JP2003022996A - Wafer treatment device - Google Patents

Wafer treatment device

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JP2003022996A
JP2003022996A JP2001204515A JP2001204515A JP2003022996A JP 2003022996 A JP2003022996 A JP 2003022996A JP 2001204515 A JP2001204515 A JP 2001204515A JP 2001204515 A JP2001204515 A JP 2001204515A JP 2003022996 A JP2003022996 A JP 2003022996A
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JP
Japan
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substrate
rotation
processing
discharge nozzle
cup
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001204515A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Joichi Nishimura
讓一 西村
Akihiko Morita
彰彦 森田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wafer treatment device with which a treatment tool can be moved between a treatment position and a standby position in simple configuration. SOLUTION: A discharge nozzle of the treatment tool is fixed and linked onto a driving shaft 51 of a compound actuator 50. In the compound actuator 50 when a magnetic screw 52 is turned by a pulse motor 40, the rotation of a magnetic nut 54 inside a horizontal plane is permitted and the discharge nozzle is turned within the horizontal plane by a cam mechanism for guiding a pin 56 along with the form of a groove 59, or discharge nozzle is vertically moved by permitting the movement of the magnetic nut 54 along with a perpendicular direction while limiting the rotation of the magnetic nut 54 within the horizontal plane. By using the compound actuator 50, the discharge nozzle can perform two-axis movement only with one driving part (pulse motor 40), and can be moved between the treatment position and the standby position.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光
ディスク用基板等(以下、「基板」と称する)の表面に
所定の処理を行う処理具、例えば吐出ノズルや洗浄ブラ
シを処理位置と待避位置との間で移動させる基板処理装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a treatment tool for performing a predetermined treatment on the surface of a semiconductor substrate, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disc, etc. (hereinafter referred to as "substrate"). For example, the present invention relates to a substrate processing apparatus that moves a discharge nozzle or a cleaning brush between a processing position and a retracted position.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、半導体や液晶ディスプレ
イなどの製品は、上記基板に対して洗浄、レジスト塗
布、露光、現像、エッチング、層間絶縁膜の形成、熱処
理、ダイシングなどの一連の諸処理を施すことにより製
造されている。これらの諸処理の中には、所定の処理を
行う処理具を基板表面に近接または当接させて行うもの
もある。例えば、基板の端縁部に付着したフォトレジス
ト(以下、単に「レジスト」とする)を除去する装置で
は、洗浄液を吐出する吐出ノズルを基板に近接させて端
縁部洗浄処理を行う。また、基板表面を機械的に洗浄す
るスピンスクラバでは、基板を回転させつつその基板の
表面に洗浄ブラシを当接させて処理を行う。
As is well known, products such as semiconductors and liquid crystal displays are subjected to a series of various treatments such as cleaning, resist coating, exposure, development, etching, interlayer insulating film formation, heat treatment, and dicing on the above-mentioned substrate. It is manufactured by applying. Among these various kinds of processing, there is also one in which a processing tool for performing a predetermined processing is brought close to or in contact with the substrate surface. For example, in an apparatus that removes photoresist (hereinafter, simply referred to as “resist”) attached to the edge of a substrate, an edge nozzle cleaning process is performed by bringing a discharge nozzle that discharges a cleaning liquid close to the substrate. In a spin scrubber that mechanically cleans the surface of a substrate, a cleaning brush is brought into contact with the surface of the substrate while rotating the substrate to perform processing.

【0003】図6は、従来の基板処理装置の構成を示す
図である。この基板処理装置は、基板Wにレジスト塗布
処理を行うとともに、基板Wの端縁部に付着したレジス
トを洗浄、除去する装置である。レジストが塗布された
基板Wはスピンチャック101によって水平姿勢にて保
持されている。スピンチャック101は、図示を省略す
るモータによって回転可能とされている。これにより、
スピンチャック101に保持された基板Wは水平面内に
て回転される。
FIG. 6 is a diagram showing the structure of a conventional substrate processing apparatus. This substrate processing apparatus is an apparatus that performs resist coating processing on the substrate W and also cleans and removes the resist attached to the edge portion of the substrate W. The substrate W coated with the resist is held in a horizontal posture by the spin chuck 101. The spin chuck 101 can be rotated by a motor (not shown). This allows
The substrate W held by the spin chuck 101 is rotated in a horizontal plane.

【0004】スピンチャック101に保持された基板W
の周囲には、基板Wを回転させることによって飛散した
処理液(レジストおよび洗浄液)を回収するカップ11
0が配置されている。カップ110は、図外の昇降機構
によって昇降自在とされている。基板Wを搬入または搬
出するときにはカップ110を下降させるとともに、洗
浄処理時にはカップ110を上昇させて基板Wの周囲に
位置させる。カップ110を上昇させた状態(図6の状
態)では、カップ110の上端がスピンチャック101
に保持された基板Wよりも高くなる。
A substrate W held on the spin chuck 101
Around the circumference of the cup 11, the processing liquid (resist and cleaning liquid) scattered by rotating the substrate W is collected.
0 is placed. The cup 110 can be raised and lowered by an elevating mechanism (not shown). When the substrate W is loaded or unloaded, the cup 110 is lowered, and during the cleaning process, the cup 110 is raised and positioned around the substrate W. When the cup 110 is raised (state of FIG. 6), the upper end of the cup 110 is at the spin chuck 101.
It becomes higher than the substrate W held by the.

【0005】吐出ノズル120からは、基板Wの端縁部
を洗浄するための洗浄液が吐出される。吐出ノズル12
0は、図示を省略する洗浄液供給源と連通接続されてお
り、その洗浄液供給源から吐出ノズル120に洗浄液が
送給されると、吐出ノズル120の先端から洗浄液が吐
出される。吐出ノズル120は、ノズルアーム121に
よって保持されている。ノズルアーム121および吐出
ノズル120は、矢印AR61にて示すようにエアシリ
ンダ127によって昇降自在とされている。また、エア
シリンダ127は、パルスモータ125によって回動さ
れる。パルスモータ125がエアシリンダ127を回動
させることにより、ノズルアーム121および吐出ノズ
ル120が矢印AR62にて示すように、水平面内にて
旋回する。
A cleaning liquid for cleaning the edge portion of the substrate W is discharged from the discharge nozzle 120. Discharge nozzle 12
Reference numeral 0 is connected to a cleaning liquid supply source (not shown) so that when the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply source to the discharge nozzle 120, the cleaning liquid is discharged from the tip of the discharge nozzle 120. The discharge nozzle 120 is held by the nozzle arm 121. The nozzle arm 121 and the discharge nozzle 120 can be moved up and down by an air cylinder 127 as shown by an arrow AR61. The air cylinder 127 is rotated by the pulse motor 125. When the pulse motor 125 rotates the air cylinder 127, the nozzle arm 121 and the discharge nozzle 120 rotate in a horizontal plane as indicated by an arrow AR62.

【0006】従って、吐出ノズル120は、エアシリン
ダ127およびパルスモータ125によって鉛直方向に
沿った昇降動作および水平面内での旋回動作を行うこと
ができる。これにより吐出ノズル120は、カップ11
0の外側に設けられた待避位置とスピンチャック101
に保持された基板Wの端縁部直上の処理位置との間で移
動することができる。具体的には、まず待避位置にある
吐出ノズル120がエアシリンダ127によって昇降
し、カップ110の上端よりも高い位置に移動する。次
に、パルスモータ125によって吐出ノズル120が旋
回し、スピンチャック101に保持された基板Wの端縁
部の上方に位置する。その後、エアシリンダ127によ
って吐出ノズル120が降下し、基板Wの端縁部直上に
移動する。この状態にて、吐出ノズル120から基板W
の端縁部に洗浄液を吐出することができる。なお、吐出
ノズル120が処理位置から待避位置に移動する場合に
は、上記と逆の手順が実行されることとなる。
Therefore, the discharge nozzle 120 can be moved up and down along the vertical direction and swung in the horizontal plane by the air cylinder 127 and the pulse motor 125. As a result, the discharge nozzle 120 moves to the cup 11
0 and the spin chuck 101 provided outside the 0 position.
It is possible to move to and from the processing position directly above the edge of the substrate W held by the substrate. Specifically, first, the ejection nozzle 120 at the retracted position is moved up and down by the air cylinder 127 and moved to a position higher than the upper end of the cup 110. Then, the discharge nozzle 120 is swung by the pulse motor 125 and is positioned above the edge of the substrate W held by the spin chuck 101. After that, the discharge nozzle 120 is lowered by the air cylinder 127, and is moved to directly above the edge portion of the substrate W. In this state, from the discharge nozzle 120 to the substrate W
The cleaning liquid can be discharged to the edge portion of the. When the discharge nozzle 120 moves from the processing position to the retracted position, the procedure reverse to the above is executed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図6に
示した従来の基板処理装置においては、吐出ノズル12
0を昇降させるためのエアシリンダ127および旋回さ
せるためのパルスモータ125の2つの駆動部を必要と
していた。これは、吐出ノズル120が待避位置と処理
位置との間で移動する際にはカップ110を乗り越える
という動作が必要になり、2軸の移動が必須となるため
である。
However, in the conventional substrate processing apparatus shown in FIG. 6, the discharge nozzle 12 is used.
Two drive units, an air cylinder 127 for raising and lowering 0 and a pulse motor 125 for turning, are required. This is because when the discharge nozzle 120 moves between the retracted position and the processing position, the operation of overcoming the cup 110 is required, and the biaxial movement is essential.

【0008】1つの吐出ノズル120を移動させるため
にエアシリンダ127およびパルスモータ125の2つ
の駆動部を備えると、それぞれを適切に動作させるため
の位置検出センサや電磁弁等の部品点数が多くなる。そ
して、部品点数が多くなれば、それに伴ってメンテナン
ス性が悪くなるとともに、基板処理装置のサイズも大き
くなる。また、エアシリンダ127およびパルスモータ
125のそれぞれを駆動させるための制御用ソフトウェ
アも複雑なものとなり、さらなるコストアップが生じる
とともに、誤動作の原因が増加することとなる。
If the two drive parts of the air cylinder 127 and the pulse motor 125 are provided to move one discharge nozzle 120, the number of parts such as a position detection sensor and a solenoid valve for properly operating them increases. . If the number of parts increases, the maintainability deteriorates and the size of the substrate processing apparatus also increases. Further, the control software for driving each of the air cylinder 127 and the pulse motor 125 becomes complicated, which further increases the cost and causes the malfunction.

【0009】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、簡易な構成にて処理具を処理位置と待避位置と
の間で移動させることができる基板処理装置を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a substrate processing apparatus capable of moving a processing tool between a processing position and a retracted position with a simple structure. To do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1の発明は、基板の表面に所定の処理を行う
処理具を処理位置と待避位置との間で移動させる基板処
理装置において、基板を略水平姿勢にて保持する保持手
段と、所定方向に沿った軸を回転中心として、回転軸を
回転させる回転駆動手段と、前記回転駆動手段と前記処
理具とを連結し、前記回転軸の回転動作を、前記所定方
向に沿った軸を回転中心とする旋回動作または前記所定
方向に沿った直線移動動作のいずれかに切り換えつつ前
記処理具に伝達することによって前記処理具を前記処理
位置と前記待避位置との間で移動させる駆動切換手段
と、を備える。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 1 is a substrate processing apparatus for moving a processing tool for performing a predetermined processing on a surface of a substrate between a processing position and a retreat position. A holding means for holding the substrate in a substantially horizontal posture; a rotation driving means for rotating the rotation axis about an axis along a predetermined direction as a rotation center; and the rotation driving means and the processing tool for coupling the rotation means. The processing tool is processed by transmitting the processing tool to the processing tool while switching the rotational motion of the shaft to either a swivel motion about the axis along the predetermined direction or a linear movement motion along the predetermined direction. Drive switching means for moving between a position and the retracted position.

【0011】また、請求項2の発明は、請求項1の発明
にかかる基板処理装置において、前記所定方向を略鉛直
方向とし、前記駆動切換手段に、前記回転軸の回転動作
を、略水平面内での旋回動作または略鉛直方向に沿った
昇降動作のいずれかに切り換えつつ前記処理具に伝達す
ることによって前記処理具を前記処理位置と前記待避位
置との間で移動させている。
According to a second aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first aspect of the invention, the predetermined direction is substantially vertical, and the drive switching means causes the rotary operation of the rotary shaft to be substantially in a horizontal plane. The processing tool is moved between the processing position and the retreat position by transmitting the processing tool to the processing tool while switching to either the turning operation in (1) or the ascending / descending operation along the substantially vertical direction.

【0012】また、請求項3の発明は、請求項2の発明
にかかる基板処理装置において、前記駆動切換手段に、
前記回転軸に固設され、略鉛直方向を長手方向とする円
筒表面に螺旋状に磁石を配設した磁気ネジと、前記洗浄
具に固定して連結されるとともに、前記磁気ネジの周囲
をその周方向に沿って非接触にて取り囲むように配置さ
れ、磁石を内蔵する磁気ナットと、前記回転駆動手段に
よって前記磁気ネジが回転したときに、前記磁気ナット
の水平面内での回転を許して前記洗浄具に前記旋回動作
を行わせるかまたは前記磁気ナットの水平面内での回転
を制限して前記磁気ナットに略鉛直方向に沿った移動を
許すことにより前記洗浄具に前記昇降動作を行わせるカ
ム機構と、を備えている。
According to a third aspect of the invention, in the substrate processing apparatus according to the second aspect of the invention, the drive switching means includes:
A magnetic screw fixed to the rotary shaft and having a magnet spirally arranged on a cylindrical surface whose longitudinal direction is substantially vertical, is fixedly connected to the cleaning tool, and the periphery of the magnetic screw is A magnetic nut, which is arranged so as to surround it in a non-contact manner along the circumferential direction and has a built-in magnet, and when the magnetic screw is rotated by the rotation driving means, allows rotation of the magnetic nut in a horizontal plane. A cam that causes the cleaning tool to perform the ascending / descending operation by causing the cleaning tool to perform the turning operation or by limiting the rotation of the magnetic nut in a horizontal plane to allow the magnetic nut to move in a substantially vertical direction. And a mechanism.

【0013】また、請求項4の発明は、請求項3の発明
にかかる基板処理装置において、前記保持手段によって
保持された基板の周囲を取り囲むカップをさらに備え、
前記処理位置を前記カップより内側であって前記カップ
の上端よりも低く、前記待避位置を前記カップより外側
であって前記カップの上端よりも高くしている。
According to a fourth aspect of the invention, in the substrate processing apparatus according to the third aspect of the invention, a cup surrounding the periphery of the substrate held by the holding means is further provided.
The processing position is inside the cup and lower than the upper end of the cup, and the retreat position is outside the cup and higher than the upper end of the cup.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0015】図1は、本発明にかかる基板処理装置の平
面図である。また、図2は図1の基板処理装置の正面図
である。この基板処理装置1は、基板Wにレジストを塗
布するとともに、その端縁部に洗浄液を吐出することに
よって当該端縁部に付着したレジストを洗浄、除去する
装置である。基板処理装置1は、主としてスピンチャッ
ク10と、カップ20と、吐出ノズル30と、パルスモ
ータ40と、複合アクチュエーター50とを備えてい
る。
FIG. 1 is a plan view of a substrate processing apparatus according to the present invention. 2 is a front view of the substrate processing apparatus of FIG. The substrate processing apparatus 1 is an apparatus for applying a resist to the substrate W and cleaning and removing the resist adhering to the edge by ejecting a cleaning liquid to the edge. The substrate processing apparatus 1 mainly includes a spin chuck 10, a cup 20, a discharge nozzle 30, a pulse motor 40, and a composite actuator 50.

【0016】スピンチャック10は基板Wの裏面を真空
吸着することによって、その基板Wを水平姿勢にて保持
するいわゆるバキュームチャックである。スピンチャッ
ク10の下面側中央部には、電動モータ15のモータ軸
16が垂設されている。電動モータ15がモータ軸16
を介してスピンチャック10を回転させることにより、
それに保持された基板Wも回転する。なお、スピンチャ
ック10には、基板Wの端縁部を機械的に保持するいわ
ゆるメカチャックを用いるようにしても良い。
The spin chuck 10 is a so-called vacuum chuck that holds the substrate W in a horizontal posture by vacuum-sucking the back surface of the substrate W. A motor shaft 16 of an electric motor 15 is vertically provided at the central portion on the lower surface side of the spin chuck 10. The electric motor 15 is the motor shaft 16
By rotating the spin chuck 10 via
The substrate W held by it also rotates. A so-called mechanical chuck that mechanically holds the edge portion of the substrate W may be used as the spin chuck 10.

【0017】カップ20は、基板Wの周囲に配設され、
回転する基板Wから飛散した処理液を受け止めて回収す
る。カップ20は、図示を省略する昇降機構によって昇
降自在とされている。該昇降機構によってカップ20が
下降しているときには、カップ20の上端がスピンチャ
ック10よりも下に位置する。この状態では、図外の搬
送ロボットがスピンチャック10に対して基板Wを搬入
することおよびスピンチャック10から基板Wを搬出す
ることができる。また、カップ20が上昇しているとき
には、スピンチャック10によって保持された基板Wの
周囲をカップ20が取り囲み、カップ20の上端が基板
Wよりも上に位置する。基板Wの端縁洗浄処理を行うと
きには、カップ20を上昇させた状態にて実行する。
The cup 20 is arranged around the substrate W,
The processing liquid scattered from the rotating substrate W is received and collected. The cup 20 can be raised and lowered by an elevation mechanism (not shown). When the cup 20 is being lowered by the lifting mechanism, the upper end of the cup 20 is located below the spin chuck 10. In this state, the transfer robot (not shown) can load the substrate W into and out of the spin chuck 10. Further, when the cup 20 is rising, the cup 20 surrounds the periphery of the substrate W held by the spin chuck 10, and the upper end of the cup 20 is located above the substrate W. When the edge cleaning process for the substrate W is performed, the process is performed with the cup 20 raised.

【0018】吐出ノズル30は、図外の洗浄液供給源と
連通接続されている。その洗浄液供給源から吐出ノズル
30に洗浄液が送給されると、吐出ノズル30の下端に
形成された吐出口から下方に向けて洗浄液が吐出され
る。
The discharge nozzle 30 is communicatively connected to a cleaning liquid supply source (not shown). When the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply source to the discharge nozzle 30, the cleaning liquid is discharged downward from the discharge port formed at the lower end of the discharge nozzle 30.

【0019】吐出ノズル30は、その吐出口が下方を向
くように、L字型のノズルアーム31の先端に固設され
ている。また、ノズルアーム31の基端部は複合アクチ
ュエーター50の駆動軸51に固設されている。ノズル
アーム31がL字型に形成されているため、吐出ノズル
30がカップ20の上端よりも低く位置していたとして
も、カップ20とノズルアーム31とが接触することは
防止される。
The discharge nozzle 30 is fixed to the tip of an L-shaped nozzle arm 31 so that its discharge port faces downward. The base end of the nozzle arm 31 is fixed to the drive shaft 51 of the compound actuator 50. Since the nozzle arm 31 is formed in an L shape, even if the discharge nozzle 30 is positioned lower than the upper end of the cup 20, the cup 20 and the nozzle arm 31 are prevented from contacting each other.

【0020】複合アクチュエーター50は、パルスモー
タ40と吐出ノズル30とを連結し、パルスモータ40
の駆動力を吐出ノズル30に伝達する。図3は、複合ア
クチュエーター50の構成を示す図である。パルスモー
タ40のモータ軸41に磁気ネジ52が固設されてい
る。パルスモータ40は、鉛直方向に沿った軸Qを回転
中心として、モータ軸41を回転させる。パルスモータ
40がモータ軸41を回転させることにより、磁気ネジ
52も鉛直方向に沿った軸Qを回転中心として回転す
る。
The composite actuator 50 connects the pulse motor 40 and the discharge nozzle 30 to each other,
Driving force is transmitted to the discharge nozzle 30. FIG. 3 is a diagram showing a configuration of the composite actuator 50. A magnetic screw 52 is fixed to a motor shaft 41 of the pulse motor 40. The pulse motor 40 rotates the motor shaft 41 with the axis Q along the vertical direction as the center of rotation. When the pulse motor 40 rotates the motor shaft 41, the magnetic screw 52 also rotates with the axis Q along the vertical direction as the center of rotation.

【0021】磁気ネジ52は、鉛直方向を長手方向とす
る円筒の表面に螺旋状に一対の磁石52a,52bを配
設して構成されている。ここでは、磁石52aをN極、
磁石52bをS極としている。なお、図3においては理
解容易のため、各磁石対間のピッチを広く描いている
が、これをより狭いものとしても良い。また、磁石52
aをS極、磁石52bをN極とするようにしても良い。
The magnetic screw 52 is constructed by arranging a pair of magnets 52a and 52b in a spiral shape on the surface of a cylinder whose longitudinal direction is the vertical direction. Here, the magnet 52a is the N pole,
The magnet 52b is the S pole. In FIG. 3, the pitch between each magnet pair is drawn wide for easy understanding, but it may be set narrower. Also, the magnet 52
The a may be an S pole and the magnet 52b may be an N pole.

【0022】磁気ナット54は、円筒形状の磁気ネジ5
2の周囲をその周方向に沿って非接触にて取り囲むよう
に配置された円環状の部材である。磁気ナット54の内
径は、磁気ネジ52の外径よりも大きい。磁気ナット5
4は、一対の磁石54a,54bを内蔵している。ここ
では、磁石54aをS極、磁石54bをN極としてい
る。磁石54aと磁石54bとの間隔は、磁気ネジ52
における磁石52aと磁石52bとの間隔と等しい。磁
石54a,54bの形態としては、リング状の磁石であ
っても良いし、多数の磁石片を円環状に配列したもので
あっても良い。なお、磁石52aをS極、磁石52bを
N極とした場合には、それに対応して磁石54aをN
極、磁石54bをS極とする。
The magnetic nut 54 is a cylindrical magnetic screw 5.
It is an annular member arranged so as to surround the periphery of 2 in a non-contact manner along the circumferential direction. The inner diameter of the magnetic nut 54 is larger than the outer diameter of the magnetic screw 52. Magnetic nut 5
4 has a pair of magnets 54a and 54b built therein. Here, the magnet 54a is an S pole and the magnet 54b is an N pole. The distance between the magnet 54a and the magnet 54b is equal to that of the magnetic screw 52.
Is equal to the distance between the magnet 52a and the magnet 52b. The magnets 54a and 54b may be ring-shaped magnets, or may be a plurality of magnet pieces arranged in an annular shape. When the magnet 52a has the S pole and the magnet 52b has the N pole, the magnet 54a is correspondingly set to the N pole.
The pole and the magnet 54b are S poles.

【0023】磁気ナット54は、内筒55に固設されて
いる。内筒55は、鉛直方向を長手方向とする中空の円
筒であって、その内径は磁気ネジ52の外径よりも大き
い。従って、内筒55の中空部分に対して磁気ネジ52
を自在に挿脱することができる。
The magnetic nut 54 is fixed to the inner cylinder 55. The inner cylinder 55 is a hollow cylinder whose longitudinal direction is the vertical direction, and its inner diameter is larger than the outer diameter of the magnetic screw 52. Therefore, with respect to the hollow portion of the inner cylinder 55, the magnetic screw 52
Can be freely inserted and removed.

【0024】内筒55の上端部には駆動軸51が固設さ
れている。駆動軸51は円筒状部材であって、その上端
部はノズルアーム31の基端部に固設されている。従っ
て、吐出ノズル30は、磁気ナット54に固定して連結
されていることになる一方で、パルスモータ40には直
結されていない。
A drive shaft 51 is fixed to the upper end of the inner cylinder 55. The drive shaft 51 is a cylindrical member, and its upper end is fixed to the base end of the nozzle arm 31. Therefore, the discharge nozzle 30 is fixedly connected to the magnetic nut 54, but is not directly connected to the pulse motor 40.

【0025】また、内筒55の外側には外筒58が配置
されている。外筒58も中空の円筒であって、その内径
は内筒55の外径よりも大きい。従って、外筒58の内
側に内筒55を挿入することができる。外筒58は基板
処理装置1に固定して設けられているものであり、外筒
58自体はパルスモータ40に対して相対的に移動する
ものではない。
An outer cylinder 58 is arranged outside the inner cylinder 55. The outer cylinder 58 is also a hollow cylinder, and its inner diameter is larger than the outer diameter of the inner cylinder 55. Therefore, the inner cylinder 55 can be inserted inside the outer cylinder 58. The outer cylinder 58 is fixedly provided in the substrate processing apparatus 1, and the outer cylinder 58 itself does not move relative to the pulse motor 40.

【0026】内筒55の外周面にはピン56が突設され
るとともに、外筒58には溝59が形成されている。溝
59の幅はピン56の径よりも大きく、ピン56は溝5
9を貫通してその先端は外筒58の表面よりも突き出て
いる。図4は、ピン56が溝59を貫通している様子を
示す図である。円筒形状の磁気ネジ52、内筒55、外
筒58、駆動軸51および円環形状の磁気ナット54は
全て同軸上に設けられており、それらの中心軸はモータ
軸41の回転中心である軸Qに一致する。従って、ピン
56が存在しなければ、内筒55を外筒58の内側中空
部分において自在に回転および昇降させることができ
る。本実施形態では、ピン56が溝59に係合している
ため、ピン56が図4に示す如き溝59の形状に沿って
移動可能な範囲においてのみ内筒55を外筒58に対し
て相対的に回転、昇降させることができる。換言すれ
ば、ピン56を溝59に係合させることにより、内筒5
5の外筒58に対する相対移動を溝59の形状の範囲内
に規制しているのである。なお、複合アクチュエーター
50の動作の詳細についてはさらに後述する。
A pin 56 is provided on the outer peripheral surface of the inner cylinder 55, and a groove 59 is formed in the outer cylinder 58. The width of the groove 59 is larger than the diameter of the pin 56, and the pin 56 has the groove 5
The front end of the outer cylinder 58 projects through the outer cylinder 58. FIG. 4 is a diagram showing a state in which the pin 56 penetrates the groove 59. The cylindrical magnetic screw 52, the inner cylinder 55, the outer cylinder 58, the drive shaft 51, and the annular magnetic nut 54 are all provided coaxially, and the central axes thereof are the rotation centers of the motor shaft 41. Match Q. Therefore, if the pin 56 does not exist, the inner cylinder 55 can be freely rotated and moved up and down in the inner hollow portion of the outer cylinder 58. In this embodiment, since the pin 56 is engaged with the groove 59, the inner cylinder 55 is relatively opposed to the outer cylinder 58 only in the range in which the pin 56 can move along the shape of the groove 59 as shown in FIG. It can be rotated and moved up and down. In other words, by engaging the pin 56 with the groove 59, the inner cylinder 5
The relative movement of No. 5 with respect to the outer cylinder 58 is restricted within the range of the shape of the groove 59. The details of the operation of the composite actuator 50 will be described later.

【0027】本実施形態においては、吐出ノズル30が
処理具に、スピンチャック10が保持手段に、パルスモ
ータ40が回転駆動手段に、複合アクチュエーター50
が駆動切換手段に、ピン56および溝59の組み合わせ
がカム機構にそれぞれ相当する。なお、本実施形態の基
板処理装置1には、上記以外にも基板Wにレジストを塗
布する塗布ノズル等が設けられている。
In this embodiment, the discharge nozzle 30 serves as a processing tool, the spin chuck 10 serves as a holding means, the pulse motor 40 serves as a rotation driving means, and the composite actuator 50.
Corresponds to the drive switching means, and the combination of the pin 56 and the groove 59 corresponds to the cam mechanism. In addition to the above, the substrate processing apparatus 1 of the present embodiment is provided with a coating nozzle or the like for coating the substrate W with a resist.

【0028】次に、上記構成を有する基板処理装置1に
おける動作について説明する。本実施形態の基板処理装
置1は、基板Wにレジストを塗布し、その端縁部に付着
したレジストを洗浄・除去する装置であり、基本的な処
理内容は基板Wにレジスト塗布を行った後、その基板W
をスピンチャック10により保持して回転させつつ吐出
ノズル30から基板Wの端縁部に洗浄液を吐出するとい
うものである。
Next, the operation of the substrate processing apparatus 1 having the above structure will be described. The substrate processing apparatus 1 of the present embodiment is an apparatus for applying a resist to the substrate W and cleaning / removing the resist adhering to the edge portion of the substrate W. The basic processing content is after applying the resist to the substrate W. , Its substrate W
The cleaning liquid is ejected from the ejection nozzle 30 to the edge portion of the substrate W while being held and rotated by the spin chuck 10.

【0029】具体的な処理手順としては、まず、カップ
20が下降して搬送ロボットが基板Wを搬入してスピン
チャック10に保持させる。次に、カップ20が上昇し
た後、吐出ノズル30が待避位置から処理位置に移動す
る。ここで、「待避位置」とはカップ20より外側であ
ってカップ20の上端よりも高い位置であり、図5の二
点鎖線にて示す位置である。「待避位置」は洗浄液吐出
を行わないときに、吐出ノズル30が搬送ロボット等と
干渉しないように待避する位置である。吐出ノズル30
が待避位置にあるときには、吐出ノズル30の吐出口か
らの滴取りが実行される。
As a concrete processing procedure, first, the cup 20 descends and the transfer robot carries in the substrate W and holds it on the spin chuck 10. Next, after the cup 20 moves up, the discharge nozzle 30 moves from the retracted position to the processing position. Here, the "withdrawal position" is a position outside the cup 20 and higher than the upper end of the cup 20, and is a position shown by a chain double-dashed line in FIG. The “evacuation position” is a position where the ejection nozzle 30 retreats so as not to interfere with the transfer robot or the like when the cleaning liquid is not ejected. Discharge nozzle 30
Is in the retracted position, the droplet removal from the ejection port of the ejection nozzle 30 is executed.

【0030】一方、「処理位置」とはカップ20より内
側であってカップ20の上端よりも低い位置であり、図
5の実線にて示す位置である。「処理位置」はスピンチ
ャック10に保持された基板Wの端縁部直上である。洗
浄処理時には吐出ノズル30が処理位置に位置して洗浄
液を吐出する。
On the other hand, the "processing position" is the position inside the cup 20 and lower than the upper end of the cup 20, and is the position shown by the solid line in FIG. The “processing position” is immediately above the edge of the substrate W held by the spin chuck 10. During the cleaning process, the discharge nozzle 30 is located at the processing position and discharges the cleaning liquid.

【0031】吐出ノズル30が処理位置に移動した後、
スピンチャック10に保持された基板Wを電動モータ1
5が回転させるとともに、図示を省略する塗布ノズルか
らレジストを吐出して遠心力により基板Wの表面にレジ
ストを塗布する(いわゆるスピンコート)。その後、吐
出ノズル30からの洗浄液吐出を開始し、基板Wの端縁
部洗浄を行う。端縁部洗浄が終了すると、基板Wの回転
を停止するとともに、吐出ノズル30が処理位置から待
避位置に移動する。その後、カップ20が下降して搬送
ロボットが基板Wを搬出して一連の処理が終了する。な
お、上記においては、レジスト塗布処理が終了した後
に、吐出ノズル30が待避位置から処理位置に移動する
ようにしても良い。
After the discharge nozzle 30 moves to the processing position,
The substrate W held on the spin chuck 10 is moved to the electric motor 1
While rotating 5, the resist is discharged from a coating nozzle (not shown) to apply the resist to the surface of the substrate W by a centrifugal force (so-called spin coating). Then, the cleaning liquid is started to be discharged from the discharge nozzle 30, and the edge portion of the substrate W is cleaned. When the edge cleaning is completed, the rotation of the substrate W is stopped and the ejection nozzle 30 moves from the processing position to the retracted position. After that, the cup 20 descends, the transfer robot carries out the substrate W, and the series of processes is completed. In the above, the discharge nozzle 30 may be moved from the retracted position to the processing position after the resist coating process is completed.

【0032】ここで、吐出ノズル30が処理位置から待
避位置に移動する形態について図3から図5を参照しつ
つより詳細に説明する。なお、図5は、吐出ノズル30
の移動経路を示す図である。
Here, a mode in which the discharge nozzle 30 moves from the processing position to the retracted position will be described in more detail with reference to FIGS. 3 to 5. Note that FIG. 5 shows the discharge nozzle 30.
It is a figure which shows the moving path of.

【0033】まず、吐出ノズル30が処理位置(図5の
実線位置)にあるときには、ピン56が図4の実線にて
示す位置に位置している。この状態において、パルスモ
ータ40が図3中矢印AR3にて示す向きにモータ軸4
1を回転させると、磁気ネジ52も鉛直方向に沿った軸
Qを回転中心として矢印AR3にて示す向きに回転す
る。磁気ネジ52が回転すると、磁石52a,52bと
磁石54a,54bとの相互間に作用する磁力に起因し
た引力により、磁気ナット54に水平面内での回転駆動
力が作用する。
First, when the discharge nozzle 30 is in the processing position (solid line position in FIG. 5), the pin 56 is in the position shown by the solid line in FIG. In this state, the pulse motor 40 moves in the direction indicated by the arrow AR3 in FIG.
When 1 is rotated, the magnetic screw 52 also rotates in the direction indicated by an arrow AR3 with the axis Q along the vertical direction as the center of rotation. When the magnetic screw 52 rotates, an attractive force resulting from the magnetic force acting between the magnets 52a and 52b and the magnets 54a and 54b causes a rotational driving force in the horizontal plane to act on the magnetic nut 54.

【0034】磁気ナット54が軸Q周りで回転するとき
には、それに固定して設けられた内筒55、ピン56、
駆動軸51、ノズルアーム31および吐出ノズル30の
全てが軸Qを回転中心として水平面内で回転する。この
ときに、図4に示すように、溝59の形状がピン56の
水平面内での回転を許す場合であれば、すなわちピン5
6の水平面内進行方向が開放されている場合であれば、
磁気ナット54の回転動作は妨げられない。よって、パ
ルスモータ40が磁気ネジ52を回転させると、磁気ナ
ット54も軸Qを回転中心として回転し、その結果、磁
気ナット54に固定して連結された吐出ノズル30も鉛
直方向に沿った軸Qを回転中心とする水平面内での旋回
動作を行う。これにより、吐出ノズル30は図5の実線
位置(処理位置)から位置P1へと移動する。また、同
時に、ピン56も図4の実線位置から溝59に沿って位
置C1へと移動する。
When the magnetic nut 54 rotates about the axis Q, the inner cylinder 55, the pin 56, and the like, which are fixedly provided thereto,
The drive shaft 51, the nozzle arm 31, and the discharge nozzle 30 all rotate in the horizontal plane with the axis Q as the center of rotation. At this time, as shown in FIG. 4, if the shape of the groove 59 allows the pin 56 to rotate in the horizontal plane, that is, the pin 5
If the direction of travel in the horizontal plane of 6 is open,
The rotational movement of the magnetic nut 54 is not hindered. Therefore, when the pulse motor 40 rotates the magnetic screw 52, the magnetic nut 54 also rotates about the axis Q, and as a result, the discharge nozzle 30 fixedly connected to the magnetic nut 54 also has an axis along the vertical direction. A turning operation is performed in a horizontal plane with Q as the center of rotation. As a result, the discharge nozzle 30 moves from the solid line position (processing position) in FIG. 5 to the position P1. At the same time, the pin 56 also moves from the solid line position in FIG. 4 to the position C1 along the groove 59.

【0035】ピン56が位置C1に到達すると、溝59
によってピン56の水平面内での回転が制限される。従
って、磁気ナット54の回転続行が不可能となり、吐出
ノズル30の旋回動作も停止する。この状態において、
パルスモータ40が図3中矢印AR3にて示す向きにモ
ータ軸41をさらに回転させても、磁気ネジ52は磁気
ナット54と非接触であるために機械的にその回転動作
が制限されることはなく、磁気ネジ52は鉛直方向に沿
った軸Qを回転中心として矢印AR3にて示す向きに引
き続き回転する。このときに、磁気ナット54の水平面
内での回転は制限されており、磁気ネジ52のみが磁気
ナット54に対して相対的に回転することとなるため、
磁気ネジ52の円筒表面に配設された螺旋状の磁石52
a,52bも磁気ナット54に対して相対的に回転する
こととなる。その結果、磁石52a,52bと磁石54
a,54bとの相互間に作用する磁力に起因した引力に
より、磁気ナット54に上昇の駆動力が作用する。
When the pin 56 reaches the position C1, the groove 59
This limits the rotation of the pin 56 in the horizontal plane. Therefore, the rotation of the magnetic nut 54 cannot be continued, and the turning operation of the discharge nozzle 30 is stopped. In this state,
Even if the pulse motor 40 further rotates the motor shaft 41 in the direction indicated by the arrow AR3 in FIG. 3, the magnetic screw 52 is not in contact with the magnetic nut 54, so that the rotation operation is mechanically limited. However, the magnetic screw 52 continues to rotate in the direction indicated by the arrow AR3 with the axis Q along the vertical direction as the center of rotation. At this time, the rotation of the magnetic nut 54 in the horizontal plane is limited, and only the magnetic screw 52 rotates relative to the magnetic nut 54.
Helical magnet 52 disposed on the cylindrical surface of magnetic screw 52
The a and 52b also rotate relative to the magnetic nut 54. As a result, the magnets 52a, 52b and the magnet 54
An ascending driving force acts on the magnetic nut 54 by the attractive force caused by the magnetic force acting between the a and 54b.

【0036】磁気ナット54が上昇するときには、それ
に固定して設けられた内筒55、ピン56、駆動軸5
1、ノズルアーム31および吐出ノズル30の全てが上
昇動作を行う。ここで、図4に示すように、溝59の形
状がピン56の鉛直方向に沿った上昇動作を許す場合で
あれば、すなわちピン56の上方が開放されている場合
であれば、磁気ナット54の鉛直方向に沿った上昇動作
が可能となる。よって、ピン56が位置C1にあるとき
に、パルスモータ40が磁気ネジ52を回転させると、
磁気ナット54が鉛直方向に沿って上昇し、その結果、
磁気ナット54に固定して連結された吐出ノズル30も
鉛直方向に沿った上昇動作を行う。これにより、吐出ノ
ズル30は図5の位置P1から位置P2へと上昇移動す
る。また、同時に、ピン56も図4の位置C1から溝5
9に沿って移動し、位置C2へと到達する。
When the magnetic nut 54 rises, the inner cylinder 55 fixed to it, the pin 56, and the drive shaft 5 are fixed.
1, the nozzle arm 31 and the discharge nozzle 30 all perform the raising operation. Here, as shown in FIG. 4, when the shape of the groove 59 allows the upward movement of the pin 56 in the vertical direction, that is, when the upper portion of the pin 56 is open, the magnetic nut 54 is provided. It is possible to move upward along the vertical direction. Therefore, when the pulse motor 40 rotates the magnetic screw 52 when the pin 56 is at the position C1,
The magnetic nut 54 rises vertically and, as a result,
The discharge nozzle 30 fixedly connected to the magnetic nut 54 also moves upward in the vertical direction. As a result, the discharge nozzle 30 moves upward from the position P1 in FIG. 5 to the position P2. At the same time, the pin 56 also moves from the position C1 in FIG.
Move along 9 and reach position C2.

【0037】ピン56が位置C2に到達すると、溝59
によってピン56の鉛直方向に沿った上昇動作が制限さ
れる。従って、磁気ナット54の上昇続行が不可能とな
り、吐出ノズル30の上昇動作も停止する。但し、ピン
56が位置C2にあるときには、上述したのと同様に
(ピン56が図4の実線位置にあるときと同様に)、溝
59の形状がピン56の水平面内での回転を許す場合で
あり、すなわちピン56の水平面内進行方向が開放され
ている場合である。従って、上記と同様に、パルスモー
タ40が磁気ネジ52を回転させると、磁気ナット54
も軸Qを回転中心として回転し、その結果、磁気ナット
54に固定して連結された吐出ノズル30も鉛直方向に
沿った軸Qを回転中心とする水平面内での旋回動作を行
う。これにより、吐出ノズル30は図5の位置P2から
位置P3へと移動する。また、同時に、ピン56も図4
の位置C2から溝59に沿って移動し、位置C3へと到
達する。
When the pin 56 reaches the position C2, the groove 59
This limits the upward movement of the pin 56 in the vertical direction. Therefore, it is not possible to continue raising the magnetic nut 54, and the raising operation of the discharge nozzle 30 is also stopped. However, when the pin 56 is at the position C2, the shape of the groove 59 allows the rotation of the pin 56 in the horizontal plane in the same manner as described above (as when the pin 56 is at the solid line position in FIG. 4). That is, that is, when the pin 56 is open in the horizontal direction. Therefore, similarly to the above, when the pulse motor 40 rotates the magnetic screw 52, the magnetic nut 54
Also rotates about the axis Q as the center of rotation, and as a result, the discharge nozzle 30 fixedly connected to the magnetic nut 54 also performs a swiveling operation in the horizontal plane about the axis Q as the center of rotation along the vertical direction. As a result, the discharge nozzle 30 moves from the position P2 in FIG. 5 to the position P3. At the same time, the pin 56 is also shown in FIG.
It moves from the position C2 along the groove 59 to reach the position C3.

【0038】ピン56が位置C3に到達すると、溝59
によってピン56の水平面内での回転が制限される。従
って、磁気ナット54の回転続行が不可能となり、吐出
ノズル30の旋回動作も停止する。但し、ピン56が位
置C3にあるときには、上述したのと同様に(ピン56
が図4の位置C1にあるときと同様に)、溝59の形状
がピン56の鉛直方向に沿った上昇動作を許す場合、す
なわちピン56の上方が開放されている場合である。従
って、上記と同様に、パルスモータ40が磁気ネジ52
を回転させると、磁気ナット54が鉛直方向に沿って上
昇し、その結果、磁気ナット54に固定して連結された
吐出ノズル30も鉛直方向に沿った上昇動作を行う。こ
れにより、吐出ノズル30は図5の位置P3から二点鎖
線位置(待避位置)へと上昇移動する。また、同時に、
ピン56も図4の位置C3から溝59に沿って移動し、
位置C4へと到達する。
When the pin 56 reaches the position C3, the groove 59
This limits the rotation of the pin 56 in the horizontal plane. Therefore, the rotation of the magnetic nut 54 cannot be continued, and the turning operation of the discharge nozzle 30 is stopped. However, when the pin 56 is at the position C3, the same as the above (the pin 56
(As in the position C1 in FIG. 4), the shape of the groove 59 allows the upward movement of the pin 56 in the vertical direction, that is, the upper side of the pin 56 is open. Therefore, in the same manner as described above, the pulse motor 40 operates with the magnetic screw 52.
Is rotated, the magnetic nut 54 rises along the vertical direction, and as a result, the discharge nozzle 30 fixedly connected to the magnetic nut 54 also rises along the vertical direction. As a result, the discharge nozzle 30 moves upward from the position P3 in FIG. 5 to the alternate long and two short dashes position (the retracted position). At the same time,
The pin 56 also moves from the position C3 in FIG. 4 along the groove 59,
Reach position C4.

【0039】ピン56が位置C4に到達した時点では、
溝59によってピン56の水平面内での回転および上昇
動作の双方が制限される。従って、仮に、パルスモータ
40が磁気ネジ52を回転させ続けたとしても、磁気ナ
ット54が移動することはなく、吐出ノズル30の待避
位置に停止している。もっとも、通常は、ピン56が位
置C4に到達した時点で、パルスモータ40の駆動が停
止される。
When the pin 56 reaches the position C4,
The groove 59 limits both the rotation and the lifting movement of the pin 56 in the horizontal plane. Therefore, even if the pulse motor 40 continues to rotate the magnetic screw 52, the magnetic nut 54 does not move and is stopped at the retracted position of the discharge nozzle 30. However, normally, the drive of the pulse motor 40 is stopped when the pin 56 reaches the position C4.

【0040】以上は、吐出ノズル30が処理位置から待
避位置に移動する場合についての説明であったが、吐出
ノズル30が待避位置から処理位置に移動する場合は、
上記と全く逆の動作となる。すなわち、パルスモータ4
0が図3中矢印AR3にて示す向きとは逆向きにモータ
軸41を回転させると、磁気ネジ52も鉛直方向に沿っ
た軸Qを回転中心として矢印AR3にて示す向きとは逆
向きに回転する。そして、溝59の形状がピン56の鉛
直方向に沿った下降動作を許す場合、すなわちピン56
の下方が開放されている場合には、磁気ネジ52が回転
すると磁気ナット54が鉛直方向に沿って下降し、その
結果、磁気ナット54に固定して連結された吐出ノズル
30も鉛直方向に沿った下降動作を行う。一方、溝59
の形状がピン56の水平面内での回転を許す場合、すな
わちピン56の水平面内進行方向が開放されている場合
には、磁気ネジ52が回転すると磁気ナット54も軸Q
を回転中心として回転し、その結果、磁気ナット54に
固定して連結された吐出ノズル30も鉛直方向に沿った
軸Qを回転中心とする水平面内での旋回動作を行う。こ
のようにして、吐出ノズル30は図5に示したのと同じ
経路を逆向きに移動して、待避位置から処理位置に移動
する。
The above is a description of the case where the discharge nozzle 30 moves from the processing position to the retracted position. However, when the discharge nozzle 30 moves from the retracted position to the processing position,
The operation is completely opposite to the above. That is, the pulse motor 4
When 0 rotates the motor shaft 41 in the direction opposite to the direction indicated by the arrow AR3 in FIG. 3, the magnetic screw 52 also reverses the direction indicated by the arrow AR3 with the axis Q along the vertical direction as the center of rotation. Rotate. When the shape of the groove 59 allows the descending operation of the pin 56 in the vertical direction, that is, the pin 56.
When the lower part of the nozzle is opened, the magnetic nut 54 descends along the vertical direction when the magnetic screw 52 rotates, and as a result, the discharge nozzle 30 fixedly connected to the magnetic nut 54 also follows the vertical direction. Perform descending motion. On the other hand, the groove 59
When the shape allows the rotation of the pin 56 in the horizontal plane, that is, when the direction of travel of the pin 56 in the horizontal plane is open, when the magnetic screw 52 rotates, the magnetic nut 54 also rotates the shaft Q.
As a result, the discharge nozzle 30 fixedly connected to the magnetic nut 54 also performs a swiveling operation in the horizontal plane with the axis Q along the vertical direction as the center of rotation. In this way, the discharge nozzle 30 moves in the opposite direction on the same path as shown in FIG. 5, and moves from the retracted position to the processing position.

【0041】以上のように、本実施形態の複合アクチュ
エーター50は、溝59の形状に沿ってピン56を案内
するというカム機構により、パルスモータ40が磁気ネ
ジ52を回転したときに、磁気ナット54の水平面内で
の回転を許して吐出ノズル30に水平面内での旋回動作
を行わせるかまたは磁気ナット54の水平面内での回転
を制限して磁気ナット54に鉛直方向に沿った移動を許
すことにより吐出ノズル30に昇降動作を行わせてい
る。すなわち、複合アクチュエーター50は、パルスモ
ータ40のモータ軸41の回転動作を、磁気ナット54
の水平面内での旋回動作または鉛直方向に沿った昇降動
作のいずれかに切り換えて吐出ノズル30に伝達するこ
とによって吐出ノズル30を処理位置と待避位置との間
で移動させているのである。
As described above, the compound actuator 50 of the present embodiment uses the cam mechanism that guides the pin 56 along the shape of the groove 59, and when the pulse motor 40 rotates the magnetic screw 52, the magnetic nut 54. To allow the discharge nozzle 30 to perform a swivel motion in the horizontal plane, or to restrict the rotation of the magnetic nut 54 in the horizontal plane to allow the magnetic nut 54 to move in the vertical direction. The discharge nozzle 30 is caused to move up and down. That is, the composite actuator 50 causes the magnetic nut 54 to rotate the motor shaft 41 of the pulse motor 40.
The discharge nozzle 30 is moved between the processing position and the retracted position by transmitting to the discharge nozzle 30 by switching to either the swiveling operation in the horizontal plane or the elevating operation in the vertical direction.

【0042】図5に明示されるように、吐出ノズル30
の処理位置と待避位置との間の移動は2軸の移動であ
る。本実施形態では複合アクチュエーター50を用い
て、パルスモータ40のモータ軸41の回転動作を、磁
気ナット54の水平面内での旋回動作または鉛直方向に
沿った昇降動作のいずれかに切り換えて吐出ノズル30
に伝達することにより、吐出ノズル30の2軸移動を実
現しているため、従来のように2系統の駆動系を必要と
せず、1つの駆動部(パルスモータ40)のみで足り
る。従って、位置検出センサや電磁弁等はパルスモータ
40を適切に動作させるだけの部品点数で足り、従来よ
りもコストダウンをはかることができる。また、部品点
数が少なくなれば、その分だけ基板処理装置1のサイズ
も小さくなり、フットプリント(装置が占有する平面ス
ペース)の削減につながる。
As clearly shown in FIG. 5, the discharge nozzle 30.
The movement between the processing position and the retracted position is a biaxial movement. In the present embodiment, the compound actuator 50 is used to switch the rotation operation of the motor shaft 41 of the pulse motor 40 to either the turning operation of the magnetic nut 54 in the horizontal plane or the up-and-down operation along the vertical direction, and the discharge nozzle 30.
Since the two-axis movement of the discharge nozzle 30 is realized by transmitting the above, the single drive unit (pulse motor 40) is sufficient, unlike the conventional case that two drive systems are required. Therefore, the position detection sensor, the solenoid valve, and the like are sufficient in the number of parts for properly operating the pulse motor 40, and the cost can be reduced as compared with the conventional case. In addition, as the number of parts decreases, the size of the substrate processing apparatus 1 also decreases accordingly, leading to a reduction in footprint (plane space occupied by the apparatus).

【0043】また、本実施形態では、パルスモータ40
に回転動作を行わせるだけの制御用ソフトウェアを作成
すれば十分であるため、従来よりも単純な制御用ソフト
ウェアで足り、コストダウンになるとともに、制御用ソ
フトウェアの誤動作を低減することができる。
Further, in the present embodiment, the pulse motor 40
Since it suffices to create control software enough to cause the rotating operation of the control software, simpler control software than the conventional one will suffice and the cost can be reduced, and malfunction of the control software can be reduced.

【0044】さらに、制御用ソフトウェアの誤動作によ
り駆動部が異常動作を行った場合であっても、従来であ
ればハードウェアによる安全機構(例えば、ノズルアー
ム31の可動範囲規制部材)が必要なのであるが、本実
施形態では溝59とピン56とによって吐出ノズル30
の移動範囲が限定される。つまり、駆動切換手段である
複合アクチュエーター50が、ハードウェアによる安全
機構としての役割をも果たすのである。従って、特別な
ハードウェアによる安全機構が不要となるため、さらな
るコストダウンになる。
Further, even if the drive section performs an abnormal operation due to a malfunction of the control software, a hardware safety mechanism (for example, a movable range restricting member of the nozzle arm 31) is conventionally required. However, in the present embodiment, the discharge nozzle 30 is formed by the groove 59 and the pin 56.
The movement range of is limited. That is, the composite actuator 50, which is the drive switching means, also serves as a safety mechanism by hardware. Therefore, since a special hardware safety mechanism is not required, the cost can be further reduced.

【0045】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、この発明は上記の例に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態においては、複合アクチュエータ
ー50がパルスモータ40のモータ軸41の回転動作
を、磁気ナット54の水平面内での旋回動作または鉛直
方向に沿った昇降動作のいずれかに切り換えて吐出ノズ
ル30に伝達するようにしていたが、これに限定される
ものではなく、パルスモータ40がモータ軸41を所定
方向に沿った軸を回転中心として回転させ、モータ軸4
1のその回転動作を、当該所定方向に沿った軸を回転中
心とする旋回動作またはその所定方向に沿った直線移動
動作のいずれかに切り換えつつ吐出ノズル30に伝達す
ることによって吐出ノズル30を処理位置と待避位置と
の間で移動させる形態であれば良い。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above examples.
For example, in the above embodiment, the composite actuator 50 switches the rotation operation of the motor shaft 41 of the pulse motor 40 to either the turning operation of the magnetic nut 54 in the horizontal plane or the up-and-down operation along the vertical direction, and the discharge nozzle. However, the present invention is not limited to this, and the pulse motor 40 rotates the motor shaft 41 around a shaft along a predetermined direction as a rotation center, and the motor shaft 4
The discharge nozzle 30 is processed by transmitting the rotation operation of No. 1 to the discharge nozzle 30 while switching the rotation operation thereof to either a swivel operation about a shaft along the predetermined direction or a linear movement operation along the predetermined direction. Any form may be used as long as it is moved between the position and the retracted position.

【0046】また、上記実施形態では、基板Wの端縁部
に洗浄液を吐出して当該端縁部に付着したレジストを洗
浄、除去する基板処理装置1において吐出ノズル30を
処理位置と待避位置との間で移動させる形態を例として
説明したが、本発明にかかる技術は他の基板処理装置に
も適用可能である。例えば、露光後の基板の現像処理を
行うスピンデベロッパ(回転式現像処理装置)におい
て、純水を吐出するノズル(処理具)の処理位置と待避
位置との間の移動についても本発明にかかる技術を適用
することができる。また、例えば、基板を回転させつつ
その基板の表面に洗浄ブラシ(処理具)を当接させて洗
浄処理を行うスピンスクラバにおいても、当該洗浄ブラ
シの処理位置と待避位置との間の移動について、本発明
にかかる技術を適用することができる。換言すれば、基
板の表面に所定の処理を行う処理具を処理位置と待避位
置との間で移動させる基板処理装置であれば本発明にか
かる技術を適用することができ、特に処理具がカップを
乗り越えなければならないために2軸の移動が必須とな
る場合には本発明にかかる技術を適用する意義が大き
い。
Further, in the above-described embodiment, in the substrate processing apparatus 1 which discharges the cleaning liquid to the edge of the substrate W to clean and remove the resist adhering to the edge, the discharge nozzle 30 is provided at the processing position and the retracted position. Although the description has been given by taking as an example the mode of moving the apparatus between the above, the technique according to the present invention can be applied to other substrate processing apparatuses. For example, in a spin developer (rotary development processing apparatus) that performs development processing on a substrate after exposure, movement of a nozzle (processing tool) that discharges pure water between a processing position and a retracted position is also a technique according to the present invention. Can be applied. Further, for example, even in a spin scrubber in which a cleaning brush (processing tool) is brought into contact with the surface of the substrate while rotating the substrate, the movement of the cleaning brush between the processing position and the retracted position is The technology according to the present invention can be applied. In other words, the technique according to the present invention can be applied to any substrate processing apparatus that moves a processing tool that performs a predetermined process on the surface of a substrate between a processing position and a retracted position, and in particular, the processing tool is a cup. When it is necessary to move in two axes because it has to overcome the above, it is significant to apply the technique according to the present invention.

【0047】さらに、回転駆動手段としてはパルスモー
タ40に限定されず、他の駆動方式、例えばエアー駆動
のものを採用するようにしても良い。但し、本実施形態
の如く、基板Wの端縁部に付着したレジストを除去する
場合には吐出ノズル30の処理位置の位置精度が要求さ
れるため、回転駆動手段としてパルスモータを採用する
のが好ましい。一方、上記のスピンデベロッパのよう
に、ノズルの処理位置の位置精度が要求されない場合に
は、エアー駆動の回転駆動手段を採用するようにしても
良い。なお、吐出ノズル30の処理位置の位置精度が特
に厳密に要求される場合には、吐出ノズル30が処理位
置近傍に存在しているときのみ(例えば吐出ノズル30
が図5の実線位置と位置P1との間に存在していると
き)、磁気ネジ52と磁気ナット54と機械的に接続す
るクラッチ機構をさらに備えるようにしても良い。
Further, the rotation driving means is not limited to the pulse motor 40, and another driving method, for example, an air driving method may be adopted. However, as in the present embodiment, when removing the resist adhering to the edge portion of the substrate W, positional accuracy of the processing position of the discharge nozzle 30 is required, so that a pulse motor is adopted as the rotation driving means. preferable. On the other hand, when the positional accuracy of the processing position of the nozzle is not required as in the above spin developer, an air driven rotation driving means may be adopted. When the positional accuracy of the processing position of the ejection nozzle 30 is particularly strictly required, only when the ejection nozzle 30 exists near the processing position (for example, the ejection nozzle 30).
Is present between the solid line position and the position P1 in FIG. 5), a clutch mechanism for mechanically connecting the magnetic screw 52 and the magnetic nut 54 may be further provided.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上、説明したように、請求項1の発明
によれば、所定方向に沿った軸を回転中心として回転軸
を回転させる回転駆動手段と、その回転軸の回転動作
を、当該所定方向に沿った軸を回転中心とする旋回動作
または当該所定方向に沿った直線移動動作のいずれかに
切り換えつつ処理具に伝達することによって処理具を処
理位置と待避位置との間で移動させる駆動切換手段と、
を備えるため、1つの回転駆動手段によって処理具の2
軸移動が可能となり、簡易な構成にて処理具を処理位置
と待避位置との間で移動させることができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the rotation drive means for rotating the rotary shaft about the shaft along the predetermined direction as the center of rotation, and the rotary operation of the rotary shaft, The processing tool is moved between the processing position and the retracted position by transmitting to the processing tool while switching to either a swivel motion about an axis along the predetermined direction as a rotation center or a linear movement motion along the predetermined direction. Drive switching means,
In order to be provided with 2 of processing tools by one rotation drive means
Axial movement is possible, and the processing tool can be moved between the processing position and the retracted position with a simple configuration.

【0049】また、請求項2の発明によれば、回転軸の
回転動作を、略水平面内での旋回動作または略鉛直方向
に沿った昇降動作のいずれかに切り換えつつ処理具に伝
達することによって処理具を処理位置と待避位置との間
で移動させるため、1つの回転駆動手段によって処理具
の2軸移動が可能となり、簡易な構成にて処理具を処理
位置と待避位置との間で移動させることができる。
According to the second aspect of the present invention, the rotary operation of the rotary shaft is transmitted to the processing tool while being switched to either a swiveling operation in a substantially horizontal plane or an ascending / descending operation in a substantially vertical direction. Since the processing tool is moved between the processing position and the retracted position, it is possible to move the processing tool in two axes by one rotation drive means, and move the processing tool between the processing position and the retracted position with a simple configuration. Can be made.

【0050】また、請求項3の発明によれば、駆動切換
手段が、回転軸に固設され、略鉛直方向を長手方向とす
る円筒表面に螺旋状に磁石を配設した磁気ネジと、洗浄
具に固定して連結されるとともに、磁気ネジの周囲をそ
の周方向に沿って非接触にて取り囲むように配置され、
磁石を内蔵する磁気ナットと、回転駆動手段によって磁
気ネジが回転したときに、磁気ナットの水平面内での回
転を許して洗浄具に旋回動作を行わせるかまたは磁気ナ
ットの水平面内での回転を制限して磁気ナットに略鉛直
方向に沿った移動を許すことにより洗浄具に昇降動作を
行わせるカム機構と、を備えているため、1つの回転駆
動手段によって容易に処理具の2軸移動が可能となる。
According to the third aspect of the present invention, the drive switching means is fixed to the rotary shaft, and the magnetic screw has magnets arranged spirally on a cylindrical surface whose longitudinal direction is substantially vertical, and cleaning. It is fixedly connected to the tool and arranged so as to surround the magnetic screw along its circumferential direction in a non-contact manner,
When the magnetic nut with built-in magnet and the magnetic screw is rotated by the rotation driving means, the cleaning tool is allowed to rotate in the horizontal plane, or the cleaning tool is rotated, or the magnetic nut is rotated in the horizontal plane. The cleaning tool is provided with a cam mechanism that moves up and down by restricting the movement of the magnetic nut in a substantially vertical direction. Therefore, the two-axis movement of the processing tool can be easily performed by one rotation driving means. It will be possible.

【0051】また、請求項4の発明によれば、処理位置
はカップより内側であってカップの上端よりも低く、待
避位置はカップより外側であってカップの上端よりも高
いため、1つの回転駆動手段によって処理具に2軸移動
を行わせることにより、処理具が容易にカップを乗り越
えて処理位置と待避位置との間で移動することができ
る。
According to the invention of claim 4, the processing position is inside the cup and lower than the upper end of the cup, and the retreat position is outside the cup and higher than the upper end of the cup. By causing the processing tool to perform biaxial movement by the driving means, the processing tool can easily move over the cup and move between the processing position and the retracted position.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかる基板処理装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a substrate processing apparatus according to the present invention.

【図2】図1の基板処理装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the substrate processing apparatus of FIG.

【図3】図1の基板処理装置の複合アクチュエーターの
構成を示す図である。
3 is a diagram showing a configuration of a composite actuator of the substrate processing apparatus of FIG.

【図4】内筒のピンが外筒の溝を貫通している様子を示
す図である。
FIG. 4 is a view showing a state in which a pin of an inner cylinder penetrates a groove of an outer cylinder.

【図5】吐出ノズルの移動経路を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a movement path of a discharge nozzle.

【図6】従来の基板処理装置の構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a conventional substrate processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板処理装置 10 スピンチャック 20 カップ 30 吐出ノズル 40 パルスモータ 41 モータ軸 50 複合アクチュエーター 52 磁気ネジ 52a,52b,54a,54b 磁石 54 磁気ナット 56 ピン 59 溝 W 基板 1 Substrate processing equipment 10 Spin chuck 20 cups 30 discharge nozzles 40 pulse motor 41 motor shaft 50 compound actuator 52 magnetic screw 52a, 52b, 54a, 54b Magnet 54 magnetic nut 56 pin 59 groove W board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F16H 25/24 F16H 25/24 B H01L 21/027 H01L 21/30 577 (72)発明者 森田 彰彦 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 3J062 AA28 AB23 AB32 AC07 AC09 CB18 CD16 CD22 5F046 MA10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (51) Int.Cl. 7 Identification Code FI Theme Coat (Reference) F16H 25/24 F16H 25/24 B H01L 21/027 H01L 21/30 577 (72) Inventor Akihiko Morita Kyoto City 4 Horikawa-dori Teranouchi, Kamigyo-ku, 1-chome, Tenjin Kitamachi 1-chome, Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. F-term (Reference) 3J062 AA28 AB23 AB32 AC07 AC09 CB18 CD16 CD22 5F046 MA10

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の表面に所定の処理を行う処理具を
処理位置と待避位置との間で移動させる基板処理装置で
あって、 基板を略水平姿勢にて保持する保持手段と、 所定方向に沿った軸を回転中心として、回転軸を回転さ
せる回転駆動手段と、 前記回転駆動手段と前記処理具とを連結し、前記回転軸
の回転動作を、前記所定方向に沿った軸を回転中心とす
る旋回動作または前記所定方向に沿った直線移動動作の
いずれかに切り換えつつ前記処理具に伝達することによ
って前記処理具を前記処理位置と前記待避位置との間で
移動させる駆動切換手段と、を備えることを特徴とする
基板処理装置。
1. A substrate processing apparatus for moving a processing tool for performing a predetermined processing on a surface of a substrate between a processing position and a retracted position, the holding means holding the substrate in a substantially horizontal posture, and a predetermined direction. A rotation driving means for rotating the rotation axis with the axis along the rotation center as a rotation center, the rotation driving means and the processing tool are connected, and the rotation operation of the rotation axis is performed by rotating the rotation axis around the axis along the predetermined direction. Drive switching means for moving the processing tool between the processing position and the retreat position by transmitting to the processing tool while switching to either the turning operation or the linear movement operation along the predetermined direction. A substrate processing apparatus comprising:
【請求項2】 請求項1記載の基板処理装置において、 前記所定方向は略鉛直方向であり、 前記駆動切換手段は、前記回転軸の回転動作を、略水平
面内での旋回動作または略鉛直方向に沿った昇降動作の
いずれかに切り換えつつ前記処理具に伝達することによ
って前記処理具を前記処理位置と前記待避位置との間で
移動させることを特徴とする基板処理装置。
2. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the predetermined direction is a substantially vertical direction, and the drive switching unit causes the rotational movement of the rotary shaft to be a swiveling movement in a substantially horizontal plane or a substantially vertical direction. The substrate processing apparatus, wherein the processing tool is moved between the processing position and the retracted position by transmitting the processing tool to the processing tool while switching to one of the raising and lowering operations according to the above.
【請求項3】 請求項2に記載の基板処理装置におい
て、前記駆動切換手段は、 前記回転軸に固設され、略鉛直方向を長手方向とする円
筒表面に螺旋状に磁石を配設した磁気ネジと、 前記洗浄具に固定して連結されるとともに、前記磁気ネ
ジの周囲をその周方向に沿って非接触にて取り囲むよう
に配置され、磁石を内蔵する磁気ナットと、 前記回転駆動手段によって前記磁気ネジが回転したとき
に、前記磁気ナットの水平面内での回転を許して前記洗
浄具に前記旋回動作を行わせるかまたは前記磁気ナット
の水平面内での回転を制限して前記磁気ナットに略鉛直
方向に沿った移動を許すことにより前記洗浄具に前記昇
降動作を行わせるカム機構と、を備えることを特徴とす
る基板処理装置。
3. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the drive switching unit is fixed to the rotation shaft, and magnets are spirally arranged on a cylindrical surface whose longitudinal direction is substantially vertical. A screw, a magnetic nut fixedly connected to the cleaning tool, arranged so as to surround the magnetic screw in a non-contact manner along the circumferential direction thereof, and a magnetic nut containing a magnet, and the rotation driving means. When the magnetic screw rotates, the cleaning tool is allowed to rotate in a horizontal plane to cause the cleaning tool to perform the swiveling operation, or the rotation of the magnetic nut in the horizontal plane is limited to allow the magnetic nut to rotate. A substrate processing apparatus, comprising: a cam mechanism that allows the cleaning tool to move up and down by allowing the cleaning tool to move in a substantially vertical direction.
【請求項4】 請求項3記載の基板処理装置において、 前記保持手段によって保持された基板の周囲を取り囲む
カップをさらに備え、 前記処理位置は前記カップより内側であって前記カップ
の上端よりも低く、 前記待避位置は前記カップより外側であって前記カップ
の上端よりも高いことを特徴とする基板処理装置。
4. The substrate processing apparatus according to claim 3, further comprising a cup that surrounds the periphery of the substrate held by the holding means, wherein the processing position is inside the cup and lower than the upper end of the cup. The substrate processing apparatus, wherein the retracted position is outside the cup and higher than an upper end of the cup.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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FR2890883A1 (en) * 2005-09-22 2007-03-23 Jean Marc Loriot Locking system with inherent irreversibility e.g. for disc brake has roller grooves with sections lying in plane perpendicular to axis of screw

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