のばらつきは、該光スポットのスポット径
であることを特徴とする請求項1記載のマルチビーム光
走査光学系。 - 【請求項3】 前記被走査面上における複数の光スポッ
トの集光状態のばらつきは、該光スポットのスポット径
が最小となるビームウェスト位置であることを特徴とす
る請求項1記載のマルチビーム光走査光学系。 - 【請求項4】 前記調整は、前記複数の発光点、リレー
光学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸方
向又は/及び光軸と垂直方向の成分を持つように移動さ
せて行っていることを特徴とする請求項1、2又は3記
載のマルチビーム光走査光学系。 - 【請求項5】 前記調整は、前記複数の発光点、リレー
光学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸と
直交する軸を中心に回転させて行っていることを特徴と
する請求項1、2又は3記載のマルチビーム光走査光学
系。 - 【請求項6】 前記調整は、前記複数の発光点、リレー
光学系、集光レンズのうちの少なくとも1つを、光軸方
向に移動させる調整手段、光軸と垂直な面内において光
軸と垂直な方向に成分を持つように移動させる移動手
段、光軸と直交する軸を中心に回転させる回転手段のう
ちの2つ以上の手段を組み合わせて行っていることを特
徴とする請求項1、2又は3記載のマルチビーム光走査
光学系。 - 【請求項7】 前記複数の発光点は、各々独立に変調可
能であり、モノリシックにアレイ配列して構成されてい
ることを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載
のマルチビーム光走査光学系。 - 【請求項8】 前記調整は、前記集光レンズの像面湾曲
収差が、前記リレー光学系で発生する像面湾曲収差を相
殺する方向に設定して行っていることを特徴とする請求
項1記載のマルチビーム光走査光学系。 - 【請求項9】 複数の発光点から出射したそれぞれの光
ビームを集光レンズで集光し、光偏向器の偏向面上に入
射させる光ビーム入射光学系を有し、複数の光ビームを
走査レンズ系を介し被走査面上に導光するマルチビーム
光走査光学系において、 該光ビーム入射光学系は、該複数の発光点と該集光レン
ズとの間にリレー光学系を有しており、光軸上の発光点
に対応する該リレー光学系の像点と該集光レンズの物点
との光軸方向の差をΔ0、光軸外であって複数の発光点
の任意の1つの発光点に対応する該リレー光学系の像点
と該集光レンズの物点との光軸方向の差をΔaとしたと
き、(Δ0−Δa)の絶対値が最も小さく成るように調整
することにより、該被走査面上における複数の光スポッ
トの集光状態のばらつきを低減したことを特徴とするマ
ルチビーム光走査光学系。 - 【請求項10】 請求項1乃至9の何れか1項に記載の
マルチビーム光走査光学系、それを保持する筐体、複数
の発光点を保持する発光基板、光偏向器、そして走査レ
ンズ系を一体化して構成したことを特徴とするマルチビ
ーム光走査装置。 - 【請求項11】 請求項10記載のマルチビーム光走査
装置と、被走査面に配置された感光体と、前記マルチビ
ーム光走査装置で走査されたそれぞれの光ビームによっ
て前記感光体上に形成された静電潜像をトナー像として
現像する現像器と、前記現像されたトナー像を被転写材
に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に
定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成
装置。 - 【請求項12】 請求項10記載のマルチビーム光走査
装置と、外部機器から入力されたコードデータを画像信
号に変換して前記マルチビーム光走査装置に入力せしめ
るプリンタコントローラを有していることを特徴とする
画像形成装置。 - 【請求項13】 各々が請求項10記載のマルチビーム
光走査装置から成る複数のマルチビーム光走査装置と、
各々のマルチビーム光走査装置の被走査面に配置され、
互いに異なった色の画像を形成する複数の像坦持体とを
有することを特徴とするカラー画像形成装置。 - 【請求項14】 各々が請求項10記載のマルチビーム
光走査装置から成る複数のマルチビーム光走査装置と、
外部機器から入力されたコードデータを異なった色ごと
に画像信号に変換して、各々の色に対応したそれぞれの
マルチビーム光走査装置に入力せしめるプリンタコント
ローラを有していることを特徴とするカラー画像形成装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001236505A JP2003043390A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | マルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001236505A JP2003043390A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | マルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003043390A true JP2003043390A (ja) | 2003-02-13 |
Family
ID=19067759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001236505A Pending JP2003043390A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | マルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置及びカラー画像形成装置 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP2003043390A (ja) |
-
2001
- 2001-08-03 JP JP2001236505A patent/JP2003043390A/ja active Pending
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