JP2003023039A - ボンディングダメージの計測方法 - Google Patents
ボンディングダメージの計測方法Info
- Publication number
- JP2003023039A JP2003023039A JP2001204340A JP2001204340A JP2003023039A JP 2003023039 A JP2003023039 A JP 2003023039A JP 2001204340 A JP2001204340 A JP 2001204340A JP 2001204340 A JP2001204340 A JP 2001204340A JP 2003023039 A JP2003023039 A JP 2003023039A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bonding
- chip
- electrode
- bump
- damage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05553—Shape in top view being rectangular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49175—Parallel arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/10251—Elemental semiconductors, i.e. Group IV
- H01L2924/10253—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15192—Resurf arrangement of the internal vias
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
データを定量的に計測することができるボンディングダ
メージの計測方法を提供すること。 【解決手段】 ボンディングによりチップ10に生じる
ダメージを歪みゲージ13により計測するボンディング
ダメージの計測方法において、中央部の1つの電極11
に形成された歪みゲージ13の信号線14を他の電極1
1に接続した計測用のチップ10を準備し、チップ10
を基板4にボンディングする際の歪み計測においては、
信号線14と導通する電極11とこれらの電極11に形
成されたバンプ12が接合された基板4のボンディング
パッド16を順次介して、歪みゲージ13を計測手段9
に接続する。これにより、チップ10に計測線を直接結
線することなく、ボンディングにおいてチップ10に発
生するダメージの要因についてのデータを定量的に計測
することができる。
Description
どのバンプ付きチップのボンディングにおいてバンプ付
きチップに生じるダメージを計測するボンディングダメ
ージの計測方法に関するものである。 【0002】 【従来の技術】フリップチップなどのバンプ付きチップ
の基板への実装においては、フリップチップボンディン
グなどの超音波接合が多用されている。この超音波接合
は、バンプを被接合対象である電極に対して押圧すると
ともに接合物に超音波振動を付与するものである。これ
により、バンプの金属成分が電極表面の金属中に拡散
し、接合界面が形成される。 【0003】この超音波接合においては、接合対象とな
るフリップチップに対して荷重と超音波振動という機械
的負荷が作用するため、荷重や超音波出力などの接合条
件が適正でない場合には、クラックなどのダメージを発
生させるおそれがある。このため、ボンディングに際し
ては、個々の半導体チップについて適切な接合条件を設
定する必要がある。従来よりこの接合条件の設定は、超
音波接合を実際に行った後に剥離試験などによって接合
部の評価を行い、試行錯誤的に適正条件を求める条件出
し作業によって行われていた。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、接合後
の評価のみに依存する従来の条件出し作業では、接合条
件と発生したダメージとの対応関係を知ることができる
ものの、接合部のクラックなどのダメージの発生メカニ
ズムを具体的に特定するための定量的なデータを得るこ
とができず、適切な接合条件の設定やダメージ防止対策
の立案のための有効なデータ入手が困難であるという問
題点があった。 【0005】そこで本発明は、接合部に発生するダメー
ジの要因についてのデータを定量的に計測することがで
きるボンディングダメージの計測方法を提供することを
目的とする。 【0006】 【課題を解決するための手段】請求項1記載のボンディ
ングダメージの計測方法は、ボンディングによってバン
プ付きチップに生じるダメージを歪みゲージにより計測
するボンディングダメージの計測方法であって、前記歪
みゲージが形成された第1の電極と、この第1の電極に
形成された第1のバンプと、前記歪みゲージの信号線が
接続された少なくとも1つの第2の電極と、この第2の
電極に形成された第2のバンプとを備えた計測用バンプ
付きチップを準備する工程と、前記第1のバンプと第2
のバンプがそれぞれ接合される第1の接合電極と第2の
接合電極とを備えた基板を準備する工程と、前記バンプ
付きチップの第1のバンプと第2のバンプをそれぞれ前
記基板の第1の接合電極と第2の接合電極にボンディン
グするとともにボンディング時の前記歪みゲージの電気
的変化を計測手段によって計測する工程とを含み、前記
電気的変化を計測する工程において、前記歪みゲージが
前記信号線と前記第2の電極と前記第2のバンプと前記
第2の接合電極とを順次介して計測手段に接続される。 【0007】本発明によれば、ボンディングダメージの
計測用バンプ付きチップを、歪みゲージが形成された第
1の電極と、この第1の電極に形成された第1のバンプ
と、歪みゲージの信号線が接続された第2の電極と、こ
の第2の電極に形成された第2のバンプとで構成し、第
1のバンプと第2のバンプがそれぞれ接合される第1の
接合電極と第2の接合電極とを備えた基板に計測用バン
プ付きチップをボンディングしてボンディング時のバン
プ付きチップに発生する歪みを計測することにより、バ
ンプ付きチップに歪みゲージを計測手段に接続するため
の計測線を結線することなく、ボンディングにおいてバ
ンプ付きチップに発生するダメージの要因についてのデ
ータを定量的に計測することができる。 【0008】 【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面を
参照して説明する。図1は本発明の一実施の形態のボン
ディングダメージの計測装置の側面図、図2は本発明の
一実施の形態のボンディングダメージの計測用バンプ付
きチップの斜視図、図3(a)は本発明の一実施の形態
のボンディングダメージのバンプ付きチップの平面図、
図3(b)は本発明の一実施の形態のボンディングダメ
ージのバンプ付きチップの側断面図、図4(a)は本発
明の一実施の形態のボンディングダメージの計測装置の
基板ユニットの平面図、図4(b)は本発明の一実施の
形態のボンディングダメージの計測装置の基板ユニット
の側面図、図5は本発明の一実施の形態のボンディング
ダメージの計測方法の説明図である。 【0009】まず図1を参照してボンディングダメージ
の計測装置の構成について説明する。ボンディングダメ
ージの計測装置は、基板にフリップチップなどのバンプ
付きチップをボンディングする際にバンプ付きチップに
生じるダメージを計測するものである。計測には後述す
るように、歪みゲージを内蔵した専用の計測用バンプ付
きチップが用いられる。ダメージの計測においては、こ
の計測用バンプ付きチップを基板にボンディングしたと
きの歪みゲージの電気的変化を計測手段で計測する。こ
れにより、ボンディング過程においてバンプ付きチップ
に生じる歪みの経時的変化が求められる。 【0010】図1において、基板保持部1(保持手段)
上には、基板ユニット2が保持されている。基板ユニッ
ト2は、外部接続用のサブ基板3上にボンディング用の
基板4を載置して構成されている。基板保持部1の上方
には、ツール駆動機構7によって駆動されるボンディン
グツール6を備えたフリップチップボンディング装置5
が配設されており、ボンディングツール6には下面にバ
ンプ12が形成されたボンディングダメージの計測用バ
ンプ付きチップ10(以下、単に「チップ10」と略記
する。)が保持されている。 【0011】ボンディングツール6にチップ10を保持
させた状態で、ボンディングツール6によってチップ1
0を基板4のボンディングパッド上に押しつけるととも
に、超音波振動をバンプ付きチップ10に印加すること
により、チップ10は基板4にボンディングされる。 【0012】このフリップチップボンディングの過程に
おいては、チップ10に内蔵された歪みゲージの電気的
変化が、サブ基板3の端子3bに接続された計測手段9
によって計測される。このとき歪みゲージは、後述する
ようにバンプ12及び基板4に形成されたボンディング
パッドを介して、計測手段9と導通する。 【0013】次に図2、図3を参照して、チップ10に
ついて説明する。図2はチップ10を反転した状態を示
しており、チップ10の下面(図2において上面)に
は、複数の電極11が格子状に形成されており、さらに
各電極11には金属の突出電極であるバンプ12が形成
されている。なお、本明細書においてこれらの電極11
またはバンプ12について記述する際には、個々の電極
またはバンプを区別する必要がある場合には電極11
a,11b・・、バンプ12a,12b・・のように添
字を付して区別し、区別する必要のない場合には単に電
極11、バンプ12と総称する。 【0014】図3(b)に示すように、チップ10は、
シリコンチップ10aの上面に絶縁層10bを形成した
構成となっており、電極11は絶縁層10bの表面に形
成されている。これらの電極11のうち、図3(a)に
示すようにチップ10の中心部に位置する電極11gの
下方(反転状態において下方)には、細長形状の歪みゲ
ージ13がシリコンチップ10a上面に形成されてい
る。歪みゲージ13はピエゾ抵抗素子であり、2軸方向
(水平方向、すなわちチップ10の表面に平行な方向、
およびこの方向と直交する垂直方向)の微小歪みを計測
することができる。 【0015】歪みゲージ13は、1本の抵抗素子に複数
の結線電極13aを等ピッチで形成することにより複数
の歪みゲージを直列に連結した構成となっている。この
ような構成により、歪み計測の空間分解能を向上させる
とともに、結線電極の総数を減少させて所要計測チャン
ネル数の低減が可能となっている。各結線電極13aに
は絶縁層10bに形成された信号線14が接続されてい
る。これらの4本の信号線14は、電極11c,11
d,11e,11fにそれぞれ接続されている。またチ
ップ10の歪みゲージ13近傍には、熱電対等の温度検
出部15が形成されており、温度検出部15は、2つの
電極11a,11bに接続されている。 【0016】すなわちチップ10は、歪みゲージ13が
形成された第1の電極である電極11gと、この第1の
電極に形成された第1のバンプであるバンプ12gと、
歪みゲージ13の信号線14が接続された第2の電極で
ある電極11c,11d,11e,11fと、これらの
第2の電極に形成された第2のバンプであるバンプ12
c,12d,12e,12fを備え、さらにチップ10
の温度を検出する温度検出部15が接続された第3の電
極である電極11a,11bと、この第3の電極に形成
された第3のバンプであるバンプ12a,12bとを備
えた構成となっている。 【0017】次に図4を参照して、チップ10がボンデ
ィングされる基板4および基板ユニット2について説明
する。図4に示すように、基板ユニット2は、基板4を
サブ基板3に載置してして構成されている。基板4の上
面には、チップ10のバンプ12の配置に対応した位置
に、ボンディングパッド(接続電極)16が形成されて
いる。 【0018】基板4にチップ10をボンディングした状
態では、バンプ12gがボンディングパッド16gに接
合されるとともに、電極11a,11bはボンディング
パッド16a,16bと、電極11c,11d,11
e,11fはボンディングパッド16c,16d,16
e,16fと、それぞれバンプ12を介して導通する。
なお、ボンディングパッド16についても同様に、個別
に区別する必要がある場合のみ、16a,16b・・の
ように添字を付して区別している。 【0019】すなわち基板4は、第1のバンプであるバ
ンプ12gと、第2のバンプであるバンプ12c,12
d,12e,12fとがそれぞれ接合される第1の接合
電極であるボンディングパッド16gと、第2の接合電
極であるボンディングパッド16c,16d,16e,
16fとを備えた構成となっている。 【0020】サブ基板3の両側端部の上面には電極3a
が設けられており、各電極3aは、基板4のボンディン
グパッド16a,16b,16c,16d,16e,1
6fとそれぞれワイヤボンディングによって接続されて
いる。図4(b)に示すように、各電極3aはさらにサ
ブ基板3の内部に形成された接続回路3cによって、サ
ブ基板3の端面に設けられた端子3bに接続されてお
り、端子3bはさらに図1に示すように計測手段9に接
続されている。 【0021】このボンディングダメージの計測装置は上
記のように構成されており、以下ボンディングダメージ
の計測について説明する。この計測は、基板のボンディ
ングパッドにチップ10をフリップチップボンディング
する際の、歪みゲージ13の抵抗値の変化を計測手段9
によって計測することにより、バンプ位置におけるチッ
プ10の歪みを求めるものである。そしてこの歪みによ
り、チップ10に生じる応力を知ることができ、ボンデ
ィングによるチップ10のダメージを計測することがで
きる。 【0022】まず前記構成の計測用のチップ10を準備
して、ボンディングツール6に保持させる。これととも
に、ボンディングに用いられる上記構成の基板4を準備
してサブ基板3に載置し、各電極3aと、基板4のボン
ディングパッド16a,16b,16c,16d,16
e,16fとをそれぞれワイヤボンディングによって接
続し、計測用の基板ユニット2を準備する。この後、基
板ユニット2を基板保持部1に保持させるとともに、端
子3bと計測手段9とを接続する。 【0023】次いで、ボンディングツール6によってチ
ップ10を基板4にボンディングする。すなわち図5に
示すように、チップ10のバンプ12を基板4のボンデ
ィングパッド16に対して押圧するとともに、ボンディ
ングツール6を介してバンプ12には超音波振動が印加
される。これにより、バンプ12は、ボンディングパッ
ド16にボンディングされる。そして、このボンディン
グ過程における歪みゲージ13の電気的変化が計測手段
9によって計測される。 【0024】この電気的変化を計測する工程において、
図5に示すように歪みゲージ13は、まずチップ10内
部の信号線14を介して電極11に接続され、さらに電
極11上のバンプ12(第2のバンプ・・・図3に示す
バンプ12c,12d,12e,12f参照)を介して
ボンディングパッド16(第2の接続電極・・・図4に
示すボンディングパッド16c,16d,16e,16
f参照)に導通する。そしてさらにワイヤによってボン
ディングパッド16に接続された電極3a、接続回路3
c、端子3bを順次介して、計測手段9に接続される。 【0025】したがって、ボンディングツール6によっ
て昇降するチップ10に、歪みゲージ13を計測手段9
に接続するための計測線を結線する必要がなく、昇降動
作や超音波振動などに起因する接続不良などの不具合の
ない安定した信号取り出しを行うことができる。 【0026】 【発明の効果】本発明によれば、ボンディングダメージ
の計測用バンプ付きチップを、歪みゲージが形成された
第1の電極と、この第1の電極に形成された第1のバン
プと、歪みゲージの信号線が接続された第2の電極と、
この第2の電極に形成された第2のバンプとで構成し、
第1のバンプと第2のバンプがそれぞれ接合される第1
の接合電極と第2の接合電極とを備えた基板に計測用バ
ンプ付きチップをボンディングしてボンディング時のバ
ンプ付きチップに発生する歪みを計測するようにしたの
で、バンプ付きチップに歪みゲージを計測手段に接続す
るための計測線を結線することなく、ボンディングにお
いてバンプ付きチップに発生するダメージの要因につい
てのデータを定量的に計測することができる。
の計測装置の側面図 【図2】本発明の一実施の形態のボンディングダメージ
の計測用バンプ付きチップの斜視図 【図3】(a)本発明の一実施の形態のボンディングダ
メージのバンプ付きチップの平面図 (b)本発明の一実施の形態のボンディングダメージの
バンプ付きチップの側断面図 【図4】(a)本発明の一実施の形態のボンディングダ
メージの計測装置の基板ユニットの平面図 (b)本発明の一実施の形態のボンディングダメージの
計測装置の基板ユニットの側面図 【図5】本発明の一実施の形態のボンディングダメージ
の計測方法の説明図 【符号の説明】 1 基板保持部 4 基板 5 フリップチップボンディング装置 6 ボンディングツール 9 計測手段 10 チップ 11 電極 12 バンプ 13 歪みゲージ 14 信号線 15 温度検出部 16 ボンディングパッド
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】ボンディングによってバンプ付きチップに
生じるダメージを歪みゲージにより計測するボンディン
グダメージの計測方法であって、前記歪みゲージが形成
された第1の電極と、この第1の電極に形成された第1
のバンプと、前記歪みゲージの信号線が接続された少な
くとも1つの第2の電極と、この第2の電極に形成され
た第2のバンプとを備えた計測用バンプ付きチップを準
備する工程と、前記第1のバンプと第2のバンプがそれ
ぞれ接合される第1の接合電極と第2の接合電極とを備
えた基板を準備する工程と、前記バンプ付きチップの第
1のバンプと第2のバンプをそれぞれ前記基板の第1の
接合電極と第2の接合電極にボンディングするとともに
ボンディング時の前記歪みゲージの電気的変化を計測手
段によって計測する工程とを含み、前記電気的変化を計
測する工程において、前記歪みゲージが前記信号線と前
記第2の電極と前記第2のバンプと前記第2の接合電極
とを順次介して計測手段に接続されることを特徴とする
ボンディングダメージの計測方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001204340A JP3599003B2 (ja) | 2001-07-05 | 2001-07-05 | ボンディングダメージの計測方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001204340A JP3599003B2 (ja) | 2001-07-05 | 2001-07-05 | ボンディングダメージの計測方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003023039A true JP2003023039A (ja) | 2003-01-24 |
JP3599003B2 JP3599003B2 (ja) | 2004-12-08 |
Family
ID=19040829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001204340A Expired - Fee Related JP3599003B2 (ja) | 2001-07-05 | 2001-07-05 | ボンディングダメージの計測方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3599003B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7559247B2 (en) * | 2006-07-14 | 2009-07-14 | Denso Corporation | Pressure sensor with reduced size strain gauge mounting structure and manufacturing method of the same |
US8558564B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | International Business Machines Corporation | Heat spreader flatness detection |
US8717043B2 (en) | 2011-07-27 | 2014-05-06 | International Business Machines Corporation | Determining thermal interface material (TIM) thickness change |
WO2022176341A1 (ja) * | 2021-02-17 | 2022-08-25 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | デバイス、デバイス製造装置、及びデバイス製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW202215554A (zh) | 2020-05-28 | 2022-04-16 | 日商松下知識產權經營股份有限公司 | 元件的製造方法及元件製造裝置與安裝構造體 |
-
2001
- 2001-07-05 JP JP2001204340A patent/JP3599003B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7559247B2 (en) * | 2006-07-14 | 2009-07-14 | Denso Corporation | Pressure sensor with reduced size strain gauge mounting structure and manufacturing method of the same |
US8558564B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | International Business Machines Corporation | Heat spreader flatness detection |
US8941398B2 (en) | 2011-02-24 | 2015-01-27 | International Business Machines Corporation | Heat spreader flatness detection |
US8717043B2 (en) | 2011-07-27 | 2014-05-06 | International Business Machines Corporation | Determining thermal interface material (TIM) thickness change |
WO2022176341A1 (ja) * | 2021-02-17 | 2022-08-25 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | デバイス、デバイス製造装置、及びデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3599003B2 (ja) | 2004-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6329637B1 (en) | Method and process of contract to a heat softened solder ball array | |
CN1798977B (zh) | 封装测试工艺、探测工艺及封装测试系统 | |
JPH0922929A (ja) | Bgaパッケージ半導体素子及びその検査方法 | |
TW200816339A (en) | Bump test units and apparatus, and methods for testing bumps | |
JP3599003B2 (ja) | ボンディングダメージの計測方法 | |
JP3753023B2 (ja) | ボンディングダメージの計測用バンプ付きチップ | |
JP3573113B2 (ja) | ボンディングダメージの計測装置および計測方法 | |
JP3573112B2 (ja) | ボンディングダメージの計測用基板 | |
JPS6276733A (ja) | ウエハプロ−ブヘツド | |
JP3827427B2 (ja) | 半導体集積回路の検査方法 | |
JPH11233574A (ja) | ウェーハテストシステムでz軸の高さ設定装置及び方法 | |
JP7474964B2 (ja) | デバイス製造装置の検査方法及びデバイス製造装置 | |
JP3837898B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7462270B2 (ja) | デバイス製造装置の検査方法及びデバイス製造装置 | |
JP2006013074A (ja) | 半導体実装装置、半導体実装方法 | |
US20030234394A1 (en) | Measuring force on dies and substrates | |
JP2002185103A (ja) | 実装用基板の実装面における電極パッドの平坦性評価方法 | |
US7898275B1 (en) | Known good die using existing process infrastructure | |
JP4877465B2 (ja) | 半導体装置、半導体装置の検査方法、半導体ウェハ | |
JP3163903B2 (ja) | マルチチップモジュール用基板の検査用部品 | |
JP3365879B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH04364485A (ja) | 混成集積回路装置の検査方法 | |
JPH10189660A (ja) | フリップチップ接続用回路素子 | |
JP2021118191A (ja) | 半導体装置、半導体装置の検査方法、半導体装置の製造方法および検査装置 | |
JP4069099B2 (ja) | ウェハカセット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040608 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040728 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040824 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040906 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100924 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110924 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120924 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |