JP2003041192A - 転写方法及び転写用被覆剤 - Google Patents
転写方法及び転写用被覆剤Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 転写膜の膜厚ムラやハジキ等の生じにくい転
写方法及びその被覆剤を提供する。 【解決手段】 基材表面に、バインダー樹脂及び溶媒を
必須成分として含有する被覆剤を転写する方法におい
て、該被覆剤が、基材表面を前進する際に生じる前進表
面張力と後退する際に生じる後退表面張力との差が１０
ｍＮ／ｍ以下であり、かつ、２０℃における粘度が１０
０ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに、静置状態における表
面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶媒を、該被覆材中の全溶
媒に対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特
徴とする転写方法及び転写用被覆剤。
写方法及びその被覆剤を提供する。 【解決手段】 基材表面に、バインダー樹脂及び溶媒を
必須成分として含有する被覆剤を転写する方法におい
て、該被覆剤が、基材表面を前進する際に生じる前進表
面張力と後退する際に生じる後退表面張力との差が１０
ｍＮ／ｍ以下であり、かつ、２０℃における粘度が１０
０ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに、静置状態における表
面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶媒を、該被覆材中の全溶
媒に対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特
徴とする転写方法及び転写用被覆剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材表面に被覆剤
を、ハジキや膜厚ムラの生じにくい状態で転写する方法
及び基材への転写用被覆剤に関するものである。
を、ハジキや膜厚ムラの生じにくい状態で転写する方法
及び基材への転写用被覆剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、プラスチックや、紙、金属、
木材、無機質等の各種素材からなる基材表面に、装飾
や、画像、機能性等を付与する目的で各種被覆剤が、印
刷もしくは塗装されている。その印刷、塗装手段の一つ
として、転写方法が知られている。
木材、無機質等の各種素材からなる基材表面に、装飾
や、画像、機能性等を付与する目的で各種被覆剤が、印
刷もしくは塗装されている。その印刷、塗装手段の一つ
として、転写方法が知られている。
【０００３】ところで、シート状、フィルム状あるいは
板状の基材表面に被覆剤を転写する際、しばしば膜厚ム
ラやハジキが生じやすく、それを解消するため、通常、
基材表面を特定の表面処理剤で処理したり、被覆剤に消
泡剤、粘度調整剤等の各種添加剤を配合して解決してい
た。しかしながら、基材表面を表面処理剤で処理する方
法は、処理工程が増え、またコストの面でも問題があ
り、更に、基材の種類毎に表面処理剤を開発する必要が
あり、それでもしばしば膜厚ムラやハジキ等が生じる問
題があった。また、添加剤等を配合する方法も基材の種
類に応じて被覆剤を配合設計しないと同様な問題がしば
しば発生していた。
板状の基材表面に被覆剤を転写する際、しばしば膜厚ム
ラやハジキが生じやすく、それを解消するため、通常、
基材表面を特定の表面処理剤で処理したり、被覆剤に消
泡剤、粘度調整剤等の各種添加剤を配合して解決してい
た。しかしながら、基材表面を表面処理剤で処理する方
法は、処理工程が増え、またコストの面でも問題があ
り、更に、基材の種類毎に表面処理剤を開発する必要が
あり、それでもしばしば膜厚ムラやハジキ等が生じる問
題があった。また、添加剤等を配合する方法も基材の種
類に応じて被覆剤を配合設計しないと同様な問題がしば
しば発生していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術の課題を背景になされたもので、膜厚ムラや、
ハジキの生じにくい転写方法及び転写用被覆剤を提供す
ることを目的とする。
従来技術の課題を背景になされたもので、膜厚ムラや、
ハジキの生じにくい転写方法及び転写用被覆剤を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意検討した結果、転写される被覆剤の
基材表面に対する特定の表面張力を有する被覆剤を使用
することにより、上記課題が達成できることを見出し、
本発明に到達したものである。
を解決するため鋭意検討した結果、転写される被覆剤の
基材表面に対する特定の表面張力を有する被覆剤を使用
することにより、上記課題が達成できることを見出し、
本発明に到達したものである。
【０００６】本発明の一つの局面によれば、次に示すと
おり被覆剤の転写方法が提供される：基材表面に、バイ
ンダー樹脂及び溶媒を必須成分として含有する被覆剤を
転写する方法において、該被覆剤は、基材表面を前進す
る際に生じる前進表面張力と後退する際に生じる後退表
面張力との差が１０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ、２０℃
における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに、
静置状態における表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶媒
を、該被覆剤中の全溶媒に対して５〜１００質量％の範
囲で含有することを特徴とする転写方法：［但し、上記
前進及び後退表面張力は、以下の方法に基づき計算、測
定されるものである。前進表面張力(ｆA)：被覆剤中に
基材が、垂直方向で浸漬、接触したときの張力(ＦA)を
周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆA＝ＦA／Ｐ 後退表面張力(ｆR)：被覆剤中から基材が、垂直方向で
引き上げられるときの張力(ＦR)を周囲長さ(Ｐ)で除し
た値である。 ｆR＝ＦR／Ｐ ］ 本発明の他の局面によれば、次に示すとおり基材への転
写用被覆剤が提供される：基材表面に転写するための、
必須成分としてバインダー樹脂及び溶媒からなる被覆剤
において、該被覆剤は、基材表面を前進する際に生じる
前進表面張力と後退する際に生じる後退表面張力との差
が１０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ、２０℃における粘度
が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに、静置状態にお
ける表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶媒を、該被覆剤中
の全溶媒に対して５〜１００質量％の範囲で含有するこ
とを特徴とする上記転写用被覆剤：［但し、上記前進及
び後退表面張力は、動力Ｗｉｌｈｅｌｍｙ平板（動的接
触角）法に基づいて以下のとおり測定されるものであ
る。前進表面張力(ｆA)：被覆される基材が、被覆剤中
に垂直方向で浸漬、接触したときの張力(ＦA)を基材の
周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆA＝ＦA／Ｐ 後退表面張力(ｆR)：被覆される基材が、被覆剤中に浸
漬された状態から垂直方向に引き上げられるときの張力
(ＦR)を基材の周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆR＝ＦR／Ｐ ］
おり被覆剤の転写方法が提供される：基材表面に、バイ
ンダー樹脂及び溶媒を必須成分として含有する被覆剤を
転写する方法において、該被覆剤は、基材表面を前進す
る際に生じる前進表面張力と後退する際に生じる後退表
面張力との差が１０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ、２０℃
における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに、
静置状態における表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶媒
を、該被覆剤中の全溶媒に対して５〜１００質量％の範
囲で含有することを特徴とする転写方法：［但し、上記
前進及び後退表面張力は、以下の方法に基づき計算、測
定されるものである。前進表面張力(ｆA)：被覆剤中に
基材が、垂直方向で浸漬、接触したときの張力(ＦA)を
周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆA＝ＦA／Ｐ 後退表面張力(ｆR)：被覆剤中から基材が、垂直方向で
引き上げられるときの張力(ＦR)を周囲長さ(Ｐ)で除し
た値である。 ｆR＝ＦR／Ｐ ］ 本発明の他の局面によれば、次に示すとおり基材への転
写用被覆剤が提供される：基材表面に転写するための、
必須成分としてバインダー樹脂及び溶媒からなる被覆剤
において、該被覆剤は、基材表面を前進する際に生じる
前進表面張力と後退する際に生じる後退表面張力との差
が１０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ、２０℃における粘度
が１００ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに、静置状態にお
ける表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶媒を、該被覆剤中
の全溶媒に対して５〜１００質量％の範囲で含有するこ
とを特徴とする上記転写用被覆剤：［但し、上記前進及
び後退表面張力は、動力Ｗｉｌｈｅｌｍｙ平板（動的接
触角）法に基づいて以下のとおり測定されるものであ
る。前進表面張力(ｆA)：被覆される基材が、被覆剤中
に垂直方向で浸漬、接触したときの張力(ＦA)を基材の
周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆA＝ＦA／Ｐ 後退表面張力(ｆR)：被覆される基材が、被覆剤中に浸
漬された状態から垂直方向に引き上げられるときの張力
(ＦR)を基材の周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆR＝ＦR／Ｐ ］
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明で使用する被覆剤は、バイ
ンダー樹脂（必要に応じてその硬化剤併用）、それを溶
解、もしくは安定に分散させるための溶媒を必須成分と
して含み、さらに必要に応じて、通常、塗料やインクに
使用されている着色顔料、体質顔料、染料、等の染顔
料；分散剤、粘度調整剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、
帯電防止剤等の各種添加剤を配合したものから構成され
る。上記バインダー樹脂としては、通常、塗料やインク
に使用されているものが特に制限なく利用可能である
が、具体的には、例えば、エポキシ樹脂や、ポリエステ
ル樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂、アルキッド樹
脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、あるいはこれら樹脂の
変性樹脂等が代表的なものとして挙げられる。
ンダー樹脂（必要に応じてその硬化剤併用）、それを溶
解、もしくは安定に分散させるための溶媒を必須成分と
して含み、さらに必要に応じて、通常、塗料やインクに
使用されている着色顔料、体質顔料、染料、等の染顔
料；分散剤、粘度調整剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、
帯電防止剤等の各種添加剤を配合したものから構成され
る。上記バインダー樹脂としては、通常、塗料やインク
に使用されているものが特に制限なく利用可能である
が、具体的には、例えば、エポキシ樹脂や、ポリエステ
ル樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂、アルキッド樹
脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、あるいはこれら樹脂の
変性樹脂等が代表的なものとして挙げられる。
【０００８】また、上記溶媒としては、通常、塗料やイ
ンクに使用されているものが特に制限なく利用可能であ
るが、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、シクロヘキサノールなどのア
ルコール類；イソプロピルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテルなどのエーテル類；メチルエチル
ケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；ｎ−ヘキ
サン、キシレン、トルエンなどの炭化水素類；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、ギ酸イソブチルなどのエステル類；等
が代表的なものとして挙げられ、これら溶媒は、二種以
上の混合溶媒として使用してもよい。
ンクに使用されているものが特に制限なく利用可能であ
るが、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、シクロヘキサノールなどのア
ルコール類；イソプロピルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテルなどのエーテル類；メチルエチル
ケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；ｎ−ヘキ
サン、キシレン、トルエンなどの炭化水素類；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、ギ酸イソブチルなどのエステル類；等
が代表的なものとして挙げられ、これら溶媒は、二種以
上の混合溶媒として使用してもよい。
【０００９】本発明で使用する被覆剤は、こうような成
分から構成され、ハジキや膜厚ムラが生じないようにす
るため、以下の特性を有する必要がある。
分から構成され、ハジキや膜厚ムラが生じないようにす
るため、以下の特性を有する必要がある。
【００１０】（１）被覆剤が、基材表面を前進する際に
生じる前進表面張力と後退する際に生じる後退表面張力
との差が１０ｍＮ／ｍ以下、好ましくは０〜５ｍＮ／ｍ
の被覆剤であること。なお、両者の差が、１０ｍＮ／ｍ
を越えると、ハジキや、膜厚ムラが生じやすくなり、ま
た、転写膜の基材基材との密着性も悪くなるので好まし
くない。上記前進表面張力、後退表面張力は、以下の方
法に基づき計算、測定されるものである。前進表面張力
(ｆA)：被覆される基材が、被覆剤に、垂直方向に接触
したときの張力(ＦA)を周囲長さ(Ｐ)で除した値であ
る。 ｆA＝ＦA／Ｐ 後退表面張力(ｆR)：被覆される基材が、被覆剤中に浸
漬された状態から、垂直方向で離れるときの張力(ＦR)
を周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆR＝ＦR／Ｐ なお、上記張力（ＦA、ＦR）は、温度；２０℃、湿度；
５０％ＲＨ、基材幅；３０ｍｍ、基材厚さ；０．４ｍ
ｍ、基材浸漬及び引き上げ速度；１０ｍｍ／分、の条件
下で測定した値であり、基材の周囲長さＰは、次の式に
て計算されたものである。 Ｐ＝（（基材厚さ）＋（基材幅））×２ また、張力ＦA、ＦRは、動的Ｗｉｌｈｅｌｍｙ平板（動
的接触角）法による測定装置（例えば、（株）オリエン
テック社製 動的接触角測定装置 ＤＣＡ−２０）にて
測定される。
生じる前進表面張力と後退する際に生じる後退表面張力
との差が１０ｍＮ／ｍ以下、好ましくは０〜５ｍＮ／ｍ
の被覆剤であること。なお、両者の差が、１０ｍＮ／ｍ
を越えると、ハジキや、膜厚ムラが生じやすくなり、ま
た、転写膜の基材基材との密着性も悪くなるので好まし
くない。上記前進表面張力、後退表面張力は、以下の方
法に基づき計算、測定されるものである。前進表面張力
(ｆA)：被覆される基材が、被覆剤に、垂直方向に接触
したときの張力(ＦA)を周囲長さ(Ｐ)で除した値であ
る。 ｆA＝ＦA／Ｐ 後退表面張力(ｆR)：被覆される基材が、被覆剤中に浸
漬された状態から、垂直方向で離れるときの張力(ＦR)
を周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆR＝ＦR／Ｐ なお、上記張力（ＦA、ＦR）は、温度；２０℃、湿度；
５０％ＲＨ、基材幅；３０ｍｍ、基材厚さ；０．４ｍ
ｍ、基材浸漬及び引き上げ速度；１０ｍｍ／分、の条件
下で測定した値であり、基材の周囲長さＰは、次の式に
て計算されたものである。 Ｐ＝（（基材厚さ）＋（基材幅））×２ また、張力ＦA、ＦRは、動的Ｗｉｌｈｅｌｍｙ平板（動
的接触角）法による測定装置（例えば、（株）オリエン
テック社製 動的接触角測定装置 ＤＣＡ−２０）にて
測定される。
【００１１】（２）被覆剤の２０℃における粘度が１０
０ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは、８０ｍＰａ・ｓ以下で
あること。なお、粘度が１００ｍＰａ・ｓを越えると、
転写膜の膜厚制御が困難となるので好ましくない。粘度
は、回転粘度計（例えば、（株）トキメック社製 Ｂ型
粘度計）にて測定される。
０ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは、８０ｍＰａ・ｓ以下で
あること。なお、粘度が１００ｍＰａ・ｓを越えると、
転写膜の膜厚制御が困難となるので好ましくない。粘度
は、回転粘度計（例えば、（株）トキメック社製 Ｂ型
粘度計）にて測定される。
【００１２】（３）被覆剤の構成成分である溶媒におい
て、静置状態における表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶
媒量が、全溶媒中の５〜１００質量％、好ましくは、１
０〜９０％の範囲であること。なお、２５ｍＮ／ｍ以下
の溶媒量が、５％未満となると、被覆剤の表面張力の調
整が困難となり、好ましくない。なお、表面張力は、Ｗ
ｉｌｈｅｌｍｙ法（例えば、協和界面科学（株）製 表
面張力計ＣＢＶＰ−Ａ型）にて測定される。
て、静置状態における表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶
媒量が、全溶媒中の５〜１００質量％、好ましくは、１
０〜９０％の範囲であること。なお、２５ｍＮ／ｍ以下
の溶媒量が、５％未満となると、被覆剤の表面張力の調
整が困難となり、好ましくない。なお、表面張力は、Ｗ
ｉｌｈｅｌｍｙ法（例えば、協和界面科学（株）製 表
面張力計ＣＢＶＰ−Ａ型）にて測定される。
【００１３】さらに、好ましくは、以下の（４）、
（５）の条件を満たす被覆剤が望ましい。（４）被覆剤
の転写される基材との静的接触角が３０°以下、好まし
くは、２０°以下であること。なお、静的接触角が３０
°を越えると、被覆剤の精密な印刷、塗装の制御が難し
くなり、また、ハジキや膜厚ムラも生じやすくなる傾向
にある。静的接触角は、液滴法（例えば、協和界面科学
（株）製 接触角計ＣＡ−Ｘ型）にて測定される。
（５）の条件を満たす被覆剤が望ましい。（４）被覆剤
の転写される基材との静的接触角が３０°以下、好まし
くは、２０°以下であること。なお、静的接触角が３０
°を越えると、被覆剤の精密な印刷、塗装の制御が難し
くなり、また、ハジキや膜厚ムラも生じやすくなる傾向
にある。静的接触角は、液滴法（例えば、協和界面科学
（株）製 接触角計ＣＡ−Ｘ型）にて測定される。
【００１４】（５）被覆剤の静止状態における表面張力
が、２７ｍＮ／ｍ以下、好ましくは、２５ｍＮ／ｍ以下
であること。なお、表面張力が、２７ｍＮ／ｍを越える
と薄膜、例えば、５μｍ以下の膜厚制御が難しくなる傾
向にある。
が、２７ｍＮ／ｍ以下、好ましくは、２５ｍＮ／ｍ以下
であること。なお、表面張力が、２７ｍＮ／ｍを越える
と薄膜、例えば、５μｍ以下の膜厚制御が難しくなる傾
向にある。
【００１５】本発明の転写方法は、以上説明した（１）
〜（３）の条件、好ましくは（１）〜（５）の条件を満
たす方法で実施することにより、ハジキや膜厚ムラのな
い転写膜が形成される。なお、これら条件を満たすため
には、実際に転写される基材を使用して、上記被覆剤の
バインダー樹脂、溶媒などの構成成分の種類、量等を事
前に調整し、被覆剤の上記特性を、確認測定して、決定
すればよい。
〜（３）の条件、好ましくは（１）〜（５）の条件を満
たす方法で実施することにより、ハジキや膜厚ムラのな
い転写膜が形成される。なお、これら条件を満たすため
には、実際に転写される基材を使用して、上記被覆剤の
バインダー樹脂、溶媒などの構成成分の種類、量等を事
前に調整し、被覆剤の上記特性を、確認測定して、決定
すればよい。
【００１６】転写方法としては、転写する目的、用途に
応じて、決定すればよく、例えば、ロールコーター法
や、ダイコーター法、ブレードコーター法、グラビアコ
ート法、フローコーター法、バーコート法などが代表的
な方法としてあげられる。
応じて、決定すればよく、例えば、ロールコーター法
や、ダイコーター法、ブレードコーター法、グラビアコ
ート法、フローコーター法、バーコート法などが代表的
な方法としてあげられる。
【００１７】以下、実施例により、更に詳細に説明す
る。なお、実施例中、「部」、「％」は、特に断らない
限り、質量基準として示す。被覆剤の調製
る。なお、実施例中、「部」、「％」は、特に断らない
限り、質量基準として示す。被覆剤の調製
【００１８】「被覆剤Ａ」酢酸ブチル（表面張力２５．
２ｍＮ／ｍ；２０℃）４５％のアクリル樹脂溶液６９部
に、イソプロピルアルコール（表面張力２１．７ｍＮ／
ｍ；２０℃）５０部を加え、被覆剤Ａを調製した。な
お、被覆剤Ａは、２０℃における粘度が２８ｍＰａ・
ｓ、静止状態における表面張力が２６ｍＮ／ｍであっ
た。
２ｍＮ／ｍ；２０℃）４５％のアクリル樹脂溶液６９部
に、イソプロピルアルコール（表面張力２１．７ｍＮ／
ｍ；２０℃）５０部を加え、被覆剤Ａを調製した。な
お、被覆剤Ａは、２０℃における粘度が２８ｍＰａ・
ｓ、静止状態における表面張力が２６ｍＮ／ｍであっ
た。
【００１９】「被覆剤Ｂ」酢酸ブチル４３％のアクリル
樹脂溶液４４部に、ジイソブチルケトン（表面張力２
２．５ｍＮ／ｍ；２０℃）７部とキシレン（表面張力２
８．９ｍＮ／ｍ；２０℃）６０部を加え、アクリル樹脂
被覆剤Ｂを調製した。なお、被覆剤Ｂは、２０℃におけ
る粘度が３３ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面張力が
２８ｍＮ／ｍであった。
樹脂溶液４４部に、ジイソブチルケトン（表面張力２
２．５ｍＮ／ｍ；２０℃）７部とキシレン（表面張力２
８．９ｍＮ／ｍ；２０℃）６０部を加え、アクリル樹脂
被覆剤Ｂを調製した。なお、被覆剤Ｂは、２０℃におけ
る粘度が３３ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面張力が
２８ｍＮ／ｍであった。
【００２０】「被覆剤Ｃ」被覆剤Ｂで使用した同様のア
クリル樹脂溶液７９部に、イソプロピルアルコール３０
部を加え、被覆剤Ｃを調製した。なお、被覆剤Ｃは、２
０℃における粘度が２５ｍＰａ・ｓ、静止状態における
表面張力が２４ｍＮ／ｍであった。
クリル樹脂溶液７９部に、イソプロピルアルコール３０
部を加え、被覆剤Ｃを調製した。なお、被覆剤Ｃは、２
０℃における粘度が２５ｍＰａ・ｓ、静止状態における
表面張力が２４ｍＮ／ｍであった。
【００２１】「被覆剤Ｄ」キシレン４２％、酢酸ブチル
１５％のアクリル樹脂溶液４４部に、キシレン６３部を
加え、被覆剤Ｄを調製した。なお、被覆剤Ｄは、２０℃
における粘度が３１ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面
張力が３０ｍＮ／ｍであった。
１５％のアクリル樹脂溶液４４部に、キシレン６３部を
加え、被覆剤Ｄを調製した。なお、被覆剤Ｄは、２０℃
における粘度が３１ｍＰａ・ｓ、静止状態における表面
張力が３０ｍＮ／ｍであった。
【００２２】「被覆剤Ｅ」被覆剤Ｄで使用した同様のア
クリル樹脂溶液１２３部に、イソプロピルアルコール２
３部を加え、被覆剤Ｅを調製した。なお、被覆剤Ｅは、
２０℃における粘度が１２０ｍＰａ・ｓ、静止状態にお
ける表面張力が２８ｍＮ／ｍであった。
クリル樹脂溶液１２３部に、イソプロピルアルコール２
３部を加え、被覆剤Ｅを調製した。なお、被覆剤Ｅは、
２０℃における粘度が１２０ｍＰａ・ｓ、静止状態にお
ける表面張力が２８ｍＮ／ｍであった。
【００２３】基材
厚さ０．４ｍｍ、幅７０ｍｍ、長さ１５０ｍｍの四フッ
化ポリエチレン板（基材Ａ）と、同じ寸法のガラス板
（基材Ｂ）を使用した。
化ポリエチレン板（基材Ａ）と、同じ寸法のガラス板
（基材Ｂ）を使用した。
【００２４】実施例１〜４、比較例１〜３
基材Ａ、Ｂ表面に、幅５０μmの直線パターンの塗膜を
形成するロールコーターを用いて、それぞれ被覆剤Ａ〜
Ｅを、膜厚５μｍになるように転写し、塗膜を形成させ
た。形成させた塗膜につき以下の通り、ハジキ、塗膜の
パターン幅の均一性、膜厚の均一性の試験をした。得ら
れた試験結果を表１に示した。
形成するロールコーターを用いて、それぞれ被覆剤Ａ〜
Ｅを、膜厚５μｍになるように転写し、塗膜を形成させ
た。形成させた塗膜につき以下の通り、ハジキ、塗膜の
パターン幅の均一性、膜厚の均一性の試験をした。得ら
れた試験結果を表１に示した。
【００２５】ハジキ試験
転写した塗膜のハジキ状態を目視判定した。
（評価基準）
○○：転写した直後の塗膜が、３０秒越える時間、はじ
かずに濡れている。 ○：転写した直後の塗膜が、１０〜３０秒、はじかずに
濡れている。 ×：転写した直後の塗膜が、１０秒未満で、はじいてし
まう。
かずに濡れている。 ○：転写した直後の塗膜が、１０〜３０秒、はじかずに
濡れている。 ×：転写した直後の塗膜が、１０秒未満で、はじいてし
まう。
【００２６】パターン幅の均一性試験
幅５０μｍの直線パターンと実際に形成された塗膜幅と
の差異を測定した。 （評価基準） ○○：０．２μm未満 ○：０．２〜０．５μm ×：０．５μm越える
の差異を測定した。 （評価基準） ○○：０．２μm未満 ○：０．２〜０．５μm ×：０．５μm越える
【００２７】膜厚均一性試験
形成された塗膜の３０個所をランダムに膜厚測定し、最
大膜厚と最小膜厚との差異を計算した。 （評価基準） ○○：０．１μm未満 ○：０．１〜０．５μm ×：０．５μmを越える
大膜厚と最小膜厚との差異を計算した。 （評価基準） ○○：０．１μm未満 ○：０．１〜０．５μm ×：０．５μmを越える
【００２８】
【表１】
注1) 被覆剤の２０℃における粘度をＢ型粘度計にて測
定した。 注2) 被覆剤の２０℃における静止状態の表面張力を協
和界面科学（株）製「表面張力計ＣＢＶＰ―Ａ型」にて
測定した。 注3)，注4) 基材Ａ、Ｂと同質で、基材幅３０ｍｍ、基
材厚さ０．４ｍｍの基材を、温度２０℃、湿度５０％Ｒ
Ｈの条件下で被覆剤中に１０ｍｍ／分の速度で浸漬及び
引き上げ、その際の張力ＦA、ＦRを（株）オリエンテッ
ク製「動的接触角測定装置 ＤＣＡ−２０」にて測定し
た。張力ＦA、ＦRを基材の周囲長さ６０．８mmで除し、
前進表面張力、後退表面張力を計算した。 注5) 協和界面科学（株）製 接触角計ＣＡ−Ｘを使用
し、液滴法にて測定した。 表１の試験結果より明らかの通り、本発明の方法による
実施例１、２、３、及び４では、ハジキがなく、パター
ン幅均一性、膜厚均一性に優れていた。一方、前進表面
張力と後退表面張力の差が１０ｍＮ／ｍを越える比較例
１、２、３では、パターン幅均一性、膜厚均一性等が悪
かった。
定した。 注2) 被覆剤の２０℃における静止状態の表面張力を協
和界面科学（株）製「表面張力計ＣＢＶＰ―Ａ型」にて
測定した。 注3)，注4) 基材Ａ、Ｂと同質で、基材幅３０ｍｍ、基
材厚さ０．４ｍｍの基材を、温度２０℃、湿度５０％Ｒ
Ｈの条件下で被覆剤中に１０ｍｍ／分の速度で浸漬及び
引き上げ、その際の張力ＦA、ＦRを（株）オリエンテッ
ク製「動的接触角測定装置 ＤＣＡ−２０」にて測定し
た。張力ＦA、ＦRを基材の周囲長さ６０．８mmで除し、
前進表面張力、後退表面張力を計算した。 注5) 協和界面科学（株）製 接触角計ＣＡ−Ｘを使用
し、液滴法にて測定した。 表１の試験結果より明らかの通り、本発明の方法による
実施例１、２、３、及び４では、ハジキがなく、パター
ン幅均一性、膜厚均一性に優れていた。一方、前進表面
張力と後退表面張力の差が１０ｍＮ／ｍを越える比較例
１、２、３では、パターン幅均一性、膜厚均一性等が悪
かった。
【００２９】
【発明の効果】本発明の方法によれば、ハジキや膜厚ム
ラの生じにくい転写膜が得られる。
ラの生じにくい転写膜が得られる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 溝口 大剛
栃木県大田原市中央１−19−５ シティハ
イムベルファムＡ201
(72)発明者 林 宏樹
栃木県那須郡西那須野町一区町281−483
(72)発明者 田辺 弘往
栃木県那須郡西那須野町朝日町８−15
Ｆターム(参考） 4D075 AC21 AC41 AC91 AC96 CA48
DA03 DA04 DA06 DB01 DB13
DB18 DB21 DB39 DC27 DC38
DC40 EA07 EB16 EB22 EB33
EB35 EB36 EB38 EB43 EC30
EC51 EC54
4J038 CD091 CG141 DB001 DD001
DD121 DG001 DL031 EA011
JA02 JA05 JA19 JA25 JA33
JA56 KA06 MA12 NA09 NA12
4J039 AD04 AD10 AE04 AE05 AE06
AE11 BC01 BC07 BC08 BC12
BC14 BC16 BC20 BC21 BC22
BE12 BE28 EA48 GA05
Claims (6)
- 【請求項１】 基材表面に、バインダー樹脂及び溶媒を
必須成分として含有する被覆剤を転写する方法におい
て、該被覆剤は、基材表面を前進する際に生じる前進表
面張力と後退する際に生じる後退表面張力との差が１０
ｍＮ／ｍ以下であり、かつ、２０℃における粘度が１０
０ｍＰａ・ｓ以下であり、さらに、静置状態における表
面張力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶媒を、該被覆剤中の全溶
媒に対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特
徴とする転写方法：［但し、上記前進及び後退表面張力
は、動的Ｗｉｌｈｅｌｍｙ平板（動的接触角）法に基づ
いて以下のとおり測定されるものである。前進表面張力
(ｆA)：被覆される基材が、被覆剤中に垂直方向で浸
漬、接触したときの張力(ＦA)を基材の周囲長さ(Ｐ)で
除した値である。 ｆA＝ＦA／Ｐ 後退表面張力(ｆR)：被覆される基材が、被覆剤中に浸
漬された状態から垂直方向に引き上げられるときの張力
(ＦR)を基材の周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆR＝ＦR／Ｐ ］ - 【請求項２】 被覆剤の、基材との静的接触角が３０゜
以下であることを特徴とする請求項１記載の転写方法。 - 【請求項３】 被覆剤の静置状態における表面張力が２
７ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の
転写方法。 - 【請求項４】 基材表面に転写するための、必須成分と
してバインダー樹脂及び溶媒からなる被覆剤において、
該被覆剤は、基材表面を前進する際に生じる前進表面張
力と後退する際に生じる後退表面張力との差が１０ｍＮ
／ｍ以下であり、かつ、２０℃における粘度が１００ｍ
Ｐａ・ｓ以下であり、さらに、静置状態における表面張
力が２５ｍＮ／ｍ以下の溶媒を、該被覆剤中の全溶媒に
対して５〜１００質量％の範囲で含有することを特徴と
する上記転写用被覆剤：［但し、上記前進及び後退表面
張力は、動的Ｗｉｌｈｅｌｍｙ平板（動的接触角）法に
基づいて以下のとおり測定されるものである。前進表面
張力(ｆA)：被覆される基材が、被覆剤中に垂直方向で
浸漬、接触したときの張力(ＦA)を基材の周囲長さ(Ｐ)
で除した値である。 ｆA＝ＦA／Ｐ 後退表面張力(ｆR)：被覆される基材が、被覆剤中に浸
漬された状態から垂直方向に引き上げられるときの張力
(ＦR)を基材の周囲長さ(Ｐ)で除した値である。 ｆR＝ＦR／Ｐ ］ - 【請求項５】 被覆剤の、基材との静的接触角が３０゜
以下であることを特徴とする請求項４記載の転写用被覆
剤。 - 【請求項６】 被覆剤の静置状態における表面張力が２
７ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする請求項４記載の
転写用被覆剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001228015A JP2003041192A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 転写方法及び転写用被覆剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001228015A JP2003041192A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 転写方法及び転写用被覆剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003041192A true JP2003041192A (ja) | 2003-02-13 |
Family
ID=19060585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001228015A Pending JP2003041192A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 転写方法及び転写用被覆剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003041192A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007506547A (ja) * | 2003-09-24 | 2007-03-22 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 活性材料を活性表面上に塗布する方法およびかかる方法によって製造される装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH05278344A (ja) * | 1992-04-02 | 1993-10-26 | Asahi Tec Kk | 転写印刷用材料 |
| JPH08103721A (ja) * | 1994-09-30 | 1996-04-23 | Dainippon Toryo Co Ltd | 無機質化粧板の製造方法 |
| JPH10147776A (ja) * | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Matsui Shikiso Kagaku Kogyosho:Kk | フォトクロミック組成物 |
| JPH10292152A (ja) * | 1997-04-17 | 1998-11-04 | Dainippon Ink & Chem Inc | 銀被覆塗料用組成物 |
| JP2000229384A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-08-22 | Asahi Glass Co Ltd | 透明被覆成形品 |
-
2001
- 2001-07-27 JP JP2001228015A patent/JP2003041192A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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| KR101176678B1 (ko) * | 2003-09-24 | 2012-08-23 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 활성층을 활성표면 상에 형성하는 방법, 활성물질을 표면 상에 침착시키기 위한 조성물 및 이로부터 제조된 유기 전자소자 |
| US8287766B2 (en) | 2003-09-24 | 2012-10-16 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for the application of active materials onto active surfaces and devices made with such methods |
| US8465850B2 (en) | 2003-09-24 | 2013-06-18 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for the application of active materials onto a surface and devices made with such methods |
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