JP2003029375A - マーキング粒子 - Google Patents

マーキング粒子

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 別々の波長によりアドレス可能なフォトクロ
ミック材料を利用したなマーキング粒子を提供する。 【解決手段】 キレート剤、および以下の化学式のスピ
ロピラン材料を含むマーキング粒子である。また、マー
キング粒子はエマルションアグリゲーション法によって
調製される。 【化1】 または 【化2】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像を形成させる
ためのマーキング材料を目的としている。さらに詳しく
は、本発明は、フォトクロミックなスピロピラン材料を
含むマーキング粒子を目的としている。
【0002】
【従来の技術】公知の組成物および方法は、それらが意
図している目的には適ってはいるものの、依然として静
電トナー組成物には改良すべき点が残っている。さら
に、フォトクロミックな特性を有するマーキング粒子も
求められている。また、フォトクロミックな特性を有す
る画像を有する文書を作成するための方法も求められて
いる。さらに、文書上に、肉眼では読めないが機械を使
用すれば読取りうる、コード化された情報を書き込むこ
とを可能とするような、方法および材料に対する要望も
存在する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】また、熱的に安定な、
フォトクロミックなマーキング粒子も求められている。
その上、フォトクロミックな材料の共鳴形のいずれもが
安定しているようなフォトクロミックなマーキング粒子
も、期待されている。さらに、フォトクロミックな材料
の2つの共鳴形に、別々の波長でアドレス可能な、フォ
トクロミックなマーキング粒子も求められている。その
上、フォトクロミックな材料の共鳴形のいずれもが、あ
る程度の時間の間は安定していて、照射を続けていなく
ても共鳴形が維持されるような、フォトクロミックなマ
ーキング粒子も求められている。また、フォトコピー機
やスキャナによる取込が容易あるいは正確には出来なく
するような画像を形成する材料および方法に対する要望
もある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、樹脂、
キレート剤、および以下の化学式のスピロピラン材料を
含むマーキング粒子を製造することである。
【化7】 または
【化8】 ここで、nは整数であって、−CH2−単位の繰返しの
数をあらわし、Rは−Hまたは−CH=CH2である。
このマーキング粒子は乳化凝集法(エマルションアグリ
ゲーション法)によって調製する。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明のマーキング粒子には、以
下の化学式のスピロピラン材料が含まれる。
【化9】 または
【化10】 ここで、nは整数であって、−CH2−単位の繰返しの
数をあらわしていて、典型的には約2から約8である
が、nの値はこの範囲から外れていてもよく、また、R
は−Hまたは−CH=CH2である。当然のことではあ
るが、アニオンの−COO-および−SO3 -基には、カ
チオンが伴っている。所望または好適なカチオンならど
のようなものでも使用することができる。次式の材料
は、
【化11】 2,3,3−トリメチルインドレニンをβ−ヨードプロ
ピオン酸と反応させ、次いで、トリエチルアミンの共存
下に5−ニトロサリチルアルデヒド(5-nitrosalicalde
hyde)と縮合させることによって、調製することができ
る。次式の材料は、
【化12】 2,3,3−トリメチルインドレニンをγ−スルホンと
反応させ、次いで、トリエチルアミンの共存下に5−ニ
トロサリチルアルデヒドと縮合させることによって、調
製することができる。このスピロピランはマーキング粒
子中に、所望あるいは有効な量であればどのような量で
含まれていてもよいが、典型的にはマーキング粒子の少
なくとも約0.01重量%、好ましくはマーキング粒子
の少なくとも約0.05重量%、より好ましくはマーキ
ング粒子の少なくとも約0.5重量%、そして、典型的
にはマーキング粒子の約5重量%以下であるが、その量
はこれらの範囲から外れていてもよい。
【0006】本発明のマーキング粒子にはキレート剤も
含んでいるが、このものはスピロピランのメロシアニン
形とキレートを作ることができ、それにより、その形で
の分子を安定化させる。好適なキレート剤の例をあげれ
ば、2価の状態の金属塩、たとえばCa2+、Zn2+、M
2+、遷移金属などであるが、共存させる単一または複
数のアニオンは、金属塩が水溶性となるもの、たとえ
ば、硝酸塩、塩化物、臭化物などのアニオンである。こ
のキレート剤はマーキング粒子中に、所望あるいは有効
な量であればどのような量で含まれていてもよいが、典
型的にはスピロピランに対するモル比でスピロピランの
1モルあたりキレート剤が少なくとも約1モル、好まし
くはスピロピランの1モルあたりキレート剤が少なくと
も約2モル、より好ましくはスピロピランの1モルあた
りキレート剤が少なくとも約3モルであり、さらにより
好ましくはスピロピランの1モルあたりキレート剤が少
なくとも約5モルであり、そして、存在させることがで
きるキレート剤の量には上限はないものの、典型的には
スピロピランの1モルあたりキレート剤が約10モル以
下であるが、キレート剤の量がこれらの範囲から外れて
いてもよい。
【0007】このマーキング粒子には、樹脂(たとえ
ば、スチレン/アクリル酸n−ブチル/アクリル酸のラ
ンダムコポリマー樹脂)に充分に分散させたスピロピラ
ン化合物およびキレート剤が含まれる。マーキング粒子
の表面に、外部表面添加剤を任意成分として存在させて
おくこともできる。好適な樹脂を以下に列挙する:ポリ
(スチレン/ブタジエン)、ポリ(p−メチルスチレン
/ブタジエン)、ポリ(m−メチルスチレン/ブタジエ
ン)、ポリ(α−メチルスチレン/ブタジエン)、ポリ
(メチルメタクリレート/ブタジエン)、ポリ(エチル
メタクリレート/ブタジエン)、ポリ(プロピルメタク
リレート/ブタジエン)、ポリ(ブチルメタクリレート
/ブタジエン)、ポリ(メチルアクリレート/ブタジエ
ン)、ポリ(エチルアクリレート/ブタジエン)、ポリ
(プロピルアクリレート/ブタジエン)、ポリ(ブチル
アクリレート/ブタジエン)、ポリ(スチレン/イソプ
レン)、ポリ(p−メチルスチレン/イソプレン)、ポ
リ(m−メチルスチレン/イソプレン)、ポリ(α−メ
チルスチレン/イソプレン)、ポリ(メチルメタクリレ
ート/イソプレン)、ポリ(エチルメタクリレート/イ
ソプレン)、ポリ(プロピルメタクリレート/イソプレ
ン)、ポリ(ブチルメタクリレート/イソプレン)、ポ
リ(メチルアクリレート/イソプレン)、ポリ(エチル
アクリレート/イソプレン)、ポリ(プロピルアクリレ
ート/イソプレン)、ポリ(ブチルアクリレート/イソ
プレン)、ポリ(スチレン/n−ブチルアクリレート/
アクリル酸)、ポリ(スチレン/n−ブチルメタクリレ
ート/アクリル酸)、ポリ(スチレン/n−ブチルメタ
クリレート/β−カルボキシエチルアクリレート)、ポ
リ(スチレン/n−ブチルアクリレート/β−カルボキ
シエチルアクリレート)、ポリ(スチレン/ブタジエン
/メタクリル酸)、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
プロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリペンチレンテレフタレート、ポリヘキサレンテ
レフタレート、ポリヘプタデンテレフタレート、ポリオ
クタレン−テレフタレート、米国特許第5,348,8
32号に開示されているようなスルホン化ポリエステル
など、および、それらの混合物。この樹脂はマーキング
粒子中に、所望あるいは有効な量であればどのような量
で含まれていてもよいが、典型的にはマーキング粒子の
少なくとも約75重量%、好ましくはマーキング粒子の
少なくとも約85重量%、そして典型的にはマーキング
粒子の約99重量%以下、好ましくはマーキング粒子の
約98重量%以下であるが、その量がこれらの範囲から
外れていてもよい。
【0008】マーキング粒子にはまた任意成分として電
荷調節用添加物を含んでいてもよいが、それらとしては
たとえば、アルキルピリジニウムハライド、重硫酸塩、
米国特許第3,944,493号、米国特許第4,00
7,293号、米国特許第4,079,014号、米国
特許第4,394,430号および米国特許第4,56
0,635号に開示されている電荷調節用添加物など、
およびそれらの混合物がある。電荷調節用添加物はマー
キング粒子中に、所望あるいは有効な量であればどのよ
うな量で含まれていてもよく、典型的にはマーキング粒
子の少なくとも約0.1重量%、そして典型的にはマー
キング粒子の約5重量%以下であるが、その量がこの範
囲から外れていてもよい。
【0009】任意成分の表面添加物の例としては、金属
塩、脂肪酸金属塩、コロイダルシリカなど、およびそれ
らの混合物がある。表面用添加剤は、所望あるいは有効
な量であればどのような量で用いてもよく、典型的には
マーキング粒子の少なくとも約0.1重量%、そして典
型的にはマーキング粒子の約2重量%以下であるが、そ
の量がこの範囲から外れていてもよく、これに関して
は、たとえば米国特許第3,590,000号、米国特
許第3,720,617号、米国特許第3,655,3
74号および米国特許第3,983,045号にも開示
がある。好ましい添加物は、ステアリン酸亜鉛およびデ
グッサ(Degussa)社から入手可能なエアロジル(AEROS
IL)R812(登録商標)シリカである。この表面用添
加剤は、アグリゲーション工程で添加してもよいし、あ
るいは粒子を形成させた後にブレンドしてもよい。
【0010】本発明のマーキング粒子はエマルションア
グリゲーション法により調製する。エマルションアグリ
ゲーション法は一般に次の各ステップを必要とする。す
なわち、(a)樹脂粒子を含むラテックスエマルション
を調製し、(b)このラテックスエマルションにキレー
ト剤とスピロピラン(および随意に他の着色剤(類))
を組合せ、(c)樹脂、スピロピランおよびキレート剤
を含むラテックスエマルションを、樹脂のガラス転移温
度よりは低い温度に加熱し、そして(d)樹脂、スピロ
ピランおよびキレート剤を含むラテックスエマルション
を樹脂のガラス転移温度よりは低い温度に加熱した後
で、樹脂、スピロピランおよびキレート剤を含むラテッ
クスエマルションを樹脂のガラス転移温度よりは高い温
度に加熱する。キレート剤およびスピロピランをラテッ
クスエマルションに加えるか、あるいは、ラテックスエ
マルションをキレート剤およびスピロピランに加えるか
は、大きな問題ではない。より具体的な実施態様では、
このエマルションアグリゲーション法は次の各ステップ
を必要とする。すなわち、(a)スピロピラン(および
随意に他の着色剤(類))およびキレート剤を溶媒中に
分散させたものを調製し、(b)このスピロピラン分散
物を、樹脂粒子を含むラテックスエマルションおよび随
意に凝集剤(フロキュレート剤)と混合し、スピロピラ
ン、キレート剤および樹脂からなる粒子をフロキュレー
ションまたはヘテロコアグレーションさせて、静電的に
集合させた凝集(アグリゲート)とし、(c)この静電
的に集合させた凝集体(アグリゲート)を樹脂のガラス
転移温度(Tg)よりも低い温度で加熱して、安定化し
た凝集体(アグリゲート)を形成させ、そして、(d)
この安定化した凝集体(アグリゲート)を樹脂のガラス
転移温度(Tg)よりも高い温度で加熱して、安定化し
た凝集体(アグリゲート)を融合(coalesce)させてマ
ーキング粒子とする。ここでも、キレート剤およびスピ
ロピランをラテックスエマルションに加えるか、あるい
は、ラテックスエマルションをキレート剤およびスピロ
ピランに加えるかは、大きな問題ではない。エマルショ
ンアグリゲーション法の一つの具体例をあげれば、次の
各ステップを必要としている。すなわち、(1)溶媒
(たとえば水)の中で、スピロピラン分散体を調製する
が、この分散体には、スピロピラン、キレート剤、イオ
ン性界面活性剤、および任意に電荷調節剤(および随意
に他の着色剤(類))が含まれており;(2)このスピ
ロピラン分散体をラテックスエマルションと剪断混合す
るが、このラテックスエマルションには、(a)界面活
性剤であって、(i)前記のイオン性界面活性剤の電荷
とは逆の符号の極性の電荷を有するカウンターイオン性
または(ii)ノニオン性の界面活性剤のいずれ花王よ
び(b)平均粒子径が約1μm未満の樹脂粒子が含まれ
ているが、そこで、スピロピラン、キレート剤、樹脂、
および任意成分の電荷調節剤からなる粒子をフロキュレ
ーションまたはヘテロコアグレーションさせて、静電的
に集合させたアグリゲートとし、(3)この静電的に集
合させたアグリゲートを樹脂のガラス転移温度(Tg)
よりも低い温度で加熱して、安定化したアグリゲートを
形成させ、(この安定化したアグリゲートは典型的には
その平均粒子径が少なくとも約1μm、好ましくは少な
くとも約2μmであり、典型的にはその平均粒子径が約
25μm以下、好ましくは約10μm以下であるが、粒
子径はこれらの範囲から外れていてもよく;また、この
安定化したアグリゲートは典型的にはその粒子径分布が
比較的せまく、GSD=約1.16からGSD=約1.
25であるが、粒子径分布がこの範囲から外れていても
よい)、そして、(4)このアグリゲートにさらにイオ
ン性界面活性剤を加えて、一層の安定化をはかり、それ
以上の成長を抑えて所望の狭い粒子径分布を維持し、つ
いで、このアグリゲートを樹脂のガラス転移温度(T
g)よりも高い温度で加熱し、融合させてマーキング粒
子とするが、この粒子には樹脂、スピロピラン、キレー
ト剤、および随意に電荷調節剤が含まれる(このマーキ
ング粒子の平均粒子径は典型的には、約1から約25μ
m、好ましくは約2から約10μmであるが、この粒子
径はこれらの範囲から外れていてもよい)。静電的に集
合させたアグリゲートを融合させるための加熱は、典型
的にはその樹脂のガラス転移温度よりも約5から約50
℃高い温度にすればよいが、その温度がこの範囲から外
れていてもよい。融合させた後の粒子が、融合させる前
のアグリゲートと異なっている点は主としてそのモルホ
ロジーにある;すなわち、融合前の粒子はその表面積が
大きく、典型的には「ブドウの房」状であるが、それに
対して融合させた後の粒子では表面積が減り、典型的に
は「ジャガイモ」状、あるいはさらに進んで球状の形と
なっている。この粒子のモルホロジーは調節することが
可能で、融合プロセスの際の条件、すなわち温度、融合
時間、などの調節による。次いでこのマーキング粒子を
洗浄して、過剰な水溶性界面活性剤や表面に付着してい
る界面活性剤を除去し、さらに乾燥させると、スピロピ
ラン含有ポリマー体のマーキング樹脂が得られる。エマ
ルションアグリゲーション法のまた別の具体例として
は、ラテックスを生成させる時のイオン性界面活性剤の
電荷とは逆の極性の電荷を有するカウンターイオン性界
面活性剤を使用する代わりに、ポリ(アルミニウムクロ
リド)やポリ(アルミニウムスルホシリケート)のよう
なフロキュレーションまたはコアグレーション剤を使用
することを含む。この方法では、サブμmサイズのラテ
ックスと着色剤その他の任意成分のアグリゲーション
は、添加するコアグラント(凝固剤)の量で調節される
が、さらに得られたブレンド物の加熱温度の影響もうけ
る。たとえば、その温度が樹脂のTgに近いほど、粒子
径は大きくなる。この方法は次のステップで構成されて
いる。すなわち(1)溶媒の中で、スピロピラン分散体
を調製するが、この分散体には、スピロピラン、キレー
ト剤、イオン性界面活性剤が含まれており;(2)この
スピロピラン分散体をラテックス混合物と剪断混合する
が、このラテックス混合物には、(a)フロキュレーシ
ョン剤(凝集剤)、(b)ノニオン性界面活性剤、およ
び(c)樹脂が含まれており、そこでスピロピラン、フ
ロキュレーション剤および樹脂からなる粒子をフロキュ
レーションまたはヘテロコアグレーションさせて、静電
的に集合させたアグリゲートとし、そして、(3)この
静電的に集合させたアグリゲートを加熱して、安定化し
たアグリゲートを形成する。こうして得られるアグリゲ
ートは一般に、その平均粒子径が約1から約25μm、
好ましくはその平均粒子径が約2から約10μmの粒子
であるが、その粒子径はこれらの範囲から外れていても
よく、そしてその粒子径分布は比較的狭い。このアグリ
ゲートに、水酸化ナトリウム水溶液のようなアルカリ金
属塩基を添加して、アグリゲートのpHを、約2.0か
ら約3.0のpH範囲から、約7.0から約9.0のp
H範囲にまで上げてやるが、所望ならば、融合の際の粒
子のモルホロジーを調節するために、溶液のpHをより
酸性側に合わせることも可能である。典型的にはこのコ
アグレーション剤は酸性溶液(たとえば、1M硝酸溶
液)として、イオン性ラテックスおよび分散スピロピラ
ンの混合物に添加するが、添加をしている間に混合物の
粘度が上昇する。次いで、加熱・撹拌することで、アグ
リゲーションを進め、μmサイズの粒子を形成させる。
所望の粒子サイズに達したら、混合物のpHを、典型的
には約7から約9の範囲にまで上げることによって、こ
のサイズに凍結させることができるが、pHがこの範囲
から外れていてもよい。その後に、混合物の温度を、所
望の融合温度、典型的には約80から約95℃にあげる
こともできるが、その温度がこの範囲から外れていても
よい。次いで、粒子のモルホロジーを調整するために、
混合物のpHを、典型的には約3.5から約5.5のp
H値に下げることができるが、そのpHはこの範囲から
外れていてもよい。エマルションアグリゲーション法の
その他の例としては、コアグレーション剤として、金属
コアグラントたとえばポリアルミニウムクロリドとカウ
ンターイオン性界面活性剤を組合せるものがあり、樹脂
のTg以下の温度に加熱してマーキング粒子サイズのア
グリゲートを得、次いで金属水酸化物によってpHを塩
基性(たとえば、約7.0から約9.0のpH範囲)に
調節し、それから温度を上げてアグリゲートを融合させ
るが、ここでは、粒子のモルホロジーを調節するため
に、酸によりpHを下げて約3.5から約5.5の範囲
のpH値とする。得られたマーキング粒子を洗浄し、乾
燥させる。
【0011】本発明の実施態様において、スピロピラン
をポリマーの主鎖に組入れようとする場合には、その方
法は同様であるが、ただし、スピロピランをコアグレー
ション剤と同時に使用する代わりに、ラテックスモノマ
ーの1つとして導入する。これらの実施態様において
は、エマルションアグリゲーション法は一般に次の各ス
テップを必要とする。すなわち、(a)樹脂粒子を含む
ラテックスエマルションを調製するが、この樹脂は少な
くとも2種の異なったモノマーを含むポリマーからでき
ており、それらのモノマーのうち1種はスピロピランで
あり、(b)このラテックスエマルションにキレート剤
(および随意に他の着色剤(類))を組合せ、(c)樹
脂およびキレート剤を含むラテックスエマルションを、
樹脂のガラス転移温度よりは低い温度に加熱し、そして
(d)樹脂およびキレート剤を含むラテックスエマルシ
ョンを樹脂のガラス転移温度よりは低い温度に加熱した
後で、樹脂およびキレート剤を含むラテックスエマルシ
ョンを樹脂のガラス転移温度よりは高い温度に加熱す
る。キレート剤をラテックスエマルションに加えるか、
あるいは、ラテックスエマルションをキレート剤に加え
るかは、大きな問題ではない。より具体的な実施態様で
は、このエマルションアグリゲーション法は次の各ステ
ップを必要とする。すなわち、(a)キレート剤(およ
び随意に他の着色剤(類))を溶媒中に分散させたもの
を調製し、(b)この分散物を、樹脂粒子を含むラテッ
クスエマルションおよび任意成分のフロキュレーション
剤と混合するが、この樹脂は少なくとも2種の異なった
モノマーを含むポリマーからできており、そのモノマー
のうち1種はスピロピランであり、そこでキレート剤お
よび樹脂からなる粒子をフロキュレーションまたはヘテ
ロコアグレーションさせて、静電的に集合させたアグリ
ゲートとし、(c)この静電的に集合させたアグリゲー
トを樹脂のガラス転移温度よりも低い温度で加熱して、
安定化したアグリゲートを形成させ、そして、(d)こ
の安定化したアグリゲートを樹脂のガラス転移温度より
も高い温度で加熱して、安定化したアグリゲートを融合
させてマーキング粒子とする。ここでも、キレート剤を
ラテックスエマルションに加えるか、あるいは、ラテッ
クスエマルションをキレート剤に加えるかは、大きな問
題ではない。エマルションアグリゲーション法の一つの
具体例をあげれば、次の各ステップを必要としている。
すなわち、(1)溶媒(たとえば水)の中で、分散体を
調製するが、この分散体には、キレート剤、イオン性界
面活性剤、および任意成分の電荷調節剤(および随意に
他の着色剤(類))が含まれており;(2)この分散体
をラテックスエマルションと剪断混合するが、このラテ
ックスエマルションには、(a)界面活性剤であって、
(i)前記のイオン性界面活性剤の電荷とは逆の符号の
極性の電荷を有するカウンターイオン性または(ii)
ノニオン性のいずれかの界面活性剤、および(b)平均
粒子径が約1μm未満の樹脂粒子が含まれているが、そ
の樹脂は少なくとも2種の異なったモノマーを含むポリ
マーからできており、そのモノマーのうち1種はスピロ
ピランであり、そこで、キレート剤、樹脂、および任意
成分の電荷調節剤からなる粒子をフロキュレーションま
たはヘテロコアグレーションさせて、静電的に集合させ
たアグリゲートとし、(3)この静電的に集合させたア
グリゲートを樹脂のガラス転移温度よりも低い温度で加
熱して、安定化したアグリゲートを形成させ、そして、
(4)このアグリゲートにさらにイオン性界面活性剤を
加えて、一層の安定化をはかり、それ以上の成長を抑え
て所望の狭い粒子径分布を維持し、ついで、このアグリ
ゲートを樹脂のガラス転移温度よりも高い温度で加熱
し、融合させてマーキング粒子とするが、この粒子には
樹脂、キレート剤、および任意成分の電荷調節剤が含ま
れる。また別の具体的な実施態様においては、界面活性
剤以外のフロキュレーション剤を使用するが、この方法
では、(1)溶媒中にキレート剤を分散させたものを調
製するが、この分散体にはキレート剤とイオン性界面活
性剤が含まれ、(2)この分散体をラテックス混合物と
剪断混合するが、このラテックス混合物に含まれるの
は、(a)フロキュレーション剤、(b)ノニオン性の
界面活性剤、および(c)樹脂であって、その樹脂は少
なくとも2種の異なったモノマーを含むポリマーからで
きており、そのモノマーのうち1種はスピロピランであ
り、そこで、フロキュレーション剤および樹脂からなる
粒子をフロキュレーションまたはヘテロコアグレーショ
ンさせて、静電的に集合させたアグリゲートとし、そし
て、(3)この静電的に集合させたアグリゲートを加熱
して、安定化したアグリゲートを形成させる。
【0012】好適なイオン性界面活性剤の例をあげれ
ば、アニオン界面活性剤ではたとえば、ドデシル硫酸ナ
トリウム、ドデシルベンゼン硫酸ナトリウム、ドデシル
ナフタレン硫酸ナトリウム、ベンゼンアルキル硫酸ジア
ルキルおよびベンゼンアルキルスルホン酸ジアルキル、
アビエチン酸、ネオゲンR(NEOGEN R)(登録商標)お
よびネオゲンSC(NEOGEN SC)(登録商標)(花王社
(Kao)から入手可能)、ダウファクス(DOWFAX)(登
録商標)(ダウ・ケミカル社(Dow Chemical Co.)から
入手可能)など、およびそれらの混合物がある。アニオ
ン界面活性剤は、所望あるいは有効な量であればどのよ
うな量で用いてもよく、典型的にはコポリマー樹脂を調
製するのに用いるモノマーの少なくとも約0.01重量
%、好ましくはコポリマー樹脂を調製するのに用いるモ
ノマーの少なくとも約0.1重量%、そして典型的には
コポリマー樹脂を調製するのに用いるモノマーの約10
重量%以下、好ましくはコポリマー樹脂を調製するのに
用いるモノマーの約5重量%以下であるが、その量がこ
れらの範囲から外れていてもよい。
【0013】好適なイオン性の界面活性剤の例にはカチ
オン界面活性剤も含まれるが、その例としては、ジアル
キルベンゼンアルキルアンモニウムクロリド、ラウリル
トリメチルアンモニウムクロリド、アルキルベンジルメ
チルアンモニウムクロリド、アルキルベンジルジメチル
アンモニウムブロミド、ベンザルコニウムクロリド、セ
チルピリジニウムブロミド、C12、C15、およびC17
リメチルアンモニウムブロミド、第4級化ポリオキシエ
チルアルキルアミンのハライド塩、ドデシルベンジルト
リエチルアンモニウムクロリド、ミラポール(MIRAPO
L)(登録商標)およびアルカクアット(ALKAQUAT)
(登録商標)(アルカリル・ケミカル社(Alkaril Chem
ical Company)から入手可能)、サニゾール(SANIZO
L)(登録商標)(ベンザルコニウムクロリド、花王・
ケミカルズ(Kao Chemicals)から入手可能)、などお
よびそれらの混合物がある。カチオン界面活性剤は、所
望あるいは有効な量であればどのような量で用いてもよ
く、典型的には水の少なくとも約0.1重量%、そして
典型的には水の約5重量%以下であるが、その量がこの
範囲から外れていてもよい。フロキュレーションに用い
るカチオン界面活性剤の、ラテックス調製に用いるアニ
オン界面活性剤に対するモル比は、約0.5:1から約
4:1であるのが好ましいが、より好ましくは、約0.
5:1から約2:1であるが、この相対的な量比がこれ
らの範囲から外れていてもよい。
【0014】好適なノニオン界面活性剤の例をあげれ
ば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、メタロー
ス、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、ポリオキシエチレンセチルエーテル、
ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンオクチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフ
ェニルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポ
リオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチ
レンノニルフェニルエーテル、ジアルキルフェノキシポ
リ(エチレンオキシ)エタノール(ローヌ・プーラン
(Rhone-Poulenc)社から、イゲパール(IGEPAL)CA
−210(登録商標)、イゲパールCA−520(登録
商標)、イゲパールCA−720(登録商標)、イゲパ
ールCO−890(登録商標)、イゲパールCO−72
0(登録商標)、イゲパールCO−290(登録商
標)、イゲパールCA−210(登録商標)、アンタロ
ックス(ANTAROX)890(登録商標)およびアンタロ
ックス897(登録商標)として入手可能)、などおよ
びこれらの混合物がある。ノニオン界面活性剤は、所望
あるいは有効な量であればどのような量で存在していて
もよく、典型的にはコポリマー樹脂を調製するのに用い
るモノマーの少なくとも約0.01重量%、好ましくは
コポリマー樹脂を調製するのに用いるモノマーの少なく
とも約0.1重量%、そして典型的にはコポリマー樹脂
を調製するのに用いるモノマーの約10重量%以下、好
ましくはコポリマー樹脂を調製するのに用いるモノマー
の約5重量%以下であるが、その量がこれらの範囲から
外れていてもよい。
【0015】好適な塩基の例をあげれば、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、水酸化セ
シウム、水酸化バリウムなどがあるが、中でも好ましい
のは水酸化ナトリウムである。
【0016】好適な酸の例をあげれば、硝酸、硫酸、塩
酸、酢酸、クエン酸などがあるが、中でも好ましいのは
硝酸である。
【0017】好適な金属コアグラントの例をあげれば、
塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化マグネシウム、ポリ
アルミニウムクロリド、ポリアルミニウムスルホシリケ
ートなどがあるが、中でも好ましいのはポリアルミニウ
ムクロリドである。
【0018】実施態様によっては、スピロピランを樹脂
の主鎖に導入する。この実施態様では、フリーデル・ク
ラフツのアルキル化反応によってスピロピランにまずビ
ニル基を置換させ、次いでこのスピロピランを重合工程
でコモノマーとして加える。
【0019】本発明のマーキング粒子には、スピロピラ
ン材料に加えて、着色剤が含まれていてもよい。典型的
にはこの着色材料は顔料であるが、染料もまた使用でき
る。好適な顔料および染料の例は、たとえば、米国特許
第4,788,123号、米国特許第4,828,95
6号、米国特許第4,894,308号、米国特許第
4,948,686号、米国特許第4,963,455
号、および米国特許第4,965,158号に記載され
ている。着色剤はマーキング粒子の中に、典型的には約
2から約20重量%の量で存在させるが、その量がこの
範囲から外れていてもよい。
【0020】本発明のマーキング粒子は、静電潜像処理
法のためのトナー粒子として使用でき、また、単独で単
一成分現像処理法に使用したり、あるいはそれらをキャ
リア粒子と組合せて二成分現像処理法に使用したりもで
きる。好適なキャリア粒子ならばどのようなものでも、
このトナー粒子と併用できる。典型的なキャリア粒子と
しては、粒状のジルコン、スチール、ニッケル、鉄フェ
ライトなどがある。
【0021】このトナーは、二成分現像剤として有効で
あればどのような量で存在させてもよいが、典型的には
キャリアの約1から約5重量%、好ましくはキャリアの
約3重量%の量で存在させるが、その量がこれらの範囲
から外れていてもよい。
【0022】本発明のマーキング粒子により印字される
画像はフォトクロミックであって、第1の吸収スペクト
ルに対応する第1の状態と、第2の吸収スペクトルに対
応する第2の状態をとる。本発明の別の実施態様では、
以下に記述する方法を目的としている;すなわち、
(a)画像部材の上に静電潜像を形成させ、(b)その
画像部材と、第1の吸収スペクトルに対応する第1の状
態と第2の吸収スペクトルに対応する第2の状態とを有
するフォトクロミック材料を含む本発明のマーキング粒
子とを接触させることによって、潜像を現像させ、
(c)次いで、現像された画像中でフォトクロミック材
料の少なくとも一部を、第1の状態から第2の状態へと
フォトクロミックな変化をさせる。本発明の具体的な実
施態様では、基材の上に機械での読取りが可能な情報を
埋込み・再生する方法を目的としており、その方法には
次のことが含まれる;(a)第1の吸収スペクトルに対
応する第1の状態と、第2の吸収スペクトルに対応する
第2の状態を有する本発明によるフォトクロミックなマ
ーキング粒子を使用して、基材の上にあらかじめ定めら
れた機械による読取りが可能なコードフォーマットにし
たデータを書込み、(b)次いで、フォトクロミックな
マーキング粒子の少なくとも一部を、第1の状態から第
2の状態へとフォトクロミックな変化をさせるが、そこ
では、フォトクロミックなマーキング粒子の第1の部分
は、第1の状態から第2の状態へとシフトさせられる
が、フォトクロミックなマーキング粒子の第2の部分は
第1の状態にとどまる。これらの実施態様のあるもので
は、第2の状態にあるフォトクロミックなマーキング粒
子が次いで、また別のフォトクロミックな変化をもたら
されて、そのために第1の状態に戻ることもある。これ
らの実施態様の別なものでは、機械による読取りが可能
なコードフォーマットが、0をコード化した第1の符号
と、1をコード化した第2の符号からなる識別可能な符
号の組を含んでいて、これらの符号が実質的に一定の中
心間距離をあけながら記入される。これらの実施態様の
さらに別なものでは、機械による読取りが可能なコード
フォーマットが、1組のグリフを含み、ここでは、それ
ぞれのグリフがビットレングスnのデジタル値に対応し
ていて、そのセットには2n個の異なった形状が含まれ
ている。これらの実施態様のまた別なものでは、グリフ
が軸上に展開され、それらが水平軸に対して約45度プ
ラス側またはマイナス側に傾斜されているので、それら
のデジタル値の少なくとも一部は互いに識別されるよう
になっている。
【0023】第1の状態から第2の状態へフォトクロミ
ックなシフトをさせるための方法は、そのフォトクロミ
ック材料に適したものであればどのような方法であって
もよい。フォトクロミックなシフトを起こさせる方法の
例としては、好適な波長、典型的には約190から約4
25nmの波長で照射する照射法があるが、その波長は
この範囲から外れていてもよい。逆向きのフォトクロミ
ックな効果を可視光線、典型的には約425から約70
0nmの波長範囲で照射することにより起こさせること
ができるが、その波長がこの範囲から外れていてもよい
し、あるいは熱を加えることによっても起こさせること
ができる。
【0024】本発明のマーキング粒子を使用して、基
材、たとえば紙などの上に、眼には見えない画像、たと
えばロゴ、テキスト、透かしあるいはその他の模様を印
刷することができる。しかしながら、この画像を印刷し
た基材を、約190から約425nmの光にあてると、
スピロピランが直ちに開環して、強い赤色蛍光をもつメ
ロシアニン形に変わる。一つの実施態様として、本発明
のマーキング粒子を、他の明瞭に読取りが可能な画像の
上に、ロゴやテキストの形で目には見えないあるいは目
立たないようなマーキングとして重ね合わせて印刷する
のに使用することもできる。材料がスピロピラン形をと
っている間は、このマーキングではロゴやテキストが読
取れないようになっている。しかしながら、このように
画像を重ね合わせたものをコピー機やスキャナにかけよ
うとすると、コピー機やスキャナからの光の照射によっ
て、マーキングがスピロピラン形からメロシアニン形へ
と変化してしまう。そうすると、メロシアニン形になっ
たマーキングがはっきりとつぎあて状に出現するので、
このようなロゴやテキスト画像を重ね合わせたものはコ
ピーができなくなる。
【0025】本発明のマーキング粒子は埋め込みデータ
を印刷するためにも使用することができる。たとえば、
シアン、マゼンタ、イエローおよびブラックの4色のト
ナーカートリッジを有するカラーゼログラフィ画像装置
に、たとえばスピロピランを混入させた第2のイエロー
トナーを含む第5のカートリッジを加えることによっ
て、特別な模様、たとえばバーコード(棒状のコード、
内容物に関する情報をコーディング・デコーディングす
るための、方法、装置で、たとえば、米国特許第4,6
92,603号、米国特許第4,665,004号、米
国特許第4,728,984号、米国特許第4,72
8,783号、米国特許第4,754,127号、およ
び米国特許第4,782,221号などに開示されてい
る)、あるいは「グリフ」(たとえば、米国特許第5,
710,420号、米国特許第5,128,525号、
米国特許第5,291,243号、米国特許第5,16
8,147号、米国特許第5,091,966号、米国
特許第5,051,779号、米国特許第5,337,
361号、欧州特許出願第469,864−A2号、お
よび欧州特許出願第459,792−A2号などに開示
されている)などを、グラフィックス、テキストあるい
は他の画像の中に気付かれないように入れて、特別なあ
るいはコード化情報を埋め込むことができるが、これ
は、特別なスキャナを使用して情報を解読して人間が読
める形に翻訳したり、紫外線を照射したりして、読取る
ことが可能である。
【0026】本発明のマーキング粒子を使用して、電気
的にアドレス可能なディスプレイを作ることも可能であ
る。例えば、本発明のマーキング粒子を紙のような基材
に均一に塗布する。この基材は見かけ上、白紙である。
アドレス用のワンドを使用して、特定の場所を照射線、
たとえば紫外光線で照射すると、その照射された場所で
は無色のスピロピラン形から赤色のメロシアニン形に転
化し、それによって照射された部分が赤く見えるように
なる。マーキングを消去するには、赤色のメロシアニン
形を転化させて無色の形に戻すのに適した波長の光で、
基材全体を照射する。この実施態様により、反射型で再
書込み可能なディスプレイが得られる。他の実施態様と
しては、スピロピランを時間が経過するとフォトクロミ
ック的に不安定となるようにしておく。基材にアドレス
しても、マーキングはほんの短期間(たとえば、数時間
あるいは数日)の間しか読めない。このような一時的な
マーキングは、機密情報の保護や秘密書類の分野では有
用である。
【0027】本発明のマーキング粒子は、所望する基材
のいかなるものにも塗布できる。好適な基材の例をあげ
れば(ただし、これらに限定されるものではない)、ゼ
ロックス(Xerox)(登録商標)4024紙などの普通
紙、罫線付き帳票用紙、ボンド紙、シリカコート紙、た
とえばシャープ社(Sharp Company)のシリカコート
紙、ジュウジョウ紙(Jujo paper)その他、透明材料、
織物、繊維製品、プラスチック、ポリマーフィルム、金
属のような無機基材、木材などがある。
【0028】
【実施例】実施例I カルボキシレートおよびスルホネート置換スピロピラン
塩の調製 ステップ1: 2,3,3−トリメチルインドリニウム
塩の合成
【化13】 2,3,3−トリメチルインドレニン(ここでは、Rが
水素)やそのビニル誘導体の2,3,3,8−ビニルト
リメチルインドレニン(ここでは、Rがビニル)の求核
性が比較的弱いために、2,3,3−トリメチルインド
リニウム塩の合成は100℃で、無溶媒下、または双極
性非プロトン系溶媒(ニトロメタン)の存在下のいずれ
条件においても実施できる。
【0029】ビニル基含有インドレニン前駆体は、前駆
体にフリーデル・クラフツのアシル化反応をさせること
で調製することができ、これにより重合可能なスピロピ
ランが調製できる。別な方法として、スピロピランにフ
リーデル・クラフツのアシル化反応をさせることも可能
である。これらの材料の一般的な合成法は、例えば以下
の文献に開示されている。すなわち、G.K.ハマー
(G.K. Hamar)、I.R.ピート(I.R. Peat)および
W.F.レイノルズ(W.F. Reynolds)「核磁気共鳴ス
ペクトル法および全原子価電子分子軌道法計算による置
換効果の検討。I.4−置換スチレン(Investi
gations of Substituent Ef
fects by Nuclear Magnetic
Resonance Spectroscopy a
nd All−Valence Electron M
olecular Orbital Calculat
ions. I. 4−Substituted St
yrene)」(Can.J.Chem.、Vol.5
1、897−914(1973))、およびG.K.ハ
マー(G.K. Hamar)、I.R.ピート(I.R. Peat)お
よびW.F.レイノルズ(W.F. Reynolds)「核磁気共
鳴スペクトル法および全原子価電子分子軌道法計算によ
る置換効果の検討。II.4−置換α−メチルスチレン
およびα-t-ブチルスチレン(Investigati
ons of SubstituentEffects
by Nuclear Magnetic Reso
nance Spectroscopy and Al
l−Valence Electron Molecu
lar Orbital Calculations.
II. 4−Substituted α−Methy
lstyrenes and α−t−Butylst
yrenes)」(Can.J.Chem.、Vol.
51、915−926(1973))であるが、以下に
概略を示す。
【化14】
【0030】この反応に使用することが可能なアルキル
化剤(すべて、アルドリッチ・ケミカル社(Aldrich Ch
emical Co.、ウィスコンシン州、ミルウォーキー(Milw
aukee, WI))から入手可能)は、3−ヨードプロピオ
ン酸、5−ブロモペンタン酸エチル、6−ブロモヘキサ
ン酸、1,3−プロピルスルホン、および1,4−ブチ
ルスルホンである。これらの反応剤を選択することによ
って、環形成および/または酸塩基反応の競合を最小限
に抑え、sp2−Nの求核反応が可能となる。
【0031】実施例IA N−(2−カルボキシエチル)−2,3,3−トリメチ
ルインドリニウムアイオダイドの合成 2,3,3−トリメチルインドリニウム塩中間体の一般
的な調製方法を、2−ヨードプロピオン酸と2,3,3
−トリメチルインドレニンとの反応を例にとって説明す
る。ビニル含有中間体も、N−(2−カルボキシエチ
ル)−2,3,3−トリメチルインドリニウムアイオダ
イドから調製できる。
【化15】 マグネチックスターラー回転子とアルゴン供給口を備え
た50mLの2口丸底フラスコに、再蒸留(圧力2mm
Hg、温度45℃)した2,3,3−トリメチルインド
レニン(7.95g、50.0mmol)および3−ヨ
ードプロピオン酸(2.00g、10mmol)を仕込
んだ。この混合物を80℃で12時間加熱したが、その
間に生成物が溶液から沈殿し、粘度の高い溶液となっ
た。冷却してから、この反応混合物についてジエチルエ
ーテルを200mLずつ使用して3回抽出をおこない、
未反応の出発物質をすべて除去した。次いで残った結晶
性の固形物を、10mLの水に溶解させ、ジエチルエー
テルを50mLずつ使用して3回抽出し、さらに、CH
Cl3を25mLずつ使用して3回抽出をおこなった。
それから水層を取りだし、真空下(1.0mmHg)で
24時間乾燥させた。得られた非晶系の固形物をトルエ
ン/CHCl3混合物から再結晶させると、生成物のN
−(2−カルボキシエチル)−2,3,3−トリメチル
インドリニウムアイオダイドが3.0g、黄色の固形物
として得られた(収率83.5%)。1Hおよび13CN
MRスペクトルは以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 7.97(1H、m)、7.83(1H、m)、
7.59(2H、m)、4.64(2H、t、J=6、
N−CH2)、2.97(2H、t、J=6、CH2
O)、2.86(3H、s、CH3)、1.52(6
H、s、CH3)。13 CNMR(100.1MHz)(DMSO−d
6中):198.0、171.6、141.8、14
0.7、129.5、129.1、123.7、11
5.7、54.4、43.9、31.3、22.1、1
5.0。
【0032】実施例IB N−(エチルペンタノイル)−2,3,3−トリメチル
インドリニウムブロミドの合成
【化16】 実施例IAに記載された方法により、2,3,3−トリ
メチルインドレニンおよび5−ブロモペンタン酸エチル
から、N−(エチルペンタノイル)−2,3,3−トリ
メチルインドリニウムブロミドの2.65gを、赤黄色
の結晶として得た(収率78%)。1Hおよび13CNM
Rスペクトルは以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.02(1H、m)、7.83(1H、m)、
7.61(2H、m)、4.48(2H、t、J=6、
N−CH2)、4.01(2H、t、J=7、O−C
2)、2.84(3H、s、CH3)、2.40(2
H、t、J=7、CH2CO)、2.08(4H、m、
−CH2)、1.53(6H、s、CH3)、1.13
(3H、t、J=7Hz)。13 CNMR(100.1MHz)(DMSO−d
6中):197.0、173.8、172.3、14
1.9、141.2、129.4、128.9、12
3.6、115.3、60.2、54.3、46.9、
30.3、22.4、22.0、14.1。
【0033】実施例IC N−(5−カルボキシペンチル)−2,3,3−トリメ
チルインドリニウムブロミドの合成
【化17】 実施例IAに記載された方法により、2,3,3−トリ
メチルインドレニンおよび6−ブロモヘキサン酸から、
N−(5−カルボキシペンチル)−2,3,3−トリメ
チルインドリニウムブロミドの2.43gを、黄色の結
晶として得た(収率71.2%)。1Hおよび13CNM
Rスペクトルは以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 7.98(1H、m)、7.86(1H、m)、
7.60(2H、m)、4.46(2H、t、J=6、
N−CH2)、2.85(3H、s、CH3)、2.21
(2H、t、J=7、CH2CO)、1.83(2H、
m、−CH2)、1.52(6H、s、CH3)、1.4
6(4H、s、−CH2−)。13 CNMR(100.1MHz)(DMSO−d
6中):196.9、174.7、142.3、14
1.5、129.6、129.4、123.9、11
5.9、54.6、47.9、33.8、27.4、2
5.8、24.5、22.4、14.6。
【0034】実施例ID 2,3,3−トリメチルインドリニウム−N−プロピル
スルホネートの合成
【化18】 実施例IAに記載された方法により、2,3,3−トリ
メチルインドレニンおよび1、3−プロピルスルトンか
ら、2,3,3−トリメチルインドリニウム−N−プロ
ピルスルホネートの2.98gを、白色の結晶として得
た(収率94%)。1Hおよび13CNMRスペクトルは
以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 7.99(1H、m)、7.77(1H、m)、
7.55(2H、m)、4.60(2H、t、J=7、
N−CH2)、2.78(3H、s、CH3)、2.61
(2H、t、J=7、CH2SO3 -)、2.11(2
H、m、−CH2−)、1.47(6H、s、CH3)。13 CNMR(100.1MHz)(DMSO−d
6中):196.9、142.2、141.5、12
9.6、129.2、123.7、115.7、54.
4、47.7、46.9、24.0、22.3、14.
1。
【0035】実施例IE 2,3,3−トリメチルインドリニウム−N−ブチルス
ルホネートの合成
【化19】 実施例IAに記載された方法により、2,3,3−トリ
メチルインドレニンおよび1、4−ブチルスルホンか
ら、2,3,3−トリメチルインドリニウム−N−ブチ
ルスルホネートの2.86gを、白色の結晶として得た
(収率89.2%)。1Hおよび13CNMRスペクトル
は以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.03(1H、m)、7.82(1H、m)、
7.60(2H、m)、4.48(2H、t、J=7、
N−CH2)、2.85(3H、s、CH3)、2.49
(2H、m、CH2SO3 -)、1.97(2H、m、−
CH2−)、1.76(2H、m、−CH2−)、1.5
3(6H、s、CH3)。13 CNMR(100.1MHz)(DMSO−d
6中):196.9、142.2、141.5、12
9.6、129.2、123.7、115.7、54.
4、47.7、46.9、24.0、22.8、22.
3、14.1。
【0036】実施例II カルボキシレート置換スピロピラン塩の調製 ステップ2: 6−ニトロ−ベンゾインドリノスピロピ
ラン(BIPS)の合成塩基の存在下で、機能性塩を転
化させて活性化フィッシャーベースとし、5−ニトロサ
リチルアルデヒドとの縮合反応を可能とした。この反応
の溶媒としてはエタノールを使用したが、それは、ほと
んどのスピロピランがこの溶媒には難溶であるからであ
る。
【化20】
【0037】実施例IIA 6−ニトロ−N−(2−カルボキシエチル)スピロベン
ゾインドリノピランの合成 スピロピランの一般的な調製方法を、塩基であるトリエ
チルアミンの存在下における、2−カルボキシエチル−
2,3,3−トリメチルインドリニウムアイオダイドと
5−ニトロサリチルアルデヒドとの縮合反応を例にとっ
て説明する。
【化21】 上部に均圧型滴下ロートをつけた水コンデンサーを備え
た50mLの丸底フラスコ中に、2−カルボキシエチル
−2,3,3−トリメチルインドリニウムアイオダイド
(実施例IAの記載にしたがい調製したもの:1.0
g、2、78mmol)と5−ニトロサリチルアルデヒ
ド(0.50g、3.0mmol)とを仕込んだ。還流
温度で固形物が溶解するだけのエタノールを加え、つい
で滴下ロートを使って、5mLのエタノールに溶解させ
たトリエチルアミン(0.280g、2.78mmo
l)を20分間かけて加えた。塩基を添加するとすぐに
反応液が紫色に変色し、スピロピランが生成しているこ
とを示していた。この混合物を6時間還流させてから、
室温にまで冷却した。体積が5mLになるまで濃縮して
から、このフラスコを冷蔵庫に入れて0℃で24時間冷
却した。沈殿してきたスピロピランを真空濾過し、エタ
ノールから再結晶させると、6−ニトロ−N−(2−カ
ルボキシエチル)スピロベンゾインドリノピランの黄色
結晶が0.763g得られ(収率72.2%)、そのも
のの融点は192〜194℃であった。1HNMR、13
CNMR、IRおよびUV−可視スペクトルは以下のよ
うであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.21(1H、d、J=3)、8.00(1H、
d、J=9)、7.21(1H、d、J=10.5)、
7.11(2H、m)、6.87(2H、m)、6.6
7(1H、d、J=7.8)、6.00(1H、d、J
=10.5)、3.42(2H、J=6、N−C
2)、2.50(2H、t、J=6、CH2CO)、
1.18(3H、s、CH3)、1.07(3H、s、
CH3)。13 CNMR(100.1MHz)(DMSO−d
6中):173.7、159.9、146.9、14
1.3、136.5、129.0、128.5、12
6.5、123.6、122.6、120.1、11
9.7、116.3、107.5、107.3、53.
5、34.0、26.4、20.3。 IR(KBr、cm-1):3030、3000、297
1、1709、1654、1610、1575、151
0、1483、1457、1441、1360、133
0、1270、1141、1088、1020、91
5、803。 UV−可視(DMSO、λmax(ε)):336nm、
9,600M-1cm-1。 元素分析:計算値(C212052):C、65.3
0;H、5.26;N、7.30。 実測値:C、64.96;H、5.23;N、7.2
2。
【0038】実施例IIB 6−ニトロ−(N−エチルペンタノイル)スピロベンゾ
インドリノピランの合成
【化22】 実施例IIAに記載された方法により、5−ニトロサリ
チルアルデヒドおよびN−(エチルペンタノイル)−
2,3,3−トリメチルインドリニウムブロミド(実施
例IBの記載にしたがい調製)から、6−ニトロ−(N
−エチルペンタノイル)スピロベンゾインドリノピラン
を調製した。1HNMRスペクトルは以下のようであっ
た:1 HNMR(400.1MHz)(CDCl3中):δ
7.99(2H、m)、7.15(1H、t)、7.0
6(1H、d)、6.86(2H、t)、6.72(1
H、d)、6.60(1H、t)、5.85(1H、
d)、4.08(2H、q、O−CH2)、3.17
(2H、t)、2.39(2H、CH2CO)、2.0
0(4H、m、−CH2)、1.22(9H、m、C
3)。
【0039】キレート機能基の脱保護
【化23】 マグネチックスターラー回転子とアルゴン供給口を備え
た50mLの丸底フラスコに、細かく砕いた6−ニトロ
−(N−エチルペンタノエート)スピロベンゾインドリ
ノピラン(1.0g、2.28mmol)を仕込み、1
0mLのTHFに溶解させた。この溶液に、水酸化ナト
リウム(1M溶液、25mL)を添加し、24時間撹拌
してから、高真空下室温でロータリーエバポレータにか
けた。得られた固形物を最小限の量の水を使用して溶解
させ、1M濃度の塩酸で中和することで、生成物を沈殿
させた。真空濾過によって固形物を分離し、エタノール
から再結晶させると、6−ニトロ−(N−4−カルボキ
シブチル)スピロベンゾインドリノピランが黄赤色の結
晶として、0.962g得られた(収率94%)。この
ものの融点は139〜141℃であり、その1HNM
R、13CNMR、IRおよびUV−可視スペクトルは以
下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.19(1H、d、J=2.8)、7.97(1
H、d、J=9.0)、7.19(1H、d、J=1
0.4)、7.08(2H、m)、6.84(1H、
d、J=7.2)、6.76(1H、t、J=7.
2)、6.57(1H、d、J=7.8)、5.98
(1H、d、J=10.4)、3.10(2H、m、N
−CH2)、2.16(2H、t、J=6.8、CH2
O)、1.55(4H、m、−CH2−)、1.18
(3H、s、CH3)、1.09(3H、s、CH3)。13 CNMR:174.4、159.2、146.7、1
40.4、135.6、128.1、127.6、12
5.7、122.8、121.6、118.9、11
8.7、115.4、106.4、52.2、33.
5、28.0、26.1、24.2、19.5。 IR(cm-1):3030、3000、2971、17
09、1654、1610、1575、1510、14
83、1457、1441、1360、1330、12
70、1141、1088、1020、915、80
3。 UV−可視(DMSO、λmax(ε)):338nm、
7,800M-1cm-1。 元素分析:計算値(C232452):C、67.6
1;H、5.89;N、6.82。 実測値:C、67.31;H、5.92;N、6.6
0。
【0040】実施例IIC 6−ニトロ−N−(5−カルボキシペンチル)スピロベ
ンゾインドリノピランの合成
【化24】 実施例IIAに記載された方法により、5−ニトロサリ
チルアルデヒドおよびN−(5−カルボキシペンチル)
−2,3,3−トリメチルインドリニウムブロミド(実
施例ICの記載にしたがい調製)から、6−ニトロ−N
−(5−カルボキシペンチル)スピロベンゾインドリノ
ピランを調製したところ、黄赤色の結晶として1.23
gが得られた(収率48%)。このものの融点は80〜
82℃であり、その1HNMR、13CNMR、IRおよ
びUV−可視スペクトルは以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.19(1H、d、J=3.2)、8.00(1
H、d、J=9.0)、7.21(1H、d、J=1
0.5)、7.08(2H、m)、6.80(2H、
m)、6.57(1H、d、J=7.8)、5.98
(1H、d、J=10.5)、3.10(2H、m、N
−CH2)、2.13(2H、m、CH2CO)、1.4
5(4H、m、−CH2−)、1.20(2H、m、−
CH2−)、1.18(3H、s、CH3)、1.07
(3H、s、CH3)。13 CNMR:174.4、159.2、146.7、1
40.4、135.6、128.1、127.6、12
5.7、122.8、121.6、118.9、11
8.7、115.4、106.4、52.2、33.
5、28.0、26.1、25.8、24.2、19.
5。 IR(cm-1):3030、3000、2971、17
09、1654、1610、1575、1510、14
83、1457、1441、1360、1330、12
70、1141、1088、1020、915、80
3。 UV−可視(DMSO、λmax(ε)):342nm、
8,400M-1cm-1。 元素分析:計算値(C242552):C、68.2
0;H、6.16;N、6.70。 実測値:C、68.30;H、6.09;N、6.5
2。
【0041】ステップ3: カルボキシレート塩の調製 カルボキシレート塩を調製するには、スピロピランのア
ルコール溶液を約1モル当量のNaOEtまたはKOE
tで処理する必要がある。代表的な方法を、6−ニトロ
−(N−カルボキシエチル)スピロベンゾインドリノピ
ランとNaOEtとの反応を例にとって説明する。
【0042】実施例IID 6−ニトロ−スピロベンゾインドリノピラン−N−エチ
ルナトリウムカルボキシレートの合成
【化25】 マグネチックスターラー回転子とアルゴン供給口を備え
た50mLの丸底フラスコに、細かく砕いた6−ニトロ
−(N−カルボキシエチル)スピロベンゾインドリノピ
ラン(実施例IIAの記載にしたがい調製)(0.10
0g、0.263mmol)を仕込み、5mLのエタノ
ールに溶解させた。この混合物を氷浴中で0℃まで冷却
してから、注射器を使用して、8.64x10-2M濃度
のNaOEt溶液を3.0mL(0.265mmol)
添加した。この反応液を3時間撹拌し、次いで高真空下
室温でロータリーエバポレータにかけた。エタノールか
ら再結晶させると、6−ニトロ−スピロベンゾインドリ
ノピラン−N−エチルナトリウムカルボキシレートが1
00mg、黄赤色の結晶として得られた(収率94.6
%)。このものの融点は202〜204℃であった。1
HNMR、13CNMR、IR、およびUV−可視スペク
トルは以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.17(1H、d、J=2.8)、7.96(1
H、d、J=9.0)、7.15(1H、d、J=1
0.5)、7.07(2H、m)、6.83(1H、
d、J=9)、6.73(1H、t、J=7.3)、
6.58(1H、d、J=8.0)、5.98(1H、
d、J=10.5)、3.23(2H、m、N−C
2)、2.19(2H、m、CH2CO)、1.16
(3H、s、CH3)、1.05(3H、s、CH3)。13 CNMR:173.3、159.2、146.5、1
40.3、135.5、127.7、127.5、12
5.5、122.6、122.0、121.4、11
8.8、118.6、115.3、106.5、10
6.4、52.2、36.2、25.7、19.5。 IR(cm-1):3020、2970、2923、16
52、1607、1588、1507、1480、14
50、1330、1275、1218、1156、11
23、1090、1020、910、803。 UV−可視(DMSO、λmax(ε)):338nm、
8,400M-1cm-1。 元素分析(高分解能質量分析計(HRMS)、高速原子
衝撃正イオン法(FAB+)):計算値(C21215
2):381.1451。 実測値:381.1399。
【0043】実施例IIE 6−ニトロスピロベンゾインドリノピラン−N−ブチル
カリウムカルボキシレートの合成
【化26】 実施例IIDに記載された方法により、6−ニトロ−
(N−エチルペンタノイル)スピロベンゾインドリノピ
ラン(実施例IIBの記載にしたがい調製)から、6−
ニトロスピロベンゾインドリノピラン−N−ブチルカリ
ウムカルボキシレートを調製すると、赤色の結晶として
0.94gが得られた(収率94%)。このものの融点
は、180〜182℃であった。1HNMR、13CNM
R、IR、およびUV−可視スペクトルは以下のようで
あった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.18(1H、d、J=2.6)、7.97(1
H、d、J=9.0)、7.18(1H、d、J=1
0.5)、7.10(2H、m)、6.85(1H、
d、J=9)、6.74(1H、t、J=7.3)、
6.57(1H、d、J=7.8)、5.98(1H、
d、J=10.5)、3.49(1H、m、N−C
H)、3.05(1H、m、N−CH)、1.81(2
H、m、CH2CO)、1.32(2H、m、−CH
2−)、1.20(2H、m、−CH2−)、1.1(3
H、s、CH3)、1.07(3H、s、CH3)。13 CNMR:174.4、159.2、146.7、1
40.4、135.6、128.1、127.6、12
5.7、122.8、121.6、118.9、11
8.7、115.4、106.6、106.4、52.
2、42.7、28.0、26.1、25.8、19.
5。 IR(cm-1):3020、2970、2923、16
52、1607、1588、1507、1480、14
50、1330、1275、1218、1156、11
23、1090、1020、910、803。 UV−可視(DMSO、λmax(ε)):342nm、
8,400M-1cm-1。 元素分析(HRMS(FAB+)):計算値(C2324
O5N2K): 447.2677。 実測値:447.2688。
【0044】実施例IIF 6−ニトロスピロベンゾインドリノピラン−N−ペンチ
ルカリウムカルボキシレートの合成
【化27】 実施例IIDに記載された方法により、6−ニトロ−N
−(5−カルボキシペンチル)スピロベンゾインドリノ
ピラン(実施例IICの記載にしたがい調製)から、6
−ニトロスピロベンゾインドリノピラン−N−ペンチル
カリウムカルボキシレートを調製すると、暗赤色の6−
ニトロスピロベンゾインドリノピラン−N−ペンチルカ
リウムカルボキシレート結晶として0.54gが得られ
た(収率73%)。このものの融点は、100〜102
℃であった。1HNMR、13CNMR、IR、およびU
V−可視スペクトルは以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.17(1H、d、J=2.8)、7.97(1
H、d、J=9.0)、7.18(1H、d、J=1
0.5)、6.84(2H、m)、6.84(1H、
d、J=9)、6.77(1H、t、J=7.6)、
6.55(1H、d、J=7.8)、5.98(1H、
d、J=10.5)、3.10(2H、m、N−C
2)、1.79(2H、m、CH2CO)、1.45
(4H、m、−CH2−)、1.20(2H、m、−C
2−)、1.18(3H、s、CH3)、1.05(3
H、s、CH3)。13 CNMR:174.4、159.2、146.7、1
40.4、135.6、128.1、127.6、12
5.7、125.2、122.8、121.8、11
8.8、118.7、115.4、106.4、52.
2、43.0、33.5、28.0、26.1、25.
8、24.2、19.5、14.1。 IR(cm-1):3020、2970、2923、16
52、1607、1588、1507、1480、14
50、1330、1275、1218、1156、11
23、1090、1020、910、803。 UV−可視(DMSO、λmax(ε)):342nm、
8,400M-1cm-1。 元素分析(HRMS(FAB+)):計算値(C2425
52K): 461.2424。 実測値:461.2445。
【0045】実施例III スルホネート置換スピロピラン塩の調製 ステップ2: 6−ニトロ−ベンゾインドリノスピロピ
ラン(BIPS)の合成
【0046】実施例IIIA 6−ニトロ−スピロベンゾインドリノピラン−N−プロ
ピル−トリエチルアンモニウムスルホネートの合成
【化28】 実施例IIAに記載された方法により、5−ニトロサリ
チルアルデヒドおよび2,3,3−トリメチルインドリ
ニウム−N−プロピルスルホネート(実施例IDの記載
にしたがい調製)から、6−ニトロ−スピロベンゾイン
ドリノピラン−N−プロピル−トリエチルアンモニウム
スルホネートを調製した。生成物を酢酸エチルから再結
晶させたところ、黄色の結晶が1.43g得られた(収
率52%)。このものの融点は188〜190℃であっ
た。1HNMR、13CNMR、IR、およびUV−可視
スペクトルは以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.27(1H、d、J=2.8)、8.04(1
H、d、J=9.0)、7.26(1H、d、J=1
0.4)、7.15(2H、m)、6.83(3H、
m)、6.03(1H、d、J=10.4)、3.29
(2H、t、J=7.3、N−CH2)、3.13(6
H、q、J=7.3、CH2CH3)、2.50(2H、
m、CH2SO3)、1.49(2H、m、−CH
2−)、1.25(9H、t、CH3)、1.19(3
H、s、CH3)、1.16(3H、s、CH3)。13 CNMR:159.2、146.7、140.4、1
35.5、128.1、127.6、125.7、12
2.8、121.6、121.5、118.9、11
8.7、115.4、106.4、106.4、52.
2、49.0、45.7、42.2、24.7、19.
5、8.55。 IR(cm-1):3020、2970、2684、25
10、1652、1607、1510、1483、14
57、1333、1275、1218、1156、11
23、1089、1020、916、805。 UV−可視(DMSO、λmax(ε)):342nm、
8,600M-1cm-1。 元素分析:計算値(C273763S):C、61.0
5;H、6.70;N、7.90;S、5.94。 実測値:C、61.30;H、6.67;N、7.8
3;S、5.86。
【0047】実施例IIIB 6−ニトロ−スピロベンゾインドリノピラン−N−ブチ
ル−トリエチルアンモニウムスルホネートの合成
【化29】 実施例IIAに記載された方法により、5−ニトロサリ
チルアルデヒドおよび2,3,3−トリメチルインドリ
ニウム−N−ブチルスルホネート(実施例IEの記載に
したがい調製)から、6−ニトロ−スピロベンゾインド
リノピラン−N−ブチル−トリエチルアンモニウムスル
ホネートを調製した。生成物を酢酸エチルから再結晶さ
せたところ、紫色の結晶が0.86g得られた(収率3
6%)。このものの融点は208〜210℃であった。
1HNMR、13CNMR、IRおよびUV−可視スペク
トルは以下のようであった:1 HNMR(400.1MHz)(DMSO−d6中):
δ 8.27(1H、d、J=2.8)、8.04(1
H、d、J=9.0)、7.26(1H、d、J=1
0.4)、7.15(2H、m)、6.83(3H、
m)、6.03(1H、d、J=10.4)、3.29
(2H、t、J=7.3、N−CH2)、3.13(6
H、q、J=7.3、CH2CH3)、2.50(2H、
m、CH2SO3)、1.49(4H、m、−CH
2−)、1.25(9H、t、CH3)、1.19(3
H、s、CH3)、1.16(3H、s、CH3)。13 CNMR:159.2、146.7、140.4、1
35.6、128.1、127.6、125.7、12
2.8、121.6、118.9、118.7、11
5.4、106.4、59.7、52.2、42.5、
33.3、28.0、25.8、24.2、22.1、
19.5、14.0。 IR(cm-1):3020、2970、2684、25
10、1652、1607、1510、1483、14
57、1333、1275、1218、1156、11
23、1089、1020、916、805。 UV−可視(DMSO、λmax(ε)):344nm、
9,000M-1cm-1。 元素分析:計算値(C283963S):C、59.7
0;H、6.90;N、7.52;S、5.70。 実測値:C、59.64;H、6.84;N、7.4
3;S、5.62。
【0048】実施例IV 半連続的ラテックス調製法 次式のビニルスピロピランを
【化30】 実施例IIAの方法を用いて調製する。スチレン、アク
リル酸ブチル、ビニルスピロピラン、およびアクリル酸
β−カルボキシエチルのエマルション重合によるポリマ
ー粒子含有ラテックスエマルションを以下のようにして
調製する。22.21gのエイベックス(ABEX)201
0(アニオン性/ノニオン性混合乳化剤、ローヌ・プー
ラン(Rhone-Poulenc)社から入手可能)および41
1.3gの脱イオン水を、ステンレススチール製の容器
中で10分間撹拌して、界面活性剤溶液を調製する。こ
の容器を窒素で5分間パージしてから、反応器に移しこ
む。次いで、反応器を窒素でパージしながら100rp
mで撹拌する。それから昇温速度を調節しながら、反応
器を80℃まで加熱し、その温度で維持する。
【0049】これとは別に、6.66gの過硫酸アンモ
ニウム開始剤を33.7gの脱イオン水に溶解させてお
く。
【0050】また別に、モノマーエマルションを次のよ
うにして調製する:321gのスチレン、100gのア
クリル酸ブチル、22.53gのビニルスピロピラン、
6.7gのアクリル酸、4.12gの1−ドデカンチオ
ール、3.0kgの水、22.2gのエイベックス(AB
EX)2010(アニオン性/ノニオン性界面活性剤、ロ
ーヌ・プーラン(Rhone-Poulenc)社)、および190
gの脱イオン水を混合してエマルションを形成させる。
このようにして調製したエマルションのうちの5%を、
水性界面活性剤層が入っている反応器にゆっくりと加
え、窒素でパージしながら80℃で「シード」を形成さ
せる。次いで開始剤溶液を反応器にゆっくりと加え、1
0分経過してから、残りのエマルションを定量ポンプを
使用して連続的にフィードする。
【0051】モノマーエマルションを主反応器に仕込み
おわってからも、さらに2時間温度を80℃に保って、
反応を完結させる。次いで反応器の内容物を冷却して、
室温すなわち約25℃から約35℃とする。この生成物
は、スチレン/アクリル酸ブチル/スピロピラン/アク
リル酸β−カルボキシエチルからなる粒径600nmの
樹脂粒子を40%、界面活性剤含有水層中に懸濁して含
んでいるものと考えられるが、このものを貯蔵タンクに
入れる。このラテックスから得られる樹脂の分子的性質
は、重量平均分子量(Mw)は62,000、数平均分
子量(Mn)は11.9、ガラス転移温度(Tg)の中
央値は58.0℃であると考えられる。
【0052】実施例V シアンマーキング粒子のアグリゲーション 実施例IVに記載した方法で調製したスピロピラン含有
ラテックスエマルションの390.0gおよび、シアン
顔料15.3を7.6g含む水性シアン顔料分散物(固
形分含量53.4%)(ビー・エー・エス・エフ(BAS
F)社から入手可能)の197gを同時に、ポリトロン
を使用して高速剪断撹拌しながら、600mLの水中に
加える。この混合物に、20.3gの塩化カルシウム、
7.2gのポリアルミニウムクロリド(PAC)溶液
(PAC固形分10重量%の濃縮PAC溶液1.2gを
含む)、および6.0gの0.2M硝酸を、1分間かけ
て添加し、次いで、11.3gのカチオン界面活性剤溶
液(1.3gのサニゾール(SANIZOL)B(登録商標)
(カチオン界面活性剤ベンザルコニウムクロリド;活性
成分含量60重量%;花王・ケミカルズ(Kao Chemical
s)社から入手可能)および10gの脱イオン水を含
む)を添加して、2分間、5,000rpmの速度で撹
拌する。次いでこの混合物を2Lの反応容器に移し、5
0℃で100分間加熱すると、アグリゲートの大きさが
5.8μm、粒径分布がGSDで1.19となる。それ
から、4重量%の水酸化ナトリウムの水性塩基溶液を添
加して、この混合物のpHを2.0から7.5に調整
し、さらに15分間撹拌を続ける。次いで、こうして得
られた混合物を85℃まで加熱し、この温度で1時間維
持してから、5重量%の硝酸を使用してpHを4.6に
変える。温度をさらに1時間85℃に保ってから、90
℃まで昇温し、その温度で3時間維持してから、室温
(約25℃)まで冷却する。こうして得られるスラリー
のpHを、5重量%の水酸化ナトリウムの塩基性溶液を
添加することで、11.0に調節し、このものを1時間
撹拌してから、濾過し、得られるウェットケーキを1L
の水を使用して再スラリー化する。pH調整をさらに2
回繰返し、その後に水洗を2回してから、凍結乾燥によ
り乾燥させる。この最終生成物には、実施例IVで調製
したポリマーラテックスが96.25重量%と、顔料が
3.75重量%含まれていて、マーキング粒子の体積平
均径が6.1μm、粒径分布が1.21(いずれもコー
ルターカウンター(Coulter Counter)による測定)で
あるものと考えられる。走査電子顕微鏡で測定すると、
このモルホロジーはジャガイモ形となっている筈であ
る。このマーキング粒子の摩擦電荷(tribo charge)を
ファラデー・ケージ法(Faraday Cage method)で計測
すると、コアが径約90μmのフェライトで、キャリア
コーティングの約20重量%の量のカーボンブラックを
分散させたポリメタクリル酸メチルのコーティングを施
したキャリア上で測定して、相対湿度20%の時で−3
2.2マイクロクーロン/g、相対湿度80%の時で−
14.9マイクロクーロン/gになるものと考えられ
る。
【0053】実施例VI シアンマーキング粒子のアグリゲーション 実施例IVに記載した方法で調製したビニルスピロピラ
ン含有ラテックスエマルションの310g、シアン顔料
15.3を16g含む水性シアン顔料分散物(固形分含
量53.4%)(ビー・エー・エス・エフ(BASF)社か
ら入手可能)の197g、およびポリエチレンワックス
分散物P725ワックス(固形分含量30重量%、ペト
ロライト・ケミカルズ(Petrolite Chemicals)社から
入手可能)の48gを、同時に、ポリトロンを使用して
高速剪断撹拌しながら、600mLの水中に加える。こ
の混合物に、19.8gの塩化亜鉛、20gのポリアル
ミニウムクロリド(PAC)溶液(PAC固形分10重
量%の濃縮PAC溶液3.2gを含む)、および16.
8gの0.2M硝酸を、1分間かけて添加し、次いで、
2分間、5,000rpmの速度で撹拌する。得られる
混合物を2Lの反応容器に移し、50℃で130分間加
熱すると、アグリゲートの大きさが5μm、粒径分布が
GSDで1.20となる。このマーキング粒子アグリゲ
ートに、実施例IVで調製したポリマーラテックスの8
0gを加え、さらに30分間撹拌すると、粒径が約5.
3、GSDが1.20となる。それから、4重量%の水
酸化ナトリウムの水性塩基溶液を添加して、得られた混
合物のpHを2から8に調整し、さらに15分間撹拌を
続ける。次いで、こうして得られた混合物を85℃まで
加熱し、この温度で1時間維持してから、5重量%の硝
酸を使用してpHを4.6に変える。さらに1時間温度
を85℃に保ってから、温度を90℃にあげる。90℃
で30分間加熱した後、硝酸を加えて混合物のpHをさ
らに下げて3.5とし、温度90℃でさらに2.5時間
維持すると、粒径が5.4μm、GSDが1.21とな
るので、反応器の内容物を室温(約25℃)まで冷却す
る。こうして得られるスラリーに、5重量%の水酸化ナ
トリウムの塩基溶液を加えて、そのpHを10に調節
し、次いで、温度65℃で1時間撹拌してから、濾過
し、得られるウェットケーキを1Lの水で再スラリー化
して、40℃で1時間撹拌する。40℃でpH4.0
(硝酸)でさらに洗浄し、次いで40℃で2回水で洗浄
する。最終的に得られるマーキング粒子生成物は、凍結
乾燥による乾燥後では、実施例IVで調製されたポリマ
ーラテックスが87.3重量%、顔料が4.7重量%、
ワックスが8重量%で構成されているものと考えられ
る。このマーキング粒子のサイズは、体積平均径で約
5.5μm、粒径分布が1.20(いずれもコールター
カウンターで測定)になるものと考えられる。走査電子
顕微鏡で測定すると、このモルホロジーは球形となって
いる筈である。このマーキング粒子の摩擦電荷は、コア
がフェライトで、ポリメタクリル酸メチルとカーボンブ
ラックのコーティングをして35μmのキャリア上で測
定して、相対湿度20%の時で−60マイクロクーロン
/g、相対湿度80%の時で−10マイクロクーロン/
gになるものと考えられる。
【0054】実施例VII 顔料を使用しない他は、実施例Vに記載した方法によっ
てマーキング粒子を調製する。得られるマーキング粒子
は実質的に無色である。
【0055】実施例VIII 顔料を使用しない他は、実施例VIに記載した方法によ
ってマーキング粒子を調製する。得られるマーキング粒
子は実質的に無色である。
【0056】実施例IX 実施例Vで調製したマーキング粒子3gと、実施例Vに
記載したキャリア粒子の97gを混合して、現像剤組成
物を調製する。次いでこの現像剤を電子写真画像形成デ
バイスに組入れ、潜像を形成させてから、この現像剤で
その潜像を現像し、その現像された画像をたとえば紙の
ような透明性の材料からなる基材に移行させ、熱を加え
てその現像された画像を溶融させると、基材の上に実質
的にはシアン色の画像が形成される。
【0057】同一のキャリアを使用し、実施例VI、V
IIおよびVIIIで調製したマーキング粒子で同様の
方法で現像剤を調製すると、同様な発色法では、調整剤
はシアン色(実施例VI)あるいは実質的に無色(実施
例VIIおよびVIII)の画像を生成するのに使用さ
れる。
【0058】実施例X 実施例IXで作成した、現像された実質的に無色の画像
を、約190から約425nmの波長の化学線照射で露
光させると、画像が赤く浮かび出る。次いで、この赤い
画像を約425から約700nmの波長の化学線照射で
露光させると、画像はもとの実質的に無色な外観に戻す
ことができる。
【0059】実施例IXで作成した、現像されたシアン
色の画像を、約190から約425nmの波長の化学線
照射で露光させると、画像がより強い赤色で浮かび出
る。次いで、この画像を約425から約700nmの波
長の化学線照射で露光させると、画像はもとのシアン色
の外観に戻すことができる。
【0060】実施例XI 実施例VIIでの記載にしたがって調製したマーキング
粒子を、ゼロックス(Xerox)(登録商標)4024普
通紙に均一に塗布し、この紙を電子写真の画像化装置の
溶融モジュールを通過させて熱と圧力をかけることで紙
に固着させる。このようにして得られるアドレス可能な
ディスプレイは外観上実質的に無色である。次いで、ア
ドレス用のワンドを使用して、基材の特定の場所を約1
90から約425nmの波長の光で照射すると、その照
射された場所では無色のスピロピラン形から赤色のメロ
シアニン形に転化し、それによって照射された部分が赤
く浮かび上がる。さらに、この基材に約425から約7
00nmの波長の光を照射すると、赤色の画像は消され
てしまう。
【0061】実施例VIIIにしたがって調製したマー
キング粒子からも同様のアドレス可能なディスプレイを
作ることができる。実質的に同様な効果が得られるもの
と考えられる。
【0062】
【発明の効果】別々の波長によりアドレス可能なフォト
クロミックなマーキング粒子を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ネイヴィーン チョプラ カナダ オンタリオ州 オークヴィル ワ トソン アベニュー 444 アパートメン ト 1 (72)発明者 ピーター エム カズマイア カナダ オンタリオ州 ミシソーガ カウ ンシル リング ロード 2421 Fターム(参考) 2H005 AA27 AA29 AB02 CA21 CA30 DA10 2H123 AA00 AA13 AA30 BA00 BA14 BB00 BB05

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マーキング粒子であって、樹脂と、キレ
    ート剤と、以下の化学式のスピロピラン材料とを含み、 【化1】 または 【化2】 ここで、nは整数であって、−CH2−単位の繰返しの
    数をあらわし、Rは−Hまたは−CH=CH2であり、
    ここでこの粒子はエマルションアグリゲーション法によ
    って調製されることを特徴とするマーキング粒子。
  2. 【請求項2】 スピロピラン材料が以下の化学式 【化3】 であらわされ、ここでnが約2から約8までの整数であ
    ることを特徴とする請求項1に記載のマーキング粒子。
  3. 【請求項3】 スピロピラン材料が以下の化学式 【化4】 であらわされ、ここでnが約2から約8までの整数であ
    ることを特徴とする請求項1に記載のマーキング粒子。
  4. 【請求項4】 スピロピラン材料が以下の化学式であら
    わされることを特徴とする請求項1に記載のマーキング
    粒子。 【化5】 または 【化6】
  5. 【請求項5】 スピロピラン材料が樹脂の主鎖に組入れ
    られていることを特徴とする請求項1に記載のマーキン
    グ粒子。
  6. 【請求項6】 請求項1に記載されたマーキング粒子の
    塗膜をその表面に均一に配置した基材を含むことを特徴
    とするアドレス可能な表示物。
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