JP2003037150A - Processing apparatus and method for the same, robot apparatus - Google Patents

Processing apparatus and method for the same, robot apparatus

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JP2003037150A
JP2003037150A JP2002105436A JP2002105436A JP2003037150A JP 2003037150 A JP2003037150 A JP 2003037150A JP 2002105436 A JP2002105436 A JP 2002105436A JP 2002105436 A JP2002105436 A JP 2002105436A JP 2003037150 A JP2003037150 A JP 2003037150A
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久顕 宮迫
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing apparatus having a plurality of processing parts which can be installed in a small space. SOLUTION: The processing apparatus for processing an object to be processed is provided with a plurality of the processing parts vertically disposed in two stages, a loader 4 disposed opposite to the processing part located at one end of an upper or lower stage and holding an unprocessed object to be processed, an unloader 73 disposed opposite to the processing part located at one end of another stage and storing a processed object to be processed, the first transferring means 6 vertically and movably disposed and supplying the unprocessed object to be processed from the loader to the processing part located at one end of the upper or lower stage, and the second transferring means 31 vertically and movably disposed and receiving the object to be processed from the processing part located at another end of the upper or lower stage and supplying the object to be processed to the processing part located at another end of the another stage.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は液晶用ガラス基板
や半導体ウエハなどの被処理物を複数の処理部によって
順次処理する処理装置およびその方法、上記被処理物を
搬送するためのロボット装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing apparatus and a method for sequentially processing an object to be processed such as a glass substrate for liquid crystal or a semiconductor wafer by a plurality of processing units, and a robot apparatus for conveying the object to be processed.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、液晶用ガラス基板や半導体ウ
エハなどの被処理物に回路パタ−ンを形成する製造工程
においては、その被処理物に対して種々の処理を行うこ
とが要求され、その処理の1つに上記被処理物を高い清
浄度で洗浄することが要求される工程がある。
2. Description of the Related Art For example, in a manufacturing process for forming a circuit pattern on an object to be processed such as a glass substrate for liquid crystal or a semiconductor wafer, it is required to perform various kinds of processing on the object. One of the processes is a process that requires cleaning the above-mentioned object to be processed with high cleanliness.

【0003】被処理物の洗浄には、その被処理物に紫外
線を照射し有機物を分解して除去する紫外線照射手段、
搬送される被処理物に薬液などを吹き付けながらブラシ
で洗浄するブラシ洗浄手段、被処理物をテ−ブルに保持
して回転させながら薬液などを吹き付けるスピン洗浄手
段など、種々の洗浄手段(処理部)が知られており、複
数の洗浄手段を用いて被処理物を洗浄処理する場合に
は、それらの洗浄手段に対して被処理物を搬入、搬出処
理する搬送手段(処理部)も設けられる。
To wash the object to be treated, an ultraviolet ray irradiating means for irradiating the object to be treated with ultraviolet rays to decompose and remove organic substances,
Various cleaning means (processing section, such as brush cleaning means for cleaning a conveyed object to be processed with a brush while spraying a chemical solution, spin cleaning means for spraying a chemical solution while the object to be processed is held and rotated on a table. ) Is known, and when a plurality of cleaning means are used to clean an object to be processed, a conveying means (processing section) for carrying in and out the object to be processed is also provided to the cleaning means. .

【0004】被処理物の清浄度を高めるためには、上述
した複数の洗浄手段のうち、できるだけ多くの洗浄手段
によって被処理物を洗浄するようにしている。その場
合、ユニット化された各洗浄手段をクリ−ンル−ムに平
面的に並設し、洗浄する被処理物を複数の洗浄手段に対
して搬送手段で順次搬入、搬出するということが行なわ
れている。
In order to improve the cleanliness of the object to be processed, the object to be processed is cleaned by as many cleaning means as possible among the plurality of cleaning means described above. In that case, the cleaning means unitized are arranged in parallel in the clean room, and the objects to be cleaned are successively carried in and out of the plurality of cleaning means by the carrying means. ing.

【0005】しかしながら、複数の洗浄手段や上記搬送
手段を平面的に配置すると、クリ−ンル−ムにおいて各
洗浄手段や搬送手段が占めるスペ−スが大きくなるとい
うことがあった。クリ−ンル−ムにおいてはスペ−スを
できるだけ有効に活用することが要求されている。した
がって、被処理物を洗浄する場合、複数の洗浄手段や搬
送手段が占有するスペ−スを小さくすることが望まれて
いる。
However, when a plurality of cleaning means and the above-mentioned transfer means are arranged in a plane, the space occupied by each cleaning means and transfer means in the clean room may increase. In clean rooms, it is required to utilize the space as effectively as possible. Therefore, when cleaning an object to be processed, it is desired to reduce the space occupied by a plurality of cleaning means and transfer means.

【0006】上記被処理物を並設された洗浄手段間で搬
送するには、その洗浄手段における洗浄処理が連続的に
行なえる場合にはコンベアによって連続搬送すればよ
い。しかしながら、洗浄手段における洗浄処理が、たと
えばスピン洗浄などのように連続的に行なえない場合に
は、上記被処理物を処理部の1つである上述した搬送手
段を構成するロボット装置によって搬送するということ
が行なわれている。
In order to convey the object to be treated between the cleaning means arranged in parallel, if the cleaning treatment in the cleaning means can be continuously carried out, it may be continuously conveyed by a conveyor. However, when the cleaning process in the cleaning unit cannot be continuously performed, such as spin cleaning, the object to be processed is transferred by a robot device that constitutes the above-described transfer unit that is one of the processing units. Is being done.

【0007】搬送手段としてロボット装置を用いると、
このロボット装置を並設された洗浄手段に沿って走行さ
せるということが行なわれる。その場合、上記ロボット
装置の走行範囲にわたって軌道を設けるようにしてい
る。
When a robot device is used as the transfer means,
This robot apparatus is caused to travel along the cleaning means provided in parallel. In that case, a track is provided over the traveling range of the robot device.

【0008】しかしながら、上記ロボット装置によって
洗浄された被処理物を搬入、搬出すると、被処理物から
滴下する洗浄液が上記軌道に滴下するということがあ
る。洗浄液としては純水以外にたとえば酸性度の高い薬
液などが用いられることがある。そのため、被処理物か
ら滴下した薬液が軌道を腐食させたり、上記ロボット装
置を制御するためのケ−ブルを損傷させるなどのことが
あった。
However, when an object to be processed that has been cleaned by the robot apparatus is carried in and out, the cleaning liquid dropped from the object to be processed sometimes drops onto the track. In addition to pure water, for example, a highly acidic chemical liquid may be used as the cleaning liquid. Therefore, the chemical liquid dropped from the object to be processed may corrode the orbit and damage the cable for controlling the robot device.

【0009】さらに、ロボット装置によって被処理物を
所定の洗浄手段に搬入する場合、その洗浄手段での被処
理物の洗浄が終了するまで、前工程で洗浄された被処理
物を保持して待機しなければならないことがある。その
場合、待機時間が長くなると、前工程で上記被処理物に
付着した洗浄液が乾燥し、その被処理物に染みなどが付
いてしまうということもあった。
Further, when the object to be processed is carried into the predetermined cleaning means by the robot apparatus, the object cleaned in the previous step is held and waits until the cleaning of the object to be processed by the cleaning means is completed. I have something to do. In that case, if the waiting time becomes long, the cleaning liquid adhered to the object to be processed in the previous step may be dried, and the object to be processed may be stained.

【0010】なお、上述したスペ−スの問題は被処理物
を洗浄処理する場合だけに発生するものでなく、種々の
工程でも問題になる。たとえば被処理物に対してレジス
トを塗布する場合には、塗布装置、加熱装置、予備加熱
装置などの複数の処理部を設けることになるから、同様
の問題が発生することになる。
The space problem described above does not occur only in the case of cleaning the object to be processed, but also in various processes. For example, when a resist is applied to an object to be processed, a plurality of processing parts such as a coating device, a heating device, and a preheating device are provided, so that the same problem occurs.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来は被
処理物を複数の処理部で処理する場合、その複数の処理
部を平面的に配置していたので、配置スペ−スが大きく
なるということがあり、とくにクリ−ンル−ムにおいて
配置スペ−スが大きくなるとそのクリ−ンル−ムの有効
活用が阻害される。
As described above, conventionally, when an object to be processed is processed by a plurality of processing parts, the plurality of processing parts are arranged in a plane, so that the arrangement space becomes large. Therefore, especially in a clean room, if the arrangement space becomes large, the effective use of the clean room is hindered.

【0012】複数の処理部間における被処理物の受け渡
しを行う手段がロボット装置で、そのロボット装置を並
設された処理部に沿って走行させる場合、その軌道やロ
ボット装置を制御するためのケ−ブルなどに洗浄液を滴
下させ、これらを早期に損傷させるということがある。
When the means for transferring the object to be processed among a plurality of processing units is a robot apparatus and the robot apparatus is caused to travel along the processing sections arranged in parallel, a robot for controlling the trajectory and the robot apparatus. -There is a case where a cleaning liquid is dropped on a bull or the like and these are damaged early.

【0013】さらに、ロボット装置がつぎの処理部に供
給する被処理物を保持した状態で待機すると、たとえば
その被処理物が前工程で洗浄された場合、その被処理物
に付着した洗浄液が乾燥して染みなどができるというこ
ともある。
Further, when the robot apparatus stands by while holding an object to be supplied to the next processing section, for example, when the object is cleaned in the previous step, the cleaning liquid attached to the object is dried. There are also cases where stains can be made.

【0014】この発明の目的は、複数の処理部を少ない
スペ−スに設置できるようにした処理装置を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide a processing apparatus in which a plurality of processing units can be installed in a small space.

【0015】この発明の他の目的は、被処理物をロボッ
ト装置で受け渡すため、そのロボット装置を処理部に沿
って走行させるようにした場合、上記被処理物から処理
液が上記ロボットの軌道などに滴下することがないよう
にした処理装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to transfer an object to be processed by a robot apparatus, so that when the robot apparatus is made to travel along a processing section, the processing liquid from the object to be processed is orbited by the robot. It is to provide a processing device that does not drip into a container.

【0016】この発明のさらに他の目的は、ロボット装
置が処理部に受け渡す被処理物を保持して待機しても、
その被処理物を乾燥させずにすむようにした処理装置を
提供することにある。
Still another object of the present invention is to hold an object to be processed which the robot apparatus transfers to the processing section, and to wait,
It is an object of the present invention to provide a processing device that does not require drying of the object to be processed.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、複数
の処理部を有し、これら処理部に被処理物を順次搬送す
ることで処理する処理装置において、上記複数の処理部
は上下二段に配置されていることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a processing apparatus which has a plurality of processing units, and sequentially processes an object to be processed to the processing units. It is characterized by being arranged in two stages.

【0018】請求項2の発明は、被処理物を処理するた
めの処理装置において、上下二段に配置された複数の処
理部と、上段あるいは下段のどちらか一方の一端に位置
する処理部に対向して配置され未処理の被処理物を保持
したロ−ダ部と、上段あるいは下段の他方の一端に位置
する処理部に対向して配置され処理済みの被処理物が格
納されるアンロ−ダ部と、上記ロ−ダ部から上段あるい
は下段のどちらか一方の一端に位置する処理部へ未処理
の被処理物を供給する第1の受け渡し手段と、上段ある
いは下段のどちらか一方の他端に位置する処理部から被
処理物を受けてその被処理物を他方の他端に位置する処
理部へ供給する第2の受け渡し手段とを具備したことを
特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in a processing apparatus for processing an object to be processed, there are provided a plurality of processing units arranged in upper and lower two stages and a processing unit located at one end of either the upper stage or the lower stage. A loader unit facing each other and holding an unprocessed object, and an unloader arranged opposite to the processing unit located at the other end of the upper stage or the lower stage to store the processed object. And a first transfer means for supplying an unprocessed object to the processing section located at one end of the upper section or the lower section from the loader section, and the other of the upper section or the lower section. The present invention is characterized by further comprising: second transfer means for receiving an object to be processed from the processing unit located at the end and supplying the object to be processed to the processing unit located at the other end.

【0019】請求項3の発明は、請求項1または請求項
2の発明のいて、上段あるいは下段のどちらか一方に
は、上記被処理物に対して同じ処理をする複数の処理部
が直列に設けられ、これら処理部の側方には各処理部に
対して被処理物を搬入搬出する搬入搬出手段が設けられ
ていることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the invention, a plurality of processing units that perform the same processing on the object to be processed are serially provided in either the upper stage or the lower stage. It is characterized in that a carrying-in / carrying-out means for carrying-in / carrying-out an object to be carried into / out of each processing section is provided on the side of these processing sections.

【0020】請求項4の発明は、請求項3の発明におい
て、上記搬入搬出手段は下段に配置され、この搬入搬出
手段の側方には他の処理部が並列に配置されていて、上
記搬入搬出手段と上記他の処理部との間には、上記他の
処理部に供給された清浄空気の一部を上記搬入搬出手段
に向けて分流する分流手段が設けられていることを特徴
とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the invention, the carry-in / carry-out means is arranged in a lower stage, and another processing section is arranged in parallel to the side of the carry-in / carry-out means. Between the carry-out means and the other processing section, there is provided a flow dividing means for dividing a part of the clean air supplied to the other processing section toward the carry-in / carry-out means. .

【0021】請求項5の発明は、請求項2の発明におい
て、上記第2の受け渡し手段は、被処理物を搬送する搬
送機構と、この搬送機構によって搬送される被処理物に
向けて乾燥防止用の液体を供給する液体供給手段と、上
記搬送機構の下面側に設けられ上記液体供給手段から供
給された液体を集積するとともに上記搬送機構と一体的
に上下駆動されるドレンパンと、このドレンパンに接続
されドレンパンに集積された液体を排出する可動パイプ
と、この可動パイプがスライド自在に挿入され可動パイ
プから排出される液体が導入される固定パイプとからな
ることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the second transfer means prevents the target object to be processed from being dried by the transfer mechanism for transferring the target object. Supply means for supplying a liquid for use, a drain pan provided on the lower surface side of the transfer mechanism for collecting the liquid supplied from the liquid supply means and vertically driven integrally with the transfer mechanism, and a drain pan It is characterized in that it is composed of a movable pipe which is connected and discharges the liquid accumulated in the drain pan, and a fixed pipe into which the movable pipe is slidably inserted and into which the liquid discharged from the movable pipe is introduced.

【0022】請求項6の発明は、請求項2の発明におい
て、所定の処理部の搬出側には所定の高さで配置される
とともにその処理部から搬出された被処理物を受ける固
定式ロ−ラユニットが設けられ、上記第2の受け渡し手
段は、上下方向に駆動されるとともに上昇位置で上記固
定式ロ−ラユニットに搬出された被処理物を受けて下降
する可動式ロ−ラユニットからなり、上記可動式ロ−ラ
ユニットが上昇したときに隣り合う上記固定式ロ−ラユ
ニットと可動式ロ−ラユニットとの一側には、各ロ−ラ
ユニットの内方に向かって低く傾斜した傾斜部を有する
第1の防水カバ−と第2の防水カバ−とが設けられ、上
記可動ユニットに設けられた第2の防水カバ−の傾斜部
は、この可動ユニットが上昇したときに上記固定式ロ−
ラユニットの防水カバ−の傾斜部の下方に重合位置する
ことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, a fixed type roll is arranged at a predetermined height on the carry-out side of the predetermined processing section and receives the object to be processed carried out from the processing section. A movable roller unit that is provided with a roller unit, and the second transfer means is driven in the up-down direction and receives an object to be processed carried out to the fixed roller unit at a raised position and moves down. When one of the fixed roller unit and the movable roller unit is adjacent to each other when the movable roller unit is lifted, one side of the fixed roller unit and the movable roller unit is lowered toward the inside of each roller unit. A first waterproof cover and a second waterproof cover having slanted slanted portions are provided, and the slanted portion of the second waterproof cover provided on the movable unit is provided when the movable unit rises. Above fixed type
It is characterized in that it is positioned below the inclined portion of the waterproof cover of the la unit.

【0023】請求項7の発明は、請求項3の発明におい
て、上記搬入搬出手段は、その移動方向に沿って設けら
れたガイド部と、このガイド部と平行かつ所定の間隔を
介して設けられた駆動装置と、上記ガイド部と駆動装置
との間に配置されるとともにこれらガイド部と駆動装置
とによって走行自在に支持されかつ駆動装置によってそ
の走行方向に沿って駆動されるロボットと、このロボッ
トの走行方向両側に沿って上記ガイド部と駆動装置とを
覆う状態で設けられたカバ−体とからなることを特徴と
する。
According to a seventh aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the carrying-in / carrying-out means is provided with a guide portion provided along the moving direction thereof, and in parallel with the guide portion with a predetermined interval. And a robot disposed between the guide unit and the drive unit, movably supported by the guide unit and the drive unit, and driven in the traveling direction by the drive unit, and the robot. It is characterized in that it comprises a cover body provided so as to cover the guide portion and the drive device along both sides in the traveling direction.

【0024】請求項8の発明は、被処理物を搬送処理す
る処理方法において、未処理の被処理物を所定の高さで
供給する供給工程と、この供給工程から供給搬送された
被処理物をほぼ同じ搬送高さで処理する第1の処理工程
と、この第1の処理工程で処理された被処理物の搬送高
さを変更する高さ変更工程と、この高さ変更工程で変更
された高さとほぼ同じ高さで上記被処理物を処理する第
2の処理工程と、この第2の処理工程で処理された被処
理物を格納する格納工程とを具備したことを特徴とす
る。
According to an eighth aspect of the present invention, in a processing method for carrying and processing an object to be processed, a supply step of supplying an unprocessed object at a predetermined height, and an object to be processed supplied and conveyed from the supplying step. Are processed at substantially the same transfer height, a height changing step for changing the transfer height of the object processed in the first processing step, and a height changing step for changing the transfer height. It is characterized by comprising a second processing step for processing the object to be processed at substantially the same height as the height and a storage step for storing the object to be processed processed in the second processing step.

【0025】請求項9の発明は、複数のリンクを回動自
在に連結するとともに先端に被処理物を保持するための
セッタが設けられて伸縮駆動される第1のア−ム体と第
2のア−ム体とを備えたロボット装置において、上記第
1のア−ム体のセッタは、上記第2のア−ム体のセッタ
よりも下方に位置するとともに、この第2のア−ム体の
セッタにはここに保持された被処理物に向けて液体を噴
射するノズル体が設けられていることを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, a first arm body and a second arm body, which are connected to a plurality of links in a rotatable manner and provided with a setter for holding an object to be processed at an end thereof and are driven to expand and contract, are provided. And a second arm unit, the setter of the first arm unit is located below the setter of the second arm unit. The body setter is characterized in that it is provided with a nozzle body for ejecting a liquid toward the object to be treated held therein.

【0026】請求項1と請求項2の発明によれば、複数
の処理部を上下二段に配置したことで、平面的に配置す
る場合に比べて占有面積を小さくすることができる。
According to the first and second aspects of the present invention, since the plurality of processing units are arranged in the upper and lower two stages, the occupied area can be reduced as compared with the case where the processing units are arranged two-dimensionally.

【0027】請求項3の発明によれば、被処理物に対し
て同じ処理を行う一対の処理部を直列に設けられ、これ
ら処理部の側方には各処理部に対して被処理物を搬入搬
出する搬入搬出手段を移動自在に設けたことで、被処理
物に対してバッチ処理が行われる場合、全体としてのサ
イクルタイムを短くできる。
According to the third aspect of the present invention, a pair of processing units that perform the same processing on the object to be processed are provided in series, and the object to be processed is provided for each processing unit on the side of these processing units. Since the loading / unloading means for loading / unloading is provided movably, the cycle time as a whole can be shortened when batch processing is performed on the objects to be processed.

【0028】請求項4の発明によれば、複数の処理部を
上下二段に配置した場合、上段の処理部から下段の処理
部へ清浄空気を分流できるため、処理部を上下二段に配
置しても、下段の処理部におけるクリ−ン度を確保でき
る。
According to the fourth aspect of the present invention, when the plurality of processing units are arranged in the upper and lower two stages, the clean air can be branched from the upper processing unit to the lower processing unit, so that the processing units are arranged in the upper and lower two stages. Even in this case, it is possible to secure the cleaning degree in the lower processing section.

【0029】請求項5の発明によれば、上下駆動されて
上段と下段の処理部の間で被処理物を受け渡す第2の受
け渡し手段に被処理物の乾燥を防止するために供給され
た液体は、上下駆動されるドレンパンに接続されこのド
レンパンとともに上下動する可動パイプおよびこの可動
パイプが挿通された固定パイプを通じて排出されるた
め、液体の排出処理のためのスペ−スを小さくできる。
According to the fifth aspect of the invention, the second transfer means, which is vertically driven to transfer the object to be processed between the upper and lower processing parts, is supplied to prevent the object to be dried. Since the liquid is discharged through a movable pipe that is connected to a vertically driven drain pan and moves up and down together with the drain pan and a fixed pipe through which the movable pipe is inserted, the space for discharging the liquid can be reduced.

【0030】請求項6の発明によれば、固定式ロ−ラユ
ニットと可動式ロ−ラユニットとの隣り合う一側に、そ
れぞれ傾斜部を有する第1の防水カバ−と第2の防水カ
バ−とを、上記可動式ロ−ラユニットが上昇したとき
に、その第2の防水カバ−の傾斜部が上記第1の防水カ
バ−の傾斜部の下方に重合位置するように設けたこと
で、被処理物が固定式ロ−ラユニットから可動式ロ−ラ
ユニットへ受け渡されるときに、上記被処理物から洗浄
液などの液体が滴下しても、その液体は第1の防水カバ
−の傾斜部と第2の防水カバ−の傾斜部に滴下して各ロ
−ラユニットの内部へガイドされ、外部に飛散すること
がない。
According to the invention of claim 6, a first waterproof cover and a second waterproof cover each having an inclined portion on one of adjacent sides of the fixed roller unit and the movable roller unit. Is provided so that when the movable roller unit is raised, the inclined portion of the second waterproof cover is positioned below the inclined portion of the first waterproof cover so as to overlap with each other. Even when a liquid such as a cleaning liquid drops from the object to be processed when the object to be processed is transferred from the fixed roller unit to the movable roller unit, the liquid remains in the first waterproof cover. It does not drip on the inclined portion and the inclined portion of the second waterproof cover and is guided to the inside of each roller unit and does not scatter to the outside.

【0031】請求項7の発明によれば、ロボットの走行
をガイドするガイド部およびこのガイド部と平行に設け
られ上記ロボットを走行駆動するための駆動装置とをカ
バ−体で覆うようにしたため、上記ロボットによって搬
送される被処理物から液体が滴下しても、その液体でガ
イド部が腐食させられたり、駆動装置の故障を招くなど
のことが防止される。
According to the seventh aspect of the invention, the guide portion for guiding the traveling of the robot and the driving device for driving the robot which is provided in parallel with the guide portion are covered with the cover body. Even if the liquid is dropped from the object to be processed conveyed by the robot, it is possible to prevent the liquid from corroding the guide portion and causing the drive device to malfunction.

【0032】請求項8の発明によれば、被処理物を所定
の搬送高さで処理するとともに、その搬送高さを変えて
さらに処理するようにしたことで、被処理物を処理する
ためのスペ−スを立体的に有効に利用することができ
る。
According to the eighth aspect of the present invention, the object to be processed is processed at a predetermined carrying height and further processed by changing the carrying height. The space can be effectively used in three dimensions.

【0033】請求項9の発明によれば、下側に位置する
第2のア−ム体のセッタにノズル体を設け、このセッタ
に保持された被処理物に液体を噴射できるようにしたか
ら、そのセッタに保持された被処理物の表面が乾燥する
のを防止でき、また上側に位置する第1のア−ム体のセ
ッタに保持された被処理物に上記液体が付着するのを防
止できる。
According to the ninth aspect of the present invention, the nozzle body is provided in the setter of the second arm body located on the lower side so that the liquid can be jetted to the object to be treated held by the setter. , The surface of the object to be processed held by the setter can be prevented from drying, and the liquid can be prevented from adhering to the object to be processed held by the setter of the first arm body located on the upper side. it can.

【0034】[0034]

【発明の実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0035】図1に示すこの発明の処理装置は被洗浄物
としての液晶用ガラス基板を洗浄処理するための洗浄処
理装置1を示す。この洗浄処理装置1は同図に鎖線で示
す複数の処理ユニット、この実施形態では第1乃至第5
の処理ユニット1a〜1e有し、第1乃至第3の処理ユ
ニット1a〜1cと、第4、第5の処理ユニット1d、
1eが二列に並設されている。なお、図中2は電装ユニ
ットである。
The processing apparatus of the present invention shown in FIG. 1 shows a cleaning processing apparatus 1 for cleaning a glass substrate for liquid crystal as an object to be cleaned. This cleaning processing apparatus 1 includes a plurality of processing units indicated by chain lines in the figure, and first to fifth processing units in this embodiment.
Processing units 1a to 1e, first to third processing units 1a to 1c, and fourth and fifth processing units 1d,
1e are juxtaposed in two rows. Incidentally, reference numeral 2 in the figure denotes an electrical unit.

【0036】上記第1の処理ユニット1a内には架台3
上に設置されたロ−ダ部4を有する。このロ−ダ部4に
は複数の液晶用ガラス基板5が積層保持されていて、上
記架台3に設けられた図示しない搬出機構によって液晶
用ガラス基板5が下方から順次一枚ずつ搬出されるよう
になっている。
A frame 3 is installed in the first processing unit 1a.
It has a loader unit 4 installed above. A plurality of liquid crystal glass substrates 5 are stacked and held on the loader unit 4, and the liquid crystal glass substrates 5 are successively carried out one by one from below by a carry-out mechanism (not shown) provided on the frame 3. It has become.

【0037】上記ロ−ダ部4から搬出された液晶用ガラ
ス基板5は第1の受け渡し機構6によって第2の処理ユ
ニット1bに送り込まれるようになっている。上記第1
の受け渡し機構6は垂直に立設された支柱7を有する。
この支柱7にはロ−ラユニット8が図示しない駆動源に
よって上下駆動自在に設けられている。このロ−ラユニ
ット8はフレ−ム9を有し、このフレ−ム9には複数の
ロ−ラ11が軸線を平行にして回転自在に架設されてい
る。フレ−ム9の一側には上記ロ−ラ11を回転駆動す
るための駆動源12が設けられている。
The glass substrate 5 for liquid crystal carried out from the loader section 4 is sent to the second processing unit 1b by the first transfer mechanism 6. First above
The transfer mechanism 6 has a column 7 that stands vertically.
A roller unit 8 is provided on the column 7 so as to be vertically movable by a drive source (not shown). The roller unit 8 has a frame 9, and a plurality of rollers 11 are rotatably installed on the frame 9 with their axes parallel to each other. A drive source 12 for rotationally driving the roller 11 is provided on one side of the frame 9.

【0038】上記ロ−ラユニット8は、その上面を上記
ロ−ダ部4から搬出される液晶用ガラス基板5と同じ高
さに下降して待機している。上記ロ−ダ部4から搬出さ
れた液晶用ガラス基板5は上記ロ−ラユニット8上に供
給される。液晶用ガラス基板5を受けたロ−ラユニット
8は上昇し、第2の処理ユニット1b内に所定の高さで
設けられた紫外線照射装置15に液晶用ガラス基板5を
供給する。
The roller unit 8 has its upper surface lowered to the same height as the liquid crystal glass substrate 5 carried out from the loader section 4 and stands by. The liquid crystal glass substrate 5 carried out from the loader unit 4 is supplied onto the roller unit 8. The roller unit 8 which has received the glass substrate 5 for liquid crystal rises and supplies the glass substrate 5 for liquid crystal to the ultraviolet irradiation device 15 provided at a predetermined height in the second processing unit 1b.

【0039】上記紫外線照射装置15は一側に供給口1
6が形成されていて、上記ロ−ラユニット8はその上面
に載置された液晶用ガラス基板5が上記供給口16と同
じ高さになる位置まで上昇する。ついで、ロ−ラ11が
駆動源12によって回転駆動されることで、上記液晶用
ガラス基板5が上記紫外線照射装置15内へ供給され
る。
The ultraviolet irradiation device 15 has a supply port 1 on one side.
6 is formed, the roller unit 8 rises to a position where the liquid crystal glass substrate 5 placed on the upper surface thereof has the same height as the supply port 16. Then, the roller 11 is rotationally driven by the drive source 12, so that the liquid crystal glass substrate 5 is supplied into the ultraviolet irradiation device 15.

【0040】上記紫外線照射装置15は、詳細は図示し
ないが、その内部に、液晶用ガラス基板5を搬送する搬
送ロ−ラおよびこの搬送ロ−ラによって搬送される液晶
用ガラス基板5に紫外線を照射する紫外線ランプを有
し、紫外線によって照射されることで、液晶用ガラス基
板5に付着した有機物が分解除去されるようになってい
る。
Although not shown in detail, the ultraviolet irradiating device 15 is provided with ultraviolet rays inside the carrier roller for carrying the glass substrate 5 for liquid crystal and the glass substrate 5 for liquid crystal carried by the carrier roller. It has an ultraviolet lamp for irradiating it, and by irradiating it with ultraviolet rays, organic substances attached to the glass substrate for liquid crystal 5 are decomposed and removed.

【0041】上記第2の処理ユニット1bには、上記紫
外線照射装置15と隣接しかつ同じ高さでブラシ洗浄ユ
ニット20が配置されていて、この内部には上記紫外線
照射装置15で処理された液晶用ガラス基板5を連続し
て搬送する図示しない搬送手段が設けられている。
In the second processing unit 1b, a brush cleaning unit 20 is disposed adjacent to and at the same height as the ultraviolet irradiation device 15, and the liquid crystal processed by the ultraviolet irradiation device 15 is disposed inside the brush cleaning unit 20. A conveyor means (not shown) for continuously conveying the glass substrate 5 for use is provided.

【0042】上記ブラシ洗浄ユニット20は、一側に上
記液晶用ガラス基板5が供給される供給口21が形成さ
れるとともにその内部には不活性ガスが供給されて内部
雰囲気が中性に維持されるニュ−トラル室22と、この
ニュ−トラル室22を通過した液晶用ガラス基板5に薬
液などの洗浄液を吹き付けながらブラシ洗浄するブラシ
洗浄室23と、このブラシ洗浄室23で洗浄された液晶
用ガラス基板5を純水でシャワ−洗浄するシャワ−室2
4とが順次並設されている。このシャワ−室24にはシ
ャワ−洗浄された液晶用ガラス基板5が搬出される図示
しない搬出口が形成されている。
The brush cleaning unit 20 is provided with a supply port 21 for supplying the liquid crystal glass substrate 5 on one side, and an inert gas is supplied to the inside thereof to maintain the internal atmosphere neutral. Neutral chamber 22, a brush cleaning chamber 23 for brush cleaning while spraying a cleaning liquid such as a chemical solution on the glass substrate 5 for liquid crystal that has passed through the neutral chamber 22, and a liquid crystal cleaned in the brush cleaning chamber 23. Shower chamber 2 for washing glass substrate 5 with pure water
4 and 4 are arranged side by side. The shower chamber 24 is provided with a carry-out port (not shown) through which the shower-cleaned liquid crystal glass substrate 5 is carried out.

【0043】上記シャワ−室24の搬出口から搬出され
た液晶用ガラス基板5は、受け渡し用のロ−ラユニット
30(固定式ロ−ラユニット)を介して上記第1の受け
渡し機構6とほぼ同じ構成の第2の受け渡し機構31に
よって受け取られる。この第2の受け渡し機構31は支
柱32を有する。この支柱32には可動式ロ−ラユニッ
ト33が図示しない駆動源によって上下駆動自在に設け
られている。この可動式ロ−ラユニット33は上面が開
口した有底状の筐体34(ドレンパン)を有し、この筐
体34には複数のロ−ラ35が軸線を平行にして回転自
在に架設されている。上記筐体34の一側には駆動源3
4a(図4に示す)が設けられ、この駆動源によって上
記ロ−ラ35が回転駆動されるようになっている。
The glass substrate 5 for liquid crystal carried out from the carry-out port of the shower chamber 24 is almost the same as the first delivery mechanism 6 via the delivery roller unit 30 (fixed roller unit). It is received by the second delivery mechanism 31 having the same structure. The second transfer mechanism 31 has a column 32. A movable roller unit 33 is provided on the column 32 so as to be vertically movable by a drive source (not shown). The movable roller unit 33 has a bottomed casing 34 (drain pan) having an open upper surface, and a plurality of rollers 35 are rotatably installed on the casing 34 with their axes parallel to each other. ing. The drive source 3 is provided on one side of the housing 34.
4a (shown in FIG. 4) is provided, and the roller 35 is rotationally driven by this drive source.

【0044】上記可動式ロ−ラユニット33はその上面
を上記シャワ−室24の搬出口から送り出される液晶用
ガラス基板5とほぼ同じ高さに上昇して待機している。
上記シャワ−室24から搬出された液晶用ガラス基板5
を上記可動式ロ−ラユニット33が受けると、この可動
式ロ−ラユニット33は下降する。
The movable roller unit 33 has its upper surface raised to a height substantially the same as the liquid crystal glass substrate 5 sent out from the outlet of the shower chamber 24, and stands by.
Liquid crystal glass substrate 5 carried out from the shower chamber 24
When the movable roller unit 33 receives the above, the movable roller unit 33 descends.

【0045】可動式ロ−ラユニット33に載置された液
晶用ガラス基板5はロボット装置である搬入搬出機構4
0(処理部の1つである)を構成するロボット41によ
って取り出され、上記第4の処理ユニット1dに並設さ
れた第1のスピン処理装置42と第2のスピン処理装置
43のどちらか一方に供給される。
The liquid crystal glass substrate 5 placed on the movable roller unit 33 is a robot device for loading and unloading mechanism 4.
One of the first spin processing apparatus 42 and the second spin processing apparatus 43, which is taken out by the robot 41 configuring 0 (which is one of the processing units) and is installed in parallel in the fourth processing unit 1d. Is supplied to.

【0046】上記第2の受け渡し機構31の可動式ロ−
ラユニット33に受け渡された液晶用ガラス基板5は、
上記搬入搬出機構40のロボット41に受け渡される前
に乾燥すると、染みなどができるから、それを防止する
ために乾燥防止用の液体として純水が散布される。
A movable roller of the second transfer mechanism 31.
The glass substrate 5 for liquid crystal delivered to the laser unit 33 is
If dried before being transferred to the robot 41 of the carry-in / carry-out mechanism 40, stains or the like will occur, so pure water is sprayed as a drying prevention liquid to prevent such stains.

【0047】つまり、可動式ロ−ラユニット33は図2
に示すようにドレンパンとしての上述した有底箱状の筐
体34を有し、この筐体34の上部両側にはパイプ状の
シャワ−ノズル37が配置されている。各シャワ−ノズ
ル37からは上記可動式ロ−ラユニット33に保持され
た液晶用ガラス基板5に向けて純水が噴射されるように
なっている。
That is, the movable roller unit 33 is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the above-mentioned bottomed box-shaped casing 34 as a drain pan is provided, and pipe-shaped shower nozzles 37 are arranged on both upper sides of the casing 34. Pure water is sprayed from each shower nozzle 37 toward the glass substrate 5 for liquid crystal held by the movable roller unit 33.

【0048】上記筐体34の底部には可動パイプ38の
上端が接続されている。この可動パイプ38は垂設さ
れ、これよりも大径な固定パイプ39にスライド自在に
挿通されている。この固定パイプ39は中途部が第2の
受け渡し機構31の架台31aに固定され、下端部は図
示しない廃液部に連通している。それによって、可動式
ロ−ラユニット33に保持された液晶用ガラス基板5に
向けて噴射された純水はユニット本体36から可動パイ
プ38および固定パイプ39を通って排出されるように
なっている。
The upper end of a movable pipe 38 is connected to the bottom of the casing 34. The movable pipe 38 is vertically installed and slidably inserted into a fixed pipe 39 having a larger diameter than this. The middle portion of the fixed pipe 39 is fixed to the pedestal 31a of the second delivery mechanism 31, and the lower end portion communicates with a waste liquid portion (not shown). As a result, the pure water sprayed toward the liquid crystal glass substrate 5 held by the movable roller unit 33 is discharged from the unit main body 36 through the movable pipe 38 and the fixed pipe 39. .

【0049】ユニット本体36に可動パイプ38を接続
し、この可動パイプ38を固定パイプ39に挿通したこ
とで、可動式ロ−ラユニット33が上下動しても、ユニ
ット本体36からのドレンの排出を確実に行うことがで
きる。
By connecting the movable pipe 38 to the unit body 36 and inserting the movable pipe 38 into the fixed pipe 39, even if the movable roller unit 33 moves up and down, drainage from the unit body 36 is discharged. Can be reliably performed.

【0050】すなわち、通常、可動部からドレンを排出
する場合、可動部の動きに対応できるようにするため、
フレキシブルチュ−ブが用いられる。その場合、フレキ
シブルチュ−ブは可動部が上昇できる長さに設定されて
いるから、下降したときには屈曲して側方へ突出する。
そのため、上記フレキシブルチュ−ブを側方へ屈曲させ
るためのスペ−スを確保しなければならなかったり、可
動部の上下動によってフレキシブルチュ−ブが屈曲を繰
り返すことで、その屈曲部分が早期に損傷するというこ
とがあった。
That is, normally, when the drain is discharged from the movable part, in order to cope with the movement of the movable part,
A flexible tube is used. In that case, since the flexible tube is set to a length that allows the movable portion to rise, when it descends, it bends and projects laterally.
Therefore, it is necessary to secure a space for bending the flexible tube to the side, or the flexible tube is repeatedly bent due to the vertical movement of the movable part, so that the bent portion is early. It was sometimes damaged.

【0051】しかしながら、この発明では、フレキシブ
ルチュ−ブを用いず、ユニット本体36に可動パイプ3
8を接続し、この可動パイプ38を固定パイプ39にス
ライド自在に挿通した。そのため、ユニット本体36の
上下動によって可動パイプ38が固定パイプ39内をス
ライドするから、固定パイプ39を設置するに必要なス
ペ−スを確保するだけですみ、しかもフレキシブルチュ
−ブのように屈曲により早期に損傷するということもな
い。
However, in the present invention, the movable pipe 3 is attached to the unit main body 36 without using the flexible tube.
8 was connected, and the movable pipe 38 was slidably inserted into the fixed pipe 39. Therefore, since the movable pipe 38 slides in the fixed pipe 39 by the vertical movement of the unit main body 36, it is only necessary to secure a space necessary for installing the fixed pipe 39, and moreover, it bends like a flexible tube. It does not cause premature damage.

【0052】図6に示すように、上記受け渡し用ロ−ラ
ユニット30は、上記可動式ロ−ラユニット33と同
様、筐体131を有する。この筐体131には、中心部
に向かって低く傾斜した底部の中心部に排液管132が
設けられ、対向する一対の側壁間には複数のロ−ラ13
3が軸線を平行にして所定間隔で回転自在に架設されて
いる。このロ−ラ133は図示しない駆動源によって回
転駆動されるようになっている。
As shown in FIG. 6, the transfer roller unit 30 has a casing 131, like the movable roller unit 33. The housing 131 is provided with a drainage pipe 132 at the center of the bottom which is inclined downward toward the center, and a plurality of rollers 13 are provided between a pair of opposing side walls.
3 are erected rotatably at predetermined intervals with their axes parallel. The roller 133 is rotationally driven by a drive source (not shown).

【0053】したがって、上記シャワ−室24から上記
受け渡し用ロ−ラユニット30のロ−ラ133上に搬出
された液晶用ガラス基板5は、そのロ−ラ133が回転
駆動されることで、上記可動式ロ−ラユニット33のロ
−ラ35上に受け渡される。
Therefore, the glass substrate for liquid crystal 5 carried out from the shower chamber 24 onto the roller 133 of the transfer roller unit 30 is rotated and driven by the roller 133. It is transferred onto the roller 35 of the movable roller unit 33.

【0054】上記可動式ロ−ラユニット33が上昇位置
にあるときに隣り合う、上記受け渡し用ロ−ラユニット
30と上記可動式ロ−ラユニット33の筐体131,3
4の側壁には、それぞれ第1の防水カバ−134と第2
の防水カバ−135とが設けられている。
Cases 131 and 3 of the transfer roller unit 30 and the transfer roller unit 33, which are adjacent to each other when the moveable roller unit 33 is in the raised position.
The side walls of No. 4 have a first waterproof cover 134 and a second waterproof cover 134, respectively.
And a waterproof cover 135 are provided.

【0055】各防水カバ−134、135は垂直部13
4a、135aと、傾斜部134b、135bとを有
し、垂直部134a、135aの下端部が上記側壁の内
面にスペ−サ136を介して取付けられている。それに
よって、各防水カバ−134、135の傾斜部134
b、135bは各筐体131、34の側壁から外方に向
かって突出するとともに、各筐体131、34の内方に
向かって低く傾斜している。
Each of the waterproof covers 134 and 135 has a vertical portion 13.
4a, 135a and inclined portions 134b, 135b, and the lower ends of the vertical portions 134a, 135a are attached to the inner surface of the side wall via a spacer 136. Thereby, the inclined portion 134 of each waterproof cover 134, 135
b and 135b project outward from the side walls of the housings 131 and 34, and are inclined downward toward the inside of the housings 131 and 34.

【0056】さらに、可動式ロ−ラユニット33が上昇
した状態において、液晶用ガラス基板5の搬送方向上流
側となる受け渡しロ−ラユニット30に設けられた第1
の防止カバ−134の傾斜部134bは、可動式ロ−ラ
ユニット33に設けられた第2の防水カバ−135の上
方に重合位置する用になっている。
Further, in a state where the movable roller unit 33 is raised, the first roller provided on the transfer roller unit 30 which is on the upstream side of the liquid crystal glass substrate 5 in the conveying direction.
The inclined portion 134b of the prevention cover 134 is located above the second waterproof cover 135 provided on the movable roller unit 33.

【0057】それによって、シャワ−室24で洗浄され
た液晶用ガラス基板5が固定式ロ−ラユニット30から
可動式ロ−ラユニット33へ受け渡される場合、そのガ
ラス基板5から滴下する洗浄液は各防水カバ−134、
135の傾斜部134b、135bに滴下し、その傾斜
に沿って各筐体131、34内へ流入する。そのため、
液晶用ガラス基板5から滴下する洗浄液が周囲に飛散す
るのが防止される。
As a result, when the liquid crystal glass substrate 5 washed in the shower chamber 24 is transferred from the fixed roller unit 30 to the movable roller unit 33, the cleaning liquid dropped from the glass substrate 5 is Each waterproof cover 134,
It is dropped on the inclined portions 134b and 135b of the pipe 135, and flows into the housings 131 and 34 along the inclination. for that reason,
The cleaning liquid dropped from the liquid crystal glass substrate 5 is prevented from being scattered around.

【0058】しかも、一対の防水カバ−134、135
の傾斜部134b、135bは重合しているから、洗浄
液が各ロ−ラユニット30、33の隙間から飛散すると
いうこともない。
Moreover, the pair of waterproof covers 134, 135
Since the inclined portions 134b and 135b of the above are polymerized, the cleaning liquid is not scattered through the gaps between the roller units 30 and 33.

【0059】さらに、洗浄液が仮に防水カバ−134、
135の下面に付着し、傾斜部134b、135bから
垂直部134a、135aへと流れても、垂直部134
a、135aの下端はスペ−サ136を介して筐体3
4、131の側壁内面に取着されている。そのため、防
水カバ−134、135の下面に沿って流れた洗浄液が
筐体131、34の外部に滴下するということもない。
Furthermore, if the cleaning liquid is a waterproof cover 134,
Even if it adheres to the lower surface of 135 and flows from the inclined portions 134b and 135b to the vertical portions 134a and 135a,
The lower ends of a and 135a are connected to the housing 3 via a spacer 136.
It is attached to the inner surface of the side wall of 4,131. Therefore, the cleaning liquid flowing along the lower surfaces of the waterproof covers 134 and 135 does not drip outside the housings 131 and 34.

【0060】上記ロボット41は並設された複数、この
実施形態では一対のスピン処理装置42、43の側方
で、上記紫外線照射装置15とブラシ洗浄装置20の下
方、つまり図5に示すように第2の処理ユニット1b
に、上記第4の処理ユニット1dに配置された上記一対
のスピン処理装置42、43の並設方向に沿って移動自
在に設けられている。すなわち、図3に示すように上記
スピン処理装置42、43の側方にはガイド部を形成す
るガイドレ−ル44およびこのガイドレ−ル44と所定
間隔で平行に離間して駆動装置としてのリニアモ−タ4
5が設けられている。
The robots 41 are arranged in parallel, in the present embodiment, beside the pair of spin processing devices 42 and 43, below the ultraviolet irradiation device 15 and the brush cleaning device 20, that is, as shown in FIG. Second processing unit 1b
In addition, the pair of spin processing devices 42 and 43 arranged in the fourth processing unit 1d are provided so as to be movable along the juxtaposed direction. That is, as shown in FIG. 3, a guide rail 44 that forms a guide portion is provided on the side of the spin processing devices 42 and 43, and a linear motor as a drive device that is separated in parallel with the guide rail 44 at a predetermined interval. Type 4
5 are provided.

【0061】上記ガイドレ−ル44にはスライダ46が
スライド自在に設けられ、このスライダ46の上面には
第1の水平部材47が設けられている。この第1の水平
部材47には第1の垂直部材48が垂設されている。
A slider 46 is slidably provided on the guide rail 44, and a first horizontal member 47 is provided on the upper surface of the slider 46. A first vertical member 48 is vertically provided on the first horizontal member 47.

【0062】上記リニアモ−タ45は固定部45aと、
この固定部45aに沿って駆動される可動部45bとか
らなり、この可動部45bには第2の水平部材49が取
着されている。この第2の水平部材47には第2の垂直
部材51が垂設されている。
The linear motor 45 has a fixed portion 45a,
The movable portion 45b is driven along the fixed portion 45a, and the second horizontal member 49 is attached to the movable portion 45b. A second vertical member 51 is vertically provided on the second horizontal member 47.

【0063】上記第1の垂直部材48と第2の垂直部材
51との下端間には載置板52が水平に架設されてい
て、この載置板52上に上記ロボット41が設置固定さ
れている。このロボット41は柱状の本体部41aを有
し、この本体部41aは一対の垂直部材48、49の間
隔よりも小さな径寸法に形成されている。
A mounting plate 52 is horizontally installed between the lower ends of the first vertical member 48 and the second vertical member 51, and the robot 41 is installed and fixed on the mounting plate 52. There is. The robot 41 has a columnar main body 41a, and the main body 41a is formed to have a diameter smaller than the distance between the pair of vertical members 48 and 49.

【0064】上記ガイドレ−ル44とリニアモ−タ45
の固定部45aとはそれぞれ耐蝕性の高い金属や合成樹
脂等の材料からなるカバ−体53a、53bによって覆
われている。
The guide rail 44 and the linear motor 45 described above.
The fixed portion 45a is covered with cover bodies 53a and 53b made of a material such as metal or synthetic resin having high corrosion resistance.

【0065】各カバ−体53a、53bは上端が上記ロ
ボット41の走行方向に沿って設けられたフレ−ム54
に固定され、中途部がロボット41に向かって低く傾斜
し、かつそれぞれが上記ガイドレ−ル44とリニアモ−
タ45の固定部45aを覆い、下端部は各垂直部材4
8、51とロボット41との間に挿入されている。
Frames 53a and 53b each have a frame 54 whose upper end is provided along the traveling direction of the robot 41.
The guide rail 44 and the linear motor are fixed to the robot 41.
The vertical portion 4 of the vertical member
It is inserted between 8, 51 and the robot 41.

【0066】上記一対のカバ−体53a、53bの下端
側には、上記ロボット41の走行範囲の全長にわたって
耐蝕性の高い材料からなるドレンパン55が設けられて
いる。このドレンパン55には、後述するように上記ロ
ボット41からカバ−体53a、53bに滴下したドレ
ンが集積されるようになっている。
A drain pan 55 made of a material having high corrosion resistance is provided on the lower ends of the pair of cover bodies 53a and 53b over the entire length of the traveling range of the robot 41. As will be described later, the drain pan 55 is adapted to accumulate the drain dropped on the cover bodies 53a and 53b from the robot 41.

【0067】上記ロボット41は図4に示すようにツイ
ンア−ムロボットで、その本体部41a内には図示しな
い駆動源が設けられている。上記本体部41aの上面に
は第1のア−ム体56と第2のア−ム体57とが設けら
れている。第1のア−ム体56は、第1のリンク56a
と第2のリンク56bとからなっており、第2のア−ム
体57は第3のリンク57aと第4のリンク57bから
なっており、第1のリンク56aと第3のリンク57a
の一端が上記駆動源の駆動軸に連結されている。
The robot 41 is a twin arm robot as shown in FIG. 4, and a drive source (not shown) is provided in the main body 41a. A first arm body 56 and a second arm body 57 are provided on the upper surface of the main body 41a. The first arm body 56 has a first link 56a.
And a second link 56b, the second arm body 57 is composed of a third link 57a and a fourth link 57b, and a first link 56a and a third link 57a.
Has one end connected to the drive shaft of the drive source.

【0068】第1のリンク56aの他端には第2のリン
ク56bの一端が第1のリンクの回動に連動して回動す
るよう連結されている。各第3のリンク57aの他端に
は第4のリンク57bの一端が第3のリンク57aの回
動に連動して回動するように連結されている。第2のリ
ンク56bと第4のリンク56bの他端にはそれぞれ第
1のセッタ56cと、第2のセッタ57cの一端が第2
のリンク56bと第4のリンク57bの回動に連動して
回動するよう連結されている。
One end of the second link 56b is connected to the other end of the first link 56a so as to rotate in conjunction with the rotation of the first link. One end of the fourth link 57b is connected to the other end of each third link 57a so as to rotate in association with the rotation of the third link 57a. At the other ends of the second link 56b and the fourth link 56b, one end of the first setter 56c and one end of the second setter 57c are respectively provided at the second end.
The link 56b and the fourth link 57b are connected so as to rotate in association with the rotation.

【0069】したがって、一対の第1、第2のア−ム体
56、57は、第1のリンク56aと第3のリンク57
aが回動されることで、第2のリンク56bおよび第4
のリンク57bと、第1のセッタ56cおよび第2のセ
ッタ57cとがそれぞれ連動し、伸縮運動するようにな
っている。さらに、第1、第2のア−ム体56、57は
伸縮する方向を変えたり、上下駆動されるようになって
いる。図4は第1のア−ム体56が縮小し、第2のア−
ム体57が伸長している状態を示している。
Therefore, the pair of first and second arm bodies 56, 57 includes the first link 56a and the third link 57.
By rotating a, the second link 56b and the fourth link 56b
The link 57b, and the first setter 56c and the second setter 57c are interlocked with each other to expand and contract. Further, the first and second arm bodies 56 and 57 are adapted to change the direction of expansion and contraction and to be vertically driven. In FIG. 4, the first arm body 56 is reduced and the second arm body 56 is reduced.
The state in which the body 57 is extended is shown.

【0070】一対のア−ム体56、57が縮小したと
き、第2のリンク56aと第3のリンク57aとが、ま
た第1のセッタ56cと第2のセッタ57cとが夫々干
渉するのを防止するため、これらは高さを違えて設けら
れている。この実施形態では第2のア−ム体57が第1
のア−ム体56よりも低く設けられている。
When the pair of arm members 56 and 57 are contracted, the second link 56a and the third link 57a interfere with each other, and the first setter 56c and the second setter 57c interfere with each other. To prevent this, they are provided at different heights. In this embodiment, the second arm member 57 is the first
It is provided lower than the arm body 56.

【0071】第1のア−ム体56はドライ状態にある液
晶用ガラス基板5を専用に搬送し、第2のア−ム体57
はウエット状態にある液晶用ガラス基板5を専用に搬送
するようになっている。
The first arm body 56 exclusively conveys the glass substrate 5 for liquid crystal in the dry state, and the second arm body 57.
Is designed to exclusively convey the liquid crystal glass substrate 5 in a wet state.

【0072】各ア−ム体56、57の第1のセッタ56
cと第2のセッタ57cには所定の大きさの液晶用ガラ
ス基板5を位置決め保持するための複数の保持部材61
が設けられている。また、第2のア−ム体57の第2の
セッタ57cの基端部上面には一対のノズル体62が設
けられている。各ノズル体62からは第2のセッタ57
cに保持された液晶用ガラス基板5が乾燥するのを防止
するための液体としてたとえば純水が噴射されるように
なっている。
The first setter 56 of each arm body 56, 57
c and the second setter 57c, a plurality of holding members 61 for positioning and holding the glass substrate 5 for liquid crystal of a predetermined size.
Is provided. Further, a pair of nozzle bodies 62 is provided on the upper surface of the base end portion of the second setter 57c of the second arm body 57. From each nozzle body 62, the second setter 57
For example, pure water is sprayed as a liquid for preventing the glass substrate 5 for liquid crystal held in c from drying.

【0073】つまり、ブラシ洗浄装置20で洗浄されて
第2の受け渡し機構31に受け渡されたウエット状態に
ある液晶用ガラス基板5は第2のア−ム体57の第2の
セッタ57cによって受け取られる。ついで、その液晶
用ガラス基板5は第1あるいは第2のスピン処理装置4
2、43に供給される。その際、各スピン処理装置4
2、43はバッチ処理であるから、ウエット状態の液晶
用ガラス基板5を供給する間、所定時間待機しなければ
ならない。待機中には上記ノズル体62から液晶用ガラ
ス基板5に向けて純水が噴射される。それによって、ウ
エット状態にある液晶用ガラス基板5が乾燥するのが防
止されるから、乾燥による染みなどができるのが防止さ
れる。
That is, the glass substrate for liquid crystal 5 in the wet state, which has been cleaned by the brush cleaning device 20 and transferred to the second transfer mechanism 31, is received by the second setter 57c of the second arm body 57. Be done. Then, the glass substrate for liquid crystal 5 is used as the first or second spin processing apparatus 4.
2 and 43 are supplied. At that time, each spin processing device 4
Since Nos. 2 and 43 are batch processes, it is necessary to wait for a predetermined time while supplying the glass substrate 5 for liquid crystal in a wet state. During the standby, pure water is sprayed from the nozzle body 62 toward the glass substrate 5 for liquid crystal. As a result, the wet glass substrate 5 for liquid crystal is prevented from drying, and thus stains and the like due to drying are prevented.

【0074】一対のスピン処理装置42、43は液晶用
ガラス基板5に対して同じ処理を行うようになってい
る。つまり、液晶用ガラス基板5を保持して高速度で回
転させるとともに、その上面に超音波振動が付与された
薬液を薬液供給ノズル65から供給して薬液洗浄したの
ち、純水を純水供給ノズル66から供給してすすぎ洗浄
する。ついで、液晶用ガラス基板5に薬液や純水を供給
せずに高速回転させることで、乾燥処理する。
The pair of spin processing devices 42 and 43 perform the same processing on the liquid crystal glass substrate 5. That is, while holding the glass substrate 5 for liquid crystal and rotating it at a high speed, the chemical liquid with ultrasonic vibration applied to its upper surface is supplied from the chemical liquid supply nozzle 65 to clean the chemical liquid, and then pure water is supplied to the pure water supply nozzle. Supply from 66 and rinse. Then, the glass substrate for liquid crystal 5 is rotated at a high speed without supplying a chemical liquid or pure water to perform a drying process.

【0075】上記紫外線照射装置15およびブラシ洗浄
ユニット20は液晶用ガラス基板5を連続的に処理す
る。それに対してスピン処理装置42、43による液晶
用ガラス基板5の処理はバッチ処理である。そのため、
液晶用ガラス基板5の流れが不連続となってタクトタイ
ムが長くなる。
The ultraviolet irradiation device 15 and the brush cleaning unit 20 continuously process the liquid crystal glass substrate 5. On the other hand, the processing of the liquid crystal glass substrate 5 by the spin processing devices 42 and 43 is batch processing. for that reason,
The flow of the glass substrate 5 for liquid crystal becomes discontinuous and the tact time becomes long.

【0076】しかしながら、上述したごとく、液晶ガラ
ス基板5に対して同じ処理を行う一対のスピン処理装置
42、43を並設して設け、これらスピン処理装置に対
してブラシ洗浄ユニット20からの液晶ガラス基板5を
交互に供給するようにした。そのため、1つのスピン処
理装置で1枚の液晶ガラス基板5を順次処理する場合に
比べ、洗浄処理装置1全体としてのタクトタイムを短く
することが可能となる。
However, as described above, a pair of spin processing devices 42 and 43 for performing the same processing on the liquid crystal glass substrate 5 are provided in parallel, and the liquid crystal glass from the brush cleaning unit 20 is provided for these spin processing devices. The substrates 5 were supplied alternately. Therefore, the tact time of the cleaning processing apparatus 1 as a whole can be shortened as compared with the case where one liquid crystal glass substrate 5 is sequentially processed by one spin processing apparatus.

【0077】各スピン処理装置42、43で乾燥処理さ
れてドライ状態にある液晶ガラス基板5はロボット41
の第1のア−ム体56の第1のセッタ56cによって取
り出され、第5の処理ユニット1eへ搬送される。
The liquid crystal glass substrate 5 in a dry state after being dried by the spin processing devices 42 and 43 is the robot 41.
Is taken out by the first setter 56c of the first arm body 56 and is conveyed to the fifth processing unit 1e.

【0078】なお、ロボット41による液晶ガラス基板
5の各スピン処理装置42、43に対する着脱は、図1
と図5に示すように第2の処理ユニット1bと第4の処
理ユニット1dとを連通する開口部63を介して行われ
る。この開口部63は図示しないゲ−トによって開閉さ
れるようにしてもよい。
The robot 41 attaches and detaches the liquid crystal glass substrate 5 to and from the spin processing devices 42 and 43 by referring to FIG.
As shown in FIG. 5, this is performed through the opening 63 that connects the second processing unit 1b and the fourth processing unit 1d. The opening 63 may be opened and closed by a gate (not shown).

【0079】上記ロボット41は、ウエット状態にある
液晶ガラス基板5を第2のア−ム体57で受け渡し、洗
浄処理が完了してドライ状態にある液晶ガラス基板5を
第1のア−ム体56で受け渡すようにしている。そのた
め、第1のア−ム体56の第1のセッタ56cにはウエ
ット状態にある液晶ガラス基板5の汚れが付着するとい
うことがないから、上記第1のセッタ56cで受け渡し
する清浄な状態の液晶ガラス基板5がロボット41での
受け渡しによって汚損されることがない。
In the robot 41, the liquid crystal glass substrate 5 in the wet state is delivered by the second arm body 57, and the liquid crystal glass substrate 5 in the dry state after the cleaning process is completed is transferred to the first arm body. I try to hand it over at 56. As a result, the first setter 56c of the first arm body 56 is not contaminated with dirt on the liquid crystal glass substrate 5 in a wet state, so that the first setter 56c is in a clean state. The liquid crystal glass substrate 5 is not contaminated by the transfer by the robot 41.

【0080】しかも、第1のア−ム体56は第2のア−
ム体の57の上方に位置するから、第2のア−ム体57
の第2のセッタ57cに保持されたウエット状態の液晶
ガラス基板5から滴下する液体などによって第1のア−
ム体56の第1のセッタ56cやここに保持された液晶
ガラス基板5が汚されるということもない。
Moreover, the first arm member 56 is connected to the second arm member 56.
Since it is located above 57 of the arm body, the second arm body 57
The first liquid is dropped from the liquid crystal glass substrate 5 in the wet state held by the second setter 57c of the first setter 57c.
The first setter 56c of the frame body 56 and the liquid crystal glass substrate 5 held therein are not contaminated.

【0081】上記ロボット41の第2のア−ム体57が
ウエット状態にある液晶ガラス基板5を一対のスピン処
理装置42、43のいずれか一方に供給する場合、リニ
アモ−タ45によって駆動され、ガイドレ−ル44に沿
って走行する。その際、ウエット状態にある液晶ガラス
基板5からは一対のカバ−体53a、53bの中間部上
面に処理液などのドレンが滴下する。
When the second arm body 57 of the robot 41 supplies the wet liquid crystal glass substrate 5 to either one of the pair of spin processing devices 42 and 43, it is driven by the linear motor 45, The vehicle runs along the guide rails 44. At that time, a drain such as a processing liquid is dripped from the liquid crystal glass substrate 5 in the wet state onto the upper surfaces of the intermediate portions of the pair of cover bodies 53a and 53b.

【0082】上記カバ−体53a、53bの中間部はロ
ボット41に向かって低く傾斜しているから、カバ−体
53a、53bの中間部に滴下した処理液は図3に矢印
で示すようにその中間部から下端部を経てドレンパン5
5に集積される。
Since the intermediate portions of the cover bodies 53a and 53b are inclined downward toward the robot 41, the treatment liquid dropped on the intermediate portions of the cover bodies 53a and 53b is the same as indicated by the arrow in FIG. Drain pan 5 from the middle to the bottom
Collected in 5.

【0083】つまり、ウエット状態の液晶ガラス基板5
から滴下した処理液がロボット41の走行をガイドする
ガイドレ−ル44に滴下してこのガイドレ−ル44を早
期に腐食させたり、リニアモ−タ45に滴下してこれを
損傷させるなどのことが防止される。
That is, the liquid crystal glass substrate 5 in a wet state
It is possible to prevent the treatment liquid dropped from the above from dropping to the guide rail 44 that guides the traveling of the robot 41 to corrode the guide rail 44 at an early stage, or to the linear motor 45 to damage it. To be done.

【0084】上記第5の処理ユニット1eは図1に示す
ように複数のロ−ラからなる搬出部71を有する。この
搬出部71の一端側には上記ロボット41の第1のア−
ム体56の第1のセッタ56cに保持された液晶ガラス
基板5を受け取るプッシャ72が上下動自在に設けられ
ている。
The fifth processing unit 1e has a carry-out section 71 consisting of a plurality of rollers, as shown in FIG. A first arm of the robot 41 is provided at one end of the carry-out section 71.
A pusher 72 for receiving the liquid crystal glass substrate 5 held by the first setter 56c of the frame body 56 is provided so as to be vertically movable.

【0085】上記プッシャ72が上昇して第1のセッタ
56cから液晶ガラス基板5を受け取ると、下降してそ
の液晶ガラス基板5を上記搬出部71へ受け渡す。搬出
部71の他端にはアンロ−ダ部73が配設されていて、
上記搬出部71を搬送されてきた液晶ガラス基板5はこ
のアンロ−ダ部73に積層収容される。なお、洗浄装置
1における液晶ガラス基板5の流れは図1に矢印で示
す。
When the pusher 72 moves up and receives the liquid crystal glass substrate 5 from the first setter 56c, it moves down and transfers the liquid crystal glass substrate 5 to the carry-out section 71. An unloader section 73 is arranged at the other end of the carry-out section 71,
The liquid crystal glass substrate 5 conveyed through the carry-out section 71 is stacked and accommodated in the unloader section 73. The flow of the liquid crystal glass substrate 5 in the cleaning device 1 is shown by an arrow in FIG.

【0086】上記洗浄処理装置1はクリ−ンル−ムに設
置されるとともに、各処理ユニット1a〜1eの上部外
面には図5に示すようにクリ−ンユニット75が設けら
れている。クリ−ンユニット75はクリ−ンル−ム内の
空気を清浄化して各処理ユニット1a〜1eへ導入す
る。
The cleaning processing apparatus 1 is installed in a clean room, and a cleaning unit 75 is provided on the upper outer surface of each of the processing units 1a to 1e as shown in FIG. The cleaning unit 75 cleans the air in the cleaning room and introduces it into each of the processing units 1a to 1e.

【0087】第2の処理ユニット1bにおいては、上記
ロボット41がブラシ洗浄ユニット20の下方に配置さ
れている。そのため、第2の処理ユニット1bの上部の
クリ−ンユニット75から供給された清浄空気はブラシ
洗浄ユニット20に遮られ、上記ロボット41に保持さ
れた液晶ガラス基板5の清浄度を維持することが難しく
なる。
In the second processing unit 1b, the robot 41 is arranged below the brush cleaning unit 20. Therefore, the clean air supplied from the cleaning unit 75 above the second processing unit 1b is blocked by the brush cleaning unit 20, and the cleanliness of the liquid crystal glass substrate 5 held by the robot 41 can be maintained. It gets harder.

【0088】そこで、上記第2の処理ユニット1bに並
設された第4の処理ユニット1dの上部には、クリ−ン
ユニット75からの清浄空気の一部を分流するための第
1のガイド体76が設けられている。同図に矢印で示す
ように第1のガイド体76で分流された清浄空気は上記
第4の処理ユニット1dと第2の処理ユニット1bとを
連通する通孔77へガイドされる。
Therefore, a first guide body for diverting a part of the clean air from the cleaning unit 75 is provided above the fourth processing unit 1d arranged in parallel with the second processing unit 1b. 76 is provided. As shown by the arrow in the figure, the clean air divided by the first guide body 76 is guided to the through hole 77 that connects the fourth processing unit 1d and the second processing unit 1b.

【0089】第2の処理ユニット1bには上記通孔77
から流入した清浄空気を下方へ向かってガイドする第2
のガイド体78が設けられている。それによって、その
清浄空気はロボット41に向かって流れるから、このロ
ボット41に保持された液晶ガラス基板5の清浄度を維
持することができる。
The through hole 77 is formed in the second processing unit 1b.
The second that guides the clean air that has flowed in from downwards
The guide body 78 is provided. As a result, the clean air flows toward the robot 41, so that the cleanliness of the liquid crystal glass substrate 5 held by the robot 41 can be maintained.

【0090】上記構成の洗浄処理装置1によれば、液晶
ガラス基板5を処理するための処理部としての紫外線照
射装置15とブラシ洗浄ユニット20とを上段に配置
し、これらの下段に同じく処理部としてのロボット41
を配置した。
According to the cleaning processing apparatus 1 having the above-mentioned configuration, the ultraviolet irradiation device 15 as a processing section for processing the liquid crystal glass substrate 5 and the brush cleaning unit 20 are arranged in the upper stage, and the processing section is also disposed in the lower stage thereof. Robot 41 as
Was placed.

【0091】そのため、洗浄処理装置1全体としての幅
寸法は、上記ロボット装置40を紫外線照射装置15と
ブラシ洗浄ユニット20に対して横方向に並設した場合
よりも小さくできるから、その分、クリ−ンル−ムを占
有するスペ−スも小さくすることができる。
Therefore, the width dimension of the cleaning processing apparatus 1 as a whole can be made smaller than that in the case where the robot apparatus 40 is arranged side by side with respect to the ultraviolet irradiation apparatus 15 and the brush cleaning unit 20. The space that occupies the room can also be reduced.

【0092】上記紫外線照射装置15およびブラシ洗浄
ユニット20と、ロボット41とを上下二段に配置する
とともに、上段の紫外線照射装置15の入口側には第1
の受け渡し機構6を設け、ブラシ洗浄ユニット20の出
口側には第2の受け渡し機構31を設けるようにした。
The ultraviolet irradiator 15 and the brush cleaning unit 20 and the robot 41 are arranged in upper and lower two stages, and the first side is provided at the entrance side of the upper ultraviolet irradiator 15.
The delivery mechanism 6 is provided, and the second delivery mechanism 31 is provided on the outlet side of the brush cleaning unit 20.

【0093】そのため、複数の処理部を上下二段に配置
しても、液晶ガラス基板5のロ−ダ部4から紫外線照射
装置15への受け渡しやブラシ洗浄ユニット20からロ
ボット41への受け渡しを確実に行うことが可能であ
る。
Therefore, even if a plurality of processing parts are arranged in two stages, the transfer from the loader part 4 of the liquid crystal glass substrate 5 to the ultraviolet irradiation device 15 and the transfer from the brush cleaning unit 20 to the robot 41 are ensured. It is possible to

【0094】上段に紫外線照射装置15およびブラシ洗
浄ユニット20を配置し、下段にロボット41を配置し
たことで、第2の処理ユニット1bの上部からのダウン
フロ−が上段の処理部によって遮られる。
By disposing the ultraviolet irradiation device 15 and the brush cleaning unit 20 in the upper stage and arranging the robot 41 in the lower stage, the downflow from the upper part of the second processing unit 1b is blocked by the upper processing unit.

【0095】しかしながら、上記第2の処理ユニット1
bに並設された第4の処理ユニット1dからのダウンフ
ロ−の一部は、第1のガイド体76によって分流され、
第2、第4の処理ユニット1b、1dを連通する通孔7
7を通って第2のガイド体78によりロボット41に向
かってガイドされる。
However, the second processing unit 1
Part of the downflow from the fourth processing unit 1d arranged in parallel with b is diverted by the first guide body 76,
A through hole 7 that connects the second and fourth processing units 1b and 1d.
It is guided toward the robot 41 by the second guide body 78 passing through 7.

【0096】したがって、ロボット41に保持された洗
浄処理後の液晶ガラス基板5は第2の処理ユニット1b
に隣接する第4の処理ユニット1dからの清浄空気によ
って清浄度が維持される。つまり、複数の処理部を上下
二段に配置しても、下段に配置された処理部の清浄度を
クリ−ンユニット75からの清浄空気によって確実に維
持することができる。
Therefore, the liquid crystal glass substrate 5 held by the robot 41 after the cleaning processing is the second processing unit 1b.
The cleanliness is maintained by the clean air from the fourth processing unit 1d adjacent to. In other words, even if the plurality of processing units are arranged in the upper and lower two stages, the cleanliness of the processing units arranged in the lower stage can be reliably maintained by the clean air from the cleaning unit 75.

【0097】この発明は上記一実施形態に限定されず、
種々変形可能である。たとえば、上記一実施形態では処
理装置として洗浄処理装置を挙げたが、それ以外の処理
を行う装置であっても、複数の処理部を有するものであ
れば、この発明を適用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment,
Various modifications are possible. For example, in the above-described one embodiment, the cleaning processing apparatus is used as the processing apparatus, but the present invention can be applied to apparatuses that perform other processing as long as the apparatus has a plurality of processing units.

【0098】たとえば被処理物としての半導体ウエハや
液晶ガラス基板に回路パタ−ンを形成するために行われ
る現像処理、エッチング処理、薄膜形成処理などを行う
処理部を備えた処理装置であってもよく、要は処理部の
種類や組み合わせ、さらには被処理物の種類なども限定
されるものでない。
For example, even a processing apparatus having a processing section for performing a developing process, an etching process, a thin film forming process, etc., for forming a circuit pattern on a semiconductor wafer or a liquid crystal glass substrate as an object to be processed. Of course, the point is not limited to the type or combination of the processing units, or the type of the object to be processed.

【0099】さらに、上記一実施形態ではロ−ダ部に収
容された被処理物を第1の受け渡し機構で上段の処理部
に供給し、上段の最後の処理部で処理された被処理物を
第2の受け渡し機構で下段の処理部に受け渡すようにし
たが、処理部の配置状態によってはロ−ダ部の被処理物
を第1の受け渡し機構によって下段の処理部に受け渡
し、第2の受け渡し機構によって下段の処理部で処理さ
れた被処理物を上段の処理部に受け渡すようにしてもよ
い。その場合、ロ−ダ部と下段の処理部とが同じ高さで
あれば、第1の受け渡し機構を上下動自在な構成としな
くてもよい。
Further, in the above embodiment, the object to be processed contained in the loader section is supplied to the upper processing section by the first transfer mechanism, and the object to be processed processed in the last processing section of the upper stage is supplied. Although the second transfer mechanism is used to transfer to the lower processing section, depending on the arrangement of the processing section, the object to be processed in the loader section is transferred to the lower processing section by the first transfer mechanism, and the second processing section is transferred to the second processing section. The object to be processed processed by the lower processing unit by the transfer mechanism may be transferred to the upper processing unit. In that case, if the loader section and the lower processing section have the same height, the first delivery mechanism does not have to be vertically movable.

【0100】また、一対のスピン処理装置を1つの処理
ユニットに配置したが、別々の処理ユニットに配置する
ようにしてもよく、その点は処理部の大きさや処理ユニ
ットの大きさなどによって設計変更できることである。
Further, although the pair of spin processing devices are arranged in one processing unit, they may be arranged in different processing units. In this respect, the design may be changed depending on the size of the processing unit or the size of the processing unit. It is possible.

【0101】また、上記一実施形態では、紫外線照射装
置およびブラシ洗浄ユニットを上方に配置し、その下方
にロボットを配置し、スピン処理装置は上記ロボットの
側方で、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニット
の斜め下方に配置したが、上記ロボットおよびスピン処
理装置を、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニッ
トの真下に配置するようにしてもよいこと勿論である。
その場合、ロ−ダ部とアンロ−ダ部も上下方向に配置す
ればよい。
Further, in the above-mentioned one embodiment, the ultraviolet irradiation device and the brush cleaning unit are arranged above, and the robot is arranged below the ultraviolet irradiation device and the brush cleaning unit. Although it is arranged diagonally below the unit, it goes without saying that the robot and the spin processing device may be arranged directly below the ultraviolet irradiation device and the brush cleaning unit.
In that case, the loader and unloader may be arranged vertically.

【0102】[0102]

【発明の効果】請求項1と請求項2の発明によれば、複
数の処理部を上下二段に配置し、上段あるいは下段のど
ちらか一方の処理部で処理された被処理物を他方の処理
部で処理するようにした。
According to the first and second aspects of the present invention, a plurality of processing units are arranged in upper and lower two stages, and an object to be processed which is processed in one of the upper and lower processing units is in the other. Processing is performed in the processing unit.

【0103】そのため、複数の処理部を平面的に配置す
る場合に比べて装置を設置するに要する占有面積を小さ
くすることができるから、たとえばクリ−ンル−ム内の
スペ−スを有効に利用することができる。
Therefore, the occupied area required for installing the apparatus can be reduced as compared with the case where a plurality of processing units are arranged in a plane, so that the space in the clean room is effectively used, for example. can do.

【0104】さらに、請求項2の発明によれば、複数の
処理部を上下二段に配置しても、第1の受け渡し手段と
第2の受け渡し手段とによって被処理物を上段の処理部
から下段の処理部あるいはその逆に流すことができるか
ら、被処理物の流れの選択幅を拡大することができる。
Further, according to the second aspect of the present invention, even if the plurality of processing units are arranged in the upper and lower stages, the object to be processed is transferred from the upper processing unit by the first transfer means and the second transfer means. Since the flow can be made to flow to the lower processing unit or vice versa, it is possible to expand the selection range of the flow of the object to be processed.

【0105】請求項3の発明によれば、被処理物に対し
て同じ処理を行う複数の処理部を直列に設け、これら処
理部の側方には各処理部に対して被処理物を搬入搬出す
る供搬入搬出手段を移動自在に設けるようにした。
According to the third aspect of the present invention, a plurality of processing units that perform the same processing on the object to be processed are provided in series, and the object to be processed is carried into each processing unit on the side of these processing units. The carrying-in / carrying-out means for carrying out is provided movably.

【0106】そのため、被処理物をバッチ処理する処理
部と連続処理する処理部とが混在する場合、バッチ処理
する複数の処理部を並設することで、バッチ処理する処
理部での見掛上の処理時間をその処理部の数に応じて大
幅に短縮できるから、全体のタクトタイムも短縮するこ
とができる。
Therefore, in the case where the processing units for batch processing and the processing units for continuous processing coexist, a plurality of processing units for batch processing are provided side by side so that an apparent appearance of the processing units for batch processing can be achieved. The processing time of can be greatly shortened according to the number of processing units, so that the overall takt time can also be shortened.

【0107】請求項4の発明によれば、複数の処理部を
上下二段に配置した場合、隣接する処理部に供給された
清浄空気を下段に配置された処理部へ分流できるように
した。
According to the invention of claim 4, when the plurality of processing units are arranged in upper and lower two stages, the clean air supplied to the adjacent processing units can be branched to the processing units arranged in the lower stage.

【0108】そのため、処理部を上下二段に配置して
も、下段の処理部におけるクリ−ン度を確保することが
できる。
Therefore, even if the processing units are arranged in the upper and lower two stages, it is possible to secure the cleaning degree in the lower processing unit.

【0109】請求項5の発明によれば、上下駆動されて
上段と下段の処理部の間で被処理物を受け渡す受け渡し
手段のドレンパンに可動パイプを接続し、この可動パイ
プを固定パイプにスライド自在に挿通することで、受け
渡し手段に保持された被処理物の乾燥を防止するために
噴射された液体を上記ドレンパンから可動パイプおよび
固定パイプを通じて排出できるようにした。
According to the fifth aspect of the present invention, the movable pipe is connected to the drain pan of the transfer means which is driven up and down to transfer the object to be processed between the upper and lower processing units, and the movable pipe is slid on the fixed pipe. By freely inserting the liquid, the injected liquid can be discharged from the drain pan through the movable pipe and the fixed pipe in order to prevent the object to be processed held by the delivery means from drying.

【0110】そのため、ドレンパンの下方には固定パイ
プを設置できるだけのスペ−スを確保すればよいから、
液体を排出するために必要となるスペ−スを小さくでき
る。しかも、上下駆動手段の上下動によって可動パイプ
が固定パイプをスライドする構成であるから、上下動が
繰り返されても損傷することがほとんどない。
Therefore, it is sufficient to secure a space below the drain pan so that a fixed pipe can be installed.
The space required for discharging the liquid can be reduced. Moreover, since the movable pipe slides on the fixed pipe by the vertical movement of the vertical drive means, it is hardly damaged even if the vertical movement is repeated.

【0111】請求項6の発明によれば、固定式ロ−ラユ
ニットと可動式ロ−ラユニットとの隣り合う一側に、そ
れぞれ傾斜部を有する第1の防水カバ−と第2の防水カ
バ−とを、上記可動式ロ−ラユニットが上昇したとき
に、その第2の防水カバ−の傾斜部が上記第1の防水カ
バ−の傾斜部の下方に重合位置するように設けた。
According to the sixth aspect of the present invention, the first waterproof cover and the second waterproof cover each having an inclined portion on one of the adjacent sides of the fixed roller unit and the movable roller unit. And-is provided so that the inclined portion of the second waterproof cover is superposed below the inclined portion of the first waterproof cover when the movable roller unit is raised.

【0112】そのため、被処理物が固定式ロ−ラユニッ
トから可動式ロ−ラユニットへ受け渡されるときに、上
記被処理物から洗浄液などの液体が滴下しても、その液
体は第1の防水カバ−の傾斜部と第2の防水カバ−の傾
斜部に滴下して各ロ−ラユニットの内部へガイドされる
から、外部に飛散するのを防止することができる。
Therefore, even if a liquid such as a cleaning liquid drops from the object to be processed when the object to be processed is transferred from the fixed roller unit to the movable roller unit, the liquid remains in the first liquid. It is possible to prevent the water from scattering to the outside because it is dropped on the inclined portion of the waterproof cover and the inclined portion of the second waterproof cover and is guided into the inside of each roller unit.

【0113】請求項7の発明によれば、被処理物に対し
て同じ処理を行う一対の処理部を設置し、この処理部に
上記被処理物を供給排出する手段としてのロボットを処
理部の並設方向に沿って走行させる場合、そのロボット
の走行をガイドするガイド部およびこのガイド部と平行
に設けられ上記ロボットを走行駆動するためのリニアモ
−タとをカバ−体で覆うようにした。
According to the invention of claim 7, a pair of processing units for performing the same processing on the object to be processed is installed, and a robot as a means for supplying and discharging the object to be processed is provided with the processing unit. When traveling along the parallel installation direction, the guide body for guiding the traveling of the robot and the linear motor provided in parallel with the guide portion for driving and driving the robot are covered with the cover body.

【0114】そのため、上記ロボットによって搬送され
る被処理物から液体が滴下しても、その液体によってガ
イド部が腐食されたり、リニアモ−タの故障を招くなど
のことを防止できる。
Therefore, even if the liquid is dropped from the object to be processed conveyed by the robot, it is possible to prevent the guide part from being corroded by the liquid and the linear motor from being damaged.

【0115】請求項8の発明によれば、被処理物を所定
の搬送高さで処理するとともに、その搬送高さを変えて
さらに処理するようにした。
According to the eighth aspect of the present invention, the object to be processed is processed at a predetermined carrying height, and the carrying height is changed for further processing.

【0116】そのため、被処理物を処理するためのスペ
−スを立体的に有効に利用することができる。つまり、
被処理物に対して複数の処理を行う場合、それらの処理
に必要なスペ−スを小さくすることができる。
Therefore, the space for processing the object to be processed can be effectively utilized three-dimensionally. That is,
When a plurality of treatments are performed on an object to be treated, the space required for those treatments can be reduced.

【0117】請求項9の発明によれば、第1のア−ム体
と第2のア−ム体とを有するロボット装置において、第
1のア−ム体のセッタを、第2のア−ム体のセッタより
も下方に位置させるとともに、この第2のア−ム体のセ
ッタにはここに保持される被処理物に向けて液体を噴射
するノズル体を設けるようにした。
According to the ninth aspect of the invention, in the robot apparatus having the first arm body and the second arm body, the setter of the first arm body is replaced by the second arm body. The second arm setter is positioned below the setter of the column body, and the second setter of the column body is provided with a nozzle body for injecting a liquid toward the object to be treated.

【0118】そのため、第2のア−ム体のセッタに保持
された被処理物を受け渡すまでに待機時間を要するよう
な場合、上記ノズル体から液体を噴射させることで、上
記被処理物が乾燥するのを防止できる。
Therefore, in the case where a waiting time is required until the object to be processed held by the setter of the second arm body is transferred, the object to be processed is ejected by ejecting the liquid from the nozzle body. It can prevent it from drying.

【0119】しかも、第2のア−ム体のセッタが第1の
ア−ム体のセッタよりも下方に位置するため、第2のア
−ム体に保持された被処理物から液体が滴下しても、そ
の液体が第1のア−ム体のセッタやこれに保持された被
処理物を汚損させるということがない。
Moreover, since the setter of the second arm body is located below the setter of the first arm body, the liquid is dripped from the object to be treated held by the second arm body. However, the liquid does not contaminate the setter of the first arm body or the object to be treated held by the setter.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施形態を示す全体構成図。FIG. 1 is an overall configuration diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】同じく第2の受け渡し機構を示す側面図。FIG. 2 is a side view showing a second delivery mechanism of the same.

【図3】同じくロボットの配置状態の側面図。FIG. 3 is a side view of the same robot arrangement state.

【図4】同じくロボットの斜視図。FIG. 4 is a perspective view of the robot.

【図5】同じくロボットへ清浄空気を導入する構成の説
明図。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a configuration for introducing clean air into the robot.

【図6】同じく可動ロ−ラユニットと固定ロ−ラユニッ
トを示す断面図。
FIG. 6 is a sectional view showing a movable roller unit and a fixed roller unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4…ロ−ダ部 5…液晶ガラス基板(被処理物) 6…第1の受け渡し手段 15…紫外線照射装置(処理部) 20…ブラシ洗浄ユニット(処理部) 31…第2の受け渡し手段 33…ロ−ラユニット(搬送機構) 34…筐体(ドレンパン) 37…シャワ−ノズル(液体供給手段) 38…可動パイプ 39…固定パイプ 41…ロボット(処理部) 42…第1のスピン処理装置(処理部) 43…第2のスピン処理装置(処理部) 44…ガイドレ−ル(ガイド部) 45…リニアモ−タ 53a、53b…カバ−体 62…ノズル体 73…アンロ−ダ部 4 ... loader section 5 ... Liquid crystal glass substrate (processing object) 6 ... First delivery means 15 ... Ultraviolet irradiation device (processing unit) 20 ... Brush cleaning unit (processing unit) 31 ... Second delivery means 33 ... Roller unit (transport mechanism) 34 ... Housing (drain pan) 37 ... Shower nozzle (liquid supply means) 38 ... Movable pipe 39 ... Fixed pipe 41 ... Robot (processing unit) 42 ... First spin processing apparatus (processing section) 43 ... Second spin processing apparatus (processing section) 44 ... Guide rail (guide section) 45 ... Linear motor 53a, 53b ... Cover body 62 ... Nozzle body 73 ... Unloader section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 H01L 21/02 H01L 21/02 Z 21/304 642 21/304 642Z 648 648A Fターム(参考) 2H088 FA21 FA24 FA30 HA01 MA20 2H090 JB02 JC19 3B201 AA02 AA03 AB24 AB34 BA02 BB93 BC01 CB15 CC01 5F031 CA02 CA05 FA01 FA02 FA07 FA11 FA12 FA15 GA35 GA38 GA43 GA47 GA48 GA49 GA50 HA58 HA59 LA08 MA23 NA02 NA04 NA16 PA30 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 H01L 21/02 H01L 21/02 Z 21/304 642 21/304 642Z 648 648A F term (reference) 2H088 FA21 FA24 FA30 HA01 MA20 2H090 JB02 JC19 3B201 AA02 AA03 AB24 AB34 BA02 BB93 BC01 CB15 CC01 5F031 CA02 CA05 FA01 FA02 FA07 FA11 FA12 FA15 GA35 GA38 GA43 GA47 GA48 NA49 GA50 GA49 GA04 GA50

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の処理部を有し、これら処理部に被
処理物を順次搬送することで処理する処理装置におい
て、 上記複数の処理部は上下二段に配置されていることを特
徴とする処理装置。
1. A processing apparatus having a plurality of processing units, wherein a processing object is processed by sequentially transporting an object to be processed to the processing units, wherein the plurality of processing units are arranged in upper and lower two stages. Processing equipment.
【請求項2】 被処理物を処理するための処理装置にお
いて、 上下二段に配置された複数の処理部と、 上段あるいは下段のどちらか一方の一端に位置する処理
部に対向して配置され未処理の被処理物を保持したロ−
ダ部と、 上段あるいは下段の他方の一端に位置する処理部に対向
して配置され処理済みの被処理物が格納されるアンロ−
ダ部と、 上記ロ−ダ部から上段あるいは下段のどちらか一方の一
端に位置する処理部へ未処理の被処理物を供給する第1
の受け渡し手段と、 上段あるいは下段のどちらか一方の他端に位置する処理
部から被処理物を受けてその被処理物を他方の他端に位
置する処理部へ供給する第2の受け渡し手段とを具備し
たことを特徴とする処理装置。
2. A processing apparatus for processing an object to be processed, wherein a plurality of processing units arranged in upper and lower two stages and a processing unit located at one end of either the upper stage or the lower stage are arranged so as to face each other. A roll holding an unprocessed object
An unloader that is disposed so as to face the processing part located at the other end of the upper part or the lower part, and stores the processed object.
First part for supplying an untreated object from the loader part to the processing part located at one end of either the upper part or the lower part from the loader part
And a second delivery means for receiving an object to be processed from a processing unit located at the other end of either the upper stage or the lower stage and supplying the object to the processing unit located at the other end of the other stage. A processing device comprising:
【請求項3】 上段あるいは下段のどちらか一方には、
上記被処理物に対して同じ処理をする複数の処理部が直
列に設けられ、これら処理部の側方には各処理部に対し
て被処理物を搬入搬出する搬入搬出手段が設けられてい
ることを特徴とする請求項1または請求項2記載の処理
装置。
3. In either the upper stage or the lower stage,
A plurality of processing units that perform the same processing on the object to be processed are provided in series, and a carry-in / carry-out means for carrying in and out the object to be processed is provided on the side of these processing units. The processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein
【請求項4】 上記搬入搬出手段は下段に配置され、こ
の搬入搬出手段の側方には他の処理部が並列に配置され
ていて、上記搬入搬出手段と上記他の処理部との間に
は、上記他の処理部に供給された清浄空気の一部を上記
搬入搬出手段に向けて分流する分流手段が設けられてい
ることを特徴とする請求項3記載の処理装置。
4. The carrying-in / carrying-out means is arranged in a lower stage, and another processing section is arranged in parallel beside the carrying-in / carrying-out means, and between the carrying-in / carrying-out means and the other processing section. The processing apparatus according to claim 3, further comprising: a flow dividing unit that divides a part of the clean air supplied to the other processing unit toward the loading / unloading unit.
【請求項5】 上記第2の受け渡し手段は、被処理物を
搬送する搬送機構と、この搬送機構によって搬送される
被処理物に向けて乾燥防止用の液体を供給する液体供給
手段と、上記搬送機構の下面側に設けられ上記液体供給
手段から供給された液体を集積するとともに上記搬送機
構と一体的に上下駆動されるドレンパンと、このドレン
パンに接続されドレンパンに集積された液体を排出する
可動パイプと、この可動パイプがスライド自在に挿入さ
れ可動パイプから排出される液体が導入される固定パイ
プとからなることを特徴とする請求項2記載の処理装
置。
5. The second transfer means, a transport mechanism for transporting the object to be processed, a liquid supply means for supplying a liquid for preventing drying toward the object to be processed transported by the transport mechanism, A drain pan provided on the lower surface side of the transfer mechanism for collecting the liquid supplied from the liquid supply means and vertically driven integrally with the transfer mechanism, and a movable unit connected to the drain pan for discharging the liquid accumulated in the drain pan. The processing apparatus according to claim 2, comprising a pipe and a fixed pipe into which the movable pipe is slidably inserted and into which the liquid discharged from the movable pipe is introduced.
【請求項6】 所定の処理部の搬出側には所定の高さで
配置されるとともにその処理部から搬出された被処理物
を受ける固定式ロ−ラユニットが設けられ、 上記第2の受け渡し手段は、上下方向に駆動されるとと
もに上昇位置で上記固定式ロ−ラユニットに搬出された
被処理物を受けて下降する可動式ロ−ラユニットからな
り、 上記可動式ロ−ラユニットが上昇したときに隣り合う上
記固定式ロ−ラユニットと可動式ロ−ラユニットとの一
側には、各ロ−ラユニットの内方に向かって低く傾斜し
た傾斜部を有する第1の防水カバ−と第2の防水カバ−
とが設けられ、上記可動ユニットに設けられた第2の防
水カバ−の傾斜部は、この可動ユニットが上昇したとき
に上記固定式ロ−ラユニットの防水カバ−の傾斜部の下
方に重合位置することを特徴とする請求項2記載の処理
装置。
6. A fixed-type roller unit, which is arranged at a predetermined height on a carry-out side of a predetermined processing section and receives an object to be processed carried out from the processing section, said second transfer The means comprises a movable roller unit that is driven in the vertical direction and that receives the object to be processed that has been carried out to the fixed roller unit at the elevated position and descends, and the movable roller unit rises. At the side of the fixed roller unit and the movable roller unit, which are adjacent to each other, a first waterproof cover having an inclined portion inclined inwardly toward the inside of each roller unit. And the second waterproof cover
And the inclined portion of the second waterproof cover provided on the movable unit is located below the inclined portion of the waterproof cover of the fixed roller unit when the movable unit rises. The processing device according to claim 2, wherein
【請求項7】 上記搬入搬出手段は、その移動方向に沿
って設けられたガイド部と、このガイド部と平行かつ所
定の間隔を介して設けられた駆動装置と、上記ガイド部
と駆動装置との間に配置されるとともにこれらガイド部
と駆動装置とによって走行自在に支持されかつ駆動装置
によってその走行方向に沿って駆動されるロボットと、
このロボットの走行方向両側に沿って上記ガイド部と駆
動装置とを覆う状態で設けられたカバ−体とからなるこ
とを特徴とする請求項3記載の処理装置。
7. The carrying-in / carrying-out means includes a guide portion provided along the moving direction thereof, a drive device provided in parallel with the guide portion at a predetermined interval, the guide portion and the drive device. A robot that is disposed between the two and is movably supported by these guide portions and a drive device and that is driven by the drive device in the traveling direction thereof;
4. The processing apparatus according to claim 3, comprising a cover body provided in a state of covering the guide portion and the drive unit along both sides of the traveling direction of the robot.
【請求項8】 被処理物を搬送処理する処理方法におい
て、 未処理の被処理物を所定の高さで供給する供給工程と、 この供給工程から供給搬送された被処理物をほぼ同じ搬
送高さで処理する第1の処理工程と、 この第1の処理工程で処理された被処理物の搬送高さを
変更する高さ変更工程と、 この高さ変更工程で変更された高さとほぼ同じ高さで上
記被処理物を処理する第2の処理工程と、 この第2の処理工程で処理された被処理物を格納する格
納工程とを具備したことを特徴とする被処理物の処理方
法。
8. A processing method for carrying and processing an object to be processed, comprising: a supply step for supplying an unprocessed object at a predetermined height; And a height changing step for changing the carrying height of the object to be processed processed in the first processing step, and a height changed in the height changing step are substantially the same. A method of treating an object to be treated, comprising: a second treatment step of treating the object to be treated at a height; and a storing step of storing the object to be treated in the second treatment step. .
【請求項9】 複数のリンクを回動自在に連結するとと
もに先端に被処理物を保持するためのセッタが設けられ
て伸縮駆動される第1のア−ム体と第2のア−ム体とを
備えたロボット装置において、 上記第1のア−ム体のセッタは、上記第2のア−ム体の
セッタよりも下方に位置するとともに、この第2のア−
ム体のセッタにはここに保持された被処理物に向けて液
体を噴射するノズル体が設けられていることを特徴とす
るロボット装置。
9. A first arm body and a second arm body, which are rotatably driven by connecting a plurality of links rotatably and provided with a setter for holding an object to be processed at a tip thereof. In the robot apparatus including, the setter of the first arm body is located below the setter of the second arm body, and the setter of the second arm body is located below the setter of the second arm body.
A robot apparatus characterized in that a nozzle body for ejecting a liquid toward a processing object held here is provided on the setter of the frame body.
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JP2015082570A (en) * 2013-10-22 2015-04-27 株式会社ディスコ Wafer processing system
JP2015092520A (en) * 2013-11-08 2015-05-14 株式会社東京精密 Grinding device of semiconductor substrate

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009245582A (en) * 2003-02-10 2009-10-22 Intevac Inc Disk coating system
JP2006110896A (en) * 2004-10-15 2006-04-27 Asahi Matsushita Electric Works Ltd Resin panel heating apparatus
JP2015082570A (en) * 2013-10-22 2015-04-27 株式会社ディスコ Wafer processing system
JP2015092520A (en) * 2013-11-08 2015-05-14 株式会社東京精密 Grinding device of semiconductor substrate

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