JPH07110216A - レーザ光を利用したスペックルパターンによる上下および横移動量の測定方法ならびにその装置 - Google Patents
レーザ光を利用したスペックルパターンによる上下および横移動量の測定方法ならびにその装置Info
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- JPH07110216A JPH07110216A JP27743793A JP27743793A JPH07110216A JP H07110216 A JPH07110216 A JP H07110216A JP 27743793 A JP27743793 A JP 27743793A JP 27743793 A JP27743793 A JP 27743793A JP H07110216 A JPH07110216 A JP H07110216A
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Abstract
像範囲に描かれたスペックルパターンを標識として捕ら
え、これを光学的に検知し、かつ、演算処理し、更にこ
れを測定値として出力表示することを目的とするもので
ある。 [構成] 被計測物1にスペックルパターン3を描かせ
るレーザ発振器4と、前記スペックルパターンを標識と
して捕らえるCCDカメラ5と、CCDカメラ5からの
アナログ信号をディジタル信号に変換するA/D変換器
6と、A/D変換器6からのディジタル信号の測定値を
算出する演算装置7と、演算装置7による測定数値を出
力表示するCRT8とからなる。
Description
ち、温度、色彩、材質等による影響を比較的受けずに、
かつ、非接触で上下左右ならびに動的測定を可能とする
方法およびその装置に関するものである。
し、被照射域の映像範囲に描かれたスペックルパターン
を標識として捕らえ、これを光学的に検知し、かつ、演
算処理し、更にこれを測定値として出力表示するもので
ある。
て、レーザ光をその手段に用いる方法として、レーザ光
をプリズム等を介して分光し、これを反射ならびに結束
光させるドプラー効果による計測技術が、該計測分野に
おける一般的な技術、として知られている。
その計測手段に用い、かつ、ドプラー効果による方法に
おいては、光学的に高い精度が要求され、特に、機構的
な弱点として振動が挙げられる要素を多分に含み、ま
た、他面においては被計測物の表面上で、2方向からレ
ーザ光を集結させる必須の要件を具備し、これらによっ
て距離的な高精度をも要求される技術であり、これらの
制約から被計測物の、類、物性、状態等にかなりの制限
があった。
成技術、設置技術等における精度面ならびに使用にあた
っては、それら諸条件による制約等、数多の要求事項を
解消し、かつ、これらに対応すべく、計測方法ならびに
その装置における各手段の簡素化、被計測物の類にあっ
ては、その制約範囲の拡大可能な開発を目的とするもの
である。
を達成させるための手段として、方法の発明は、非接触
で移動量を測定する方法にあって、被計測物にレーザ光
を照射することにより被照射域の映像範囲に描かれたス
ペックルパターンを標識として光学的に認識し、かつ、
該認識画素を演算処理し、測定数値を表示出力させてな
るものである。
よび横移動量を測定する装置にあって、被計測物にスペ
ックルパターンを描かせるレーザ発振器と、前記スペッ
クルパターンを標識として捕らえるCCDカメラと、C
CDカメラからのアナログ信号をディジタル信号に変換
するA/D変換器と、A/D変換器からのディジタル信
号の測定値を算出する演算装置と、演算装置による測定
数値を出力表示する表示手段と、からなるものである。
照射する要素。
被照射域の映像範囲をスペックルパターン化する要素。
ックルパターンを標識として捕らえ、これを光学的に検
知し、かつ、演算処理し、更に、これを測定値として出
力表示する要素、である。
総合的に要約すると、レーザ光を被計測物に照射し、該
被計測物の粗面表面にスペックルパターンを描かせ、被
計測物の移動に平行して前記スペックルパターンの明暗
をCCD(電荷結合素子;Charge Couple
d Devlce)(以下CCDと称す)カメラで撮影
し、撮影によって得られた電気的信号をコンピューター
でCCD画素単位にリアル.タイム演算処理して移動距
離数値を表示出力するものである。
証機として、半導体レーザ発振器、高解像度CCD、A
/D(Analg Digital)変換器、演算処理
装置ならびにCRT(Cathode Ray Tub
e display)(モニタ)より構成するものであ
る。
の高いレーザ光をレーザ発振器から照射すると、被計測
物の粗面各所で散乱したレーザ光が不規則な位相関係で
干渉し合うために粒状模様が生ずる。この粒状模様をス
ペッルパターンと称する。
伴いスペックルパターンも横移動する性質がある。
CDカメラで連続して撮り、A/D変換器によりアナロ
グ信号をディジタル信号に変換して演算装置の入力と
し、そのパターンをCRTに出力してなるものである。
る前段として、本発明の方式を達成するための被計測物
ならびに検証機として各部位について説明する。
子;Charge CoupledDevlce)カメ
ラ5の映像範囲。3はレーザ発振器4が被計測物1にレ
ーザ光が照射されて粗面により描くスペックルパター
ン。4はレーザ発振器。5はCCDカメラ。6はCCD
カメラ5のアナログ信号をディジタル信号に変換するA
/D(Analg/Digital)変換器。7はスペ
ックルパターン3を標識として上下および横移動量を算
出する演算装置。8はスペックルパターン3を直接目視
するCRT(Cathode Ray Tube di
splay)である。
ペックルパターンを描くために高輝度・指向性・可視光
を使用し、レーザ素子、冷却回路、駆動回路およびレン
ズより構成する。
クルパターンを撮るために使用し、NTSC信号(アナ
ログデータ)に変換する機能を有し、移動距離の測定精
度はCCD画素の間隔により決定し、スペックルパター
ンの大きさにより、コンピュータが処理しやすい粗密に
拡大または縮小するためにズームレンズを使用すること
もある。
タル信号に変換する機能を有する。NTSC信号は、ア
ナログ信号である。従って、コンピュータの記憶素子に
スペックルパターンを格納するためにディジタル信号に
変換する必要がある。スペックルパターンは明暗による
班点模様であるために例えば、明点を“1”、暗点を
“0”とする2値化に変換する。
ックルパターン)を連続的に記憶素子に格納し、任意の
明暗点の移動をCCD画素間隔(基準長)で演算し、数
値情報として表示出力する。
スペックルパターンならびに移動距離をCRTモニタ画
面上に表示し、パターンおよび移動状態を視覚すること
を目的として使用する。ただし、実用機では、セブン・
セグメント表示器により移動距離を数値として表示出力
する。
において、該アルミニューム板にレーザ光を照射し、実
際に描いたスペックルパターンを写真撮影したものが図
2である。
ルパターン3をCCDカメラ5で撮影し、A/D変換器
6で明暗による中間色を除去し、明と暗の2つの信号に
変換して演算装置7に入力する。
便宜的に演算装置7が認識するスペックルパターン3を
CCD画素単位に明暗を配した状態を図3に示す。
7が認識したパターンを図3とする。
1画素分だけ左に移動した状態を示し、図5は被計測物
1がCCD1画素分だけ下方に移動した状態を示す。
方に移動した状態を示すものである。
物は左に1画素分、下方に2画素分、移動したことを示
す。
mとした場合、図3から図6において、被計測物1は左
に10μm、下方に20μm移動したことになり、非接
触で移動量を測定することができる。
ペックルパターン3がCCDカメラ5の視野から外れる
直前に、新たな面に発生するパターンを標識として再認
識し、その繰返しにより移動量を測定する。
照射するために光学系が簡素化でき、外部からの振動や
衝撃に対しても効果がある。
ックルパターン自体にぼけが発生しない特徴があり、C
CDカメラに望遠レンズを付加することにより遠方の被
計測物についても容易に上下および横移動量を測定する
ことができる。
度、平均速度、震度計などに応用できる効果がある。
ルパターン
ごとのスペックルパターン
図
た図
移動した図
Claims (2)
- 【請求項1】 非接触で移動量を測定する方法にあっ
て、被計測物にレーザ光を照射することにより被照射域
の映像範囲に描かれたスペックルパターンを標識として
光学的に認識し、かつ、該認識画素を演算処理し、測定
数値を表示出力させてなることを特徴とするレーザ光を
利用したスペックルパターンによる上下および横移動量
の測定方法。 - 【請求項2】 非接触で上下および横移動量を測定する
装置にあって、被計測物にスペックルパターンを描かせ
るレーザ発振器と、 前記スペックルパターンを標識として捕らえるCCDカ
メラと、 CCDカメラからのアナログ信号をディジタル信号に変
換するA/D変換器と、 A/D変換手段からのディジタル信号の測定値を算出す
る演算装置と、 演算装置による測定数値を出力表示する表示手段と、か
らなることを特徴とするレーザ光を利用したスペックル
パターンによる上下および横移動量の測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5277437A JP2681745B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | レーザ光を利用したスペックルパターンによる被計測物の上下および横移動量の測定方法。 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP5277437A JP2681745B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | レーザ光を利用したスペックルパターンによる被計測物の上下および横移動量の測定方法。 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07110216A true JPH07110216A (ja) | 1995-04-25 |
JP2681745B2 JP2681745B2 (ja) | 1997-11-26 |
Family
ID=17583557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2681745B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0949705A (ja) * | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Kishimoto Sangyo Kk | レーザ光照射で生じさせたスペックルパターンの画像処理による被計測物の移動量測定方法 |
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1993
- 1993-10-08 JP JP5277437A patent/JP2681745B2/ja not_active Expired - Fee Related
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