JP2003035518A - パターン線幅の測定方法 - Google Patents

パターン線幅の測定方法

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JP2003035518A
JP2003035518A JP2001218973A JP2001218973A JP2003035518A JP 2003035518 A JP2003035518 A JP 2003035518A JP 2001218973 A JP2001218973 A JP 2001218973A JP 2001218973 A JP2001218973 A JP 2001218973A JP 2003035518 A JP2003035518 A JP 2003035518A
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Masaru Nogami
大 野上
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】斜めパターンの測定により得られた画素長を寸
法値に変換すること。また、斜めパターンの測定再現性
を向上させる。 【解決手段】斜めの画素長を縦方向の成分と横方向の成
分に分け、それぞれの方向の寸法値から斜めパターンの
寸法を算出するようにした。また、認識した両エッジの
垂線の中心を通る直線を計算し、使用することで斜めパ
ターンの測定再現性を向上するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、寸法測定装置に関
わり、特に、液晶パターンの線幅測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の TFT 等の液晶の線幅測定方法を
図1によって説明する。図1は、従来の液晶線幅測定装
置の簡単な構成を示す図である。図1において、顕微鏡
2 に取付けられた CCTV カメラ 1 で液晶パターン 4 の
表面を撮像し、撮像した画像を VIDEO 信号として画像
処理装置 6 に送り、画像処理装置 6 内のメモリに取込
む。取込まれた画像は、ハードウェアで決められた割合
で縦と横に分割される。液晶の表面に形成されたパター
ンの線幅を測定する時には、まず、画像処理装置 6 内
のメモリに取込まれた画像から、測定するエッジを認識
し、エッジ間の距離を算出する。
【0003】一般に、図2に示すように、パターン 7 の
エッジ認識を複数行い、認識したエッジ 8 、9 から2
つの直線を求め、その平均値を使用することで測定の再
現性が向上する。また、斜めパターンの線幅は、図3に
示すように、認識したエッジ 10 、11 から2つの直線を
求め、求めた2直線の距離を線幅とすることができる。
求められた距離の単位は、画素長であり、これを寸法値
に変換するには、式(1) のように、乗数を乗じることで
単位の変換を行う。 L = a × P ‥‥‥式(1) ここで、 L はパターンの寸法値、a は乗数、 P は画素長
である。
【0004】この乗数 a は、顕微鏡の拡大倍率と CCTV
カメラ 1 の CCD 画素サイズによって決められ、CCTV
カメラ 1 のアスペクト比の関係から、画面の縦方向と横
方向で乗数は異なる。従って、斜めパターンの線幅を測
定する場合には、画素長 Pを寸法値に変換するには、縦
・横パターンの画素長を寸法値に変換する方法とは異な
る新たな手法が必要となる。即ち、斜めのパターンの線
幅を測定するには、斜めのエッジ間の相対距離を求め、
この画素長から寸法値に変換する必要がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前述したように、即ち、
斜めのパターンの線幅を測定するには、斜めのエッジ間
の相対距離を求め、この画素長から寸法値に変換する必
要がある。また、斜めパターンの測定では、縦・横パタ
ーンのようにエッジ認識を複数行い、その平均値を使用
することができないため測定再現性が悪くなる欠点があ
る。本発明の目的は、上記のような欠点を除去し、斜めパ
ターンの線幅を測定した時の画素長を寸法値に変換し、
かつ、再現性の良い、斜めパターン測定方法を提供するこ
とにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の斜めパターン測定方法は、斜め方向の画素長
を縦方向の成分と横方向の成分に分け、それぞれの方向
で画素長を寸法値に変換し、縦方向の寸法値と横方向の
寸法値から斜めパターンの寸法を求めるものである。そ
して、斜めパターンの測定再現性を向上させるため、2
つのエッジ間の画素長を求める時に、2つのエッジから
求めた斜めパターンの2直線の垂線から中心を通る直線
を求め、この中心を通る直線と2つエッジとの交点を画
素長とし寸法値化するものである。即ち、本発明の寸法
測定方法は、測定するパターンを画像として取得し、取
得した画像の画素長からパターンの線幅を求める寸法測
定装置において、画素長を縦方向の成分と横方向の成分
に分け、横方向の成分の画素長を横方向の寸法値に変換
して求め、縦方向の成分の画素長を縦方向の寸法値に変
換して求め、求めた縦方向の寸法値と横方向の寸法値と
からパターンの線幅を求めることによって、パターンの
画素長を寸法値に変換するものである。また、そのパタ
ーン線幅の測定方法においては、線幅の寸法値を複数回
求め、求めた複数回の線幅寸法値の平均を計算し、平均
の値を測定したパターン線幅とするするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施例を図4
により説明する。図4は、本発明の斜めパターン測定方
法の一実施例を説明するための図である。この図4は、
図1の顕微鏡2 に取付けた CCTV カメラ 1 で撮像した
画像である。図4において、先ず、測定エリア(実線の四
辺形で囲んだ領域)15 および測定エリア(実線の四辺
形で囲んだ領域)16 から、斜めパターン 14 のエッジ 1
7 と18 を認識する。次に、エッジ 17 の垂線 19 とエッ
ジ 18 の垂線 20 の中心を通る直線 21 を計算し、この
直線 21 とエッジ 17 の交点、及び、エッジ 18 の交点
を求め、交点間の距離を画素長とする。
【0008】この画素長を寸法値に変換する方法を図5
によって説明する。図5の直線 23は、斜めパターン 14
の線幅を表す画素長である。この斜め方向の画素長か
ら縦成分 24 と横成分 25 の長さを式(1) を使ってそれ
ぞれ求めて寸法値化する。斜め方向の寸法値は、縦成分
24 の寸法値 Ly と横成分 25 の寸法値 Lx とからピタ
ゴラスの定理を用いることによって、式(2) によってで
求めることができる。 L = √( Lx2 + Ly2 ) ‥‥‥式(2)
【0009】上述の本発明の実施例では、液晶の表面に
形成されたパターンの線幅の測定方法について述べた
が、液晶に限らず、どのような基板でも本発明の方法を
適用できることは自明である。また、線幅の測定だけで
なく、2点間の寸法を測定する場合全てに適用できるこ
とはいうまでもない。また、寸法値を複数求めて、その
平均を求めているが、平均を求める場所は、画素長を縦
方向の成分と横方向の成分に分ける前に平均するか、ま
たは、縦方向と横方向の画素長毎に平均するか、また
は、縦方向と横方向の画素長を寸法値に変換してから平
均する等、いずれでも良いし、平均の方法は、算術平
均、加重平均、幾何平均、等の外、中央値等の代表値で
あっても良い。
【0010】
【発明の効果】本発明により、斜めパターンの画素長を、
認識した両エッジの垂線の中心を通る直線を使用するこ
とで測定時の再現性の良い、正確な寸法値に変換するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来の液晶線幅測定装置の簡単な構成を示す
図。
【図2】 複数エッジの測定方法を説明する図。
【図3】 斜めパターンの測定方法を説明する図。
【図4】 本発明の斜めパターン測定方法の一実施例説
明するための図。
【図5】 本発明の斜めパターンの寸法を測定する方法
の一実施例を説明する図。
【符号の説明】
1:CCTV カメラ、 2:顕微鏡、 3:対物レンズ、 4:液
晶パターン、 5:VIDEO 信号、 6:画像処理装置、 7:
測定パターン、 8,9,10,11:エッジ認識、 12:斜めパターン、 13:画素長、 14:斜めパターン、
15,16:測定エリア、 17,18:エッジ認識、 19,20:垂線、 21:中心を通る
直線、 22:画素長、 23:縦成分、 24:横成分。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パターンを画像として取得し、取得した
    画像の画素長からパターンの線幅を求める寸法測定装置
    において、画素長を縦方向の成分と横方向の成分に分
    け、該横方向の成分の画素長を横方向の寸法値に変換し
    て求め、前記縦方向の成分の画素長を縦方向の寸法値に
    変換して求め、求めた縦方向の寸法値と横方向の寸法値
    とからパターンの線幅を求めることによって、パターン
    の画素長を寸法値に変換することを特徴とするパターン
    線幅の測定方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のパターン線幅の測定方法
    において、前記線幅の寸法値を複数回求め、求めた該複
    数回の線幅寸法値の平均を計算し、該平均の値を測定し
    たパターン線幅とすることを特徴とするパターン線幅の
    測定方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8349400B2 (en) 2003-11-04 2013-01-08 Porex Corporation Method of making a composite porous material
WO2014181725A1 (ja) * 2013-05-07 2014-11-13 シャープ株式会社 画像計測装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8349400B2 (en) 2003-11-04 2013-01-08 Porex Corporation Method of making a composite porous material
WO2014181725A1 (ja) * 2013-05-07 2014-11-13 シャープ株式会社 画像計測装置
JPWO2014181725A1 (ja) * 2013-05-07 2017-02-23 シャープ株式会社 画像計測装置

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